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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-07-10
(45)【発行日】2024-07-19
(54)【発明の名称】光学部材
(51)【国際特許分類】
G02B 1/115 20150101AFI20240711BHJP
G02B 1/116 20150101ALI20240711BHJP
G02B 1/14 20150101ALI20240711BHJP
G02B 1/16 20150101ALI20240711BHJP
G02B 1/18 20150101ALI20240711BHJP
G02C 7/02 20060101ALI20240711BHJP
G02C 7/10 20060101ALI20240711BHJP
【ＦＩ】
G02B1/115
G02B1/116
G02B1/14
G02B1/16
G02B1/18
G02C7/02
G02C7/10
【請求項の数】
8
(21)【出願番号】P 2022518577
(86)(22)【出願日】2020-05-01
(86)【国際出願番号】 JP2020018446
(87)【国際公開番号】W WO2021220513
(87)【国際公開日】2021-11-04
【審査請求日】2022-10-27
(73)【特許権者】
【識別番号】300035870
【氏名又は名称】株式会社ニコン・エシロール
(74)【代理人】
【識別番号】100152984
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 秀明
(72)【発明者】
【氏名】石村 圭
【審査官】中村 説志
(56)【参考文献】
【文献】特開２００３－３２９８０３（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１４／０６９２５０（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１９－０１５７６４（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１９／１０３１０５（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１４－２４０９９７（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２００９／０４１５８０（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１４／０５０９３０（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０２０／０７９２４１（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特表２０２２－５０９０８７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０２２－５０７７３５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０２２－５０７６８５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０２２－５０７６７７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ １／１１５－ １／１１６
Ｇ０２Ｂ １／１４ － １／１８
Ｇ０２Ｃ ７／００ － ７／０２
Ｇ０２Ｃ ７／１０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
プラスチック基材と、前記プラスチック基材上に配置されたハードコート層と、
前記ハードコート層上に配置された反射防止膜と、を含み、
前記反射防止膜は、交互に積層された高屈折率層および低屈折率層を含み、
前記高屈折率層は、チタン、ジルコニウム、ニオブ、および、タンタルからなる群から選択される少なくとも１種の酸化物を含み、
前記低屈折率層は、ケイ素の酸化物、および、フッ化カルシウムからなる群から選択される少なくとも１種を含み、
前記反射防止膜中における、前記高屈折率層および前記低屈折率層の合計層数が８層であり、
前記反射防止膜中において最も前記プラスチック基材側に配置された層が、前記高屈折率層であり、
前記反射防止膜中において最も前記プラスチック基材側に配置された前記低屈折率層を第１低屈折率層とし、前記第１低屈折率層の次に前記プラスチック基材側に配置された前記低屈折率層を第２低屈折率層とし、最も前記プラスチック基材側に配置された前記高屈折率層を第１高屈折率層とした場合、式１～３の関係を満たす、光学部材であって、
前記反射防止膜は、前記プラスチック基材側から、前記第１高屈折率層、前記第１低屈折率層、第２高屈折率層、前記第２低屈折率層、第３高屈折率層、第３低屈折率層、第４高屈折率層、および、第４低屈折率層をこの順に有し、
前記第３低屈折率層の物理的厚みが１５～４５ｎｍであり、
前記第４低屈折率層の物理的厚みが７０～１１０ｎｍであり、
前記第２高屈折率層の物理的厚みが５．０～２５．０ｎｍであり、
前記第３高屈折率層の物理的厚みが１０～３０ｎｍであり、
前記第４高屈折率層の物理的厚みが５０～１１０ｎｍである、光学部材。
式１ Ｌ１＋Ｌ２≧４００ｎｍ
式２ Ｌ１／Ｈ１≦２５．０
式３ （Ｌ１＋Ｌ２）／Ｈ１≦５０．０
Ｌ１は、前記第１低屈折率層の物理的厚みを表す。Ｌ２は、前記第２低屈折率層の物理的厚みを表す。Ｈ１は、前記第１高屈折率層の物理的厚みを表す。
【請求項2】
式４の関係を満たす、請求項１に記載の光学部材。式４ Ｌ２≧Ｌ１
【請求項3】
前記高屈折率層が、酸化ジルコニウムを含む、請求項１または２に記載の光学部材。
【請求項4】
前記低屈折率層が、二酸化ケイ素を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学部材。
【請求項5】
前記反射防止膜の前記プラスチック基材側とは反対側の表面上に撥水撥油層を有する、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学部材。
【請求項6】
前記反射防止膜が、ＳｎＯ２層、または、ＩＴＯ層をさらに含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の光学部材。
【請求項7】
前記第１高屈折率層の物理的厚みが５．０～２５．０ｎｍであり、前記第１低屈折率層の物理的厚みが５０～３００ｎｍであり、
前記第２低屈折率層の物理的厚みが２００～５５０ｎｍである、請求項１～６のいずれか１項に記載の光学部材。
【請求項8】
眼鏡レンズに用いられる、請求項１～７のいずれか１項に記載の光学部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、光学部材に関する。
【背景技術】
【0002】
眼鏡レンズなどの光学部材の研究が活発に行われており、特許文献１では低屈折率層および高屈折率層を含むプラスチック光学製品が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１９－１５７６４号公報
【発明の概要】
【0004】
本開示は、プラスチック基材と、プラスチック基材上に配置されたハードコート層と、ハードコート層上に配置された反射防止膜と、を含み、反射防止膜は、交互に積層された高屈折率層および低屈折率層を含み、高屈折率層は、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ニオブ、タンタル、および、ランタンからなる群から選択される少なくとも１種の酸化物を含み、低屈折率層は、ケイ素の酸化物、フッ化カルシウム、および、フッ化マグネシウムからなる群から選択される少なくとも１種を含み、反射防止膜中における、高屈折率層および低屈折率層の合計層数が６層以上であり、反射防止膜中において最もプラスチック基材側に配置された層が、高屈折率層であり、反射防止膜中において最もプラスチック基材側に配置された低屈折率層を第１低屈折率層とし、第１低屈折率層の次にプラスチック基材側に配置された低屈折率層を第２低屈折率層とし、最もプラスチック基材側に配置された高屈折率層を第１高屈折率層とした場合、後述する式１～３の関係を満たす、光学部材に関する。
【図面の簡単な説明】
【0005】
【図1】光学部材の一実施形態の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0006】
以下、本実施形態の光学部材について詳述する。
光学部材としては、反射防止性および耐擦傷性に優れ、かつ、反射防止膜の密着性に優れた光学部材が望まれている。本実施形態の光学部材では、上記特性が得られる。
より具体的には、特に、反射防止膜中の低屈折率層および高屈折率層が所定の構成で配置され、さらに、光学部材が後述する式１～３を満たすことにより、上記特性が得られる。
なお、本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
また、本明細書において、屈折率は、ｅ線における屈折率である。
光学部材としては、反射防止性および耐擦傷性に優れ、かつ、反射防止膜の密着性に優れた光学部材が望まれている。本実施形態の光学部材では、上記特性が得られる。
より具体的には、特に、反射防止膜中の低屈折率層および高屈折率層が所定の構成で配置され、さらに、光学部材が後述する式１～３を満たすことにより、上記特性が得られる。
なお、本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
また、本明細書において、屈折率は、ｅ線における屈折率である。
【0007】
図１は、光学部材の一実施形態の断面図である。
図１に示す光学部材１０は、プラスチック基材１２と、プライマー層１４と、ハードコート層１６と、反射防止膜１８と、撥水撥油層２０とをこの順に含む。
上記光学部材１０には、プライマー層１４、および、撥水撥油層２０が含まれるが、プライマー層および撥水撥油層は任意の部材であり、本開示の光学部材にはプラスチック基材、ハードコート層、および所定の反射防止膜が少なくとも含まれていればよい。
図１に示す光学部材１０は、プラスチック基材１２と、プライマー層１４と、ハードコート層１６と、反射防止膜１８と、撥水撥油層２０とをこの順に含む。
上記光学部材１０には、プライマー層１４、および、撥水撥油層２０が含まれるが、プライマー層および撥水撥油層は任意の部材であり、本開示の光学部材にはプラスチック基材、ハードコート層、および所定の反射防止膜が少なくとも含まれていればよい。
【0008】
反射防止膜１８は、プラスチック基材１２側から、第１高屈折率層２２Ｈ、第１低屈折率層２２Ｌ、第２高屈折率層２４Ｈ、第２低屈折率層２４Ｌ、第３高屈折率層２６Ｈ、第３低屈折率層２６Ｌ、第４高屈折率層２８Ｈ、および、第４低屈折率層２８Ｌをこの順に有する。
図１において、反射防止膜１８は、高屈折率層および低屈折率層の合計層数は８層であるが、後述するように本開示の光学部材はこの態様には限定されず、高屈折率層および低屈折率層の合計層数は６層以上であればよい。
なお、本明細書において、高屈折率層の表記に関して、プラスチック基材側に位置する高屈折率層から順に「第１高屈折率層」、「第２高屈折率層」などと表記する。また、低屈折率層の表記に関して、プラスチック基材側に位置する低屈折率層から順に「第１低屈折率層」、「第２低屈折率層」などと表記する。
図１において、反射防止膜１８は、高屈折率層および低屈折率層の合計層数は８層であるが、後述するように本開示の光学部材はこの態様には限定されず、高屈折率層および低屈折率層の合計層数は６層以上であればよい。
なお、本明細書において、高屈折率層の表記に関して、プラスチック基材側に位置する高屈折率層から順に「第１高屈折率層」、「第２高屈折率層」などと表記する。また、低屈折率層の表記に関して、プラスチック基材側に位置する低屈折率層から順に「第１低屈折率層」、「第２低屈折率層」などと表記する。
