特許 7519540 金属プレートのセンタリング装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-07-10

(45)【発行日】2024-07-19

(54)【発明の名称】金属プレートのセンタリング装置

(51)【国際特許分類】

   C21D 1/00 20060101AFI20240711BHJP

   C21D 9/00 20060101ALI20240711BHJP

   C21D 1/18 20060101ALI20240711BHJP

   F27B 9/24 20060101ALI20240711BHJP

   F27B 9/30 20060101ALI20240711BHJP

   B65G 47/29 20060101ALI20240711BHJP

【ＦＩ】

C21D1/00 112B

C21D1/00 B

C21D1/00 115Z

C21D1/00 112M

C21D1/00 118Z

C21D9/00 A

C21D1/18 P

F27B9/24 R

F27B9/30

B65G47/29 L

【請求項の数】 19

(21)【出願番号】P 2023527810

(86)(22)【出願日】2021-11-08

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2023-11-22

(86)【国際出願番号】 AT2021060413

(87)【国際公開番号】W WO2022094644

(87)【国際公開日】2022-05-12

【審査請求日】2023-05-18

(31)【優先権主張番号】102020129506.5

(32)【優先日】2020-11-09

(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE

(73)【特許権者】

【識別番号】521217105

【氏名又は名称】エブナー インドゥストリーオーフェンバウ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング

(74)【代理人】

【識別番号】100099759

【弁理士】

【氏名又は名称】青木 篤

(74)【代理人】

【識別番号】100123582

【弁理士】

【氏名又は名称】三橋 真二

(74)【代理人】

【識別番号】100092624

【弁理士】

【氏名又は名称】鶴田 準一

(74)【代理人】

【識別番号】100114018

【弁理士】

【氏名又は名称】南山 知広

(74)【代理人】

【識別番号】100153729

【弁理士】

【氏名又は名称】森本 有一

(72)【発明者】

【氏名】ローベルト エブナー

(72)【発明者】

【氏名】ハーラルト フーマー

(72)【発明者】

【氏名】アントン オッパーマン

(72)【発明者】

【氏名】ダニエル シャッツ

【審査官】山本 佳

(56)【参考文献】

【文献】中国実用新案第２０３４７０７１１（ＣＮ，Ｕ）

【文献】中国特許出願公開第１０３１１１５３６（ＣＮ，Ａ）

【文献】実開昭４８－０７２３３６（ＪＰ，Ｕ）

【文献】特開昭５１－０２６６０７（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１７／０１００７６０（ＵＳ，Ａ１）

【文献】米国特許出願公開第２０１４／０１３１１６７（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特表２０２０－５０７４７２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１９－５２９１０９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ２１Ｄ １／００

Ｃ２１Ｄ ９／００

Ｃ２１Ｄ １／１８

Ｆ２７Ｂ ９／００ － ９／４０

Ｂ６５Ｇ ４７／２２ － ４７／３２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

焼戻し処理システム（２００）に対して金属プレート（１５０）を整列するための装置（１００）であって、
前記金属プレート（１５０）を加熱又は冷却するための少なくとも１つの焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）を有し、
前記装置（１００）は、
少なくとも２つの支持ローラ（１０１）であって、それらの上に前記金属プレート（１５０）が配置可能であり、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）の回転により搬送方向（１０５）で、かつ搬送面（２０４）内で焼戻し処理システム（２００）を通して搬送可能であり、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）は前記搬送方向（１０５）に離間して配置されている、少なくとも２つの支持ローラ（１０１）と、
少なくとも１つのセンタリングフィンガ（１１１）を備えた第１のセンタリングユニット（１１０）であって、前記センタリングフィンガ（１１１）は前記搬送面（２０４）内で移動可能に配置され、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）上に配置可能である前記金属プレート（１５０）を所定の向きに整列するために、前記センタリングフィンガ（１１１）は前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に移動可能である、第１のセンタリングユニット（１１０）と、
を備え、
前記装置（１００）は、更に、少なくとも１つのセンタリングフィンガ（１１１）を有する第２のセンタリングユニット（１１５）を備え、前記少なくとも１つのセンタリングフィンガ（１１１）は前記搬送面（２０４）内で移動可能に配置され、前記金属プレート（１５０）を別の所定の向きに整列するために、前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に移動できるようにし、
前記第２のセンタリングユニット（１１５）は、前記搬送方向（１０５）及び／又は前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に前記第１のセンタリングユニット（１１０）から離間して配置されている、装置（１００）において、
前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）の前又は前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）内の床において、前記搬送方向（１０５）に配置された床ガイド（１１６）及び前記横断方向に配置された別の床ガイド（１１７）を有する床ガイドユニットが配置され、
前記搬送方向（１０５）における前記床ガイド（１１６）と前記横断方向（１０６）における前記別の床ガイド（１１７）は交差するガイドレールを有し、このガイドレールに沿って前記第１のセンタリングユニット（１１０）と前記第２のセンタリングユニット（１１５）とを、前記搬送方向（１０５）又は前記横断方向に適宜案内でき、及び適宜調整できる、装置（１００）。

【請求項2】

前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）は前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に延びている、請求項１に記載の装置（１００）。

【請求項3】

前記センタリングフィンガ（１１１）は前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）の間に配置されている、請求項１又は２に記載の装置（１００）。

【請求項4】

前記センタリングフィンガ（１１１）は前記搬送面（２０４）の上方の領域と前記搬送面（２０４）の下方の領域との間に延びている、請求項１～３の何れか一項に記載の装置（１００）。

【請求項5】

前記センタリングフィンガ（１１１）は、該センタリングフィンガ（１１１）の自由端が前記搬送面（２０４）の上方の領域と前記搬送面（２０４）の下方の領域との間で移動できるように、前記搬送面（２０４）に対して垂直に移動可能に配置されている、請求項４に記載の装置（１００）。

【請求項6】

前記第１のセンタリングユニット（１１０）は、前記搬送方向（１０５）に対し横断方向に延びるガイドユニット（１１２）を有し、前記センタリングフィンガ（１１１）は、該センタリングフィンガ（１１１）が前記ガイドユニット（１１２）に沿って移動できるように、該ガイドユニット（１１２）と連結されている、請求項１～５の何れか一項に記載の装置（１００）。

【請求項7】

前記センタリングフィンガ（１１１）は、リニアモータ（１１３）により前記ガイドユニット（１１２）に沿って駆動可能である、請求項６に記載の装置（１００）。

【請求項8】

前記搬送方向（１０５）における前記床ガイド（１１６）及び／又は前記横断方向（１０６）における前記別の床ガイド（１１７）を備えた床ガイドユニットを有する、請求項１～７の何れか一項に記載の装置（１００）。

