特許 7512941 透明導電膜の製造装置および製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-07-01

(45)【発行日】2024-07-09

(54)【発明の名称】透明導電膜の製造装置および製造方法

(51)【国際特許分類】

   H01B 13/00 20060101AFI20240702BHJP

   C01B 32/168 20170101ALI20240702BHJP

【ＦＩ】

H01B13/00 503B

C01B32/168

【請求項の数】 17

(21)【出願番号】P 2021062596

(22)【出願日】2021-04-01

(65)【公開番号】P2022158014

(43)【公開日】2022-10-14

【審査請求日】2023-03-10

(73)【特許権者】

【識別番号】000004260

【氏名又は名称】株式会社デンソー

(74)【代理人】

【識別番号】110001128

【氏名又は名称】弁理士法人ゆうあい特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】小澤 宜裕

(72)【発明者】

【氏名】左右田 正浩

(72)【発明者】

【氏名】諸橋 佑紀

(72)【発明者】

【氏名】西改 健太

【審査官】神田 太郎

(56)【参考文献】

【文献】国際公開第２０１５／１７７９６７（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２００８－１７７１６５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００８－２０４８７２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｂ １３／００

Ｃ０１Ｂ ３２／１６８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

透明導電膜の製造装置において、
カーボンナノチューブを含むガスが供給される供給口（１１）を有し、前記供給口から供給されるカーボンナノチューブを含むガスが流れる流路を構成する供給通路（１０）と、
ガスに含まれるカーボンナノチューブを捕集する多孔質膜（２２）、および、前記多孔質膜のうち前記供給口側の面にカーボンナノチューブによる配線パターンを形成するための溝（２４）が設けられた緻密膜（２３）を有する捕集部材（２０）を前記供給通路の下流側で支持する支持部（２１）と、を備え、
前記供給通路は、前記供給口から前記捕集部材に向かうガスの流れ方向が、前記緻密膜の有する溝の長手方向に対して斜め又は平行になるように構成された傾斜部（１３）を有している、透明導電膜の製造装置。

【請求項2】

前記捕集部材のうち前記供給口側の捕集面（２５）の中心を含み前記捕集面に垂直な仮想線（ＶＬ）に対し、前記供給口の中心（１１１）は、前記緻密膜の有する前記溝の長手方向の一方側にずれた位置にある、請求項１に記載の透明導電膜の製造装置。

【請求項3】

前記傾斜部は、前記捕集部材のうち前記供給口側の捕集面の直上近傍において、前記捕集面に対するガスの流速ベクトルの仰角（θ１）が９０°より小さく、０°以上の範囲になるように構成されている、請求項１または２に記載の透明導電膜の製造装置。

【請求項4】

前記傾斜部は、前記捕集部材のうち前記供給口側の捕集面の直上近傍の平面視において、前記緻密膜の有する前記溝の長手方向に対するガスの流速ベクトルの入射角（θ２）が９０°より小さく、－９０°より大きい範囲になるように構成されている、請求項１ないし３のいずれか１つに記載の透明導電膜の製造装置。

【請求項5】

前記傾斜部に設けられ、前記供給口から前記捕集部材に向かうガスの流れ方向を、前記緻密膜の有する前記溝の長手方向に対して斜め又は平行にするガイド板（１４）を備える、請求項１ないし４のいずれか１つに記載の透明導電膜の製造装置。

【請求項6】

前記ガイド板は、前記捕集部材のうち前記供給口側の捕集面に対する仰角が９０°より小さく、０°以上の範囲となるように設けられており、且つ、前記ガイド板のうち前記捕集部材側の端部と前記捕集部材との間には１ｍｍ以上の隙間が設けられている、請求項５に記載の透明導電膜の製造装置。

【請求項7】

前記ガイド板は、前記傾斜部の流路中心線（ＣＬ）に対して平行を含む任意の角度に変更可能に構成されている、請求項５または６に記載の透明導電膜の製造装置。

【請求項8】

前記捕集部材に対して前記供給通路とは反対側に設けられ、前記捕集部材を通過したガスを排出する複数の排気通路（３０）を備え、
複数の前記排気通路は、前記捕集部材を複数の領域に分割した分割領域ごとに設けられている、請求項１ないし７のいずれか１つに記載の透明導電膜の製造装置。

【請求項9】

複数の前記排気通路の途中に、各排気通路を流れるガスの流量を調整可能な流量制御弁（３２）を備える、請求項８に記載の透明導電膜の製造装置。

【請求項10】

複数の前記排気通路の下流側に、複数の前記排気通路をそれぞれ流れたガスを集合させる集合空間（３３）を備える、請求項８または９に記載の透明導電膜の製造装置。

【請求項11】

複数の前記排気通路同士の間に設けられる仕切板（３１）を備え、
前記仕切板は、前記傾斜部の流路中心線に対して実質的に平行に設けられており、且つ、前記仕切板のうち前記捕集部材側の端部と前記捕集部材との間には１ｍｍ以上の隙間が設けられている、請求項８ないし１０のいずれか１つに記載の透明導電膜の製造装置。

【請求項12】

前記仕切板のうち前記傾斜部の流路中心線に対して実質的に平行に設けられている部位は、１５０ｍｍ以上の長さを有している、請求項１１に記載の透明導電膜の製造装置。

【請求項13】

透明導電膜の製造装置において、
カーボンナノチューブを含むガスが供給される供給口（１１）を有し、前記供給口から供給されるカーボンナノチューブを含むガスが流れる流路を構成する供給通路（１０）と、
ガスに含まれるカーボンナノチューブを捕集する多孔質膜（２２）、および、前記多孔質膜のうち前記供給口側の面にカーボンナノチューブによる配線パターンを形成するための溝（２４）が設けられた緻密膜（２３）を有する捕集部材（２０）を前記供給通路の下流側で支持する支持部（２１）と、
前記供給通路の内側に設けられ、前記供給口から前記捕集部材に向かうガスの流れ方向を、前記緻密膜の有する前記溝の長手方向に対して斜め又は平行にするガイド板（１４）と、を備える透明導電膜の製造装置。

【請求項14】

透明導電膜の製造装置において、
カーボンナノチューブを含むガスが供給される供給口を有し、前記供給口から供給されるカーボンナノチューブを含むガスが流れる流路を構成する供給通路（１０）と、
ガスに含まれるカーボンナノチューブを捕集する多孔質膜（２２）、および、前記多孔質膜のうち前記供給口側の面にカーボンナノチューブによる配線パターンを形成するための溝（２４）が設けられた緻密膜（２３）を有する捕集部材（２０）を前記供給通路の下流側で支持する支持部（２１）と、
前記捕集部材に対して前記供給通路とは反対側に設けられ、前記捕集部材を通過したガスを排出する複数の排気通路（３０）と、を備え、
複数の前記排気通路は、前記捕集部材を複数の領域に分割した分割領域ごとに設けられている、透明導電膜の製造装置。

