特許 7525992 除染装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-07-23

(45)【発行日】2024-07-31

(54)【発明の名称】除染装置

(51)【国際特許分類】

   A61L 2/20 20060101AFI20240724BHJP

【ＦＩ】

A61L2/20

【請求項の数】 3

(21)【出願番号】P 2019200445

(22)【出願日】2019-11-05

(65)【公開番号】P2021074033

(43)【公開日】2021-05-20

【審査請求日】2022-06-17

(73)【特許権者】

【識別番号】000111085

【氏名又は名称】ニッタ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100124039

【弁理士】

【氏名又は名称】立花 顕治

(74)【代理人】

【識別番号】100179213

【弁理士】

【氏名又は名称】山下 未知子

(74)【代理人】

【識別番号】100170542

【弁理士】

【氏名又は名称】桝田 剛

(72)【発明者】

【氏名】茂田 誠

(72)【発明者】

【氏名】池田 卓司

【審査官】川嶋 宏毅

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１８－１１４２０２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－２２１０７８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－１４７００７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特許第６２８５０６０（ＪＰ，Ｂ２）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ａ６１Ｌ ２／００－１２／１４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

対象空間を過酢酸によって除染するように構成された除染装置であって、
第１除染剤に起因する第１ガスを放出するように構成された第１放出部と、
第２除染剤に起因する第２ガスを放出するように構成された第２放出部と、
前記第１放出部及び前記第２放出部を制御するように構成された制御部と、を備え、
前記第２除染剤における過酢酸の濃度は、前記第１除染剤における過酢酸の濃度よりも高く、
前記制御部は、以下の条件が成立するまでは前記第１ガスを放出するように前記第１放出部を制御する一方、前記以下の条件が成立した後は、前記第２ガスを間欠的に放出するように前記第２放出部を制御し、
前記以下の条件は、前記対象空間における相対湿度が結露が生じる可能性が高い湿度よりも低い湿度に達する時間である第１所定時間が経過すること、または、前記対象空間における相対湿度が結露が生じる可能性が高い湿度よりも低い所定値に達することである
除染装置。

【請求項2】

前記第１ガス及び前記第２ガスの各々の発生方式は、霧化式又は気化式である、請求項１に記載の除染装置。

【請求項3】

前記制御部は、前記対象空間における相対湿度が前記所定値に達するまでは前記第１ガスを放出するように前記第１放出部を制御する一方、前記相対湿度が前記所定値に達した後は前記第２ガスを間欠的に放出するように前記第２放出部を制御する、請求項１又は請求項２に記載の除染装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、除染装置に関し、特に、対象空間を除染するように構成された除染装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特許第６２８５０６０号公報（特許文献１）は、無菌製造施設等を除染する除染装置を開示する。この除染装置は、過酢酸を含むドライフォグを用いることによって、除染対象空間の除染（バイオ除染）を行なう。この除染装置においては、除染時にガス回収機（除湿器）を用いることによって、除染対象空間内の相対湿度がコントロールされる。したがって、この除染装置によれば、除染対象空間における相対湿度が過剰に上昇しないため、除染対象空間内の機器等が結露に起因して故障又は腐食する事態を抑制することができる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特許第６２８５０６０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

過酢酸を用いた除染の効果を高めるためには、除染対象空間（以下、単に「対象空間」とも称する。）における相対湿度をある程度高く保つ必要がある。一方、対象空間における相対湿度が過剰に高くなると、対象空間内の機器等が結露に起因して故障又は腐食する可能性が高くなる。

【0005】

上記特許文献１に開示されている除染装置においては、除染時にガス回収機（除湿器）を用いることによって、対象空間内の相対湿度がコントロールされる。しかしながら、この場合には、除湿器が用いられるため、除染装置のサイズが大きくなる。また、除湿器によって過酢酸を含むドライフォグ（以下、「過酢酸ガス」とも称する。）も回収されるため、対象空間における過酢酸の濃度が低下し、除染効果が低下する。さらに、除湿器が過酢酸ガスを回収するため、過酢酸の付着によって除湿器が早期に故障する可能性もある。

