特許 7502067 イオナイザーおよび除電システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-06-10

(45)【発行日】2024-06-18

(54)【発明の名称】イオナイザーおよび除電システム

(51)【国際特許分類】

   H05F 3/06 20060101AFI20240611BHJP

【ＦＩ】

H05F3/06

【請求項の数】 9

(21)【出願番号】P 2020066651

(22)【出願日】2020-04-02

(65)【公開番号】P2021163692

(43)【公開日】2021-10-11

【審査請求日】2023-02-17

【前置審査】

(73)【特許権者】

【識別番号】000236160

【氏名又は名称】株式会社テクノ菱和

(74)【代理人】

【識別番号】100081961

【弁理士】

【氏名又は名称】木内 光春

(74)【代理人】

【識別番号】100112564

【弁理士】

【氏名又は名称】大熊 考一

(74)【代理人】

【識別番号】100163500

【弁理士】

【氏名又は名称】片桐 貞典

(74)【代理人】

【識別番号】230115598

【弁護士】

【氏名又は名称】木内 加奈子

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 政典

(72)【発明者】

【氏名】川瀬 信雄

【審査官】片岡 弘之

(56)【参考文献】

【文献】特開２００８－０８４７４６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－１１２０８５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１０－５２７０２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００４－２５３１９２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０５Ｆ ３／０６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

チャンバと、
前記チャンバ内にイオン搬送ガスを供給するエア供給路と、
前記チャンバの内部に水の微粒子を生成するように配置された超音波式霧化装置と、
前記チャンバの内部に軟Ｘ線を照射するように配置された軟Ｘ線発生装置と、
前記チャンバ内にて生成されたイオン化気流を搬送する搬送路と、を有し、
前記超音波式霧化装置が超音波アトマイザであり、
前記超音波アトマイザは、ノズルヘッドが前記チャンバの内部に突出するように設けられ、
前記ノズルヘッドの周囲には保護円筒が設けられ、
前記保護円筒は、前記ノズルヘッドの端部が、前記保護円筒内部に位置するように形成されるイオナイザー。

【請求項2】

チャンバと、
前記チャンバ内にイオン搬送ガスを供給するエア供給路と、
前記チャンバの内部に水の微粒子を生成するように配置された超音波式霧化装置と、
前記チャンバの内部に軟Ｘ線を照射するように配置された軟Ｘ線発生装置と、
前記チャンバ内にて生成されたイオン化気流を搬送する搬送路と、を有し、
前記超音波式霧化装置が底部に超音波振動子が取り付けられた容器であり、
前記超音波振動子はセラミックス製の振動板、または、有機物または無機物でコーティングされた金属製の振動板、であり、
前記容器の内面が樹脂であるイオナイザー。

【請求項3】

前記超音波式霧化装置と、前記軟Ｘ線発生装置とが、前記チャンバの対向する２つの側面に配置され、
前記超音波式霧化装置が生成した水の微粒子に対して、軟Ｘ線が直接照射される請求項１又は２記載のイオナイザー。

【請求項4】

前記チャンバは、
微粒子発生チャンバと、
前記微粒子発生チャンバの下流側に接続された軟Ｘ線照射チャンバと、を含み、
前記微粒子発生チャンバには、前記エア供給路と前記超音波式霧化装置が設けられ、
前記軟Ｘ線照射チャンバには、前記軟Ｘ線発生装置と前記搬送路が設けられている請求項１又は２記載のイオナイザー。

【請求項5】

前記搬送路には、前記搬送路を流れる前記イオン化気流に含まれる水の微粒子の粒径を計測するパーティクルカウンターが設けられている請求項１～４いずれか一項記載のイオナイザー。

【請求項6】

前記チャンバは、開口を有し、
前記開口には、前記軟Ｘ線を透過させる照射窓が設けられ、
前記軟Ｘ線発生装置は、前記照射窓を介して、前記チャンバの内部に前記軟Ｘ線を照射するように構成されている請求項１～５いずれか一項記載のイオナイザー。

【請求項7】

前記保護円筒は、前記ノズルヘッドの端部から前記保護円筒の端部までの距離をＬとし、前記保護円筒の内径をｄとした場合、Ｌ≧ｄとなるように構成される請求項１記載のイオナイザー。

【請求項8】

前記チャンバの底部に貯まった水が排出される開口が、前記チャンバの下面に設けられている請求項１又は７記載のイオナイザー。

【請求項9】

イオナイザーと、前記イオナイザーに接続された制御装置と、を有する除電システムで
あって、
前記イオナイザーは、
チャンバと、
前記チャンバ内にイオン搬送ガスを供給するエア供給路と、
前記チャンバの内部に水の微粒子を生成するように配置された超音波式霧化装置と、
前記チャンバの内部に軟Ｘ線を照射するように配置された軟Ｘ線発生装置と、
前記チャンバ内にて生成されたイオン化気流を搬送する搬送路と、を有し、
前記搬送路には、前記搬送路を流れる前記イオン化気流に含まれる水の微粒子の粒径を計測するパーティクルカウンターが設けられ、
前記制御装置は、
前記パーティクルカウンターが計測した水の微粒子の粒径に基づいて、前記超音波式霧化装置の発振器の周波数を制御する除電システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、イオン化された気体を搬送して除電対象となる帯電体を除電するイオナイザーおよび除電システムに関する。

【背景技術】

【0002】

一般的に、半導体や薄型表示パネル（ＦＰＤ）などの生産環境では帯電体となる製品から静電気を除去することが重要である。このため、除電装置としてイオナイザーが広く使用されている。例えば、コロナ放電式のイオナイザーは、電極に高電圧を印加してコロナ放電を発生させ、電極付近の空気をイオン化させるものであり、このイオンを除電対象となる帯電体に送って、帯電体上の電荷を逆極性のイオンで中和するようになっている。