【請求項15】

透明導電膜の製造方法において、
ガスに含まれるカーボンナノチューブを捕集する多孔質膜（２２）、および、カーボンナノチューブによる配線パターンを形成するための溝（２４）が設けられた緻密膜（２３）を有する捕集部材（２０）を用意すること（Ｓ１０）と、
カーボンナノチューブを含むガスが供給される供給口（１１）を有する供給通路（１０）の下流側に設けられた支持部（２１）に前記捕集部材を設置すること（Ｓ２０）と、
前記供給口から前記捕集部材に向かうガスの流れ方向が前記緻密膜の有する前記溝の長手方向に対して斜め又は平行になるように構成されている傾斜部（１３）に対し、前記供給口からカーボンナノチューブを含むガスを供給すること（Ｓ３０）と、
前記捕集部材により捕集されたカーボンナノチューブを透明基材に転写し、透明導電膜を形成すること（Ｓ５０）を含む透明導電膜の製造方法。

【請求項16】

透明導電膜の製造方法において、
ガスに含まれるカーボンナノチューブを捕集する多孔質膜（２２）、および、カーボンナノチューブによる配線パターンを形成するための溝（２４）が設けられた緻密膜（２３）を有する捕集部材（２０）を用意すること（Ｓ１０）と、
カーボンナノチューブを含むガスが供給される供給口（１１）を有する供給通路（１０）の下流側に設けられた支持部（２１）に前記捕集部材を設置すること（Ｓ２０）と、
前記捕集部材のうち前記供給口側の捕集面に対するガスの入射角を、前記緻密膜の有する前記溝の長手方向に対して平行又は斜めにするように前記供給通路に設けられたガイド板（１４）に沿って、前記供給口からカーボンナノチューブを含むガスを供給すること（Ｓ３０）と、
前記捕集部材により捕集されたカーボンナノチューブを透明基材に転写し、透明導電膜を形成すること（Ｓ５０）を含む透明導電膜の製造方法。

【請求項17】

透明導電膜の製造方法において、
ガスに含まれるカーボンナノチューブを捕集する多孔質膜（２２）、および、カーボンナノチューブによる配線パターンを形成するための溝（２４）が設けられた緻密膜（２３）を有する捕集部材（２０）を用意すること（Ｓ１０）と、
カーボンナノチューブを含むガスが供給される供給口（１１）を有する供給通路（１０）の下流側に設けられた支持部（２１）に前記捕集部材を設置すること（Ｓ２０）と、
前記供給口からカーボンナノチューブを含むガスを供給すること（Ｓ３０）と、
前記捕集部材を複数の領域に分割した分割領域ごとに前記捕集部材に対して前記供給通路とは反対側に設けられた複数の排気通路（３０）から、前記捕集部材を通過したガスを排出すること（Ｓ３５）と、
前記捕集部材により捕集されたカーボンナノチューブを透明基材に転写し、透明導電膜を形成すること（Ｓ５０）を含む透明導電膜の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、透明導電膜の製造装置および製造方法に関するものである。

【背景技術】

【0002】

従来、カーボンナノチューブを用いた透明導電膜が知られている。透明導電膜は、例えば、カメラ、ＬｉＤＡＲ、ミリ波などを用いた車用センサの機能またはフロントガラスの機能を確保するための透明ヒータとして使用することが可能である。具体的には、透明ヒータとして使用される透明導電膜は、車用センサまたはフロントガラスに着氷や曇り等が発生する場合、その車用センサまたはフロントガラスを温めることで、着氷や曇りを除去する役割を果たすものである。なお、以下の説明では、カーボンナノチューブを「ＣＮＴ」と表記する。

【0003】

特許文献１には、ＣＮＴによる格子状の配線パターンを透明基材に設けることで構成される透明導電膜の製造方法が開示されている。この製造方法は、まず、ＣＮＴによる配線パターンを形成するための溝（特許文献１では開口部）を有する感光性レジスト膜を多孔質フィルタ上に設けることで捕集部材を形成する。次に、化学気相成長法などにより気相中で合成したＣＮＴを、その捕集部材により捕集する。そして、捕集部材で捕集したＣＮＴを、透明フィルムなどの透明基材に転写し、透明導電膜を形成する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２０１４－４４８３９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、特許文献１に記載の製造方法では、配線パターンを構成するＣＮＴが、配線パターンの延びる方向に対してランダムな方向を向くか、または、その配線パターンの延びる方向に対して垂直方向を向くことが発明者らの検討により明らかとなっている。そのため、特許文献１に記載の製造方法で製造された透明導電膜は、電気抵抗値が高く、用途が限られてしまうという問題がある。

【0006】

本発明は上記点に鑑みて、ＣＮＴを用いた透明導電膜の電気抵抗値を下げることを可能とした製造装置および製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記目的を達成するため、請求項１に係る発明は、透明導電膜の製造装置において、供給通路（１０）および支持部（２１）を備える。供給通路は、ＣＮＴを含むガスが供給される供給口（１１）を有し、前記供給口から供給されるカーボンナノチューブを含むガスが流れる流路を構成する。支持部は、ガスに含まれるＣＮＴを捕集する多孔質膜（２２）、および、その多孔質膜のうち供給口側の面にＣＮＴによる配線パターンを形成するための溝（２４）が設けられた緻密膜（２３）を有する捕集部材（２０）を供給通路の下流側で支持する。供給通路は、供給口から捕集部材に向かうガスの流れ方向が、緻密膜の有する溝の長手方向に対して斜め又は平行になるように構成された傾斜部（１３）を有している。

【0008】

これによれば、ガスに含まれるＣＮＴは、その配向がガスの流れ方向に揃った状態で流れる。そのため、傾斜部を流れるガスの流れ方向を緻密膜の有する溝の長手方向に対して斜め又は平行にすることで、その溝に捕集されるＣＮＴにおいて溝の長手方向の配向度を高くすることができる。したがって、この捕集部材に捕集されたＣＮＴを透明基材に転写した透明導電膜は、配線パターンを構成するＣＮＴ同士の接点が少なくなり接点抵抗が小さくなるので、電気抵抗値を下げることができる。

【0009】

請求項１３に係る発明は、透明導電膜の製造装置において、供給通路（１０）、支持部（２１）およびガイド板（１４）を備える。供給通路は、ＣＮＴを含むガスが供給される供給口（１１）を有し、供給口から供給されるＣＮＴを含むガスが流れる流路を構成する。支持部は、ガスに含まれるＣＮＴを捕集する多孔質膜（２２）、および、多孔質膜のうち供給口側の面にＣＮＴによる配線パターンを形成するための溝（２４）が設けられた緻密膜（２３）を有する捕集部材（２０）を供給通路の下流側で支持する。ガイド板は、供給通路に設けられ、供給口から捕集部材に向かうガスの流れ方向を、緻密膜の有する溝の長手方向に対して斜め又は平行にする。

