特許 7492889 光源装置および露光装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-05-22

(45)【発行日】2024-05-30

(54)【発明の名称】光源装置および露光装置

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20240523BHJP

   F21V 7/08 20060101ALI20240523BHJP

   F21V 7/06 20060101ALI20240523BHJP

   F21V 13/02 20060101ALI20240523BHJP

   F21S 2/00 20160101ALI20240523BHJP

   F21Y 101/00 20160101ALN20240523BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 501

F21V7/08 100

F21V7/06 100

F21V13/02 400

F21S2/00 310

F21Y101:00 300

【請求項の数】 8

(21)【出願番号】P 2020156944

(22)【出願日】2020-09-18

(65)【公開番号】P2022050812

(43)【公開日】2022-03-31

【審査請求日】2023-06-28

(73)【特許権者】

【識別番号】000128496

【氏名又は名称】株式会社オーク製作所

(74)【代理人】

【識別番号】100090169

【弁理士】

【氏名又は名称】松浦 孝

(74)【代理人】

【識別番号】100124497

【弁理士】

【氏名又は名称】小倉 洋樹

(72)【発明者】

【氏名】金井 信夫

(72)【発明者】

【氏名】太田 一秀

(72)【発明者】

【氏名】本多 友彦

【審査官】後藤 慎平

(56)【参考文献】

【文献】特開２００９－１７５３０８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－１２８４２６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００９－３０２２１８（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０３Ｆ ７／２０－７／２４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

一対の電極を備えた放電ランプと、
その開口端が鉛直方向に沿うように位置合わせされ、前記放電ランプから放射された照明光を反射する、楕円面または放物面の凹面反射鏡とを備え、
前記照明光は、光学素子の入射面に対し、前記入射面のサイズに応じた光束で入射し、
電極間中心が、反射鏡中心軸と、前記凹面反射鏡の焦点を通る鉛直方向に沿った垂直方向軸とに対してオフセットし、
前記光学素子の入射面において、照明光の光束断面が、前記電極間中心が前記凹面反射鏡の焦点と一致している場合の円状光束断面に対して、前記垂直方向軸に応じたラインの鉛直方向に向けて照射エリアが拡がるように、歪んでいることを特徴とする光源装置。

【請求項2】

一対の電極を備えた放電ランプと、
円状の開口端を形成し、前記放電ランプから放射された照明光を、反射鏡中心軸に沿った方向へ導く、楕円面または放物面の凹面反射鏡とを備え、
前記照明光が、光学素子の入射面に対し、前記入射面のサイズに応じた光束で入射し、
電極間中心が、反射鏡中心軸と、前記凹面反射鏡の焦点を通る前記開口端に沿った垂直方向軸とに対してオフセットし、
反射鏡中心軸に垂直な前記光学素子の入射面において、照明光の光束断面が、前記電極間中心が前記凹面反射鏡の焦点と一致している場合の円状光束断面に対して、前記垂直方向軸に応じた所定のラインの一方向側に沿って照射エリアが拡がるように、歪んでいることを特徴とする光源装置。

【請求項3】

前記照明光の光束断面が、前記ラインに垂直であって前記入射面の中心を通る垂直ラインに関して非対称であることを特徴とする請求項１または２に記載の光源装置。

【請求項4】

前記照明光の光束断面が、前記ラインの鉛直方向または一方向側へ照射エリア端が延びるように、歪んでいることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の光源装置。

【請求項5】

前記電極間中心が、前記凹面反射鏡の焦点に対し、前記垂直方向軸の鉛直方向とは逆方向にオフセットするとともに、前記凹面反射鏡の開口端とは反対側の底部側に前記反射鏡中心軸に沿ってオフセットするように、前記放電ランプが配置されていることを特徴とする請求項１に記載の光源装置。

【請求項6】

オフセット量ΔＹと前記反射鏡中心軸に沿ったオフセット量ΔＺは、０．２≦ΔＹ／ΔＺ≦４を満たすように定められていることを特徴とする請求項５に記載の光源装置。

【請求項7】

前記ランプと前記凹面反射鏡とによってそれぞれ構成される複数のランプユニットが列状に並んで配置され、
前記複数のランプユニットからの照明光が、前記光学素子の入射面に入射することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の光源装置。