【0009】
図１においては、プラスチック基材１２の片面にのみ各層が配置されているが、プラスチック基材１２の両面に、プライマー層１４と、ハードコート層１６と、反射防止膜１８と、撥水撥油層２０とがこの順に配置されていてもよい。つまり、光学部材は、プラスチック基材の両面に、ハードコート層および反射防止膜をそれぞれ有していてもよい。
【0010】
以下では、まず、光学部材の特徴点である反射防止膜について詳述し、その後、他の部材について詳述する。
【0011】
＜反射防止膜＞
光学部材は、反射防止膜を含む。
反射防止膜は、入射した光の反射を防止する機能を有する層である。具体的には、３８０～７８０ｎｍの可視領域全域にわたって、低い反射特性（広帯域低反射特性）を有することができる。
光学部材は、反射防止膜を含む。
反射防止膜は、入射した光の反射を防止する機能を有する層である。具体的には、３８０～７８０ｎｍの可視領域全域にわたって、低い反射特性（広帯域低反射特性）を有することができる。
【0012】
反射防止膜は、交互に積層された高屈折率層および低屈折率層を含む。反射防止膜において、所定の高屈折率層および所定の低屈折率層は、それぞれが交互に配置されていればよい。つまり、２つの高屈折率層の間には低屈折率層が配置され、２つの低屈折率層の間には高屈折率層が配置される。なお、後述するように、高屈折率層および低屈折率層の間に他の層（例えば、ＳｎＯ２層およびＩＴＯ層）が配置されていてもよい。ＩＴＯは酸化インジウムスズで、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）と酸化スズ（ＳｎＯ２）の混合物である。
高屈折率層としては、屈折率が１．６０以上である層が好ましい。
高屈折率層は、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ニオブ、タンタル、および、ランタンからなる群から選択される少なくとも１種の酸化物を含む。なかでも、高屈折率層は、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）を含むことが好ましい。
高屈折率層には、２種以上の材料が含まれていてもよい。
高屈折率層としては、屈折率が１．６０以上である層が好ましい。
高屈折率層は、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ニオブ、タンタル、および、ランタンからなる群から選択される少なくとも１種の酸化物を含む。なかでも、高屈折率層は、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）を含むことが好ましい。
高屈折率層には、２種以上の材料が含まれていてもよい。
【0013】
低屈折率層としては、屈折率が１．６０未満である層が好ましい。
低屈折率層は、ケイ素の酸化物、フッ化カルシウム、および、フッ化マグネシウムからなる群から選択される少なくとも１種を含む。なかでも、低屈折率層は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を含むことが好ましい。
低屈折率層には、２種以上の材料が含まれていてもよい。
低屈折率層は、ケイ素の酸化物、フッ化カルシウム、および、フッ化マグネシウムからなる群から選択される少なくとも１種を含む。なかでも、低屈折率層は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を含むことが好ましい。
低屈折率層には、２種以上の材料が含まれていてもよい。
【0014】
反射防止膜中における、高屈折率層および低屈折率層の合計層数は、６層以上である。つまり、反射防止膜は、少なくとも３層の高屈折率層および少なくとも３層の低屈折率層を含む。
上記合計層数は、光学部材の反射防止性、耐擦傷性、および、反射防止膜の密着性の少なくとも１つがより優れる点（以後、単に「所定の効果がより優れる点」とも称する。）で、８層以上が好ましい。上限は特に制限されないが、生産性の点から、１４層以下が好ましく、１２層以下がより好ましい。
上記合計層数は、光学部材の反射防止性、耐擦傷性、および、反射防止膜の密着性の少なくとも１つがより優れる点（以後、単に「所定の効果がより優れる点」とも称する。）で、８層以上が好ましい。上限は特に制限されないが、生産性の点から、１４層以下が好ましく、１２層以下がより好ましい。
【0015】
反射防止膜中において、最もプラスチック基材側に配置された層は、高屈折率層である。
より具体的には、図１に示すように、反射防止膜１８中において、最もプラスチック基材１２側の位置には、第１高屈折率層２２Ｈが配置されている。
高屈折率層が上記所定の位置に配置されることにより、反射防止膜の密着性が向上する。上記理由の詳細は不明だが、高屈折率層は引張応力を示す材料が多く、このような材料を上記位置に配置することにより、反射防止膜の剥離が抑制されたと推測される。
より具体的には、図１に示すように、反射防止膜１８中において、最もプラスチック基材１２側の位置には、第１高屈折率層２２Ｈが配置されている。
高屈折率層が上記所定の位置に配置されることにより、反射防止膜の密着性が向上する。上記理由の詳細は不明だが、高屈折率層は引張応力を示す材料が多く、このような材料を上記位置に配置することにより、反射防止膜の剥離が抑制されたと推測される。
【0016】
反射防止膜中において最もプラスチック基材側に配置された低屈折率層を第１低屈折率層とし、第１低屈折率層の次にプラスチック基材側に配置された低屈折率層を第２低屈折率層とし、最もプラスチック基材側に配置された高屈折率層を第１高屈折率層とした場合、光学部材は、式１～３の関係を満たす。
式１ Ｌ１＋Ｌ２≧４００ｎｍ
式２ Ｌ１／Ｈ１≦２５．０
式３ （Ｌ１＋Ｌ２）／Ｈ１≦５０．０
Ｌ１は、第１低屈折率層の物理的厚みを表す。Ｌ２は、第２低屈折率層の物理的厚みを表す。Ｈ１は、第１高屈折率層の物理的厚みを表す。
式１ Ｌ１＋Ｌ２≧４００ｎｍ
式２ Ｌ１／Ｈ１≦２５．０
式３ （Ｌ１＋Ｌ２）／Ｈ１≦５０．０
Ｌ１は、第１低屈折率層の物理的厚みを表す。Ｌ２は、第２低屈折率層の物理的厚みを表す。Ｈ１は、第１高屈折率層の物理的厚みを表す。
【0017】
式１は、第１低屈折率層の物理的厚みおよび第２低屈折率層の物理的厚みの合計を表す。式１の関係を満たすことにより、主に、光学部材の耐擦傷性が向上する。
なかでも、所定の効果がより優れる点で、Ｌ１＋Ｌ２は、４５０ｎｍ以上が好ましく、４８０ｎｍ以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、生産性の点から、６００ｎｍ以下が好ましく、５５０ｎｍ以下がより好ましい。
なかでも、所定の効果がより優れる点で、Ｌ１＋Ｌ２は、４５０ｎｍ以上が好ましく、４８０ｎｍ以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、生産性の点から、６００ｎｍ以下が好ましく、５５０ｎｍ以下がより好ましい。
【0018】
式２は、第１高屈折率層の物理的厚みに対する、第１低屈折率層の物理的厚みの比を表す。式２の関係を満たすことにより、主に、反射防止膜の密着性が向上する。
なかでも、所定の効果がより優れる点で、Ｌ１／Ｈ１は、２０．０以下が好ましく、８．０以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、３．０以上の場合が多く、５．０以上の場合がより多い。
なかでも、所定の効果がより優れる点で、Ｌ１／Ｈ１は、２０．０以下が好ましく、８．０以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、３．０以上の場合が多く、５．０以上の場合がより多い。
【0019】
式３は、第１高屈折率層の物理的厚みに対する、第１低屈折率層の物理的厚みおよび第２低屈折率層の物理的厚みの合計層厚みの比を表す。式３の関係を満たすことにより、主に、反射防止膜の密着性が向上する。
なかでも、所定の効果がより優れる点で、（Ｌ１＋Ｌ２）／Ｈ１は、４６．０以下が好ましい。下限は特に制限されないが、２５．０以上の場合が多く、３０．０以上の場合がより多い。
なかでも、所定の効果がより優れる点で、（Ｌ１＋Ｌ２）／Ｈ１は、４６．０以下が好ましい。下限は特に制限されないが、２５．０以上の場合が多く、３０．０以上の場合がより多い。
【0020】
なかでも、光学部材の反射防止性がより優れる点で、式４の関係を満たすことが好ましい。
式４ Ｌ２≧Ｌ１
式４ Ｌ２≧Ｌ１
【0021】
第１高屈折率層の物理的厚みは上記関係式を満たせば特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、５．０～２５．０ｎｍが好ましく、８．０～２０．０ｎｍがより好ましい。
第１低屈折率層の物理的厚みは上記関係式を満たせば特に制限されないが、耐擦傷性がより優れる点で、５０ｎｍ以上が好ましい。上限は特に制限されないが、３００ｎｍ以下が好ましく、２５０ｎｍ以下がより好ましい。
第２低屈折率層の物理的厚みは上記関係式を満たせば特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、２００～５５０ｎｍが好ましく、３００～５００ｎｍがより好ましい。
第１低屈折率層の物理的厚みは上記関係式を満たせば特に制限されないが、耐擦傷性がより優れる点で、５０ｎｍ以上が好ましい。上限は特に制限されないが、３００ｎｍ以下が好ましく、２５０ｎｍ以下がより好ましい。
第２低屈折率層の物理的厚みは上記関係式を満たせば特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、２００～５５０ｎｍが好ましく、３００～５００ｎｍがより好ましい。
【0022】
第２高屈折率層の物理的厚みは特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、５．０～２５．０ｎｍが好ましく、８．０～２０．０ｎｍがより好ましい。
【0023】
反射防止膜に含まれる高屈折率層および低屈折率層の合計層数が８層の場合、第３低屈折率層の物理的厚みは所定の効果がより優れる点で、１５～４５ｎｍが好ましく、２０～４０ｎｍがより好ましい。
反射防止膜に含まれる高屈折率層および低屈折率層の合計層数が８層の場合、第４低屈折率層の物理的厚みは所定の効果がより優れる点で、７０～１１０ｎｍが好ましく、８５～１００ｎｍがより好ましい。
反射防止膜に含まれる高屈折率層および低屈折率層の合計層数が８層の場合、第３高屈折率層の物理的厚みは所定の効果がより優れる点で、１０～３０ｎｍが好ましく、１５～２５ｎｍがより好ましい。
反射防止膜に含まれる高屈折率層および低屈折率層の合計層数が８層の場合、第４高屈折率層の物理的厚みは所定の効果がより優れる点で、５０～１１０ｎｍが好ましく、５５～１１０ｎｍがより好ましい。
反射防止膜に含まれる高屈折率層および低屈折率層の合計層数が８層の場合、第４低屈折率層の物理的厚みは所定の効果がより優れる点で、７０～１１０ｎｍが好ましく、８５～１００ｎｍがより好ましい。
反射防止膜に含まれる高屈折率層および低屈折率層の合計層数が８層の場合、第３高屈折率層の物理的厚みは所定の効果がより優れる点で、１０～３０ｎｍが好ましく、１５～２５ｎｍがより好ましい。
反射防止膜に含まれる高屈折率層および低屈折率層の合計層数が８層の場合、第４高屈折率層の物理的厚みは所定の効果がより優れる点で、５０～１１０ｎｍが好ましく、５５～１１０ｎｍがより好ましい。
【0024】
反射防止膜の製造方法は特に制限されないが、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、および、ＣＶＤ法などの乾式法が挙げられる。
なかでも、所定の効果がより優れる点で、反射防止膜の製造においては、反射防止膜中の少なくとも一部の層がイオンビームによりエネルギーを受けた状態（イオンアシスト蒸着）で成膜された層であることが好ましい。
