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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-07-04
(45)【発行日】2024-07-12
(54)【発明の名称】光学フィルム積層体
(51)【国際特許分類】
B32B 7/023 20190101AFI20240705BHJP
B32B 27/30 20060101ALI20240705BHJP
G02B 1/111 20150101ALI20240705BHJP
G02B 1/14 20150101ALI20240705BHJP
【ＦＩ】
B32B7/023
B32B27/30 A
G02B1/111
G02B1/14
【請求項の数】
8
(21)【出願番号】P 2021516176
(86)(22)【出願日】2020-04-22
(86)【国際出願番号】 JP2020017387
(87)【国際公開番号】W WO2020218374
(87)【国際公開日】2020-10-29
【審査請求日】2022-12-12
(31)【優先権主張番号】P 2019082239
(32)【優先日】2019-04-23
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
【前置審査】
(73)【特許権者】
【識別番号】314012076
【氏名又は名称】パナソニックＩＰマネジメント株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002527
【氏名又は名称】弁理士法人北斗特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】井上 知之
(72)【発明者】
【氏名】國岡 竜太郎
【審査官】大村 博一
(56)【参考文献】
【文献】特開２００４－２１２５２５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００５－２８３７３０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００８－２６２１８７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１８－０７２８０７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－０５５６５９（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１３／１４０８１１（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１０－２５６８８０（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ３２Ｂ １／００－４３／００
Ｇ０２Ｂ １／１０－ １／１８
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
透明基材と、反射防止層と、がこの順で積層され、
反射色度が、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、－１０≦ａ＊≦５、－１０≦ｂ＊≦１０であり、
前記反射防止層の前記透明基材に対向する面とは反対側の面の表面抵抗値が１．０×１０１３Ω／□以上であり、
前記透明基材と前記反射防止層との間にハードコート層が設けられ、
前記ハードコート層の屈折率が１．５４以上１．５７以下であり、
前記ハードコート層の厚みが３μｍ以上７μｍ以下である、
光学フィルム積層体。
【請求項2】
前記反射防止層が、屈折率が１．５６以上１．６６以下である中屈折率層、
屈折率が１．７４以上１．９０以下である高屈折率層、及び
屈折率が１．３４以上１．３８以下である低屈折率層が、この順で積層されている、
請求項１に記載の光学フィルム積層体。
【請求項3】
前記中屈折率層の厚みが、前記高屈折率層の屈折率が１．７４以上１．８０未満の場合は、５５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、前記高屈折率層の屈折率が１．８０以上１．９０以下の場合は、１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、前記高屈折率層の厚みが、１１０ｎｍ以上１４０ｎｍ以下であり、
前記低屈折率層の厚みが、８０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である、
請求項２に記載の光学フィルム積層体。
【請求項4】
前記ハードコート層が、アクリル樹脂を含む、
請求項１～３のいずれか一項に記載の光学フィルム積層体。
【請求項5】
前記低屈折率層が、アクリル樹脂及び中空シリカを含み、
前記アクリル樹脂と前記中空シリカとの固形分質量比が、１９：８０～７０：２９の範囲内である、
請求項２～４のいずれか一項に記載の光学フィルム積層体。
【請求項6】
前記高屈折率層が、アクリル樹脂、及びジルコニア又はチタニアを含み、
前記アクリル樹脂と前記ジルコニア又は前記チタニアとの固形分質量比が、９：９０～６０：３９の範囲内である、
請求項２～５のいずれか一項に記載の光学フィルム積層体。
【請求項7】
前記中屈折率層が、アクリル樹脂及びジルコニアを含み、
前記アクリル樹脂と前記ジルコニアとの固形分質量比が、２９：７０～９０：９の範囲内である、
請求項２～６のいずれか一項に記載の光学フィルム積層体。
【請求項8】
視感反射率が０．１％以上０．８％以下の範囲である、
請求項１～７のいずれか一項に記載の光学フィルム積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、一般には、光学フィルム積層体に関する。本開示は、詳細には、透明基材と、反射防止層と、を備える光学フィルム積層体に関する。
【背景技術】
【0002】
ナビゲーションシステム等に使用されるタッチパネルディスプレイの高品位化が求められており、例えば、ディスプレイに表示された情報の視認性を向上させるために、光反射率を低減させることが行われている。反射率を低減させる手段として、反射防止フィルムが挙げられる。例えば特許文献１、２、及び３には、反射防止フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特許第６２４４７６０号公報
【文献】特開２０１４－１４５９１４号公報
【文献】特開２００５－３０１００４号公報
【発明の概要】
【0004】
特許文献１及び２に記載の反射防止フィルムは、特定波長の反射率が低下するにとどまるため、反射率が低下していない前記特定波長以外の波長に由来する特定色は、むしろ強く視認されることとなる。そのため、ディスプレイ表示の視認性を低下させたり、暗所においても前記特定色が目立つ場合があるなどの問題があった。
【0005】
また特許文献３の反射防止フィルムは、表面抵抗率を低減させているため、静電容量式のタッチパネルディスプレイに好適とは言えなかった。
【0006】
本発明の目的は、低反射で、かつ、タッチパネルディスプレイへの適用が好適な光学フィルム積層体を提供することにある。
【0007】
本開示の一態様に係る光学フィルム積層体は、透明基材と、反射防止層と、がこの順で積層されている。光学フィルム積層体は、反射色度が、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、－１０≦ａ＊≦５、－１０≦ｂ＊≦１０である。反射防止層の透明基材に対向する面とは反対側の面の表面抵抗値が１．０×１０１１Ω／□以上である。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【発明を実施するための形態】
【0009】
１．概要
本開示の一実施形態に係る光学フィルム積層体１００は、図１に示すように、透明基材１と反射防止層６とがこの順で積層されている。反射防止層６は、下方（透明基材１の方）から、中屈折率層２、高屈折率層３、及び低屈折率層４が、この順で積層されている。中屈折率層２は、屈折率が１．５６以上１．６６以下である。高屈折率層３は、屈折率が１．７４以上１．９０以下である。低屈折率層４は、屈折率が１．３４以上１．３８以下である。反射防止層６の透明基材１に対向する面とは反対側の面の表面抵抗値は１．０×１０１１Ω／□以上である。
本開示の一実施形態に係る光学フィルム積層体１００は、図１に示すように、透明基材１と反射防止層６とがこの順で積層されている。反射防止層６は、下方（透明基材１の方）から、中屈折率層２、高屈折率層３、及び低屈折率層４が、この順で積層されている。中屈折率層２は、屈折率が１．５６以上１．６６以下である。高屈折率層３は、屈折率が１．７４以上１．９０以下である。低屈折率層４は、屈折率が１．３４以上１．３８以下である。反射防止層６の透明基材１に対向する面とは反対側の面の表面抵抗値は１．０×１０１１Ω／□以上である。
【0010】