【請求項8】

請求項１乃至７のいずれか記載の光源装置と、
前記光学素子を含む照明光学系とを備え、
前記反射鏡中心軸が、水平方向に沿うように、または水平方向に対し所定角度の範囲内で傾斜するように、前記光源装置が設置されていることを特徴とする露光装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光源装置に関し、特に、インテグレータ等の光学素子に対する照明光の入射に関する。

【背景技術】

【0002】

プロジェクタや露光装置などに使用される光源装置として、放電ランプとリフレクタから成るランプユニットで構成される光源装置が知られている。放電ランプから放射された光は、リフレクタに反射し、光学素子（集光レンズ、ロッドレンズ、フライアイレンズなどのインテグレータ）を含む照明光学系へ導かれる。照明光は、インテグレータによって照度均一化され、コリメータレンズによって平行光となり、ＤＭＤなどの光変調素子アレイ、ワークなどに照射される。

【0003】

放電ランプは経年変化によって電極先端が摩耗し、点灯時間の経過とともにインテグレータに入射する光の割合が減少することで照度の低下が生じる。これを防ぐため、複数のランプユニットを備えた多灯式光源装置において、インテグレータ入射面よりも広い照射エリアをもつ光を、インテグレータに入射させる（特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２００９－３０２２１８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

プロジェクタ、露光装置などに設置される光源装置では、ハロゲンサイクルの良好な発現、交流型放電ランプを使用した場合の電極消耗の抑制などの理由により、ランプ軸が略水平方向に沿うように光源装置を設置することが要求される。そのため、リフレクタは、その開口端が略鉛直方向に沿うように保持される。

【0006】

ランプ点灯中、リフレクタが熱膨張すると、リフレクタの保持構造などに起因して、リフレクタ中心軸が鉛直方向に沿って変動する。その結果、ランプ点灯直後と、ランプ安定点灯時などの温度環境の相違によって、インテグレータへ入射する光の光束断面（照射パターン）が変化し、照明光の一部がインテグレータ入射面に入射せず、照明効率が低下してしまう。

【0007】

したがって、ランプ点灯状況に関わらず、照明効率の低下を抑制したインテグレータ入射面への照明光入射を可能にする光源装置が求められる。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明の一態様である光源装置は、ランプと、その開口端が鉛直方向に沿うように位置合わせされ、ランプから放射された照明光を反射する凹面反射鏡とを備える。凹面反射鏡は、例えば楕円面や放物面の反射鏡で構成可能である。単一のランプで構成することや、ランプと凹面反射鏡とによってそれぞれ構成される複数のランプユニットを列状に並んで配置することも可能である。

【0009】

照明光は、凹面反射鏡の中心軸に沿って進行し、照明光の進行方向に配置される光学素子に入射する。光学素子は、例えばインテグレータなどによって構成可能である。また、照明光は、入射面のサイズに応じた光束で入射するように構成されている。すなわち、照明光が光学素子入射面よりはるかに大きい照射エリアや、照明光が入射面のごく一部にだけ入射するような照射エリアをもつのでなく、光源からの照明光をできる限りロスしないように、光学素子入射面サイズに合わせた光束の照明光が光学素子に入射する。

【0010】

本発明では、光学素子の入射面において、照明光の光束断面が、鉛直方向に応じたラインに沿って照射エリアが拡がるように、円状から歪んだ形になっている。歪みの程度、方向などは様々に構成可能であり、例えば、ラインの一方向側へ照射エリアが拡がるように、歪ませることができる。また、ラインの一方向側へ照射エリア端が延びるように、歪ませることができる。

【0011】

例えば、ランプが、一対の電極を備えた放電ランプであり、凹面反射鏡が、楕円面または放物面の反射鏡である場合、電極間中心が、凹面反射鏡の焦点に対し、一方の軸に沿った方向にオフセットするとともに、凹面反射鏡の開口端とは反対側の底部側に反射鏡中心軸に沿ってオフセットするように、放電ランプが配置されている。一方の軸に沿ったオフセット量ΔＹと、反射鏡中心軸に沿ったオフセット量ΔＺは、０．２≦ΔＹ／ΔＺ≦４を満たすように定めることができる。