【請求項9】

前記センタリングフィンガ（１１１）は、繊維強化材料、特に繊維強化セラミック、特に炭化ケイ素を有し、及び／又は
前記金属プレート（１５０）を整列するように構成された前記センタリングフィンガ（１１１）の自由端はステンレス鋼材を有する、請求項１～８の何れか一項に記載の装置（１００）。

【請求項10】

前記第１のセンタリングユニット（１１０）は少なくとも１つの別のセンタリングフィンガ（１１４）を有し、前記金属プレート（１５０）を所定の向きに整列するために、前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に移動できるように、前記少なくとも１つの別のセンタリングフィンガ（１１４）は前記搬送面（２０４）内で移動可能に配置され、
前記少なくとも１つの別のセンタリングフィンガ（１１４）は、前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に前記センタリングフィンガ（１１１）から離間し、前記センタリングフィンガ（１１１）と前記少なくとも１つの別のセンタリングフィンガ（１１４）との間に前記金属プレート（１５０）が配置可能である、請求項１～９の何れか一項に記載の装置（１００）。

【請求項11】

前記金属プレート（１５０）を搬送するための前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）の少なくとも１つは、前記搬送方向（１０５）に駆動可能である、請求項１～１０の何れか一項に記載の装置（１００）。

【請求項12】

前記搬送面（２０４）内で選択的に移動可能な停止バー（１０３）であって、前記金属プレート（１５０）の前記搬送方向（１０５）における移動を停止するために、前記金属プレート（１５０）が前記搬送方向（１０５）で停止バー（１０３）に向かって移動可能である、停止バー（１０３）を備える、請求項１～１１の何れか一項に記載の装置（１００）。

【請求項13】

前記停止バー（１０３）は、前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に延び、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）の間に配置されている、請求項１２に記載の装置（１００）。

【請求項14】

前記停止バー（１０３）は前記搬送面（２０４）に対して垂直に移動可能に配置されている、請求項１２又は１３に記載の装置（１００）。

【請求項15】

前記停止バー（１０３）は炭化ケイ素を有する、請求項１２～１４の何れか一項に記載の装置（１００）。

【請求項16】

前記搬送面（２０４）における前記金属プレート（１５０）の姿勢を検出するように構成された検出ユニット（１０４）、特に光学検出ユニット（１０４）を更に備え、
前記センタリングフィンガ（１１１）は前記金属プレート（１５０）の姿勢の検出に基づいて制御可能であり、前記センタリングフィンガ（１１１）の移動により、前記金属プレート（１５０）が前記搬送面（２０４）内で所定の姿勢に移動できる、請求項１～１５の何れか一項に記載の装置（１００）。

【請求項17】

金属プレート（１５０）の温度を制御するための焼戻し処理システム（２００）であって、
該焼戻し処理システム（２００）は、
少なくとも１つの焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）と、
請求項１～１６の何れか一項に記載の金属プレート（１５０）を整列するための装置（１００）と、を備えており、
前記装置（１００）は、前記金属プレート（１５０）が前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）の前又は少なくとも部分的に前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）内で整列できるように、前記搬送方向（１０５）で前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）の前又は前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）内に配置されている、焼戻し処理システム（２００）。

【請求項18】

前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）は、冷却ユニット、特に接触冷却器であり、及び／又は前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）は炉ユニットである、請求項１７に記載の焼戻し処理システム（２００）。

【請求項19】

焼戻し処理システム（２００）のための金属プレート（１５０）を整列するための方法であって、
前記金属プレート（１５０）を加熱又は冷却するための少なくとも１つの焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）を備え、
前記金属プレート（１５０）を、少なくとも２つの支持ローラ（１０１）により搬送面（２０４）内で前記焼戻し処理システム（２００）を通して搬送するステップであって、前記金属プレート（１５０）は、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）の上に配置され、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）が回転することにより搬送方向（１０５）に搬送され、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）は前記搬送方向（１０５）に離間して配置されている、ステップと、
前記金属プレート（１５０）を所定の向きに整列するステップであって、前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に移動可能であるように、前記搬送面（２０４）内で移動可能に配置された少なくとも１つのセンタリングフィンガ（１１１）を有する第１のセンタリングユニット（１１０）と、前記金属プレート（１５０）を別の所定の向きに整列するために、前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に移動可能であるように、前記搬送面（２０４）内で移動可能に配置された少なくとも１つのセンタリングフィンガ（１１１）を有する第２のセンタリングユニット（１１５）と、によって整列するステップと、
を備え、
前記第２のセンタリングユニット（１１５）は、前記搬送方向（１０５）及び／又は前記搬送方向（１０５）に対する前記横断方向において前記第１のセンタリングユニット（１１０）から離間して配置されている、方法において、
前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）の前又は前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）内の床において、前記搬送方向（１０５）に配置された床ガイド（１１６）及び前記横断方向に配置された別の床ガイド（１１７）を有する床ガイドユニットが配置され、前記搬送方向（１０５）における前記床ガイド（１１６）と前記横断方向（１０６）における前記別の床ガイド（１１７）は交差するガイドレールを有し、このガイドレールに沿って前記第１のセンタリングユニット（１１０）と前記第２のセンタリングユニット（１１５）とを、前記搬送方向（１０５）又は前記横断方向に適宜案内でき、及び適宜調整できる、方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、焼戻し処理システムに対して金属プレートを整列するための装置、及び金属プレートを焼き戻すための焼戻し処理システムに関する。さらに、本発明は、焼戻し処理システムに対して金属プレートを整列するための方法に関する。

【背景技術】

【0002】

平鋼や金属プレートなどの扁平な金属部品は、焼戻し処理装置で所望の温度に加熱又は冷却される。焼戻し処理装置は、例えば圧延装置やプレス硬化装置などの成形装置を持つことができる。

【0003】

最新の焼戻し処理装置では、金属プレートは、特に金属プレートの特定の領域が金属プレートの他の領域と異なって焼き戻されるように、所定の温度プロファイルで処理される。このようにすると、金属プレートの特定の領域で硬度や延性などの所望の材料特性を選択的に調節できる。焼戻し処理装置における金属プレートの位置決め公差により、所定の焼戻し処理プロファイルからの逸脱を招くことがある。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本発明の課題は、金属プレートを所望の温度プロファイルで処理するために、焼戻し処理システムの焼戻し処理装置において金属プレートを正確に整列することである。