【0003】

また、静電気除電は、半導体洗浄装置等の狭所において行われることも多い。このような場合には、半導体洗浄装置等の外部に、イオン発生チャンバを設け、チャンバ内で発生させた正負イオンを、細い搬送チューブを用いて半導体洗浄装置内部の除電対象箇所に供給するイオン搬送式のイオナイザーを用いる。イオン搬送式イオナイザーでは、例えば、エアと純水を用いて微細ミストを発生させ、このミストに対して正負イオンを付着させ粗大荷電粒子を生成する方式を用いるものがある。このようなイオン搬送式のイオナイザーにおいても、コロナ放電は適用されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２００４－２５３１９２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかし、このコロナ放電を用いたイオナイザーでは、空気中の酸素がオゾンとなる反応が起き、帯電体表面を酸化させたり空気中の微量の不純物と反応して２次粒子が発生する可能性がある。また、放電電極自体の摩耗あるいは不純物の析出により放電電極から発塵が起きる、といった問題点が指摘されている。

【0006】

コロナ放電を用いた従来のイオン搬送式イオナイザーでは、エア搬送中に正負イオンの再結合が生じ、イオン量が著しく減少してしまう。また、静電拡散により、搬送チューブの内壁にイオンが付着することも考えられる。他にも微細ミストの発生には多量のエアが用いられることもあり、従来のイオン搬送式イオナイザーを用いて、半導体洗浄装置等の内部の除電対象箇所に対して、イオンを細い搬送チューブで搬送して供給することは困難であった。

【0007】

本発明は、上述したような従来技術の問題点を解決するために提案されたものである。その目的は、イオン搬送を用いた場合であっても除電性能を向上することができるイオナイザーおよび除電システムを提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記の目的を達成するために、本発明のイオナイザーは、以下の特徴を有する。
（１）チャンバと、前記チャンバ内にイオン搬送ガスを供給するエア供給路と、前記チャンバの内部に水の微粒子を生成するように配置された超音波式霧化装置と、前記チャンバの内部に軟Ｘ線を照射するように配置された軟Ｘ線発生装置と、前記チャンバ内にて生成されたイオン化気流を搬送する搬送路と、を有し、前記超音波式霧化装置が超音波アトマイザであり、前記超音波アトマイザは、ノズルヘッドが前記チャンバの内部に突出するように設けられ、前記ノズルヘッドの周囲には保護円筒が設けられ、前記保護円筒は、前記ノズルヘッドの端部が、前記保護円筒内部に位置するように形成される。
（２）チャンバと、前記チャンバ内にイオン搬送ガスを供給するエア供給路と、前記チャンバの内部に水の微粒子を生成するように配置された超音波式霧化装置と、前記チャンバの内部に軟Ｘ線を照射するように配置された軟Ｘ線発生装置と、前記チャンバ内にて生成されたイオン化気流を搬送する搬送路と、を有し、前記超音波式霧化装置が底部に超音波振動子が取り付けられた容器であり、前記超音波振動子はセラミックス製の振動板、または、有機物または無機物でコーティングされた金属製の振動板、であり、前記容器の内面が樹脂である。

【0009】

（３）前記超音波式霧化装置と、前記軟Ｘ線発生装置とが、前記チャンバの対向する２つの側面に配置され、前記超音波式霧化装置が生成した水の微粒子に対して、軟Ｘ線が直接照射されていても良い。

【0010】

（４）前記チャンバは、微粒子発生チャンバと、前記微粒子発生チャンバの下流側に接続された軟Ｘ線照射チャンバと、を含み、前記微粒子発生チャンバには、前記エア供給路と前記超音波式霧化装置が設けられ、前記軟Ｘ線照射チャンバには、前記軟Ｘ線発生装置と前記搬送路が設けられていても良い。

【0011】

（５）前記搬送路には、前記搬送路を流れる前記イオン化気流に含まれる水の微粒子の粒径を計測するパーティクルカウンターが設けられていても良い。

【0012】

（６）前記チャンバは、開口を有し、前記開口には、前記軟Ｘ線を透過させる照射窓が設けられ、前記軟Ｘ線発生装置は、前記照射窓を介して、前記チャンバの内部に前記軟Ｘ線を照射するように構成されていても良い。

【0014】

（７）前記保護円筒は、前記ノズルヘッドの端部から前記保護円筒の端部までの距離をＬとし、前記保護円筒の内径をｄとした場合、Ｌ≧ｄとなるように構成されていても良い。

【0015】

（８）前記チャンバの底部に貯まった水が排出される開口が、前記チャンバの下面に設けられていても良い。

【0017】

なお、上記の各形態は、除電システムの発明としても捉えることができる。

【発明の効果】

【0018】

本発明によれば、イオン搬送を用いた場合であっても除電性能を向上させることができるイオナイザーおよび除電システムを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】第１の実施形態にかかるイオナイザーの一例を示す構成図である。

【図2】超音波アトマイザの保護円筒の構成を示す断面図である。

【図3】第１の実施形態にかかるイオナイザーの変形例を示す構成図である。

【図4】第２の実施形態にかかるイオナイザーの一例を示す構成図である。

【図5】第２の実施形態にかかるイオナイザーの変形例を示す構成図である。

【図6】除電性能確認実験に用いた実験装置の概要を示す構成図である。

【図7】照射窓保護カバーの構成を示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

［第１の実施形態］
［構成］
本発明に係るイオナイザーＡの実施形態について図面を参照しつつ説明する。イオナイザーＡは、イオン化気流をワーク等の除電対象となる帯電体Ｅに対して供給し、帯電体Ｅを除電する装置である。以下の説明は、イオナイザーＡの構成と、制御装置とを有する除電システムの説明として捉えることもできる。

【0021】

制御装置は、後述の通り、イオナイザーＡの各構成要素に接続されている。制御装置は、ＣＰＵやメモリを含み所定のプログラムで動作するコンピューターや専用の電子回路で構成される。制御装置は、入力部および出力部を有してよく、オペレータは入力部を介して設定値の入力や変更を行うことが可能である。また、出力部は、設定値等をオペレータに確認または選択させる画面を表示しても良い。

【0022】

図１に示す通り、イオナイザーＡは、エア供給路１０、チャンバ２０、超音波アトマイザ３０、軟Ｘ線発生装置４０、搬送路５０を有する。以下の説明では、気体が供給される側を上流側、気体が排出される側を下流側と表現する場合がある。また、イオン化気流とは、イオン化された気体と正負イオンにより荷電された微細ミスト（荷電粒子）を含む気体のことである。