【0006】

また、たとえば、対象空間内の相対湿度をコントロールするために、除染時に排気を行なうことが考えられる。しかしながら、除染時に排気が行なわれる場合には、排気ガスが人及び外部環境に悪影響を与える。また、過酢酸ガスも排気されるため、対象空間における過酢酸の濃度が低下し、除染効果が低下する。

【0007】

本発明は、このような問題を解決するためになされたものであって、その目的は、対象空間の除染時に、除湿又は排気を行なうことなく、対象空間における過酢酸の濃度及び相対湿度を適切な範囲内に維持することが可能な除染装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明に従う除染装置は、対象空間を過酢酸によって除染するように構成されている。除染装置は、第１放出部と、第２放出部とを備える。第１放出部は、第１除染剤に起因する第１ガスを放出するように構成されている。第２放出部は、第２除染剤に起因する第２ガスを放出するように構成されている。第２除染剤における過酢酸の濃度は、第１除染剤における過酢酸の濃度よりも高い。第１放出部及び第２放出部の各々は、対象空間の壁面を濡らさないように作動する。

【0009】

この除染装置においては、各々の過酢酸の濃度が異なる第１除染剤及び第２除染剤が用いられる。したがって、この除染装置によれば、第１除染剤及び第２除染剤を適切に使い分けることによって、除湿又は排気を行なうことなく、対象空間における過酢酸の濃度及び相対湿度を適切な範囲内に維持し、対象空間の壁面を濡らさないようにすることができる。

【0010】

上記除染装置において、第１ガス及び第２ガスの各々の発生方式は、霧化式又は気化式であってもよい。

【0011】

上記除染装置は、第１放出部及び第２放出部を制御するように構成された制御部をさらに備え、制御部は、対象空間における相対湿度が所定値に達するまでは第１ガスを放出するように第１放出部を制御する一方、相対湿度が所定値に達した後は第２ガスを間欠的に放出するように第２放出部を制御してもよい。

【0012】

この除染装置が使用された場合には、第１ガスが放出されることによって対象空間における相対湿度がまず所定値（過酢酸による除染の効果が十分に生じる相対湿度）まで上げられ、その後、第２ガスが間欠的に放出されることによって相対湿度の上昇が抑制されるとともに過酢酸の濃度の低下が抑制される。したがって、この除染装置によれば、除湿又は排気を行なうことなく、対象空間における相対湿度が過剰に上昇することによる結露の発生を抑制することができるとともに、対象空間における除染を効果的に行なうことができる。

【発明の効果】

【0013】

本発明によれば、対象空間の除染時に、除湿又は排気を行なうことなく、対象空間における過酢酸の濃度及び相対湿度を適切な範囲内に維持することが可能な除染装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】除染装置の概要を説明するための図である。

【図2】除染装置の概略構成を示す図である。

【図3】第１放出部の概略構成を示す図である。

【図4】第２放出部の概略構成を示す図である。

【図5】除染装置の動作手順を示すフローチャートである。

【図6】対象空間内における相対湿度及び過酢酸濃度の各々の推移を示す図である。

【図7】実施例における、除染対象空間内の温度、湿度及び過酢酸濃度の推移を示す図である。

【図8】比較例における、除染対象空間内の温度、湿度及び過酢酸濃度の推移を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0015】

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一又は相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。

【0016】

［１．概要］
図１は、本実施の形態に従う除染装置１００の概要を説明するための図である。図１に示されるように、除染装置１００は、空間２００内で使用される。

【0017】

空間２００は、除染対象の空間（対象空間）であり、たとえば、無菌製造施設、無菌検査室、再生医療製品の製造施設、無菌実験動物飼育室、手術室、食品製造施設又は病原微生物取扱管理施設（以下、単に「施設等」とも称する。）内の空間である。また、空間２００は、たとえば、施設等内に設置されている装置の内部空間であってもよい。すなわち、空間２００は、たとえば、バイオハザードを抑制するための箱状の実験設備である安全キャビネット内の空間であってもよい。