【課題を解決するための手段】

【0005】

上記の課題は、独立請求項の主題に従い、焼戻し処理システムに対して金属プレートを整列するための装置、金属プレートを焼き戻すための焼戻し処理システム、及び焼戻し処理システムに対して金属プレートを整列するための方法によって解決される。

【0006】

本発明の第１の態様によれば、金属プレートを加熱又は冷却するための少なくとも１つの焼戻し処理ユニットを有することができる、焼戻し処理システムに対して金属プレート（もしくは金属プレート）を整列するための装置が記載される。この装置は、少なくとも２つの支持ローラを有しており、それらの上に金属プレートを載せて、支持ローラが回転することにより搬送面内で搬送方向に焼戻し処理システムを通して搬送することができ、支持ローラは搬送方向に離間して配置されている。さらに、装置は、少なくとも１つのセンタリングフィンガを備えた第１のセンタリングユニットを有しており、センタリングフィンガは、金属プレートを所定の向きに整列するために、搬送方向に対して横断方向に移動できるように、搬送面内で移動可能に配置されている。

【0007】

本発明の別の態様によれば、金属プレートを加熱又は冷却するための少なくとも１つの焼戻し処理ユニットを有することができる、金属プレートを焼き戻すための焼戻し処理システムが記載される。焼戻し処理システムは、少なくとも１つの焼戻し処理ユニットと、上述した金属プレートを整列するための装置を有しており、装置は、金属プレートが焼戻し処理ユニットの前又は少なくとも部分的に中で整列できるように、搬送方向で焼戻し処理ユニットの前に配置されている。

【0008】

本発明の別の態様によれば、焼戻し処理システムに対して金属プレートを整列するための方法が記載される。この方法によれば、金属プレートは、少なくとも２つの支持ローラにより搬送面内で焼戻し処理システムを通して搬送され、支持ローラの上に金属プレートが載って、支持ローラが回転することにより（即ち少なくとも１つの駆動される支持ローラによって）搬送方向に搬送される。支持ローラは、搬送方向に離間して配置されている。さらに、金属プレートは、少なくとも１つのセンタリングフィンガを備えた第１のセンタリングユニットによって所定の向きに整列され、センタリングフィンガは、金属プレートを整列するために、搬送方向に対して横断方向に移動できるように、搬送面内で移動可能に配置されている。

【0009】

金属プレートは、特に扁平製品（平鋼、金属プレート）であり、したがって幅は厚さよりもはるかに大きい。金属プレートは、同じ種類の個々の部品であってよい。金属プレートは、例えば鋼及び／又は非鉄金属を有することができる。特に金属プレートは、アルミニウムを有することができる。金属プレートは、例えば均一な矩形、円形又は楕円形の形状を有することができる。しかし、実際には金属プレートは、しばしば複雑な形状を有する。金属プレートは、例えば打ち抜き又は他の方法で適宜裁断されて複雑な輪郭を有する金属プレートをなす。この場合、焼戻し処理ユニットにおいて金属プレートの様々な領域がそれぞれ異なるように焼き戻されることが望ましい。

【0010】

焼戻し処理システムは、例えば搬送方向に相前後して配置されている１つ以上の焼戻し処理ユニットを有する。これらの焼戻し処理ユニットは、例えば金属プレートを加熱したり、選択的に冷却したりすることができる。この場合、金属プレートは焼戻し処理ユニットを通して連続的に搬送することができ、又は焼戻し処理ユニット内の所定の位置に順次配置して静止状態で熱処理した後、搬送方向に沿ってさらに搬送することもできる。焼戻し処理ユニットは、金属プレートの特定の領域を異なるように加熱又は冷却することができる。これにより、金属プレートが所定の姿勢に整列されていれば、金属プレートに所定の熱パターン又は冷却パターンを適用することができる。例示的な実施形態では、焼戻し処理ユニットは、冷却ユニット、特に接触冷却器である。追加的又は代替的に、部品を加熱するための炉ユニットを形成する焼戻し処理ユニットを設けることができる。

【0011】

金属プレートは、支持ローラに沿って搬送方向に搬送される。支持ローラは、特に搬送方向に対して横断方向に延び、例えば駆動されることができる。支持ローラは、例えば、望ましくない固化やその他の不純物質の付着を低減するために、様々なコーティングを有することができる。この場合、金属プレートを搬送方向に搬送するために、１つ以上の支持ローラを駆動することができる。

【0012】

本発明によれば、センタリングユニットが設けられ、これらは例えば搬送方向で焼戻し処理ユニットの前にあるか（コールドセンタリング）、又は部分的もしくは完全に焼戻し処理装置の焼戻し処理チャンバ内、例えば炉室自体の中に配置される（ホットセンタリング）。センタリングユニットは、搬送面内で移動可能に配置された少なくとも１つのセンタリングフィンガを有している。そのためセンタリングフィンガによって、金属プレートを所定の向きに動かして位置決めすることができる。

【0013】

センタリングフィンガは、棒状もしくはピン状要素として形成されていて、その支持部から金属プレートまで延びている。この場合、センタリングフィンガは、例えば後述するガイドユニットなどの駆動装置に連結できる連結領域と、それと反対側に搬送面内で金属プレートを動かして整列するために金属プレートの縁部に連結できる整列領域とを有することができる。

【0014】

搬送面は、金属プレートが載置されている面であり、搬送面内で金属プレートは搬送方向に移動する。搬送面は、搬送方向と横断方向に対して垂直な法線を有する。横断方向は、搬送方向に対して適宜直角に形成されている。言い換えれば、搬送方向と横断方向が搬送面を画定している。

【0015】

センタリングフィンガは、金属プレートがストッパに当接して定義された整列が行われるまで、金属プレートを第１の方向に、例えば横断方向に沿って動かすことができる。後述する実施形態では、金属プレートの反対側に別のセンタリングフィンガを配置することができ、そのため金属プレートを互いに対向する２つのセンタリングフィンガの間に挟み込んで適切に整列することが可能である。