【0023】

（エア供給路）
エア供給路１０は、チャンバ２０に対して気体を供給する気体供給管である。エア供給路１０は、具体的にはパイプであっても良く、またチューブであることもできる。チャンバ２０に対して供給される気体としては、空気、高純度Ｎ_２ガス等の非反応性ガスがある。以下、チャンバ２０に対して供給される気体を、イオン搬送ガスと表現する。

【0024】

エア供給路１０には、上流側から、エアポンプ１１、流量調整バルブ１２、流量計１３、およびフィルタ１４が設けられている。そして、エア供給路１０の最下流端は、チャンバ２０のエア供給口２１に接続されている。エアポンプ１１は、イオン搬送ガスを下流側に排出してチャンバ２０にイオン搬送ガスを供給するためのポンプである。エアポンプ１１の代わりに、コンプレッサを用いても良い。流量調整バルブ１２は、エアポンプ１１によるイオン搬送化ガスの供給量を調整するための弁である。エアポンプ１１と流量調整バルブ１２は、不図示の制御装置に接続されており、この制御装置からの制御信号により、エアポンプ１１の流量や流量調整バルブ１２の開度が制御される。イオン搬送ガスの流量は、搬送路５０の直径により異なるが、例えば搬送路５０の内径を１０ｍｍとした場合には、６０～８０Ｌ／ｍｉｎとすると、帯電体Ｅを除電するために最適な荷電粒子量を搬送できると考えらえる。

【0025】

流量計１３は、エア供給路１０を流れるイオン搬送ガスの流量を測定する計測器である。流量計１３も、不図示の制御装置に接続されてよく、この制御装置が流量計１３の値を参照し、エアポンプ１１の流量および流量調整バルブ１２の開度を制御する構成とすることができる。エア供給路１０を流れるイオン搬送ガスの流速は、チャンバ２０内を流れるイオン搬送ガスの流速が５ｍ/ｓｅｃ以下となるように調整することが好ましい。この流速とすることで、チャンバ２０から排出されるイオン化気流を、数ｍ先まで搬送することが可能となる。フィルタ１４は、チャンバ２０に供給される直前の気体から塵埃などを取り除き、イオン搬送ガスを清浄ガスとする気体濾過器である。

【0026】

（チャンバ）
チャンバ２０は、荷電粒子の発生を行う立方体の室である。チャンバ２０の形状は立方体に限定されず、筒状等、他の形状とすることができる。チャンバ２０の一側面にはエア供給口２１が設けられ、エア供給口２１にエア供給路１０が接続され、イオン搬送ガスがチャンバ２０内に供給される。また、チャンバ２０の他側面には、エア搬送口２２が設けられている。

【0027】

そして、チャンバ２０の下面には、開口２３が設けられている。この開口２３を介して、チャンバ２０の下面には超音波アトマイザ３０が設けられている。なお、開口２３とは別に、チャンバ２０の下面に排水用の開口を設け、チャンバ２０の底部に貯まった水を排出する構成としても良い。また、チャンバ２０の上面には、開口２４が設けられている。この開口２４を介して、チャンバ２０の上面には軟Ｘ線発生装置４０が設けられている。なお、開口２４には、軟Ｘ線を透過させる照射窓２４ａが設けられている。軟Ｘ線を透過させる照射窓２４ａとしては、ベリリウム板やカプトン（ポリイミド）板がある。

【0028】

（超音波アトマイザ）
超音波アトマイザ３０は、超音波式霧化装置であって、超音波により液体表面を振動させ、水の微粒子を発生させる噴霧装置である。本実施形態における微粒子とは、イオン搬送ガスが帯電体Ｅまでイオンにより荷電された水の微粒子を搬送する際に、途中で気化せず、また、落下もしない程度の粒径を有する粒子を意味する。例えば、搬送路５０の長さを約３ｍとした場合には、０．０１μｍオーダーの微粒子は気化し、５μｍを超える微粒子は落下すると考えられる。なお、図１の例では、１つの超音波アトマイザ３０が設けられているが、チャンバ２０内に生成される水の微粒子の量を増大させるために、複数の超音波アトマイザ３０を設ける構成としても良い。

【0029】

超音波アトマイザ３０は、チャンバ２０の下面に設けられた開口２３から、チャンバ２０の内部に超音波アトマイザ３０のノズルヘッド部分が突出するように設けられている。この超音波アトマイザ３０には、発振器３１および純水供給路３２が接続されている。発振器３１は、超音波アトマイザ３０が有する振動子を振動させるように所定の周波数にて振動を発する装置である。発振器３１は、不図示の制御装置に接続され、この制御装置により周波数等が制御される。発振器３１の周波数は、数１００ｋＨｚ～数ＭＨｚの間で条件に併せて設定すればよい。

【0030】

純水供給路３２は、超音波アトマイザ３０に対して純水を供給する液体供給管である。純水供給路３２には、純水タンク３３が接続されている。純水タンク３３の代わりに、純水供給路３２に純水生成装置を接続する構成としても良い。そして、純水供給路３２には、ポンプ３４および流量調整バルブ３５が設けられている。本実施形態では純水が超音波アトマイザ３０に供給される構成を一例として示すが、超音波アトマイザ３０に供給される液体は、導電率が３０～５０μＳ／ｃｍ以下の水であればよい。

【0031】

ポンプ３４は、純水を純水供給路３２側に排出して超音波アトマイザ３０に純水を供給するためのポンプである。流量調整バルブ３５は、ポンプ３４による純水の供給量を調整するための弁である。ポンプ３４と流量調整バルブ３５は、不図示の制御装置に接続されており、この制御装置からの制御信号により、ポンプ３４の流量や流量調整バルブ３５の開度が制御される。ポンプ３４の流量は、３０～１００ｍＬ／ｈｒとすると良い。以上の構成により、超音波アトマイザ３０は、純水の微粒子をチャンバ２０内に発生させる。

【0032】

本実施形態の超音波アトマイザ３０のノズルヘッドの構成を、図２を参照してさらに説明する。超音波アトマイザ３０は、ノズルヘッドの周囲に保護円筒３０ａを有する。保護円筒３０ａは、超音波アトマイザ３０の一部としてノズルヘッドに接続されていても良い。または、保護円筒３０ａは、チャンバ２０の下面において、超音波アトマイザ３０のノズルヘッドが突出する開口２３の近傍に、チャンバ２０から立ち上がるように構成されていても良い。

