(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-06-13
(45)【発行日】2024-06-21
(54)【発明の名称】表示パネル、その製造方法、及び表示装置
(51)【国際特許分類】
H05B 33/04 20060101AFI20240614BHJP
B41J 2/01 20060101ALI20240614BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20240614BHJP
H05B 33/10 20060101ALI20240614BHJP
H05B 33/12 20060101ALI20240614BHJP
H10K 50/10 20230101ALI20240614BHJP
H05B 33/22 20060101ALI20240614BHJP
H05K 1/02 20060101ALI20240614BHJP
H05K 1/03 20060101ALI20240614BHJP
【ＦＩ】
H05B33/04
B41J2/01 109
G09F9/30 349Z
G09F9/30 365
H05B33/10
H05B33/12 B
H05B33/14 A
H05B33/22 Z
H05K1/02 A
H05K1/03 610G
【請求項の数】
17
(21)【出願番号】P 2019558539
(86)(22)【出願日】2018-11-01
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2022-03-01
(86)【国際出願番号】 CN2018113452
(87)【国際公開番号】W WO2020087449
(87)【国際公開日】2020-05-07
【審査請求日】2021-10-25
【審判番号】
【審判請求日】2023-04-11
(73)【特許権者】
【識別番号】510280589
【氏名又は名称】京東方科技集團股▲ふん▼有限公司
【氏名又は名称原語表記】ＢＯＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＧＲＯＵＰ ＣＯ．，ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１０ Ｊｉｕｘｉａｎｑｉａｏ Ｒｄ．，Ｃｈａｏｙａｎｇ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｂｅｉｊｉｎｇ １０００１５，ＣＨＩＮＡ
(74)【代理人】
【識別番号】100108453
【弁理士】
【氏名又は名称】村山 靖彦
(74)【代理人】
【識別番号】100110364
【弁理士】
【氏名又は名称】実広 信哉
(72)【発明者】
【氏名】カイ・スイ
(72)【発明者】
【氏名】ジョンユアン・スン
(72)【発明者】
【氏名】ウェイジエ・ワン
(72)【発明者】
【氏名】ジンシャン・シュエ
(72)【発明者】
【氏名】シアン・ジョウ
(72)【発明者】
【氏名】ウェンチ・リュウ
(72)【発明者】
【氏名】ジンカイ・ニ
(72)【発明者】
【氏名】チャオ・ドン
(72)【発明者】
【氏名】シャオフェン・ワン
【合議体】
【審判長】神谷 健一
【審判官】井口 猶二
【審判官】西岡 貴央
(56)【参考文献】
【文献】韓国公開特許第１０－２０１５－０１２５８１７（ＫＲ，Ａ）
【文献】中国特許出願公開第１０５５５２２４６（ＣＮ，Ａ）
【文献】特開２０１１－１３６５６０（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１２／０２５６２０２（ＵＳ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２０１８／００４６２２１（ＵＳ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２０１３／０３３４９５９（ＵＳ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２０１１／０１５６５７８（ＵＳ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
H01L 51/50-51/56
H05B 33/00-33/28
H01L 27/32
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
表示パネルであって、表示基板と、
前記表示基板上に位置する複数の発光ユニットと、
前記複数の発光ユニットを覆う第１の有機層とを備え、