【0016】

金属プレートの整列は、金属プレートの搬送方向への連続的な移動中に、センタリングフィンガが短時間接触して金属プレートの整列を実行することによって行うことができる。代替的に、金属プレートを搬送方向に順次搬送できる。この場合は、金属プレートを整列するために、金属プレートが静止するように搬送動作を停止することができる。次のステップで、センタリングフィンガが所定の位置に移動して、金属プレートを所望の向きに整列することができる。整列後、金属プレートは整列された状態で搬送方向にさらに搬送されることができる。これにより、金属プレートがセンタリング過程後に所定の位置又は向きを取ったことが保証される。これによってまた、後続の焼戻し処理ユニットで温度プロファイルもしくは温度パターンを正確かつ明確に適用することが可能になる。

【0017】

別の例示的な実施形態によれば、２つの支持ローラの間に少なくとも１つのセンタリングフィンガが配置されている。それにより２つの支持ローラの間の空間内でセンタリングフィンガが搬送方向に対して横断方向に移動する可能性があり、そのために正確な整列が可能である。支持ローラは離間して配置され、センタリングフィンガは狭い形状を有するので、本発明による装置は、支持ローラの位置を変更することなく設置及び後付けが可能である。

【0018】

別の例示的な実施形態によれば、センタリングフィンガは、搬送面の上方の領域と搬送面の下方の領域との間に延びている。特に支持ローラの下には十分な設置スペースがあるので、そこにセンタリングフィンガの駆動ユニットを設置することができる。この下部領域からセンタリングフィンガは、支持ローラの間の（搬送方向にある）間隙内で上部領域に突入して金属プレートを整列する。

【0019】

別の例示的な実施形態によれば、センタリングフィンガは、センタリングフィンガの自由端が搬送面の上方の領域と搬送面の下方の領域との間で移動できるように、搬送面に対して垂直に移動可能に配置されている。これにより、例えば金属プレートのセンタリング又は整列が迫っているときのみ、センタリングフィンガは上部領域に進入できる。この場合、センタリングフィンガは入れ子式に伸縮可能に形成できる。代替的に、センタリングフィンガは揺動して出入することができる。

【0020】

別の例示的な実施形態によれば、第１のセンタリングユニットは、搬送方向に対して横断方向に延びるガイドユニットを有する。センタリングフィンガは、センタリングフィンガがガイドユニットに沿って移動できるように、ガイドユニットと連結されている。ガイドユニットは、例えばレール又は対応するガイド溝を備えたユニットを有することができる。この場合、センタリングフィンガはそれ自体がガイド溝内に延びているか、又は連結要素でガイドユニットであるレールを包囲することができる。それによって、センタリングフィンガが確実に横断方向に沿って案内される堅牢な動作機構を実現できる。この場合、ガイドユニットは、直線進路又は曲線進路を持つことができるので、センタリングフィンガの特定の動作パターンを指定することができる。

【0021】

別の例示的な実施形態によれば、センタリングフィンガはリニアモータによりガイドユニットに沿って駆動可能である。リニアモータは、例えばセンタリングフィンガをガイドユニットに沿って駆動する電気サーボモータであることができる。例示的な実施形態では、ガイドユニットに沿ってコイルを設けることができ、それによりガイドユニットはリニア固定子として形成され、センタリングフィンガはリニアモータの回転子として機能して、適宜選択的に制御可能になる。

【0022】

代替的に、センタリングフィンガは、空気圧駆動機構又は油圧駆動機構によって横断方向に沿って移動することも可能である。例えばセンタリングフィンガ横断方向に動かすために、選択的に伸縮できる油圧シリンダ又は空気圧シリンダを設けることができる。

【0023】

別の例示的な実施形態によれば、装置は、搬送方向における床ガイド及び／又は横断方向における別の床ガイドを備えた床ガイドユニットを有する。床ガイドユニットは、焼戻し処理システムの床の上に、例えば焼戻し処理システムの焼戻し処理ユニット（例えば炉ユニット又は冷却ユニット）の前又は中に配置することができる。この場合、床ガイドユニットは、特に交換可能かつ適宜後付け可能に焼戻し処理ユニットの前又は中に設置することができる。搬送方向における床ガイド及び／又は横断方向における床ガイドは、例えば対応するガイドレール又はガイド溝を有することができ、これに沿ってセンタリングユニットを搬送方向又はそれに対して横断方向に適宜案内でき、及び適宜調節できる。これによりセンタリングユニットは、センタリングされる金属プレートの異なるサイズと形状に合わせて柔軟に調節することができる。例えばセンタリングユニットは床ガイドに沿って、例えばセンタリングユニット及び床ガイドユニット自体に配置されたリニアモータによって駆動されることができる。対応する制御ユニットは、センタリングユニットを床ガイドに沿って選択的に制御及び調節することができる。

【0024】

別の例示的な実施形態によれば、センタリングフィンガは、繊維強化材料、特に繊維強化セラミック、特に炭化ケイ素を有する。追加的又は代替的に、金属プレートを整列するように構成されたセンタリングフィンガの自由端は、ステンレス鋼材を有することができる。これによりセンタリングフィンガは、特に金属プレートとの接触領域で耐熱性及び堅牢性を有するように形成することができる。したがってセンタリングフィンガは、例えば、小さい隙間、特に支持ローラの間に通すことができるようにフィリグリー状に形成することができる。

【0025】

別の例示的な実施形態によれば、第１のセンタリングユニットは、金属プレートを所定の位置に整列するために、搬送方向に対して横断方向に移動できるように、搬送面内で移動可能に配置された少なくとも１つの別のセンタリングフィンガを有する。この別のセンタリングフィンガは、搬送方向に対して横断方向にセンタリングフィンガから離間していて、センタリングフィンガと別のセンタリングフィンガとの間に金属プレートを配置できる。別のセンタリングフィンガは、例えば上述のセンタリングフィンガと同じガイドユニット内に配置でき、このガイドユニットに沿って移動することができる。代替的に、別のセンタリングフィンガは、別個のガイドユニットを有し、それに連結されることができる。

【0026】

別の例示的な実施形態によれば、装置は、少なくとも１つのセンタリングフィンガを備えた第２のセンタリングユニットを有しており、このセンタリングフィンガは、金属プレートを別の所定の向きに整列するために、搬送方向に対して横断方向に移動できるように、搬送面内で移動可能に配置されている。第２のセンタリングユニットは、搬送方向及び／又は搬送方向に対して横断方向に第１のセンタリングユニットから離間して配置されている。例えば金属プレートは、特に搬送方向に離間している、それぞれセンタリングフィンガを備えた複数のセンタリングユニットによってセンタリングすることができる。