【0033】

保護円筒３０ａは、超音波アトマイザ３０のノズルヘッドの端部が、保護円筒３０ａ内部に位置するように形成される。具体的には、ノズルヘッドの開口２３から突出している部分の高さよりも、保護円筒３０ａの高さが高くなるように構成されている。すなわち、超音波アトマイザ３０のノズルヘッドは、保護円筒３０ａから突出しない。

【0034】

イオン搬送ガスの流速がおよそ５ｍ／ｓｅｃ以上となるような高速気流中では、超音波アトマイザ３０で霧化を行うことが困難となる。したがって、超音波アトマイザ３０のノズルヘッドの端部が、保護円筒３０ａ内部に位置するように配置することで、超音波アトマイザ３０のノズルヘッドに高速気流が到達し霧化を阻害することが防止される。

【0035】

さらに、保護円筒３０ａは、超音波アトマイザ３０のノズルヘッドの端部から保護円筒３０ａの端部までの距離をＬとし、保護円筒３０ａの内径をｄとした場合、Ｌ≧ｄとなるように構成されていることが好ましい。ただし、装置の構成により±１ｍｍ程度の誤差を含むと考えられる。すなわち、例えば、保護円筒３０ａの内径ｄが１３．５ｍｍである場合に、距離Ｌが１３ｍｍであった場合にも、Ｌ≧ｄと同様の効果が得られる。誤差内であればＬ≦ｄとなるように構成した場合であっても、保護円筒３０ａ内に高速気流が流れ込んだとしても、超音波アトマイザ３０のノズルヘッドに届くことを防止する。

【0036】

また、超音波アトマイザ３０のノズルの接液部を、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイミド、ＰＥＥＫ等の樹脂でコーティングしても良い。超音波アトマイザ３０のノズルはステンレス等の金属で形成されている。そのため、純水に金属イオンが溶出し、金属汚染を引き起こす可能性がある。超音波アトマイザ３０のノズル接液部を樹脂でコーティングすることにより、金属汚染が防止される。

【0037】

（軟Ｘ線発生装置）
軟Ｘ線発生装置４０は、超音波アトマイザ３０により生成された純水の微粒子の近傍に軟Ｘ線を照射して軟Ｘ線で発生した正負イオンを付着させ、純水の微粒子を粗大荷電粒子化するイオン化装置である。軟Ｘ線とは、３～９．５ｋｅＶ程度のエネルギーを有し、厚さ２ｍｍ程度の塩化ビニル板で容易に遮蔽できる程度の微弱なＸ線である。軟Ｘ線発生装置４０は、チャンバ２０の上面に設けられた開口２４の上方に、チャンバ２０の外部に突出するように配置されている。

【0038】

軟Ｘ線発生装置４０は、開口２４に設けられた照射窓２４ａを介して、軟Ｘ線をチャンバ２０内に照射するように構成される。本実施形態では、超音波アトマイザ３０と軟Ｘ線発生装置４０が対向するように配置され、超音波アトマイザ３０が生成した純水の微粒子に対して、軟Ｘ線が直接照射されるように構成されている。直接照射される、とは、生成直後の純水の微粒子の近傍のイオン搬送ガスに軟Ｘ線が照射され、瞬時に正負イオンが純水の微粒子に付着し、粗大荷電粒子が生成されることを意味する。軟Ｘ線により生成された正負イオンが付着して純水の微粒子は粗大荷電粒子化し、イオン化されたイオン搬送ガスにより搬送される粗大荷電粒子を含むイオン化気流となる。

【0039】

（搬送路）
搬送路５０は、チャンバ２０にて生成された粗大荷電粒子を含むイオン化気流を、帯電体Ｅに供給する気体搬送路である。搬送路５０は、具体的にはチューブ状の搬送路であり、例えば、樹脂製のチューブを用いて良い。搬送路５０の一端はチャンバ２０の搬送口２２が接続され、イオン化気流を搬送路５０の他端側に位置する帯電体Ｅに供給する。搬送路５０には、パーティクルカウンター５１が設けられている。

【0040】

パーティクルカウンター５１は、搬送路５０を流れるイオン化気流に含まれる純水の微粒子の粒径を計測する光学式の計測器である。パーティクルカウンター５１も、不図示の制御装置に接続されてよく、この制御装置がパーティクルカウンター５１の値を参照し、超音波アトマイザ３０の発振器３１の周波数を制御する構成とすることができる。超音波アトマイザ３０が生成する水の微粒子の粒径は、発振器３１の周波数に依存する。そのため、粒径を検出してフィードバックし、発振器３１の周波数を変更することで、所望の粒径の水の微粒子が得られる。

【0041】

［第１の実施形態の変形例］
上記第１の実施形態では、超音波アトマイザ３０を用いて、チャンバ２０内に水の微粒子を噴霧する構成とした。ただし、超音波式霧化装置としては、図３に示す通り、チャンバ２０の下面に設けられた容器６０を用いることもできる。容器６０は、有底の円筒形の金属または樹脂から形成された容器であり、その底部に超音波振動子６１が取り付けられている。

【0042】

容器６０の内周面は、ポリテトラフルオロエチレン、塩化ビニル、フッ化ビニリデン、シリコーン、ポリイミド、ＰＥＥＫ等により樹脂コーティングされている。樹脂コーティングの厚みは５０～３００μｍとするとよい。なお、容器６０を樹脂で形成した場合には、樹脂コーティングを施さなくともよい。すなわち、樹脂コーティングの有無を問わず、容器６０の内面が樹脂であれば良い。また、容器６０の開口部は、チャンバ２０の下面に接続されている。

【0043】

また、超音波振動子６１は、セラミックス製の振動板である。なお、超音波振動子６１としては、金属板の超音波振動子を無機物または有機物でコーティングしたものを用いても良い。コーティング材は、水と反応しにくく、絶縁性を有する材料が好ましい。例えば、コーティングに用いる無機物としては、アルミナ、ＡｌＮ、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｙ_２Ｏ_３、Ｚｒ_２Ｏ_３、ＭｇＯ・ＳｉＯ_２、３Ａｌ_２Ｏ_３・２ＳｉＯ_２、２ＭｇＯ・２Ａｌ_２Ｏ_３・５ＳｉＯ_２、ダイヤモンドライクカーボンなどが挙げられる。また、コーティングに用いる有機物としては、ポリテトラフルオロエチレン、塩化ビニル、フッ化ビニリデン、シリコーン、ポリイミド、ＰＥＥＫ等が挙げられる。なお、コーティングした超音波振動子６１の表面を、必要に応じて研磨して用いても良い。