【0012】

一方、本発明の他の態様である光源装置は、ランプと、円状の開口端を形成し、ランプから放射された照明光を、反射鏡中心に沿った方向へ導く凹面反射鏡とを備え、照明光は、光学素子の入射面に対し、入射面のサイズに応じた光束で入射する。そして、反射鏡中心軸に垂直な光学素子の入射面において、照明光の光束断面が、照明光の進行方向に沿った反射鏡中心軸との交点を通る所定のラインに沿って照射エリアが拡がるように、歪んでいる。

【0013】

本発明の一態様である露光装置は、上記光源装置と、上記光学素子を含む照明光学系とを備え、反射鏡中心軸が、水平方向に沿うように、または水平方向に対し所定角度の範囲内で傾斜するように、光源装置が設置されている。

【発明の効果】

【0014】

本発明によれば、ランプ点灯状況に関わらず、照明効率の低下を抑制したインテグレータ入射面への照明光入射を可能にすることができる。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】第１の実施形態である光源装置を備えた露光装置の概略的ブロック図である。

【図2】光源装置の概略的断面図である。

【図3】図２の放電ランプ付近を部分的に拡大した図である。

【図4】インテグレータの入射面に入射する照明光の照射パターンを示した図である。

【図5】図４とは異なる照射パターンを示した図である。

【図6】放電ランプをオフセット配置しない場合の照射パターンを示した図である。

【図7】第２の実施形態である露光装置を示した図である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

以下では、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。

【0017】

図１は、第１の実施形態である光源装置を備えた露光装置の概略的ブロック図である。

【0018】

露光装置１０は、ここでは、フォトマスク１４を用いてパターン光を基板Ｗに投影するコンタクト露光装置として構成されている。露光装置１０は、光源装置２０と、露光ヘッド１１を備え、コントローラ１５によって制御される光源駆動部１９によって点灯する。露光ヘッド１１は、照度を均一化するインテグレータ１３を含む照明光学系１２と、フォトマスク１４とを備える。

【0019】

光源装置２０から出射した光は、照明光学系１２を通り、フォトマスク１４に入射する。フォトマスク１４を通った光は、露光ステージ１８の基板Ｗに投影される。これによって、基板Ｗに所定のパターンが形成される。

【0020】

露光装置１０では、高照度モード、低照度モードを設定可能であり、ユーザによって高照度モードが設定されると、放電ランプ３０に対して高電力が入力され、低照度モードが設定されると、低電力が入力させる。なお、露光装置１０は、マスクレス露光装置、投影露光装置として構成することも可能である。

【0021】

図２は、光源装置２０の概略的断面図である。図３は、図２の放電ランプ３０付近を部分的に拡大した図である。

【0022】

光源装置２０は、放電ランプ３０、凹面反射鏡４０から成るランプユニットで構成され、ここでは１つのランプユニットで構成されている。放電ランプ３０は、例えば交流型の高圧もしくは超高圧水銀ランプであり、発光管３３内に一対の電極３２、３４を備えている。放電ランプ３０の発光管３３両端には、封止管３６、３８が一体的に形成され、封止管３８が保持部材６０によって軸支または保持されている。

【0023】

凹面反射鏡４０は、放電ランプから放射された光（以下、照明光という）を、反射鏡中心軸Ｚに沿って照明光学系１２側へ導くリフレクタであり、ここでは断面楕円状の楕円反射鏡として構成されている。円状の開口端４０Ａから出射した照明光は、照明光学系１２のインテグレータの入射面１３Ａに入射する。

【0024】

反射鏡中心軸Ｚは、照明光の光軸としてインテグレータ１３の入射面１３Ａに対し垂直であり、照明光は、入射面１３Ａに対してそのエリアサイズに相当する光束で入射する。なお、凹面反射鏡４０とインテグレータ１３との間に折り返しミラーなどを設けてもよい。また、凹面反射鏡４０は、放物面反射鏡として構成することもできる。

【0025】

凹面反射鏡４０は、放電ランプ３０におけるハロゲンサイクルの良好な発現、交流型放電ランプ３０の電極消耗防止などの理由により、凹面反射鏡４０の中心軸（以下、反射鏡中心軸という）Ｚが水平方向に沿うようにホルダ５０に固定されている。ホルダ５０は、開口端４０Ａ側に応じた開口部５０Ａを有し、開口端４０Ａ側を向く表面（ここでは、基準面という）５０Ｓが鉛直方向に沿うように、装置内で固定されている。