【0027】

さらに、焼戻し処理システムには複数の焼戻し処理装置を設けることができる。それにより複数の金属プレートを横断方向に配置することができ、これらの金属プレートは搬送方向で同時に焼戻し処理ユニット内に進入して同時に焼き戻すことができる。各金属プレートは、それぞれセンタリングフィンガを備えたセンタリングユニットを有する対応する装置によって個別に整列できる。

【0028】

別の例示的な実施形態によれば、装置は、搬送方向における金属プレートの移動を（所望の位置で）停止するために、金属プレートが搬送方向で停止バーに突き当たることができるように、選択的に搬送面内に移動できる停止バーを有する。

【0029】

別の例示的な実施形態によれば、停止バーは、搬送方向に対して横断方向に延びて、支持ローラの間に配置されている。

【0030】

別の例示的な実施形態によれば、停止バーは、搬送面に対して垂直に移動可能に配置されている。

【0031】

停止バーは例えば、金属プレートが所望の位置で停止バーに突き当たるように、上部領域又は下部領域から搬送面内へ並進移動できる。さらに、停止バーは揺動して搬送面内に入ることもできる。

【0032】

金属プレートは炉内を順次搬送して、センタリングの位置で停止することができる。搬送方向に沿った位置は、停止バーのストッパによって決定される。金属プレートの側方整列は、金属プレートの側縁部に係合して金属プレートを整列するセンタリングフィンガによって決定される。代替的に、金属プレートの連続送りにおいて、停止バーを用いてセンタリングを行うこともできる。例えば停止バーを搬送面内に動かすと、連続的に前進してきた金属プレートが停止バーに突き当たる。支持ローラは金属プレートを駆動し続けるが、搬送方向に沿った搬送は停止バーによって阻止される。支持ローラは金属プレートで、いわば空回りするので、金属プレートはセンタリング位置に留まる。続いてセンタリングフィンガは、側方、即ち搬送方向に対して横断方向に進入して金属プレートを整列することができる。整列後、停止バーは搬送面から進出して、支持ローラによる送りが金属プレートを設定された整列でさらに連続的に搬送する。

【0033】

別の例示的な実施形態によれば、停止バーは炭化ケイ素を有する。これにより、高い耐熱性が可能になる。同時に停止バーにおけるケーキングが低減される。

【0034】

別の例示的な実施形態によれば、装置は、搬送面における金属プレートの姿勢を検出するように構成された検出ユニット、特に光学検出ユニットを有する。検出ユニットは、例えばカメラ、例えばＣＣＤカメラを有することができ、撮影された画像の画像解析を通して金属プレートの正確な位置と向きを決定することができる。１つ以上のセンタリングフィンガは、金属プレートの向きの検出に基づいて、センタリングフィンガの動作により金属プレートを搬送面内の所定の姿勢に動かすように制御することができる。

【0035】

ここに記載された実施形態は、本発明の可能な実施形態の限られた選択のみを表していることに留意すべきである。個々の実施形態の特徴を適切な方法で組み合わせることが可能であるため、当業者にとって本明細書で明示された実施形態例により、多数の様々な実施形態が明らかに開示されていると見なされる。特に、本発明の幾つかの実施形態は装置クレームで、本発明の他の実施形態は方法クレームで説明されている。しかしながら、当業者にとって、明示的に別段の記載がない限り、本発明の１つのタイプの主題に属する特徴の組み合わせに加えて、本発明の異なるタイプの主題に属する特徴の任意の組み合わせも可能であることは、本願を読めば直ちに明らかになるであろう。

【0036】

以下では、本発明をさらに説明し、より良く理解するために、添付の図面を参照しながら実施形態例をより詳細に説明する。

【図面の簡単な説明】

【0037】

【図1】図１は本発明の例示的な実施形態による焼戻し処理システムに対して金属プレートを整列するための装置の概略図である。

【図2】図２は本発明の例示的な実施形態による様々な焼戻し処理装置を有する焼戻し処理システムの概略図である。

【図3】図３は本発明の例示的な実施形態による整列装置の停止バーの概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0038】

異なる図中の同一又は類似の構成要素には、同じ参照番号を付している。図中の表現は模式的である。

【0039】

図１は、焼戻し処理システム２００に対して金属プレート１５０を整列するための装置１００を示す。装置１００は、少なくとも２つの支持ローラ１０１を有し、それらの上に金属プレート１５０を載せて、支持ローラ１０１が回転することにより搬送方向１０５及び搬送面２０４内で焼戻し処理システム２００を通して搬送することができ、ここで、支持ローラ１０１は搬送方向１０５に離間して配置されている。装置１００はさらに、少なくとも１つのセンタリングフィンガ１１１を備えた第１のセンタリングユニット１１０を有しており、センタリングフィンガ１１１は、金属プレート１５０を所定の向きに整列するために、搬送方向１０５に対して横断方向に移動できるように、搬送面２０４内で移動可能に配置されている。

【0040】

例えば金属プレート１５０は、均一な矩形、円形又は楕円形の形状を有することができる。実際には、金属プレート１５０は、しばしば複雑な形状を有する。図１に示すように、金属プレート１５０は、例えば打ち抜き又は他の方法で適宜裁断されて複雑な輪郭を有する金属プレートをなす。この場合、焼戻し処理ユニットにおいて金属プレートの様々な領域がそれぞれ異なるように焼き戻されることが望ましい。

【0041】

金属プレート１５０は、支持ローラ１０１に沿って搬送方向に搬送される。支持ローラ１０１は、特に搬送方向１０５に対して横（横断方向１０６）に延び、例えば駆動されることができる。この場合、支持ローラ１０１は、例えば装置１００のハウジング内又は焼戻し処理システム２００（図２参照）のハウジング内に設けられた対応する支持開口部１０２に回転可能に配置されている。図１では、見やすくするために２つの支持ローラ１０１しかみが示されていない。しかしながら、すべて又はほとんどの支持開口部１０２に、対応する支持ローラ１０１を設けることもできる。

【0042】

センタリングユニット１１０は、金属プレート１５０に対して横断方向１０６で互いに対向する２つのセンタリングフィンガ１１１、１１４を有しており、これらは搬送面２０４（図２参照）内で移動可能に配置されている。センタリングフィンガ１１１により金属プレート１５０を、所定の向きに、特に横断方向１０６に移動させて位置決めすることができる。

【0043】

センタリングフィンガ１１１は、棒状又はピン状に形成されている。センタリングフィンガ１１１は、駆動装置、例えば後述するガイドユニット１１２に連結できる連結領域と、それと反対側に、金属プレート１５０を搬送面２０４内で動かして整列するためにセンタリングフィンガ１１１を金属プレート１５０の縁部に連結できる整列領域を有する。

