▶ 森永乳業株式会社の特許一覧 ▶ 長谷 修の特許一覧 ▶ 西澤 隆の特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-05-31
(45)【発行日】2024-06-10
(54)【発明の名称】切り花の殺菌処理による灰色かび病の殺菌処理後の病斑抑制方法
(51)【国際特許分類】
A01N 59/00 20060101AFI20240603BHJP
A01N 25/00 20060101ALI20240603BHJP
A01N 25/06 20060101ALI20240603BHJP
A01N 25/02 20060101ALI20240603BHJP
A01P 3/00 20060101ALI20240603BHJP
A61L 2/20 20060101ALI20240603BHJP
A61L 101/06 20060101ALN20240603BHJP
【ＦＩ】
A01N59/00 A
A01N25/00
A01N25/06
A01N25/02
A01P3/00
A61L2/20
A61L101:06
【請求項の数】
10
(21)【出願番号】P 2022128139
(22)【出願日】2022-08-10
(62)【分割の表示】P 2021100420の分割
【原出願日】2018-03-09
(65)【公開番号】P2022145911
(43)【公開日】2022-10-04
【審査請求日】2022-08-10
(31)【優先権主張番号】P 2017086571
(32)【優先日】2017-04-25
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2017183373
(32)【優先日】2017-09-25
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
【前置審査】
(73)【特許権者】
【識別番号】000006127
【氏名又は名称】森永乳業株式会社
(73)【特許権者】
【識別番号】517147526
【氏名又は名称】長谷 修
(73)【特許権者】
【識別番号】517147537
【氏名又は名称】西澤 隆
(74)【代理人】
【識別番号】110001737
【氏名又は名称】弁理士法人スズエ国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】森田 修介
(72)【発明者】
【氏名】千草 尚
(72)【発明者】
【氏名】長谷 修
(72)【発明者】
【氏名】西澤 隆
(72)【発明者】
【氏名】谷中 沙妃
【審査官】小森 潔
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１６／１７０８２７（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１６／１７０７０１（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開平０９－２５２７１７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１１－２０１８３８（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ａ０１Ｎ
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
収穫後から輸送前の切り花に対し、次亜塩素酸水の気化物質を、ＨＣｌＯ総到達量（前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）が２６０μｇ／ｍ２以上、４２０００μｇ／ｍ２以下まで供給することを特徴とする切り花の殺菌処理による灰色かび病の殺菌処理後の病斑抑制方法（ただし、梱包以後にさらに殺菌処理する場合を除く。）。
【請求項2】
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量は、５～７００μｇ／（ｍ２・分）である請求項１に記載の方法。
【請求項3】
前記ＨＣｌＯ総到達量を、輸送期間に合わせ３５００μｇ／ｍ２以上、２３０００μｇ／ｍ２以下に設定する請求項２に記載の方法。
【請求項4】
切り花に次亜塩素酸水の通風せずに自然気化させた気化物質を供給し、前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量を平均５～６０μｇ／（ｍ２・分）に維持する切り花の殺菌処理による灰色かび病の殺菌処理後の病斑抑制方法。
【請求項5】
ＨＣｌＯ総到達量（前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）を２４時間以内に７０００μｇ／ｍ２以上、２３０００μｇ／ｍ２以下になるまで、前記周囲雰囲気を前記単位時間ＨＣｌＯ到達量に維持し、かつ４８時間以内に前記次亜塩素酸水の気化物質を前記切り花に再供給し、前記周囲雰囲気を前記単位時間ＨＣｌＯ到達量に維持することをさらに含む請求項４に記載の方法。
【請求項6】
前記切り花の周囲雰囲気をさらに湿度８０％以上に維持する請求項１ないし４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項7】
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量を維持した後、前記切り花を湿度８０％以上で保管することをさらに含む請求項１ないし４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項8】
前記切り花周辺に到達した次亜塩素酸の単位時間ＨＣｌＯ到達量を予測する単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部を備え、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部により算出されるＨＣｌＯ総到達量が目的値になるまで、前記次亜塩素酸水の気化物質を供給する請求項１ないし３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項9】
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部は、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量と前記次亜塩素酸水の気化物質を供給する時間との関係を予め記憶する記憶部を備え、前記単位時間ＨＣｌＯ供給量予測部は、前記記憶部からの情報に基づいて前記次亜塩素酸のＨＣｌＯ総到達量が目的値になるまでの予定時間を予測し、前記予定時間に達するまで前記次亜塩素酸水の気化物質を供給する請求項８に記載の方法。
【請求項10】
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部は、前記切り花周辺に到達した次亜塩素酸のＨＣｌＯ総到達量を測定する測定部を備え、前記次亜塩素酸の単位時間ＨＣｌＯ到達量を前記測定部にて測定し、前記ＨＣｌＯ総到達量が目的値であるか判定し、前記目的値に達している場合には前記次亜塩素酸水の気化物質の供給を停止する請求項８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明の実施形態は、切り花の殺菌処理方法及び殺菌ユニットに関する。
【背景技術】
【0002】
切り花の鮮度保持として、水揚げ時に保存液を添加する処理方法がある。
【0003】
しかし、保存液を用いる場合は、葉／茎等には効果があるが、花弁を直接殺菌するものではないので、花弁に付着した菌を取り除く効果はない。この場合、出荷時に付着していた目視できないほど少ない菌が輸送時に増大してしまい、仲卸や小売店に届くころには観賞用途に利用できないほどの病害となる場合がある。また、切り花の殺菌は、花びらの上面だけでなく、裏面にも処理する必要があり、スプレー噴霧などでは作業性に課題がある。酸性電解水（次亜塩素酸水）は、病害（例えばバラの灰色かび病）抑制に有効であるが、浸漬処理では次亜塩素酸の失活後、切り花表面に水が残る問題もあり、切り花の殺菌用途に利用することについて本格的に導入するほどは普及していないのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２００５－８５４２号公報
【文献】特開２０１７－５６３７９号公報
【文献】特表２０１４－５１８８４４号公報
【文献】国際公開第２０１５／０７１９９５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明の実施形態は、収穫後の切り花を効率よく殺菌することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
実施形態によれば、収穫後から輸送前の切り花に対し、次亜塩素酸水の気化物質を、ＨＣｌＯ総到達量（前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）が２６０μｇ／ｍ２以上、４２０００μｇ／ｍ
２
以下まで供給することを特徴とする切り花の殺菌処理による灰色かび病の殺菌処理後の病斑抑制方法（ただし、梱包以後にさらに殺菌処理する場合を除く。）が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】切り花の生産から販売への流通を表すフロー図である。
【図2】実施形態に適用可能な切り花の殺菌システムの構成例を概略的に表す図である。
【図3】実施形態に適用可能な殺菌システムを備えた切り花の管理システムの一例を表す概略図である。
【図5】実施形態に適用可能な殺菌システムを備えた切り花の管理システムの他の一例を表す概略図である。
【図7】実施形態に使用される電解水を生成可能な電解水生成装置の一例を表す図である。
【図8】殺菌処理後に高湿度空間で切り花を保管した場合の経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図9】殺菌処理後に高湿度空間で切り花を保管した場合の経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図10】殺菌処理後に高湿度空間で切り花を保管した場合の経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図11】殺菌処理後に高湿度空間で切り花を保管した場合の経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図12】切り花へのＨＣｌＯ総到達量と、高湿度保管１日目で切り花の花弁に発生する直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図13】切り花へのＨＣｌＯ総到達量と、高湿度保管２日目で切り花の花弁に発生した直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図14】切り花へのＨＣｌＯ総到達量と、高湿度保管３日目で切り花の花弁に発生した直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図15】切り花へのＨＣｌＯ総到達量と、高湿度保管４日目で切り花の花弁に発生した直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図16】殺菌処理後に高湿度空間で切り花を保管した場合の経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図17】殺菌処理後に高湿度空間で切り花を保管した場合の経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図18】殺菌処理後に高湿度空間で切り花を保管した場合の経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図19】切り花へのＨＣｌＯ総到達量と、高湿度保管１日目の切り花の花弁における病斑発生割合との関係を表すグラフ図である。
【図20】切り花へのＨＣｌＯ総到達量と、高湿度保管２日目の切り花の花弁における病斑発生割合との関係を表すグラフ図である。
【図21】切り花へのＨＣｌＯ総到達量と、高湿度保管３日目の切り花の花弁における病斑発生割合との関係を表すグラフ図である。
【図22】切り花へのＨＣｌＯ総到達量と、高湿度保管４日目の切り花の花弁における病斑発生割合との関係を表すグラフ図である。
【図23】第２の実施形態にかかる切り花の殺菌方法に適用可能な殺菌ユニットの一例を表す概略図である。
【図24】第２の実施形態にかかる切り花の殺菌方法に適用可能な殺菌ユニットである。
【図25】殺菌処理後に高湿度空間で切り花を保管した場合の経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図26】切り花へのＨＣｌＯ総到達量と、高湿度保管１日目で切り花の花弁に発生する直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図27】切り花へのＨＣｌＯ総到達量と、高湿度保管２日目で切り花の花弁に発生した直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図28】切り花へのＨＣｌＯ総到達量と、高湿度保管３日目で切り花の花弁に発生した直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【図29】切り花へのＨＣｌＯ総到達量と、高湿度保管４日目で切り花の花弁に発生した直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、実施の形態について、図面を参照して説明する。
【0009】
実施形態は、第１の実施形態にかかる切り花の殺菌処理方法と、第２の実施形態にかかる切り花の殺菌処理方法を含む。
【0010】
第１の実施形態にかかる切り花の殺菌処理方法では、収穫後から輸送前の切り花に対し、次亜塩素酸水の気化物質を、ＨＣｌＯ総到達量が２６０μｇ／ｍ２以上、４２０００μｇ／ｍ２以下まで供給する。
【0011】
ＨＣｌＯ総到達量（μｇ／ｍ２）は、切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量 μｇ／（ｍ２・分）と供給時間とを積算した値であり、対象物（切り花）の単位面積当たりに到達する次亜塩素酸の重量をいう。
【0012】
また、単位時間ＨＣｌＯ到達量μｇ／（ｍ２・分）は、単位面積、単位時間当たりに到達するＨＣｌＯの重量をいう。
【0013】
第１の実施形態にかかる切り花の殺菌処理を行うタイミングは、収穫後から輸送前である。
【0014】
図１に、切り花の生産から販売への流通を表すフロー図を示す。
【0015】
