特許 7520437 成膜装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-07-12

(45)【発行日】2024-07-23

(54)【発明の名称】成膜装置

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/50 20060101AFI20240716BHJP

【ＦＩ】

C23C14/50 F

【請求項の数】 5

(21)【出願番号】P 2023574700

(86)(22)【出願日】2023-06-20

(86)【国際出願番号】 JP2023022834

【審査請求日】2023-12-04

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】390007216

【氏名又は名称】株式会社シンクロン

(74)【代理人】

【識別番号】110000486

【氏名又は名称】弁理士法人とこしえ特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】青山 貴昭

(72)【発明者】

【氏名】高瀬 慎一

(72)【発明者】

【氏名】門脇 亘成

(72)【発明者】

【氏名】庄司 善紀

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 剛貴

(72)【発明者】

【氏名】佐藤 耀介

【審査官】安積 高靖

(56)【参考文献】

【文献】特開２００９－７６８１８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００９－２８８２９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００９－１５５６８３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－１６２０４９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０２１－１３０８４２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特許第５１８９７１１（ＪＰ，Ｂ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ２３Ｃ １４／００－１４／５８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

成膜処理を行う成膜チャンバと、
一方の面と他方の面とを有する基板を装着する基板ホルダと、
前記成膜チャンバ内に設けられ、前記基板ホルダを保持する回転体と、を備え、
前記基板ホルダは、前記回転体に対し、前記基板の一方の面を成膜する第１位置と前記基板の他方の面を成膜する第２位置とに反転可能又は回転可能に設けられた成膜装置において、
前記基板ホルダが前記第１位置において前記基板の一方の面を成膜する場合に、前記基板の他方の面を遮蔽するマスキング部材をさらに備え、
前記マスキング部材は、
上端が前記回転体に支持され、下端が自由端とされた幕状部材からなり、
前記回転体の回転によって前記マスキング部材に作用する遠心力により、前記基板の他方の面に向かって押圧される成膜装置。

【請求項2】

前記マスキング部材の上端と前記回転体との間に設けられた仲介部材と、
前記回転体と前記仲介部材の上端とのそれぞれに固定された第１蝶番と、
前記仲介部材の下端と前記マスキング部材の上端とのそれぞれに固定された第２蝶番と、をさらに備え、
前記基板ホルダが、前記回転体に対して前記第１位置と前記第２位置との間を反転又は回転する場合に、前記マスキング部材は、前記仲介部材、前記第１蝶番及び前記第２蝶番により前記回転体の内側に後退する請求項１に記載の成膜装置。

【請求項3】

成膜処理を行う成膜チャンバと、
一方の面と他方の面とを有する基板を装着する基板ホルダと、
前記成膜チャンバ内に設けられ、前記基板ホルダを保持する回転体と、を備え、
前記基板ホルダは、前記回転体に対し、前記基板の一方の面を成膜する第１位置と前記基板の他方の面を成膜する第２位置とに反転可能又は回転可能に設けられた成膜装置において、
前記基板ホルダが前記第１位置において前記基板の一方の面を成膜する場合に、前記基板の他方の面を遮蔽するマスキング部材をさらに備え、
前記マスキング部材は、平板状部材からなり、
前記基板ホルダが前記第１位置にある場合には前記マスキング部材を前記基板の他方の面に向かって押圧し、前記基板ホルダが前記第２位置にある場合には前記マスキング部材を前記基板の一方の面に向かって押圧する押圧部材をさらに備え、
前記押圧部材は、
一端が前記回転体に回転可能に設けられ、他端が前記マスキング部材に回転可能に設けられたリンク部材と、
前記リンク部材を前記基板ホルダに向かう回転方向に付勢するバネ部材と、を備え、
前記基板ホルダが、前記回転体に対して前記第１位置と前記第２位置との間を反転又は回転する場合に、前記マスキング部材は、前記押圧部材の前記バネ部材の付勢力に抗して前記回転体の内側に後退し、
前記基板ホルダの反転又は回転が終了した場合に、前記マスキング部材は、前記押圧部材により前記基板ホルダに向かって押圧される成膜装置。