【0044】

搬送面２０４は、金属プレート１５０が載り、その内部で金属プレート１５０が搬送方向１０５に移動する平面を形成する。搬送面２０４は、搬送方向１０５と横断方向１０６に対して垂直に延びる法線１０７を有する。横断方向１０６は、搬送方向１０５に対応して垂直な方向である。言い換えれば、搬送方向１０５と横断方向１０６が、搬送面２０４を画定している。

【0045】

センタリングフィンガ１１１は、金属プレート１５０がストッパ又は別のセンタリングフィンガ１１４に突き当たるまで、金属プレート１５０を第１の方向、例えば横断方向１０６に沿って動かすことができ、その結果、金属プレート１５０は互いに対抗する２つのセンタリングフィンガ１１１、１１４間で整列可能になる。

【0046】

金属プレート１５０の整列は、金属プレート１５０の搬送方向１０５への連続的な移動中に、センタリングフィンガ１１１、１１４が短時間接触して金属プレート１５０の整列を実行することによって行われてよい。代替的に、金属プレート１５０を搬送方向に順次搬送できる。金属プレート１５０を整列するために、金属プレート１５０が静止するように搬送動作が停止される。次のステップで、センタリングフィンガ１１１、１１４が所定の位置に移動して、金属プレート１５０を所望の向きに整列することができる。

【0047】

センタリングユニット１１０、１１５のセンタリングフィンガ１１１、１１４は、それぞれ２つの支持ローラ１０１の間に配置されている。それにより２つの支持ローラ１０１の間の空間内で、センタリングフィンガ１１１、１１４が搬送方向１０５に対して横断方向に移動する可能性があり、そのため正確な整列が可能である。支持ローラ１０１は離間して配置され、センタリングフィンガ１１１、１１４は狭い形状を有するので、本発明による装置１００は、支持ローラ１０１の位置を変更することなく設置及び後付けが可能である。

【0048】

センタリングフィンガ１１１は、搬送面２０４の上方の領域と搬送面２０４の下方の領域との間に延びている。特に支持ローラ１０１の下には十分な設置スペースがあるので、そこにセンタリングフィンガ１１１、１１４の駆動ユニットを設置することができる。この下部領域からセンタリングフィンガ１１１、１１４は、支持ローラ１０１の間の間隙内で上部領域に突入して金属プレート１５０を整列する。

【0049】

センタリングユニット１１０、１１５は、それぞれ搬送方向１０５に対して横断方向に延びるガイドユニット１１２を有する。センタリングフィンガ１１１は、センタリングフィンガ１１１がガイドユニット１１２に沿って移動できるように、ガイドユニット１１２と連結されている。この場合、センタリングフィンガ１１１はそれ自体が、ガイドユニット１１２であるガイド溝内に延びているか、又はガイドユニット１１２であるガイドレールを包囲することができる。それにより、センタリングフィンガ１１１が確実に横断方向１０６に沿って案内される堅牢な移動機構を実現することができる。

【0050】

さらに、反対側のセンタリングフィンガ１１４は、センタリングフィンガ１１１と同じガイドユニット（例えばガイドレールまたはガイド溝）１１２に支持されることができる。

【0051】

センタリングフィンガ１１１は、リニアモータ１１３によってガイドユニット１１２に沿って駆動することができる。リニアモータ１１３は、例えばセンタリングフィンガ１１１をガイドユニット１１２に沿って駆動する電気サーボモータであることができる。例示的な実施形態では、ガイドユニット１１２に沿ってコイルを設けることができ、それによりガイドユニット１１２がリニア固定子として設計され、センタリングフィンガ１１１がリニアモータの回転子として機能して、適宜選択的に制御可能になる。

【0052】

センタリングフィンガ１１１は、細くフィリグリー状に形成されていて、例えば小さい隙間、特に支持ローラ１０１の間に通すことができる。

【0053】

センタリングフィンガ１１１と反対側のセンタリングフィンガ１１４は、金属プレート１５０の下の下部領域における横断方向１０６でのセンタリングフィンガ１１１、１１４の間の距離が、金属プレート１５０の上の上部領域における横断方向１０６でのセンタリングフィンガ１１１、１１４間の距離より小さくなるように成形することができる。これにより下部領域ではより短いガイドユニット１１２を設けることができる一方、上部領域では横断方向１０６でより広い金属プレート１５０をセンタリングフィンガ１１１、１１４によって整列することができる。

【0054】

別の第２のセンタリングユニット１１５は、搬送方向１０５で第１のセンタリングユニット１１０から離間して配置されているようにすることができる。第２のセンタリングユニット１１５も同様に、横断方向１０６で互いに対向する２つのセンタリングフィンガ１１１、１１４を有し、このセンタリングフィンガ１１１、１１４は、金属プレート１５０を別の所定の向きに配置するために、搬送方向１０５に対して横断方向に移動できるように、搬送面２０４内に、特に横断方向１０６に移動可能に配置されている。

【0055】

さらに図１には、停止バー１０３が示されている。停止バー１０３は、金属プレート１５０が搬送方向１０５において停止バー１０３に突き当たって、金属プレート１５０の搬送方向１０５における移動を（所望の位置で）停止するように、選択的に搬送面２０４内に移動できる。

【0056】

停止バー１０３は、搬送方向１０５に対して横断方向に延びて、例えば支持ローラ１０１の間に配置されている。特に停止バー１０３は、搬送面２０４に対して垂直に並進移動することができる。

【0057】

金属プレート１５０の位置は、停止バー１０３の停止によって、搬送方向１０５に沿って決定される。金属プレート１５０の横断方向１０６における側方整列は、金属プレート１５０の側縁部に係合してこれを整列するセンタリングフィンガ１１１、１１４によって決定される。

【0058】

さらに、搬送面における金属プレート１５０の姿勢を検出するように構成された検出ユニット１０４、特に光学検出ユニットを設けることができる。センタリングフィンガ１１１、１１４は、金属プレート１５０の姿勢の検出に基づいて、金属プレート１５０を搬送面２０４内の所定の姿勢に動かすように制御される。

【0059】

焼戻し処理ユニットの前又は中の床に、搬送方向１０５における床ガイド１１６と、横断方向１０６における別の床ガイド１１７を備えた床ガイドユニットが示されている。搬送方向１０５における床ガイド１１６と横断方向１０６における床ガイド１１７は、交差するガイドレールを有しており、このガイドレールに沿ってセンタリングユニット１１０、１１５を搬送方向１０５又はそれに対して横断方向に適宜案内でき、及び適宜調節できる。