なかでも、所定の効果がより優れる点で、反射防止膜の製造においては、反射防止膜中の少なくとも一部の層がイオンビームによりエネルギーを受けた状態（イオンアシスト蒸着）で成膜された層であることが好ましい。
【0025】
反射防止膜は、上述した高屈折率層および低屈折率層以外に、ＳｎＯ２層、または、ＩＴＯ層をさらに含んでいてもよい。ＳｎＯ２層およびＩＴＯ層は、帯電防止層として機能し得る。
反射防止膜中におけるＳｎＯ２層およびＩＴＯ層の配置位置は特に制限されず、上述した高屈折率層および低屈折率層の間であってもよい。
反射防止膜中におけるＳｎＯ２層およびＩＴＯ層の配置位置は特に制限されず、上述した高屈折率層および低屈折率層の間であってもよい。
【0026】
＜プラスチック基材＞
プラスチック基材は、反射防止膜を支持する部材である。
プラスチック基材に含まれるプラスチック（いわゆる、樹脂）の種類は特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル樹脂、チオウレタン樹脂、アリル樹脂、エピスルフィド樹脂、ポリカーボネート、ウレタン樹脂、ポリエステル、ポリスチレン、ポリエ－テルサルホン、ポリ４－メチルペンテン－１、および、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ－３９）が挙げられる。なかでも、チオウレタン樹脂、エピスルフィド樹脂、または、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂が好ましい。
プラスチック基材は、反射防止膜を支持する部材である。
プラスチック基材に含まれるプラスチック（いわゆる、樹脂）の種類は特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル樹脂、チオウレタン樹脂、アリル樹脂、エピスルフィド樹脂、ポリカーボネート、ウレタン樹脂、ポリエステル、ポリスチレン、ポリエ－テルサルホン、ポリ４－メチルペンテン－１、および、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ－３９）が挙げられる。なかでも、チオウレタン樹脂、エピスルフィド樹脂、または、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂が好ましい。
【0027】
プラスチック基材としては、プラスチック眼鏡レンズ基材が好ましい。
プラスチック眼鏡レンズ基材の種類は特に制限されないが、凸面および凹面を有する態様が挙げられる。より具体的には、凸面および凹面共に光学的に仕上げ、所望の度数にあわせて成形されるフィニッシュレンズ、凸面のみが光学面（球面、回転対象非球面、累進面など）として仕上げられているセミフィニッシュレンズ、および、セミフィニッシュレンズの凹面が装用者の処方に合わせて加工研磨されたレンズが挙げられる。
プラスチック眼鏡レンズ基材の種類は特に制限されないが、凸面および凹面を有する態様が挙げられる。より具体的には、凸面および凹面共に光学的に仕上げ、所望の度数にあわせて成形されるフィニッシュレンズ、凸面のみが光学面（球面、回転対象非球面、累進面など）として仕上げられているセミフィニッシュレンズ、および、セミフィニッシュレンズの凹面が装用者の処方に合わせて加工研磨されたレンズが挙げられる。
【0028】
プラスチック基材の厚さは特に制限されないが、取り扱い性の点から、１～３０ｍｍ程度の場合が多い。
プラスチック基材の屈折率は特に制限されないが、１．５０以上の場合が多く、１．６０～１．８０が好ましく、１．６０～１．７４がより好ましい。
また、プラスチック基材は透光性を有していれば無色でなくてもよく、紫外線吸収剤、および、紫外域から赤外域にかけての特定の波長領域を吸収する染料を含んでいてもよい。
また、プラスチック基材は、ブルーイング剤、光安定剤、および、酸化防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。
プラスチック基材の屈折率は特に制限されないが、１．５０以上の場合が多く、１．６０～１．８０が好ましく、１．６０～１．７４がより好ましい。
また、プラスチック基材は透光性を有していれば無色でなくてもよく、紫外線吸収剤、および、紫外域から赤外域にかけての特定の波長領域を吸収する染料を含んでいてもよい。
また、プラスチック基材は、ブルーイング剤、光安定剤、および、酸化防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。
【0029】
＜プライマー層＞
光学部材は、プライマー層を含んでいてもよい。
プライマー層は、プラスチック基材とハードコート層との間に配置される層であり、ハードコート層のプラスチック基材に対する密着性を向上させるとともに、ハードコート層上に反射防止膜が配置されたプラスチック眼鏡レンズの、静荷重または衝撃に対する強度を向上させる。
プライマー層を構成する材料は特に制限されず、公知の材料を使用でき、例えば、主に樹脂が使用される。使用される樹脂の種類は特に制限されず、例えば、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビスマレイミド系樹脂、および、ポリオレフィン系樹脂が挙げられ、ポリウレタン系樹脂が好ましい。
プライマー層は、上記樹脂以外の他の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｌａ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｚｒ、Ｉｎ、および、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物微粒子またはこれらの複合酸化物微粒子、加水分解性ケイ素化合物および／またはその加水分解縮合物、導電性フィラー、特定高分子、並びに、界面活性剤が挙げられる。
光学部材は、プライマー層を含んでいてもよい。
プライマー層は、プラスチック基材とハードコート層との間に配置される層であり、ハードコート層のプラスチック基材に対する密着性を向上させるとともに、ハードコート層上に反射防止膜が配置されたプラスチック眼鏡レンズの、静荷重または衝撃に対する強度を向上させる。
プライマー層を構成する材料は特に制限されず、公知の材料を使用でき、例えば、主に樹脂が使用される。使用される樹脂の種類は特に制限されず、例えば、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビスマレイミド系樹脂、および、ポリオレフィン系樹脂が挙げられ、ポリウレタン系樹脂が好ましい。
プライマー層は、上記樹脂以外の他の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｌａ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｚｒ、Ｉｎ、および、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物微粒子またはこれらの複合酸化物微粒子、加水分解性ケイ素化合物および／またはその加水分解縮合物、導電性フィラー、特定高分子、並びに、界面活性剤が挙げられる。
【0030】
プライマー層の形成方法は特に制限されず、公知の方法を採用でき、例えば、所定の樹脂を含むプライマー層形成用組成物をプラスチック基材上に塗布して、必要に応じて硬化処理を施して、プライマー層を形成する方法が挙げられる。
プライマー層形成用組成物を塗布する方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層形成用組成物をプラスチック基材上に塗布する方法で例示した方法が挙げられる。
プライマー層の厚さは特に制限されないが、０．３～２μｍが好ましい。
プライマー層形成用組成物を塗布する方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層形成用組成物をプラスチック基材上に塗布する方法で例示した方法が挙げられる。
プライマー層の厚さは特に制限されないが、０．３～２μｍが好ましい。
【0031】
＜ハードコート層＞
光学部材は、ハードコート層を含む。
ハードコート層は、プラスチック基材と反射防止膜との間に配置される層であり、プラスチック基材に耐擦傷性を付与する層である。
ハードコート層としては、国際規格ＩＳＯ １５１８４、およびこの国際規格に基づき作成された日本工業規格ＪＩＳ Ｋ５６００において定められた試験法による鉛筆硬度で、「Ｈ」以上の硬度を示すものが好ましい。
光学部材は、ハードコート層を含む。
ハードコート層は、プラスチック基材と反射防止膜との間に配置される層であり、プラスチック基材に耐擦傷性を付与する層である。
ハードコート層としては、国際規格ＩＳＯ １５１８４、およびこの国際規格に基づき作成された日本工業規格ＪＩＳ Ｋ５６００において定められた試験法による鉛筆硬度で、「Ｈ」以上の硬度を示すものが好ましい。
【0032】
ハードコート層としては、公知のハードコート層を用いることができ、例えば、有機系ハードコート層、無機系ハードコート層、および、有機－無機ハイブリッドハードコート層が挙げられる。例えば、眼鏡レンズの分野においては、有機－無機ハイブリッドハードコート層が一般的に使用されている。
【0033】
ハードコート層は、重合性モノマーの重合体（重合性モノマーを重合させて得られる重合体）、および／または、加水分解性有機ケイ素化合物の縮合体を含むことが好ましい。
重合性モノマーは特に制限されないが、例えば、後述する特定（メタ）アクリレートや、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンや、多官能アクリレートや、エポキシ基を複数有する化合物や、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物が挙げられる。
加水分解性有機ケイ素化合物は特に制限されないが、例えば後述するエポキシ基を有する有機ケイ素化合物が挙げられる。
また、ハードコート層は、後述する金属酸化物微粒子などの無機成分を含んでいてもよい。
重合性モノマーは特に制限されないが、例えば、後述する特定（メタ）アクリレートや、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンや、多官能アクリレートや、エポキシ基を複数有する化合物や、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物が挙げられる。
加水分解性有機ケイ素化合物は特に制限されないが、例えば後述するエポキシ基を有する有機ケイ素化合物が挙げられる。
また、ハードコート層は、後述する金属酸化物微粒子などの無機成分を含んでいてもよい。
【0034】
ハードコート層は、重合性モノマーを含むハードコート層形成用組成物を用いて形成された層であることが好ましい。
【0035】
（リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基を少なくとも１つ有する（メタ）アクリレート）
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基（以後、単に「特定基」とも称する）を少なくとも１つ有する（メタ）アクリレート（以後、単に「特定（メタ）アクリレート」とも称する）が挙げられる。
なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。
特定基としては、リン酸基が好ましい。
特定（メタ）アクリレート中における特定基の数は１以上であればよく、２以上であってもよい。上限としては、例えば、５以下とすることができる。
特定（メタ）アクリレートは、単官能であっても、多官能であってもよい。なお、多官能とは、特定（メタ）アクリレートが２以上の特定基を有することを意味する。
リン酸基は、以下の式で表される基である。＊は、結合位置を表す。
