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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-06-10
(45)【発行日】2024-06-18
(54)【発明の名称】プロセスライン制御システム
(51)【国際特許分類】
   B21B 37/46 20060101AFI20240611BHJP
   B21B 39/08 20060101ALI20240611BHJP
   B21C 47/00 20060101ALI20240611BHJP
【FI】
B21B37/46 110Z
B21B39/08 A
B21C47/00 F
【請求項の数】 2
(21)【出願番号】P 2021118545
(22)【出願日】2021-07-19
(65)【公開番号】P2023014541
(43)【公開日】2023-01-31
【審査請求日】2023-07-12
(73)【特許権者】
【識別番号】501137636
【氏名又は名称】株式会社TMEIC
(74)【代理人】
【識別番号】110003199
【氏名又は名称】弁理士法人高田・高橋国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】田渕 義人
【審査官】中西 哲也
(56)【参考文献】
【文献】特開2013-075304(JP,A)
【文献】特開昭58-107216(JP,A)
【文献】特開平07-148505(JP,A)
【文献】特開2001-137923(JP,A)
【文献】特開平10-094803(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
B21B 1/00-99/00
B21C 45/00-49/00
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
スキンパスミル及びテンションレベラを備えて素材を圧延するプロセスラインを制御するプロセスライン制御システムにおいて、
前記スキンパスミル及び前記テンションレベラそれぞれの下流に設けられた複数のブライドルロールに対し、素材を送る速度を当該素材にかかる張力に基づく制御量により制御する速度制御部と、
前記スキンパスミルの上流に配置されたアンチクリンピングロール、及び前記スキンパスミルの下流に配置されたアンチクロスブレーキングロールの移動量に応じて変化する素材の長さの変動量を予測する予測部と、
前記予測部が予測した変動量に基づいて、複数の前記ブライドルロールが素材を送る速度が遅くなるように、複数の前記ブライドルロールに対する前記速度制御部の制御量を補正する補正部と
を有することを特徴とするプロセスライン制御システム。
【請求項2】
前記アンチクリンピングロール及び前記アンチクロスブレーキングロールは、
複数の素材が溶接された溶接点が前記スキンパスミルを通過するときに移動すること
を特徴とする請求項に記載のプロセスライン制御システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、素材を圧延するプロセスラインを制御するプロセスライン制御システムに関する。
【背景技術】
【0002】
素材(圧延材)を圧延するプロセスラインとして、スキンパスミル(SKP)によりストリップ(圧延された素材)の形状を改善し、テンションレベラ(TL)により平坦度などを矯正するものが知られている。
【0003】
また、プロセスラインにおいて、複数本の駆動されるブライドルロールによりS字状に素材を張って、素材の張力と素材を送る速度を変化させる技術は公知である(例えば、特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開2003-275813号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、従来は、ブライドルロールが素材を送る速度を、当該素材にかかる張力を計測してフィードバック制御すると、素材に対する張力変動が生じた後に素材を送る速度を制御することとなっていた。
【0006】
このフィードバック制御では、素材に張力変動が生じ得るため、圧延された素材の品質が低下してしまうおそれがあった。例えば、プロセスライン制御システムは、素材の張力変動を検出した場合に、ストリップが破断したと誤検出してプロセスラインを停止させたり、テンションレベラによる素材の伸び率補正が過補正となるおそれがあった。
【0007】
本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、素材を圧延するプロセスラインにおける素材の張力変動を抑えて、ストリップの形状を安定させることができるプロセスライン制御システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明の一態様にかかるプロセスライン制御システムは、スキンパスミル及びテンションレベラを備えて素材を圧延するプロセスラインを制御するプロセスライン制御システムにおいて、前記スキンパスミル及び前記テンションレベラそれぞれの下流に設けられた複数のブライドルロールに対し、素材を送る速度を当該素材にかかる張力に基づく制御量により制御する速度制御部と、前記スキンパスミルの上流に配置されたアンチクリンピングロール、及び前記スキンパスミルの下流に配置されたアンチクロスブレーキングロールの移動量に応じて変化する素材の長さの変動量を予測する予測部と、前記予測部が予測した変動量に基づいて、複数の前記ブライドルロールが素材を送る速度が遅くなるように、複数の前記ブライドルロールに対する前記速度制御部の制御量を補正する補正部とを有することを特徴とする。