【0018】

除染装置１００は、空間２００を除染（バイオ除染）するための装置である。除染装置１００は、空間２００に過酢酸ガスを放出することによって、空間２００を除染するように構成されている。

【0019】

過酢酸を用いた除染の効果を高めるためには、空間２００における相対湿度をある程度高く保つ必要がある。一方、空間２００における相対湿度が過剰に高くなると、空間２００内の機器等が結露に起因して故障又は腐食する可能性が高くなる。

【0020】

空間２００内の相対湿度をコントロールするために、除染装置に除湿器を搭載させ、除染時に除湿器を用いることが考えられる。しかしながら、この場合には、除染装置に除湿器が搭載されるため、除染装置のサイズが大きくなる。また、除湿器によって過酢酸ガスも回収されるため、空間２００における過酢酸の濃度が低下し、除染効果が低下する。さらに、除湿器が過酢酸ガスを回収するため、過酢酸の付着によって除湿器が早期に故障する可能性もある。

【0021】

また、たとえば、空間２００内の相対湿度をコントロールするために、除染時に排気を行なうことが考えられる。しかしながら、除染時に排気が行なわれる場合には、排気ガスが人及び外部環境に悪影響を与える。また、過酢酸ガスも排気されるため、対象空間における過酢酸の濃度が低下し、除染効果が低下する。

【0022】

本実施の形態に従う除染装置１００を用いた空間２００の除染においては、除染時に除湿又は排気を行なうことなく、空間２００における過酢酸の濃度及び相対湿度が適切な範囲内に維持される。以下、除染装置１００の構成及び動作について詳細に説明する。

【0023】

［２．除染装置の構成］
図２は、除染装置１００の概略構成を示す図である。図２に示されるように、除染装置１００は、第１放出部１１０と、第２放出部１２０と、制御部１３０とを含んでいる。なお、たとえば、空間２００における湿度及び過酢酸濃度に基づいて第１放出部１１０及び第２放出部１２０を制御するために、制御部１３０は、湿度センサー機能及び過酢酸濃度センサー機能を有していてもよい。

【0024】

図３は、第１放出部１１０の概略構成を示す図である。第１放出部１１０は、第１除染剤１１２に起因する第１ガス（過酢酸ガス）を第１放出部１１０の外部に放出するように構成されている。図３に示されるように、第１放出部１１０は、容器１１１と、第１除染剤１１２と、蓋１１３と、ファン１１４，１１５とを含んでいる。

【0025】

容器１１１は、金属又は樹脂等の除染剤により腐食しない材質で構成されており、第１除染剤１１２を収容するように構成されている。第１除染剤１１２は、過酢酸を含む水溶液である。蓋１１３は、容器１１１の上端に取り付けられる。蓋１１３には開口部Ｏ１，Ｏ２が形成されており、開口部Ｏ１，Ｏ２にはそれぞれファン１１４，１１５が取り付けられている。

【0026】

ファン１１４は、回転することによって、第１放出部１１０の外部から内部に向かう気流を生じさせるように構成されている。一方、ファン１１５は、回転することによって、第１放出部１１０の内部から外部に向かう気流を生じさせるように構成されている。ファン１１４，１１５が回転することによって、第１除染剤１１２が蒸発して生じた過酢酸ガス（第１ガス）が第１放出部１１０の外部に放出される。すなわち、第１放出部１１０における過酢酸ガスの発生方式は、気化式である。