本実施形態の光学フィルム積層体１００では、低屈折率層４の屈折率＜中屈折率層２の屈折率＜高屈折率層３の屈折率の条件を満たすと共に、中屈折率層２、高屈折率層３、及び低屈折率層４の屈折率が上記範囲内であることにより、光学フィルム積層体１００の光反射率を低減できる。また、これらの構成により、光学フィルム積層体１００をニュートラル色（無色）に近づけることが出来る。それにより、ディスプレイ等の表示の視認性を向上できると共に、暗所においても特定色の反射を抑制することができる。
【0011】
表面抵抗値が低い積層体を、静電容量式のタッチパネルディスプレイに適用した場合、静電容量値を正確に測定できないことがある。これに対して本実施形態の光学フィルム積層体１００では、反射防止層６の透明基材１に対向する面とは反対側の面の表面抵抗値が１．０×１０１１Ω／□以上であることにより、静電容量値を正確に測定しやすく、例えば出荷検査時の静電容量値測定エラーの発生や、タッチパネル操作時の誤作動を抑制することができる。そのため、本実施形態の光学フィルム積層体１００は、タッチパネルディスプレイへの適用に好適である。
【0012】
２．詳細
２－１．光学フィルム積層体
上述の通り、本実施形態の光学フィルム積層体１００は、透明基材１と反射防止層６とを含む。反射防止層６は、中屈折率層２、高屈折率層３、及び低屈折率層４を含む。本実施形態の光学フィルム積層体１００は、更にハードコート層５を含むことができる。このハードコート層５は、透明基材１と反射防止層６との間に設けられている（図１参照）。詳しくは、ハードコート層５は、透明基材１と中屈折率層２との間に設けられている（図１参照）。そのため、光学フィルム積層体１００では、透明基材１、ハードコート層５、中屈折率層２、高屈折率層３、及び低屈折率層４が、この順に積層されている。以下、光学フィルム積層体１００が備える各層の構成について詳細に説明する。
２－１．光学フィルム積層体
上述の通り、本実施形態の光学フィルム積層体１００は、透明基材１と反射防止層６とを含む。反射防止層６は、中屈折率層２、高屈折率層３、及び低屈折率層４を含む。本実施形態の光学フィルム積層体１００は、更にハードコート層５を含むことができる。このハードコート層５は、透明基材１と反射防止層６との間に設けられている（図１参照）。詳しくは、ハードコート層５は、透明基材１と中屈折率層２との間に設けられている（図１参照）。そのため、光学フィルム積層体１００では、透明基材１、ハードコート層５、中屈折率層２、高屈折率層３、及び低屈折率層４が、この順に積層されている。以下、光学フィルム積層体１００が備える各層の構成について詳細に説明する。
【0013】
（１）透明基材
透明基材１は、反射防止フィルムに使用されるフィルム状又はシート状の透明の基材である。
透明基材１は、反射防止フィルムに使用されるフィルム状又はシート状の透明の基材である。
【0014】
透明基材１の平面視の形状及び寸法は特に限定されず、光学フィルム積層体１００を貼り付ける対象物の平面視の形状及び寸法に応じて適宜設定される。透明基材１の厚みは、特に限定されない。
【0015】
透明基材１の材質は、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製、トリアセチルセルロース製、又はシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）製であることが好ましい。
【0016】
（２）ハードコート層
ハードコート層５は、中屈折率層２、高屈折率層３、及び低屈折率層４よりも硬度が大きい層である。ハードコート層５によって、積層体１００の耐擦傷性を向上させることができる。
ハードコート層５は、中屈折率層２、高屈折率層３、及び低屈折率層４よりも硬度が大きい層である。ハードコート層５によって、積層体１００の耐擦傷性を向上させることができる。
【0017】
ハードコート層５は、透明基材１上に設けられている。本実施形態のハードコート層５は透明基材１と接している。
【0018】
ハードコート層５の平面視の形状及び寸法は、透明基材１の平面視の形状及び寸法に応じて適宜設定される。例えばハードコート層５の平面視の形状は透明基材１の平面視の形状と同じであることが好ましい。また例えばハードコート層５の寸法は透明基材１の寸法と同じであることが好ましい。
【0019】
ハードコート層５の屈折率は、例えば１．５４以上１．５７以下であることが好ましい。その場合、ハードコート層５の厚みは、例えば３μｍ以上７μｍ以下であることが好ましい。それにより、光学フィルム積層体１００を、より低反射にできると共に、ニュートラル色（無色）に近づけることが出来る。また、ハードコート層５の強度を向上させることができ、光学フィルム積層体１００の強度も向上させることができる。
【0020】
ハードコート層５は、紫外線硬化型樹脂組成物製であることが好ましい。紫外線硬化型樹脂組成物は、例えば、アクリル樹脂を含むことが好ましい。すなわちハードコート層５がアクリル樹脂を含むことが好ましい。ハードコート層５を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α－アミドオキシムエステル、チオキサントン類等が含まれる。ハードコート層５を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物は、例えば反応性希釈剤、光重合開始剤、光増感剤等を含むことができる。
【0021】
（３）中屈折率層
中屈折率層２は、光学フィルム積層体１００の反射率を低減させるための層である。中屈折率層２は、低屈折率層４よりも屈折率が大きく、また高屈折率層３よりも屈折率が小さい。
中屈折率層２は、光学フィルム積層体１００の反射率を低減させるための層である。中屈折率層２は、低屈折率層４よりも屈折率が大きく、また高屈折率層３よりも屈折率が小さい。
【0022】
中屈折率層２は、透明基材１上に設けられており、詳細には透明基材１上に積層されたハードコート層５上に設けられている。そのため、光学フィルム積層体１００では、透明基材１、ハードコート層５、中屈折率層２の順に積層されている。また中屈折率層２は、ハードコート層５と接している。
【0023】
中屈折率層２の平面視の形状及び寸法は、透明基材１の平面視の形状及び寸法に応じて適宜設定される。例えば、中屈折率層２の平面視の形状は透明基材１の平面視の形状と同じであることが好ましい。また例えば、中屈折率層２の寸法は透明基材１の寸法と同じであることが好ましい。中屈折率層２の屈折率及び厚みについては後述する。
【0024】
中屈折率層２は、紫外線硬化型樹脂組成物製であることが好ましい。紫外線硬化型樹脂組成物は、例えば、アクリル樹脂を含むことが好ましい。すなわち、中屈折率層２がアクリル樹脂を含むことが好ましい。本実施形態の光学フィルム積層体１００では、ハードコート層５もアクリル樹脂を含むことから、ハードコート層５と中屈折率層２との線膨張係数差を小さくすることができ、光学フィルム積層体１００の加熱時に反りが発生することを抑制することができる。アクリル樹脂は、ハードコート層５に含まれるアクリル樹脂と同じあってもよく、異なっていてもよい。アクリル樹脂は、例えば、水酸基を有する（メタ）アクリル化合物を含むことが好ましい。
【0025】
本実施形態におけるアクリル樹脂についてさらに説明する。なお、下記説明において「（メタ）アクリル－」は、「アクリル－」と「メタクリル－」のうち少なくとも一方を意味する。例えば、（メタ）アクリレートは、アクリレートとメタクリレートとのうち少なくとも一方を意味する。
【0026】
本実施形態におけるアクリル樹脂は（メタ）アクリレートの硬化物であり、即ち（メタ）アクリロイル基を含有するモノマー又はオリゴマーの硬化物である。このような（メタ）アクリレートとして、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、及びポリエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0027】
前記（メタ）アクリレートは１つのアクリロイル基を官能基として含有する単官能アクリレートでもよいし、複数のアクリロイル基を官能基として含有する多官能アクリレートでもよい。本実施形態におけるアクリル樹脂は、３つ以上のアクリロイル基を官能基として含有する化合物であることが好ましい。この場合、上記ハードコート層及び反射防止層において、アクロイル基に由来する架橋構造が複数存在するため、耐擦傷性を向上させることができる。アクリル樹脂は、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２－ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、及びジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、及びジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の４官能アクリレート；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート等の５官能アクリレート；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、及びジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の６官能アクリレート；並びにこれらアクリレート中の基をアルキル基又はε－カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物などが挙げられる。