【0010】
また、本発明の一態様にかかるプロセスライン制御システムは、前記アンチクリンピングロール及び前記アンチクロスブレーキングロールが、複数の素材が溶接された溶接点が前記スキンパスミルを通過するときに移動することを特徴とする。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、素材を圧延するプロセスラインにおける素材の張力変動を抑えて、ストリップの形状を安定させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0012】
図1】プロセスラインと、プロセスラインを制御するプロセスライン制御システムを有する圧延システムの構成例を示す図である。
図2】(a)は、ACRが下降したときのストリップを例示する図である。(b)は、ACRが上昇したときのストリップを例示する図である。
図3】ACRの移動量と、TMからスキンパスミルまでにおけるストリップの長さとの関係を示すグラフである。
図4】速度制御部が行う制御を例示する制御ブロック図である。
図5】予測部が予測した結果に基づいて、補正部がACRに関するACR補正を生成するために行う制御を例示する制御ブロック図である。
図6】比較例の速度制御部がSKP後ブライドルロールに対して行う制御を例示する制御ブロック図である。
図7】比較例の速度制御部がTL後ブライドルロールに対して行う制御を例示する制御ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下に、図面を用いて一実施形態にかかるプロセスライン制御システムを備えた圧延システムについて説明する。図1は、プロセスライン1と、プロセスライン1を制御するプロセスライン制御システム2を有する圧延システムの構成例を示す図である。
【0014】
プロセスライン1は、例えばスキンパスミル10と、スキンパスミル10の下流に配置されたテンションレベラ11を備え、プロセスライン制御システム2の制御に応じて素材(圧延材)mを上流から下流へ送りつつ圧延する。
【0015】
スキンパスミル10の上流には、アンチクリンピングロール(ACR)100が配置されており、スキンパスミル10の下流には、アンチクロスブレーキングロール(ACBR)102が配置されている。
【0016】
ACR100及びACBR102は、それぞれ図示しない駆動部により回転して素材mを上流から下流に向けて送る。また、ACR100及びACBR102は、それぞれ上昇及び下降するように制御され、移動量に応じて素材mの張力を変化させる。
【0017】
例えば、素材mは、複数の異なる素材が溶接された溶接点を有することがある。スキンパスミル10は、素材mの溶接点が通過するときに、素材mから離れるようにロールを一回開く動作(溶接点クイックオープン)、素材mに対する圧力を溶接点に対して下げる動作(軽圧)、及び素材mに対してロールを接触させるように閉じる動作(クローズ)を行う。
【0018】
この場合、ACR100及びACBR102は、例えば素材mの溶接点がスキンパスミル10を通過するときに上昇又は下降するように移動し、素材mの溶接点における伸び率及び張力を変化させる。
【0019】
テンションレベラ11は、素材mに所定の伸び率を付与して伸び率補正を行い、素材mの平坦度不良などを解消させるように形状不良を矯正する。
【0020】
第1ブライドルロール12は、スキンパスミル10の上流に設けられたSKP前ブライドルロールである。第1ブライドルロール12は、複数本の駆動されるブライドルロールにより素材mをS字状に例えば2回張り、素材mの張力と素材mを送る速度を変化させる。なお、第1ブライドルロール12は、素材mの張力と素材mを送る速度を変化させる構成であればよく、ここでは複数本の駆動されるブライドルロールによる構成であるとする。
【0021】
第2ブライドルロール13は、スキンパスミル10の下流に設けられたSKP後ブライドルロールである。第2ブライドルロール13は、複数本の駆動されるブライドルロールにより素材mをS字状に例えば2回張り、素材mの張力と素材mを送る速度を変化させる。なお、第2ブライドルロール13は、素材mの張力と素材mを送る速度を変化させる構成であればよく、ここでは複数本の駆動されるブライドルロールによる構成であるとする。
【0022】
第3ブライドルロール14は、テンションレベラ11の下流に設けられたTL後ブライドルロールである。第3ブライドルロール14は、複数本の駆動されるブライドルロールにより素材mをS字状に例えば4回張り、素材mの張力と素材mを送る速度を変化させる。なお、第3ブライドルロール14は、素材mの張力と素材mを送る速度を変化させる構成であればよく、ここでは複数本の駆動されるブライドルロールによる構成であるとする。
【0023】
テンションメータロール(TM)15は、第1ブライドルロール12とACR100との間に配置され、素材mに対して張力を付与するとともに、素材mに対する張力を計測可能にされている。
【0024】
テンションメータロール(TM)16は、ACBR102と第2ブライドルロール13との間に配置され、素材mに対して張力を付与するとともに、素材mに対する張力を計測可能にされている。
【0025】
テンションメータロール(TM)17は、第2ブライドルロール13とテンションレベラ11との間に配置され、素材mに対して張力を付与するとともに、素材mに対する張力を計測可能にされている。