【請求項4】

前記押圧部材は、前記マスキング部材の上端部と下端部とに設けられている請求項３に記載の成膜装置。

【請求項5】

前記基板の一方の面を成膜したのち、前記基板ホルダを前記第１位置から前記第２位置へ反転又は回転させて前記基板の他方の面を成膜する場合に、
前記マスキング部材は、前記基板の一方の面を遮蔽する請求項１～４のいずれか一項に記載の成膜装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、成膜装置に関し、特に被成膜基板の両面に成膜する装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

被成膜基板の両面に成膜可能な真空蒸着装置が知られている（たとえば、特許文献１参照）。この真空蒸着装置では、基板の両面が露出するように当該基板を基板ホルダに取り付け、この基板ホルダを基板治具に対して回転可能に取り付け、基板の一方側の面に蒸着膜を形成したのち、基板ホルダを基板治具に対して回転させることで基板を反転する。そして、反転した基板の他方側の面に蒸着膜を形成することにより、基板の両面に膜を形成する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開平５－２７１９３５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上記従来の真空蒸着装置では、基板を保持する基板ホルダを反転可能に取り付けるため、基板ホルダとこれに隣接する基板ホルダとの間には、互いに干渉しないための隙間が必要となる。しかしながら、成膜中において、蒸着材料がこの隙間から基板ホルダの裏面に廻り込み、基板の裏面の一部に膜が形成される。この廻り込んだ膜の影響により、当該裏面の膜性能が、設計どおりの膜性能を呈しないという問題がある。

【0005】

本発明が解決しようとする課題は、基板の一方の面を成膜中に、基板の他方の面に成膜材料が付着するのを防止できる成膜装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明は、成膜処理を行う成膜チャンバと、一方の面と他方の面とを有する基板を装着する基板ホルダと、前記成膜チャンバ内に設けられ、前記基板ホルダを保持する回転体と、を備え、前記基板ホルダは、前記回転体に対し、前記基板の一方の面を成膜する第１位置と前記基板の他方の面を成膜する第２位置とに反転可能又は回転可能に設けられた成膜装置において、
前記基板ホルダが前記第１位置において前記基板の一方の面を成膜する場合に、前記基板の他方の面を遮蔽するマスキング部材をさらに備える成膜装置によって上記課題を解決する。

【発明の効果】

【0007】

本発明によれば、基板の一方の面を成膜中は、基板の他方の面をマスキング部材で遮蔽するので、基板の一方の面を成膜中に、基板の他方の面に成膜材料が付着するのを防止できる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】本発明に係る成膜装置の一実施の形態を示す横断面図である。