【0060】

例えばセンタリングユニットは、例えば焼戻し処理のユニット１１０、１１５内と床ガイドユニット自体の中に配置されているリニアモータによって、床ガイド１１６、１１７に沿って駆動及び制御することができる。対応する制御ユニットは、センタリングユニット１１０、１１５を床ガイドに沿って的確に制御及び調節することができる。

【0061】

図２は、詳細に説明した図１からの焼戻し処理の装置１００に従って設計することができる、様々な焼戻し処理の装置１００、１００’を備えた焼戻し処理システム２００の概略図である。

【0062】

焼戻し処理システム２００は、例えば搬送方向１０５に相前後して配置された１つ以上の焼戻し処理ユニット２０１、２０２、２０３を有する。焼戻し処理ユニット２０１、２０２、２０３は、例えば金属プレート１５０を加熱し、又は選択的に冷却することができる。例えば金属プレート１５０は搬送方向１０５で、最初に焼戻し処理ユニットである炉２０１を通過する。続いてシートは、例えば焼戻し処理ユニットである焼戻し処理可能な圧延スタンドもしくは圧延装置２０２を通過する。続いて金属プレート１５０は、再び焼戻し処理ユニットである別の炉２０３を通過することができる。したがって金属プレート１５０は、続いて焼戻し処理ユニットである冷却装置（例えば接触冷却器）を通過することもできる。

【0063】

金属プレート１５０は、焼戻し処理ユニット２０１、２０２、２０３を通して連続的に搬送でき、又は焼戻し処理ユニット２０１、２０２、２０３内の所定の位置に順次配置して静止状態で熱処理した後、搬送方向１０５に沿ってさらに搬送できる。この場合、焼戻し処理ユニット２０１、２０２、２０３は、金属プレート１５０の特定の領域をそれぞれ異なるように加熱又は冷却することができる。これにより金属プレート１５０が所定の姿勢に配向されていれば、金属プレート１５０に所定の熱パターン又は冷却パターンを適用することができる。

【0064】

図２に示すように、対応する金属プレート１５０を整列するための複数の装置１００、１００’を横断方向１０６に設けることもできる。さらに、対応する金属プレート１５０を整列するための装置１００を搬送方向１０５に相前後して配置することができる。さらに、対応する金属プレート１５０を整列するための装置１００は、例えば炉などの焼戻し処理ユニット２０１内に設けることができる。ホットセンタリング、即ち焼き戻された状態での金属プレート１５０のセンタリングを実施することができる。同様に対応する金属プレート１５０を整列するための装置１００を焼戻し処理ユニット２０１、２０２、２０３の外部に設けて、装置１００が焼戻し処理ユニット２０１、２０２、２０３内の温度に完全にさらされないようにすることができる。これによりコールドセンタリングを実施することができる。

【0065】

図３は、本発明の例示的な実施形態による整列装置１００の停止バー１０３の概略図である。停止バー１０３は、金属プレート１５０が搬送方向１０５で停止バー１０３に突き当たって、搬送方向１０５における金属プレート１５０の移動を（所望の位置で）停止するように、搬送面２０４（図２参照）内に選択的に移動可能である。

【0066】

停止バー１０３は、特に駆動ユニット３０１によって制御される。駆動ユニット３０１と停止バー１０３との間に、対応する制御接続部３０２を設けることができる。制御接続部３０２は、例えば入れ子式に伸縮可能なロッドエレメントであることができる。例えば制御接続部３０２は、駆動ユニット３０１と停止バー１０３に揺動可能に設けることができ、停止バー１０３は揺動することによって搬送面２０４の上及び下に配置され得る。

【0067】

駆動ユニット３０１は、例えば停止バー１０３を移動させるためのリニアモータとして設計することができる。さらに、駆動ユニット３０１は、空気圧式、油圧式又は電気機械式の駆動装置として設計することができる。制御接続部３０２は、例えば油圧式、空気圧式又は電気機械式に伸縮可能又は揺動可能であることができる。