図示するように、切り花の生産段階では、一般に、生産者による花の生産（ＢＬ１１）、及び収穫（ＢＬ１２）により、得られた切り花を水揚げ（ＢＬ１３）し、花束ね等の調整（ＢＬ１４）、及び梱包（ＢＬ１５）の後、出荷まで低温で保管され、輸送（ＢＬ１６）される。
【0016】
輸送された切り花は、市場（ＢＬ１７）、仲卸（ＢＬ１８）、小売店等（ＢＬ１９）を経て、消費者に届けられる。また、市場から仲卸を通さず、直接小売店等に運ばれる場合や、生産者が消費者へ例えばインターネット販売などにより直接販売し、市場（ＢＬ１７）、仲卸（ＢＬ１８）、小売店等（ＢＬ１９）を介さず消費者に届く場合もある。
【0017】
収穫後から輸送前とは、生産段階の収穫（ＢＬ１２）後、輸送（ＢＬ１６）より前の水揚げ（ＢＬ１３）、花束ね等の調整（ＢＬ１４）、及び梱包（ＢＬ１５）の作業中またはその前後のいずれかのタイミングに相当する。これらの作業は生産者が行う場合だけでなく、あるいは農業協同組合、商社等の買い付け業者が行う場合がある。
【0018】
例えば、水揚げ（ＢＬ１３）の段階で、殺菌処理を行う場合には、冷蔵庫内でバケツに根元だけ水を含ませた状態の切り花に対し、冷蔵庫に搬入する前に、あるいは保管すると同時に、ＨＣｌＯ総到達量が任意の値となるまで次亜塩素酸水の気化物質を供給することができる。また、例えば、花束ね（ＢＬ１４）の段階で殺菌処理を行う場合には、冷蔵庫から取り出して、花束ねをする直前に、ＨＣｌＯ総到達量が任意の値となるまで次亜塩素酸水の気化物質を供給することができる。
【0019】
国内輸送の場合は、生産者からの出荷後に輸送（ＢＬ１６）、市場（ＢＬ１７）、仲卸（ＢＬ１８）、小売店等（ＢＬ１９）を経て、消費者に届けられるまでに１～２日を要する。生産者が消費者へインターネット販売などにより直接販売する場合は１日でよいこともある。また、国外へ輸送する場合は、おおよそ３～４日間が必要となる。この過程においてコールドチェーンが切れ、菌が繁殖しやすい高湿度などの条件になると灰色かび病などの病害が発生するリスクがある。
【0020】
この灰色かび病は、バラなどの多くの切り花に発生する病気であり、直径２ｍｍ病斑相当数は、４個を超えると、消費者から返品を受けることがあり、１０個を超えると、病斑の増え方が速くなり、輸送中の周囲の花にも影響をあたえる可能性があることから、１０個以下、好ましくは４個以下、さらに好ましくは１個以下に抑制することが望まれる。
【0021】
直径２ｍｍ病斑相当数は、以下の灰色かび病の測定基準により得られる数値である。
【0022】
灰色かび病の測定基準
花全体の表面積を３０×４０ｍｍ２の花弁５枚 （面）分相当＝６０００ｍｍ２とする。
花全体の表面積を３０×４０ｍｍ２の花弁５枚 （面）分相当＝６０００ｍｍ２とする。
【0023】
直径２ｍｍ弱の病斑の表面積を３ｍｍ２と算出する。
【0024】
直径４ｍｍ弱の病斑の表面積を１５ｍｍ２と算出する。
【0025】
直径９ｍｍ弱の病斑の表面積を７５ｍｍ２と算出する。
【0026】
病斑の直径を目視で２、４、及び９ｍｍに類別し、それぞれ病斑数を測定する。各病斑（特に直径２ｍｍ病斑）が２０個を超えそうな場合は，１０－１００個単位で測定する。褐変部が大きい場合は花弁１枚あたりに示す割合を目視で測定し、最大値は５枚とする。
【0027】
測定値から病斑面積を求め，直径２ｍｍ病斑の数に相当する数（直径２ｍｍ病斑相当数）に換算して評価する。
【0028】
第１の実施形態によれば、単位時間ＨＣｌＯ到達量が５～３５０μｇ／（ｍ２・分）であるとき、次亜塩素酸水の気化物質をＨＣｌＯ総量２６０μｇ／ｍ２以上になるまで供給すれば、高湿度の状況が１日間継続しても、灰色かび病の直径２ｍｍ病斑相当数を４個以下に抑制でき、３５００μｇ／ｍ２以上になるまで供給すれば、直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑制できる。
【0029】
また収穫後から輸送前の切り花に対し、次亜塩素酸水の気化物質を、ＨＣｌＯ総到達量が４５００μｇ／ｍ２以上になるまで供給して殺菌することにより、高湿度の状況が２日間継続しても、直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下に抑制することが可能であり、８０００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を４個以下に抑制でき、更に１５０００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑制できる。２日間保管可能であると、出荷～流通～小売店での販売に至るまでの病斑発生を抑止できる。
【0030】
また高湿度の状況が３日間継続に対しては、ＨＣｌＯ総到達量が８５００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下に抑制でき、１４０００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を４個以下に抑制でき、更に２２０００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑制できる。
【0031】
また高湿度の状況が４日間継続に対しては、ＨＣｌＯ総到達量が１４０００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下に抑制でき、１９０００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を４個以下に抑制でき、更に２３０００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑制できる。
【0032】
第１の実施形態によれば、単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）より大きく７００μｇ／（ｍ２・分）以下であるとき、収穫後から輸送前の切り花に対し、次亜塩素酸水の気化物質をＨＣｌＯ総量２６０μｇ／ｍ２以上になるまで供給すれば、高湿度の状況が１日間継続しても、灰色かび病の直径２ｍｍ病斑相当数を４個以下に抑制でき、３５００μｇ／ｍ２以上になるまで供給すれば、直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑制できる。
【0033】
また収穫後から輸送前の切り花に対し、高湿度の状況が２日間継続しても、次亜塩素酸水の気化物質をＨＣｌＯ総到達量が１６００μｇ／ｍ２以上になるまで供給して殺菌することにより、直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下に抑制することが可能であり、２８００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を４個以下に抑制でき、更に７６００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑制できる。
【0034】
また収穫後から輸送前の切り花に対し、高湿度の状況が３日間継続しても、次亜塩素酸水の気化物質をＨＣｌＯ総到達量が３４００μｇ／ｍ２以上になるまで供給して殺菌することにより、直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下に抑制することが可能であり、６７００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を４個以下に抑制でき、更に１１４００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑制できる。
【0035】
また収穫後から輸送前の切り花に対し、高湿度の状況が３日間継続しても、次亜塩素酸水の気化物質をＨＣｌＯ総到達量が８４００μｇ／ｍ２以上になるまで供給して殺菌することにより、直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下に抑制することが可能であり、１０６００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を４個以下に抑制でき、更に１５２００μｇ／ｍ２以上を供給すると直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑制できる。
【0036】
なお、ここでいう高湿度の状況とは、発病に適した湿度のことで、例えば湿度８０～１００％のことをいう。
【0037】
高湿度の状況で病斑数を抑えられる日数は、切り花の輸送期間に適用することができる。第１の実施形態によれば、切り花の輸送期間に応じて、ＨＣｌＯ総到達量を設定できる。
【0038】
一方で、過剰供給により変色や花の香りの減少など品位低下が懸念されるが、ＨＣｌＯ総到達量が４２０００μｇ／ｍ２まで塩素障害はないことを目視で確認している。
【0039】
次亜塩素酸水の気化物質は、５μｇ／（ｍ２・分）～７００μｇ／（ｍ２・分）の単位時間ＨＣｌＯ到達量で用いることができる。
【0040】
単位時間ＨＣｌＯ到達量が５μｇ／（ｍ２・分）未満の場合、菌の成長に殺菌が追い付かなくなる傾向がある。一方で高濃度では、過剰供給による塩素障害が懸念されるが７００μｇ／（ｍ２・分）まで問題ないことを目視で確認している。
【0041】
前記ＨＣｌＯ総到達量は、前記輸送期間に合わせ３５００μｇ／ｍ２以上、２３０００μｇ／ｍ２以下に設定することができる。
【0042】
次亜塩素酸水の気化物質のＨＣｌＯ総到達量が３５００μｇ／ｍ２未満であると、輸送中に高湿度となった場合に、複数個の病班が発生するリスクが高くなる傾向があり、２３０００μｇ／ｍ２を超えて供給しても直径２ｍｍ病斑相当数の抑制効果がほとんど変わらない場合がある。
【0043】
切り花の周囲雰囲気をさらに湿度８０％以上に維持することにより、切り花のみずみずしさを保つことができる。また、次亜塩素酸水の気化物質による処理の後、切り花の周囲雰囲気をさらに湿度８０％以上に維持することもできる。
【0044】
実施形態に使用される次亜塩素酸水の気化物質は、次亜塩素酸を含む水溶液である次亜塩素酸水を処理空間に気化させるかあるいは噴霧することにより得られ、少なくとも対象物となる切り花に到達する時にほぼ気化された状態になっており、切り花に触れても濡れることが無いほど小さい、もしくは分子サイズで空間に存在するものをいう。
【0045】
実施形態に使用可能な次亜塩素酸水を気化させるか、あるいは噴霧する方法としては、例えば、フィルタに次亜塩素酸水を含浸させ、このフィルタを通して空気を通風することにより、次亜塩素酸水と空気とを接触させて、次亜塩素酸水を気体に変換して放出する方法、不織布を含む布に次亜塩素酸水を含浸し、通風せずに、自然気化させる方法、あるいは、次亜塩素酸水をスプレー噴霧、もしくは超音波振動子によりミスト化された次亜塩素酸水を、対象物に到達する前に気温による蒸発で気化させる方法等があげられる。なお、フィルタを使用すると、電解水に塩化物が含まれていても、気化されにくいという利点がある。
【0046】
次亜塩素酸水の気化物質のＨＣｌＯ総到達量、及び単位時間ＨＣｌＯ到達量は、以下のように求めることができる。
【0047】
空間に噴霧したＨＣｌＯの対象物への到達量の測定方法には、活性酸素検出用蛍光試薬ＡＰＦ（Ａｍｉｎｏｐｈｅｎｙｌ Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｉｎ）を利用した評価方法としてＡＰＦ法がある。ＡＰＦは中性水溶液中ではほとんど蛍光を示さないが、次亜塩素酸（ＨＣｌＯ／ＯＣｌ－）と反応すると、強蛍光性化合物を生成し、４９０ｎｍの励起光で５１５ｎｍ付近に強い蛍光を発する。この蛍光強度と次亜塩素酸の添加量に相関があることが確認されている。
【0048】
従って、ＨＣｌＯ噴霧空間で殺菌対象として切り花を置く場所に、ＡＰＦ水溶液を入れた任意の容器を任意の時間置き、容器に到達するＨＣｌＯを回収する。回収液の蛍光強度から次亜塩素酸到達量を算出し、容器の面積、回収時間で規格化することで、単位面積、単位時間当たりに到達する次亜塩素酸の重量すなわち単位時間ＨＣｌＯ到達量 μｇ／（ｍ２・分）を求めることができ、単位時間ＨＣｌＯ到達量に処理時間を積算することで単位面積当たりに到達するＨＣｌＯの総重量、すなわちＨＣｌＯ総到達量 μｇ／ｍ２を求めることが出来る。
【0049】
実施形態によれば、次亜塩素酸水の気化物質を使用しているため、撥水性の切り花に対しても、表面を濡らすことなく次亜塩素酸を供給して殺菌を行うことができる。
【0050】
実施形態にかかる切り花の殺菌処理方法には、例えば、下記殺菌システムを適用することができる。
【0051】
実施形態に適用可能な切り花の殺菌システムは、次亜塩素酸を気化する気化部、及び気化部により気化された次亜塩素酸の気化物質を切り花周辺に到達させる搬送部を含む供給部と、供給部から切り花周辺に到達した次亜塩素酸の単位時間ＨＣｌＯ到達量を予測する単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部と、単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部により予測されるＨＣｌＯ総到達量が目的値になるまで、供給部を制御する制御部を備える。
【0052】
図２に、実施形態に適用可能な切り花の殺菌システムの構成例を概略的に表す図を示す。
【0053】
図示するように、この切り花殺菌システム１は、供給部２０と、供給部２０を制御する制御部１４と、制御部１４に接続され、切り花周辺に到達した次亜塩素酸の単位時間ＨＣｌＯ到達量を予測する単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部１９とを備えている。
【0054】
供給部２０は、タンク１０と、配管１１と、ポンプ１２と、吸気口１５ａ及び排気口１５ｂを有する筐体１５と、この筐体１５に収容された、次亜塩素酸を気化する気化部１６及び次亜塩素酸の気化物質を切り花周辺に到達させるファン１７とを備えている。
【0055】
タンク１０は、殺菌水の一例である次亜塩素酸水を貯水する。この次亜塩素酸水は、タンク１０が備える給水口を介して人手により、或いはタンク１０に接続された給水管を介してポンプなどの動力源により、適宜に補充される。
【0056】
配管１１は、一端がタンク１０の例えば底面に接続されるとともに、他端が気化部１６に接続されている。ポンプ１２は、タンク１０の次亜塩素酸水を気化部１６に供給する送液装置として機能するものであり、配管１１に設けられている。ポンプ１２は、例えば回転数の可変制御により、気化部１６に送る次亜塩素酸水の流量を調整することができる。なお、タンク１０から気化部１６への次亜塩素酸水の送液は、水頭圧等を利用して行われても良い。この場合においては、例えば配管１１に開度が可変な電磁弁を設けることにより、気化部１６に送る次亜塩素酸水の流量を調整することができる。
【0057】
図２の例において、配管１１は筐体１５の内部に延び、気化部１６に接続されている。
【0058】