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基（以後、単に「特定基」とも称する）を少なくとも１つ有する（メタ）アクリレート（以後、単に「特定（メタ）アクリレート」とも称する）が挙げられる。
なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。
特定基としては、リン酸基が好ましい。
特定（メタ）アクリレート中における特定基の数は１以上であればよく、２以上であってもよい。上限としては、例えば、５以下とすることができる。
特定（メタ）アクリレートは、単官能であっても、多官能であってもよい。なお、多官能とは、特定（メタ）アクリレートが２以上の特定基を有することを意味する。
リン酸基は、以下の式で表される基である。＊は、結合位置を表す。
【0036】
【化1】
【0037】
スルホン酸基は、以下の式で表される基である。
【0038】
【化2】
【0039】
特定（メタ）アクリレートとしては、式（Ａ）で表される化合物が好ましい。
式（Ａ） ＣＨ２＝ＣＲａ１－ＣＯＯ－Ｌａ－Ｒａ２
Ｒａ１は、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌａは、ヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子、および、硫黄原子）を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。２価の炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましい。２価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基（例えば、－Ｏ－アルキレン基－）が好ましい。
Ｒａ２は、リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基を表す。
式（Ａ） ＣＨ２＝ＣＲａ１－ＣＯＯ－Ｌａ－Ｒａ２
Ｒａ１は、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌａは、ヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子、および、硫黄原子）を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。２価の炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましい。２価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基（例えば、－Ｏ－アルキレン基－）が好ましい。
Ｒａ２は、リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基を表す。
【0040】
（ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン）
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンが挙げられる。
ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基が好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、および、ビニル基が挙げられる。
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンが挙げられる。
ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基が好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、および、ビニル基が挙げられる。
【0041】
なお、一般的に、シルセスキオキサン化合物とは、アルコキシシラン、クロロシラン、および、シラノールなどの３官能性シラン化合物を加水分解することで得られる式（Ｂ）で表される基本骨格を有するシラン化合物である。シルセスキオキサン化合物の構造としては、ランダム構造と呼ばれる不規則の形態のほかに、ラダー構造、かご型（完全縮合ケージ型）構造、および、不完全かご型構造（かご型構造の部分開裂構造体であって、かご型構造からケイ素原子のうちの一部が欠けた構造やかご型構造の一部のケイ素－酸素結合が切断された構造のもの）が知られている。
以下の式（Ｂ）中、Ｒｂは有機基を表す。
式（Ｂ） Ｒｂ－ＳｉＯ３/２
以下の式（Ｂ）中、Ｒｂは有機基を表す。
式（Ｂ） Ｒｂ－ＳｉＯ３/２
【0042】
ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン化合物の構造は特に制限されないが、上記ランダム構造、ラダー構造、かご型構造、および、不完全かご型構造のいずれであってもよく、また、複数種の構造の混合物であってもよい。
【0043】
シルセスキオキサン化合物に含まれるラジカル重合性基当量は特に制限されないが、ハードコート層の硬度がより優れる点で、３０～５００ｇ／ｅｑ.が好ましく、３０～１５０ｇ／ｅｑ．がより好ましい。
【0044】
ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサン化合物は、公知の方法にて合成してもよいし、市販品を用いてもよい。
【0045】
（多官能アクリレート）
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、特定（メタ）アクリレートおよびラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンのいずれとも異なる多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
多官能（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイル基を複数有する化合物である。（メタ）アクリロイル基の数は特に制限されないが、２～６個が好ましく、２～３個がより好ましい。
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、特定（メタ）アクリレートおよびラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンのいずれとも異なる多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
多官能（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイル基を複数有する化合物である。（メタ）アクリロイル基の数は特に制限されないが、２～６個が好ましく、２～３個がより好ましい。
【0046】
多官能（メタ）アクリレートとしては、式（Ｃ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｃ） ＣＨ２＝ＣＲｃ１－ＣＯ－Ｌｃ１－ＣＯ－ＣＲｃ２＝ＣＨ２
Ｒｃ１およびＲｃ２は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌｃ１は、ヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子）を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。２価の炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましい。２価の炭化水素基としては、例えば、ヘテロ原子を含んでいてもよい、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基が好ましい。
なかでも、酸素原子を含むアルキレン基が好ましく、－Ｏ－（Ｌｃ２－Ｏ）ｒ－で表される基が好ましい。なお、Ｌｃ２は、アルキレン基（好ましくは、炭素数１～３）を表す。ｒは、１以上の整数を表し、１～１０の整数が好ましく、２～５の整数がより好ましい。
式（Ｃ） ＣＨ２＝ＣＲｃ１－ＣＯ－Ｌｃ１－ＣＯ－ＣＲｃ２＝ＣＨ２
Ｒｃ１およびＲｃ２は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌｃ１は、ヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子）を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。２価の炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましい。２価の炭化水素基としては、例えば、ヘテロ原子を含んでいてもよい、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基が好ましい。
なかでも、酸素原子を含むアルキレン基が好ましく、－Ｏ－（Ｌｃ２－Ｏ）ｒ－で表される基が好ましい。なお、Ｌｃ２は、アルキレン基（好ましくは、炭素数１～３）を表す。ｒは、１以上の整数を表し、１～１０の整数が好ましく、２～５の整数がより好ましい。
【0047】
（エポキシ基を複数有する化合物）
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、エポキシ基を複数有する化合物（以後、単に「多官能エポキシ化合物」とも称する）が挙げられる。
エポキシ基とは、以下の式（Ｄ）で表される基である。Ｒｄは、水素原子またはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、および、プロピル基）を表す。＊は、結合位置を表す。
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、エポキシ基を複数有する化合物（以後、単に「多官能エポキシ化合物」とも称する）が挙げられる。
エポキシ基とは、以下の式（Ｄ）で表される基である。Ｒｄは、水素原子またはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、および、プロピル基）を表す。＊は、結合位置を表す。
【0048】
【化3】
【0049】
多官能エポキシ化合物には、エポキシ基が複数（２個以上）含まれる。エポキシ基の数は特に制限されないが、通常、２～６個とすることができ、また２～３個とすることができる。
【0050】
多官能エポキシ化合物の種類は特に制限されず、公知の多官能エポキシ化合物が挙げられる。多官能エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、および、脂肪族グリシジルエーテル型エポキシ化合物が挙げられる。
【0051】
（オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物）
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物が挙げられる。
オキセタニル基とは、以下の式（Ｅ）で表される基である。Ｒｅは、水素原子またはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基）を表す。＊は、結合位置を表す。
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物が挙げられる。
オキセタニル基とは、以下の式（Ｅ）で表される基である。Ｒｅは、水素原子またはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基）を表す。＊は、結合位置を表す。
【0052】
【化4】
【0053】
オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の構造は特に制限されないが、上記ランダム構造、ラダー構造、かご型構造、および、不完全かご型構造のいずれであってもよく、また、複数種の構造の混合物であってもよい。