【0028】
さらに、前記（メタ）アクリレートが、重合性官能基とフルオロアルキル基とを含有することで、本実施形態における光学フィルム積層体に防汚性を付与することが出来る点で好ましい。このような重合性官能基とフルオロアルキル基とを含有する（メタ）アクリレートとしては重合性官能基としてエチレン性不飽和基を含有してもよい。前記重合性官能基は（メタ）アクロイル基のみから構成されてもよく、重合性官能基とフルオロアルキル基とを含有する（メタ）アクリレートは、重合性官能基としてビニル基、アリル基、及びスチリル基からなる群から選択される少なくとも一種の基を更に含有してもよい。
【0029】
例えば２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－ｎ－ペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－ｎ－デシル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－ｎ－ドデシル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロイソブチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロイソオクチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロイソドデシル（メタ）アクリレート、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－ペルフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ－ペルフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ－ペルフルオロノニル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，１１Ｈ－ペルフルオロウンデシル（メタ）アクリレート、３，３，３－トリフルオロプロピル（メタ）アクリレート、３，３，４，４，４－ペンタフルオロブチル（メタ）アクリレート、２－（ペルフルオロ－ｎ－プロピル）エチル（メタ）アクリレート、２－（ペルフルオロ－ｎ－ブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（ペルフルオロ－ｎ－ヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（ペルフルオロ－ｎ－オクチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（ペルフルオロ－ｎ－デシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（ペルフルオロイソブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（ペルフルオロイソオクチル）エチル（メタ）アクリレート、３，３，４，４－テトラフルオロブチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，６Ｈ－ペルフルオロヘキシル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，８Ｈ－ペルフルオロオクチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，１０Ｈ－ペルフルオロデシル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，１２Ｈ－ペルフルオロドデシル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートジフルオロブチレートなどがあげられる。重合性官能基とフルオロアルキル基とを含有する（メタ）アクリレートは、パーフルオロポリエーテルアクリレート化合物であってもよい。このパーフルオロポリエーテルアクリレート化合物は、パーフルオロアルキル基を主鎖として有するとともに、主鎖の末端又は側鎖に重合性官能基を有することが好ましい。
【0030】
中屈折率層２を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α－アミドオキシムエステル、チオキサントン類等が含まれる。
【0031】
中屈折率層２を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物は、高屈折率、かつ絶縁性が高い微粒子を含有することが好ましい。すなわち、中屈折率層２は、高屈折率、かつ絶縁性が高い微粒子を含有することが好ましく、具体的にはジルコニアを含有することが好ましい。この場合、中屈折率層２の屈折率を、低屈折率層４の屈折率よりも大きくしやすい。また光学フィルム積層体１００の表面抵抗値を低減することができる。このジルコニアは、粒子状であることが好ましい。すなわち中屈折率層２がジルコニア粒子を含有することが好ましい。ジルコニア粒子の平均粒径は、特に限定されないが、例えば、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。
【0032】
中屈折率層２を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物において、アクリル樹脂と、ジルコニア粒子との固形分質量比は２９：７０～９０：９の範囲内であることが好ましく、３９：６０～８０：１９の範囲内であることがより好ましい。この場合、中屈折率層２の屈折率を適度な範囲に調整しながら、中屈折率層２の強度を確保することができ、光学フィルム積層体１００の耐擦傷性を向上させることができる。
【0033】
中屈折率層２を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物全量に対する光重合開始剤の割合は、特に限定されないが、０．５質量％以上５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上３質量％以下であることがより好ましい。この場合、紫外線硬化型樹脂組成物の硬化性を向上させることができる。
【0034】
中屈折率層２を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物は、例えば、反応性希釈剤、光増感剤等を含んでいてもよい。
【0035】
（４）高屈折率層
高屈折率層３は、光学フィルム積層体１００の反射率を低減させるための層である。高屈折率層３は、低屈折率層４及び中屈折率層２よりも屈折率が大きい。
高屈折率層３は、光学フィルム積層体１００の反射率を低減させるための層である。高屈折率層３は、低屈折率層４及び中屈折率層２よりも屈折率が大きい。
【0036】
高屈折率層３は、透明基材１上に設けられており、詳細には中屈折率層２上に設けられている。そのため、光学フィルム積層体１００では、透明基材１、ハードコート層５、中屈折率層２、高屈折率層３の順に積層されている。また高屈折率層３は、中屈折率層２と接している。
【0037】
高屈折率層３の平面視の形状及び寸法は、透明基材１の平面視の形状及び寸法に応じて適宜設定される。例えば、高屈折率層３の平面視の形状は透明基材１の平面視の形状と同じであることが好ましい。また例えば、高屈折率層３の寸法は透明基材１の寸法と同じであることが好ましい。高屈折率層３の屈折率及び厚みについては後述する。
【0038】
高屈折率層３は、紫外線硬化型樹脂組成物製であることが好ましい。紫外線硬化型樹脂組成物は、例えば、アクリル樹脂を含むことが好ましい。すなわち、高屈折率層３がアクリル樹脂を含むことが好ましい。本実施形態の光学フィルム積層体１００では、中屈折率層２がアクリル樹脂を含むため、中屈折率層２と高屈折率層３との線膨張係数差を小さくすることができ、光学フィルム積層体１００の加熱時に反りが発生することを抑制することができる。アクリル樹脂は、ハードコート層５に含まれるアクリル樹脂と同じあってもよく、異なっていてもよい。アクリル樹脂は、低屈折率層４に含まれるアクリル樹脂と同じであってもよく、異なっていてもよい。アクリル樹脂は、中屈折率層２に含まれるアクリル樹脂と同じであってもよく、異なっていてもよい。アクリル樹脂は、例えば、水酸基を有する（メタ）アクリル化合物を含むことが好ましい。
【0039】
高屈折率層３を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α－アミドオキシムエステル、チオキサントン類等が含まれる。
【0040】