前記第１の有機層の前記発光ユニットの反対側に位置する表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含み、
前記第１の有機層は、前記複数の発光ユニットと直接接しており、
前記表示パネルは、第１の無機層と、第２の有機層と、第２の無機層と、第３の有機層とをさらに備え、
前記第１の有機層と、前記第１の無機層と、前記第２の有機層と、前記第２の無機層と、前記第３の有機層とは、前記表示基板から離れる方向に順に配置されており、
前記第１の有機層のヤング率は前記第２の有機層のヤング率よりも小さく、
前記第１の有機層は、ポリジメチルシロキサン、ポリイミド、シリコーン樹脂、ポリウレタン、アクリル樹脂、ゴム及びそれらの誘導体、並びにそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１つの材料を含み、
前記表示パネルは、前記複数の発光ユニットを定義し、前記第１の有機層と直接接する画素定義層をさらに備える、表示パネル。
【請求項2】
前記複数の凸部及び前記複数の凹部は、第２の方向に対して垂直である第１の方向及び第２の方向に交互に配置される、請求項１に記載の表示パネル。
【請求項3】
前記複数の凸部及び前記複数の凹部は、実質的に同一幅を有する、請求項１または２に記載の表示パネル。
【請求項4】
前記複数の凸部はそれぞれ、前記複数の凹部に連続的に遷移する、請求項１に記載の表示パネル。
【請求項5】
前記第１の有機層の前記表示基板と垂直な平面における断面の、前記表示基板の反対側に位置する一方の側は、正弦波状を有する、請求項１から４のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項6】
前記複数の凸部のうちの１つの山頂部から前記画素定義層の上面までの第１の距離は３μｍから１１μｍの範囲にあり、前記複数の凹部のうちの１つの谷底部から前記画素定義層の前記上面までの第２の距離は１μｍから８μｍの範囲にあり、前記第１の距離は前記第２の距離より大きい、請求項１に記載の表示パネル。
【請求項7】
２つの隣接する凸部の山頂部同士の距離は、２つの隣接する凹部の谷底部同士の距離と実質的に同一である、請求項６に記載の表示パネル。
【請求項8】
前記表示基板における前記第１の有機層の正射影は、前記表示基板における前記複数の発光ユニットの正射影を覆い、前記表示基板における前記第１の無機層の正射影は、前記表示基板における前記第１の有機層の正射影を覆う、請求項５から７のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項9】
前記複数の発光ユニットを囲むダム構造をさらに備える、請求項５から８のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項10】
前記第１の無機層及び／又は前記第２の無機層は前記ダム構造まで伸びて前記ダム構造の上面を直接覆う、請求項９に記載の表示パネル。
【請求項11】
前記表示基板は、ポリイミド及びその誘導体、ゴム、シリコーン、ポリウレタン、並びにアクリル樹脂からなる群から選択される材料を含む、請求項５から１０のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項12】
請求項１から１１のいずれか１項に記載の表示パネルを備える、表示装置。
【請求項13】
表示パネルの製造方法であって、複数の発光ユニットが配置された表示基板を提供することと、
前記複数の発光ユニットを覆う第１の有機層を形成することとを含み、
前記第１の有機層の前記発光ユニットの反対側に位置する表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含み、
前記第１の有機層は、前記複数の発光ユニットと直接接しており、
前記表示パネルは、第１の無機層と、第２の有機層と、第２の無機層と、第３の有機層とをさらに備え、
前記第１の有機層と、前記第１の無機層と、前記第２の有機層と、前記第２の無機層と、前記第３の有機層とは、前記表示基板から離れる方向に順に配置されており、
前記第１の有機層のヤング率は前記第２の有機層のヤング率よりも小さく、
前記第１の有機層は、ポリジメチルシロキサン、ポリイミド、シリコーン樹脂、ポリウレタン、アクリル樹脂、ゴム及びそれらの誘導体、並びにそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１つの材料を含み、
前記表示パネルは、前記複数の発光ユニットを定義し、前記第１の有機層と直接接する画素定義層をさらに備える、表示パネルの製造方法。