【0054】
シルセスキオキサン化合物に含まれるオキセタニル基当量は特に制限されないが、ハードコート層の硬度がより優れる点で、５０～５００ｇ／ｅｑ.が好ましく、１５０～３００ｇ／ｅｑ．がより好ましい。
【0055】
オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物は、公知の方法にて合成してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、東亞合成社製：ＯＸ－ＳＱ ＴＸ－１００、ＯＸ－ＳＱ ＳＩ－２０、ＯＸ－ＳＱ ＨＤＸが挙げられる。
【0056】
ハードコート層は、加水分解性有機ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物を含むハードコート層形成用組成物を用いて形成された層であることが好ましい。
【0057】
（式（Ｆ）で表される加水分解性有機ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種）
ハードコート層形成用組成物は、式（Ｆ）で表される加水分解性ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種（以後、単に「加水分解性有機ケイ素化合物類」とも称する）を含んでいることが好ましい。なお、加水分解性有機ケイ素化合物とは、ケイ素原子に有機基、および、加水分解性基が結合した化合物を意図する。有機基はエポキシ基であることが好ましい。
式（Ｆ） Ｒｆ１－Ｌｆ－Ｓｉ（Ｒｆ２）ｓ（Ｒｆ３）３－ｓ
Ｒｆ１は、エポキシ基を表す。
エポキシ基の定義は、上述した通りである。
ハードコート層形成用組成物は、式（Ｆ）で表される加水分解性ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種（以後、単に「加水分解性有機ケイ素化合物類」とも称する）を含んでいることが好ましい。なお、加水分解性有機ケイ素化合物とは、ケイ素原子に有機基、および、加水分解性基が結合した化合物を意図する。有機基はエポキシ基であることが好ましい。
式（Ｆ） Ｒｆ１－Ｌｆ－Ｓｉ（Ｒｆ２）ｓ（Ｒｆ３）３－ｓ
Ｒｆ１は、エポキシ基を表す。
エポキシ基の定義は、上述した通りである。
【0058】
Ｌｆは、ヘテロ原子を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表す。炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましい。２価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基が好ましい。
【0059】
Ｒｆ２は、加水分解性基を表す。加水分解性基は、Ｓｉ（ケイ素原子）に直結し、加水分解反応および／または縮合反応を進行し得る基である。加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子、アシルオキシ基、アルケニルオキシ基、および、イソシアネート基が挙げられる。
Ｒｆ３は、アルキル基を表す。Ｒｆ３で表されるアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましい。
ｓは、１～３の整数を表す。ｓは、３が好ましい。
Ｒｆ３は、アルキル基を表す。Ｒｆ３で表されるアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましい。
ｓは、１～３の整数を表す。ｓは、３が好ましい。
【0060】
加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解物とは、加水分解性有機ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解物は、加水分解性基のすべてが加水分解されているもの（完全加水分解物）であっても、加水分解性基の一部が加水分解されているもの（部分加水分解物）であってもよい。つまり、上記加水分解物は、完全加水分解物、部分加水分解物、または、これらの混合物であってもよい。
また、加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解縮合物とは、加水分解性有機ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解し、得られた加水分解物を縮合して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解縮合物としては、すべての加水分解性基が加水分解され、かつ、加水分解物がすべて縮合されているもの（完全加水分解縮合物）であっても、一部の加水分解性基が加水分解され、一部の加水分解物が縮合しているもの（部分加水分解縮合物）であってもよい。つまり、上記加水分解縮合物は、完全加水分解縮合物、部分加水分解縮合物、または、これらの混合物であってもよい。
また、加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解縮合物とは、加水分解性有機ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解し、得られた加水分解物を縮合して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解縮合物としては、すべての加水分解性基が加水分解され、かつ、加水分解物がすべて縮合されているもの（完全加水分解縮合物）であっても、一部の加水分解性基が加水分解され、一部の加水分解物が縮合しているもの（部分加水分解縮合物）であってもよい。つまり、上記加水分解縮合物は、完全加水分解縮合物、部分加水分解縮合物、または、これらの混合物であってもよい。
【0061】
加水分解性有機ケイ素化合物は１種類を単独で使用してもよいし、２種類以上の加水分解性有機ケイ素化合物を同時に使用してもよい。また、重合性モノマーを含むハードコート層形成用組成物と併用することもできる。
【0062】
（金属酸化物微粒子）
ハードコート層形成用組成物は、金属酸化物微粒子を含んでいてもよい。
金属酸化物微粒子の種類は特に制限されず、公知の金属酸化物微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｌａ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｚｒ、Ｉｎ、および、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物の微粒子が挙げられる。なかでも、取り扱い性の点で、金属酸化物微粒子を、Ｓｉを含む酸化物の微粒子（酸化ケイ素微粒子）、Ｓｎを含む酸化物の微粒子（酸化スズ微粒子）、Ｚｒを含む酸化物の微粒子（酸化ジルコニウム微粒子）、または、Ｔｉを含む酸化物の微粒子（酸化チタン微粒子）が好ましい。
なお、金属酸化物微粒子には、上記に例示した１種の金属（金属原子）のみが含まれていてもよいし、２種以上の金属（金属原子）が含まれていてもよい。
また、Ｓｉ（ケイ素）は半金属に分類される場合があるが、本明細書ではＳｉを金属に含めるものとする。
ハードコート層形成用組成物は、金属酸化物微粒子を含んでいてもよい。
金属酸化物微粒子の種類は特に制限されず、公知の金属酸化物微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｌａ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｚｒ、Ｉｎ、および、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物の微粒子が挙げられる。なかでも、取り扱い性の点で、金属酸化物微粒子を、Ｓｉを含む酸化物の微粒子（酸化ケイ素微粒子）、Ｓｎを含む酸化物の微粒子（酸化スズ微粒子）、Ｚｒを含む酸化物の微粒子（酸化ジルコニウム微粒子）、または、Ｔｉを含む酸化物の微粒子（酸化チタン微粒子）が好ましい。
なお、金属酸化物微粒子には、上記に例示した１種の金属（金属原子）のみが含まれていてもよいし、２種以上の金属（金属原子）が含まれていてもよい。
また、Ｓｉ（ケイ素）は半金属に分類される場合があるが、本明細書ではＳｉを金属に含めるものとする。
【0063】
金属酸化物微粒子の平均粒径は特に制限されないが、例えば、１～２００ｎｍが好ましく、５～３０ｎｍがより好ましい。上記範囲内であれば、ハードコート層形成用組成物中での金属酸化物微粒子の分散安定性がより優れる。
なお、上記平均粒径は、透過型電子顕微鏡にて２０個以上の金属酸化物微粒子の直径を測定して、それらを算術平均して求める。なお、金属酸化物微粒子が真円状でない場合、長径を直径とする。
金属酸化物微粒子の表面には、必要に応じて、各種官能基が導入されていてもよい。
なお、上記平均粒径は、透過型電子顕微鏡にて２０個以上の金属酸化物微粒子の直径を測定して、それらを算術平均して求める。なお、金属酸化物微粒子が真円状でない場合、長径を直径とする。
金属酸化物微粒子の表面には、必要に応じて、各種官能基が導入されていてもよい。
【0064】
（その他成分）
ハードコート層形成用組成物は、上述した成分以外の成分を含んでいてもよい。
ハードコート層形成用組成物は、上述した成分以外の成分を含んでいてもよい。
【0065】
重合性モノマーを含むハードコート層形成用組成物は、ラジカル重合開始剤を含んでいてもよい。ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤および熱ラジカル重合開始剤が挙げられる。
重合性モノマーを含むハードコート層形成用組成物は、カチオン重合開始剤を含んでいてもよい。カチオン重合開始剤としては、光カチオン重合開始剤および熱カチオン重合開始剤が挙げられる。
加水分解性有機ケイ素化合物を含むハードコート層形成用組成物は、硬化触媒を含んでいてもよい。硬化触媒としては、金属キレート化合物および有機スズ化合物が挙げられる。
重合性モノマーを含むハードコート層形成用組成物は、カチオン重合開始剤を含んでいてもよい。カチオン重合開始剤としては、光カチオン重合開始剤および熱カチオン重合開始剤が挙げられる。
加水分解性有機ケイ素化合物を含むハードコート層形成用組成物は、硬化触媒を含んでいてもよい。硬化触媒としては、金属キレート化合物および有機スズ化合物が挙げられる。
【0066】
ハードコート層形成用組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては、水であっても、有機溶媒であってもよい。
有機溶媒の種類は特に制限されず、例えば、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、および、スルホキシド系溶媒が挙げられる。
溶媒としては、水であっても、有機溶媒であってもよい。
有機溶媒の種類は特に制限されず、例えば、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、および、スルホキシド系溶媒が挙げられる。
【0067】
ハードコート層形成用組成物は、必要に応じて、紫外線吸収剤、老化防止剤、塗膜調整剤、光安定剤、酸化防止剤、着色防止剤、染料、充填剤、および、内部離型剤などの種々の添加剤を含んでいてもよい。
【0068】
ハードコート層形成用組成物は、上述した各種成分を含む。
ハードコート層形成用組成物の製造方法は特に制限されず、例えば、上述した成分を一括で混合してもよいし、分割して段階的に各成分を混合してもよい。
ハードコート層形成用組成物の製造方法は特に制限されず、例えば、上述した成分を一括で混合してもよいし、分割して段階的に各成分を混合してもよい。
【0069】