【0010】

これによれば、供給通路に設けられたガイド板により、緻密膜の有する溝に捕集されるＣＮＴにおいて溝の長手方向の配向度を高くすると共に、捕集部材の捕集面においてＣＮＴの配向の面内均一性を向上することができる。したがって、この捕集部材に捕集されたＣＮＴを透明基材に転写した透明導電膜は、電気抵抗値を下げることができる。
なお、請求項１３に係る発明に対し、請求項１～４、６～１２に記載の発明を従属させることが可能である。

【0011】

請求項１４に係る発明は、透明導電膜の製造装置において、供給通路（１０）、支持部（２１）および複数の排気通路（３０）を備える。供給通路は、ＣＮＴを含むガスが供給される供給口（１１）を有し、供給口から供給されるＣＮＴを含むガスが流れる流路を構成する。支持部は、ガスに含まれるＣＮＴを捕集する多孔質膜（２２）、および、多孔質膜のうち供給口側の面にＣＮＴによる配線パターンを形成するための溝（２４）が設けられた緻密膜（２３）を有する捕集部材（２０）を供給通路の下流側で支持する。複数の排気通路は、捕集部材に対して供給通路とは反対側に設けられ、捕集部材を通過したガスを排出する。そして、複数の排気通路は、捕集部材を複数の領域に分割した分割領域ごとに設けられている。

【0012】

これによれば、捕集部材の捕集面においてＣＮＴの捕集量の面内均一性を向上することができる。したがって、この捕集部材に捕集されたＣＮＴを透明基材に転写した透明導電膜は、配線パターンを構成するＣＮＴの量のばらつきが低減され、電気抵抗値を下げることができる。
なお、請求項１４に係る発明に対し、請求項１～７、９～１２に記載の発明を従属させることが可能である。

【0013】

請求項１５に係る発明は、透明導電膜の製造方法に関する発明である。この製造方法は、次の工程を含む。ガスに含まれるＣＮＴを捕集する多孔質膜（２２）、および、ＣＮＴによる配線パターンを形成するための溝（２４）が設けられた緻密膜（２３）を有する捕集部材を用意すること（Ｓ１０）。ＣＮＴを含むガスが供給される供給口（１１）を有する供給通路（１０）の下流側に設けられた支持部（２１）に捕集部材を設置すること（Ｓ２０）。供給口から捕集部材に向かうガスの流れ方向が緻密膜の有する溝の長手方向に対して斜め又は平行になるように構成されている傾斜部（１３）に対し、供給口からＣＮＴを含むガスを供給すること（Ｓ３０）。捕集部材により捕集されたＣＮＴを透明基材に転写し、透明導電膜を形成すること（Ｓ５０）。

【0014】

これによれば、傾斜部を流れるガスの流れ方向を緻密膜の有する溝の長手方向に対して斜め又は平行にすることで、その溝に捕集されるＣＮＴにおいて溝の長手方向の配向度を高くすることができる。したがって、この捕集部材に捕集されたＣＮＴを透明基材に転写した透明導電膜は、配線パターンを構成するＣＮＴ同士の接点が少なくなり接点抵抗が小さくなるので、電気抵抗値を下げることができる。

【0015】

請求項１６に係る発明も、透明導電膜の製造方法に関する発明である。この製造方法は、次の工程を含む。ガスに含まれるＣＮＴを捕集する多孔質膜（２２）、および、ＣＮＴによる配線パターンを形成するための溝（２４）が設けられた緻密膜（２３）を有する捕集部材（２０）を用意すること。ＣＮＴを含むガスが供給される供給口（１１）を有する供給通路（１０）の下流側に設けられた支持部（２１）に捕集部材を設置すること（Ｓ２０）。捕集部材のうち供給口側の捕集面に対するガスの入射角を、緻密膜の有する溝の長手方向に対して平行又は斜めにするように供給通路に設けられたガイド板（１４）に沿って、供給口からＣＮＴを含むガスを供給すること（Ｓ３０）。捕集部材により捕集されたＣＮＴを透明基材に転写し、透明導電膜を形成すること（Ｓ５０）。

【0016】

これによれば、供給通路に設けられたガイド板により、緻密膜の有する溝に捕集されるＣＮＴにおいて溝の長手方向の配向度を高くすると共に、捕集部材の捕集面においてＣＮＴの配向の面内均一性を向上することができる。したがって、この捕集部材に捕集されたＣＮＴを透明基材に転写した透明導電膜は、電気抵抗値を下げることができる。

【0017】

請求項１７に係る発明も、透明導電膜の製造方法に関する発明である。この製造方法は、次の工程を含む。ガスに含まれるＣＮＴを捕集する多孔質膜（２２）、および、ＣＮＴによる配線パターンを形成するための溝（２４）が設けられた緻密膜（２３）を有する捕集部材（２０）を用意すること（Ｓ１０）。ＣＮＴを含むガスが供給される供給口（１１）を有する供給通路（１０）の下流側に設けられた支持部（２１）に捕集部材を設置すること（Ｓ２０）。供給口からＣＮＴを含むガスを供給すること（Ｓ３０）。捕集部材を複数の領域に分割した分割領域ごとに捕集部材に対して供給通路とは反対側に設けられた複数の排気通路（３０）から、捕集部材を通過したガスを排出すること（Ｓ３５）。捕集部材により捕集されたＣＮＴを透明基材に転写し、透明導電膜を形成すること（Ｓ５０）。

【0018】

これによれば、捕集部材の捕集面においてＣＮＴの捕集量の面内均一性を向上することができる。したがって、この捕集部材に捕集されたＣＮＴを透明基材に転写した透明導電膜は、配線パターンを構成するＣＮＴの量のばらつきが低減され、電気抵抗値を下げることができる。

【0019】

なお、各構成要素等に付された括弧付きの参照符号は、その構成要素等と後述する実施形態に記載の具体的な構成要素等との対応関係の一例を示すものである。

【図面の簡単な説明】

【0020】

【図1】第１実施形態に係る透明導電膜の製造装置の断面構成を示す図である。

【図2】図１のＩＩ―ＩＩ線の断面図である。

【図3】第１実施形態に係る透明導電膜の製造方法を示すフローチャートである。

【図4】比較例の透明導電膜の製造装置の断面構成を示す図である。

【図5A】比較例の透明導電膜の製造装置において捕集部材の溝にＣＮＴが捕集される様子を説明するための説明図である。

【図5B】第１実施形態の透明導電膜の製造装置において捕集部材の溝にＣＮＴが捕集される様子を説明するための説明図である。

【図6A】比較例の透明導電膜の製造装置により製造された透明導電膜の配線パターンを構成するＣＮＴの模式図である。

【図6B】第１実施形態の透明導電膜の製造装置により製造された透明導電膜の配線パターンを構成するＣＮＴの模式図である。

【図7】溝の長手方向の一方側からＣＮＴを含むガスを供給した場合に、捕集部材の溝にＣＮＴが捕集される様子を説明するための説明図である。

【図8】透明導電膜の配線パターンを構成するＣＮＴの配向度の算出方法の説明図である。

【図9】透明導電膜の配線パターンを構成するＣＮＴの配向度と透明導電膜の抵抗減少率との関係に関する実験結果を示したグラフである。

【図10】第２実施形態に係る透明導電膜の製造装置の断面構成を示す図である。

【図11】図１０のＸＩ―ＸＩ線の断面図である。

【図12】第２実施形態に係る透明導電膜の製造方法を示すフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0021】