【0027】

図４は、第２放出部１２０の概略構成を示す図である。第２放出部１２０は、第２除染剤１２２に起因する第２ガス（過酢酸ガス）を第２放出部１２０の外部に放出するように構成されている。図４に示されるように、第２放出部１２０は、第１放出部１１０と比較して容器１１１に収容される除染剤のみが異なる。第２放出部１２０においては、容器１１１に第２除染剤１２２が収容される。第２除染剤１２２は、過酢酸を含む水溶液である。第２除染剤１２２における過酢酸の濃度は、第１除染剤１１２における過酢酸の濃度よりも高い。たとえば、第２除染剤１２２における過酢酸の濃度は、第１除染剤１１２における過酢酸の２倍以上であってもよい。

【0028】

第２放出部１２０において、ファン１１４，１１５が回転することによって、第２除染剤１２２が蒸発して生じた過酢酸ガス（第２ガス）が第２放出部１２０の外部に放出される。すなわち、第２放出部１２０における過酢酸ガスの発生方式は、気化式である。

【0029】

制御部１３０は、第１放出部１１０及び第２放出部１２０を制御するように構成されている。より具体的には、制御部１３０は、第１放出部１１０及び第２放出部１２０の各々に含まれるファン１１４，１１５を制御するように構成されている。制御部１３０は、ハードウェアプロセッサであるＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＡＭ（Random Access Memory）及びＲＯＭ（Read Only Memory）等を含み、プログラム及び各種データに基づいて情報処理を実行するように構成されている。

【0030】

［３．除染装置の動作］
図５は、除染装置１００の動作手順を示すフローチャートである。このフローチャートに示される処理は、たとえば、除染装置１００を使用する作業者が除染装置１００を動作させるための操作を行なうことによって開始する。

【0031】

図６は、空間２００内における相対湿度及び過酢酸濃度の各々の推移を示す図である。図６において、横軸は時間を示し、縦軸は相対湿度又は過酢酸濃度を示す。また、実線Ｌ１は相対湿度の推移を示し、実線Ｌ２は過酢酸濃度の推移を示す。

【0032】

図５及び図６を参照して、制御部１３０は、第１ガスの放出を開始するように第１放出部１１０を制御する（ステップＳ１００）。より具体的には、制御部１３０は、回転を開始するように、第１放出部１１０に含まれるファン１１４，１１５を制御する。第１ガス（過酢酸ガス）の放出中は、空間２００における相対湿度及び過酢酸濃度の各々が上昇する。

【0033】

制御部１３０は、第１ガスの放出を開始してから第１所定時間（ｔ１）が経過したか否かを判定する（ステップＳ１１０）。第１所定時間（ｔ１）は、たとえば、空間２００における相対湿度がＨ２（結露が生じる可能性が高い湿度）よりも低いＨ１に達する時間であり、かつ、空間２００における過酢酸濃度が除染を効果的に行なえるＣ１よりも高い濃度に達する時間である。相対湿度Ｈ１は除染開始から終了までの時間ｔ６が経過した時点で相対湿度がＨ２を越えない値として予め定められ、第１所定時間（ｔ１）は空間２００における相対湿度がＨ１に達する時間として予め定められる。

【0034】

第１所定時間が経過していないと判定されると（ステップＳ１１０においてＮＯ）、制御部１３０は、第１ガスの放出を継続するように第１放出部１１０を制御する。一方、第１所定時間が経過したと判定されると（ステップＳ１１０においてＹＥＳ）、制御部１３０は、第１ガスの放出を停止するように第１放出部１１０を制御する（ステップＳ１２０）。第１所定時間（ｔ１）に達した時点で、空間２００における相対湿度は、たとえば、Ｈ１に達し、空間２００における過酢酸濃度は、たとえば、Ｃ１以上の値に達する。

【0035】

制御部１３０は、さらに、空間２００における除染の終了タイミングであるか否かを判定する（ステップＳ１３０）。すなわち、制御部１３０は、空間２００における除染の開始から時間ｔ６が経過したか否かを判定する。時間ｔ６は、空間２００における除染が完了する時間として予め定められる。終了タイミングであると判定されると（ステップＳ１３０においてＹＥＳ）、除染装置１００による除染動作は終了する。