ハードコート層形成用組成物中における重合性モノマーの含有量は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、ハードコート層形成用組成物中の全固形分（ハードコート層構成成分）に対して、１～１００質量％が好ましく、５～６０質量％がより好ましい。
なお、全固形分（ハードコート層構成成分）とは、硬化処理によりハードコート層を構成する成分であり、溶媒は固形分に含まれない。また、成分が液状であっても、ハードコート層を構成する成分であれば、固形分として計算する。
なお、全固形分（ハードコート層構成成分）とは、硬化処理によりハードコート層を構成する成分であり、溶媒は固形分に含まれない。また、成分が液状であっても、ハードコート層を構成する成分であれば、固形分として計算する。
【0070】
ハードコート層形成用組成物における加水分解性有機ケイ素化合物類の含有量は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５～７０質量％が好ましく、１～６０質量％がより好ましい。
【0071】
ハードコート層形成用組成物中における金属酸化物微粒子の含有量は特に制限されないが、所定の効果がより優れる点で、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、１０～９０質量％が好ましく、２５～７５質量％がより好ましい。
【0072】
ハードコート層形成用組成物の好適態様の一つとしては、多官能エポキシ化合物と、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物と、重合開始剤とを含むハードコート層形成用組成物（以下、単に「特定組成物」ともいう。）が挙げられる。
重合開始剤としては、カチオン重合開始剤を用いることが好ましく、光カチオン重合開始剤および熱カチオン重合開始剤を併用してもよい。
特定組成物中における多官能エポキシ化合物の含有量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性および外観特性がより優れ、かつ、硬化反応速度が速いという点で、特定組成物中の全固形分（ハードコート層構成成分）に対して、１～１５質量％が好ましく、１～１０質量％がより好ましい。
特定組成物中におけるオキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の含有量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性がより優れ、かつ、ハードコート層の応力が少ないという点で、特定組成物中の全固形分に対して、３５～７０質量％が好ましく、３５～６０質量％がより好ましい。
特定組成物中における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性がより優れる点で、特定組成物中の全固形分に対して、０．１～３．０質量％が好ましく、０．２～１．５質量％がより好ましい。
特定組成物に金属酸化物粒子が含まれる場合、金属酸化物粒子の含有量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性がより優れる点で、特定組成物中の全固形分に対して、２５～６０質量％が好ましく、３０～５０質量％がより好ましい。
多官能エポキシ化合物と、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物とを含むハードコート層形成用組成物に、加水分解性ケイ素化合物類を加えてもよい。加水分解性ケイ素化合物類の含有量は特に制限されないが、ハードコート層と基材との密着性がより優れる点で、特定組成物中の全固形分に対して、１０質量％未満が好ましく、９質量％未満がより好ましい。下限は特に制限されないが、１質量％以上が挙げられる。
多官能エポキシ化合物およびオキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の合計質量に対する、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の含有量は、ハードコート層の耐擦傷性および外観特性がより優れる点で、７０質量％超が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、８５質量％以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、９８質量％以下とすることができる。
特定組成物中の全固形分に対する、多官能エポキシ化合物およびオキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の合計質量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性が優れる点で、３５～７０質量％が好ましい。
重合開始剤としては、カチオン重合開始剤を用いることが好ましく、光カチオン重合開始剤および熱カチオン重合開始剤を併用してもよい。
特定組成物中における多官能エポキシ化合物の含有量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性および外観特性がより優れ、かつ、硬化反応速度が速いという点で、特定組成物中の全固形分（ハードコート層構成成分）に対して、１～１５質量％が好ましく、１～１０質量％がより好ましい。
特定組成物中におけるオキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の含有量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性がより優れ、かつ、ハードコート層の応力が少ないという点で、特定組成物中の全固形分に対して、３５～７０質量％が好ましく、３５～６０質量％がより好ましい。
特定組成物中における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性がより優れる点で、特定組成物中の全固形分に対して、０．１～３．０質量％が好ましく、０．２～１．５質量％がより好ましい。
特定組成物に金属酸化物粒子が含まれる場合、金属酸化物粒子の含有量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性がより優れる点で、特定組成物中の全固形分に対して、２５～６０質量％が好ましく、３０～５０質量％がより好ましい。
多官能エポキシ化合物と、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物とを含むハードコート層形成用組成物に、加水分解性ケイ素化合物類を加えてもよい。加水分解性ケイ素化合物類の含有量は特に制限されないが、ハードコート層と基材との密着性がより優れる点で、特定組成物中の全固形分に対して、１０質量％未満が好ましく、９質量％未満がより好ましい。下限は特に制限されないが、１質量％以上が挙げられる。
多官能エポキシ化合物およびオキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の合計質量に対する、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の含有量は、ハードコート層の耐擦傷性および外観特性がより優れる点で、７０質量％超が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、８５質量％以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、９８質量％以下とすることができる。
特定組成物中の全固形分に対する、多官能エポキシ化合物およびオキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物の合計質量は特に制限されないが、ハードコート層の耐擦傷性が優れる点で、３５～７０質量％が好ましい。
【0073】
ハードコート層形成用組成物を用いたハードコート層の形成方法としては、ハードコート層形成用組成物をプラスチック基材上（または、プライマー層上）に塗布して塗膜を形成し、塗膜に対して光照射処理および加熱処理などの硬化処理を実施する方法が挙げられる。
硬化処理としては、光照射処理および加熱処理のいずれか一方のみを実施してもよいし、両方を実施してもよい。両方を実施する場合、光照射処理および加熱処理は、同時に実施してもよいし、一方を実施した後、他方を実施してもよい。
なお、塗膜を形成した後、必要に応じて、塗膜から溶媒を除去するために、加熱処理などの乾燥処理を実施してもよい。
硬化処理としては、光照射処理および加熱処理のいずれか一方のみを実施してもよいし、両方を実施してもよい。両方を実施する場合、光照射処理および加熱処理は、同時に実施してもよいし、一方を実施した後、他方を実施してもよい。
なお、塗膜を形成した後、必要に応じて、塗膜から溶媒を除去するために、加熱処理などの乾燥処理を実施してもよい。
【0074】
ハードコート層形成用組成物を塗布する方法は特に制限されず、公知の方法（例えば、ディッピングコート法、スピンコート法、スプレーコート法、インクジェットコート法、および、フローコート法）が挙げられる。
形成される塗膜の膜厚は特に制限されず、所定のハードコート層の膜厚となるような膜厚が適宜選択される。
形成される塗膜の膜厚は特に制限されず、所定のハードコート層の膜厚となるような膜厚が適宜選択される。
【0075】
光照射処理の条件は特に制限されず、使用される重合開始剤の種類によって適した条件が選択される。
光照射の際の光の種類は特に制限されないが、例えば、紫外線および可視光線が挙げられる。光源としては、例えば、高圧水銀灯が挙げられる。
光照射の際の積算光量は特に制限されないが、生産性および塗膜の硬化性の点で、１００～３０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１００～２０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
加熱処理の条件は特に制限されず、使用される重合開始剤の種類によって最適な条件が選択される。
加熱温度は３０～１００℃が好ましく、加熱時間は５～３６０分が好ましい。
光照射の際の光の種類は特に制限されないが、例えば、紫外線および可視光線が挙げられる。光源としては、例えば、高圧水銀灯が挙げられる。
光照射の際の積算光量は特に制限されないが、生産性および塗膜の硬化性の点で、１００～３０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１００～２０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
加熱処理の条件は特に制限されず、使用される重合開始剤の種類によって最適な条件が選択される。
加熱温度は３０～１００℃が好ましく、加熱時間は５～３６０分が好ましい。
【0076】
ハードコート層の膜厚は特に制限されないが、１μｍ以上が好ましく、３μｍ以上がより好ましく、１０μｍ以上がさらに好ましい。なお、膜厚の上限は、例えば、３０μｍ以下とすることができる。
上記膜厚は平均膜厚であり、その測定方法としては、ハードコート層の任意の５点の膜厚を測定し、それらを算術平均して求める。
上記膜厚は平均膜厚であり、その測定方法としては、ハードコート層の任意の５点の膜厚を測定し、それらを算術平均して求める。
【0077】
なお、ハードコート層は、ブルーイング剤、光安定剤、および、酸化防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。
【0078】
＜撥水撥油層＞
光学部材は、撥水撥油層を含んでいてもよい。
光学部材は、反射防止膜のプラスチック基材側とは反対側の表面上に撥水撥油層を有することが好ましい。なかでも、光学部材は、最外層に撥水撥油層を有することが好ましい。
撥水撥油層は光学部材の表面エネルギーを低下させ、光学部材の汚染防止の機能を向上させるとともに、光学部材の表面のすべり性を向上させ、その結果として、光学部材の耐摩耗性を向上させる。