【0026】

凹面反射鏡４０は、その開口端４０Ａが基準面５０Ｓと当接し、基準面５０Ｓに設けられた環状凸部５２に対して嵌合し、反射鏡底部側から基準面５０Ｓ側へ作用する力を受けて固定されている。その結果、凹面反射鏡４０の開口端４０Ａは、鉛直方向に沿っている。

【0027】

ランプ点灯時に凹面反射鏡４０が熱膨張するため、環状の凸部５２の径サイズは、凹面反射鏡４０の開口端４０Ａのサイズより大きく定められている。そのため、凹面反射鏡４０をホルダ５０に嵌合したとき、開口端４０Ａは凸部５２の下側端部５２Ｂと当接する一方、凸部５２の上側端部５２Ａとの間に隙間ＳＢが生じている。

【0028】

本実施形態では、放電ランプ３０の電極間中心Ｃは、凹面反射鏡４０の焦点Ｃ０に位置せず、反射鏡中心軸Ｚと、焦点Ｃ０を通る鉛直方向（基準面５０Ｓ）に沿った軸（以下、垂直方向軸という）Ｙとに対して、オフセットしている。

【0029】

具体的には、垂直方向軸Ｙに沿って下方側へΔＹ分だけオフセットするとともに、凹面反射鏡４０の開口端４０Ａとは逆側（底部側）に反射鏡中心軸Ｚに沿ってΔＺ分だけオフセットしている。そのため、放電ランプ３０のランプ軸Ｅは、反射鏡中心軸Ｚより下方に位置する。焦点Ｃ０を通り、垂直方向軸Ｙに垂直な（紙面に垂直な）Ｘ軸に関しては、オフセットしていない。

【0030】

オフセット量ΔＹ、ΔＺは、凹面反射鏡４０の材質、サイズなどに応じて定められる。ここでは、０．２≦ΔＹ／ΔＺ≦４を満たすようにΔＹ、ΔＺが定められている。例えばΔＹ、ΔＺは、ΔＹ／ΔＺ＝１を満たす、すなわち同じオフセット量に設定される。

【0031】

このような凹面反射鏡４０に対する放電ランプ３０のオフセット配置により、インテグレータ１３の入射面１３Ａに入射する照明光の光量を、高照度モード、低照度モードいずれにおいても低下させず、照度低下を抑制可能としている。以下、これについて詳述する。

【0032】

図４は、インテグレータ１３の入射面１３Ａに入射する照明光の光束断面の形状（以下では、照射パターンともいう）を示した図である。図５は、図４とは異なる照射パターンを示した図である。図６は、放電ランプ３０をオフセット配置しない（電極間中心Ｃを焦点Ｃ０に一致させる）場合の照射パターンを示した図である。まず、図６の従来の放電ランプ３０の配置に基づくランプ点灯時の凹面反射鏡４０の熱膨張、および照明光の光束の歪みについて説明する。

【0033】

インテグレータ１３はロッドレンズなどで構成され、ここでは入射面１３Ａが方形状に形成されている。光源装置２０の円状開口端４０Ａから出射した照明光は、光束断面円状の光束としてインテグレータ１３の入射面１３Ａに入射する。したがって、インテグレータ１３の入射面１３Ａのエリア全体に対して照明光を入射させる場合、入射面１３Ａのエリア四隅１３Ｋ１～１３Ｋ４付近を含む照射パターンを形成する必要がある。

【0034】

その一方で、インテグレータ１３の入射面１３Ａから外れて入射しない照明光の光量が多いと、照明効率が低下し、無駄な電力消費を伴う。そのため、入射面１３Ａの中心Ａ０からエリア四隅１３Ｋ１～１３Ｋ４までを径とする光束サイズの照明光を、インテグレータ１３の入射面１３Ａに入射させるのが望ましい。したがって、凹面反射鏡４０などは、照明がインテグレータ１３の入射面１３Ａに応じたサイズの光束で入射するように設計されている。