以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、同一符号を付し、その説明を省略する。

【0022】

（第１実施形態）
第１実施形態に係る透明導電膜の製造装置および製造方法について、図面を参照しつつ説明する。第１実施形態の製造装置および製造方法により形成される透明導電膜は、薄膜状の透明基材の一方の面に、カーボンナノチューブ（以下、ＣＮＴという）により構成される所定の配線パターンを備えたものである。透明導電膜は、例えば、カメラ、ＬｉＤＡＲ、ミリ波などを用いた車用センサの機能またはフロントガラスの機能を確保するための透明ヒータとして使用することが可能である。

【0023】

図１および図２に示すように、第１実施形態の製造装置１は、ＣＮＴを含むガスが流れる流路を構成する供給通路１０、および、その供給通路１０の下流側で捕集部材２０を支持する支持部２１などを備えている。

【0024】

供給通路１０のうち支持部２１から上方に離れた場所に供給口１１が設けられている。図１の矢印Ａに示すように、供給口１１から供給通路１０の内側に、例えば浮遊触媒法などにより気相中で合成されたＣＮＴを含むガスが供給される。供給通路１０は、供給口１１から供給されるＣＮＴを含むガスが流れる流路を構成する。供給通路１０を流れるＣＮＴを含むガスは、供給通路１０の下流側に設けられた支持部２１に配置される捕集部材２０を通過する際、そのガスに含まれるＣＮＴが捕集部材２０により捕集される。

【0025】

捕集部材２０は、多孔質膜２２と、その多孔質膜２２のうち供給口１１側を向く面に設けられる緻密膜２３とを有している。多孔質膜２２は、ガスを通過させると共に、そのガスに含まれるＣＮＴを捕集することが可能な多孔質フィルタである。緻密膜２３は、ＣＮＴおよびガスを殆ど通過させることの無いマスクであり、例えば感光性レジストまたは金属製の薄板などで構成されている。緻密膜２３には、ＣＮＴによる所定の配線パターンを形成するための複数の溝２４が設けられている。複数の溝２４は、緻密膜２３の厚み方向に貫通している。複数の溝２４の開口幅は、例えば数μｍ～数十μｍに設定されており、複数の溝２４のピッチは、例えば数十μｍ～数百μｍに設定されている。なお、図２では、複数の溝２４の延びる向き（すなわち、溝２４の長手方向）をわかり易く示すため、実際のものよりも太く、且つ、広いピッチで記載している。また、本実施形態では、所定の配線パターンをストライプ状として説明するが、これに限らず、配線パターンは、複数の溝が平行に延びる部位を有していればよく、例えば、格子状、ハッチング状、クロスハッチング状など、種々の形状を採用することができる。
以下の説明では、捕集部材２０の有する緻密膜２３のうち供給口１１側の面を「捕集部材２０の捕集面２５」といい、緻密膜２３に設けられた複数の溝２４を「捕集部材２０の溝２４」といい、緻密膜２３のうち溝２４を除く部位を「マスク部２６」という。

【0026】

図１に示すように、供給通路１０は、上述した供給口１１と、その供給口１１から下流側に向かい流路面積が次第に拡大する拡大部１２と、その拡大部１２の下流側に設けられた傾斜部１３とを有している。傾斜部１３は、供給口１１から捕集部材２０に向かうガスの流れ方向が、捕集部材２０の溝２４の長手方向に対して斜め又は平行になるように構成されている。

【0027】

図１に示すように、捕集部材２０の捕集面２５の中心を含み捕集面２５に垂直な仮想線ＶＬに対し、供給口１１の中心１１１は、捕集部材２０の溝２４の長手方向の一方側にずれた位置にある。なお、図２は、図１のＩＩ－ＩＩ線の断面図であるが、供給口１１の位置を二点鎖線で示している。詳細には、供給口１１の中心１１１は、捕集部材２０の外縁２７よりも、捕集部材２０の溝２４の長手方向の一方側にずれた位置にある。そのため、図１に示した仮想線ＶＬに対し、傾斜部１３の流路中心線ＣＬは、捕集部材２０の溝２４の長手方向の一方側に傾斜している。これにより、傾斜部１３のガスの流れ方向は、捕集部材２０の溝２４の長手方向に対して斜め又は平行となる。

【0028】

具体的には、図１に示すように、傾斜部１３は、捕集部材２０の捕集面２５の直上近傍において、捕集面２５に対するガスの流速ベクトルの仰角θ１が９０°より小さく、０°以上の範囲になるように構成されている。なお、傾斜部１３は、捕集部材２０の捕集面２５の直上近傍において、捕集面２５に対するガスの流速ベクトルの仰角θ１が２５°以下から０°以上の範囲となるように構成されていることがより好ましい。これにより、捕集部材２０の溝２４に捕集されるＣＮＴにおいて溝２４の長手方向に対する配向度をより大きくすることが可能となる。なお、捕集部材２０の捕集面２５の直上近傍とは、例えば、捕集部材２０の捕集面２５から供給口１１側に１ｍｍ程度離れた位置に設定される。

【0029】

また、図２に示すように、傾斜部１３は、捕集部材２０の捕集面２５の直上近傍の平面視において、捕集部材２０の溝２４の長手方向に対するガスの流速ベクトルの入射角θ２が９０°より小さく、－９０°より大きい範囲になるように構成されている。なお、傾斜部１３は、捕集部材２０の捕集面２５の直上近傍の平面視において、捕集部材２０の溝２４の長手方向に対するガスの流速ベクトルの入射角θ２が１５°以下から－１５°以上の範囲となるように構成されていることがより好ましい。これにより、捕集部材２０の溝２４に捕集されるＣＮＴにおいて溝２４の長手方向に対する配向度をより大きくすることが可能となる。なお、本明細書において平面視とは、捕集面２５に対して垂直方向供給口１１側から捕集面２５を視た状態をいう。

【0030】

具体的に、第１実施形態の製造装置１において、傾斜部１３は、その流路中心線ＣＬが、捕集部材２０の捕集面２５に対して仰角θ１が２５°以下から０°以上の範囲となるように構成されている。また、第１実施形態の製造装置１において、傾斜部１３は、その流路中心線ＣＬが、捕集部材２０の捕集面２５に垂直且つ溝２４の長手方向に平行な仮想平面ＶＳに対して実質的に平行となるように構成されている。なお、実質的に平行とは、傾斜部１３の流路中心線ＣＬと仮想平面ＶＳとが平行な状態に加え、製造公差などによる所定範囲（例えば±５°程度）の位置ずれを含むものである。