光学部材は、撥水撥油層を含んでいてもよい。
光学部材は、反射防止膜のプラスチック基材側とは反対側の表面上に撥水撥油層を有することが好ましい。なかでも、光学部材は、最外層に撥水撥油層を有することが好ましい。
撥水撥油層は光学部材の表面エネルギーを低下させ、光学部材の汚染防止の機能を向上させるとともに、光学部材の表面のすべり性を向上させ、その結果として、光学部材の耐摩耗性を向上させる。
【0079】
撥水撥油層を構成する材料は特に制限されず、例えば、フッ素含有化合物（フッ素原子を含む化合物）、および、ケイ素含有化合物（ケイ素原子を含む化合物）が挙げられる。なかでも、撥水撥油性がより優れる点で、撥水撥油層は、フッ素含有化合物を含むことが好ましく、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種を含むことがより好ましい。
なお、撥水撥油層を構成する材料は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
なお、撥水撥油層を構成する材料は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0080】
フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物とは、水素原子の一部または全部がフッ素原子により置換されたアルキル基を含有する有機ケイ素化合物であり、加水分解性基を有する。
ここで、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応および縮合反応を進行し得る基であり、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシルオキシ基、アルケニルオキシ基、および、イソシアネート基が挙げられる。なお、加水分解性基が１つのケイ素原子に複数直結する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ここで、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応および縮合反応を進行し得る基であり、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシルオキシ基、アルケニルオキシ基、および、イソシアネート基が挙げられる。なお、加水分解性基が１つのケイ素原子に複数直結する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
【0081】
フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物の加水分解物とは、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解物は、加水分解性基のすべてが加水分解されているもの（完全加水分解物）であっても、加水分解性基の一部が加水分解されているもの（部分加水分解物）であってもよい。つまり、上記加水分解物は、完全加水分解物、部分加水分解物、または、これらの混合物であってもよい。
フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物の加水分解縮合物とは、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解し、得られた加水分解物を縮合して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解縮合物としては、すべての加水分解性基が加水分解され、かつ、加水分解物がすべて縮合されているもの（完全加水分解縮合物）であっても、一部の加水分解性基が加水分解され、一部の加水分解物が縮合しているもの（部分加水分解縮合物）であってもよい。つまり、上記加水分解縮合物は、完全加水分解縮合物、部分加水分解縮合物、または、これらの混合物であってもよい。
フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物の加水分解縮合物とは、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解し、得られた加水分解物を縮合して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解縮合物としては、すべての加水分解性基が加水分解され、かつ、加水分解物がすべて縮合されているもの（完全加水分解縮合物）であっても、一部の加水分解性基が加水分解され、一部の加水分解物が縮合しているもの（部分加水分解縮合物）であってもよい。つまり、上記加水分解縮合物は、完全加水分解縮合物、部分加水分解縮合物、または、これらの混合物であってもよい。
【0082】
撥水撥油層の形成方法は特に制限されず、使用する材料、所望の性能または厚さなどによって任意に選択できる。例えば、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水撥油層形成用組成物をレンズ基材上に塗工して、必要に応じて硬化処理を施す方法、および、真空蒸着法が挙げられる。
【0083】
光学部材が有する撥水撥油層の厚さは特に制限されないが、５～３５ｎｍが好ましい。厚さが上記の範囲内であれば撥水撥油性に優れた光学部材となる。
【実施例】
【0084】
以下、上記形態に関して実施例および比較例によりさらに詳しく説明するが、これらの実施例によって何ら制限されるものではない。
【0085】
＜実施例１＞
プラスチック基材として、屈折率１．６０のチオウレタン系合成樹脂基板を準備した。
次に、プラスチック基材の両面上に、屈折率１．６７のポリウレタンプライマー層（厚み：１μｍ）、および、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート層（厚み：３μｍ）を順次形成した。なお、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート層は、エポキシ基を有する有機ケイ素化合物（その加水分解物、および、その加水分解縮合物を含む）と、ＴｉＯ２を主体とした複合酸化物微粒子を含むハードコート組成物を熱硬化して形成されたものである。
次に、得られたプラスチック基材を真空蒸着装置（シンクロン社製、「ＡＣＥ－１１５０」）の真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、圧力が１．３×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングをハードコート層上に６０秒間施した後、以下のすべての層に加速電圧５００Ｖ、加速電流２５０ｍＡの条件でＡｒイオンビームを照射しながら、後述する表１に示す物理的厚みの第１層から第８層までを電子ビーム法にて積層して、反射防止膜を形成した。なお、反射防止膜は、プラスチック基材の両面に形成した。
次に、反射防止膜を有するプラスチック基材を真空蒸着装置から取り出し、ディッピング法により反射防止膜上に撥水撥油層を形成した。撥水撥油層に使用される材料は、オプツールＡＥＳ４Ｅ（フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物溶液、ダイキン工業製）とＫＹ１６４（信越化学製）との混合液を用い、１５ｍｍ／ｓｅｃのスピードで引き上げた。
以上により、プラスチック基材の両面上に、それぞれ、プライマー層と、ハードコート層と、反射防止膜と、撥水撥油層とを有する光学部材を得た。
プラスチック基材として、屈折率１．６０のチオウレタン系合成樹脂基板を準備した。
次に、プラスチック基材の両面上に、屈折率１．６７のポリウレタンプライマー層（厚み：１μｍ）、および、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート層（厚み：３μｍ）を順次形成した。なお、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート層は、エポキシ基を有する有機ケイ素化合物（その加水分解物、および、その加水分解縮合物を含む）と、ＴｉＯ２を主体とした複合酸化物微粒子を含むハードコート組成物を熱硬化して形成されたものである。
次に、得られたプラスチック基材を真空蒸着装置（シンクロン社製、「ＡＣＥ－１１５０」）の真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、圧力が１．３×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングをハードコート層上に６０秒間施した後、以下のすべての層に加速電圧５００Ｖ、加速電流２５０ｍＡの条件でＡｒイオンビームを照射しながら、後述する表１に示す物理的厚みの第１層から第８層までを電子ビーム法にて積層して、反射防止膜を形成した。なお、反射防止膜は、プラスチック基材の両面に形成した。
次に、反射防止膜を有するプラスチック基材を真空蒸着装置から取り出し、ディッピング法により反射防止膜上に撥水撥油層を形成した。撥水撥油層に使用される材料は、オプツールＡＥＳ４Ｅ（フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物溶液、ダイキン工業製）とＫＹ１６４（信越化学製）との混合液を用い、１５ｍｍ／ｓｅｃのスピードで引き上げた。
以上により、プラスチック基材の両面上に、それぞれ、プライマー層と、ハードコート層と、反射防止膜と、撥水撥油層とを有する光学部材を得た。
【0086】
＜実施例２～１０＞
後述する表１に示すように、反射防止膜を構成する層数、および、反射防止膜を構成する各層の物理的厚みを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を得た。
後述する表１に示すように、反射防止膜を構成する層数、および、反射防止膜を構成する各層の物理的厚みを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を得た。
【0087】
＜実施例１１＞
屈折率１．６７のポリウレタンプライマー層（厚み：１μｍ）の代わりに、屈折率１．５０ポリウレタンのプライマー層（厚み：１μｍ）を使用し、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート層（厚み：３μｍ）の代わりに、屈折率１．５０のシルセスキオキサン系ハードコート層（厚み：１０μｍ）を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を得た。なお、屈折率１．５０のシルセスキオキサン系ハードコート層は、オキセタニル基を有するシルセスキオキサンと、多官能エポキシ化合物と、エポキシ基を有する有機ケイ素化合物の加水分解物と、コロイダルシリカ（ＳｉＯ２微粒子）を含むハードコート組成物を、紫外線および熱硬化して形成されたものである。
次に、反射防止膜を構成する各層の物理的厚みを表１に示すように調整した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を得た。
屈折率１．６７のポリウレタンプライマー層（厚み：１μｍ）の代わりに、屈折率１．５０ポリウレタンのプライマー層（厚み：１μｍ）を使用し、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート層（厚み：３μｍ）の代わりに、屈折率１．５０のシルセスキオキサン系ハードコート層（厚み：１０μｍ）を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を得た。なお、屈折率１．５０のシルセスキオキサン系ハードコート層は、オキセタニル基を有するシルセスキオキサンと、多官能エポキシ化合物と、エポキシ基を有する有機ケイ素化合物の加水分解物と、コロイダルシリカ（ＳｉＯ２微粒子）を含むハードコート組成物を、紫外線および熱硬化して形成されたものである。