【0035】

ところで、ランプ点灯中、凹面反射鏡４０は熱膨張するが、開口端４０Ａが凸部５２の下端５２Ｂと当接しているため、反射鏡中心軸Ｚが上方に移動するように凹面反射鏡４０全体が全体的に変形し、開口端４０Ａは凸部５２の上端５２Ａと当接して隙間ＳＢ（図１参照）がなくなる。これは、放電ランプ３０のランプ点灯直後からランプ安定点灯時への移行時においても、同様の変形が生じる。その結果、インテグレータ１３の入射面１３Ａに入射する照明光の照射パターンも変化する。

【0036】

一般的に、高照度モード、ランプ安定点灯時に合わせて照明効率を最も高めるように、凹面反射鏡４０などが設計される。その場合、ランプ点灯直後、あるいは低照度モードでは、照明光の一部がインテグレータ１３の入射面１３Ａに入射せず、照度低下が生じる。

【0037】

図６では、入射面１３Ａにおける低照度モード（ランプ点灯直後）の照射パターンＣ１と、高照度モード（ランプ安定点灯時）の照射パターンＣ２とを示している。ここでは、入射面１３Ａのエリア中心Ａ０を通り、凹面反射鏡４０の開口端４０Ａの鉛直方向に沿った軸をｙ軸とし、また、エリア中心Ａ０を通りｙ軸に垂直な軸をｘ軸としている。

【0038】

ｙ軸は、凹面反射鏡４０の焦点Ｃ０を通る鉛直方向に沿ったＹ軸に対応し、ｘ軸はＸ軸に対応する。高照度モード（ランプ安定点灯時）では、反射鏡中心軸Ｚの入射面１３Ａと交差する位置ｃが、エリア中心Ａ０の位置と略一致する。すなわち、円状の照射パターンＣ２の中心位置が、エリア中心Ａ０と略一致する。

【0039】

一方、低照度モード（ランプ点灯直後）では、凹面反射鏡４０の熱膨張の影響が少ないため、反射鏡中心軸Ｚの入射面１３Ａでの交点となる位置ｃ’を中心とした照射パターンＣ１が形成される。照射パターンＣ１の中心は、ｙ軸に沿ってエリア中心Ａ０よりもΔｙだけ下方にシフトしている。

【0040】

低照度モード（ランプ点灯直後）では、入射面１３Ａの一部（特に２つの隅１３Ｋ１、１３Ｋ４付近）において、照明光が入射しない。そのため、基板Ｗに対して必要な露光量を得るためには、低照度モードあるいはランプ点灯直後において、過度な電力供給を行って照度を挙げる必要がある。

【0041】

一方で、これを防ぐために照射パターンＣ１、Ｃ２の照射エリアサイズをあらかじめ拡大するように設計した場合、入射面１３Ａのエリア全体に照明光が入射するが、入射面１３Ａエリアから外れる照明光の光量が多くなり、照明効率の低下となる。

【0042】

図４では、本実施形態における放電ランプ３０のオフセット配置をした場合の照射パターンを示している。図４に示すように、低照度モード（ランプ点灯直後）、高照度モード（ランプ安定点灯時）いずれにおいても、照射パターンＣ’１、Ｃ’２は、入射面１３Ａのエリア全体を含むパターンとなっている。

【0043】

照射パターンＣ’１、Ｃ’２は、図６の照射パターンＣ１、Ｃ２と比較すると、ｙ軸の正方向に向けてその照射エリア端が拡がるように、すなわちパターン形状が＋ｙ方向へ延びるように歪んでいる。ｙ軸正方向は、凹面反射鏡４０におけるＹ軸正方向、すなわち鉛直方向に対応する。一方、ｘ軸に関し、照射パターンＣ’１、Ｃ’２に歪はなく、ｙ軸に関して対称的なパターン形状となっている。図４では、照射パターンＣ’１、Ｃ’２は卵型に近いパターン形状になっている。

【0044】

図５は、別の照射パターンＣ”１、Ｃ”２を示した図である。図４とは異なり、低照度モード（ランプ点灯直後）では、照射パターンＣ”１が入射面１３Ａの隅１３Ｋ１、１３Ｋ４付近の領域を含まず、照明光が入射しない。しかしながら、図６と比較すれば明らかなように、入射しない照明光の光量は抑制されている。一方で、照射パターンＣ”２は、入射面１３Ａの隅１３Ｋ１～１３Ｋ４を含む照射パターンとして形成されている。なお、照射パターンＣ”２に関しても、入射面１３Ａの隅１３Ｋ１、１３Ｋ４付近のエリアに照明光が入射しない場合でも、放電ランプ３０をオフセット配置しない場合に比べて照明効率の低下は抑制される。

