特許 7498115 皮膚用日焼け止め組成物用のベース配合物の調製のためのプロセスおよび皮膚用日焼け止め組成物の調製のためのプロセス

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-06-03

(45)【発行日】2024-06-11

(54)【発明の名称】皮膚用日焼け止め組成物用のベース配合物の調製のためのプロセスおよび皮膚用日焼け止め組成物の調製のためのプロセス

(51)【国際特許分類】

   A61K 8/37 20060101AFI20240604BHJP

   A61K 8/06 20060101ALI20240604BHJP

   A61K 8/49 20060101ALI20240604BHJP

   A61K 8/29 20060101ALI20240604BHJP

   A61K 8/31 20060101ALI20240604BHJP

   A61K 8/55 20060101ALI20240604BHJP

   A61K 8/34 20060101ALI20240604BHJP

   A61Q 17/04 20060101ALI20240604BHJP

【ＦＩ】

A61K8/37

A61K8/06

A61K8/49

A61K8/29

A61K8/31

A61K8/55

A61K8/34

A61Q17/04

【請求項の数】 15

(21)【出願番号】P 2020552728

(86)(22)【出願日】2019-03-29

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2021-08-12

(86)【国際出願番号】 IB2019052635

(87)【国際公開番号】W WO2019186509

(87)【国際公開日】2019-10-03

【審査請求日】2022-03-25

(31)【優先権主張番号】102018107718.1

(32)【優先日】2018-03-29

(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE

(73)【特許権者】

【識別番号】520369571

【氏名又は名称】ウルトラサン エージー

(74)【代理人】

【識別番号】110001656

【氏名又は名称】弁理士法人谷川国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】イルニガー，ベネディクト

【審査官】田中 雅之

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１３－５１０８６２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２００９－５３６９４９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１２－２１１１１４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０８－３１０９４１（ＪＰ，Ａ）

【文献】VOV Cosmetics, South Korea，Mineral Powder SPF 35 PA+++，Mintel GNPD [online]，2011年03月，ID#1514721, [検索日:2023.09.21], 表題部分及び成分

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ａ６１Ｋ ８／００－ ８／９９

Ａ６１Ｑ １／００－９０／００

Ｍｉｎｔｅｌ ＧＮＰＤ

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

皮膚用日焼け止め組成物用のベース配合物の調製のためのプロセスであって、
前記ベース配合物は、油相と、水相と、を含み、かつ複数のＵＶ吸収物質と、ラメラ構造を形成する少なくとも１つの両親媒性物質と、を含有し、
少なくとも１つのトリグリセリドおよびＵＶ吸収物質を含む油相が生成され、前記油相が、第１のステップで、少なくとも８０℃、高くとも８３℃に加熱され、均質化され、少なくとも１つのＵＶ吸収無機物質が、第２のステップで、少なくとも７０℃、高くとも７６℃で混合され、
両親媒性物質を含む水相を生成し、前記水相を少なくとも７０℃に加熱し、均質化し、
両方の相が組み合わされ、前記組み合わされた生成物が、均質化される、プロセス。

【請求項2】

前記ベース配合物が、３０～５０重量パーセントの量の油相と、３０～４０重量パーセントの量の水相とを含む、請求項１に記載のプロセス。

【請求項3】

前記油相が、カプリルトリグリセリドおよびココトリグリセリドから選択される少なくとも１つの中鎖トリグリセリドを含有する、請求項１または２に記載のプロセス。

【請求項4】

前記油相が、ＵＶ吸収剤として使用される、
ａ．安息香酸ヘキシル、および／または
ｂ．ベモトリジノール、および／または
ｃ．エチルヘキシルトリアゾン、および／または
ｄ．サリチル酸エチルヘキシル、および／または
ｅ．ＴｉＯ_２、
を含有する、請求項１～３のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項5】

前記油相が、１～８．５重量％の割合のフィトスクアランを含有する、請求項１～４のいずれかに記載のプロセス。

【請求項6】

前記油相が、３．５～１９．５重量パーセントの安息香酸アルキル含有量を含有する、請求項１～５のいずれかに記載のプロセス。

【請求項7】

前記油相が、７～１５．５重量パーセントのＴｉＯ_２含有量を含有する、請求項１～６のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項8】

前記油相中の前記ＵＶ吸収物質対前記ＵＶ吸収無機物質は、１：４～４：１の比率である、請求項１～７のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項9】

前記水相が両親媒性物質を含有する、請求項１～８のいずれか１項に記載のプロセス。

【請求項10】

前記両親媒性物質が水素化ホスファチジルコリンであり、前記水相が、０．５～１０．５重量パーセントの水素化ホスファチジルコリンである、請求項９に記載のプロセス。

【請求項11】

前記水相が、グリセロールおよび／またはグリコールを含有する、請求項１～１０のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項12】