【0044】

超音波振動子６１には、発振器６２および純水供給路６３が接続されている。発振器６２は、超音波振動子６１を振動させるように所定の周波数にて振動を発する装置である。発振器６２は、不図示の制御装置に接続され、この制御装置により周波数等が制御される。発振器３１の周波数は、数１００ｋＨｚ～数ＭＨｚの間で条件に併せて設定すればよい。なお、チャンバ２０内に生成される水の微粒子の量を増大させるために、複数の超音波振動子を容器６０内に設けても良い。

【0045】

純水供給路６３は、容器６０に対して純水を供給する液体供給管である。純水供給路６３には、不図示の純水タンクまたは純水生成装置を接続されている。純水供給路６３には、ポンプ６４および流量調整バルブ６５が設けられている。ポンプ６４および流量調整バルブ６５は、上記実施形態のポンプ３４および流量調整バルブ３５と同様の構成を有している。本実施形態では純水が容器６０に供給される構成を一例として示すが、容器６０に供給される液体は、導電率が３０～５０μＳ／ｃｍ以下の水であればよい。

【0046】

第１の実施形態の変形例においては、容器６０内に供給された水に、超音波振動子により振動を与えることで、指向性を持った音の放射圧により液柱が立ち上る。その液柱表面に表面波（キャピラリー波）が発生し、それによる水の衝突・引きちぎり合う力が水の表面張力に打ち勝って水が微粒化される。そして、容器６０と対向するように配置された軟Ｘ線発生装置により、容器６０から生成された純水の微粒子に対して、軟Ｘ線が直接照射されるように構成される。直接照射される、とは、生成直後の純水の微粒子の近傍のイオン搬送ガスに対して軟Ｘ線が照射され、瞬時に正負イオンが純水の微粒子に付着し、粗大荷電粒子が生成されることを意味する。

【0047】

［作用効果］
以上のような本実施形態のイオナイザーＡの作用効果は、以下の通りである。
（１）チャンバ２０と、チャンバ２０内にイオン搬送ガスを供給するエア供給路１０と、チャンバ２０の内部に水の微粒子を生成するように配置された超音波式霧化装置と、チャンバ２０の内部に軟Ｘ線を照射するように配置された軟Ｘ線発生装置４０と、チャンバ２０内にて生成されたイオン化気流を搬送する搬送路５０と、を有する。

【0048】

上述の通り、コロナ放電を用いた従来のイオナイザーでは、オゾンの発生や、不純物の析出等の問題があった。しかし、本実施形態のイオナイザーＡでは、軟Ｘ線を照射する軟Ｘ線発生装置４０が設けられている。そのため、オゾンが発生することがなく、また、発塵も生じない。

【0049】

軟Ｘ線は、単位面積当たりのイオン濃度が非常に高い。そのため、超音波式霧化装置で生成した水の微粒子を、効率的に荷電することが可能である。また、水の微粒子に軟Ｘ線で生成した正負イオンを付着させ粗大化することにより、イオンの移動速度が低下する。そのため、正負の荷電粒子の再結合による荷電粒子量の減少が防止される。

【0050】

また、超音波式霧化装置で生成した水の微粒子を荷電した場合、大きな水の微粒子は、チャンバ２０内で落下し、５μｍ以下の微粒子、特には１μｍ以下の微粒子が搬送路５０に導入されると考えられる。チャンバ２０および搬送路５０内で気化する微粒子もあるが、例えば約３ｍの搬送路５０を用いた場合でも、帯電体Ｅにイオン化気流を搬送することが可能となる。したがって、本実施形態のイオナイザーＡによれば、イオン搬送を用いた場合であっても除電性能を向上させることができるイオナイザーおよび除電システムを提供することが可能となる。

【0051】

（２）超音波式霧化装置と、軟Ｘ線発生装置４０とが、チャンバ２０の対向する２つの側面に配置され、超音波式霧化装置が生成した水の微粒子に対して、軟Ｘ線が直接照射される。

【0052】

超音波式霧化装置と、軟Ｘ線発生装置４０とを、チャンバ２０の対向する側面にそれぞれ配置することで、荷電粒子を１つのチャンバ２０内で生成することが可能となる。また、超音波式霧化装置が生成した水の微粒子に対して、軟Ｘ線発生装置４０が軟Ｘ線を直接照射することにより、効率よく水の微粒子を荷電することが可能となる。

【0053】

（３）搬送路５０には、搬送路５０を流れるイオン化気流に含まれる水の微粒子の粒径を計測するパーティクルカウンター５１が設けられている。

【0054】

搬送路５０にパーティクルカウンター５１を設け、搬送される水の微粒子の粒径を計測することで、制御装置がパーティクルカウンター５１の値を参照し、超音波式霧化装置の発振器の周波数を制御することが可能となる。超音波式霧化装置が生成する水の微粒子の粒径は、発振器の周波数に依存するめ、粒径を検出してフィードバックし、発振器の周波数を変更することで、所望の粒径の水の微粒子が得られる。この構成により、超音波式霧化装置が帯電体Ｅまで搬送可能な粒径を有する水の微粒子を生成することが可能となり、除電性能がさらに向上する。

【0055】

（４）チャンバ２０は、開口２４を有し、開口２４には、軟Ｘ線を透過させる照射窓２４ａが設けられ、軟Ｘ線発生装置４０は、照射窓２４ａを介して、チャンバ２０の内部に軟Ｘ線を照射するように構成されている。