【0031】

次に、第１実施形態の製造装置１を用いた透明導電膜の製造方法について、図３のフローチャートを参照して説明する。

【0032】

まず、ステップＳ１０で、上述した多孔質膜２２および緻密膜２３を有する捕集部材２０を用意する。
次に、ステップＳ２０で、製造装置１の支持部２１に捕集部材２０を設置する。このとき、支持部２１に捕集部材２０を設置する向きは、捕集部材２０の溝２４の長手方向の一方側に供給通路１０の供給口１１があるようにする。

【0033】

続いて、ステップＳ３０で、供給口１１から供給通路１０の内側にＣＮＴを含むガスを供給する。そうすると、ＣＮＴを含むガスは、拡大部１２および傾斜部１３を流れて捕集部材２０を通過する。ＣＮＴを含むガスが捕集部材２０を通過する際、ガスに含まれるＣＮＴが捕集部材２０により捕集される。本実施形態では、傾斜部１３において供給口１１から捕集部材２０に向かうガスの流れ方向が捕集部材２０の溝２４の長手方向に対して斜め又は平行となるので、捕集部材２０の溝２４に捕集されるＣＮＴは、溝２４の長手方向に対する配向度が大きいものとなる。

【0034】

次に、ステップＳ４０で、ＣＮＴを含むガスの供給開始から所定時間が経過した後、支持部２１から捕集部材２０を取り外す。
続いて、ステップＳ５０で、捕集部材２０のうちＣＮＴが捕集された緻密膜２３側の面に図示しない透明基材を配置し、透明基材を捕集部材２０に押し当てる。なお、透明基材として、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）などの樹脂材料または石英ガラスなどの無機材料を用いることが可能である。その後、その透明基材から捕集部材２０を取り外すことで、透明基材にＣＮＴが転写される。これにより、透明基材の一方の面にＣＮＴによる配線パターンが形成される。

【0035】

次に、ステップＳ６０で、ＣＮＴによる配線パターンが形成された透明基材を、ドーパント物質を含む溶液にディッピングするか、或いは、その透明基材にドーパント物質を含む溶液を塗布し、その後、乾燥させることで透明導電膜が完成する。

【0036】

続いて、比較例の透明導電膜の製造装置１００と、第１実施形態の透明導電膜の製造装置１とを比較しつつ、透明導電膜におけるＣＮＴの配向度と電気抵抗値との関係について説明する。

【0037】

図４に示すように、比較例の透明導電膜の製造装置１００は、供給通路１０が供給口１１と拡大部１２を有しており、傾斜部１３を有していない。供給口１１の中心１１１は、捕集部材２０の捕集面２５の中心を含み捕集面２５に垂直な仮想線ＶＬ上に位置している。そのため、比較例の製造装置１００では、供給口１１から捕集部材２０に向かい拡大部１２を流れるガスの流れ方向が、捕集部材２０の捕集面２５に対して略垂直になる。

【0038】

図５Ａは、比較例の製造装置１００において、捕集部材２０の捕集面２５の直上近傍の平面視を示したものである。図５Ａでは、マスク部２６の直上近傍から溝２４に流れ込む気流の方向と、その気流に追従して移動するＣＮＴを示している。比較例の製造装置１００では、マスク部２６から溝２４に向かう気流は、溝２４の長手方向に対して垂直な方向から溝２４に流れ込み、その溝２４に露出する多孔質膜２２を通過する。このとき、その気流に追従して移動するＣＮＴは、気流と同様に溝２４の長手方向に対して垂直な方向から溝２４に入り込み、その溝２４に露出する多孔質膜２２に捕集される。そのため、比較例の製造装置１００では、捕集部材２０の溝２４に露出する多孔質膜２２に捕集されるＣＮＴの配向はランダムな状態となる。

【0039】

それに対し、図５Ｂは、第１実施形態の製造装置１において、捕集部材２０の捕集面２５の直上近傍の平面視を示したものである。図５Ｂでも、マスク部２６の直上近傍から溝２４に流れ込む気流の方向と、その気流に追従して移動するＣＮＴを示している。第１実施形態の製造装置１では、マスク部２６から溝２４に向かう気流は、溝２４の長手方向に対して斜め方向から溝２４に流れ込み、その溝２４に露出する多孔質膜２２を通過する。このとき、その気流に追従して移動するＣＮＴは、気流と同様に溝２４の長手方向に対して斜め方向から溝２４に入り込み、その溝２４に露出する多孔質膜２２に捕集される。そのため、第１実施形態の製造装置１では、捕集部材２０の溝２４に露出する多孔質膜２２に捕集されるＣＮＴの配向が溝２４の長手方向に比較的揃った状態（すなわち、ＣＮＴの配向度が比較例に比べて高い状態）となる。

【0040】

図６Ａは、比較例の製造装置１００により捕集されたＣＮＴを転写した透明導電膜の配線パターンを構成するＣＮＴを模式的に示したものである。図６Ａに示すように、比較例の製造装置１００を使用した場合、透明導電膜の配線パターンを構成するＣＮＴの配向はランダムな状態となる。そのため、この透明導電膜は、配線パターンを構成するＣＮＴ同士の接点の数が多くなり、接点抵抗が大きくなるので、電気抵抗値が高くなるといった問題がある。

【0041】

それに対し、図６Ｂは、第１実施形態の製造装置１により捕集されたＣＮＴを転写した透明導電膜の配線パターンを構成するＣＮＴを模式的に示したものである。図６Ｂに示すように、第１実施形態の製造装置１を使用した場合、透明導電膜の配線パターンを構成するＣＮＴの配向は、配線パターンの長手方向に比較的揃った状態となる。そのため、この透明導電膜は、配線パターンを構成するＣＮＴ同士の接点の数が少なく、接点抵抗が小さくなるので、電気抵抗値を下げることができる。

【0042】

また、図７は、第１実施形態の製造装置１のように、溝２４の長手方向の一方側からＣＮＴを含むガスを供給した場合に、捕集部材２０の溝２４にＣＮＴが捕集される様子を説明するための説明図である。なお、図７も、図５Ｂと同じく、捕集部材２０の捕集面２５の直上近傍の平面視を示したものである。

【0043】

図７の破線Ｆ１～Ｆ８は、マスク部２６の直上近傍から溝２４に流れ込む気流を示している。破線Ｆ１～Ｆ８に示すように、溝２４から遠い場所から溝２４に流れ込む気流の入射角は、溝２４に近い場所から溝２４に流れ込む気流の入射角に比べて、溝２４の長手方向に対する角度が大きくなる。そのため、溝２４から遠い場所から溝２４に流れ込む気流に追従して移動するＣＮＴは、溝２４に近い場所から溝２４に流れ込む気流に追従して移動するＣＮＴに比べて、溝２４に捕集されたときのＣＮＴの角度が溝２４の長手方向に対して大きいものとなる。その反対に、溝２４に近い場所から溝２４に流れ込む気流に追従して移動するＣＮＴは、溝２４から遠い場所から溝２４に流れ込む気流に追従して移動するＣＮＴに比べて、溝２４に捕集されたときのＣＮＴの角度が溝２４の長手方向に対して小さいものとなる。このことから、捕集部材２０の複数の溝２４のピッチを出来るだけ狭くすることで、溝２４に近い場所から溝２４に流れ込む気流を増やし、溝２４に捕集されるＣＮＴの配向度を高くすることが可能である。