【請求項14】
前記複数の発光ユニットを覆う前記第１の有機層を形成することは、有機材料のフィルムを形成することと、
前記有機材料のフィルムに前記複数の凹部を形成することと、
前記複数の凹部の間に前記複数の凸部を形成することとを含む、請求項１３に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項15】
前記有機材料のフィルムを形成することは、インクジェット印刷技術によりオリゴマーのフィルムを形成することと、
紫外線で前記オリゴマーのフィルムを硬化して前記有機材料のフィルムを形成することとを含む、請求項１４に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項16】
前記有機材料のフィルムを形成することは、インクジェット印刷技術によりポリマー溶液のフィルムを形成することと、
前記ポリマー溶液のフィルムを凝固して前記有機材料のフィルムを形成することとを含む、請求項１４に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項17】
インクジェット印刷技術により、前記有機材料のフィルム上に、前記複数の凹部の間に位置する前記複数の凸部を形成する、請求項１４に記載の表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、表示技術に関し、特に、表示パネル、その製造方法、及び表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
ＯＬＥＤ（有機発光ダイオード）ディスプレイや量子ドット発光ディスプレイ等のフレキシブルディスプレイとストレッチャブルディスプレイでは、フルスクリーンを実現するためにベゼルの最小化を図る傾向が見られる。フルスクリーンを実現するにあたり、フレキシブルディスプレイは最適なディスプレイであると考えられている。このため、表示パネルメーカーの多くは、リジッドディスプレイではなく、フレキシブルディスプレイの量産ラインに莫大な投資を行っている。
【発明の概要】
【0003】
そこで、本開示の一例は表示パネルである。前記表示パネルは、表示基板と、前記表示基板上に位置する複数の発光ユニットと、前記複数の発光ユニットを覆う第１の有機層とを備えてもよい。前記第１の有機層の前記発光ユニットの反対側に位置する表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含んでもよい。前記第１の有機層は、前記複数の発光ユニットと直接接してもよい。
【0004】
本開示のもう１つの例は表示装置である。前記表示装置は、本開示の一実施形態における表示パネルを備えてもよい。
【0005】
本開示のもう１つの例は表示パネルの製造方法である。当該方法は、複数の発光ユニットが配置された表示基板を提供することと、前記複数の発光ユニットを覆う第１の有機層を形成することとを含んでもよい。前記第１の有機層の前記発光ユニットの反対側に位置する表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含んでもよい。前記第１の有機層は、前記複数の発光ユニットと直接接してもよい。
【図面の簡単な説明】
【0006】
本明細書に付した特許請求の範囲において、本発明の主題を具体的に示し明確に請求した。本発明の上述した内容及びその他の目的、特徴並びに利点は、添付の図面とあわせ、以下の詳しい説明から明らかである。
【0007】
【発明を実施するための形態】
【0008】
当業者が理解しやすいように、添付の図面および実施形態を参照しつつ、本開示についてさらに詳細に説明する。本開示の説明全体を通じて図１～５ｇを参照する。図面を参照する際、同様の構造および要素は、全体を通じて同様の参照番号で示す。
【0009】
本明細書では、「第１の」、「第２の」等の用語を接頭辞として付す場合がある。しかし、これらの接頭辞は用語を区別するために追加するものにすぎず、順序や重要度といった具体的な意味を持たない。本開示の説明において、特に限定しない限り、「複数」とは２つ以上を意味する。
【0010】
本明細書の説明において、「いくつかの実施形態」、「一実施形態」、「例示的実施例」、「例示」、「具体的な例示」、「いくつかの例示」等の用語を参照する場合、実施形態又は実施例に関連づけて記載された具体的な特徴、構造、材料又は特性が、本開示の少なくともいくつかの実施形態又は実施例に含まれていることを示すことを意図する。用語の例示的な表現は、必ずしも同一の実施形態又は実施例を指すとは限らない。さらに、記載された具体的な特徴、構造、材料又は特性は、１つ以上の実施形態又は実施例に適切な方法により含まれる場合がある。「約」という用語により修飾される数は、かかる数がその１０％変化する可能性があることを意味する。