高屈折率層３を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物は、特に高屈折率、かつ絶縁性が高い微粒子を含有することが好ましい。すなわち高屈折率層３は、特に高屈折率かつ絶縁性が高い微粒子を含有することが好ましく、具体的にはジルコニア又はチタニアを含有することが好ましい。この場合、高屈折率層３の屈折率を、低屈折率層４及び中屈折率層２の屈折率よりも大きくしやすい。また光学フィルム積層体１００の表面抵抗値を低減することができる。このジルコニア又はチタニアは、粒子状であることが好ましい。すなわち、高屈折率層３がジルコニア粒子又はチタニア粒子を含有することが好ましい。ジルコニア粒子又はチタニア粒子の平均粒径は、特に限定されないが、例えば、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。
【0041】
高屈折率層３を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物において、アクリル樹脂と、ジルコニア粒子又はチタニア粒子との固形分質量比は、９：９０～６０：３９の範囲内であることが好ましく、１９：８０～５０：４９の範囲内であることがより好ましい。この場合、高屈折率層３の屈折率を適度な範囲に調整しながら、高屈折率層３の強度を確保することができ、光学フィルム積層体１００の耐擦傷性を向上させることができる。
【0042】
高屈折率層３を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物全量に対する光重合開始剤の割合は、特に限定されないが、０．５質量％以上５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上３質量％以下であることがより好ましい。この場合、紫外線硬化型樹脂組成物の硬化性を向上させることができる。
【0043】
高屈折率層３を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物は、例えば、反応性希釈剤、光増感剤等を含んでいてもよい。
【0044】
（５）低屈折率層
低屈折率層４は、光学フィルム積層体１００の反射率を低減させるための層である。低屈折率層４は、中屈折率層２及び高屈折率層３よりも屈折率が小さい。
低屈折率層４は、光学フィルム積層体１００の反射率を低減させるための層である。低屈折率層４は、中屈折率層２及び高屈折率層３よりも屈折率が小さい。
【0045】
低屈折率層４は、透明基材１上に設けられており、詳細には高屈折率層３上に設けられている。そのため、光学フィルム積層体１００では、透明基材１、ハードコート層５、中屈折率層２、高屈折率層３の順に積層されている。このように、中屈折率層２、高屈折率層３、低屈折率層４の順に積層することにより、光学フィルム積層体１００の光反射率を低減することができる。また本実施形態の光学フィルム積層体１００では、低屈折率層４は、高屈折率層３と接している。
【0046】
低屈折率層４の平面視の形状及び寸法は、透明基材１の平面視の形状及び寸法に応じて適宜設定される。例えば低屈折率層４の平面視の形状は透明基材１の平面視の形状と同じであることが好ましい。また例えば低屈折率層４の寸法は透明基材１の寸法と同じであることが好ましい。低屈折率層４の屈折率及び厚みについては後述する。
【0047】
低屈折率層４は、紫外線硬化型樹脂組成物製であることが好ましい。紫外線硬化型樹脂組成物は、例えば、アクリル樹脂を含むことが好ましい。すなわち、低屈折率層４がアクリル樹脂を含むことが好ましい。本実施形態の光学フィルム積層体１００では、高屈折率層３がアクリル樹脂を含むことから、低屈折率層４と高屈折率層３との線膨張係数差を小さくすることができ、光学フィルム積層体１００の加熱時に反りが発生することを抑制することができる。アクリル樹脂は、ハードコート層５に含まれるアクリル樹脂と同じあってもよく、異なっていてもよい。アクリル樹脂は、中屈折率層２に含まれるアクリル樹脂と同じであってもよく、異なっていてもよい。アクリル樹脂は、高屈折率層３に含まれるアクリル樹脂と同じであってもよく、異なっていてもよい。アクリル樹脂は、例えば、水酸基を有する（メタ）アクリル化合物を含むことが好ましい。
【0048】
低屈折率層４を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α－アミドオキシムエステル、チオキサントン類等が含まれる。
【0049】
低屈折率層４を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物は、低屈折率、かつ絶縁性が高い微粒子を含有することが好ましい。すなわち、低屈折率層４は、低屈折率、かつ絶縁性が高い微粒子を含有することが好ましく、具体的には中空シリカを含有することが好ましい。この場合、低屈折率層４の屈折率を、中屈折率層２及び高屈折率層３の屈折率よりも小さくしやすい。また光学フィルム積層体１００の表面抵抗値を低減することができる。中空シリカの平均粒径は、特に限定されないが、例えば、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。
【0050】
低屈折率層４を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物において、アクリル樹脂と中空シリカとの固形分質量比は、１９：８０～７０：２９の範囲内であることが好ましく、２９：７０～６０：３９の範囲内であることがより好ましい。この場合、低屈折率層４の屈折率を適度な範囲に調整しながら、低屈折率層４の強度を確保することができ、光学フィルム積層体１００の耐擦傷性を向上させることができる。
【0051】
低屈折率層４を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物全量に対する光重合開始剤の割合は、特に限定されないが、０．５質量％以上５質量％以下であることが好ましく、１質量％以上３質量％以下であることが好ましい。この場合、紫外線硬化型樹脂組成物の硬化性を向上させることができる。
【0052】
低屈折率層４を作製するための紫外線硬化型樹脂組成物は、例えば、反応性希釈剤、光増感剤等を含んでいてもよい。
【0053】
（６）中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層の屈折率及び厚みについて
本実施形態の光学フィルム積層体１００では、中屈折率層２の屈折率は１．５６以上１．６６以下であり、高屈折率層３の屈折率が１．７４以上１．９０以下であり、低屈折率層４の屈折率が１．３４以上１．３８以下である。各層の屈折率が上記の範囲内であることにより、光学フィルム積層体１００の光反射率を低減することができると共に、ニュートラル色（無色）に近づけることが出来る。それにより、ディスプレイ等の視認性を向上できる共に、暗所においても特定色の反射を抑制することができる。光学フィルム積層体１００の光反射率をより低減すると共に、ニュートラル色（無色）に近づけるためには、中屈折率層２の屈折率は１．５８以上１．６４以下であることが好ましく、高屈折率層３の屈折率は１．８２以上１．８８以下であることが好ましく、低屈折率層４の屈折率は１．３５以上１．３７以下であることが好ましい。
本実施形態の光学フィルム積層体１００では、中屈折率層２の屈折率は１．５６以上１．６６以下であり、高屈折率層３の屈折率が１．７４以上１．９０以下であり、低屈折率層４の屈折率が１．３４以上１．３８以下である。各層の屈折率が上記の範囲内であることにより、光学フィルム積層体１００の光反射率を低減することができると共に、ニュートラル色（無色）に近づけることが出来る。それにより、ディスプレイ等の視認性を向上できる共に、暗所においても特定色の反射を抑制することができる。光学フィルム積層体１００の光反射率をより低減すると共に、ニュートラル色（無色）に近づけるためには、中屈折率層２の屈折率は１．５８以上１．６４以下であることが好ましく、高屈折率層３の屈折率は１．８２以上１．８８以下であることが好ましく、低屈折率層４の屈折率は１．３５以上１．３７以下であることが好ましい。
【0054】
本実施形態の光学フィルム積層体１００では、中屈折率層２の厚みは、高屈折率層３の屈折率が１．７４以上１．８０未満の場合は、５５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることが好ましい。また中屈折率層２の厚みは、高屈折率層３の屈折率が１．８０以上１．９０以下の場合は、１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることが好ましい。高屈折率層３の厚みは１１０ｎｍ以上１４０ｎｍ以下であることが好ましく、低屈折率層４の厚みは８０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。各層の厚みが上記の範囲内であることにより、光学フィルム積層体１００をニュートラル色（無色）に近づけることができ、また暗所においても特定色の反射を抑制することができる。光学フィルム積層体１００をよりニュートラル色（無色）に近づけるためには、中屈折率層２の厚みは２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることがより好ましく、高屈折率層３の厚みは１２０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であることがより好ましく、低屈折率層４の厚みは８５ｎｍ以上９５ｎｍ以下であることがより好ましい。
