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特許7509909シリコンゲルマニウム層のガス相選択的エッチングのための新規方法
発明の名称 シリコンゲルマニウム層のガス相選択的エッチングのための新規方法
出願人 プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド （識別番号 392032409）
特許公開件数ランキング 14468 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 12296 位（0件）（共同出願を含む）
出願人 リンデ・アクツィエンゲゼルシャフト （識別番号 519288685）
特許公開件数ランキング 1387 位（5件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 2443 位（2件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-7509909
公報発行日 2024年7月2
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7509909
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