【0044】

ここで、ＣＮＴの配向度の算出方法を、図８を参照しつつ説明する。
まず、走査電子顕微鏡を用いて、ＣＮＴにより構成された配線パターンの膜の様子を観察し、画像解析を行う。具体的には、走査電子顕微鏡により得られた画像を２値化し、フーリエ変換することで、図８に示すようなパワースペクトルのグラフをつくる。そして、そのグラフの半値幅Ｗを用いて下記の式（１）から配向度を算出する。

【数1】

【0045】

図９は、透明導電膜の配線パターンを構成するＣＮＴの配向度と、透明導電膜の電気抵抗減少率との関係に関し、発明者らが行った実験の結果を示すグラフである。
図９に示すように、配向度を約７％（すなわち無配向）から約２４％に高めることで、透明導電膜の抵抗減少率が２０％以上となることがわかる。したがって、第１実施形態の製造装置１を用いて製造した透明導電膜は、配線パターンを構成するＣＮＴの配向度を高めることで、電気抵抗値を下げることが可能である。

【0046】

以上説明した第１実施形態に係る透明導電膜の製造装置１および製造方法は、次の作用効果を奏するものである。

【0047】

（１）透明導電膜の製造装置１において、供給通路１０が有する傾斜部１３は、供給口１１から捕集部材２０に向かうガスの流れ方向を、捕集部材２０の溝２４の長手方向に対して斜め又は平行にするように構成されている。
これによれば、ガスに含まれるＣＮＴは、その配向がガスの流れ方向に揃った状態で流れる。そのため、供給通路１０に傾斜部１３を設けたことで、捕集部材２０の溝２４に捕集されるＣＮＴの配向度を高くすることが可能となる。したがって、この捕集部材２０に捕集されたＣＮＴを透明フィルムなどの透明基材に転写した透明導電膜は、配線パターンを構成するＣＮＴ同士の接点が少なくなり、接点抵抗が小さくなるので、電気抵抗値を下げることができる。

【0048】

（２）透明導電膜の製造装置１において、捕集部材２０の捕集面２５の中心を含み捕集面２５に垂直な仮想線ＶＬに対し、供給口１１の中心１１１は、捕集部材２０の溝２４の長手方向の一方側にずれた位置にある。
これによれば、供給通路１０のガスの流れ方向を、捕集部材２０の溝２４の長手方向に対して斜め又は平行にすることが可能である。

【0049】

（３）透明導電膜の製造装置１において、傾斜部１３は、捕集部材２０の捕集面２５の直上近傍において、捕集面２５に対するガスの流速ベクトルの仰角θ１が９０°より小さく、０°以上の範囲になるように構成されている。
これによれば、捕集部材２０の溝２４に捕集されるＣＮＴの配向度を高くすることができる。なお、捕集部材２０の捕集面２５の直上近傍において、捕集面２５に対するガスの流速ベクトルの仰角θ１は２５°以下から０°以上の範囲がより好ましい。

【0050】

（４）透明導電膜の製造装置において、傾斜部は、捕集部材の捕集面の直上近傍の平面視において、捕集部材の溝の長手方向に対するガスの流速ベクトルの入射角が９０°より小さく、－９０°より大きい範囲になるように構成されている。
これによれば、捕集部材の溝に捕集されるＣＮＴの配向度を高くすることができる。なお、捕集部材の捕集面の直上近傍の平面視において、捕集部材の溝の長手方向に対するガスの流速ベクトルの入射角は１５°以下から－１５°以上の範囲がより好ましい。

【0051】

（５）第１実施形態に係る透明導電膜の製造方法によれば、傾斜部１３を流れるガスの流れ方向を捕集部材２０の溝２４の長手方向に対して斜め又は平行にすることで、捕集部材２０の溝２４に捕集されるＣＮＴの配向度を高くすることができる。したがって、この捕集部材２０に捕集されたＣＮＴを透明フィルムなどの透明基材に転写した透明導電膜は、配線パターンを構成するＣＮＴ同士の接点が少なくなり接点抵抗が小さくなるので、電気抵抗値を下げることができる。

【0052】

（第２実施形態）
次に、第２実施形態に係る透明導電膜の製造装置１および製造方法について、図面を参照しつつ説明する。

【0053】

図１０および図１１に示すように、第２実施形態の製造装置１は、供給通路１０、支持部２１、ガイド板１４、排気通路３０、仕切板３１、流量制御弁３２、集合空間３３などを備えている。
なお、図１０では、断面で示された複数の仕切板３１の符号の末尾にａ～ｃのアルファベットを付している。また、図１１は、図１０のＸＩ－ＸＩ線の断面図であるが、ガイド板１４を省略している。また、図１１では、捕集部材２０の下流側に配置される複数の仕切板３１のうち捕集部材２０側の端部の位置を、符号３１ａ～３１ｄを付した破線または一点鎖線で示している。以下の説明では、説明の便宜上、複数の仕切板３１の符号の末尾にａ～ｄのアルファベット付すことがある。

【0054】

第２実施形態の製造装置１において、供給通路１０、支持部２１、およびその支持部２１に支持される捕集部材２０の構成は、第１実施形態で説明したものと同様であるので、説明を省略する。

【0055】

図１０に示すように、ガイド板１４は、供給通路１０の内側に複数個設けられている。ガイド板１４は、供給口１１から捕集部材２０に向かうガスの流れ方向を、捕集部材２０の溝２４の長手方向に対して斜め又は平行にするように構成されている。また、ガイド板１４のうち捕集部材２０側の端部と、捕集部材２０の捕集面２５との間には、所定の隙間Ｓ１が設けられている。その所定の隙間Ｓ１は、例えば１ｍｍ以上に設定されている。

【0056】

また、ガイド板１４は、傾斜部１３の流路中心線ＣＬに対して平行を含む任意の角度に変更可能に構成されている。具体的には、図１０の破線１４１に示したように、ガイド板１４は、そのガイド板１４の捕集部材２０側の端部付近に設けられた図示しない回転軸を中心として、任意の角度に変更可能である。また、ガイド板１４は、捕集部材２０の捕集面２５に垂直且つ溝２４の長手方向に平行な仮想平面ＶＳ（図１１参照）に対して実質的に垂直となるように設けられている。なお、実質的に垂直とは、ガイド板１４と仮想平面ＶＳとが垂直な状態に加え、製造公差などによる所定範囲（例えば±５°程度）の位置ずれを含むものである。