【0055】
（７）光学フィルム積層体の物性について
（表面抵抗値）
本実施形態の光学フィルム積層体１００は、その表面抵抗値が１．０×１０１１Ω／□以上である。そのため、光学フィルム積層体１００を静電容量式のタッチパネルディスプレイ等に適用した場合において、静電容量値を正確に測定しやすく、例えば出荷検査時の静電容量値測定エラーの発生や、タッチパネル操作時の誤作動を抑制することができる。積層体１００の表面抵抗値は、１．０×１０１２Ω／□以上であることが好ましく、１．０×１０１３Ω／□以上であることがより好ましい。なお、光学フィルム積層体１００の表面抵抗値は、周知の高抵抗率計によって測定することができる。高抵抗率計としては、例えば三菱化学アナリテック株式会社製の商品名ハイレスタＩＰ ＭＣＰ－ＨＴ２６０が例示される。なお、本実施形態の光学フィルム積層体１００の表面抵抗値とは、透明基材１と、反射防止層６と、がこの順で積層され、反射防止層６の透明基材１に対向する面とは反対側の面の表面抵抗値である。
（表面抵抗値）
本実施形態の光学フィルム積層体１００は、その表面抵抗値が１．０×１０１１Ω／□以上である。そのため、光学フィルム積層体１００を静電容量式のタッチパネルディスプレイ等に適用した場合において、静電容量値を正確に測定しやすく、例えば出荷検査時の静電容量値測定エラーの発生や、タッチパネル操作時の誤作動を抑制することができる。積層体１００の表面抵抗値は、１．０×１０１２Ω／□以上であることが好ましく、１．０×１０１３Ω／□以上であることがより好ましい。なお、光学フィルム積層体１００の表面抵抗値は、周知の高抵抗率計によって測定することができる。高抵抗率計としては、例えば三菱化学アナリテック株式会社製の商品名ハイレスタＩＰ ＭＣＰ－ＨＴ２６０が例示される。なお、本実施形態の光学フィルム積層体１００の表面抵抗値とは、透明基材１と、反射防止層６と、がこの順で積層され、反射防止層６の透明基材１に対向する面とは反対側の面の表面抵抗値である。
【0056】
（反射色度）
本実施形態の光学フィルム積層体１００は、その反射色度が、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、－１０≦ａ＊≦５、－１０≦ｂ＊≦１０であることが好ましい。この場合、光学フィルム積層体１００を無色に近い、ニュートラルな色味（ニュートラル色）とすることができる。光学フィルム積層体１００をよりニュートラル色（無色）に近づけるためには、光学フィルム積層体１００の反射色度は、－５≦ａ＊≦２、－５≦ｂ＊≦５であることがより好ましい。なお、光学フィルム積層体１００の反射色度は、周知の分光測色系によって測定することができる。分光測色計としては、例えばコニカミノルタジャパン株式会社製の品番ＣＭ－３６００ｄが例示される。
本実施形態の光学フィルム積層体１００は、その反射色度が、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、－１０≦ａ＊≦５、－１０≦ｂ＊≦１０であることが好ましい。この場合、光学フィルム積層体１００を無色に近い、ニュートラルな色味（ニュートラル色）とすることができる。光学フィルム積層体１００をよりニュートラル色（無色）に近づけるためには、光学フィルム積層体１００の反射色度は、－５≦ａ＊≦２、－５≦ｂ＊≦５であることがより好ましい。なお、光学フィルム積層体１００の反射色度は、周知の分光測色系によって測定することができる。分光測色計としては、例えばコニカミノルタジャパン株式会社製の品番ＣＭ－３６００ｄが例示される。
【0057】
（全光線透過率）
本実施形態の光学フィルム積層体１００は、その全光線透過率が、９４．０％以上であることが好ましく、より好ましくは９５．０％以上である。それにより、光学フィルム積層体１００の透明性が高いために、ディスプレイ等の視認性を向上できる共に、暗所においても特定色の反射を抑制することができる。
本実施形態の光学フィルム積層体１００は、その全光線透過率が、９４．０％以上であることが好ましく、より好ましくは９５．０％以上である。それにより、光学フィルム積層体１００の透明性が高いために、ディスプレイ等の視認性を向上できる共に、暗所においても特定色の反射を抑制することができる。
【0058】
（ヘイズ）
本実施形態の光学フィルム積層体１００は、そのヘイズが、１．０％以下であることが好ましく、より好ましくは０．５％以下である。それにより、光学フィルム積層体１００の透明性が高いために、ディスプレイ等の視認性を向上できる共に、暗所においても特定色の反射を抑制することができる。
本実施形態の光学フィルム積層体１００は、そのヘイズが、１．０％以下であることが好ましく、より好ましくは０．５％以下である。それにより、光学フィルム積層体１００の透明性が高いために、ディスプレイ等の視認性を向上できる共に、暗所においても特定色の反射を抑制することができる。
【0059】
（視感反射率）
本実施形態の光学フィルム積層体１００は、視感反射率が、０．１％以上０．８％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以上０．５％以下である。それにより、光学フィルム積層体１００の透明性が高いために、ディスプレイ等の視認性を向上できる共に、暗所においても特定色の反射を抑制することができる。
本実施形態の光学フィルム積層体１００は、視感反射率が、０．１％以上０．８％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以上０．５％以下である。それにより、光学フィルム積層体１００の透明性が高いために、ディスプレイ等の視認性を向上できる共に、暗所においても特定色の反射を抑制することができる。
【0060】
（８）光学フィルム積層体の用途について
本実施形態の光学フィルム積層体１００は、上述の通り、タッチパネルディスプレイへの適用に好適である。具体的には、例えば、光学フィルム積層体１００を、タッチパネルディスプレイが備える反射防止フィルム（反射低減層、反射低減パターン）として使用することができる。
本実施形態の光学フィルム積層体１００は、上述の通り、タッチパネルディスプレイへの適用に好適である。具体的には、例えば、光学フィルム積層体１００を、タッチパネルディスプレイが備える反射防止フィルム（反射低減層、反射低減パターン）として使用することができる。
【0061】
以下、光学フィルム積層体１００を備える金属基材付薄膜金属箔２００と、金属張透明基材材料３００と、透視型電極用積層板４００、透視型電極素材５００、及びデバイス６００について説明する。金属基材付薄膜金属箔２００、金属張透明基材材料３００、透視型電極用積層板４００、及び透視型電極素材５００は、デバイス６００を製造するための素材でもある。
【0062】
（ｉ）金属基材付薄膜金属箔
金属基材付薄膜金属箔２００は、図２Ａに示すように、薄膜金属箔２１と、剥離層２２と、金属基材２３と、反射低減層２４と、を備える。薄膜金属箔２１は、第一の主面Ｔ２１及び第二の主面Ｂ２１を有する。剥離層２２及び金属基材２３は、この順で第一の主面Ｔ２１上に設けられている。反射低減層２４は、第二の主面Ｂ２１上に設けられている。
金属基材付薄膜金属箔２００は、図２Ａに示すように、薄膜金属箔２１と、剥離層２２と、金属基材２３と、反射低減層２４と、を備える。薄膜金属箔２１は、第一の主面Ｔ２１及び第二の主面Ｂ２１を有する。剥離層２２及び金属基材２３は、この順で第一の主面Ｔ２１上に設けられている。反射低減層２４は、第二の主面Ｂ２１上に設けられている。
【0063】
薄膜金属箔２１は、例えば、タッチパネルセンサー、電磁波吸収シート、又は車載用アンテナ、プリント配線板等の電極材料として好適に用いられる金属箔である。薄膜金属箔２１は、例えば、銅、ニッケル、アルミニウム及び銀からなる群より選ばれる少なくとも１種の材料製であることが好ましく、特に、銅が主成分であることが好ましい。
【0064】
薄膜金属箔２１の第一の主面Ｔ２１上には剥離層２２が設けられ、第二の主面Ｂ２１上には反射低減層２４が形成されている。第一の主面Ｔ２１と剥離層２２との間、及び第二の主面Ｂ２１と反射低減層２４との間に、防錆処理層、シランカップリング処理層等が形成されていてもよい。
【0065】
剥離層２２は、主に、金属基材付薄膜金属箔２００から金属基材２３を剥離しやすくする。剥離層２２は、第一の主面Ｔ２２及び第二の主面Ｂ２２を有し、薄膜金属箔２１の第一の主面Ｔ２１の全面を覆っている。剥離層２２は、例えば、ニッケル、モリブデン、クロム、鉄、チタン、タングステン、リンの単数又は複数からなる合金や酸化物から形成することができる。剥離層２２は導通性を有し、剥離層２２上に電解めっきを用いて薄膜金属箔２１を形成できる。剥離層２２の第一の主面Ｔ２２側は、主として合金からなり、第二の主面Ｂ２２側は、主として酸化物からなる剥離層であることが好ましい。これによって、金属基材２３は、金属基材付薄膜金属箔２００より剥離層２２と共に剥離可能となり、剥離層２２が薄膜金属箔２１から剥離可能となる。