前記水相がペンチレングリコールを含む、請求項１～１１のいずれか１項に記載のプロセス。

【請求項13】

前記さらなるＵＶ吸収物質が、ビスオクトリゾールＵＶ－Ａ／ＵＶ－Ｂ吸収剤である、請求項１～１１のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項14】

皮膚用日焼け止め組成物の調製のためのプロセスであって、
水に加えて、少なくとも１つの多価アルコールを含有する第２の水相が生成され、
請求項１に記載のベース配合物を前記第２の水相と少なくとも６０℃の温度で混合し、前記混合物を均質化する、プロセス。

【請求項15】

前記第２の水相の前記少なくとも１つの多価アルコールが、グリセロールおよび／またはグリコールを含む、請求項１４に記載のプロセス。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、請求項１に記載の皮膚用日焼け止め製剤用のベース配合物の調製のためのプロセス、および請求項１３に記載の皮膚用日焼け止め製剤の調製のためのプロセスに関する。

【0002】

様々な皮膚用遮光製剤およびそれらの製造プロセスが最新技術から知られている。

【0003】

遮光製剤は一般に、過度の紫外線から皮膚を保護することを目的としている。日焼けローションの形態の日焼け防止剤が最も一般的である。サンミルクは、液体エマルジョンであり、油分と水分で構成されている。遮光製剤は、クリーム、オイル、または水ベースのジェルの形態でも入手可能である。水分量の少ない遮光製剤は、軟膏状であり、水分量の多いものは、むしろローションに近い。

【0004】

通常の皮膚用日焼け防止製剤は通常、有効成分と補助物質の既知の証明された組み合わせの混合物に基づく。現在の知識によれば、これらの有効成分および賦形剤のすべてが、医療の観点から、特に消費者の観点から、化粧品およびスキンケア製品において依然として望ましいわけではない。これらの物質の多くについて、単一の物質または物質の混合物としてのそれらの作用様式、体内でのそれらの吸収、それらの放出速度、放出の場所、および作用の場所は、しばしば不明である。これは、無傷の皮膚ではバリアおよび修復能力が高いため許容され場合があるが、特に敏感肌または損傷した皮膚では、製剤の意図されたプラスの効果をその反対に逆転させる場合がある。

【0005】

許容される有効成分および添加剤に関する制限規制は、化粧品に関する欧州規制（ＥＣ）番号１２２３／２００９に記載されている。

【0006】

遮光製剤では、化学的および物理的フィルター物質が通常、ＵＶ放射を遮断する有効成分として使用される。

【0007】

例えばＤＥ６９３１８９１２Ｔ２に記載されているような製剤中の化学的フィルターは、皮膚の吸収挙動によりそれらの効果が特に長く持続することができるため、実際に非常に効率的である。しかし、それらは、アレルギー反応または細胞障害を引き起こす可能性があると疑われている。

【0008】

物理フィルターは、非常に細かく粉砕された鉱物、好ましくは二酸化チタン、酸化亜鉛、または酸化アルミニウムなどの金属酸化物で構成され、フィルター効果は、紫外線のエネルギー変換を伴う散乱、反射、および部分吸収による純粋な物理的性質である。それらの利点は、それらが化学的に不活性であり、したがって分解もアレルギー性副作用も引き起こさないことである（酸化アルミニウムを除くが、そのため、これが本発明の意味において除外される理由である）。しかしながら、欠点は、適用された遮光製剤からの保護層が水または汗で容易に流される可能性があることである。望ましくないことに、かつほとんど気付かれずに、それは、紫外線による皮膚損傷となる可能性があり、そのため、使用者の不利益となるまで、より頻繁に皮膚にクリームを塗らなければならない。

【0009】

上記の理由により、遮光製剤は、物理的フィルターを主に含有し、長期間の保護を提供すると同時に、遮光製剤の適用快適性および皮膚適合性を高めるために防水性であることが望ましい。さらに、遮光製剤は、効率的かつ経済的に製造されるべきである。

【0010】

したがって、望ましくない影響を最小限にするために、無害な補助物質および活性物質に対する望ましくない物質の割合が、完全に排除されないにしても大幅に減少する、皮膚用日焼け防止製剤のための扱いやすい製造プロセスを有することが望ましいであろう。

【0011】

ラメラ層システム、好ましくはいわゆる「水素化リポソーム」に基づく製剤は、特に有望な日焼け防止製剤であることが証明されている。そのようなラメラコーティングシステムおよびそれらの製造プロセスは、例えば、化粧品のフェイシャルおよびリップケアに関してＤＥ１０２００６０４５３８８Ａ１またはＤＥ１０２００６０４５３８９Ａ１に開示されている。