【0068】

補足的に、「含む」は他の要素又はステップを排除せず、「１つ」は複数を排除しないことに留意されたい。また、上記の実施形態例の１つを参照して説明した特徴又はステップは、上記の別の実施形態の他の特徴又はステップと組み合わせても使用できることに留意されたい。特許請求の範囲における参照符号は、限定とみなすべきではない。
[構成１]
焼戻し処理システム（２００）に対して金属プレート（１５０）を整列するための装置（１００）であって、
前記金属プレート（１５０）を加熱又は冷却するための少なくとも１つの焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）を有し、
前記装置（１００）は、
少なくとも２つの支持ローラ（１０１）であって、それらの上に前記金属プレート（１５０）が配置可能であり、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）の回転により搬送方向（１０５）で、かつ搬送面（２０４）内で焼戻し処理システム（２００）を通して搬送可能であり、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）は前記搬送方向（１０５）に離間して配置されている、少なくとも２つの支持ローラ（１０１）と、
少なくとも１つのセンタリングフィンガ（１１１）を備えた第１のセンタリングユニット（１１０）であって、前記センタリングフィンガ（１１１）は前記搬送面（２０４）内で移動可能に配置され、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）上に配置可能である前記金属プレート（１５０）を所定の向きに整列するために、前記センタリングフィンガ（１１１）は前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に移動可能である、第１のセンタリングユニット（１１０）と、
を備える装置（１００）。
[構成２]
前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）は前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に延びている、構成１に記載の装置（１００）。
[構成３]
前記センタリングフィンガ（１１１）は前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）の間に配置されている、構成１又は２に記載の装置（１００）。
[構成４]
前記センタリングフィンガ（１１１）は前記搬送面（２０４）の上方の領域と前記搬送面（２０４）の下方の領域との間に延びている、構成１～３の何れか一項に記載の装置（１００）。
[構成５]
前記センタリングフィンガ（１１１）は、該センタリングフィンガ（１１１）の自由端が前記搬送面（２０４）の上方の領域と前記搬送面（２０４）の下方の領域との間で移動できるように、前記搬送面（２０４）に対して垂直に移動可能に配置されている、構成４に記載の装置（１００）。
[構成６]
前記第１のセンタリングユニット（１１０）は、前記搬送方向（１０５）に対し横断方向に延びるガイドユニット（１１２）を有し、前記センタリングフィンガ（１１１）は、該センタリングフィンガ（１１１）が前記ガイドユニット（１１２）に沿って移動できるように、該ガイドユニット（１１２）と連結されている、構成１～５の何れか一項に記載の装置（１００）。
[構成７]
前記センタリングフィンガ（１１１）は、リニアモータ（１１３）により前記ガイドユニット（１１２）に沿って駆動可能である、構成６に記載の装置（１００）。
[構成８]
前記搬送方向（１０５）における床ガイド（１１６）及び／又は前記横断方向（１０６）における別の床ガイド（１１７）を備えた床ガイドユニットを有する、構成１～７の何れか一項に記載の装置（１００）。
[構成９]
前記センタリングフィンガ（１１１）は、繊維強化材料、特に繊維強化セラミック、特に炭化ケイ素を有し、及び／又は
前記金属プレート（１５０）を整列するように構成された前記センタリングフィンガ（１１１）の自由端はステンレス鋼材を有する、構成１～８の何れか一項に記載の装置（１００）。
[構成１０]
前記第１のセンタリングユニット（１１０）は少なくとも１つの別のセンタリングフィンガ（１１４）を有し、前記金属プレート（１５０）を所定の向きに整列するために、前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に移動できるように、前記少なくとも１つの別のセンタリングフィンガ（１１４）は前記搬送面（２０４）内で移動可能に配置され、
前記少なくとも１つの別のセンタリングフィンガ（１１４）は、前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に前記センタリングフィンガ（１１１）から離間し、前記センタリングフィンガ（１１１）と前記少なくとも１つの別のセンタリングフィンガ（１１４）との間に前記金属プレート（１５０）が配置可能である、構成１～９の何れか一項に記載の装置（１００）。
[構成１１]
少なくとも１つのセンタリングフィンガ（１１１）を有する第２のセンタリングユニット（１１５）を備え、前記少なくとも１つのセンタリングフィンガ（１１１）は前記搬送面（２０４）内で移動可能に配置され、前記金属プレート（１５０）を別の所定の向きに整列するために、前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に移動できるようにし、
前記第２のセンタリングユニット（１１５）は、前記搬送方向（１０５）及び／又は前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に前記第１のセンタリングユニット（１１０）から離間して配置されている、構成１～１０の何れか一項に記載の装置（１００）。
[構成１２]
前記金属プレート（１５０）を搬送するための前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）の少なくとも１つは、前記搬送方向（１０５）に駆動可能である、構成１～１１の何れか一項に記載の装置（１００）。
[構成１３]
前記搬送面（２０４）内で選択的に移動可能な停止バー（１０３）であって、前記金属プレート（１５０）の前記搬送方向（１０５）における移動を停止するために、前記金属プレート（１５０）が前記搬送方向（１０５）で停止バー（１０３）に向かって移動可能である、停止バー（１０３）を備える、構成１～１２の何れか一項に記載の装置（１００）。
[構成１４]
前記停止バー（１０３）は、前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に延び、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）の間に配置されている、構成１２に記載の装置（１００）。
[構成１５]
前記停止バー（１０３）は前記搬送面（２０４）に対して垂直に移動可能に配置されている、構成１３又は１４に記載の装置（１００）。
[構成１６]
前記停止バー（１０３）は炭化ケイ素を有する、構成１３～１５の何れか一項に記載の装置（１００）。
[構成１７]
前記搬送面（２０４）における前記金属プレート（１５０）の姿勢を検出するように構成された検出ユニット（１０４）、特に光学検出ユニット（１０４）を更に備え、
前記センタリングフィンガ（１１１）は前記金属プレート（１５０）の姿勢の検出に基づいて制御可能であり、前記センタリングフィンガ（１１１）の移動により、前記金属プレート（１５０）が前記搬送面（２０４）内で所定の姿勢に移動でき、構成１～１６の何れか一項に記載の装置（１００）。
[構成１８]
金属プレート（１５０）の温度を制御するための焼戻し処理システム（２００）であって、
該焼戻し処理システム（２００）は、
少なくとも１つの焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）と、
構成１～１７の何れか一項に記載の金属プレート（１５０）を整列するための装置（１００）と、を備えており、
前記装置（１００）は、前記金属プレート（１５０）が前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）の前又は少なくとも部分的に前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）内で整列できるように、前記搬送方向（１０５）で前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）の前又は前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）内に配置されている、焼戻し処理システム（２００）。
[構成１９]
前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）は、冷却ユニット、特に接触冷却器であり、及び／又は前記焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）は炉ユニットである、構成１８に記載の焼戻し処理システム（２００）。
[構成２０]
焼戻し処理システム（２００）のための金属プレート（１５０）を整列するための方法であって、
前記金属プレート（１５０）を加熱又は冷却するための少なくとも１つの焼戻し処理ユニット（２０１、２０２、２０３）を備え、
前記金属プレート（１５０）を、少なくとも２つの支持ローラ（１０１）により搬送面（２０４）内で前記焼戻し処理システム（２００）を通して搬送するステップであって、前記金属プレート（１５０）は、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）の上に配置され、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）が回転することにより搬送方向（１０５）に搬送され、前記少なくとも２つの支持ローラ（１０１）は前記搬送方向（１０５）に離間して配置されている、ステップと、
前記金属プレート（１５０）を所定の向きに整列するステップであって、前記搬送方向（１０５）に対して横断方向に移動可能であるように、前記搬送面（２０４）内で移動可能に配置された少なくとも１つのセンタリングフィンガ（１１１）を有する第１のセンタリングユニット（１１０）によって整列する、ステップと、
を備える方法。

【符号の説明】

【0069】

１００ 整列装置
１０１ 支持ローラ
１０２ 支持ローラ用支持開口部
１０３ 停止バー
１０４ 検出ユニット
１０５ 搬送方向
１０６ 横断方向
１０７ 搬送面の法線
１１０ 第１のセンタリングユニット
１１１ センタリングフィンガ
１１２ ガイドユニット
１１３ リニアモータ
１１４ 別のセンタリングフィンガ
１１５ 第２のセンタリングユニット
１１６ 搬送方向における床ガイド
１１７ 横断方向における床ガイド
１５０ 金属プレート
２００ 焼戻し処理システム
２０１ 焼戻し処理ユニット／炉
２０２ 焼戻し処理ユニット／圧延スタンド
２０３ 焼戻し処理ユニット／別の炉
２０４ 搬送面
３０１ 駆動ユニット
３０２ 制御接続部

【図1】

【図2】

【図3】