【図2】図１のＩＩ－ＩＩ線に沿う縦断面図である。

【図3】図２のＩＩＩ部の拡大図であって、本発明に係るマスキング部材の第１実施形態を示す正面図である。

【図4】図３のＩＶ－ＩＶ線に沿う矢視図である。

【図5】図４のＶ部の拡大図である。

【図6】図５のＶＩ－ＶＩ線に沿う矢視図である。

【図7】本発明に係るマスキング部材の第１実施形態の動作（その１）を示す、図３のＩＶ－ＩＶ線に沿う矢視図である。

【図8】本発明に係るマスキング部材の第１実施形態の動作（その２）を示す、図３のＩＶ－ＩＶ線に沿う矢視図である。

【図9】本発明に係るマスキング部材の第１実施形態の動作（その３）を示す、図３のＩＶ－ＩＶ線に沿う矢視図である。

【図10】本発明に係るマスキング部材の第２実施形態を示す斜視図である。

【図11】図１０のＸＩ部の拡大斜視図である。

【図12】図１０のＸＩＩ部の拡大斜視図である。

【図13】本発明に係るマスキング部材の第２実施形態の動作（その１）を示す平面図である。

【図14】本発明に係るマスキング部材の第２実施形態の動作（その２）を示す平面図である。

【図15】本発明に係るマスキング部材の第２実施形態の動作（その３）を示す平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図１は、本発明に係る成膜装置の一実施の形態を示す横断面図、図２は、図１のII-II線に沿う縦断面図である。本実施形態の成膜装置は、スパッタ成膜装置１であって、減圧可能で放電ガスが導入可能とされ、基板Ｓに膜を形成する成膜チャンバ１１と、成膜チャンバ１１内にて回転可能に設けられた回転ドラム１２と、回転ドラム１２の外側面に対面する第１スパッタ電極１３，第２スパッタ電極１４と、を備える。

【0010】

成膜チャンバ１１は、実質的に密閉空間を形成する中空筐体からなり、たとえば図１及び図２に示すように平面視及び側面視において矩形とされている。この成膜チャンバ１１の壁面には、ターボ分子ポンプなどの第１排気装置１５の吸引口が接続され、成膜チャンバ１１の内部空間の気体を排気することで、成膜チャンバ１１を所定の減圧雰囲気に維持する。

【0011】

また成膜チャンバ１１には、当該成膜チャンバ１１の内部空間に放電ガス（スパッタ処理においてターゲットに衝突する電子を放出するガス）及び必要に応じて反応ガスを導入するガス導入装置１６が設けられている。本実施形態のガス導入装置１６は、放電ガスを貯留するとともに、反応性スパッタ処理などを行う場合には反応ガスを貯留する。放電ガスとしては特に限定されないが、たとえばアルゴンガスなどの不活性ガスが用いられる。また反応ガスとしては、目的とする膜種に応じたガスが選択され、たとえば酸化膜である場合は酸素ガス、窒化膜である場合には窒素ガスが用いられる。

【0012】

成膜チャンバ１１は、図１及び図２に示すように、回転ドラム１２のドラム外側壁に対面する壁面の一部に、第１スパッタ電極１３と第２スパッタ電極１４が設けられている。本実施形態の第１スパッタ電極１３及び第２スパッタ電極１４のそれぞれは、電源１７に接続され、スパッタ電極の先端には、成膜材料となるターゲットが装着される。第１スパッタ電極１３及び第２スパッタ電極１４のそれぞれは、ターゲットの表面が、回転ドラム１２に支持された基板Ｓに対面するような姿勢で設けられ、成膜時には電源１７からの電圧がターゲットに印加される。

【0013】

本実施形態のスパッタ成膜装置１では、成膜チャンバ１１の側壁面の一つに、図１に示すようにゲートバルブ１８を介してロードロックチャンバ１９が設けられ、ロードロックチャンバ１９を介して、基板Ｓが支持された回転ドラム１２の搬入及び搬出が行われる。ロードロックチャンバ１９の壁面の一つには、回転ドラム１２を搬入及び搬出するためのドア２０が設けられている。また、ロードロックチャンバ１９の壁面には、ターボ分子ポンプなどの第２排気装置２１の吸引口が接続され、ドア２０を閉めた状態でロードロックチャンバ１９の内部空間の気体を排気することで、当該ロードロックチャンバ１９の内部を減圧雰囲気に維持する。

【0014】

本実施形態の回転ドラム１２は、カルーセルタイプのドラム方式とされ、ドラムの側壁表面に基板ホルダ２２を介して基板Ｓが装着される。回転ドラム１２は、成膜チャンバ１１に回転可能に設けられた回転軸１２１を中心にして、たとえば電動モータからなる駆動装置１２２により、所定方向に所定速度で回転する。