気化部１６は、配管１１を介して供給される次亜塩素酸水を気化し、殺菌成分を空間に放出する。同時に、気化部１６は粒径が比較的小さいミストも発生する。このようなミストを発生させ、対象物に到達する前に気化する方式としては、例えば、超音波方式を採用することができる。この場合において、気化部１６は、配管１１を介して供給される次亜塩素酸水を溜める容器と、超音波によりこの容器に溜められた次亜塩素酸水を振動させ、液面から次亜塩素酸水のミストを発生させる超音波振動子と、を有している。その他にも、気化部１６により次亜塩素酸水を気化する方式としては、微細孔を有するノズルから次亜塩素酸水を放出することにより次亜塩素酸水を気化（霧化）する方式などを採用しても良い。ただし、対象物を濡らさずに殺菌することが好ましいため、発生するミスト量は少なく、かつ粒径が小さいことが望ましい。
【0059】
あるいは、気化部１６としては、例えば、配管１１から滴下される次亜塩素酸水を吸水する吸水フィルタを用いることができる。この吸水フィルタは、空気との接触面積を増やして次亜塩素酸水を効率良く気化させるべく、微細なハニカム構造などの微細構造を有しても良い。さらに、吸水フィルタは、次亜塩素酸水と反応しにくい材料、例えばポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系材料、又は無機材料にて形成されるか、或いはこれらの材料にて表面がコーティングされたものであっても良い。このような吸水フィルタを用いれば、次亜塩素酸水による吸水フィルタの腐食や次亜塩素酸水の失活を防ぐことができる。なお、気化部１６は、次亜塩素酸水を気化させると同時に、粒径が比較的小さいミストも発生し得る。
【0060】
気化部は、上述した方式の均等物のみならず、サーマル方式など熱による気化方式、その他、気化する機能を有すれば、何でもよい。
【0061】
ファン１７は、気化部１６により生成された次亜塩素酸水の気化物質及びミストを筐体１５の外部に送り出す。具体的には、ファン１７の回転に伴って吸気口１５ａから筐体１５に空気が取り込まれ、この空気が気化部１６により生成された次亜塩素酸水の気化物質及びミストとともに排気口１５ｂから排出（噴霧）される。ファン１７の回転数の可変制御により、筐体１５の外部に噴霧する次亜塩素酸水の気化物質等の量や風量を調整することができる。
【0062】
制御部１４は、例えば第１殺菌装置１の制御の中枢を担うプロセッサ、各種の設定条件やプロセッサが実行するコンピュータプログラムを記憶したメモリ、及び、各部に供給する電圧を生成する電源装置などを備えている。この制御部１４は、ポンプ１２、気化部１６、及びファン１７などを制御する。制御部１４には、供給部から切り花周辺に到達した次亜塩素酸の単位時間ＨＣｌＯ到達量を予測する単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部１９が接続されている。
【0063】
制御部１４は、単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部１９により算出されるＨＣｌＯ総到達量が目的値になるまで、供給部２０の運転を制御することができる。
【0064】
例えば、制御部１４は、切り花の表面を濡らすことがない程度に、ファン１７の回転数を制御することができる。
【0065】
このような次亜塩素酸水の気化物質では、切り花の表面を濡らさずに殺菌することができ、同時に発生する粒径の小さいミストが飛散しても迅速に蒸発するため、切り花の表面等を過度に濡らすことがない。したがって、水への浸積に不向きな切り花への利用や、撥水性があるため一般的な水系の薬剤の場合では殺菌することができない花弁に対し、次亜塩素酸水を気化した物資の場合には次亜塩素酸成分が花弁の内部まで到達することができるなどの理由で殺菌に適している。このように切り花の表面を濡らすことがないミスト（液状ミスト）の粒径は、例えば約５０μｍ以下である。
【0066】
図３に、実施形態に適用可能な殺菌システムを備えた切り花の管理システムの一例を表す概略図を示す。
【0067】
図示するように、この切り花の管理システム３０は、切り花を収容する収容部２と、収容部２に収容された切り花に次亜塩素酸の気化物質を供給する殺菌システム４０と、管理システム３０内の湿度を管理する除湿部３とを有する。
【0068】
殺菌システム４０は、単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部１９が、単位時間ＨＣｌＯ到達量と供給部２０の運転時間との関係を予め記憶する記憶部２３をさらに含み、単位時間ＨＣｌＯ供給量予測部１９にて記憶部２３からの情報に基づいて次亜塩素酸のＨＣｌＯ総到達量が目的値になるまでの予定時間を予測し、制御部１４にて供給部２０を予定時間に達するまで運転すること、及び制御部１４が除湿部３と接続されていること以外は図２と同様の構成を有する。
【0069】
【0070】
図示するように、この方法では、まず、供給部２０の運転を開始し、気化部１６においてタンク１０から供給された次亜塩素酸水を気化に供し、次亜塩素酸水の気化物質を生成する（ＢＬ１）。
【0071】
次亜塩素酸水の気化物質はファン１７を用いて筐体１５の外部へ搬送して、収容部２に収容された切り花に到達させる（ＢＬ２）。
【0072】
記憶部２３からの情報に基づいて単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部１９にて次亜塩素酸のＨＣｌＯ総到達量が目的値になるまでの予定時間を予測する（ＢＬ３）。
【0073】
続いて、予定時間が経過したか判定する（ＢＬ４）。
【0074】
予定時間が経過した場合には、制御部１４にて供給部２０の運転を停止する。
【0075】
予定時間が経過していない場合には、供給部２０の運転を続ける。
【0076】
なお、管理システム３０内の湿度は、制御部１４にて必要に応じて除湿器を運転させることにより、調節することができる。
【0077】
図５に、実施形態に適用可能な殺菌システムを備えた切り花の管理システムの他の一例を表す概略図を示す。
【0078】
この殺菌システム５０は、単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部１９が記憶部２３を含む代わりに、単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部１９と接続された、切り花周辺に到達した次亜塩素酸のＨＣｌＯ総到達量を測定する測定部２５をさらに含むこと以外は、図３と同様の構成を有する。
【0079】
測定部においても活性酸素検出用蛍光試薬ＡＰＦを利用することができる。
【0080】
単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部１９が記憶部２３をさらに含むことも可能である。
【0081】
【0082】
図示するように、この方法では、まず、供給部２０の運転を開始し、図４と同様にして、まず、次亜塩素酸水の気化物質を生成し（ＢＬ１）、次亜塩素酸水の気化物質を搬送して、収容部２に収容された切り花に到達させる（ＢＬ２）。
【0083】
続いて、測定部２５にて切り花周辺に到達した次亜塩素酸の単位時間ＨＣｌＯ到達量を測定する（ＢＬ５）。
【0084】
その後、ＨＣｌＯ総到達量が目的値であるか判定する（ＢＬ６）。
【0085】
目的値に達している場合には、制御部１４にて供給部２０の運転を停止する。
【0086】
目的値に達していない場合には、制御部１４にて供給部２０の運転を続ける。
【0087】
ＨＣｌＯ総到達量２６０μｇ／ｍ２～４２０００μｇ／ｍ２を目的値とし、単位時間ＨＣｌＯ到達量を７００μｇ／（ｍ２・分）とするとき、供給部の運転時間は２２秒～６０分間にすることができる。
【0088】
ＨＣｌＯ総到達量２６０μｇ／ｍ２～４２０００μｇ／ｍ２を目的値とし、単位時間ＨＣｌＯ到達量を５μｇ／（ｍ２・分）とするとき、供給部の運転時間は５２分～１４０時間にすることができる。
【0089】
実施形態に次亜塩素酸水として使用可能な酸性電解水は、以下の装置を用いて生成することができる。
【0090】
図７に、実施形態に使用される電解水を生成可能な電解水生成装置の一例を表す図を示す。
【0091】
図示するように、電解水生成装置は、いわゆる３室型の電解槽（電解セル）１００を備えている。電解槽１００は、偏平な矩形箱状に形成され、その内部は、陰イオン交換膜（第１隔膜）１１２および陽イオン交換膜（第２隔膜）１１４により、中間室１１５ａと、中間室１１５ａの両側に位置する陽極室１１５ｂおよび陰極室１１５ｃとの３室に仕切られている。陽極室１１５ｂ内に陽極１１６が設けられ、陰イオン交換膜１１２に対向している。陰極室１１５ｃ内に陰極１１８が設けられ、陽イオン交換膜１１４に対向している。陽極１１６および陰極１１８は、ほぼ等しい大きさの矩形板状に形成され、中間室１５ａを挟んで、互いに対向している。
【0092】
電解水生成装置は、電解槽１００の中間室１１５ａに電解液、例えば、飽和塩水を供給する電解液供給部１１９と、陽極室１１５ｂおよび陰極室１１５ｃに電解原水、例えば、水を供給する水供給部２１１と、陽極１１６および陰極１１８に正電圧および負電圧をそれぞれ印加する電源２１３と、を備えている。
【0093】
電解液供給部１１９は、飽和塩水を生成する塩水タンク２１５と、塩水タンク２１５から中間室１１５ａの下部に飽和塩水を導く供給配管１１９ａと、供給配管１１９ａ中に設けられた送液ポンプ２１９と、中間室１１５ａ内を流れた電解液を中間室１１５ａの上部から塩水タンク２１５に送る排水配管１１９ｂと、を備えている。
【0094】
水供給部２１１は、水を供給する図示しない給水源と、給水源から陽極室１１５ｂおよび陰極室１１５ｃの下部に水を導く給水配管２１１ａと、陽極室１１５ｂを流れた水を陽極室１１５ｂの上部から排出する第１排水配管２１１ｂと、陰極室１１５ｃを流れた水を陰極室１１５ｃの上部から排出する第２排水配管２１１ｃと、を備えている。
【0095】
上記のように構成された電解水生成装置により、酸性水（次亜塩素酸水および塩酸）とアルカリ性水（水酸化ナトリウム）を生成する場合、送液ポンプ２１９を作動させ、電解槽１００の中間室１１５ａに飽和塩水を供給するとともに、陽極室１１５ｂおよび陰極室１１５ｃに水を給水する。同時に、電源２１３から正電圧および負電圧を陽極１１６および陰極１１８にそれぞれ印加する。中間室１１５ａへ流入した塩水中において電離しているナトリウムイオンは、陰極１１８に引き寄せられ、陽イオン交換膜１１４を通過して、陰極室１１５ｃへ流入する。そして、陰極室１１５ｃにおいて、陰極１１８で水が電気分解されて水素ガスと水酸化ナトリウム水溶液が生成される。生成された水酸化ナトリウム水溶液および水素ガスは、陰極室１１５ｃから第１排水配管２１１ｂに流出し、図示しない気液分離器により、水酸化ナトリウム水溶液と水素ガスとに分離される。分離された水酸化ナトリウム水溶液（アルカリ性水）は、第１排水配管２１１ｂを通って排出される。
【0096】
また、中間室１１５ａ内の塩水中において電離している塩素イオンは、陽極１１６に引き寄せられ、陰イオン交換膜１１２を通過して、陽極室１１５ｂへ流入する。そして、陽極１１６にて塩素イオンが還元され塩素ガスが発生する。その後、塩素ガスは陽極室１１５ｂ内で水と反応して次亜塩素酸水と塩酸を生じる。このようにして生成された酸性水（次亜塩素酸水および塩酸）は、陽極室１１５ｂから第２排水配管２１１ｃを通って流出する。
【0097】
この電解水生成装置は、三室型であるが、他の型式例えば二室型の電解水生成装置等を使用することができる。三室型は酸性電解水に塩化物の混入がほとんどないが、二室型の場合は塩化物が混入する。この場合、フィルタに酸性電解水を含浸させて気化すると、電解水に含まれる塩化物は気化されないという利点がある。
【0098】
第２実施形態にかかる切り花の殺菌処理方法は、切り花に次亜塩素酸水の気化物質を供給し、切り花の周囲雰囲気の単位時間ＨＣｌＯ到達量を平均５～６０μｇ／（ｍ２・分）に維持する。
【0099】
この方法では、単位時間ＨＣｌＯ到達量が比較的低い周囲雰囲気で殺菌処理を行うので、図１に示す切り花の生産から販売への流通において、収穫後から販売まで、すなわち、収穫（ＢＬ１２）により、得られた切り花を水揚げ（ＢＬ１３）し、花束ね等の調整（ＢＬ１４）、及び梱包（ＢＬ１５）の後、出荷まで低温で保管され、輸送（ＢＬ１６）、市場（ＢＬ１７）、仲卸（ＢＬ１８）を経て、小売店（ＢＬ１９）にいたるまでのどのタイミングでも適用可能である。このため、例えば流通の過程でコールドチェーンが切れた場合であっても、切り花の病害の発生リスクを低減できる。
【0100】
切り花の周囲雰囲気の単位時間ＨＣｌＯ到達量が平均５μｇ／（ｍ２・分）未満であると、菌の成長に殺菌が追い付かなくなる傾向がある。また、出荷後の輸送（ＢＬ１６）、市場（ＢＬ１７）、仲卸（ＢＬ１８）を経て、小売店（ＢＬ１９）にいたるまでの流通過程において、切り花が外気に触れる可能性が高く、切り花の周囲雰囲気の単位時間ＨＣｌＯ到達量が平均６０μｇ／（ｍ２・分）を超える周囲雰囲気に十分に維持することが困難となる場合がある。
【0101】
切り花の周囲雰囲気の単位時間ＨＣｌＯ到達量が比較的多い範囲例えば単位時間ＨＣｌＯ到達量が平均１５～６０μｇ／（ｍ２・分）である場合には、ＨＣｌＯ総到達量（単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）が２４時間以内に７０００μｇ／ｍ２以上になるまで維持すれば、高湿度の状況が１日間継続しても、灰色かび病の直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下に抑制でき、１００００μｇ／ｍ２以上になるまで維持すれば、直径２ｍｍ病斑相当数を４個以下に抑制でき、１６０００μｇ／ｍ２以上になるまで維持すれば、直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑制できる。また、２４時間以内に２００００μｇ／ｍ２以上になるまで維持すれば、高湿度の状況が２日間継続しても、灰色かび病の直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下に抑制でき、２２５００μｇ／ｍ２以上になるまで維持すれば、直径２ｍｍ病斑相当数を４個以下に抑制できる。また、この周囲雰囲気をＨＣｌＯ総到達量が２３０００μｇ／ｍ２以上になるまで維持することにより、高湿度の状況が３日間継続しても、直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下に抑制することが可能である。
【0102】