【0036】

一方、未だに終了タイミングではないと判定されると（ステップＳ１３０においてＮＯ）、制御部１３０は、過酢酸ガスの放出を停止してから第２所定時間が経過したか否かを判定する（ステップＳ１４０）。第２所定時間は、たとえば、過酢酸の分解によって空間２００における過酢酸濃度がＣ１まで低下する時間であり、予め定められている。第２所定時間が経過していないと判定されると（ステップＳ１４０においてＮＯ）、制御部１３０は、第１放出部１１０及び第２放出部１２０の停止状態を維持する。

【0037】

一方、第２所定時間が経過したと判定されると（ステップＳ１４０においてＹＥＳ）、制御部１３０は、第２ガスの放出を開始するように第２放出部１２０を制御する（ステップＳ１５０）。より具体的には、制御部１３０は、回転を開始するように第２放出部１２０に含まれるファン１１４，１１５を制御する。第２ガス（過酢酸ガス）の放出中は、空間２００における相対湿度及び過酢酸濃度の各々が再び上昇する。第２ガスの過酢酸濃度は第１ガスよりも高いため、第２ガスの放出中は第１ガスの放出中と比較して、過酢酸濃度が急激に上昇する一方、相対湿度が緩やかに上昇する。

【0038】

その後、制御部１３０は、第２ガスの放出が開始してから第３所定時間が経過したか否かを判定する（ステップＳ１６０）。第３所定時間は、空間２００における過酢酸濃度が十分に上昇する時間であり、予め定められている。第３所定時間が経過していないと判定されると（ステップＳ１６０においてＮＯ）、制御部１３０は、第２ガスの放出を継続するように第２放出部１２０を制御する。

【0039】

一方、第３所定時間が経過したと判定されると（ステップＳ１６０においてＹＥＳ）、制御部１３０は、第２ガスの放出を停止するように第２放出部１２０を制御する（ステップＳ１７０）。その後、処理はステップＳ１３０に移行する。

【0040】

このように、除染装置１００においては、除染の終了タイミングが到来するまで、第２放出部１２０による第２ガスの放出が間欠的に行なわれる。除染装置１００によれば、第１放出部１１０（第１除染剤１１２）及び第２放出部１２０（第２除染剤１２２）を適切に使い分けることによって、除湿又は排気を行なうことなく、空間２００における過酢酸の濃度及び相対湿度を適切な範囲内に維持することができる。

【0041】

なお、第１所定時間（ｔ１）、第２所定時間、第３所定時間、時間ｔ６、並びに、第１除染剤１１２及び第２除染剤１２２の各々における過酢酸濃度は、除染対象空間の容積や初期の湿度などの条件により適宜最適なものに変更することができる。

【0042】

また、本実施の形態においては、第１ガス及び第２ガス放出の開始及び停止が経過時間に基づいて制御された。しかしながら、第１ガス及び第２ガス放出の開始及び停止は、必ずしも経過時間に基づいて制御される必要はない。たとえば、第１ガス放出の停止が空間２００における相対湿度に基づいて制御されてもよいし、第２ガス放出の開始及び停止が対象空間における過酢酸ガス濃度に基づいて制御されてもよい。たとえば、制御部１３０は、制御部１３０に含まれる湿度センサーが空間２００における相対湿度がＨ１に達したことを検出した場合に第１ガスの放出を停止するように第１放出部１１０を制御し、制御部１３０に含まれる過酢酸濃度センサーが空間２００における過酢酸濃度がＣ１まで低下したことを検出した場合に第２ガスの放出を開始するように第２放出部１２０を制御し、制御部１３０に含まれる過酢酸濃度センサーが空間２００における過酢酸濃度が予め定められた十分に高い値に達したことを検出した場合に第２ガスの放出を停止するように第２放出部１２０を制御してもよい。