【0057】

ガイド板１４は、捕集部材２０の捕集面２５の直上近傍において、捕集面２５に対するガスの流速ベクトルの仰角θ１が９０°より小さく、０°以上の範囲になるように構成されている。なお、ガイド板１４は、捕集部材２０の捕集面２５の直上近傍において、捕集面２５に対するガスの流速ベクトルの仰角θ１が２５°以下から０°以上の範囲となるように構成されていることがより好ましい。具体的に、第２実施形態では、ガイド板１４は、捕集部材２０の捕集面２５に対して仰角θ１が２５°以下から０°以上の範囲となるように構成されている。

【0058】

排気通路３０は、捕集部材２０に対して供給通路１０とは反対側（すなわち捕集部材２０の下流側）に設けられ、捕集部材２０を通過したガスを排出する通路である。排気通路３０には、複数の仕切板３１が設けられている。そのため、捕集部材２０の下流側には、複数の仕切板３１で仕切られた複数の排気通路３０が形成されている。

【0059】

複数の仕切板３１は、傾斜部１３の流路中心線ＣＬに対して実質的に平行に設けられている。なお、実質的に平行とは、傾斜部１３の流路中心線ＣＬと仕切板３１とが平行な状態に加え、製造公差などによる所定範囲（例えば±５°程度）の位置ずれを含むものである。また、図１０の断面視で示された複数の仕切板３１ａ～３１ｃは、捕集部材２０の捕集面２５に垂直且つ溝２４の長手方向に平行な仮想平面ＶＳ（図１１参照）に対して実質的に垂直となるように構成されている。なお、実質的に垂直とは、仕切板３１ａ～３１ｃと仮想平面ＶＳとが垂直な状態に加え、製造公差などによる所定範囲（例えば±５°程度）の位置ずれを含むものである。また、複数の仕切板３１は、図１１に一点鎖線で示された仕切板３１ｄのように、仮想平面ＶＳに対して実質的に平行となるように配置されるものを含んでいてもよい。なお、図１１に一点鎖線で示された仕切板３１ｄは、図１０において、その仕切板３１ｄのうち捕集部材２０側の端部に符号３１ｄを付している。

【0060】

図１０に示すように、仕切板３１ａ～３１ｃのうち傾斜部１３の流路中心線ＣＬに対して実質的に平行に設けられている部位の長さＬ１は、例えば１５０ｍｍ以上に設定されている。また、仕切板３１ａ～３１ｄのうち捕集部材２０側の端部と、捕集部材２０の下流側の面との間には、所定の隙間Ｓ２が設けられている。その所定の隙間Ｓ２は、例えば１ｍｍ以上に設定される。

【0061】

上述したように、図１１では、捕集部材２０の下流側に配置される仕切板３１のうち捕集部材２０側の端部の位置を、符号３１ａ～３１ｄを付した破線または一点鎖線で示している。この破線および一点鎖線で分割された領域を、分割領域と呼ぶこととする。なお、第２実施形態では８個の分割領域が形成されている。図１０に示す複数の排気通路３０は、捕集部材２０を複数の領域に分割した分割領域ごとに設けられている。

【0062】

複数の排気通路３０の下流側には、複数の排気通路３０をそれぞれ流れたガスを集合させる集合空間３３が設けられている。なお、集合空間３３の下流側には、図示しないファンを設けてもよい。その場合、ファンの駆動により集合空間３３および複数の排気通路３０に負圧が発生する。その際、集合空間３３は、複数の排気通路３０の負圧を均一化することが可能である。

【0063】

また、複数の排気通路３０の途中には、各排気通路３０を流れるガスの流量を制御するための複数の流量制御弁３２が設けられている。複数の流量制御弁３２の開弁度を調整することで、複数の排気通路３０を流れるガスの流量を制御できる。

【0064】

次に、第２実施形態の製造装置１を用いた透明導電膜の製造方法について、図１２のフローチャートを参照して説明する。

【0065】

まず、ステップＳ１０で、多孔質膜２２および緻密膜２３を有する捕集部材２０を用意する。
次に、ステップＳ２０で、製造装置１の支持部２１に捕集部材２０を設置する。このとき、支持部２１に捕集部材２０を設置する向きは、捕集部材２０の溝２４の長手方向の一方側に供給通路１０の供給口１１があるようにする。

【0066】

続いて、ステップＳ２５で、供給通路１０の内側に設けられたガイド板１４の角度を調整する。ガイド板１４は、傾斜部１３から捕集部材２０に流れるガスの流速ベクトルの仰角θ１が適切な角度となるように調整される。また、このとき、各排気通路３０に設けられた流量制御弁３２の開弁度を調整してもよい。

【0067】

次に、ステップＳ３０で、供給口１１から供給通路１０の内側にＣＮＴを含むガスを供給する。そうすると、ＣＮＴを含むガスは、傾斜部１３をガイド板１４に沿って流れて捕集部材２０を通過する。そして、ＣＮＴを含むガスが捕集部材２０を通過する際、ガスに含まれるＣＮＴが捕集部材２０により捕集される。

【0068】

続いて、ステップＳ３５で、捕集部材２０を通過したガスを複数の排気通路３０を経由して排出する。なお、上記ステップＳ３０とステップＳ３５は、同時に実行される。第２実施形態では、捕集部材２０を通過したガスを複数の排気通路３０を経由して排出することで、捕集部材２０の捕集面２５においてＣＮＴの捕集量の面内均一性を向上することができる。

【0069】

次に、ステップＳ４０で、ＣＮＴを含むガスの供給開始から所定時間が経過した後、支持部２１から捕集部材２０を取り外す。
続いて、ステップＳ５０で、捕集部材２０のうちＣＮＴが捕集された緻密膜２３側の面に図示しない透明基材を配置し、透明基材を捕集部材２０に押し当てる。その後、その透明基材から捕集部材２０を取り外すことで、透明基材にＣＮＴが転写される。これにより、透明基材の一方の面にＣＮＴによる配線パターンが形成される。

【0070】

次に、ステップＳ６０で、ＣＮＴによる配線パターンが形成された透明基材を、ドーパント物質を含む溶液にディッピングするか、或いは、その透明基材にドーパント物質を含む溶液を塗布し、その後、乾燥させることで透明導電膜が完成する。

【0071】

以上説明した第２実施形態に係る透明導電膜の製造装置１および製造方法は、次の作用効果を奏するものである。

【0072】

（１）透明導電膜の製造装置１は、傾斜部１３の内側にガイド板１４を備えている。ガイド板１４は、供給口１１から捕集部材２０に向かうガスの流れ方向を、緻密膜２３の有する溝２４の長手方向に対して斜め又は平行にすることが可能である。
これによれば、ガスの流れ方向をガイド板１４により制御し、捕集部材２０の溝２４に捕集されるＣＮＴの配向度を高くすると共に、捕集部材２０の捕集面２５においてＣＮＴの配向の面内均一性を向上することができる。したがって、この捕集部材２０に捕集されたＣＮＴを透明フィルムなどの透明基材に転写した透明導電膜は、電気抵抗値を下げることができる。