【0066】
金属基材２３は、厚みが薄いために機械的強度が低い薄膜金属箔２１の補強材（キャリア）として機能する。金属基材２３は、第一の主面Ｔ２３及び第二の主面Ｂ２３を有し、剥離層２２の第一の主面Ｔ２２の全面を覆っている。金属基材２３は、例えば、銅、ニッケル、アルミニウム、マグネシウム、タングステン、モリブデン、白金、金及びパラジウムからなる群より選ばれる少なくとも１種の材料製であることが好ましい。金属基材２３は、コストの観点から、銅製であることが好ましい。銅を用いた金属基材２３としては、例えば、電解銅箔、電解銅合金箔、圧延銅箔、圧延銅合金箔等を用いることができる。
【0067】
反射低減層２４として、本実施形態の光学フィルム積層体１００を使用することができる。反射低減層２４は、図３Ｂに示す透視型電極素材５００において、第一の反射低減パターン層５１Ａ及び第二の反射低減パターン層５１Ｂの材料である。
【0068】
本実施形態の光学フィルム積層体１００は表面抵抗値が１．０×１０１１Ω／□以上であるため、金属基材付薄膜金属箔２００を用いてタッチパネルディスプレイを作製することにより、静電容量値を正確に測定することができ、出荷検査時の静電容量値測定エラーの発生や、タッチパネル操作時の誤作動が生じにくいタッチパネルディスプレイが得られる。また本実施形態の光学フィルム積層体１００は、光反射率が低く、かつ、ニュートラルな色味であることから、金属基材付薄膜金属箔２００を用いてタッチパネルディスプレイを作製することにより、その視認性を向上できると共に、暗所においても特定色の反射を抑制することができる。
【0069】
（ｉｉ）金属張透明基材材料
金属張透明基材材料３００は、図２Ｂに示すように、透明基材３１と、第一の透明接着層３２Ａと、第一の金属基材付薄膜金属箔２００Ａと、第二の透明接着層３２Ｂと、第二の金属基材付薄膜金属箔２００Ｂとを備える。透明基材３１は、第一の主面Ｔ３１及び第二の主面Ｂ３１を有する。透明基材３１の第一の主面Ｔ３１上には、第一の透明接着層３２Ａ、及び第一の金属基材付薄膜金属箔２００Ａがこの順で積層されている。透明基材３１の第二の主面Ｂ３１上には、第二の透明接着層３２Ｂ、及び第二の金属基材付薄膜金属箔２００Ｂがこの順で積層されている。すなわち金属張透明基材材料３００は、透明基材３１の両面に、第一の透明接着層３２Ａ又は第二の透明接着層３２Ｂを介して、図２Ａに示す金属基材付薄膜金属箔２００を貼り付けることで形成される。そのため、第一の金属基材付薄膜金属箔２００Ａ及び第二の金属基材付薄膜金属箔２００Ｂは、図２Ａに示す金属基材付薄膜金属箔２００と同じである。また金属張透明基材材料３００は、第一の反射低減層２４Ａとして光学フィルム積層体１００を含み、第二の反射低減層２４Ｂとして光学フィルム積層体１００を含む。
金属張透明基材材料３００は、図２Ｂに示すように、透明基材３１と、第一の透明接着層３２Ａと、第一の金属基材付薄膜金属箔２００Ａと、第二の透明接着層３２Ｂと、第二の金属基材付薄膜金属箔２００Ｂとを備える。透明基材３１は、第一の主面Ｔ３１及び第二の主面Ｂ３１を有する。透明基材３１の第一の主面Ｔ３１上には、第一の透明接着層３２Ａ、及び第一の金属基材付薄膜金属箔２００Ａがこの順で積層されている。透明基材３１の第二の主面Ｂ３１上には、第二の透明接着層３２Ｂ、及び第二の金属基材付薄膜金属箔２００Ｂがこの順で積層されている。すなわち金属張透明基材材料３００は、透明基材３１の両面に、第一の透明接着層３２Ａ又は第二の透明接着層３２Ｂを介して、図２Ａに示す金属基材付薄膜金属箔２００を貼り付けることで形成される。そのため、第一の金属基材付薄膜金属箔２００Ａ及び第二の金属基材付薄膜金属箔２００Ｂは、図２Ａに示す金属基材付薄膜金属箔２００と同じである。また金属張透明基材材料３００は、第一の反射低減層２４Ａとして光学フィルム積層体１００を含み、第二の反射低減層２４Ｂとして光学フィルム積層体１００を含む。
【0070】
透明基材３１は、シート状（フィルム状）である。透明基材３１を構成する材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、又はポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等の透明樹脂を用いることができる。透明基材３１は、テトラブロモビスフェノールＡ等の添加型、反応型の難燃剤を含有してもよい。透明基材３１は、シクロオレフィンやフィルム作成時に強く延伸させて結晶性を高めることで複屈折率を高めたポリエステルを含む透明樹脂製であってもよい。
【0071】
第一の透明接着層３２Ａは、第一の金属基材付薄膜金属箔２００Ａを透明基材３１の第一の主面Ｔ３１上に固定している。第二の透明接着層３２Ｂは、第二の金属基材付薄膜金属箔２００Ｂを透明基材３１の第二の主面Ｂ３１上に固定している。第一の透明接着層３２Ａと、第二の透明接着層３２Ｂとは、同一の構成であってもよいし、互いに異なる構成であってもよい。第一の透明接着層３２Ａ及び第二の透明接着層３２Ｂは、透明接着剤の硬化物である。透明接着剤を構成する材質としては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂又はこれらの混合樹脂を含むことが好ましい。特にアクリル樹脂、ウレタン樹脂又はこれら混合樹脂は、透明性に優れ、光学的にも有用である。
【0072】
本実施形態の光学フィルム積層体１００は表面抵抗値が１．０×１０１１Ω／□以上であるため、金属張透明基材材料３００を用いてタッチパネルディスプレイを作製することにより、静電容量値を正確に測定することができ、出荷検査時の静電容量値測定エラーの発生や、タッチパネル操作時の誤作動が生じにくいタッチパネルディスプレイが得られる。また本実施形態の光学フィルム積層体１００は、光反射率が低く、かつ、ニュートラルな色味であることから、金属張透明基材材料３００を用いてタッチパネルディスプレイを作製することにより、その視認性を向上できると共に、暗所においても特定色の反射を抑制することができる。
【0073】
（ｉｉｉ）透視型電極用積層板
透視型電極用積層板４００は、金属張透明基材材料３００から第一の金属基材２３Ａ、第一の剥離層２２Ａ、第二の金属基材２３Ｂ、及び第二の剥離層２２Ｂが剥離されることで形成される。そのため透視型電極用積層板４００は、図３Ａに示すように、透明基材３１と、第一の透明接着層３２Ａと、第一の反射低減層２４Ａと、第一の薄膜金属箔２１Ａと、第二の透明接着層３２Ｂと、第二の反射低減層２４Ｂと、第二の薄膜金属箔２１Ｂとを備える。透明基材３１の第一の主面Ｔ３１上には、第一の透明接着層３２Ａ、第一の反射低減層２４Ａ、及び第一の薄膜金属箔２１Ａがこの順で積層されている。透明基材３１の第二の主面Ｂ３１上には、第二の透明接着層３２Ｂ、第二の反射低減層２４Ｂ、及び第二の薄膜金属箔２１Ｂがこの順で積層されている。そのため、透視型電極用積層板４００は、第一の反射低減層２４Ａとして光学フィルム積層体１００を含み、第二の反射低減層２４Ｂとして光学フィルム積層体１００を含む。
透視型電極用積層板４００は、金属張透明基材材料３００から第一の金属基材２３Ａ、第一の剥離層２２Ａ、第二の金属基材２３Ｂ、及び第二の剥離層２２Ｂが剥離されることで形成される。そのため透視型電極用積層板４００は、図３Ａに示すように、透明基材３１と、第一の透明接着層３２Ａと、第一の反射低減層２４Ａと、第一の薄膜金属箔２１Ａと、第二の透明接着層３２Ｂと、第二の反射低減層２４Ｂと、第二の薄膜金属箔２１Ｂとを備える。透明基材３１の第一の主面Ｔ３１上には、第一の透明接着層３２Ａ、第一の反射低減層２４Ａ、及び第一の薄膜金属箔２１Ａがこの順で積層されている。透明基材３１の第二の主面Ｂ３１上には、第二の透明接着層３２Ｂ、第二の反射低減層２４Ｂ、及び第二の薄膜金属箔２１Ｂがこの順で積層されている。そのため、透視型電極用積層板４００は、第一の反射低減層２４Ａとして光学フィルム積層体１００を含み、第二の反射低減層２４Ｂとして光学フィルム積層体１００を含む。
【0074】
本実施形態の光学フィルム積層体１００は表面抵抗値が１．０×１０１１Ω／□以上であるため、透視型電極用積層板４００を用いてタッチパネルディスプレイを作製することにより、静電容量値を正確に測定することができ、出荷検査時の静電容量値測定エラーの発生や、タッチパネル操作時の誤作動が生じにくいタッチパネルディスプレイが得られる。また本実施形態の光学フィルム積層体１００は、光反射率が低く、かつ、ニュートラルな色味であることから、透視型電極用積層板４００を用いてタッチパネルディスプレイを作製することにより、その視認性を向上できると共に、暗所においても特定色の反射を抑制することができる。
【0075】
（ｉｖ）透視型電極素材