【0011】
本明細書の説明において「発光ユニット」という用語は、有機発光ユニット、無機発光ユニット又は量子ドット発光ユニットを意味する場合がある。
【0012】
本明細書の説明において「距離」という用語は、２つの表面又は１つの点から１つの表面までの距離等、２つの対象の間の最短距離を意味する場合がある。
【0013】
図１は、関連技術における表示パネルの概略構成図である。図１に示すように、表示パネルは、表示基板１００と、表示基板１００に配置された複数の表示ユニット１０１と、表示ユニット１０１を覆う第１の無機層１０２と、第１の無機層１０２を覆う有機層１０３と、有機層１０３を覆う第２の無機層１０４とを備える。これらの無機層及び有機層は、表示基板１００を水及び酸素の浸透から保護するのに用いられる。しかし、無機層１０２及び１０４は非常に薄くしばしば大きな応力を受けるため、これらの無機層は表示パネルを方向１０６に伸長する横方向の応力下で破損しやすい。その結果、表示パネル外の酸素及び水が破損ラインに沿って複数の表示ユニット１０１のいくつかに浸透して、表示パネルの寿命を大幅に縮めてしまう。
【0014】
これに対し、図２は、本開示のいくつかの実施形態における表示パネルの概略構成図である。図２に示すように、表示パネルは、表示基板２００と、複数の発光ユニット２０７を定義する画素定義層２０６と、複数の発光ユニット２０７を覆う第１の有機層２０１とを備える。表示基板２００は、駆動回路、信号線及び電気素子等を備える。第１の有機層２０１の発光ユニット２０７の反対側に位置する表面は、複数の凸部Ｍと、複数の凹部Ｌとを含む。第１の有機層２０１は、複数の発光ユニット２０７と、画素定義層２０６とに直接接する。
【0015】
本開示の実施形態において、表示パネルが横方向に伸長すると、第１の有機層の表面における複数の凸部と複数の凹部とにより、第１の有機層は横方向の応力の一部を効果的に緩和できる。
【0016】
いくつかの実施形態において、第１の有機層２０１は、ポリジメチルシロキサン、ポリイミド、シリコーン樹脂、ポリウレタン、アクリル樹脂、ゴム及びそれらの誘導体、並びにそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む。
【0017】
図３ａは、本開示のいくつかの実施形態における第１の有機層２０１の三次元構成図である。図３ａに示すように、複数の凸部Ｍ及び複数の凹部Ｌは、第２の方向に対して実質的に垂直である第１の方向及び第２の方向に交互に配置される。いくつかの実施形態において、図３ａに示すように、複数の凸部Ｍはそれぞれ、複数の凹部Ｌに連続的に遷移する。つまり、第１の有機層の表面では、曲率が凸部から凹部へ実質的に連続的かつ緩やかに遷移し、凸部と凹部の間に平坦面がない。
【0018】
いくつかの実施形態において、図３ａに示すように、複数の凸部Ｍ及び複数の凹部Ｌは、平面Ｐに対して約１μｍから約５μｍの範囲にある実質的に同一幅を有する。平面Ｐは第１の有機層の平坦面である。凸部の幅は、凸部の山頂部から平面Ｐまでの垂直距離であると定義される。凹部の幅は、凹部の谷底部から平面Ｐまでの垂直距離であると定義される。
【0019】
図３ｂは、本開示のいくつかの実施形態における表示パネルの概略構成図である。複数の凸部のうちの１つの山頂部から画素定義層２０６の上面までの第１の距離ｈ１は約３μｍから約１１μｍの範囲にあり、約５μｍから約９μｍの範囲にあることが好ましく、約６μｍから約８μｍの範囲にあることがさらに好ましい。複数の凹部のうちの１つの谷底部から画素定義層２０６の上面までの第２の距離ｈ２は約１μｍから約８μｍの範囲にあり、約２μｍから約６μｍの範囲にあることが好ましい。さらに、第１の距離ｈ１は第２の距離ｈ２より大きい。いくつかの実施形態において、２つの隣接する凸部Ｍの山頂部同士の距離は、２つの隣接する凹部Ｌの谷底部同士の距離と実質的に同一であり、３個の隣接する発光ユニットから８０個の隣接する発光ユニットの長さの間にある。例えば、この範囲は約２μｍから約１０００μｍであり、約８０μｍから約１２０μｍの範囲にあることが好ましい。
【0020】
いくつかの実施形態において、第１の距離ｈ１は約６μｍである。
【0021】
いくつかの実施形態において、第２の距離ｈ２は約２μｍである。
【0022】
いくつかの実施形態において、ダム構造Ｎの上面から画素定義層２０６の上面までの距離ｈ５は約１．２μｍから約２．８μｍの範囲にあり、例えば、約２．０μｍである。