【0026】
そして、プロセスライン1は、例えばコイル状に巻かれた素材mを巻き戻して第1ブライドルロール12へ送り、第3ブライドルロール14まで素材mを送る間に圧延を行い、図示しない巻取装置により素材mを巻き取る。
【0027】
プロセスライン制御システム2は、張力計測部20,21,22、速度制御部23、予測部24、及び補正部25を有し、プロセスライン1を制御する。
【0028】
張力計測部20は、TM15を介して素材mの張力を計測し、計測した張力を速度制御部23に対して出力する。
【0029】
張力計測部21は、TM16を介して素材mの張力を計測し、計測した張力を速度制御部23に対して出力する。
【0030】
張力計測部22は、TM17を介して素材mの張力を計測し、計測した張力を速度制御部23に対して出力する。
【0031】
速度制御部23は、張力計測部20,21,22それぞれが計測した張力に基づき、後述する補正部25による補正をともなって、第2ブライドルロール13及び第3ブライドルロール14における素材mの張力及び速度を制御する。
【0032】
つまり、速度制御部23は、後述する補正部25による補正をともなって、第2ブライドルロール13及び第3ブライドルロール14それぞれに対し、素材mを送る速度を当該素材mにかかる張力に基づく制御量により制御する。
【0033】
予測部24は、ACR100及びACBR102の移動量に応じて変化する素材mの長さの変動量を予測し、予測した変動量(図3を用いて後述)を補正部25に対して出力する。
【0034】
補正部25は、予測部24が予測した変動量に基づいて、第2ブライドルロール13及び第3ブライドルロール14に対する速度制御部23の制御量を補正する。例えば、補正部25は、予測部24が予測した変動量に基づいて、第2ブライドルロール13及び第3ブライドルロール14が素材mを送る速度が遅くなるように、速度制御部23の制御量を補正する。
【0035】
次に、プロセスライン制御システム2がプロセスライン1に対して行う制御について、より具体的に説明する。
【0036】
図2は、プロセスライン1におけるACR100の移動量を示す図である。図2(a)は、ACR100が下降したときのストリップ(素材m)を例示する図である。図2(b)は、ACR100が上昇したときのストリップ(素材m)を例示する図である。
【0037】
図2(a)に示すように、ACR100が例えば下降限(高さ0)まで下降しているときには、ACR100は、ストリップの長さに影響を与えない。例えば、このときのTM15からスキンパスミル10までにおけるストリップの長さは、2726mmである。
【0038】
一方、図2(b)に示すように、ACR100が例えば230mm上昇しているときには、ACR100は、ストリップの長さを長くするように作用する。例えば、このときのTM15からスキンパスミル10までにおけるストリップの長さは、2785mmまで伸ばされている。
【0039】
なお、ACBR102が上昇又は下降する場合にストリップの長さに与える影響は、図2に示したACR100の場合と同様である。
【0040】
図3は、ACR100の移動量と、TM15からスキンパスミル10までにおけるストリップの長さとの関係を示すグラフである。図3に示すように、ACR100の移動量に応じてストリップの長さは変化する。TM15からスキンパスミル10までにおけるストリップの長さが変化すると、ストリップの張力に影響を与える。
【0041】
ここで、ACR100の移動量に対するTM15からスキンパスミル10までにおけるストリップの長さ(板長さ)は、下式(1)の近似式によって示すことが可能である。
【0042】
y=0.0011x+0.0101+2726.1 ・・・(1)
y=板長さ(mm)
x=ACR高さ(mm)、(又はACBR高さ(mm))
【0043】
なお、ACBR102の移動量に対するスキンパスミル10からTM16までにおけるストリップの長さも同様に、上式(1)の近似式によって示すことが可能である。
【0044】
よって、上述した予測部24は、上式(1)を用いて、ACR100及びACBR102の移動量に応じて変化する素材mの長さの変動量を予測する。そして、補正部25は、予測部24が予測した変動量に基づいて、第2ブライドルロール13及び第3ブライドルロール14に対する速度制御部23の制御量を補正する。
【0045】
図4は、速度制御部23が行う制御を例示する制御ブロック図である。速度制御部23は、第2ブライドルロール13及び第3ブライドルロール14それぞれに対する速度基準を生成するために、MRH(速度設定器)が出力する速度設定に対し、所定の伸率補正(%)を乗じる。
【0046】
ここで、第2ブライドルロール13及び第3ブライドルロール14それぞれに対する速度基準には、素材mに対する張力基準(張力REF)に対し、張力計測部20,21,22が計測した張力に基づくフィードバック(張力FBK)がかけられてPI制御された結果が反映されている。
【0047】
このとき、PI制御された結果には、第2ブライドルロール13及び第3ブライドルロール14それぞれに対する速度基準に反映される前に、ACBR補正を反映されたACR補正が反映されている。
【0048】
図5は、予測部24が予測した結果に基づいて、補正部25がACR100に関するACR補正を生成するために行う制御を例示する制御ブロック図である。なお、補正部25は、ACBR102に関するACBR補正を生成するために、図5の制御ブロック図に示した制御と同様の制御を行う。
【0049】