また、切り花の周囲雰囲気の単位時間ＨＣｌＯ到達量が比較的少ない範囲例えば単位時間ＨＣｌＯ到達量が平均５～１５μｇ／（ｍ２・分）である場合には、ＨＣｌＯ総到達量（単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）が２４時間以内に７０００μｇ／ｍ２以上になるまで、周囲雰囲気の単位時間ＨＣｌＯ到達量を維持し、かつ４８時間以内に次亜塩素酸水の気化物質を再供給し、周囲雰囲気を平均５～１５μｇ／（ｍ２・分）の単位時間ＨＣｌＯ到達量に維持することができる。また、ＨＣｌＯ総到達量が１６０００μｇ／ｍ２以上になるまで維持した後、４８時間以内に次亜塩素酸水の気化物質を再供給し、同様の単位時間ＨＣｌＯ到達量に維持することができる。また、ＨＣｌＯ総到達量が２００００μｇ／ｍ２以上になるまで維持した後、４８時間以内に次亜塩素酸水の気化物質を再供給し、同様の単位時間ＨＣｌＯ到達量に維持することが可能である。
【0103】
４８時間以内に次亜塩素酸水の気化物質を再供給する際、単位時間ＨＣｌＯ到達量を平均１５～６０μｇ／（ｍ２・分）の周囲雰囲気にすることができる。
【0104】
また、単位時間ＨＣｌＯ到達量を４８時間以上、平均５～１５μｇ／（ｍ２・分）の周囲雰囲気に維持することも可能である。
【0105】
第２の実施形態によれば、単位時間ＨＣｌＯ到達量がより少ない場合であっても、４８時間以内にＨＣｌＯ総到達量（単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）を平均５～６０μｇ／（ｍ２・分）の周囲雰囲気に維持すれば、十分に切り花の殺菌が可能である。
【0106】
また、切り花に次亜塩素酸水の気化物質の供給を行い、切り花の周囲雰囲気の単位時間ＨＣｌＯ到達量を平均５～６０μｇ／（ｍ２・分）に維持するとともに、切り花の周囲雰囲気をさらに湿度８０％以上に維持することができる。これにより、切り花の殺菌を行うと共に、みずみずしさを保つことができる。
【0107】
また、切り花の周囲雰囲気の単位時間ＨＣｌＯ到達量を平均５～６０μｇ／（ｍ２・分）に維持する工程の後、切り花を湿度８０％以上で保管することも可能である。これにより、切り花のみずみずしさを保つことができる。
【0108】
第２の実施形態にかかる切り花の殺菌方法において、次亜塩素酸水の気化物質を供給するための殺菌ユニットを使用することができる。
【0109】
図２３に、第２の実施形態にかかる切り花の殺菌方法に適用可能な殺菌ユニットの一例を表す概略図を示す。
【0110】
図示するように、殺菌ユニット６０は、上方に開口を有する本体６５と、ろ紙６４と、ろ紙６４を支持する支持体６２と、支持体６２上に設けられたキャップ６３とを有し、次亜塩素酸水６５を収容した本体６５の開口に、ろ紙６４を取り付けた支持体６２が挿入されている。この殺菌ユニット６０を用いると、次亜塩素酸水６５をろ紙６４を介して自然気化させることができる。
【0111】
このような殺菌ユニットを切り花が収容された空間に配置して次亜塩素酸水の気化物質を供給することができる。次亜塩素酸水の気化物質の単位時間ＨＣｌＯ到達量は、キャップ６３を用いてろ紙６４上下に移動することにより調整し得る。
【0112】
図２４に、第２の実施形態にかかる切り花の殺菌方法に適用可能な殺菌ユニットの他の一例を表す概略図を示す。
【0113】
図示するように、殺菌ユニット７０は、花桶本体７１と、花桶本体７１の中に設けられ、隔壁７２を介して分離された内側容器７３及び外側容器７４と、内側の容器７３及び外側の容器７４にそれぞれ収容された吸水スポンジ７５，７６とを有し、内側の吸水スポンジ７５には水、外側の吸水スポンジ７６には次亜塩素酸水が適用される。隔壁７２は、図示しない支持部材により外側容器７４に一定の距離をおいて取り付けられている。この殺菌ユニット７０を用い、内側容器７３に切り花を収容すると、外側容器７４から自然気化された次亜塩素酸水の気化物質を切り花に供給することができる。
【0114】
図２３及び図２４の殺菌ユニットは、例えば、切り花の輸送過程に使用されるコンテナや、小売店のショーケースなどに設置することができる。これらの殺菌ユニットは、次亜塩素酸水の自然気化を利用しているが、図２のようなファンを用いて次亜塩素酸水の気化を行う殺菌システムを用いても良い。
【実施例】
【0115】
以下、実施例を示し、実施形態を具体的に説明する。
【0116】
実施例１
バラの灰色かび病の自然発病と次亜塩素酸供給量との関係
有効内容積が約１．３ｍ３（幅１２００ｍｍ×奥行き６００ｍｍ×高さ１８００ｍｍ）の０．３ｍｍ厚の農業用塩化ビニルで全面を被覆した試験ブース内に、湿度調整用除湿機、電解水の気化発生装置、及びコンテナ容器を配置した。
バラの灰色かび病の自然発病と次亜塩素酸供給量との関係
有効内容積が約１．３ｍ３（幅１２００ｍｍ×奥行き６００ｍｍ×高さ１８００ｍｍ）の０．３ｍｍ厚の農業用塩化ビニルで全面を被覆した試験ブース内に、湿度調整用除湿機、電解水の気化発生装置、及びコンテナ容器を配置した。
【0117】
次亜塩素酸水として、ｐＨ６．１５、遊離有効塩素（ＦＡＣ）濃度４０ｍｇ／ｋｇの酸性電解水を用意し、供給部のタンクに導入して噴霧を行うことにより、１０分間エージングした。
【0118】
続けて、バラ生産者から水揚げ直後のバラ（品種 アバランチェ）の切り花を入手し、試験管立てに一定の間隔でさして、コンテナ容器内に設置し、次亜塩素酸水の噴霧による処理時間をそれぞれ０，１５，３０，６０分間に設定して、殺菌処理した。噴霧処理中の試験ブース内の温度は１５℃～２５℃、相対湿度は６０～７０％になるよう調整した。
【0119】
次亜塩素酸水の噴霧方法としては、フィルタに次亜塩素酸水を含浸させ、このフィルタを通して空気を通風することにより、次亜塩素酸水と空気を接触させて、次亜塩素酸水を気体に変換して放出する方法を用いた。
【0120】
試験ブース内に２０ｍｌのＡＰＦ液を入れた９ｃｍペトリ皿をおいて、ＡＰＦ液に吸収されたＨＣｌＯ量をＡＰＦ法で測定したところ、単位時間ＨＣｌＯ到達量は平均１２９μｇ／（ｍ２・分）であった。
【0121】
噴霧処理後、バラの切り花を設置したコンテナ容器にろ紙を敷いて水を張り、密閉して容器内を１００％の高湿度にした。このコンテナ容器は温度１５℃～２５℃のブース内に保管し、各々、１，２，３，及び４日間経過後に、灰色かび病菌による発病をそれぞれ４本ずつ調査した。
【0122】
発病の調査は灰色かび病の測定基準により行った。
【0123】
得られた結果を下記表１に示す。
【0124】
【表1】
【0125】
また、表１に基づいて作成した経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図を図８に示す。
【0126】
図８中、グラフ１０１、１０２、１０３、及び１０４は、各々、処理なし、１５分処理、３０分処理、及び６０分処理の結果を表す。
【0127】
表１及び図８から、単位時間ＨＣｌＯ到達量が平均１２９μｇ／（ｍ２・分）において、ＨＣｌＯ総到達量が増える程、病害を抑制効果が高まることが確認できる。例えば、殺菌処理後に高湿度空間に２日間保管した場合、直径２ｍｍ病斑相当数は、１５分処理（ＨＣｌＯ総到達量１９３５μｇ／ｍ２）で２５．０個、３０分処理（ＨＣｌＯ総到達量３８７０μｇ／ｍ２）で４．７５個、６０分処理（ＨＣｌＯ総到達量７７４０μｇ／ｍ２）で１．５個まで抑制できることがわかる。
【0128】
実施例２
供給部の風量または次亜塩素酸水の濃度、気化面積等を調整し、単位時間ＨＣｌＯ到達量を平均２５０μｇ／（ｍ２・分）にて、実施例１とは別の日に入手したバラ切り花にて、灰色かび病菌による発病を調査した。
供給部の風量または次亜塩素酸水の濃度、気化面積等を調整し、単位時間ＨＣｌＯ到達量を平均２５０μｇ／（ｍ２・分）にて、実施例１とは別の日に入手したバラ切り花にて、灰色かび病菌による発病を調査した。
【0129】
得られた結果を下記表２に示す。
【0130】
【表2】
【0131】
また、表２に基づいて作成した経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図を図９に示す。
【0132】
図９中、グラフ２０１、２０２、２０３、及び２０４は、各々、処理なし、１５分処理、３０分処理、及び６０分処理の結果を表す。 表２及び図９から、単位時間ＨＣｌＯ到達量平均２５０μｇ／（ｍ２・分）で、殺菌処理後に高湿度空間に２日間保管した場合、直径２ｍｍ病斑相当数は、１５分処理（ＨＣｌＯ総到達量３７５０μｇ／ｍ２）で２２．２５個、３０分処理（ＨＣｌＯ総到達量７５００μｇ／ｍ２）で６．５個、６０分処理（ＨＣｌＯ総到達量１５０００μｇ／ｍ２）で０個まで抑制できることがわかる。
【0133】
実施例３
バラ生産者から入手した水揚げ直後のバラ（品種 アバランチェ）の切り花をそれぞれ使用し、次亜塩素酸水の噴霧時間を０，１，２，３時間に設定すること以外は、実施例２と同様にして殺菌処理を行った。
バラ生産者から入手した水揚げ直後のバラ（品種 アバランチェ）の切り花をそれぞれ使用し、次亜塩素酸水の噴霧時間を０，１，２，３時間に設定すること以外は、実施例２と同様にして殺菌処理を行った。
【0134】
試験ブース内のＨＣｌＯ総到達量はＡＰＦ法を用いて調査し、単位時間ＨＣｌＯ到達量を求めたところ、平均２３５μｇ／（ｍ２・分）であった。噴霧処理中の試験ブース内は、実施例１と同様に、温度１５℃～２５℃、相対湿度６０～７０％になるよう調整した。
【0135】
殺菌処理を行ったバラの切り花については１，２，３，４日経過後に、４本ずつ灰色かび病菌による発病を調査した。
【0136】
殺菌処理で得られた結果を下記表３に示す。
【0137】
表３に基づいて作成した経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図を図１０に示す。
【0138】
【表3】
【0139】
図１０中、グラフ３０１、３０２、３０３、及び３０４は、各々、処理なし、１時間処理、２時間処理、及び３時間処理の結果を表す。
【0140】
表３及び図１０から、単位時間ＨＣｌＯ到達量平均２３５μｇ／（ｍ２・分）で、殺菌処理後に高湿度空間に４日間保管した場合、直径２ｍｍ病斑相当数は、１時間処理（ＨＣｌＯ総到達量１４１００μｇ／ｍ２）で０．５個まで抑制できることがわかる。
【0141】
実施例４
供給部の風量または次亜塩素酸水の濃度、気化面積等を調整し、単位時間ＨＣｌＯ到達量を平均１６１μｇ／（ｍ２・分）にて、実施例３とは別の日に入手したバラ切り花にて、灰色かび病菌による発病を調査した。殺菌処理で得られた結果を下記表４に示す。
供給部の風量または次亜塩素酸水の濃度、気化面積等を調整し、単位時間ＨＣｌＯ到達量を平均１６１μｇ／（ｍ２・分）にて、実施例３とは別の日に入手したバラ切り花にて、灰色かび病菌による発病を調査した。殺菌処理で得られた結果を下記表４に示す。
【0142】
表４に基づいて作成した経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図を図１１に示す。
【0143】
【表4】
【0144】
図１１中、グラフ４０１、４０２、４０３、及び４０４は、各々、処理なし、１５分処理、３０分処理、及び６０分処理の結果を表す。
【0145】
表４及び図１１から、単位時間ＨＣｌＯ到達量平均１６１μｇ／（ｍ２・分）で、殺菌処理後に高湿度空間に４日間保管した場合、直径２ｍｍ病斑相当数は、１時間処理（ＨＣｌＯ総到達量９６６０μｇ／ｍ２）で７．５個、２時間処理（ＨＣｌＯ総到達量１９３２０μｇ／ｍ２）で６．２５個、３時間処理（ＨＣｌＯ総到達量２８９８０μｇ／ｍ２）で０個まで抑制できることがわかる。
【0146】
実施例１～４を比較すると、ＨＣｌＯ総到達量が同量程度であるが、病班抑制にバラツキがあることがわかる。例えば、実施例１の３０分処理（ＨＣｌＯ総到達量３８７０μｇ／ｍ２）と実施例２の１５分処理（ＨＣｌＯ総到達量３７５０μｇ／ｍ２）とで高湿度空間に２日間保管後の病斑数は、それぞれ４．７５個と２２．２５個と抑制効果が異なる。
【0147】
例えば、実施例２の６０分処理（ＨＣｌＯ総到達量１５０００μｇ／ｍ２）と実施例３の１時間処理（ＨＣｌＯ総到達量１４１００μｇ／ｍ２）とで高湿度空間に４日間保管後の病斑数は、それぞれ１６．０個と０．５個と抑制効果が異なる。
【0148】
これは、バラの収穫時で付着している菌数が異なること、付着している菌の成長度合いが異なることがバラツキの原因となる。
【0149】
そこで、切り花の病害抑制に必要なＨＣｌＯ総到達量を定義するために、実施例１から４の結果について、ＨＣｌＯ総到達量と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を調べ、保管日数毎に、ＨＣｌＯ総到達量ｘに対する直径２ｍｍ病斑相当数ｙをプロットし、下記式（１）で表されるジグモイド曲線式
ｙ＝ｄ＋（ａ－ｄ）／（１＋（ｘ／ｃ）ｂ）…（１）で近似した。
ｙ＝ｄ＋（ａ－ｄ）／（１＋（ｘ／ｃ）ｂ）…（１）で近似した。
【0150】
図１２に、１日目のＨＣｌＯ総到達量と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すデータを示す。
【0151】
ここでは、対照となる無処理区の病斑数ｙの範囲は１＜ｙ＜９である。
【0152】
また、このとき、式（１）中、ａ＝４．２７４６８，ｂ＝１．４７６６７，ｃ＝１６１７．５５８３，ｄ＝－０．０６４５９８、相関係数Ｒ２＝０．５９５１３である。
【0153】
近似式から推定した直径２ｍｍ病斑相当数が４のとき、ＨＣｌＯ総到達量は３４６２μｇ／ｍ２、１のとき、２６１μｇ／ｍ２、０のとき、２７６５８μｇ／ｍ２である。
【0154】
図１２より、ＨＣｌＯ総到達量が３４６２μｇ／ｍ２以上であれば、１日間は、直径２ｍｍ病斑相当数を４以下に抑えることができることがわかる。直径２ｍｍ病斑相当数を０にするには、２７６５８μｇ／ｍ２となり、後述の２日目の値より高い結果になっているが、病斑の出始めは実測値がばらつき易く、信頼性が低くなるものと考えられる。
【0155】
図１３に、２日目のＨＣｌＯ総到達量と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すデータを示す。
【0156】
ここでは、対照となる無処理区の病斑数ｙの範囲は２８＜ｙ＜８２である。
【0157】
また、このとき、式（１）中、ａ＝６３．４５６８２、ｂ＝１．４７８１５、ｃ＝１５７２．５０３２４、ｄ＝－１．４２２２１、相関係数Ｒ２＝０．８４８１９である。
【0158】
近似式から推定した直径２ｍｍ病斑相当数が１０のとき、ＨＣｌＯ総到達量は４４６７μｇ／ｍ２、４のとき７９４７μｇ／ｍ２、１のとき１４１７１μｇ／ｍ２、０のとき２０５３６μｇ／ｍ２である。
【0159】
図１３より、ＨＣｌＯ総到達量が４４６７μｇ／ｍ２以上であれば、２日間は、直径２ｍｍ病斑相当数を１０以下に抑えることができることがわかる。直径２ｍｍ病斑相当数を４個あるいは１個に抑えるには１日目より少量でよいことがわかる。近似式は１日目よりも高い相関が得られた。
【0160】
図１４に、３日目のＨＣｌＯ総到達量と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すデータを示す。
【0161】
ここでは、対照となる無処理区の病斑数ｙの範囲は５０＜ｙ＜１１５である。
【0162】