【0015】

図３は、図２のIII部を拡大した正面図であり、回転ドラム１２の円筒状の外壁面に沿って複数取り付けられた基板ホルダ２２を示し、図４は、図３のIV-IV線に沿う矢視図である。本実施形態の基板ホルダ２２は、回転ドラム１２の上側骨格部材１２３と下側骨格部材１２４との間に介装され、基板ホルダ２２の軸２２１が、上側骨格部材１２３と下側骨格部材１２４のそれぞれに対して回転可能に支持されている。

【0016】

被成膜物としての基板Ｓは、基板ホルダ２２に対し、専用の治具などを介して着脱可能に取り付けられる。特に本実施形態の基板Ｓは、表面と裏面の両面に成膜される製品仕様であり、そのため基板ホルダ２２が、回転ドラム１２に対し、基板Ｓの一方の面（たとえば表面）を成膜する第１位置と、基板Ｓの他方の面（たとえば裏面）を成膜する第２位置とに反転可能又は回転可能とされている。なお、本発明において、基板ホルダ２２を第１位置と第２位置とにするに場合、基板ホルダ２２をその都度反転させてもよいし、１８０°ずつ回転させてもよい。

【0017】

具体的には、上述したとおり、複数の基板ホルダ２２のそれぞれが、回転ドラム１２の上側骨格部材１２３と下側骨格部材１２４のそれぞれに対して回転可能に支持されている。これに加え、それぞれの基板ホルダ２２の軸２２１の上端部には、図３及び図４に示すようにカム部材２２２が固定される一方、成膜チャンバ１１側にピン部材２３が出没可能に設けられている。ピン部材２３は、アクチュエータなどにより、ピン部材２３が没入することでカム部材２２２とは干渉しない没入位置と、ピン部材２３が突出することでカム部材２２２と干渉する突出位置とに作動する。

【0018】

そして、基板Ｓの一方の面（たとえば表面）を成膜中は、ピン部材２３を没入位置にした状態で、それぞれの基板ホルダ２２は、支持した基板Ｓの一方の面（たとえば表面）が回転ドラム１２の外側に向かう第１位置に停止し、これにより基板Ｓの一方の面（たとえば表面）が第１スパッタ電極１３及び第２スパッタ電極１４に対面するので、当該一方の面（たとえば表面）にスパッタ膜が形成される。

【0019】

基板Ｓの一方の面（たとえば表面）に所定のスパッタ膜が形成されたら、それまで没入していたピン部材２３を突出位置に作動させ、回転ドラム１２を回転させる。この回転ドラム１２の回転により、それぞれの基板ホルダ２２のカム部材２２２にピン部材２３が当接し、基板ホルダ２２を１８０°回転させる。この結果、基板ホルダ２２が反転し、支持した基板Ｓの他方の面（たとえば裏面）が回転ドラム１２の外側に向かう第２位置に停止し、これにより基板Ｓの他方の面（たとえば裏面）が第１スパッタ電極１３及び第２スパッタ電極１４に対面することになる。この状態から成膜処理を再開すれば、基板Ｓの他方の面（たとえば裏面）にもスパッタ膜が形成されることになる。

【0020】

ところで、複数の基板ホルダ２２のそれぞれを回転ドラム１２に回転可能に取り付ける場合、回転時に互いに干渉しないように、隣り合う基板ホルダ２２の間に僅かな隙間を設ける必要がある。ところが、成膜中において成膜材料がこの隙間から基板ホルダ２２の裏側に廻り込み、基板Ｓの裏側の面に付着するという問題がある。加飾などを成膜目的に基板Ｓの両面に成膜する場合は、基板Ｓの裏側の面に成膜材料が多少付着しても、加飾製品としての問題は少ないが、光学系レンズのように膜の分光特性などが厳格に要求される製品については、基板Ｓの裏側の面に少しでも成膜材料が付着すると、目的とする光学特性が得られないという問題がある。