【0012】

しかしながら、既知の製造プロセスは、最適に実行可能であると証明されていない。リポソーム相ならびに統合された化学的および物理的フィルターを用いるこの方法で製造された遮光製剤、特にＤＥ１０２００６０４５３８８Ａ１に記載されているものは、不安定であり、相分離が起こる。製造プロセスも非常に複雑で、測定が容易ではないため、効率的ではなく、扱いも容易ではない。

【0013】

したがって、本発明の課題は、最新技術からの前述の欠点を克服する皮膚用日焼け防止製剤用の初期配合物の製造のためのプロセスを提供することである。

【0014】

本発明の意味において、ベース配合物は、油相と、水相とを含み、かつ少なくとも１つのＵＶ吸収物質と、ラメラ構造、好ましくはラメラ構造のシステムを形成する少なくとも１つの両親媒性物質とを含有するベース配合物である。ラメラ構造は、規則的な層状構造を特徴とするシステムを形成する。人体では、そのような構造は、細胞膜の脂質二重層として見つけられる。

【0015】

局所ラメラシステムは通常、自然モデルに基づいており、ホスファチジルコリン、セラミド、ステロール、および脂肪酸を構造形成要素として使用する。

【0016】

しかしながら、本発明の意味において、ラメラシステムは、多くの合成界面活性剤によって形成することもでき、それは、それらが十分に高い濃度で存在し、これらの両親媒性物質がそれらの分子構造、すなわち親水性分子部分と親油性分子部分とのバランスのとれた比率により二重層配置を可能にする場合である。

【0017】

ただし、水素化脂質のラメラ構造の形成は、自発的ではないが、製造時、特にバリア構成時に、温度の形態で高エネルギー入力および場合により機械的エネルギー（例えば、圧力下での均質化および／または攪拌）を必要とする。

【0018】

本発明の意味において、皮膚用日焼け防止製剤用の初期配合物の製造のために、
－少なくとも１つの皮膚軟化剤、好ましくはトリグリセリドと、本質的内容物のＵＶ吸収物質とを含む油相であって、第１のステップで、この油相を少なくとも８０℃、好ましくは少なくとも９０℃、好ましくは最大９６℃まで加熱し、均質化し、第２のステップで、少なくとも１つのＵＶ吸収無機物質を少なくとも７０℃、好ましくは少なくとも７５℃、好ましくは最大８２℃で添加する、油相と、
－実質的内容物の両親媒性物質を含む水相であって、該水相を少なくとも７０℃、好ましくは少なくとも８０℃、好ましくは最大８６℃まで加熱し、均質化する、水相と、を生成し、
任意に少なくとも１つのさらなるＵＶ吸収物質を添加しながら両方の相を組み合わせ、組み合わせた生成物を均質化する。

【0019】

好ましいプロセスでは、前述の油相の代わりに、少なくとも１つの皮膚軟化剤、好ましくはトリグリセリドを含む油相が生成され、この油相は、第１のステップで、少なくとも８０℃、好ましくは少なくとも９０℃、好ましくは最大９６℃まで加熱され、均質化され、少なくとも１つのＵＶ吸収無機物質が第２のステップで、少なくとも７０℃、好ましくは少なくとも７５℃、好ましくは最大８２℃で添加される、少なくとも１つのＵＶ吸収無機物質。

【0020】

好ましいプロセスでは、ベース配合物は、３０～５０重量％、好ましくは２５～４０重量％、または３５～４５重量％の割合の油相、および３０～４０重量％、好ましくは２５～４０重量％、または３５～４５重量％の割合の水相を含有する。

【0021】

本発明による好ましいプロセスでは、ベース配合物は、１：４～４：１、好ましくは１：３～３：１、特に好ましくは１：２～２：１の比率で油相および水相を含有する。

【0022】

本発明による好ましいプロセスでは、初期配合物は、特別な用途に対して、大部分、好ましくはほぼ大部分、および独占的に油相を含有し、ならびに１０重量％未満、好ましくは５重量％未満の少ない割合の水相を含有する。

【0023】

好ましいプロセスでは、油相は、グリセロールとカプリン酸およびカプリル酸を１：３の比率で有するエステル化生成物から選択される少なくとも１つ、好ましくは２つの中鎖トリグリセリド、好ましくはカプリルトリグリセリド、およびココトリグリセリドを含有する。

【0024】

本発明によるプロセスでは、油相は、ＵＶ吸収剤として安息香酸ヘキシル、好ましくは２－［４－（ジエチルアミノ）－２－ヒドロキシベンゾイル］－安息香酸ヘキシルエステル、および／またはベモトリジノール、および／またはシアヌル酸トリアミド、および／またはエチルヘキシルトリアゾン、および／またはサリチル酸エチルヘキシル、および／または好ましくはコーティングされたＴｉＯ_２を含有する。