次に、反射防止膜を構成する各層の物理的厚みを表１に示すように調整した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を得た。
【0088】
＜実施例１２＞
プラスチック基材として、屈折率１．６０のチオウレタン系合成樹脂基板に、実施例１と同様のプライマー層、および、ハードコート層を順次形成した。
次に、得られたプラスチック基材を真空蒸着装置（サティス・ロー社製、「ＭＣ－１２００ＤＬＸ」）の真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、圧力が３．５×１０－３Ｐａになるまで排気し、アノード電圧１２０Ｖ、アノード電流３．５Ａの条件でＡｒイオンビームクリーニングをハードコート層上に６０秒間施した後、以下の第１層から第７層にアノード電圧１２０Ｖ、アノード電流３．５Ａの条件でＡｒイオンビームを照射しながら、後述する表２に示す物理的厚みの第１層から第７層までを電子ビーム法にて積層し、第８層にはアノード電圧１２０Ｖ、アノード電流２．０Ａの条件でＯ２イオンビームを照射しながら、後述する表２に示す物理的厚みの第８層を電子ビーム法にて積層し、第９層にアノード電圧１２０Ｖ、アノード電流３．５Ａの条件でＡｒイオンビームを照射しながら、後述する表２に示す物理的厚みの第９層を電子ビーム法にて積層し、反射防止膜を形成した。なお、反射防止膜は、プラスチック基材の両面に形成した。
次に、反射防止膜を有するプラスチック基材を真空蒸着装置から取り出し、ディッピング法により反射防止膜上に撥水撥油層を形成した。撥水撥油層に使用される材料は、オプツールＡＥＳ４Ｅ（フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物溶液、ダイキン工業製）とＫＹ１６４（信越化学製）との混合液を用い、１５ｍｍ／ｓｅｃのスピードで引き上げた。
以上により、プラスチック基材の両面上に、それぞれ、プライマー層と、ハードコート層と、反射防止膜と、撥水撥油層とを有する光学部材を得た。
プラスチック基材として、屈折率１．６０のチオウレタン系合成樹脂基板に、実施例１と同様のプライマー層、および、ハードコート層を順次形成した。
次に、得られたプラスチック基材を真空蒸着装置（サティス・ロー社製、「ＭＣ－１２００ＤＬＸ」）の真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、圧力が３．５×１０－３Ｐａになるまで排気し、アノード電圧１２０Ｖ、アノード電流３．５Ａの条件でＡｒイオンビームクリーニングをハードコート層上に６０秒間施した後、以下の第１層から第７層にアノード電圧１２０Ｖ、アノード電流３．５Ａの条件でＡｒイオンビームを照射しながら、後述する表２に示す物理的厚みの第１層から第７層までを電子ビーム法にて積層し、第８層にはアノード電圧１２０Ｖ、アノード電流２．０Ａの条件でＯ２イオンビームを照射しながら、後述する表２に示す物理的厚みの第８層を電子ビーム法にて積層し、第９層にアノード電圧１２０Ｖ、アノード電流３．５Ａの条件でＡｒイオンビームを照射しながら、後述する表２に示す物理的厚みの第９層を電子ビーム法にて積層し、反射防止膜を形成した。なお、反射防止膜は、プラスチック基材の両面に形成した。
次に、反射防止膜を有するプラスチック基材を真空蒸着装置から取り出し、ディッピング法により反射防止膜上に撥水撥油層を形成した。撥水撥油層に使用される材料は、オプツールＡＥＳ４Ｅ（フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物溶液、ダイキン工業製）とＫＹ１６４（信越化学製）との混合液を用い、１５ｍｍ／ｓｅｃのスピードで引き上げた。
以上により、プラスチック基材の両面上に、それぞれ、プライマー層と、ハードコート層と、反射防止膜と、撥水撥油層とを有する光学部材を得た。
【0089】
＜実施例１３＞
プラスチック基材として、屈折率１．６０のチオウレタン系合成樹脂基板に、実施例１２と同様のプライマー層、および、ハードコート層を順次形成した。
次に、反射防止膜を構成する各層の物理的厚みを表２に示すように調整した以外は、実施例１２と同様の手順に従って、光学部材を得た。
プラスチック基材として、屈折率１．６０のチオウレタン系合成樹脂基板に、実施例１２と同様のプライマー層、および、ハードコート層を順次形成した。
次に、反射防止膜を構成する各層の物理的厚みを表２に示すように調整した以外は、実施例１２と同様の手順に従って、光学部材を得た。
【0090】
＜比較例１＞
反射防止膜を形成しなかった以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を作製した。
反射防止膜を形成しなかった以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を作製した。
【0091】
＜比較例２～９＞
後述する表３に示すように、反射防止膜を構成する各層の物理的厚みを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を得た。
後述する表３に示すように、反射防止膜を構成する各層の物理的厚みを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学部材を得た。
【0092】
＜評価＞
（耐擦傷性評価（Ｂａｙｅｒ試験方法））
４インチの距離の往復運動を１サイクルとした際に、１分間に１５０サイクルの往復運動を実施する揺動試験装置に、各実施例および比較例にて作製された光学部材と比較用標準品（ノンコートＣＲ３９）の２枚の光学部材を凸面が上向きになるようにトレイの底面にセットし、５００ｇのアランダムをトレイに注ぎ、４分間揺動させた。
揺動完了後、揺動試験装置から光学部材を取り出し、ＢＹＫ製ヘイズガードプラスにより、各実施例および比較例の光学部材と比較用標準品とのヘーズ値を測定した。
光学部材のヘーズ値をＨｓ、比較用標準品のヘーズ値をＨｃｒとし、それらの比Ｒ（Ｒ＝Ｈｓ／Ｈｃｒ）を求めた。比Ｒが１０．０以上の場合を合格とした。
（耐擦傷性評価（Ｂａｙｅｒ試験方法））
４インチの距離の往復運動を１サイクルとした際に、１分間に１５０サイクルの往復運動を実施する揺動試験装置に、各実施例および比較例にて作製された光学部材と比較用標準品（ノンコートＣＲ３９）の２枚の光学部材を凸面が上向きになるようにトレイの底面にセットし、５００ｇのアランダムをトレイに注ぎ、４分間揺動させた。
揺動完了後、揺動試験装置から光学部材を取り出し、ＢＹＫ製ヘイズガードプラスにより、各実施例および比較例の光学部材と比較用標準品とのヘーズ値を測定した。
光学部材のヘーズ値をＨｓ、比較用標準品のヘーズ値をＨｃｒとし、それらの比Ｒ（Ｒ＝Ｈｓ／Ｈｃｒ）を求めた。比Ｒが１０．０以上の場合を合格とした。
【0093】
（密着性評価）
各実施例および比較例の手順において反射防止膜を形成した後であって、撥水撥油層を形成する前の光学部材を取り出した。取り出された光学部材の反射防止膜にカッターによって、１辺が１ｃｍの正方形の内側に１００マスの正方形を形成するようにキザミを入れた。引き続き、形成された１００マスのキザミが入れられた反射防止膜上にセロハンテープを付着させ、その後すぐに、勢いよくセロハンテープを垂直に引きはがす動作を５回繰りした。上記動作終了後の反射防止膜を観察して、１００マスの剥離が生じているかどうかを確認した。剥離が無い場合を「Ａ」、一部でも剥離がある場合を「Ｂ」とする。
各実施例および比較例の手順において反射防止膜を形成した後であって、撥水撥油層を形成する前の光学部材を取り出した。取り出された光学部材の反射防止膜にカッターによって、１辺が１ｃｍの正方形の内側に１００マスの正方形を形成するようにキザミを入れた。引き続き、形成された１００マスのキザミが入れられた反射防止膜上にセロハンテープを付着させ、その後すぐに、勢いよくセロハンテープを垂直に引きはがす動作を５回繰りした。上記動作終了後の反射防止膜を観察して、１００マスの剥離が生じているかどうかを確認した。剥離が無い場合を「Ａ」、一部でも剥離がある場合を「Ｂ」とする。
【0094】
（反射防止性評価）
オリンパス製ＵＳＰＭ－ＲＵにより、作製された光学部材の凸面の３８０～７８０ｎｍまでの波長の反射率を測定した。得られた反射率より視感反射率Ｒｖを求め、Ｒｖ＜１．０％を「Ａ」、１．０％≦Ｒｖ＜２．０％を「Ｂ」、２．０％≦Ｒｖ＜３．０％を「Ｃ」、３．０％≦Ｒｖを「Ｄ」とした。
オリンパス製ＵＳＰＭ－ＲＵにより、作製された光学部材の凸面の３８０～７８０ｎｍまでの波長の反射率を測定した。得られた反射率より視感反射率Ｒｖを求め、Ｒｖ＜１．０％を「Ａ」、１．０％≦Ｒｖ＜２．０％を「Ｂ」、２．０％≦Ｒｖ＜３．０％を「Ｃ」、３．０％≦Ｒｖを「Ｄ」とした。
【0095】
表１～３中のＺｒＯ２層の屈折率は２．００であり、ＳｉＯ２層の屈折率は１．４７であった。
表１～３中、「層構成」欄は、反射防止膜を構成する層を示す。なお、「層構成」欄においては、上からプラスチック基材側に配置される層を順に示す。また、「Ｈ１」「Ｈ２」などはプラスチック基材側から数えた高屈折率層の順番を表し、「Ｌ１」「Ｌ２」などはプラスチック基材側から数えた低屈折率層の順番を表す。例えば、「１：ＺｒＯ２（Ｈ１）」は、反射防止膜中においてプラスチック基材側から１番目に配置されるＺｒＯ２層であり、プラスチック基材側から数えて１番目の高屈折率層に該当する。また、「６：ＳｉＯ２層（Ｌ３）」は、反射防止膜中においてプラスチック基材側から６番目に配置されるＳｉＯ２層であり、プラスチック基材側から数えて３番目の低屈折率層に該当する。
表１～３中、「層構成」欄の各数値は、各層の物理的厚みを示す。例えば、「１：ＺｒＯ２（Ｈ１）」欄の「８０」は、第１高屈折率層の物理的厚みが８０ｎｍであることを意味する。
表１～３中、「層構成」欄は、反射防止膜を構成する層を示す。なお、「層構成」欄においては、上からプラスチック基材側に配置される層を順に示す。また、「Ｈ１」「Ｈ２」などはプラスチック基材側から数えた高屈折率層の順番を表し、「Ｌ１」「Ｌ２」などはプラスチック基材側から数えた低屈折率層の順番を表す。例えば、「１：ＺｒＯ２（Ｈ１）」は、反射防止膜中においてプラスチック基材側から１番目に配置されるＺｒＯ２層であり、プラスチック基材側から数えて１番目の高屈折率層に該当する。また、「６：ＳｉＯ２層（Ｌ３）」は、反射防止膜中においてプラスチック基材側から６番目に配置されるＳｉＯ２層であり、プラスチック基材側から数えて３番目の低屈折率層に該当する。
表１～３中、「層構成」欄の各数値は、各層の物理的厚みを示す。例えば、「１：ＺｒＯ２（Ｈ１）」欄の「８０」は、第１高屈折率層の物理的厚みが８０ｎｍであることを意味する。
【0096】
【表1】
【0097】
【表2】
【0098】
【表3】
【0099】
なお、上記比較例９においては、「３：ＺｒＯ２（Ｈ２）」欄に記載の層が第１高屈折率層（Ｈ１）に該当し、「Ｌ１／Ｈ１」および「（Ｌ１＋Ｌ２）／Ｈ１」中の「Ｈ１」の値としては上記「３：ＺｒＯ２（Ｈ２）」欄を用いた。
【0100】
表１に示すように、所定の光学部材であれば、所望の効果が得られることが確認された。
なかでも、式４（Ｌ２≧Ｌ１）を満たす場合、反射防止性がより優れることが確認された。
なかでも、式４（Ｌ２≧Ｌ１）を満たす場合、反射防止性がより優れることが確認された。
【符号の説明】
【0101】
１０ 光学部材
１２ プラスチック基材
１４ プライマー層
１６ ハードコート層
１８ 反射防止膜
２０ 撥水撥油層
２２Ｈ 第１高屈折率層
２２Ｌ 第１低屈折率層
２４Ｈ 第２高屈折率層
２４Ｌ 第２低屈折率層
２６Ｈ 第３高屈折率層
２６Ｌ 第３低屈折率層
２８Ｈ 第４高屈折率層
２８Ｌ 第４低屈折率層
１２ プラスチック基材
１４ プライマー層
１６ ハードコート層
１８ 反射防止膜
２０ 撥水撥油層
２２Ｈ 第１高屈折率層
２２Ｌ 第１低屈折率層
２４Ｈ 第２高屈折率層
２４Ｌ 第２低屈折率層
２６Ｈ 第３高屈折率層
２６Ｌ 第３低屈折率層
２８Ｈ 第４高屈折率層
２８Ｌ 第４低屈折率層
【図1】