また、このとき、式（１）中、ａ＝９４．２８９３８、ｂ＝１．４５７３１、ｃ＝２１８６．３４２１、ｄ＝－２．４１１６２、相関係数Ｒ２＝０．８６６４７である。
【0163】
近似式から推定した直径２ｍｍ病斑相当数が１０のとき、ＨＣｌＯ総到達量は８１３９μｇ／ｍ２、４のとき１３４２５μｇ／ｍ２、１のとき２１１６９μｇ／ｍ２、０のとき２７０５５μｇ／ｍ２である。
【0164】
図１４より、ＨＣｌＯ総到達量が８１３９μｇ／ｍ２以上であれば、３日間は、直径２ｍｍ病斑相当数を１０以下に抑えることができることがわかる。直径２ｍｍ病斑相当数を４個あるいは１個に抑えるには２日目より少量でよいことがわかる。なお、無処理で直径２ｍｍ病斑相当数が１１５個を超える高い発生リスクのある切り花については、近似式の範囲外となる。
【0165】
図１５に、４日目のＨＣｌＯ総到達量と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すデータを示す。
【0166】
ここでは、対照となる無処理区の病斑数ｙの範囲は９３＜ｙ＜３１３である。
【0167】
また、このとき、式（１）中、ａ＝２４５．０１２１７、ｂ＝１．３９２７３、ｃ＝２０８２．３２０４５、ｄ＝－７．６６１４５、相関係数Ｒ２＝０．８１３７４である。
【0168】
近似式から推定した直径２ｍｍ病斑相当数が１０のとき、ＨＣｌＯ総到達量は１３３５５μｇ／ｍ２、４のとき１８３２１μｇ／ｍ２、１のとき２２８８４μｇ／ｍ２、０のとき２５０６５μｇ／ｍ２である。
【0169】
図１５より、ＨＣｌＯ総到達量が１３３５５μｇ／ｍ２以上であれば、４日間は、直径２ｍｍ病斑相当数を１０以下に抑えることができることがわかる。直径２ｍｍ病斑相当数を４個あるいは１個に抑えるには３日目より少量でよいことがわかる。なお、無処理で直径２ｍｍ病斑相当数が３１３個を超える高い発生リスクのある切り花については、近似式の範囲外となる。
【0170】
下記表５に、経過日数と、近似式から推定した、直径２ｍｍ病斑相当数及びＨＣｌＯ総到達量とを、まとめて示す。
【0171】
【表5】
【0172】
従って、単位時間ＨＣｌＯ到達量５～３５０μｇ／（ｍ２・分）のとき、直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下に抑えるためのＨＣｌＯ総到達量は、高湿度の状況が１日以内である場合は２６０μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は４５００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は８５００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は１４０００μｇ／ｍ２以上と定義する。
【0173】
単位時間ＨＣｌＯ到達量５～３５０μｇ／（ｍ２・分）のとき、直径２ｍｍ病斑相当数を４個以下に抑えるためのＨＣｌＯ総到達量は、高湿度の状況が１日以内である場合は２６０μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は８０００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は１４０００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は１９０００μｇ／ｍ２以上と定義する。
【0174】
単位時間ＨＣｌＯ到達量５～３５０μｇ／（ｍ２・分）のとき、直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑えるためのＨＣｌＯ総到達量は、高湿度の状況が１日以内である場合は３５００μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は１５０００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合には２２０００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合には２３０００μｇ／ｍ２以上と定義する。
【0175】
実施例５
次亜塩素酸水として、ｐＨ６．１５、遊離有効塩素（ＦＡＣ）濃度４０ｍｇ／ｋｇの酸性電解水の代わりにｐＨ６．１２、遊離有効塩素（ＦＡＣ）濃度８０ｍｇ／ｋｇの酸性電解水を使用すること、単位時間ＨＣｌＯ到達量が平均６７９μｇ／（ｍ２・分）であること、及び調査の実施を、１，２，３，４，５，及び６日間経過後にすること、実施例１とは別の日に入手したバラ切り花を用いること以外は、実施例１と同様にして、灰色かび病菌による発病をそれぞれ調査した。
次亜塩素酸水として、ｐＨ６．１５、遊離有効塩素（ＦＡＣ）濃度４０ｍｇ／ｋｇの酸性電解水の代わりにｐＨ６．１２、遊離有効塩素（ＦＡＣ）濃度８０ｍｇ／ｋｇの酸性電解水を使用すること、単位時間ＨＣｌＯ到達量が平均６７９μｇ／（ｍ２・分）であること、及び調査の実施を、１，２，３，４，５，及び６日間経過後にすること、実施例１とは別の日に入手したバラ切り花を用いること以外は、実施例１と同様にして、灰色かび病菌による発病をそれぞれ調査した。
【0176】
得られた結果を下記表６に示す。
【0177】
【表6】
【0178】
また、表６に基づいて作成した経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図を図１６に示す。
【0179】
図１６中、グラフ５０１、５０２、５０３、及び５０４は、各々、処理なし、１５分処理、３０分処理、及び６０分処理の結果を表す。
【0180】
図中、グラフ５０１以外のグラフは、ほぼ重なって判別しにくいが、例えば高湿度処理後日数が６日目では２ｍｍ病斑相当数が大きい方から順にグラフ５０２、５０３、及び５０４である。
【0181】
表６及び図１６から、単位時間ＨＣｌＯ到達量平均６７９μｇ／（ｍ２・分）では、最小時間である１５分処理（ＨＣｌＯ総到達量１０１８５μｇ／ｍ２）で、殺菌処理後に高湿度空間で保管した場合、直径２ｍｍ病斑相当数は３日目まで０個、４日間保管した場合は０．２５個まで抑制できることがわかる。
【0182】
実施例６
実施例５とは別の日に入手したバラ切り花を用いること、及び単位時間ＨＣｌＯ到達量が平均５０５μｇ／（ｍ２・分）であること以外は、実施例５と同様にして灰色かび病菌による発病をそれぞれ調査した。
実施例５とは別の日に入手したバラ切り花を用いること、及び単位時間ＨＣｌＯ到達量が平均５０５μｇ／（ｍ２・分）であること以外は、実施例５と同様にして灰色かび病菌による発病をそれぞれ調査した。
【0183】
得られた結果を下記表７に示す。
【0184】
【表7】
【0185】
また、表７に基づいて作成した経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図を図１７に示す。
【0186】
図１７中、グラフ６０１、６０２、６０３、及び６０４は、各々、処理なし、１５分処理、３０分処理、及び６０分処理の結果を表す。
【0187】
図中、グラフ６０１，６０２以外のグラフは、ほぼ重なって判別しにくいが、例えば高湿度処理後日数が６日目では２ｍｍ病斑相当数が大きい方から順にグラフ６０３、及び６０４である。
【0188】
表７及び図１７から、単位時間ＨＣｌＯ到達量平均５０５μｇ／（ｍ２・分）で、殺菌処理後に高湿度空間に保管した場合、直径２ｍｍ病斑相当数は、１５分処理（ＨＣｌＯ総到達量７５７５μｇ／ｍ２）で２日間保管後に０．２５個と１個以下となり、３０分処理（ＨＣｌＯ総到達量１５１５０ｇ／ｍ２）で４日保管後に１個まで抑制できることがわかる。
【0189】
実施例７
実施例５とは別の日に入手したバラ切り花を用いること、及び単位時間ＨＣｌＯ到達が平均３７９μｇ／（ｍ２・分）であること、及び調査の実施を、１，２，３，及び４日間経過後にすること以外は、実施例５と同様にして灰色かび病菌による発病をそれぞれ調査した。
実施例５とは別の日に入手したバラ切り花を用いること、及び単位時間ＨＣｌＯ到達が平均３７９μｇ／（ｍ２・分）であること、及び調査の実施を、１，２，３，及び４日間経過後にすること以外は、実施例５と同様にして灰色かび病菌による発病をそれぞれ調査した。
【0190】
得られた結果を下記表８に示す。
【0191】
【表8】
【0192】
また、表８に基づいて作成した経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図を図１８に示す。
【0193】
図１８中、グラフ７０１、７０２、７０３、及び７０４は、各々、処理なし、１５分処理、３０分処理、及び６０分処理の結果を表す。
【0194】
図中、グラフ７０１，７０２以外のグラフは、ほぼ重なって判別しにくいが、例えば高湿度処理後日数が４日目では２ｍｍ病斑相当数が大きい方から順にグラフ７０３、及び７０４である。
【0195】
表８及び図１８から、単位時間ＨＣｌＯ到達量平均３７９μｇ／（ｍ２・分）で、殺菌処理後に高湿度空間に保管した場合、直径２ｍｍ病斑相当数は、３０分処理（ＨＣｌＯ総到達量１１３７０ｇ／ｍ２）で３日保管後は０．２５個と１個以下まで抑制できることがわかる。
【0196】
また実施例５及び６及び７の結果から、単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）より大きいとき、直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑えるためのＨＣｌＯ総到達量は、輸送期間が２日以内である場合は７６００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は１１４００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は１５２００μｇ／ｍ２以上であることがわかる。
【0197】
実施例５及び６及び７の結果と、実施例１～４の結果を比較すると、単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）より大きいとき、直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑えるためのＨＣｌＯ総到達量は、輸送期間が３日以内であれば、単位時間ＨＣｌＯ到達量５～３５０μｇ／（ｍ２・分）のときの約半分の量でよいことがわかる。
【0198】
一方で、実施例５，６，７は高濃度であるが故に、ＨＣｌＯ総到達量は最小値で５６８５μｇ／ｍ２であるため、直径２ｍｍ病斑相当数４個以下、１０個以下に抑制するために必要なＨＣｌＯ総到達量は実験値を基にシグモイド曲線式から求めた。
【0199】
実施例５，６，７のシグモイド曲線式を求めるにあたり、縦軸ｙを発生割合とした。これは、実施例５，６，７の無処理の病斑数が実施例１～４と比べ少ないため、これまでの低濃度（実施例１～４）と相関を取るためである。
【0200】
無処理の病斑数が少ない理由は、本検証は切り花に自然発症する菌を用いて検証しているため、季節変動や個体差によるバラツキによるものである。
【0201】
発生割合とは、処理後の病斑数を無処理の病斑数の平均値で割ることで、無処理の病斑数の差に影響されないように規格化したものであり、発生割合に対する逆の意味としては病斑の発生を抑制できた割合となるが、ここでは発生割合を用いたシグモイド曲線式を、保管日数毎に導いた結果を以下に示す。
【0202】
図１９に、１日目のＨＣｌＯ総到達量と病斑発生割合との関係を表すデータを示す。
【0203】
ここでは、対照となる無処理区の直径２ｍｍ病斑相当数は０より大きく９未満であり、無処理の病斑数平均は３．７である。
【0204】
また、このとき、式（１）中、ａ＝１．０００００，ｂ＝２６４．３２４３０，ｃ＝６５３３．８６１３３，ｄ＝０．０００００、相関係数Ｒ２＝１．０００００である。
【0205】
図２０に、２日目のＨＣｌＯ総到達量と病斑発生割合との関係を表すデータを示す。
【0206】
ここでは、対照となる無処理区の直径２ｍｍ病斑相当数は９より大きく８３未満であり、無処理の病斑数平均は４５である。
【0207】
また、このとき、式（１）中、ａ＝１．０００００、ｂ＝１．８７１９６、ｃ＝８１０．６１３０９、ｄ＝－０．０００７１６０７、相関係数Ｒ２＝０．９９９７９である。
【0208】
図２１に、３日目のＨＣｌＯ総到達量と病斑発生割合との関係を表すデータを示す。
【0209】
ここでは、対照となる無処理区の直径２ｍｍ病斑相当数は３５より大きく１５９未満であり、無処理の病斑数平均は８６である。
【0210】
また、このとき、式（１）中、ａ＝１、ｂ＝１．２８７７４、ｃ＝７５１．８１２３９、ｄ＝－０．０１０４３２、相関係数Ｒ２＝０．９９８２３である。
【0211】
図２２に、４日目のＨＣｌＯ総到達量と病斑発生割合との関係を表すデータを示す。
【0212】
ここでは、対照となる無処理区の直径２ｍｍ病斑相当数は９３より大きく３４２未満であり、無処理の病斑数平均は２２６である。
【0213】
また、このとき、式（１）中、ａ＝０．９９９９８、ｂ＝４．１７７７９、ｃ＝４０３３．０８７２７、ｄ＝０．０００１８３７８、相関係数Ｒ２＝０．９９９６５である。
【0214】
次に、シグモイド曲線式から、直径２ｍｍ病斑相当数を１０個、４個、１個以下に抑制するために必要なＨＣｌＯ総到達量を算出する。手順としては、直径２ｍｍ病斑相当数１０個、４個、１個を、無処理における病斑数の平均値で割り、それぞれの発生割合ｙを算出する。更にｙをシグモイド曲線式に代入することで、直径２ｍｍ病斑相当数を１０個、４個、１個以下に抑制するために必要なＨＣｌＯ総到達量ｘを導くことができる。
【0215】
４日保管を例にとると、無処理の病斑数平均は２２６であるため、発生割合ｙは、１０個では０．０４４、４個では０．０１８、１個では０．００４となる。このｙをシグモイド曲線式に代入すると、４日保管で直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下とするに必要なＨＣｌＯ総到達量は８４２３μｇ／ｍ２、４個以下とするに必要なＨＣｌＯ総到達量は１０５７４μｇ／ｍ２、１個以下とするに必要なＨＣｌＯ総到達量は１４８９６μｇ／ｍ２と導くことができる。
【0216】
同様にして、３日保管で直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下とするに必要なＨＣｌＯ総到達量は３３９７μｇ／ｍ２、４個以下とするに必要なＨＣｌＯ総到達量は６７０７μｇ／ｍ２、１個以下とするに必要なＨＣｌＯ総到達量は１４４０３μｇ／ｍ２と導くことができる。
【0217】
２日保管で直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下とするに必要なＨＣｌＯ総到達量は１５８０μｇ／ｍ２、４個以下とするに必要なＨＣｌＯ総到達量は２７９８μｇ／ｍ２、１個以下とするに必要なＨＣｌＯ総到達量は６０１７μｇ／ｍ２と導くことができる。
【0218】