【0025】

本発明の意味において、コーティングされたＴｉＯ_２は、その粒子がケイ酸塩層でコーティングされたＴｉＯ_２粉末である。これは、コーティングにより、コーティングされていないＴｉＯ_２と比較してＵＶ吸収率が高いという利点を有し、したがって、同じ量のＴｉＯ_２でＵＶ放射に対するより大きな保護が与えられる。

【0026】

好ましいプロセスでは、油相は、０．５～６．５、好ましくは最大８．５、またはさらには最大１０．５重量パーセントの割合でフィトスクアランを含有する。

【0027】

好ましいプロセスでは、油相は、３．５～９．５重量％、好ましくは１４．５重量％まで、またはさらに１９．５重量％までの安息香酸アルキル含有量を含有する。

【0028】

好ましいプロセスでは、油相は、６．５～１５．５、好ましくは最大１８．５、またはさらには最大２０．５重量パーセントの割合の好ましくはコーティングされたＴｉＯ_２を物理的フィルター材料として含有する。試験により、平均粒径が３０ｎｍ～２５ｎｍ未満、好ましくは２５ｎｍ～２０ｎｍ未満、好ましくは２０ｎｍ～１５ｎｍ未満、または１５ｎｍ～１０ｎｍ未満、特に１０ｎｍ～５ｎｍ未満のナノ結晶性粉末の形態の好ましくはコーティングされたＴｉＯ_２が特に好適であることが示されている。

【0029】

好ましい方法では、油相中のＵＶ吸収物質対ＵＶ吸収無機物質は、少なくとも１：１、好ましくは少なくとも１：２～２：１、または少なくとも１：１．５～１．５：１、特に好ましくは少なくとも１：３～３：１、および多くても１：４～４：１の比率である。

【0030】

好ましいプロセスでは、水相は、両親媒性物質、好ましくは水素化ホスファチジルコリンを０．５～５．５重量パーセント、好ましくは最大１０．５重量パーセント、またはさらに最大１２．５重量パーセントで含有する。

【0031】

水素化ホスファチジルコリンは、二重層の平面構造を決定する飽和Ｃ_１８およびＣ_１６酸からなる、特に好適な脂肪酸組成を有する。

【0032】

好ましいプロセスでは、脂肪酸組成物中に８０～９０重量％の高リノール酸含有量を有する大豆レシチンからカラムクロマトグラフィーにより分画された天然ホスファチジルコリンが好ましく使用され、それは、細胞二重層を生成する。リポソームとしても知られるそのような二重層は、活性物質、特に物理的フィルターの浸透を増加させる。

【0033】

したがって、好ましいプロセスでは、活性物質の高度の輸送および皮膚からの非常に低い洗い流し効果を有する初期製剤を、その中に含有される油相および／または水相および／またはＵＶ吸収物質および／またはＵＶ吸収無機物質および／または両親媒性物質の適切な混合比を設定することにより、無段階で調整することが可能である。

【0034】

本発明によるプロセスの場合、水相は、グリセロールおよび／またはグリコール、好ましくはペンチレングリコールを含有する。

【0035】

本発明による好ましいプロセスの場合、少なくとも１つの、好ましくはアニオン性の混合された多糖類が水相に添加されるべきであろう。

【0036】

本発明の意味において、少なくとも１つのゲル化剤、好ましくは前述の多糖またはカルボマーの添加は、ラメラ構造またはラメラシステムを、コンシステンシーの変化またはリゾホスファチジルコリン形成（加水分解による脂肪酸残基の除去）に対して安定させる働きをする。

【0037】

好ましいプロセスでは、油相は、第１のステップで、８３℃、好ましくは８８℃、好ましくは９２℃、特に好ましくは９７℃の最高温度まで、およびもしくは第２ステップで、７６℃、好ましくは８１℃、特に好ましくは８６℃の最高温度まで加熱され、ならびに／または水相は、第１の工程で、７２℃、好ましくは７５℃、特に好ましくは７８℃の最高温度まで加熱される。

【0038】

好ましいプロセスでは、他のＵＶ吸収物質は、ビスオクトリゾールベースのＵＶ－Ａ／ＵＶ－Ｂ吸収剤である。

【0039】

皮膚用日焼け防止配合物の調製のための本発明によるプロセスでは、水に加えて少なくとも１つの多価アルコールを含有する第２の水相が生成され、
本発明による初期配合物を少なくとも６０℃の温度で第２の水相と混合し、混合物を均質化する。

【0040】

好ましくは、第２の水相の少なくとも１つのポリアルコールは、グリセロールおよび／またはグリコール、好ましくはペンチレングリコールを含む。