【0021】

そのため、本実施形態のスパッタ成膜装置１では、基板Ｓの一方の面を成膜する場合には、基板Ｓの他方の面を遮蔽するマスキング部材２４をさらに設けている。この場合、マスキング部材２４は、基板Ｓの一方の面を成膜する場合には、未成膜である基板Ｓの他方の面を遮蔽するほか、基板Ｓの他方の面を成膜する場合には、成膜済みである基板Ｓの一方の面を遮蔽することも含む。以下、本発明に係るマスキング部材２４を、２つの実施形態を挙げて説明する。

【0022】

《第１実施形態》
本発明に係るマスキング部材２４の第１実施形態を図３～図９に示す。第１実施形態のマスキング部材２４は、剛性又は柔軟性を有する、金属製、合成樹脂製又はセラミックス製の幕状部材２４１を有し、幕状部材２４１の上端は、仲介部材２４２を介して回転ドラム１２の上側骨格部材１２３に支持され、幕状部材２４１の下端は自由端とされている。

【0023】

図５は、図４のＶ部の拡大図、図６は、図５のＶＩ－ＶＩ線に沿う矢視図である。同図に示すように、仲介部材２４２は、金属製又は合成樹脂製など剛性を有する板材からなり、図５に示すように断面がＬ字状に形成された部材である。この仲介部材２４２の上端と、回転ドラム１２の上側骨格部材１２３との間には、平蝶番などからなる第１蝶番２４３が固定され、これにより仲介部材２４２は、回転ドラム１２に対し、第１蝶番２４３の回転軸を中心に回動可能とされている。また、仲介部材２４２の下端と、幕状部材２４１の上端との間には、同じく平蝶番などからなる第２蝶番２４４が固定され、これにより、幕状部材２４１は、仲介部材２４２に対し、第２蝶番２４４の回転軸を中心に回動可能とされている。なお、図６に示すように、第１蝶番２４３は、仲介部材２４２の幅方向の中央に１つ設けられ、第２蝶番２４４は、仲介部材２４２の幅方向の両端部に２つ設けられている。

【0024】

次に作用を説明する。図７～図９は、第１実施形態に係るマスキング部材２４の動作を示す、図３のＩＶ－ＩＶ線に沿う矢視図であり、図７は、回転ドラム１２が停止し、基板ホルダ２２が第１位置又は第２位置にある状態を示し、図８は、基板ホルダ２２が第１位置又は第２位置にあり、回転ドラム１２が回転中である状態を示し、図９は、回転ドラム１２が停止し、基板ホルダ２２が反転中又は回転中である状態を示す。

【0025】

図７に示すように、回転ドラム１２が停止し、基板ホルダ２２が第１位置又は第２位置にある状態においては、マスキング部材２４の幕状部材２４１は、基板ホルダ２２の裏側の面から少し離れた位置において垂下している。幕状部材２４１の上端は、仲介部材２４２と、１つの第１蝶番２４３と、２つの第２蝶番２４４とを介して回転ドラム１２の上側骨格部材１２３に取り付けられ、下端が自由端とされているので、図７に示す状態から、成膜を開始するために回転ドラム１２が回転すると、その回転によってマスキング部材２４の幕状部材２４１に遠心力が作用する。この遠心力は、幕状部材２４１を回転ドラム１２の外側へ向かわせる力となることから、幕状部材２４１は、図８に示すように基板ホルダ２２の裏側の面に向かって押圧されることになる。

【0026】

ここで、本実施形態のマスキング部材２４の幕状部材２４１は、仲介部材２４２と第１蝶番２４３と第２蝶番２４４とを介して回転ドラム１２に取り付けられているため、幕状部材２４１の上端から下端までの全体にわたり、基板ホルダ２２の裏側の面に密着する。なお、回転ドラム１２の上側骨格部材１２３に対する第１蝶番２４３の固定位置によっては、仲介部材２４２を断面Ｌ字状にする必要はなく、仲介部材２４２を平板で構成してもよい。さらに、本発明に係るマスキング部材２４は、幕状部材２４１が基板Ｓの裏側の面を遮蔽できればよいので、仲介部材２４２、第１蝶番２４３又は第２蝶番２４４のいずれかを省略してもよい。