【0023】
いくつかの実施形態において、図２に示すように、表示パネルは、第１の無機層２０２と、第２の有機層２０３と、第２の無機層２０４と、第３の有機層２０５とをさらに備える。第１の有機層２０１と、第１の無機層２０２と、第２の有機層２０３と、第２の無機層２０４と、第３の有機層２０５とは、表示基板２００から離れる方向に順に配置される。表示基板２００における第１の有機層２０１の正射影は、表示基板２００における複数の発光ユニット２０７の正射影を覆う。表示基板２００における第１の無機層２０２の正射影は、表示基板２００における第１の有機層２０１の正射影を覆う。
【0024】
いくつかの実施形態において、第１の無機層２０２及び第２の無機層２０４はいずれもＳｉＮｘ、ＳｉＯ２、ＳｉＣ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＳ、ＺｎＯ及びＺＳＭゼオライトからなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む。ＺＳＭゼオライトは、ＺｎＯ／Ａｌ２Ｏ３／ＭｇＯの構造を含む。
【0025】
いくつかの実施形態において、第１の有機層２０１のヤング率は第２の有機層２０３のヤング率を上回らない。
【0026】
いくつかの実施形態において、第１の有機層の発光ユニットの反対側に位置する表面が複数の凸部及び複数の凹部を含むため、第１の無機層と、第２の有機層と、第２の無機層とが第１の有機層上に順に配置されて、第１の有機層の発光ユニットの反対側に位置する表面に一致する。つまり、第１の無機層と、第２の有機層と、第２の無機層とが、第１の有機層の表面上の複数の凸部及び複数の凹部の形状と一致する。
【0027】
第１の無機層を例にとれば、表示パネルが横方向に伸長すると、第１の有機層は第１の無機層の応力の一部を効果的に緩和して、第１の無機層の水／酸素を遮断する能力を維持することができる。その結果、表示基板の寿命が延長される。
【0028】
いくつかの実施形態において、第１の無機層の材料にはＳｉＮｘ又はＳｉＯＮが含まれ、第１の無機層の厚みは約７００ｎｍから約１４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約８００ｎｍである。
【0029】
いくつかの実施形態において、第１の無機層の材料にはＳｉＯ２が含まれ、第１の無機層の厚みは約５０ｎｍから約４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約２００ｎｍである。
【0030】
いくつかの実施形態において、第１の無機層の材料にはＡｌ２Ｏ３が含まれ、第１の無機層の厚みは約５０ｎｍから約３００ｎｍの範囲にあり、例えば、約１２０ｎｍである。
【0031】
いくつかの実施形態において、第２の有機層の厚みは約２μｍから約４μｍの範囲にあり、例えば、約２μｍである。
【0032】
いくつかの実施形態において、第２の無機層の厚みは約０．０５μｍから約３μｍの範囲にある。
【0033】
いくつかの実施形態において、第２の無機層の材料にはＳｉＮｘ又はＳｉＯＮが含まれ、第２の無機層の厚みは約７００ｎｍから約１４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約８００ｎｍである。
【0034】
いくつかの実施形態において、第２の無機層の材料にはＳｉＯ２が含まれ、第２の無機層の厚みは約５０ｎｍから約４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約２００ｎｍである。
【0035】
いくつかの実施形態において、第２の無機層の材料にはＡｌ２Ｏ３が含まれ、第２の無機層の厚みは約５０ｎｍから約３００ｎｍの範囲にあり、例えば、約１２０ｎｍである。
【0036】
いくつかの実施形態において、図３ｂに示すように、第３の有機層は、表示基板と反対側に実質的に平坦な上面を有する。第２の無機層も複数の凸部と複数の凹部とを含む。第３の有機層の表示基板と反対側に位置する上面から第２の無機層の複数の凹部のうちの１つの谷底部までの距離ｈ３は、約３μｍから約１１μｍの範囲にあり、約４μｍから９μｍの範囲、例えば、約６μｍであることが好ましい。第３の有機層の表示基板と反対側に位置する上面から第２の無機層の複数の凸部のうちの１つの山頂部までの距離ｈ４は、約１μｍから約８μｍの範囲にあり、約２μｍから約６μｍの範囲、例えば、約２μｍであることが好ましい。
【0037】