【0045】

このように本実施形態によれば、インテグレータ１３に照明光を入射させる光源装置２０を備えた露光装置１０において、光源装置２０は、放電ランプ３０と凹面反射鏡４０とを備えたランプユニットで構成される。そして、放電ランプ３０は、凹面反射鏡４０に対し鉛直方向に沿ったＹ軸および反射鏡中心軸Ｚの底部側に沿って、その電極間中心Ｃが焦点Ｃ０からオフセットされている。

【0046】

これにより、インテグレータ１３の入射面１３Ａに入射する照射パターンＣ’１、Ｃ’２は、鉛直方向（装置上方向）に応じたｙ軸の＋方向に向けてその照射エリアが拡がるように、円状パターンに対し歪みをもつ照射パターンとなる。このような照射パターンによって、低照度モード（ランプ点灯直後）、高照度モード（ランプ安定点灯時）いずれにおいても、照明効率を低下させることなく、照明光を効果的にインテグレータ１３へ入射させることができる。

【0047】

上述したように、オフセット量ΔＹ、ΔＺは、０．２≦ΔＹ／ΔＺ≦４を満たすように定められている。これは、ΔＹに対してΔＺが大きすぎると、照射パターン自体が変形するだけで歪みが小さく、ΔＹに対してΔＺが小さすぎると、極端に歪んだ照射パターンになるためである。

【0048】

図４～図６では、インテグレータ１３の入射面１３Ａが方形状に形成されているが、代わりに矩形状、円形状にすることも可能である。その場合でも、照射パターンがｙ軸の正方向に向けて歪むことで、同様の効果を得ることができる。

【0049】

照射パターンの歪みは、放電ランプ３０のオフセット配置以外によって実現してもよい。例えば、凹面反射鏡の開口端形状を円状でなく変形することによって、照射パターンを歪ませることも可能である。また、照射パターンが楕円状となるような凹面反射鏡を構成してもよい。

【0050】

したがって、照射パターンの歪みを、ｙ軸の±両方向へ歪ませて楕円状にすることも可能である。また、ｙ軸に関して非対称な歪を持たせた照射パターンにすることも可能である。

【0051】

図７は、第２の実施形態である露光装置を示した図である。

【0052】

露光装置１０’は、多灯式の光源装置２０’を備え、光源装置２０’は、凹面反射鏡４０と放電ランプ３０から成るランプユニット２０Ｎを複数備えている。複数のランプユニット２０Ｎは、鉛直方向に沿って列状に配置され、各ランプユニット２０Ｎは、第１の実施形態と同様、その開口端が鉛直方向に沿うように、ホルダによって保持されている。

【0053】

光源装置２０’からの照明光は、ミラーＭ１、Ｍ２によって反射し、インテグレータ１３の入射面１３Ａに入射する。このとき、各ランプユニットの照明光がインテグレータ１３の入射面１３Ａに入射する。

【0054】

このような多灯式光源装置２０’であっても、照度モード（ランプ点灯直後）、高照度モード（ランプ安定点灯時）において、照射パターンの上端、下端付近のずれが生じる。そのため、第１の実施形態と同様に各放電ランプの電極間中心を凹面反射鏡の焦点に対してオフセットし、照射パターンを鉛直方向に応じた方向に歪ませた照射パターンを各ランプユニットで形成することによって、照明効率の低下を抑制しながらインテグレータ１３の入射面１３Ａに入射させることができる。なお、複数のランプユニット２０Ｎを鉛直方向に並べる代わりに、所定の角度（例えば±２０°の範囲）で傾斜させて固定配置させてもよい。

【0055】

第１、第２の実施形態で示した光源装置は、露光装置以外の装置、例えばプロジェクタに適用することも可能である。この場合、放電ランプ３０のオフセット配置方向に合わせて凹面反射鏡４０の開口端の位置決めを行い、固定すればよい。

【符号の説明】

【0056】

１０ 露光装置
１３ インテグレータ
２０ 光源装置
３０ 放電ランプ
４０ 凹面反射鏡

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】