【0056】

軟Ｘ線発生装置４０は、それ自体が照射窓を有しており、この照射窓を介して軟Ｘ線を照射する構成となっている。したがって、例えばチャンバ２０に開口を設け、この開口に直接軟Ｘ線発生装置４０の照射窓を配置して、チャンバ２０内部に軟Ｘ線を照射する構成とすることもできる。しかし、その場合には、超音波式霧化装置が生成した水の微粒子が、軟Ｘ線発生装置４０の照射窓に付着し、軟Ｘ線照射装置４０に不具合が生じるおそれがある。したがって、チャンバ２０の開口２４に照射窓２４ａを設けることにより、軟Ｘ線発生装置４０を保護しつつ、チャンバ２０内部に軟Ｘ線を照射することが可能となる。

【0057】

（５）超音波式霧化装置が超音波アトマイザ３０であり、超音波アトマイザ３０は、ノズルヘッドがチャンバ２０の内部に突出するように設けられ、ノズルヘッドの周囲には保護円筒３０ａが設けられ、保護円筒３０ａは、ノズルヘッドの端部が、保護円筒３０ａ内部に位置するように形成される。

【0058】

超音波アトマイザ３０はコンパクトで霧化効率が良く、イオナイザーをシンプルな構成にできる。また、超音波アトマイザ３０は、狙った位置に噴霧可能であるため、より確実に軟Ｘ線を照射でき、イオン化効率が高まる。超音波アトマイザ３０のノズルヘッドの端部が、保護円筒３０ａの内部に位置するように保護円筒３０ａを形成することで、超音波アトマイザ３０のノズルヘッドを高速気流から守り、高速気流による霧化の阻害を防止できる。したがって、超音波アトマイザ３０が確実に水の微粒子を生成することが可能となる。

【0059】

（６）保護円筒３０ａは、ノズルヘッドの端部から保護円筒３０ａの端部までの距離をＬとし、保護円筒３０ａの内径をｄとした場合、Ｌ≧ｄとなるように構成される。

【0060】

Ｌ≧ｄとなるように構成することで、保護円筒３０ａ内に高速気流が流れ込んだとしても、超音波アトマイザ３０のノズルヘッドに届くことをより確実に防止できる。したがって、確実に霧化を行うことが可能となる。

【0061】

（７）超音波式霧化装置が底部に超音波振動子６１が取り付けられた容器６０であり、超音波振動子６１はセラミックス製の振動板であり、容器６０の内面が樹脂である。

【0062】

超音波式霧化装置を、底部に超音波振動子６１が取り付けられた容器６０とする場合には、超音波振動子６１をセラミックス製の振動板とし、容器６０の内面を樹脂とすることにより、容器６０内の水等に金属イオンが溶出し、金属汚染を引き起こすことを防止できる。超音波振動子６１をセラミックス製とし、容器６０の内面を樹脂とすることは、超音波アトマイザ３０のノズルを樹脂コーティングすることと比較すれば、技術的に容易である。したがって、より低コストで製造が容易なイオナイザーＡを提供することが可能となる。

【0063】

また、以上のような本実施形態の除電システムの作用効果は、以下のとおりである。
（１）イオナイザーＡと、イオナイザーＡに接続された制御装置と、を有する除電システムであって、イオナイザーＡは、チャンバ２０と、チャンバ２０内にイオン搬送ガスを供給するエア供給路１０と、チャンバ２０の内部に水の微粒子を生成する超音波式霧化装置と、チャンバ２０の内部に軟Ｘ線を照射する軟Ｘ線発生装置４０と、チャンバ２０内にて生成されたイオン化気流を搬送する搬送路５０と、を有し、搬送路５０には、搬送路５０を流れるイオン化気流に含まれる水の微粒子の粒径を計測するパーティクルカウンター５１が設けられ、制御装置は、パーティクルカウンター５１が計測した水の微粒子の粒径に基づいて、超音波式霧化装置の発振器の周波数を制御する。

【0064】

以上のような除電システムでは、イオナイザーＡの搬送路５０に設けられたパーティクルカウンター５１で搬送される水の微粒子の粒径を計測し、制御装置がパーティクルカウンター５１の値に基づいて、超音波式霧化装置の発振器の周波数を制御する。超音波式霧化装置が生成する水の微粒子の粒径は、発振器の周波数に依存するめ、粒径を検出してフィードバックし、発振器の周波数を変更することで、所望の粒径の水の微粒子が得られる。この構成により、超音波式霧化装置が帯電体Ｅまで搬送可能な粒径を有する水の微粒子を生成することが可能となり、除電性能がさらに向上する。

【0065】

［第２の実施形態］
［構成］
第２の実施形態のイオナイザーＢの実施形態について図４を参照しつつ説明する。第２の実施形態のイオナイザーＢは、微粒子発生チャンバ２０Ａと、微粒子発生チャンバ２０Ａの下流側に接続された軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂと、を含む。なお、以下の説明では、第１の実施形態のイオナイザーＡと同じ部分については同一符号を示して説明は省略する。

【0066】

微粒子発生チャンバ２０Ａは、水の微粒子の発生を行う立方体の室であり、超音波アトマイザ３０が設けられている。微粒子発生チャンバ２０Ａの形状は立方体に限定されず、筒状等、他の形状とすることができる。また、本実施形態では、微粒子発生チャンバ２０Ａにエア供給口２１が設けられ、このエア供給口２１にエア供給路１０が接続されている。したがって、微粒子発生チャンバ２０Ａに、イオン搬送ガスが供給される。

【0067】

微粒子発生チャンバ２０Ａは、上面に開口２３を有する。この開口２３を介して、微粒子発生チャンバ２０Ａの上面には超音波アトマイザ３０が設けられている。また、微粒子発生チャンバ２０Ａの下面には、開口２５が設けられている。この開口２５は排水口であり、微粒子発生チャンバ２０Ａの底部に貯まった水は、この開口２５を介して微粒子発生チャンバ２０Ａの外部に排出される。開口２５には、排水管２５ａが接続されてよい。また、排水管２５ａに、排水バルブ２５ｂを設けて、排水バルブ２５ｂが開かれたときに微粒子発生チャンバ２０Ａ内の排水が排出される構成とすることができる。

【0068】

また、微粒子発生チャンバ２０Ａには、側面に連絡口２６が設けられている。連絡口２６は、微粒子発生チャンバ２０Ａで発生した水の微粒子を含むイオン搬送ガスを排出する開口である。連絡口２６には、連絡管２７の一端が接続され、連絡口２６から排出されたイオン搬送ガスは連絡管２７を通り、軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂ側に搬送される。連絡管２７は、具体的にはチューブ状の搬送路であり、例えば、樹脂製のチューブを用いて良い。

