特許 7492206出願番号 特願 2023-200418
半導体製造装置用ステンレス鋼部材およびその製造方法
出願人 オロル株式会社（識別番号 518440408）
2026年 特許公開件数ランキング 25223位 0件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 20819位 0件（※）
出願人 地方独立行政法人鳥取県産業技術センター（識別番号 307016180）
2026年 特許公開件数ランキング 25223位 1件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 7427位 2件（※）
公報発行日 2024年5月29
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7492206 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
要約特許出願時に添付された[要約書]
【課題】金属不純物が少なく、保温性が高いクロム酸化物皮膜被覆ステンレス鋼部材を提供する。
【解決手段】クロム酸化物皮膜の膜厚が１９０ｎｍ～２８０ｎｍであり、かつ近赤外領域（波長７５０ｎｍ～２５００ｎｍ）における表面反射率の最大値が６０％以下であるクロム酸化物皮膜被覆ステンレス鋼部材である。精密電解研磨工程とクロム酸化皮膜被覆工程とで製造する。精密電解研磨工程は、パルス電圧印加処理、ミクロ曝気処理、電解液噴流処理を含み、研磨後のステンレス鋼表面は、走査型プローブ顕微鏡で計測した凹凸差が３０ｎｍ以下である。
【選択図】図１
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本願発明によれば、精密電解研磨処理したステンレス鋼部材と同等の金属不純物の発生が少ない半導体製造装置に供するクロム酸化物皮膜被覆ステンレス鋼部材およびその製造方法を提供できる。
また、クロム酸化物皮膜をステンレス鋼部材に被覆することで赤外線反射率が低く保温性が高い半導体製造装置に供するクロム酸化物皮膜被覆ステンレス鋼部材およびその製造方法を提供できる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
代表図 図1本件の代表的な図
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