図４ａは、本開示のいくつかの実施形態における表示パネルの、表示基板に垂直な平面の断面構成図であり、４０４は表示パネルを伸長する横方向の応力の方向を表し、４００は表示パネルの長さを表し、４０１は表示パネルの幅を表し、４０２は表示パネルの厚みを表す。図４ａ～４ｃに示すように、第１の有機層２０１の表示基板２００と垂直な平面における断面の、表示基板の反対側に位置する一方の側は、正弦波状を有し、これは、第１の有機層２０１上に配置された第１の無機層２０２が表示パネルの長さ方向４００及び幅方向４０１の両方において正弦波状を有することを意味する。
【0038】
図４ａに示すように、ｘ軸と平行である方向４０４に横方向に表示パネルを伸長すると、表示パネルがｘ軸方向に伸長し、ｙ軸及びｚ軸の両方向における長さが収縮する。
【0039】
図４ｂは、特定の理論に拘束されない、本開示のいくつかの実施形態における第１の無機層の力解析図である。図４ｂに示すように、表示パネルを方向４０４に横方向に伸長すると、第１の無機層２０２は、ｘ軸方向において、波形４０５から波形４０６へ遷移する。図４ａ及び４ｂに示すように、表示パネルは、両端における力Ｆ及び力Ｆ’により、方向４０４に横方向に伸長される。波形４０５における点Ａ及びＢは説明の便宜上設けたものである。点Ａ及びＢは、凹部の谷底部に対して対称である。
【0040】
点Ａにおける力Ｆは、波形４０５の接線方向及び法線方向の力ｆ１及びｆ２にそれぞれ分解できる。点Ｂにおける力Ｆ’は、波形４０５の接線方向及び法線方向の力ｆ３及びｆ４にそれぞれ分解できる。図４ｂに示すように、力Ｆの大きさは力Ｆ’の大きさと実質的に等しい。力ｆ１の大きさは力ｆ３のそれと実質的に等しい。力ｆ２の大きさは力ｆ４のそれと実質的に等しい。力ｆ１は第１の無機層を平坦化する力であり、力ｆ２はアークを上方に移動させない力である。伸長している間、力Ｆと力ｆ１の間の角度は小さくなるが、力Ｆと力ｆ２の間の角度は大きくなる。曲率が大きいほど第１の無機層の伸長力は大きく、波形の曲率を適切に選択することで第１の無機層は適切な伸長力を持ち得る。
【0041】
一方、ｙ軸方向においては、図４ｃに示すように、表示パネルが方向４０４に横方向に伸長すると、第１の無機層２０２の波形は、波形４０５’から波形４０６’に遷移する。図４ｃに示すように、波形４０６’の２つの隣接する山頂部又は谷底部同士の距離はそれぞれ、波形４０５’の２つの隣接する山頂部又は谷底部同士の距離より小さい。つまり、第１の無機層はｙ軸方向に収縮する。
【0042】
いくつかの実施形態において、図２に示すように、表示パネルはダム構造Ｎをさらに備える。ダム構造Ｎは複数の発光ユニット２０７を囲む円形構造であってもよい。ダム構造は、第１の有機層と、第２の有機層と、第３の有機層とがはみ出るのを回避するように構成されてもよい。
【0043】
いくつかの実施形態において、図２に示すように、第１の無機層２０２及び／又は第２の無機層２０４はダム構造Ｎまで伸びてダム構造Ｎの上面を直接覆う。
【0044】
図２に示すように、第１の有機層の縁部から表示基板の縁部までの最短距離２０８は、約５００μｍから約２０００μｍの範囲にある。第１の有機層の縁部からダム構造の第１の有機層に面する前縁部までの最短距離２１０は約５００μｍを上回らない。表示エリア外における、画素定義層２０６の上面に対する第１の無機層２０２のバンク角ｂは、０から９０度の範囲にある。表示エリア外における、画素定義層２０６の上面と平行な平面に対する第２の無機層２０４のバンク角ａは、０から９０度の範囲にある。
【0045】
いくつかの実施形態において、表示基板２００は、ポリイミド及びその誘導体、ゴム、シリコーン、ポリウレタン、並びにアクリル樹脂からなる群から選択される材料を含む。
【0046】
いくつかの実施形態において、表示パネルの横方向における最大伸長率は約４％から約８％の範囲にあり、約５％から約７％の範囲、例えば、約５％であることが好ましい。
【0047】
本開示のもう１つの例は表示装置である。表示装置は、本開示の任意の実施形態における表示パネルを備える。
【0048】
いくつかの実施形態において、当該表示装置は円偏光子をさらに備える。当該円偏光子は、少なくとも表示パネルの屋外表示品質を改善するように構成されてもよい。
【0049】
本開示のもう１つの例は表示パネルの製造方法である。当該方法は、複数の発光ユニットが配置された表示基板を提供することと、複数の発光ユニットを覆う第１の有機層を形成することとを含んでもよい。第１の有機層の発光ユニットの反対側に位置する表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含み、第１の有機層は複数の発光ユニットと直接接する。
【0050】