予測部24は、ACR100の位置と、ACR100の位置の変化量に基づいて、TM15とスキンパスミル10との間における素材mの長さ(板長さ)を予測する。補正部25は、図5に示した制御を行うことにより、ACR100に関するACR補正を生成する。Gは、初期値を1.0とする調整ゲインである。FGENは、Function Generatorである。
【0050】
例えば、補正部25は、ACR補正ΔS(mpm)を下式(2)によって算出する。
【0051】
ΔS(mpm)=Y1-Y2(mm/s) ・・・(2)
=0.0011X1-0.0011X2
=0.0011(X1-X2
【0052】
ただし、板長さY1と、例えば1秒後の板長さY2は、下式(3)、(4)によって示されることとする。
【0053】
Y1=0.0011X1+0.0101+2726.1 ・・・(3)
Y2=0.0011X2+0.0101+2726.1 ・・・(4)
【0054】
例えば、ACR100が100mmの位置から120mmの位置に上昇する動作をするとき、補正部25は、現在のACR動作速度(例えば20mm/s)を用いて、1秒後の板長さを算出する。
【0055】
ACR100が100mmの位置(X1)にあるとき、FGEN回路が出力する板長さY1は、2738mmとなる。
【0056】
ACR100が120mmの位置(X2)にあるとき、FGEN回路が出力する板長さY2は、2743mmとなる。
【0057】
そして、補正部25は、上式(2)を用いて、2738-2743=-5を算出する。つまり、補正部25は、第2ブライドルロール13及び第3ブライドルロール14に対して速度制御部23が5(mm/s)に相当する補正を行うように、ACR補正及びACBR補正を算出する。
【0058】
このように、プロセスライン制御システム2は、予測部24がACR100及びACBR102の移動量に応じて変化する素材mの長さの変動量を予測し、予測部24が予測した変動量に基づいて、補正部25が第2ブライドルロール13及び第3ブライドルロール14に対する速度制御部23の制御量を補正するので、プロセスライン1における素材mの張力変動を抑えて、素材mの形状を安定させることができる。
【0059】
つまり、プロセスライン制御システム2は、スキンパスミル10の上流及び下流におけるストリップの張力変動を抑え、テンションレベラ11によるストリップの伸び率変動を抑えることができ、ストリップの形状を安定させることができる。
【0060】
なお、プロセスライン制御システム2が有する各機能は、それぞれ一部又は全部がPLD(Programmable Logic Device)やFPGA(Field Programmable Gate Array)等のハードウェアによって構成されてもよいし、CPU等のプロセッサが実行するプログラムとして構成されてもよい。
【0061】
次に、プロセスライン制御システムが備える比較例の速度制御部が行う制御について説明する。図6は、比較例の速度制御部がSKP後ブライドルロールに対して行う制御を例示する制御ブロック図である。図7は、比較例の速度制御部がTL後ブライドルロールに対して行う制御を例示する制御ブロック図である。
【0062】
図6に示すように、比較例の速度制御部は、SKP後ブライドルロールに対する速度基準を生成するために、MRH(速度設定器)が出力する速度設定に対し、所定のSKP伸率補正(%)を乗じる。
【0063】
ここで、SKP後ブライドルロールに対する速度基準には、素材に対する張力基準(張力REF)に対し、素材の張力に基づくフィードバック(張力FBK)がかけられてPI制御された結果が反映されている。
【0064】
このように、比較例の速度制御部は、素材の張力変化に基づくフィードバック制御によってSKP後ブライドルロールに対する速度基準を生成するために、素材の張力変動自体は起きてしまい、素材の圧延品質を低下させるおそれがあった。
【0065】
また、図7に示すように、比較例の速度制御部は、TL後ブライドルロールに対する速度基準を生成するために、MRH(速度設定器)が出力する速度設定に対し、所定のTL伸率補正(%)を乗じる。
【0066】
ここで、TL後ブライドルロールに対する速度基準には、素材に対する張力基準(張力REF)に対し、素材の張力に基づくフィードバック(張力FBK)がかけられてPI制御された結果が反映されている。
【0067】
このように、比較例の速度制御部は、素材の張力変化に基づくフィードバック制御によってTL後ブライドルロールに対する速度基準を生成するために、素材の伸び率変動自体は起きてしまい、素材の圧延品質を低下させるおそれがあった。
【0068】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は、上記の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
【符号の説明】
【0069】
1・・・プロセスライン、2・・・プロセスライン制御システム、10・・・スキンパスミル、11・・・テンションレベラ、12・・・第1ブライドルロール、13・・・第2ブライドルロール、14・・・第3ブライドルロール、15,16,17・・・テンションメータロール(TM)、20,21,22・・・張力計測部、23・・・速度制御部、24・・・予測部、25・・・補正部、100・・・アンチクリンピングロール(ACR)、102・・・アンチクロスブレーキングロール(ACBR)
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7