１日保管で直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下とするに必要なＨＣｌＯ総到達量は６５５８μｇ／ｍ２と導くことができる。１日保管では、４個以上の病斑抑制は、無処理の病斑数平均数３．７個を上回るため算出することはできない。
【0219】
下記表９に、実施例５、６、７の実測値と、シグモイド曲線式から判断した単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）を超える高濃度の場合における、経過日数と、直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下、４個以下、１個以下にするために必要なＨＣｌＯ総到達量とを、まとめて示す。
【0220】
【表9】
【0221】
表中、２日目に直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下にするための必要なＨＣｌＯ総到達量７６００μｇ／ｍ２は、表７のＨＣｌＯ総到達量７５７５μｇ／ｍ２から推定した。更に３日目に直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に必要なＨＣｌＯ総到達量１１４００μｇ／ｍ２は、表８のＨＣｌＯ総到達量１１３７０μｇ／ｍ２から推定でき、４日目に直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に必要なＨＣｌＯ総到達量１５２００μｇ／ｍ２は、表７のＨＣｌＯ総到達量１５１５０μｇ／ｍ２から推定できる。
【0222】
また、２、３、４日目に直径２ｍｍ病斑相当数を４個、１０以下にするための必要なＨＣｌＯ総到達量は、シグモイド曲線式から推定できる。
【0223】
１日目に直径２ｍｍ病斑相当数を１以下にするための必要なＨＣｌＯ総到達量は、シグモイド曲線式から求めると単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）以下の場合で求めた低濃度の表５よりも大きくなることから、１日目に直径２ｍｍ病斑相当数を４個、１個以下にするための必要なＨＣｌＯ総到達量は、表５から引用している。
【0224】
従って、単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）を超えるとき、直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下に抑えるためのＨＣｌＯ総到達量は、高湿度の状況が２日以内である場合は１６００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は３４００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は８４００μｇ／ｍ２以上と定義する。
【0225】
単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）を超えるとき、直径２ｍｍ病斑相当数を４個以下に抑えるためのＨＣｌＯ総到達量は、高湿度の状況が１日以内である場合は２６０μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は２８００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は６７００ｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は１０６００μｇ／ｍ２以上と定義する。
【0226】
単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）を超えるとき、直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑えるためのＨＣｌＯ総到達量は、高湿度の状況が１日以内である場合は３５００μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は７６００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合には１１４００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合には１５２００μｇ／ｍ２以上と定義する。
【0227】
実施例８
縦４２０ｍｍ、横３３０ｍｍ、及び高さ１４０ｍｍの大きさのプラスチック製の容器に縦３０ｃｍ、横２０ｃｍの大きさのろ紙を敷き、遊離有効塩素（ＦＡＣ）濃度７３ｍｇ／ｋｇの次亜塩素酸水を５００ｍｌ入れた。
縦４２０ｍｍ、横３３０ｍｍ、及び高さ１４０ｍｍの大きさのプラスチック製の容器に縦３０ｃｍ、横２０ｃｍの大きさのろ紙を敷き、遊離有効塩素（ＦＡＣ）濃度７３ｍｇ／ｋｇの次亜塩素酸水を５００ｍｌ入れた。
【0228】
バラ生産者から水揚げ直後のバラ（品種 アバランチェ）の切り花を入手し、試験管立てに一定の間隔で挿して、容器内に設置した。縦４０５ｍｍ、横３１５ｍｍ、及び高さ１０５ｍｍの大きさの透明なフタをかぶせ、容器とフタの間から湿度計を挿入した。
【0229】
容器を周囲温度１５℃～２５℃の環境で２４時間保管し、次亜塩素酸水の自然気化による切り花の殺菌処理を行った。
【0230】
容器の、容器内の湿度はほぼ１００％であり、単位時間ＨＣｌＯ到達量は平均３８μｇ／（分・ｍ２）であった。
【0231】
２４時間後、同様の大きさのプラスチック製の容器にろ紙を敷いて水を張り、殺菌処理された切り花を挿した試験管立てをこの容器に移し、密閉して容器内をほぼ１００％の高湿度に維持した。容器を周囲温度１５℃～２５℃の環境でさらに３日間保管した。殺菌処理開始から１，２，３，及び４日間経過後に、灰色かび病菌による発病をそれぞれ４本ずつ調査した。
【0232】
得られた結果を下記表１０に示す。
【0233】
また、比較として、次亜塩素酸水５００ｍｌの代わりに水を５００ｍｌ入れること以外は同様にして２４時間保管後、さらに高湿度で３日間保管し、保管開始から１，２，３，及び４日間経過後に、灰色かび病菌による発病をそれぞれ４本ずつ調査した。
【0234】
得られた結果を下記表１０に示す。
【0235】
実施例９
図２３と同様の構成を有する殺菌ユニットを用意し、遊離有効塩素（ＦＡＣ）濃度７０ｍｇ／ｋｇの次亜塩素酸水を４００ｍｌ入れた。
図２３と同様の構成を有する殺菌ユニットを用意し、遊離有効塩素（ＦＡＣ）濃度７０ｍｇ／ｋｇの次亜塩素酸水を４００ｍｌ入れた。
【0236】
ろ紙と電解水を入れる代わりに、プラスチック製の容器に殺菌ユニットを配置すること以外は、実施例８と同様にして、２４時間切り花の殺菌処理を行った。
【0237】
容器の、容器内の湿度はほぼ１００％であり、単位時間ＨＣｌＯ到達量は平均１３．４μｇ／（分・ｍ２）であった。
【0238】
その後、同様に、高湿度で３日間保管し、殺菌処理開始から１，２，３，及び４日間経過後に、灰色かび病菌による発病をそれぞれ４本ずつ調査した。
【0239】
得られた結果を下記表１０に示す。
【0240】
切り花の殺菌処理を９６時間行うこと以外は、実施例９と同様にして、切り花の殺菌処理を行い、殺菌処理開始から１，２，３，及び４日間経過後に、灰色かび病菌による発病をそれぞれ４本ずつ調査した。
【0241】
得られた結果を下記表１０に示す。
【0242】
【表10】
【0243】
表１０に基づいて作成した経過日数と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すグラフ図を図２５に示す。
【0244】
図２５中、グラフ１２０１、１２０２、１２０３、及び１２０４は、各々、水で２４時間処理（比較）、殺菌ユニットで酸性電解水を自然気化させた容器内で２４時間処理（実施例９）、殺菌ユニットで酸性電解水を自然気化させた容器内で９６時間処理（実施例１０）、酸性電解水をろ紙に含浸して自然気化させた容器内で２４時間処理（実施例８）の結果を表す。
【0245】
表１０及び図２５から、単位時間ＨＣｌＯ到達量平均３８μｇ／（ｍ２・分）で、２４時間殺菌処理後に高湿度空間に保管した場合、殺菌処理から３日後の直径２ｍｍ病斑相当数は５個、単位時間ＨＣｌＯ到達量平均１４．１μｇ／（ｍ２・分）で２４時間殺菌処理後に高湿度空間に保管した場合、殺菌処理から２日後の直径２ｍｍ病斑相当数は、１５個、単位時間ＨＣｌＯ到達量平均１４．１μｇ／（ｍ２・分）で、９６時間殺菌処理した場合、直径２ｍｍ病斑相当数は、３２個まで抑制できることがわかる。
【0246】
また、図２５に示すように、酸性電解水をろ紙に含浸して自然気化させた容器内で２４時間処理した場合は、４日後も十分な殺菌効果が見られるが、殺菌ユニットで酸性電解水を自然気化させた容器内で２４時間処理した場合には、殺菌効果が劣っている。しかしながら、殺菌ユニットで酸性電解水を自然気化させた容器内で９６時間処理することにより、ろ紙に含浸して自然気化させた容器内で２４時間処理した場合と同等の効果が得られていることがわかる。
【0247】
切り花の病害抑制に必要なＨＣｌＯ総到達量を定義するために、実施例８から１０の結果について、ＨＣｌＯ総到達量と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を調べ、保管日数毎に、ＨＣｌＯ総到達量ｘに対する直径２ｍｍ病斑相当数ｙをプロットし、上記式（１）で表されるジグモイド曲線式で近似した。
【0248】
図２６に、１日目のＨＣｌＯ総到達量と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すデータを示す。
【0249】
ここでは、対照となる無処理区の病斑数ｙの範囲は１０＜ｙ＜３４である。
【0250】
また、このとき、式（１）中、ａ＝０．２３８３３，ｂ＝－４．０６９６３，ｃ＝７１０６．００７９３，ｄ＝２０．４１６６７、相関係数Ｒ２＝０．７５１１０である。
【0251】
近似式から推定した直径２ｍｍ病斑相当数が１０のとき、ＨＣｌＯ総到達量は７２２０μｇ／ｍ２、４のとき、ＨＣｌＯ総到達量は１０２０６μｇ／ｍ２、１のとき、１５７４８μｇ／ｍ２である。
【0252】
図２６より、ＨＣｌＯ総到達量が７２２０μｇ／ｍ２以上であれば、１日間は、直径２ｍｍ病斑相当数を１０以下に抑えることができることがわかる。
【0253】
図２７に、２日目のＨＣｌＯ総到達量と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すデータを示す。
【0254】
ここでは、対照となる無処理区の病斑数ｙの範囲は３５＜ｙ＜６８である。
【0255】
また、このとき、式（１）中、ａ＝４６．０８２４６、ｂ＝１４．１３１４７、ｃ＝１８１５７．４６２４、ｄ＝２．０７８９９、相関係数Ｒ２＝０．８４２３３である。
【0256】
近似式から推定した直径２ｍｍ病斑相当数が１０のとき、ＨＣｌＯ総到達量は２０２１４μｇ／ｍ２、４のとき２２５９０μｇ／ｍ２である。
【0257】
図２７より、ＨＣｌＯ総到達量が２０２１４μｇ／ｍ２以上であれば、２日間は、直径２ｍｍ病斑相当数を１０以下に抑えることができることがわかる。
【0258】
図２８に、３日目のＨＣｌＯ総到達量と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すデータを示す。
【0259】
ここでは、対照となる無処理区の病斑数ｙの範囲は５８＜ｙ＜１５５である。
【0260】
また、このとき、式（１）中、ａ＝９９．０２９３１、ｂ＝２６．７２３８１、ｃ＝２００２９．００８９、ｄ＝７．６０２４６、相関係数Ｒ２＝０．７３４０８である。
【0261】
近似式から推定した直径２ｍｍ病斑相当数が１０のとき、ＨＣｌＯ総到達量は２２９３０μｇ／ｍ２である。
【0262】
図２８より、ＨＣｌＯ総到達量が２２９３０μｇ／ｍ２以上であれば、３日間は、直径２ｍｍ病斑相当数を１０以下に抑えることができることがわかる。
【0263】
図２９に、４日目のＨＣｌＯ総到達量と直径２ｍｍ病斑相当数との関係を表すデータを示す。
【0264】
ここでは、対照となる無処理区の病斑数ｙの範囲は１８９＜ｙ＜２３５である。
【0265】
また、このとき、式（１）中、ａ＝２０１．５０８１７、ｂ＝１１．３０４３５、ｃ＝２０６７４．７５７１、ｄ＝２１．８１７５３、相関係数Ｒ２＝０．８７７２０である。
【0266】
近似式から推定した直径２ｍｍ病斑相当数が２２のとき、ＨＣｌＯ総到達量は３８０３６μｇ／ｍ２である。
【0267】
図２９より、ＨＣｌＯ総到達量が３８０３６μｇ／ｍ２以上であれば、４日間は、直径２ｍｍ病斑相当数を２２以下に抑えることができることがわかる。
【0268】
下記表１１に、経過日数と、近似式から推定した、直径２ｍｍ病斑相当数及びＨＣｌＯ総到達量とを、まとめて示す。
【0269】
【表11】
【0270】
表１１に示すように、単位時間ＨＣｌＯ到達量５～６０μｇ／（ｍ２・分）のとき、直径２ｍｍ病斑相当数を１０個以下に抑えるためのＨＣｌＯ総到達量は、高湿度の状況が１日以内である場合は７０００μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は２００００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は２３０００μｇ／ｍ２以上とする。
【0271】
単位時間ＨＣｌＯ到達量５～６０μｇ／（ｍ２・分）のとき、直径２ｍｍ病斑相当数を４個以下に抑えるためのＨＣｌＯ総到達量は、高湿度の状況が１日以内である場合は１００００μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は２２５００μｇ／ｍ２以上とする。
【0272】
単位時間ＨＣｌＯ到達量５～６０μｇ／（ｍ２・分）のとき、直径２ｍｍ病斑相当数を１個以下に抑えるためのＨＣｌＯ総到達量は、高湿度の状況が１日以内である場合は１６００μｇ／ｍ２以上とする。
【0273】
以下に、本願の先の出願特願２０１７－１８３３７３の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［付記１］
［１］
収穫後から輸送前の切り花に対し、次亜塩素酸水の気化物質を、ＨＣｌＯ総到達量（単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）が２６０μｇ／ｍ２以上になるまで供給することを特徴とする切り花の殺菌処理方法。
［２］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、４２０００μｇ／ｍ２以下である［１］に記載の方法。
［３］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量は、５～７００μｇ／（ｍ２・分）である［１］または［２］に記載の方法。