【0043】

［４．特徴］
以上のように、除染装置１００においては、各々の過酢酸の濃度が異なる第１除染剤１１２及び第２除染剤１２２が用いられる。したがって、除染装置１００によれば、第１除染剤１１２及び第２除染剤１２２を適切に使い分けることによって、除湿又は排気を行なうことなく、空間２００における過酢酸の濃度及び相対湿度を適切な範囲内に維持し、空間２００の壁面を濡らさないようにすることができる。

【0044】

また、除染装置１００が使用された場合には、第１ガスが放出されることによって空間２００における相対湿度がまず所定値（過酢酸による除染の効果が十分に生じる相対湿度）まで上げられ、その後、第２ガスが間欠的に放出されることによって相対湿度の上昇が抑制されるとともに過酢酸の濃度の低下が抑制される。したがって、除染装置１００によれば、除湿又は排気を行なうことなく、空間２００における相対湿度が過剰に上昇することによる結露の発生を抑制することができるとともに、空間２００における除染を効果的に行なうことができる。

【0045】

［５．変形例］
以上、実施の形態について説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、種々の変更が可能である。以下、変形例について説明する。

【0046】

（５－１）
上記実施の形態においては、第１ガス及び第２ガスの発生方式が気化式であった。しかしながら、第１ガス及び第２ガスの発生方式はこれに限定されない。たとえば、第１ガス及び第２ガスの発生方式は霧化式（超音波式、エアー噴霧式）であってもよい。各噴霧方式は、空間２００の腐食を防ぐために、空間２００の壁面を濡らさないことが好ましい。壁面を濡らさないために、第１放出部１１０及び第２放出部１２０の各々から放出されるものは、気体又は粒径１５μｍ以下の液滴の微粒子であることが好ましい。

【0047】

（５－２）
また、上記実施の形態においては、除染装置１００は、過酢酸ガスを放出することによって空間２００を除染することとした。しかしながら、除染装置１００は、必ずしも過酢酸ガスを放出しなくてもよい。たとえば、除染装置１００は、ミスト状の過酢酸を放出するように構成されていてもよい。

【0048】

（５－３）
また、上記実施の形態においては、第１放出部１１０と第２放出部１２０とが構造的に同一であるとされた。しかしながら、第１放出部１１０と第２放出部１２０とは必ずしも構造的に同一である必要はない。

【0049】

（５－４）
また、上記実施の形態においては、第１除染剤１１２が過酢酸を含む水溶液であるとされた。しかしながら、第１除染剤１１２は、必ずしも過酢酸を含む水溶液でなくてもよい。第１除染剤１１２は、たとえば、単なる水であってもよい。

【0050】

［６．実施例等］
以下、実施例及び比較例について説明する。

【0051】

（各種装置等）
実施例及び比較例においては、以下の装置等を準備した。除染対象の空間としては、クラスＩＩ安全キャビネット（日立産機システム社製のＳＣＶ－１３０８－ＥＣ ＩＩ Ａ２）を準備した。温湿度計としては、日置電機株式会社製のＬＲ５００１を準備した。過酢酸濃度計としては、過酢酸濃度計本体であるＡＴＩ社製のＦ１２／Ｄ－３－６－１－１、及び、センサモジュールであるＡＴＩ社製の００－１７０５を準備した。

【0052】

第１ガス発生装置（気化式）としては、底面（内寸）が約４５ｃｍ×３１ｃｍ、高さが約２６ｃｍの箱の天面に入・出の１２０ｍｍサイズの２個のファンを取り付けたものを準備した。第２ガス発生装置（気化式）としては、底面（内寸）が約３７ｃｍ×２８ｃｍ、高さが約１５ｃｍの箱の天面に入・出の６０ｍｍサイズの２個のファンを取り付けたものを準備した。また、除染確認のためのバイオロジカルインジケーター（１０⁶）として、ＭｅｓａＬａｂｓ社製のＨＭＶ－０９１を準備した。なお、バイオロジカルインジケーターは、各実験において３個設置された。