【0027】

基板Ｓの一方の面（たとえば表面）の成膜を終了したのち、基板Ｓの他方の面（たとえば裏面）を成膜するために、基板ホルダ２２を反転又は１８０°回転させる場合、図９に示すように基板ホルダ２２が、成膜位置である第１位置又は第２位置から９０°回転しても、マスキング部材２４の幕状部材２４１は、仲介部材２４２、第１蝶番２４３及び第２蝶番２４４により、回転ドラム１２の内側に後退することができる。これにより、マスキング部材２４が基板ホルダ２２の反転又は１８０°回転を阻害するのを抑制することができる。

【0028】

《第２実施形態》
本発明に係るマスキング部材の第２実施形態を図１０～図１５に示す。第２実施形態のマスキング部材２４は、剛性又は柔軟性を有する、金属製、合成樹脂製又はセラミックス製の平板状部材２４５を有し、この平板状部材２４５の上端と下端に押圧部材２４６が取り付けられている。

【0029】

図１０は、本発明に係るマスキング部材２４の第２実施形態を示す斜視図であり、回転ドラム１２の一部を内側から見た図であり、図１１は、図１０のＸＩ部の拡大斜視図、図１２は、図１０のＸＩＩ部の拡大斜視図である。図１０に示す上側の押圧部材２４６は、図１１に詳細に示すように、一端が、回転ドラム１２に固定された支軸１２５に回転可能に設けられ、他端がマスキング部材２４の平板状部材２４５に回転可能に設けられたリンク部材２４６１と、リンク部材２４６１を基板ホルダ２２に向かう回転方向に付勢する２つのバネ部材２４６２，２４６３と、を備える。同様に、図１０に示す下側の押圧部材２４６は、図１２に詳細に示すように、一端が、回転ドラム１２に固定された支軸１２５に回転可能に設けられ、他端がマスキング部材２４の平板状部材２４５に回転可能に設けられたリンク部材２４６１と、リンク部材２４６１を基板ホルダ２２に向かう回転方向に付勢する２つのバネ部材２４６２，２４６３と、を備える。

【0030】

２つのバネ部材のうちリンク部材２４６１と支軸１２５との間に設けられたバネ部材２４６３は、支軸１２５を中心に、リンク部材２４６１を基板ホルダ２２に向かう方向にバネ付勢するものであり、後述するように基板ホルダ２２を反転又は１８０°回転させる場合は、平板状部材２４５を回転ドラム１２の内側に後退させる機能も有する。これに対し、リンク部材２４６１と平板状部材２４５との間に設けられたバネ部材２４６２は、これらの結合軸を中心に、平板状部材２４５を基板ホルダ２２に向かう方向にバネ付勢するものであり、平板状部材２４５を基板ホルダ２２の裏側の面に密着させる機能を有する。

【0031】

次に作用を説明する。図１３～図１５は、第２実施形態に係るマスキング部材２４の動作を示す平面図であり、図１３は、回転ドラム１２が停止又は回転し、基板ホルダ２２が第１位置又は第２位置にある状態を示し、図１４は、回転ドラム１２が停止し、基板ホルダ２２が第１位置又は第２位置から反転又は１８０°回転を開始した状態を示し、図１５は、回転ドラム１２が停止し、基板ホルダ２２が９０°反転又は回転した状態を示す。

【0032】

図１３に示すように、第２実施形態のマスキング部材２４は、回転ドラム１２が停止していても又は回転していても、基板ホルダ２２が第１位置又は第２位置にある状態においては、マスキング部材２４の平板状部材２４５は、基板ホルダ２２の裏側の面に押圧された位置にある。この状態においては、一方のバネ部材２４６３により、リンク部材２４６１を介して平板状部材２４５を基板ホルダ２２に向かう方向にバネ付勢すると同時に、他方のバネ部材２４６２により、平板状部材２４５を基板ホルダ２２に向かう方向にバネ付勢することで平板状部材２４５を基板ホルダ２２の裏側の面に隙間なく密着させる。