いくつかの実施形態において、複数の発光ユニットを覆う第１の有機層を形成することは、第１の有機材料のフィルムを形成するステップと、第１の有機材料のフィルム上に複数の凹部を形成するステップと、第１の有機材料のフィルム上に、複数の凹部の間に位置する複数の凸部を形成するステップとを含む。
【0051】
いくつかの実施形態において、当該方法は、複数の発光ユニットを形成するステップの前に、画素定義層を形成するステップをさらに含む。画素定義層は、複数の発光ユニットを定義する。
【0052】
いくつかの実施形態において、表示パネルを製造する方法は、ダム構造を形成するステップをさらに含む。ダム構造は、複数の発光ユニットを囲む。ダム構造を形成するステップは、第１の有機層を形成する前であってもよい。
【0053】
以下では、図５ａから５ｇを参照しつつ、本開示のいくつかの実施形態における表示パネルの製造方法について説明する。
【0054】
いくつかの実施形態において、図５ａに示すように、複数の発光ユニット２０７が配置された表示基板２００を提供する。複数の発光ユニット２０７は、画素定義層２０６により定義される。表示基板２００上にパターニング処理を施してダム構造Ｎを形成する。ダム構造Ｎは、複数の発光ユニット２０７を囲む。
【0055】
いくつかの実施形態において、図５ｂに示すように、複数の発光ユニット２０７を覆う第１の有機材料のフィルム２０９を形成する。
【0056】
いくつかの実施形態において、第１の有機材料のフィルムを形成するステップは、インクジェット印刷技術によりオリゴマーのフィルムを形成した後、紫外線でオリゴマーのフィルムを硬化することを含む。
【0057】
いくつかの実施形態において、第１の有機材料のフィルムを形成するステップは、インクジェット印刷技術によりポリマー溶液のフィルムを形成した後、溶媒を蒸発させてポリマー溶液のフィルムを凝固することを含む。
【0058】
いくつかの実施形態において、第１の有機材料のフィルムの厚みは、約４μｍから約１２μｍの範囲にあり、例えば、約７μｍである。
【0059】
いくつかの実施形態において、図５ｃに示すように、ナノインプリント技術、反応性イオンエッチング技術、誘導結合プラズマ技術、ステンシル印刷技術、グラビア技術、またはフレキソ印刷技術により、第１の有機材料のフィルム２０９に複数の凹部が形成されている。複数の凹部のうちの１つの谷底部から画素定義層の上面までの第２の距離は約１μｍから約８μｍの範囲にあり、例えば、約２μｍである。
【0060】
いくつかの実施形態において、図５ｃに示すように、インクジェット印刷技術により、複数の凹部の間の空間において、第１の有機材料のフィルム上に複数の凸部を形成する。複数の凸部のうちの１つの山頂部から画素定義層の上面までの第１の距離は約３μｍから約１１μｍの範囲にあり、例えば、約６μｍである。
【0061】
いくつかの実施形態において、レーザ直接描画技術により、複数の凸部及び複数の凹部を第１の有機材料のフィルムに形成する。特定のパルスを印加することによりレーザのエネルギーを制御して、複数の凸部及び複数の凹部の三次元形状を形成することができる。
【0062】
いくつかの実施形態において、図５ｃに示すように、第１の有機層２０１が形成され、第１の有機層２０１の発光ユニット２０７と反対側の表面は、複数の凸部Ｍと複数の凹部Ｌとを含む。
【0063】
いくつかの実施形態において、表示パネルの製造方法は、化学気相成長技術、マグネトロンスパッタリング技術又は原子層堆積技術により第１の無機層を形成するステップをさらに含む。
【0064】
一実施形態において、図５ｄに示すように、第１の無機層２０２を形成する。第１の無機層２０２は、下方にある第１の有機層の表面と形状が一致する。その結果、第１の無機層２０２も複数の凸部と複数の凹部を含む。さらに、第１の無機層２０２はダム構造Ｎまで伸びてダム構造Ｎの上面を直接覆う。一実施形態において、第１の無機層２０２は厚みが実質的に均一である。
【0065】
いくつかの実施形態において、第１の無機層の材料にはＳｉＮｘ又はＳｉＯＮが含まれ、第１の無機層は化学気相成長技術により形成される。第１の無機層の厚みは、約７００ｎｍから約１４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約８００ｎｍである。
【0066】
いくつかの実施形態において、第１の無機層の材料にはＳｉＯ２が含まれ、第１の無機層は原子層堆積技術により形成される。第１の無機層の厚みは、約５０ｎｍから約４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約２００ｎｍである。