［４］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量と輸送期間に応じて設定され、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量が５～３５０μｇ／（ｍ２・分）であるとき、前記輸送期間が１日以内である場合は２６０μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は４５００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は８５００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は１４０００μｇ／ｍ２以上である［３］に記載の方法。
［５］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、前記輸送期間が１日以内である場合は２６０μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は８０００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は１４０００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は１９０００μｇ／ｍ ２ 以上に設定する［４］に記載の方法。
［６］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、前記輸送期間が１日以内である場合は３５００μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は１５０００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合には２２０００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合には２３０００μｇ／ｍ２以上に設定する［５］に記載の方法。
［７］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量と輸送期間に応じて設定され、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）より大きいとき、前記輸送期間が１日以内である場合は２６０μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は１６００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は３４００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は８４００μｇ／ｍ２以上である［３］に記載の方法。
［８］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量と輸送期間に応じて設定され、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）より大きいとき、前記輸送期間が１日以内である場合は２６０μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は２８００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は６７００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は１０６００μｇ／ｍ２以上である［７］に記載の方法。
［９］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量と輸送期間に応じて設定され、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）より大きいとき、前記輸送期間が１日以内である場合は３５００μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は７６００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は１１４００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は１５２００μｇ／ｍ２以上である［８］に記載の方法。
また、以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［付記２］
［２－１］
収穫後から輸送前の切り花に対し、次亜塩素酸水の気化物質を、ＨＣｌＯ総到達量（前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）が２６０μｇ／ｍ２以上、４２０００μｇ／ｍ２以下まで供給することを特徴とする切り花の殺菌処理方法。
［２－２］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量は、５～７００μｇ／（ｍ２・分）である［２－１］に記載の方法。
［２－３］
前記ＨＣｌＯ総到達量を、輸送期間に合わせ３５００μｇ／ｍ２以上、２３０００μｇ／ｍ２以下に設定する［２－２］に記載の方法。
［２－４］
切り花に次亜塩素酸水の気化物質を供給し、前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量を平均５～６０μｇ／（ｍ２・分）に維持する切り花の殺菌処理方法。
［２－５］
ＨＣｌＯ総到達量（前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）を２４時間以内に７０００μｇ／ｍ２以上、２３０００μｇ／ｍ２以下になるまで、前記周囲雰囲気を前記単位時間ＨＣｌＯ到達量に維持し、かつ
４８時間以内に前記次亜塩素酸水の気化物質を前記切り花に再供給し、前記周囲雰囲気を前記単位時間ＨＣｌＯ到達量に維持することをさらに含む［２－４］に記載の方法。
［２－６］
前記切り花の周囲雰囲気をさらに湿度８０％以上に維持する［２－１］ないし［２－４］のいずれか１つに記載の方法。
［２－７］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量を維持した後、前記切り花を湿度８０％以上で保管することをさらに含む［２－１］ないし［２－４］のいずれか１つに記載の方法。
［２－８］
［２－４］ないし［２－７］のいずれか１項に記載の方法に用いられる次亜塩素酸水の気化物質を供給するための殺菌ユニット。
また、以下に、本願出願の分割直前の出願特願２０２１－１００４２０の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［付記３］
［３－１］
収穫後から輸送前の切り花に対し、次亜塩素酸水の気化物質を、平均で３５０μｇ／（ｍ２・分）より大きく７００μｇ／（ｍ２・分）以下の単位時間ＨＣｌＯ到達量で供給するとき、
１日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量（前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）が２６０μｇ／ｍ２以上とするか、２日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が１６００μｇ／ｍ２以上とするか、３日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が３４００μｇ／ｍ２以上とするか、あるいは４日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が８４００μｇ／ｍ２以上とすることを特徴とする切り花の殺菌処理方法。
［３－２］
前記１日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が３５００μｇ／ｍ２以上とする［３－１］に記載の方法。
［３－３］
前記２日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が２８００μｇ／ｍ２以上とする［３－１］または［３－２］に記載の方法。
［３－４］
前記２日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が７６００μｇ／ｍ２以上とする［３－３］に記載の方法。
［３－５］
前記３日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が６７００μｇ／ｍ２以上とする［３－１］ないし［３－４］のいずれか１に記載の方法。
［３－６］
前記３日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量１１４００ｇ／ｍ２以上とする［３－５］に記載の方法。
［３－７］
前記４日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が１０６００μｇ／ｍ２以上とする［３－１］ないし［３－６］のいずれか１に記載の方法。
［３－８］
前記４日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量１５２００ｇ／ｍ２以上とする［３－７］に記載の方法。
［３－９］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量は、平均３７９μｇ／（ｍ２・分）以上である［３－１］ないし［３－８］のいずれか１に記載の方法。
［３－１０］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量は、平均５０５μｇ／（ｍ２・分）以上である［３－９］に記載の方法。
［３－１１］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量は、平均６７９μｇ／（ｍ２・分）以上である［３－１０］に記載の方法。
［３－１２］
前記ＨＣｌＯ総到達量が４２０００μｇ／ｍ２以下とする［３－１］ないし［３－１１］のいずれか１に記載の方法。
［３－１３］
前記ＨＣｌＯ総到達量が２３０００μｇ／ｍ２以下とする［３－１２］に記載の方法。
［３－１４］
前記切り花の周囲雰囲気をさらに湿度８０％以上に維持する［３－１］ないし［３－１３］のいずれか１に記載の方法。
［３－１５］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量を維持した後、前記切り花を湿度８０％以上で保管することをさらに含む［３－１］ないし［３－１４］のいずれか１に記載の方法。
また、以下に、本願出願の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［付記４］
［４－１］
収穫後から輸送前の切り花に対し、次亜塩素酸水の気化物質を、ＨＣｌＯ総到達量（前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）が２６０μｇ／ｍ ２ 以上、４２０００μｇ／ｍ ２ 以下まで供給することを特徴とする切り花の殺菌処理方法（ただし、梱包以後にさらに殺菌処理する場合を除く。）。
［４－２］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量は、５～７００μｇ／（ｍ ２ ・分）である［４－１］に記載の方法。
［４－３］
前記ＨＣｌＯ総到達量を、輸送期間に合わせ３５００μｇ／ｍ ２ 以上、２３０００μｇ／ｍ ２ 以下に設定する［４－２］に記載の方法。
［４－４］
切り花に次亜塩素酸水の通風せずに自然気化させた気化物質を供給し、前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量を平均５～６０μｇ／（ｍ ２ ・分）に維持する切り花の殺菌処理方法。
［４－５］
ＨＣｌＯ総到達量（前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）を２４時間以内に７０００μｇ／ｍ ２ 以上、２３０００μｇ／ｍ ２ 以下になるまで、前記周囲雰囲気を前記単位時間ＨＣｌＯ到達量に維持し、かつ
４８時間以内に前記次亜塩素酸水の気化物質を前記切り花に再供給し、前記周囲雰囲気を前記単位時間ＨＣｌＯ到達量に維持することをさらに含む［４－４］に記載の方法。
［４－６］
前記切り花の周囲雰囲気をさらに湿度８０％以上に維持する［４－１］ないし［４－４］のいずれか１に記載の方法。
［４－７］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量を維持した後、前記切り花を湿度８０％以上で保管することをさらに含む［４－１］ないし［４－４］のいずれか１に記載の方法。
［４－８］
［４－４］ないし［４－７］のいずれか１に記載の方法に用いられる次亜塩素酸水の気化物質を供給するための殺菌ユニット。
［４－９］
前記切り花周辺に到達した次亜塩素酸の単位時間ＨＣｌＯ到達量を予測する単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部を備え、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部により算出されるＨＣｌＯ総到達量が目的値になるまで、前記次亜塩素酸水の気化物質を供給する［４－１］ないし［４－３］のいずれか１に記載の方法。
［４－１０］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部は、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量と前記次亜塩素酸水の気化物質を供給する時間との関係を予め記憶する記憶部を備え、前記単位時間ＨＣｌＯ供給量予測部は、前記記憶部からの情報に基づいて前記次亜塩素酸のＨＣｌＯ総到達量が目的値になるまでの予定時間を予測し、前記予定時間に達するまで前記次亜塩素酸水の気化物質を供給する［４－９］に記載の方法。
［４－１１］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部は、前記切り花周辺に到達した次亜塩素酸のＨＣｌＯ総到達量を測定する測定部を備え、前記次亜塩素酸の単位時間ＨＣｌＯ到達量を前記測定部にて測定し、前記ＨＣｌＯ総到達量が目的値であるか判定し、前記目的値に達している場合には前記次亜塩素酸水の気化物質の供給を停止する［４－９］に記載の方法。
［付記１］
［１］
収穫後から輸送前の切り花に対し、次亜塩素酸水の気化物質を、ＨＣｌＯ総到達量（単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）が２６０μｇ／ｍ２以上になるまで供給することを特徴とする切り花の殺菌処理方法。
［２］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、４２０００μｇ／ｍ２以下である［１］に記載の方法。
［３］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量は、５～７００μｇ／（ｍ２・分）である［１］または［２］に記載の方法。