【0069】

軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂは、搬送されてきた水の微粒子を含むイオン搬送ガスに対して、軟Ｘ線を照射し、水の微粒子に軟Ｘ線で発生した正負イオンを付着させる室である。軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂの上方には、軟Ｘ線発生装置４０が設けられている。軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂは、上流側に連絡口２８が設けられている。連絡口２８には、連絡管２７の他端が接続され、微粒子発生チャンバ２０Ａで発生した水の微粒子を含むイオン搬送ガスが導入される。

【0070】

そして、軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂに導入された水の微粒子を含むイオン搬送ガスに対して、軟Ｘ線発生装置４０が軟Ｘ線を照射する。軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂの下流側には搬送口２２が設けられ、イオン化気流を、搬送路５０を介して帯電体Ｅに供給する。

【0071】

［第２の実施形態の変形例］
上記第２の実施形態では、超音波アトマイザ３０を用いて、微粒子発生チャンバ２０Ａ内に水の微粒子を噴霧する構成とした。ただし、超音波式霧化装置としては、図５に示す通り、微粒子発生チャンバ２０Ａの下面に設けられた有底の円筒形の容器であり、その底部に超音波振動子６１が取り付けられている容器６０を用いることをもできる。

【0072】

［作用効果］
以上のような本実施形態のイオナイザーＢの作用効果は、以下のとおりである。
（１）チャンバは、微粒子発生チャンバ２０Ａと、微粒子発生チャンバ２０Ａの下流側に接続された軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂと、を含み、微粒子発生チャンバ２０Ａには、超音波式霧化装置が設けられ、軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂには、軟Ｘ線発生装置４０と搬送路５０が設けられている。

【0073】

微粒子発生チャンバ２０Ａと軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂの２つのチャンバを設け、微粒子発生チャンバ２０Ａで発生させた水の微粒子を、軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂに導入する構成とした。そのため、超音波式霧化装置が微粒子発生チャンバ２０Ａの内部で生成した水の微粒子のうち、例えば５μｍを超える粒径の大きな微粒子は、微粒子発生チャンバ２０Ａ内で落下する。そのため、軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂには、イオン搬送ガスで搬送可能な比較的小さな水の微粒子が導入されることとなる。軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂ導入前に、水の微粒子の粒径が整うため、イオン化効率が向上する。

【0074】

また、軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂには大きな粒径の水の微粒子は導入されない。そのため、軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂの照射窓２４ａに水滴が付着し、照射窓２４ａが濡れることが防止される。したがって、照射窓２４ａが濡れ、照射窓２４ａを透過する軟Ｘ線の強度が低下し、イオン発生量が低下する恐れを防止可能となる。したがって、より除電性能の高いイオナイザーおよび除電システムを提供することが可能となる。

【0075】

（２）チャンバの底部に貯まった水が排出される開口２５が下面に設けられている。

【0076】

上記の通り、微粒子発生チャンバ２０Ａでは、大きな粒径の水の微粒子が落下する。そのため、チャンバの底部に落下した水が貯まる。この貯まった水を排出する構成を設けることで、イオナイザーをより長時間にわたり連続運転することが可能となる。

【0077】

[実験結果]
超音波式霧化装置を有するイオナイザーの除電性能確認実験の結果を以下に説明する。図６に、実験装置の概要を示す。この実験では、超音波霧化を行わずに軟Ｘ線の照射のみを行った場合と、超音波霧化と軟Ｘ線の照射の双方を行った場合の除電性能を比較するものである。

【0078】

実験に用いた各構成要素は、以下の通りである。
・軟Ｘ線発生装置：浜松ホトニクス製 Ｌ６９４１
・超音波アトマイザ：Ｓｏｎａｅｒ製 １３０ｋ５０Ｔ（ノズル外径６．４ｍｍ、長さ２３ｍｍ）
・保護円筒（内径１３．５ｍｍ、長さ２６ｍｍ）
・ノズル端部から保護円筒端部までの距離：１３．０ｍｍ
・搬送路：塩化ビニルチューブ（内径４ｍｍ、長さ約５０ｃｍ）
・帯電体：帯電プレートモニタ Ｔｒｅｋ製 Ｍｏｄｅｌ １５８の金属プレート（１５０×１５０ｍｍ、２０ｐＦ）

【0079】

測定時の各条件は以下の通りである。
・イオン搬送エアは、エアポンプで約９０Ｌ／ｍｉｎの流量で供給した。
・超音波アトマイザの発振器の周波数は、１２９．３ｋＨｚとし、平均粒径１１．８μｍの水の微粒子を発生させた。
・純水タンクからの給水流量は、約０．５ｍＬ／ｍｉｎであった。
・搬送路先端から帯電体までの距離は約３０ｍｍであった。

【0080】

以上の実験装置と条件により、イオン搬送エアを帯電体に吹き付けて除電時間（±１ｋＶ→±０．９ｋＶ）を測定した。測定は、以下の２つの装置設定の時にそれぞれ行った。
（ａ）超音波霧化ＯＦＦ：エアポンプでイオン搬送エアを供給し、軟Ｘ線発生装置をＯＮとした。
（ｂ）超音波霧化ＯＮ：エアポンプでイオン搬送エアを供給し、超音波アトマイザおよび軟Ｘ線発生装置をＯＮとした。

【0081】

上記（ａ）および（ｂ）の装置設定にて測定した、除電時間を表１に示す。

【表1】

【0082】

表１からも明らかなとおり、超音波霧化がＯＮの場合は、軟Ｘ線照射のみの場合と比較して除電時間が短縮される。したがって、軟Ｘ線の照射に加え、超音波霧化を行うことにより、除電性能が向上することが確認できた。

【0083】

［その他の実施の形態］
（１）上記第１の実施形態では、超音波アトマイザ３０と、軟Ｘ線発生装置４０とが、チャンバ２０の対向する２つの側面に配置される構成を開示した。ただし、超音波アトマイザ３０と軟Ｘ線発生装置４０の配置はこれに限らず、例えばチャンバ２０の側面に超音波アトマイザ３０と軟Ｘ線発生装置４０の双方を設けても良い。すなわち、超音波アトマイザ３０が水の微粒子を噴霧した箇所に、軟Ｘ線発生装置４０が軟Ｘ線を照射できればよい。