【0067】
いくつかの実施形態において、第１の無機層の材料にはＡｌ２Ｏ３が含まれ、第１の無機層は原子層堆積技術により形成される。第１の無機層の厚みは、約５０ｎｍから約３００ｎｍの範囲にあり、例えば、約１２０ｎｍである。
【0068】
いくつかの実施形態において、表示パネルを製造する方法は、第２の有機層を形成するステップをさらに含む。第２の有機層は、第１の有機層の形成にかかる上記実施形態と同じ方法により形成してもよい。第２の有機材料のフィルムの厚みは、約２μｍから約４μｍの範囲にあり、例えば、約２μｍである。
【0069】
一実施形態において、図５ｅに示すように、第２の有機層２０３を形成する。第２の有機層２０３は、下方にある第１の無機層２０２と形状が一致する。その結果、第２の有機層も複数の凸部と複数の凹部とを含む。
【0070】
いくつかの実施形態において、表示パネルの製造方法は、化学気相成長技術、マグネトロンスパッタリング技術又は原子層堆積技術により第２の無機層を形成するステップをさらに含む。第２の無機層の厚みは、約０．０５μｍから約３μｍの範囲にあり、約０．５μｍから約２μｍの範囲にあることが好ましい。
【0071】
いくつかの実施形態において、第２の無機層の材料にはＳｉＮｘ又はＳｉＯＮが含まれ、第２の無機層は化学気相成長技術により形成される。第２の無機層の厚みは、約７００ｎｍから約１４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約８００ｎｍである。
【0072】
いくつかの実施形態において、第２の無機層の材料にはＳｉＯ２が含まれ、第２の無機層は原子層堆積技術により形成される。第２の無機層の厚みは、約５０ｎｍから約４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約２００ｎｍである。
【0073】
いくつかの実施形態において、第２の無機層の材料にはＡｌ２Ｏ３が含まれ、第２の無機層は原子層堆積技術により形成される。第２の無機層の厚みは、約５０ｎｍから約３００ｎｍの範囲にあり、例えば、約１２０ｎｍである。
【0074】
一実施形態において、図５ｆに示すように、第２の無機層２０４を形成する。第２の無機層２０４は、下方にある第２の有機層２０３と形状が一致する。その結果、第２の無機層２０４も複数の凸部と複数の凹部とを含む。さらに、第２の無機層２０４はダム構造Ｎまで伸びてダム構造Ｎの上面を直接覆う。
【0075】
いくつかの実施形態において、表示パネルの製造方法は、インクジェット印刷技術を用いた後、凝固工程又は硬化工程を経て、第３の有機層を形成するステップをさらに含む。第３の有機層は、表示基板と反対側に実質的に平坦な上面を有する。
【0076】
一実施形態において、図５ｇに示すように、第３の有機層２０５を形成する。
【0077】
本開示のいくつかの実施形態における表示パネルの製造方法は、現在の製造工程に適合するものである。したがって、既存の製造ラインを変更する必要がなく、製造コストを低減できる。
【0078】
本明細書では本開示の原理及び実施形態について述べた。本開示の実施形態に関する説明は、本開示の方法及びその主な構想に対する理解を助けるためのものにすぎない。また、当業者にとって、本開示は本開示の範囲に関連し、技術実施形態は技術特徴の特定の組み合わせに限定されず、本発明構想から逸脱しない限り、技術特徴又は技術特徴と均等な特徴を組み合わせて構成されるその他の技術実施形態も網羅する。例えば、本開示で上述した特徴（しかし、これらに限らない）を同様の特徴と置き換えて技術実施形態を得ることができる。
【符号の説明】
【0079】
１００ 表示基板
１０１ 表示ユニット
１０２ 第１の無機層
１０３ 有機層
１０４ 第２の無機層
２００ 表示基板
２０１ 第１の有機層
２０２ 第１の無機層
２０３ 第２の有機層
２０４ 第２の無機層
２０５ 第３の有機層
２０６ 画素定義層
２０７ 発光ユニット
２０９ 第１の有機材料のフィルム
４０５ 波形
４０５’ 波形
４０６ 波形
４０６’ 波形
１０１ 表示ユニット
１０２ 第１の無機層
１０３ 有機層
１０４ 第２の無機層
２００ 表示基板
２０１ 第１の有機層
２０２ 第１の無機層
２０３ 第２の有機層
２０４ 第２の無機層
２０５ 第３の有機層
２０６ 画素定義層
２０７ 発光ユニット
２０９ 第１の有機材料のフィルム
４０５ 波形
４０５’ 波形
４０６ 波形
４０６’ 波形
【図1】
【図2】
【図3a】
【図3b】
【図4a】
【図4b】
【図4c】
【図5a】
【図5b】
【図5c】
【図5d】
【図5e】
【図5f】
【図5g】