［４］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量と輸送期間に応じて設定され、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量が５～３５０μｇ／（ｍ２・分）であるとき、前記輸送期間が１日以内である場合は２６０μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は４５００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は８５００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は１４０００μｇ／ｍ２以上である［３］に記載の方法。
［５］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、前記輸送期間が１日以内である場合は２６０μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は８０００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は１４０００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は１９０００μｇ／ｍ ２ 以上に設定する［４］に記載の方法。
［６］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、前記輸送期間が１日以内である場合は３５００μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は１５０００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合には２２０００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合には２３０００μｇ／ｍ２以上に設定する［５］に記載の方法。
［７］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量と輸送期間に応じて設定され、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）より大きいとき、前記輸送期間が１日以内である場合は２６０μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は１６００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は３４００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は８４００μｇ／ｍ２以上である［３］に記載の方法。
［８］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量と輸送期間に応じて設定され、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）より大きいとき、前記輸送期間が１日以内である場合は２６０μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は２８００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は６７００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は１０６００μｇ／ｍ２以上である［７］に記載の方法。
［９］
前記ＨＣｌＯ総到達量は、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量と輸送期間に応じて設定され、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量が３５０μｇ／（ｍ２・分）より大きいとき、前記輸送期間が１日以内である場合は３５００μｇ／ｍ２以上、２日以内である場合は７６００μｇ／ｍ２以上、３日以内である場合は１１４００μｇ／ｍ２以上、４日以内である場合は１５２００μｇ／ｍ２以上である［８］に記載の方法。
また、以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［付記２］
［２－１］
収穫後から輸送前の切り花に対し、次亜塩素酸水の気化物質を、ＨＣｌＯ総到達量（前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）が２６０μｇ／ｍ２以上、４２０００μｇ／ｍ２以下まで供給することを特徴とする切り花の殺菌処理方法。
［２－２］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量は、５～７００μｇ／（ｍ２・分）である［２－１］に記載の方法。
［２－３］
前記ＨＣｌＯ総到達量を、輸送期間に合わせ３５００μｇ／ｍ２以上、２３０００μｇ／ｍ２以下に設定する［２－２］に記載の方法。
［２－４］
切り花に次亜塩素酸水の気化物質を供給し、前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量を平均５～６０μｇ／（ｍ２・分）に維持する切り花の殺菌処理方法。
［２－５］
ＨＣｌＯ総到達量（前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）を２４時間以内に７０００μｇ／ｍ２以上、２３０００μｇ／ｍ２以下になるまで、前記周囲雰囲気を前記単位時間ＨＣｌＯ到達量に維持し、かつ
４８時間以内に前記次亜塩素酸水の気化物質を前記切り花に再供給し、前記周囲雰囲気を前記単位時間ＨＣｌＯ到達量に維持することをさらに含む［２－４］に記載の方法。
［２－６］
前記切り花の周囲雰囲気をさらに湿度８０％以上に維持する［２－１］ないし［２－４］のいずれか１つに記載の方法。
［２－７］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量を維持した後、前記切り花を湿度８０％以上で保管することをさらに含む［２－１］ないし［２－４］のいずれか１つに記載の方法。
［２－８］
［２－４］ないし［２－７］のいずれか１項に記載の方法に用いられる次亜塩素酸水の気化物質を供給するための殺菌ユニット。
また、以下に、本願出願の分割直前の出願特願２０２１－１００４２０の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［付記３］
［３－１］
収穫後から輸送前の切り花に対し、次亜塩素酸水の気化物質を、平均で３５０μｇ／（ｍ２・分）より大きく７００μｇ／（ｍ２・分）以下の単位時間ＨＣｌＯ到達量で供給するとき、
１日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量（前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）が２６０μｇ／ｍ２以上とするか、２日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が１６００μｇ／ｍ２以上とするか、３日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が３４００μｇ／ｍ２以上とするか、あるいは４日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が８４００μｇ／ｍ２以上とすることを特徴とする切り花の殺菌処理方法。
［３－２］
前記１日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が３５００μｇ／ｍ２以上とする［３－１］に記載の方法。
［３－３］
前記２日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が２８００μｇ／ｍ２以上とする［３－１］または［３－２］に記載の方法。
［３－４］
前記２日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が７６００μｇ／ｍ２以上とする［３－３］に記載の方法。
［３－５］
前記３日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が６７００μｇ／ｍ２以上とする［３－１］ないし［３－４］のいずれか１に記載の方法。
［３－６］
前記３日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量１１４００ｇ／ｍ２以上とする［３－５］に記載の方法。
［３－７］
前記４日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量が１０６００μｇ／ｍ２以上とする［３－１］ないし［３－６］のいずれか１に記載の方法。
［３－８］
前記４日間保管の条件を、ＨＣｌＯ総到達量１５２００ｇ／ｍ２以上とする［３－７］に記載の方法。
［３－９］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量は、平均３７９μｇ／（ｍ２・分）以上である［３－１］ないし［３－８］のいずれか１に記載の方法。
［３－１０］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量は、平均５０５μｇ／（ｍ２・分）以上である［３－９］に記載の方法。
［３－１１］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量は、平均６７９μｇ／（ｍ２・分）以上である［３－１０］に記載の方法。
［３－１２］
前記ＨＣｌＯ総到達量が４２０００μｇ／ｍ２以下とする［３－１］ないし［３－１１］のいずれか１に記載の方法。
［３－１３］
前記ＨＣｌＯ総到達量が２３０００μｇ／ｍ２以下とする［３－１２］に記載の方法。
［３－１４］
前記切り花の周囲雰囲気をさらに湿度８０％以上に維持する［３－１］ないし［３－１３］のいずれか１に記載の方法。
［３－１５］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量を維持した後、前記切り花を湿度８０％以上で保管することをさらに含む［３－１］ないし［３－１４］のいずれか１に記載の方法。
また、以下に、本願出願の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［付記４］
［４－１］
収穫後から輸送前の切り花に対し、次亜塩素酸水の気化物質を、ＨＣｌＯ総到達量（前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）が２６０μｇ／ｍ ２ 以上、４２０００μｇ／ｍ ２ 以下まで供給することを特徴とする切り花の殺菌処理方法（ただし、梱包以後にさらに殺菌処理する場合を除く。）。
［４－２］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量は、５～７００μｇ／（ｍ ２ ・分）である［４－１］に記載の方法。
［４－３］
前記ＨＣｌＯ総到達量を、輸送期間に合わせ３５００μｇ／ｍ ２ 以上、２３０００μｇ／ｍ ２ 以下に設定する［４－２］に記載の方法。
［４－４］
切り花に次亜塩素酸水の通風せずに自然気化させた気化物質を供給し、前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量を平均５～６０μｇ／（ｍ ２ ・分）に維持する切り花の殺菌処理方法。
［４－５］
ＨＣｌＯ総到達量（前記切り花の周囲雰囲気における単位時間ＨＣｌＯ到達量×処理時間）を２４時間以内に７０００μｇ／ｍ ２ 以上、２３０００μｇ／ｍ ２ 以下になるまで、前記周囲雰囲気を前記単位時間ＨＣｌＯ到達量に維持し、かつ
４８時間以内に前記次亜塩素酸水の気化物質を前記切り花に再供給し、前記周囲雰囲気を前記単位時間ＨＣｌＯ到達量に維持することをさらに含む［４－４］に記載の方法。
［４－６］
前記切り花の周囲雰囲気をさらに湿度８０％以上に維持する［４－１］ないし［４－４］のいずれか１に記載の方法。
［４－７］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量を維持した後、前記切り花を湿度８０％以上で保管することをさらに含む［４－１］ないし［４－４］のいずれか１に記載の方法。
［４－８］
［４－４］ないし［４－７］のいずれか１に記載の方法に用いられる次亜塩素酸水の気化物質を供給するための殺菌ユニット。
［４－９］
前記切り花周辺に到達した次亜塩素酸の単位時間ＨＣｌＯ到達量を予測する単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部を備え、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部により算出されるＨＣｌＯ総到達量が目的値になるまで、前記次亜塩素酸水の気化物質を供給する［４－１］ないし［４－３］のいずれか１に記載の方法。
［４－１０］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部は、前記単位時間ＨＣｌＯ到達量と前記次亜塩素酸水の気化物質を供給する時間との関係を予め記憶する記憶部を備え、前記単位時間ＨＣｌＯ供給量予測部は、前記記憶部からの情報に基づいて前記次亜塩素酸のＨＣｌＯ総到達量が目的値になるまでの予定時間を予測し、前記予定時間に達するまで前記次亜塩素酸水の気化物質を供給する［４－９］に記載の方法。
［４－１１］
前記単位時間ＨＣｌＯ到達量予測部は、前記切り花周辺に到達した次亜塩素酸のＨＣｌＯ総到達量を測定する測定部を備え、前記次亜塩素酸の単位時間ＨＣｌＯ到達量を前記測定部にて測定し、前記ＨＣｌＯ総到達量が目的値であるか判定し、前記目的値に達している場合には前記次亜塩素酸水の気化物質の供給を停止する［４－９］に記載の方法。
【0274】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【0275】
１…切り花殺菌システム、２…収容部、３…除湿部、１０…タンク、１１…配管、１２…ポンプ、１３…、１４…制御部、１５…筐体、１６…気化部、１７…ファン、１９…ＨＣｌＯ総到達量予測部、２０…供給部、２３…記憶部、３０…管理システム、４０…殺菌システム、６０，７０…殺菌ユニット、１００…電解槽、１１２…第１隔膜、１１４…第２隔膜、１１５ａ…中間室、１１５ｂ…陽極室、１１５ｃ…陰極室、１１９ａ…供給配管、２１１…水供給部、２１１ａ…給水配管、２１１ｃ…排水配管、２１３…電源、２１５…塩水タンク
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】