【0073】

（２）透明導電膜の製造装置１において、ガイド板１４は、捕集部材２０の捕集面２５に対する仰角θ１が９０°より小さく、０°以上の範囲となるように設けられており、且つ、捕集部材２０の捕集面２５から１ｍｍ以上の距離をあけて設けられている。
これによれば、捕集部材２０の溝２４に捕集されるＣＮＴの配向度を高くすることができる。なお、捕集部材２０の捕集面２５の直上近傍において、捕集面２５に対するガスの流速ベクトルの仰角θ１は２５°以下から０°以上の範囲がより好ましい。
また、ガイド板１４と捕集面２５との距離を１ｍｍ以上あけることで、捕集面２５のうち、ガイド板１４の下端に対応する箇所にもガスを流してＣＮＴを捕集することができる。

【0074】

（３）透明導電膜の製造装置１において、ガイド板１４は、傾斜部１３の流路中心線ＣＬに対して平行を含む任意の角度に変更可能に構成されている。
これによれば、傾斜部１３を流れるガスの向きを調整することが可能である。そのため、捕集部材２０の溝２４に捕集されるＣＮＴの配向度を高くすると共に、捕集部材２０の捕集面２５においてＣＮＴの配向の面内均一性を向上することができる。

【0075】

（４）透明導電膜の製造装置１は、捕集部材２０の下流側に複数の排気通路３０を備えている。複数の排気通路３０は、捕集部材２０の捕集面２５を複数の領域に分割した分割領域ごとに設けられている。
これによれば、捕集部材２０の捕集面２５においてＣＮＴの捕集量の面内均一性を向上することができる。したがって、この捕集部材２０に捕集されたＣＮＴを透明フィルムなどの透明基材に転写した透明導電膜は、配線パターンを構成するＣＮＴの量のばらつきが低減され、電気抵抗値を下げることができる。

【0076】

（５）透明導電膜の製造装置１は、各排気通路３０の途中に流量制御弁３２を備えている。
これによれば、流量制御弁３２により各排気通路３０を流れるガスの流量を制御することで、捕集部材２０の捕集面２５においてＣＮＴの捕集量の面内均一性を向上することができる。

【0077】

（６）透明導電膜の製造装置１は、複数の排気通路３０の下流側に、複数の排気通路３０をそれぞれ流れたガスを集合させる集合空間３３を備えている。
これによれば、集合空間３３の下流側にファンを設けた場合、複数の排気通路３０の負圧を均一化することが可能となり、捕集部材２０の捕集面２５においてＣＮＴの捕集量の面内均一性を向上することができる。

【0078】

（７）透明導電膜の製造装置１は、複数の排気通路３０同士の間に設けられる仕切板３１を備える。仕切板３１は、傾斜部１３の流路中心線ＣＬに対して実質的に平行に設けられており、且つ、捕集部材２０から１ｍｍ以上の距離をあけて設けられている。
これによれば、供給通路１０から捕集部材２０を通過して複数の排気通路３０を流れるガスの流れ方向を、捕集部材２０の溝２４の長手方向に対して斜め又は平行にすることが可能となる。そのため、捕集部材２０の溝２４に捕集されるＣＮＴの配向度を高くすると共に、捕集部材２０の捕集面２５においてＣＮＴの配向の面内均一性を向上することができる。
また、捕集部材２０と仕切板３１との距離を１ｍｍ以上あけることで、捕集面２５のうち、仕切板３１の上端に対応する箇所にもガスを流してＣＮＴを捕集することができる。

【0079】

（８）透明導電膜の製造装置１において、仕切板３１のうち傾斜部１３の流路中心線ＣＬに対して実質的に平行に設けられている部位の長さＬ１は、例えば１５０ｍｍ以上に設定されている。
これによれば、供給通路１０から捕集部材２０を通過して複数の排気通路３０を流れるガスの流れ方向を、捕集部材２０の溝２４の長手方向に対して斜め又は平行にすることが可能となる。そのため、捕集部材２０の溝２４に捕集されるＣＮＴの配向度を高くすると共に、捕集部材２０の捕集面２５においてＣＮＴの配向の面内均一性を向上することができる。

【0080】

（９）第２実施形態に係る透明導電膜の製造方法によれば、ＣＮＴを含むガスをガイド板１４に沿って捕集部材２０へ流すことで、捕集部材２０の溝２４に捕集されるＣＮＴの配向度を高くすると共に、捕集部材２０の捕集面２５においてＣＮＴの配向の面内均一性を向上することができる。したがって、この捕集部材２０に捕集されたＣＮＴを透明フィルムなどの透明基材に転写した透明導電膜は、電気抵抗値を下げることができる。

【0081】

（１０）また、第２実施形態に係る透明導電膜の製造方法によれば、捕集部材２０を通過したガスを複数の排気通路３０から排出することで、捕集部材２０の捕集面２５においてＣＮＴの捕集量の面内均一性を向上することができる。したがって、この捕集部材２０に捕集されたＣＮＴを透明フィルムなどの透明基材に転写した透明導電膜は、配線パターンを構成するＣＮＴの量のばらつきが低減され、電気抵抗値を下げることができる。

【0082】

（他の実施形態）
本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。また、上記各実施形態および比較例は、互いに無関係なものではなく、組み合わせが明らかに不可な場合を除き、適宜組み合わせが可能である。

【0083】

また、上記各実施形態において、実施形態を構成する要素は、特に必須であると明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。

【0084】

また、上記各実施形態において、実施形態の構成要素の個数、数値、量、範囲等の数値が言及されている場合、特に必須であると明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではない。

【0085】

また、上記各実施形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に特定の形状、位置関係等に限定される場合等を除き、その形状、位置関係等に限定されるものではない。

【0086】

例えば、上記第２実施形態では、供給通路１０の内側に複数のガイド板１４を配置したが、これに限らず、ガイド板１４は１個でもよい。或いは、上記第１実施形態または比較例で説明した製造装置１の供給通路１０にガイド板１４を設けてもよい。或いは、上記第２実施形態で説明した製造装置１からガイド板１４を除いてもよい。

【0087】

また、例えば、上記第２実施形態では、捕集部材２０の下流側に複数の排気通路３０を設けたが、これに限らず、排気通路３０は一つの通路としてもよい。或いは、上記第１実施形態または比較例で説明した製造装置１に一つまたは複数の排気通路３０を設けてもよい。或いは、上記第２実施形態で説明した製造装置１から排気通路３０を除いてもよい。

【符号の説明】

【0088】

１ 透明導電膜の製造装置
１０ 供給通路
１１ 供給口
１３ 傾斜部
２０ 捕集部材
２１ 支持部
２２ 多孔質膜
２３ 緻密膜
２４ 溝

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5A】

【図5B】

【図6A】

【図6B】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】