【0084】

（２）上記第２の実施形態では、微粒子発生チャンバ２０Ａと、微粒子発生チャンバ２０Ａの下流側に接続された軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂと、の２つの独立したチャンバを設ける構成を開示した。ただし、イオン搬送ガスの搬送方向において長尺となる１つのチャンバを設け、チャンバの上流側に超音波式霧化装置を、下流側に軟Ｘ線照射装置を設けても良い。その場合には、上流側を微粒子発生チャンバ、下流側を軟Ｘ線照射チャンバと捉えることもできる。

【0085】

微粒子発生チャンバ２０Ａと軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂとを１つのチャンバで構成した場合には、チャンバ内に旋回流が生じる恐れがある。微粒子発生チャンバ２０Ａと軟Ｘ線照射チャンバ２０Ｂを２つの独立チャンバとすれば、旋回流は生じないため良い。ただし、1つのチャンバ内に整流板等を設けることで、旋回流を抑制できると考えられる。

【0086】

（３）超音波アトマイザ３０や、超音波振動子６１を複数用いた場合には、チャンバ２０内の結露が増え、チャンバ２０の照射窓２４ａに付着する水滴量が上昇することが考えられる。水滴量が過度となると、軟Ｘ線の強度が著しく低下しイオン発生量が低下する可能性が高い。その場合には、チャンバ２０内に、照射窓２４ａの結露を防止する構成を設けると良い。

【0087】

図７に、結露防止構造の一例である、照射窓カバー７０を示す。照射窓カバー７０は、バッファ室７０Ａと、小チャンバ７０Ｂを有する。バッファ室７０Ａは、常温エアを貯留するための立方体の室である。バッファ室７０Ａは、照射窓２４ａの近傍かつ、照射窓２４ａに対向しない位置に設けられている。すなわち、軟Ｘ線発生装置４０は、バッファ室７０Ａの上方に位置しない。バッファ室７０Ａの上面には、開口７１が設けられている。開口７１には、不図示のフィルタ、流量計、バルブ、エアポンプ等が接続されており、この開口７１を介してバッファ室７０Ａに常温エアが導入される。

【0088】

バッファ室７０Ａの一側面には、スリット７２が設けられている。スリット７２は、照射窓２４ａに常温エアを供給する噴射口である。スリット７２は、バッファ室７０Ａの側面のうち、照射窓２４ａが配置されている側の一側面に配置された矩形の開口である。例えば、チャンバ２０の長手方向の長さが１３０ｍｍで、高さおよび幅が６０ｍｍの場合、バッファ室７０Ａの高さを２５ｍｍ、幅約６０ｍｍとし、スリット７２の高さを６ｍｍ、幅約６０ｍｍとすることができる。

【0089】

バッファ室７０Ａには、スリット７２を介して、小チャンバ７０Ｂが接続されている。小チャンバ７０Ｂは、スリット７２から噴射された常温エアが流れる空間を画定する室である。したがって、小チャンバ７０Ｂは、スリット７２を延長するように設けられた、バッファ室７０Ａより高さの低い立方体の室である。小チャンバ７０Ｂは、例えば、スリット７２の高さを６ｍｍとした場合、高さ６ｍｍの空間を画定する立方体の室である。

【0090】

小チャンバ７０Ｂは、照射窓２４ａの下方に設けられている。すなわち、軟Ｘ線発生装置４０は、小チャンバ７０Ｂの上方に位置する。小チャンバ７０Ｂには、流れてきた常温エアを放出する開口７３が設けられている。開口７３は、照射窓２４ａと同一寸法以上の大きさに形成されている。そのため、開口７３による、照射窓２４ａを介して照射された軟Ｘ線の遮蔽が抑制される。

【0091】

以上の構成により、開口７１を介してバッファ室７０Ａに供給された常温エアは、バッファ室７０Ａに貯留される。そして、貯留された常温エアは、スリット７２を介してスリット流となり、小チャンバ７０Ｂ側に供給され、照射窓２４ａに向かって噴射される。この常温エアの噴射により、照射窓２４ａの結露を抑制可能となるため、照射窓２４ａの結露により軟Ｘ線の強度が低下することを防止できる。バッファ室７０Ａからのスリット流をそのまま照射窓２４ａに噴射する構成とすると、チャンバ２０内に渦流が生じる可能性がある。そのため、スリット形状を延長するように小チャンバ７０Ｂを設け、小チャンバ７０Ｂ内にスリット流を供給する構成とすることで、渦流の発生が防止できる。

【0092】

（４）第１の実施形態のチャンバ２０についても、第２の実施形態の開口２５を下面に設け、チャンバ２０の底部に貯まった水をこの開口２５を介してチャンバ２０の外部に排出する構成としても良い。すなわち、本発明は、上述の実施形態そのままに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で構成要素を適宜変形することができる。また、上述の実施形態に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせても良い。例えば、上述の実施形態に示される構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよく、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。

【符号の説明】

【0093】

Ａ、Ｂ イオナイザー
Ｅ 帯電体
１０ エア供給路
１１ エアポンプ
１２ 流量調整バルブ
１３ 流量計
１４ フィルタ
２０ チャンバ
２０Ａ 微粒子発生チャンバ
２０Ｂ 軟Ｘ線照射チャンバ
２１ エア供給口
２２ エア搬送口
２３、２４、２５ 開口
２４ａ 照射窓
２５ａ 排水管
２５ｂ 排水バルブ
２６、２８ 連絡口
２７ 連絡管
３０ 超音波アトマイザ
３０ａ 保護円筒
３１、６２ 発振器
３２、６３ 純水供給路
３３ 純水タンク
３４、６４ ポンプ
３５、６５ 流量調整バルブ
４０ 軟Ｘ線発生装置
５０ 搬送路
５１ パーティクルカウンター
６０ 容器
６１ 超音波振動子
７０ 照射窓カバー
７０Ａ バッファ室
７０Ｂ 小チャンバ
７１、７３ 開口
７２ スリット

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】