【0033】

基板Ｓの一方の面（たとえば表面）の成膜を終了したのち、基板Ｓの他方の面（たとえば裏面）を成膜するために、基板ホルダ２２を反転又は１８０°回転させる場合、図１４に示すように基板ホルダ２２が、成膜位置である第１位置又は第２位置から回転し始めると、平板状部材２４５は、主としてバネ部材２４６３の付勢力に抗して回転ドラム１２の内側に後退し始める。そして、図１５に示すように、基板ホルダ２２が９０°回転しても、マスキング部材２４の平板状部材２４５は、バネ部材２４６３の付勢力に抗しながら、回転ドラム１２の内側に後退することができる。これにより、マスキング部材２４が基板ホルダ２２の反転又は１８０°回転を阻害するのを抑制することができる。

【0034】

以上のとおり、本実施形態のスパッタ成膜装置１によれば、基板Ｓの一方の面を成膜中は、基板Ｓの他方の面をマスキング部材２４で遮蔽するので、基板Ｓの一方の面を成膜中に、基板Ｓの他方の面に成膜材料が付着するのを防止できる。

【0035】

なお、本発明の成膜装置は、スパッタ成膜装置にのみ限定されず、蒸着装置にも適用することができる。また、本発明に係る回転体は、上述した実施形態において回転ドラム１２に具現化したが、本発明に係る回転体は、回転ドラムにのみ限定されず、蒸着装置などの成膜チャンバの上部に設けられる傘状の回転体にも適用することができる。

【0036】

また、上述した第１実施形態において、マスキング部材２４の幕状部材２４１は、回転ドラム１２の回転にともなう遠心力により基板ホルダ２２の裏側の面に押圧する構成にしたが、バネ部材などの弾性力により幕状部材２４１を基板ホルダ２２の裏側の面に押圧する構成にしてもよい。

【符号の説明】

【0037】

１…スパッタ成膜装置
１１…成膜チャンバ
１２…回転ドラム
１２１…回転軸
１２２…駆動装置
１２３…上側骨格部材
１２４…下側骨格部材
１２５…支軸
１３…第１スパッタ電極
１４…第２スパッタ電極
１５…第１排気装置
１６…ガス導入装置
１７…電源
１８…ゲートバルブ
１９…ロードロックチャンバ
２０…ドア
２１…第２排気装置
２２…基板ホルダ
２２１…軸
２２２…カム部材
２３…ピン部材
２４…マスキング部材
２４１…幕状部材
２４２…仲介部材
２４３…第１蝶番
２４４…第２蝶番
２４５…平板状部材
２４６…押圧部材
２４６１…リンク部材
２４６２…バネ部材
２４６３…バネ部材
Ｓ…基板

【要約】

基板の一方の面を成膜中に、基板の他方の面に成膜材料が付着するのを防止するために、成膜処理を行う成膜チャンバ（１１）と、一方の面と他方の面とを有する基板（Ｓ）を装着する基板ホルダ（２２）と、前記成膜チャンバ（１１）内に設けられ、前記基板ホルダ（２２）を保持する回転ドラム（１２）と、を備え、前記基板ホルダ（２２）は、前記回転ドラム（１２）に対し、前記基板（Ｓ）の一方の面を成膜する第１位置と前記基板（Ｓ）の他方の面を成膜する第２位置とに反転可能又は回転可能に設けられたスパッタ成膜装置（１）において、前記基板ホルダ（２２）が前記第１位置において前記基板（Ｓ）の一方の面を成膜する場合に、前記基板（Ｓ）の他方の面を遮蔽するマスキング部材（２４）をさらに備える。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】