透視型電極素材５００は、図３Ｂに示すように、透明基材３１と、第一の透明接着層３２Ａと、第一の反射低減パターン層５１Ａと、第一の配線パターン層５２Ａと、第二の透明接着層３２Ｂと、第二の反射低減パターン層５１Ｂと、第二の配線パターン層５２Ｂとを備える。透明基材３１の第一の主面Ｔ３１上には、第一の透明接着層３２Ａ、第一の反射低減パターン層５１Ａ、及び第一の配線パターン層５２Ａがこの順で積層されている。また透明基材３１の第二の主面Ｂ３１上には、第二の透明接着層３２Ｂ、第二の反射低減パターン層５１Ｂ、及び第二の配線パターン層５２Ｂがこの順で積層されている。透視型電極素材５００の全光線透過率が上記範囲内であれば、透視型電極素材５００をタッチパネルセンサー等に好適に用いることができる。
透視型電極素材５００は、図３Ｂに示すように、透明基材３１と、第一の透明接着層３２Ａと、第一の反射低減パターン層５１Ａと、第一の配線パターン層５２Ａと、第二の透明接着層３２Ｂと、第二の反射低減パターン層５１Ｂと、第二の配線パターン層５２Ｂとを備える。透明基材３１の第一の主面Ｔ３１上には、第一の透明接着層３２Ａ、第一の反射低減パターン層５１Ａ、及び第一の配線パターン層５２Ａがこの順で積層されている。また透明基材３１の第二の主面Ｂ３１上には、第二の透明接着層３２Ｂ、第二の反射低減パターン層５１Ｂ、及び第二の配線パターン層５２Ｂがこの順で積層されている。透視型電極素材５００の全光線透過率が上記範囲内であれば、透視型電極素材５００をタッチパネルセンサー等に好適に用いることができる。
【0076】
第一の配線パターン層５２Ａは、フォトエッチング法により第一の薄膜金属箔２１Ａの一部が除去されて、第一の薄膜金属箔２１Ａの一部に第一の開口部Ａ５０Ａとなる隙間が形成された電気回路である。第二の配線パターン層５２Ｂは、フォトエッチング法により第二の薄膜金属箔２１Ｂの一部が除去されて、第二の薄膜金属箔２１Ｂの一部に第二の開口部Ａ５０Ｂとなる隙間が形成された電気回路である。第一の配線パターン層５２Ａ及び第二の配線パターン層５２Ｂの各パターン形状は、透視型電極素材５００の用途等に応じて適宜調整すればよく、例えば、メッシュ（格子）形状、平行細線パターン形状、櫛刃形状等が挙げられる。図３Ｂでは、第一の開口部Ａ５０Ａでは、第一の反射低減層２４Ａの一部が除去されており、また第二の開口部Ａ５０Ｂでは、第二の反射低減層２４Ｂの一部が除去されている。そのため、透視型電極素材５００は、図３Ａに示す透視型電極用積層板４００から、第一の薄膜金属箔２１Ａ及び第一の反射低減層２４Ａの一部が除去されると共に、第二の薄膜金属箔２１Ｂ及び第二の反射低減層２４Ｂの一部が除去されることで、形成される。そのため、透視型電極素材５００は、第一の反射低減パターン層５１Ａとして光学フィルム積層体１００を含み、第二の反射低減パターン層５１Ｂとして光学フィルム積層体１００を含む。
【0077】
本実施形態の光学フィルム積層体１００は表面抵抗値が１．０×１０１１Ω／□以上であるため、透視型電極素材５００を用いてタッチパネルディスプレイを作製することにより、静電容量値を正確に測定することができ、出荷検査時の静電容量値測定エラーの発生や、タッチパネル操作時の誤作動が生じにくいタッチパネルディスプレイが得られる。また本実施形態の積層体１００は、光反射率が低く、かつ、ニュートラルな色味であることから、透視型電極素材５００を用いてタッチパネルディスプレイを作製することにより、その視認性を向上できると共に、暗所においても特定色の反射を抑制することができる。
【0078】
（ｖ）デバイス
デバイス６００は、投影型静電容量方式の１種である相互容量方式のタッチパネルディスプレイである。デバイス６００は、図３Ｃに示すように、透視型電極素材５００と、制御回路６１と、カバー６２と、画像表示装置６３と、を備える。
デバイス６００は、投影型静電容量方式の１種である相互容量方式のタッチパネルディスプレイである。デバイス６００は、図３Ｃに示すように、透視型電極素材５００と、制御回路６１と、カバー６２と、画像表示装置６３と、を備える。
【0079】
制御回路６１は、第一の配線パターン層５２Ａ及び第二の配線パターン層５２Ｂと電気的に接続されている。
【0080】
カバー６２は、透視型電極素材５００の第一の配線パターン層５２Ａ側の面に対向して取り付けられている。なお、図３Ｃにおいて、第一の透明接着層３２Ａ及び第二の透明接着層３２Ｂは省略している。
【0081】
画像表示装置６３は、透視型電極素材５００の第二の配線パターン層５２Ｂ側の面に対向して取り付けられている。画像表示装置６３は、例えば、液晶表示パネル、プラズマ画像表示パネル、電界発光（Electro Luminescence）パネル、電子ペーパー、又はブラウン管等を用いることができる。
【0082】
デバイス６００において、例えば、第一の配線パターン層５２Ａは受信電極として、第二の配線パターン層５２Ｂは送信電極として機能する。すなわち、デバイス６００は、カバー６２の表面に指示物を近づけると、受信電極及び送信電極との交点に形成されるコンデンサの静電容量が変化し、この静電容量の変化を制御回路６１が検知することで、指示物を近づけた位置を特定することができる。指示物としては、例えば、ユーザーの指先、スタイラス、又は指示棒等の導電体が挙げられる。
【0083】
本実施形態のデバイス６００は、第一の反射低減パターン層５１Ａとして光学フィルム積層体１００を含み、第二の反射低減パターン層５１Ｂとして光学フィルム積層体１００を含む。本実施形態の光学フィルム積層体１００は表面抵抗値が１．０×１０１１Ω／□以上であるため、デバイス６００では、静電容量の変化を制御回路６１で正確に検知することができる。また本実施形態の光学フィルム積層体１００は、光反射率が低く、かつ、ニュートラルな色味であることから、デバイス６００は、視認性に優れ、かつ、暗所における特定色の反射が抑制される。そのため本実施形態のデバイス６００は、例えば、車載用のナビゲーションシステムのタッチパネルディスプレイに適用することが好適である。
【0084】
本実施形態のデバイス６００の検出方式は相互容量方式であるが、本発明はこれに限定されず、自己容量方式の検出方式であってもよいし、自己容量方式と相互容量方式とを組み合わせた検出方式であってもよい。
【0085】
（ｖｉ）その他の用途について
上述の通り、本実施形態の積層体１００はタッチパネルディスプレイに適用することが好適であるが、これに限定されない。例えば、光学フィルム積層体１００は、携帯情報端末、ノートパソコン、テレビ等のディスプレイに適用してもよい。また積層体１００は、タッチパネルディスプレイの内部に適用することに限定されず、ディスプレイの表面に貼り付けても良い。その場合、ディスプレイと光学フィルム積層体１００とは公知の接着剤によって貼り付けることができる。
上述の通り、本実施形態の積層体１００はタッチパネルディスプレイに適用することが好適であるが、これに限定されない。例えば、光学フィルム積層体１００は、携帯情報端末、ノートパソコン、テレビ等のディスプレイに適用してもよい。また積層体１００は、タッチパネルディスプレイの内部に適用することに限定されず、ディスプレイの表面に貼り付けても良い。その場合、ディスプレイと光学フィルム積層体１００とは公知の接着剤によって貼り付けることができる。
【実施例】
【0086】
（実施例１～２５、比較例１～１０）
ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）製の透明基材上に、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順で積層することにより、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体を作製した。ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層は、各々、表１～４に示す成分を表１～４に示す割合で含む組成物の硬化物である。なお、表１～４に示す成分の詳細は以下の通りである。またハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層を作製する際には、以下の光重合開始剤を使用した。
・（メタ）アクリレート１：Ａ－９５７０Ｗ（新中村化学工業（株）製）
・（メタ）アクリレート２：ＨＣ－３０１（大日精化工業（株）製）
・（メタ）アクリレート３：オプスターＫＺ（荒川化学工業（株）製）
・フッ素アクリレート：ビスコート４Ｆ（大阪有機化学工業（株）製）
・フルオレン系アクリレート：ＯＧＳＯＬ ＥＡ－０２５０Ｐ（大阪ガスケミカル製）
・光重合開始剤：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ 製）
・中空シリカ：スルーリア４３２０（日揮触媒化成製、平均粒子径６０ｎｍ）
・チタニア：ＮＤ１７６（テイカ社製）
・チタニア２：ＴＹＴ９０－０６（東洋インキ社製）
・ジルコニア１：ＺＲＤＭＡ２０ＷＴ％－Ｇ２２（ＣＩＫナノテック製）
・ジルコニア２：ＴＹＺ６８－０４（東洋インキ社製）
・ＩＴＯナノ粒子：ＩＴＯナノ粒子トルエン分散液１０ｗｔ％（アズワン製、平均粒子径２０ｎｍ）。
ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）製の透明基材上に、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順で積層することにより、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体を作製した。ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層は、各々、表１～４に示す成分を表１～４に示す割合で含む組成物の硬化物である。なお、表１～４に示す成分の詳細は以下の通りである。またハードコート層、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層を作製する際には、以下の光重合開始剤を使用した。
・（メタ）アクリレート１：Ａ－９５７０Ｗ（新中村化学工業（株）製）
・（メタ）アクリレート２：ＨＣ－３０１（大日精化工業（株）製）
・（メタ）アクリレート３：オプスターＫＺ（荒川化学工業（株）製）
・フッ素アクリレート：ビスコート４Ｆ（大阪有機化学工業（株）製）
・フルオレン系アクリレート：ＯＧＳＯＬ ＥＡ－０２５０Ｐ（大阪ガスケミカル製）
・光重合開始剤：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ 製）
・中空シリカ：スルーリア４３２０（日揮触媒化成製、平均粒子径６０ｎｍ）
・チタニア：ＮＤ１７６（テイカ社製）
・チタニア２：ＴＹＴ９０－０６（東洋インキ社製）
・ジルコニア１：ＺＲＤＭＡ２０ＷＴ％－Ｇ２２（ＣＩＫナノテック製）
・ジルコニア２：ＴＹＺ６８－０４（東洋インキ社製）
・ＩＴＯナノ粒子：ＩＴＯナノ粒子トルエン分散液１０ｗｔ％（アズワン製、平均粒子径２０ｎｍ）。
【0087】
（評価）
実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体について、全光線透過率、ヘイズ（混濁）、視感反射率、反射色度、耐擦傷性、表面抵抗値を評価した。各評価の詳細は以下の通りである。
実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体について、全光線透過率、ヘイズ（混濁）、視感反射率、反射色度、耐擦傷性、表面抵抗値を評価した。各評価の詳細は以下の通りである。
【0088】
（１）全光線透過率
ヘーズメーター（日本電色工業（株）製、品番ＮＤＨ７０００ＳＰ２）を用いて、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体の、ＪＩＳ Ｋ ７３６１－１：１９９７で規定される全光線透過率を測定した。その結果を下記の表１～４に示す。
ヘーズメーター（日本電色工業（株）製、品番ＮＤＨ７０００ＳＰ２）を用いて、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体の、ＪＩＳ Ｋ ７３６１－１：１９９７で規定される全光線透過率を測定した。その結果を下記の表１～４に示す。
【0089】
（２）ヘイズ
ヘーズメーター（日本電色工業（株）製、品番ＮＤＨ７０００ＳＰ２）を用いて、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体の、ＪＩＳ Ｋ ７３６１－１：１９９７で規定されるヘイズを測定した。その結果を下記の表１～４に示す。
ヘーズメーター（日本電色工業（株）製、品番ＮＤＨ７０００ＳＰ２）を用いて、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体の、ＪＩＳ Ｋ ７３６１－１：１９９７で規定されるヘイズを測定した。その結果を下記の表１～４に示す。
【0090】
（３）視感反射率
透明基材の裏面を黒色マジックインキで塗装した上で黒色のビニールテープ（日東電工、Ｎｏ．２１）を張り付けた状態で、分光測色計（コニカミノルタジャパン（株）製、品番ＣＭ－３６００ｄ）を用いて、Ｃ光源、１０°視野、測定径４ｍｍΦ、ＳＣＩの条件で、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体の視感反射率を測定した。その結果を下記の表１～４に示す。
透明基材の裏面を黒色マジックインキで塗装した上で黒色のビニールテープ（日東電工、Ｎｏ．２１）を張り付けた状態で、分光測色計（コニカミノルタジャパン（株）製、品番ＣＭ－３６００ｄ）を用いて、Ｃ光源、１０°視野、測定径４ｍｍΦ、ＳＣＩの条件で、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体の視感反射率を測定した。その結果を下記の表１～４に示す。
【0091】
（４）反射色度
透明基材の裏面を黒色マジックインキで塗装した上で黒色のビニールテープ（日東電工、Ｎｏ．２１）を張り付けた状態で、分光測色計（コニカミノルタジャパン（株）製、品番ＣＭ－３６００ｄ）を用いて、Ｃ光源、１０°視野、測定径４ｍｍΦ、ＳＣＩの条件で、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体の反射色度（ａ＊，ｂ＊）を測定した。そして、以下の基準で各光学フィルム積層体の色味（ニュートラル性）を評価した。その結果を下記の表１～４に示す。
透明基材の裏面を黒色マジックインキで塗装した上で黒色のビニールテープ（日東電工、Ｎｏ．２１）を張り付けた状態で、分光測色計（コニカミノルタジャパン（株）製、品番ＣＭ－３６００ｄ）を用いて、Ｃ光源、１０°視野、測定径４ｍｍΦ、ＳＣＩの条件で、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体の反射色度（ａ＊，ｂ＊）を測定した。そして、以下の基準で各光学フィルム積層体の色味（ニュートラル性）を評価した。その結果を下記の表１～４に示す。
【0092】
Ａ：反射色度ａ＊が－５以上２以下であり、かつ、反射色度ｂ＊が－５以上５以下である。
Ｂ：反射色度ａ＊が－１０以上－５未満又は２よりも大きく５以下であり、或いは、反射色度ｂ＊が－１０以上５未満又は５よりも大きく１０以下である。
Ｃ：反射色度ａ＊が－１０未満又は５を超えており、或いは、反射色度ｂ＊が－１０未満又は１０を超えている。
Ｂ：反射色度ａ＊が－１０以上－５未満又は２よりも大きく５以下であり、或いは、反射色度ｂ＊が－１０以上５未満又は５よりも大きく１０以下である。
Ｃ：反射色度ａ＊が－１０未満又は５を超えており、或いは、反射色度ｂ＊が－１０未満又は１０を超えている。
【0093】
（５）耐擦傷性
表面性測定機（Ｔｙｐｅ１４ＤＲ 新東科学株式会社製）を用いて、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体の表面に、スチールウールを、２５０ｇ／ｃｍ２の圧力をかけながら、速度３０００ｍｍ／ｍｉｎの条件で１０回往復した後、キズの有無について目視確認して、以下の基準で評価をした。スチールウールは＃００００（日本スチールウール株式会社製）を使用した。その結果を下記の表１～４に示す。
表面性測定機（Ｔｙｐｅ１４ＤＲ 新東科学株式会社製）を用いて、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体の表面に、スチールウールを、２５０ｇ／ｃｍ２の圧力をかけながら、速度３０００ｍｍ／ｍｉｎの条件で１０回往復した後、キズの有無について目視確認して、以下の基準で評価をした。スチールウールは＃００００（日本スチールウール株式会社製）を使用した。その結果を下記の表１～４に示す。
【0094】
Ａ：傷が０～５本。
Ｂ：傷が５～２０本。
Ｃ：傷が２０本以上。
Ｂ：傷が５～２０本。
Ｃ：傷が２０本以上。
【0095】
（６）表面抵抗値
高抵抗率計（（株）三菱化学アナリテック製の商品名ハイレスタＩＰＭＣＰ-ＨＴ２６０）を用いて、印加電圧１０００Ｖで、プローブを反射防止層側に接触させて、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体の表面抵抗値を測定した。なお、高抵抗率計の測定レンジが１×１０４～１×１０１２Ω／□であるため、表面抵抗値が１×１０１２Ω／□を超える場合には、１．０×１０１３Ω／□と記載とした。その結果を下記の表１～４に示す。
高抵抗率計（（株）三菱化学アナリテック製の商品名ハイレスタＩＰＭＣＰ-ＨＴ２６０）を用いて、印加電圧１０００Ｖで、プローブを反射防止層側に接触させて、実施例１～２５、比較例１～１０の光学フィルム積層体の表面抵抗値を測定した。なお、高抵抗率計の測定レンジが１×１０４～１×１０１２Ω／□であるため、表面抵抗値が１×１０１２Ω／□を超える場合には、１．０×１０１３Ω／□と記載とした。その結果を下記の表１～４に示す。
【0096】
【表1】
【0097】
【表2】
【0098】
【表3】
【0099】
【表4】
【符号の説明】
【0100】
１ 透明基材
２ 中屈折率層
３ 高屈折率層
４ 低屈折率層
５ ハードコート層
６ 反射防止層
１００ 光学フィルム積層体
２ 中屈折率層
３ 高屈折率層
４ 低屈折率層
５ ハードコート層
６ 反射防止層
１００ 光学フィルム積層体
【図1】
【図2】
【図3】