【0053】

実施例及び比較例のいずれにおいても、安全キャビネットの作業空間及び排気ＨＥＰＡ二次側は養生を実施し、外気とのリークを可能な限り防いだ状態で除染を行なった。また、温湿度計、過酢酸濃度計、ガス発生装置及びバイオロジカルインジケーターはすべて作業空間内に設置した。各ガス発生装置は作業空間の中心付近に設置し、その他の計測器及びバイオロジカルインジケーターは風の流れを邪魔しないように適度に壁や他の機材と離して設置した。バイオロジカルインジケーターはクリップでつかみ直立する姿勢で設置した。

【0054】

（実施例）
実施例においては、第１ガス発生装置に、過酢酸濃度０．０６％の溶液を１０００ｍｌ入れた。また、第２ガス発生装置に、５００ｍｌの過酢酸濃度０．４５％の溶液を入れた。

【0055】

実施例においては、除染対象空間内の湿度が８５％になるまで第１ガス発生装置を稼働させた。湿度が８５％になって以降は、第２ガス発生装置を稼働させた。第２ガス発生装置の最初の稼働後は、第２ガス発生装置の停止及び稼働を以下のルールで繰り返した。

【0056】

（１）除染対象空間内の過酢酸濃度が１５ｐｐｍまで低下したら第２ガス発生装置を稼働させる。（２）除染対象空間内の過酢酸濃度が２０ｐｐｍまで上昇したら第２ガス発生装置を停止させる。なお、本実施例においては、第２ガス発生装置の稼働及び停止を手動で切り替えたため、上記ルールから外れている場合もある。

【0057】

第１ガス放出を開始してから約３時間後に除染を終了し、バイオロジカルインジケーターの回収及び培養を行なった。実施例においては、設置されたすべて（３個）のバイオロジカルインジケーターが陰性（死滅）であった。

【0058】

なお、図７は、実施例における、除染対象空間内の温度、湿度及び過酢酸濃度の推移を示す図である。図７に示されるように、実施例においては、除染対象空間内の相対湿度及び過酢酸濃度が適切な範囲内に制御された。

【0059】

（比較例）
比較例においては、第１ガス発生装置に、過酢酸濃度０．０６％の溶液を１０００ｍｌ入れた。比較例においては、除染対象空間内の湿度が８５％になるまで第１ガス発生装置を稼働させた。湿度が８５％になって以降は、第１ガス発生装置の停止及び稼働を以下のルールで繰り返した。

【0060】

（１）除染対象空間内の過酢酸濃度が１５ｐｐｍまで低下したら第１ガス発生装置を稼働させる。（２）除染対象空間内の過酢酸濃度が２０ｐｐｍまで上昇したら第１ガス発生装置を停止させる。

【0061】

約２時間後、除染対象空間内の相対湿度が９０％を超えた。装置内で結露が生じ、結露が原因で装置が腐食する恐れがあるため、除染を中止し、バイオロジカルインジケーターの回収及び培養を行なった。比較例においては、２個のバイオロジカルインジケーターが陰性であったが、１個のバイオロジカルインジケーターが陽性であった。

【0062】

なお、図８は、比較例における、除染対象空間内の温度、湿度及び過酢酸濃度の推移を示す図である。図８に示されるように、比較例においては、除染対象空間内の相対湿度が過剰に上昇した。

【符号の説明】

【0063】

１００ 除染装置、１１０ 第１放出部、１１１ 容器、１１２ 第１除染剤、１１３ 蓋、１１４，１１５ ファン、１２０ 第２放出部、１２２ 第２除染剤、１３０ 制御部、２００ 空間、Ｌ１，Ｌ２ 実線、Ｏ１，Ｏ２ 開口部。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】