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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-08-02
(45)【発行日】2024-08-13
(54)【発明の名称】露光装置、及び物品の製造方法
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20240805BHJP
G05D 3/12 20060101ALI20240805BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 521
G05D3/12 305S
【請求項の数】
14
(21)【出願番号】P 2020127585
(22)【出願日】2020-07-28
(65)【公開番号】P2022024792
(43)【公開日】2022-02-09
【審査請求日】2023-07-14
(73)【特許権者】
【識別番号】000001007
【氏名又は名称】キヤノン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100094112
【弁理士】
【氏名又は名称】岡部 讓
(74)【代理人】
【識別番号】100101498
【弁理士】
【氏名又は名称】越智 隆夫
(74)【代理人】
【識別番号】100106183
【弁理士】
【氏名又は名称】吉澤 弘司
(74)【代理人】
【識別番号】100136799
【弁理士】
【氏名又は名称】本田 亜希
(72)【発明者】
【氏名】早川 崇志
(72)【発明者】
【氏名】江本 圭司
【審査官】植木 隆和
(56)【参考文献】
【文献】米国特許出願公開第２００５／０２１８８４２（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２０１１－０３５３８１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１２－１４２４６３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１９－１２１６５６（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０１Ｌ ２１／０２７
Ｇ０３Ｆ ７／２０
Ｈ０１Ｌ ２１／６８
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
光源からの露光光を用いて原版に形成されたパターンを基板に転写するように前記基板を露光する露光装置であって、前記基板が載置される基板ステージと、
第１推力を前記基板ステージに発生させる第１アクチュエータ、及び第２推力を前記基板ステージに発生させる第２アクチュエータを有し、前記基板ステージを走査方向に駆動する駆動部と、
前記基板上の複数のショット領域の各々を露光する露光期間において、前記基板ステージを前記走査方向に移動させながら前記基板上の複数のショット領域の各々を露光するように前記駆動部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記露光期間において前記基板ステージを前記走査方向に移動させるために、前記第１アクチュエータにより前記第１推力を前記走査方向における第１方向に前記基板ステージに付与させ、前記第２アクチュエータにより前記第２推力を前記走査方向における前記第１方向とは逆の第２方向に前記基板ステージに付与させ、前記第１推力と前記第２推力のそれぞれが変化することにより前記第１推力と前記第２推力の合力は正弦関数に従い変化し、前記合力の向きが変化するとき前記第１推力の大きさと前記第２推力の大きさとがいずれも０にならないように前記駆動部を制御することを特徴とする露光装置。
【請求項2】
前記制御部は、前記基板上の一部のショット領域の各々を露光する際に前記基板ステージの前記走査方向における加速度が正の値をとる区間から所定の時刻において０になった後、負の値をとる区間に移行するように生成された前記加速度のプロファイルに従って、前記基板ステージを前記走査方向に移動させるように前記駆動部を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項3】
前記制御部は、前記基板上の残りのショット領域の各々を露光する際に前記基板ステージの前記走査方向における前記加速度が負の値をとる区間から所定の時刻において０になった後、正の値をとる区間に移行するように生成された前記加速度のプロファイルに従って、前記基板ステージを前記走査方向に移動させるように前記駆動部を制御することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項4】
前記制御部は、前記複数のショット領域の各々を露光する際の前記加速度のプロファイルを、時間に関する微分可能関数から生成することを特徴とする請求項２または３に記載の露光装置。
【請求項5】
前記制御部は、前記複数のショット領域の各々を露光する際の前記加速度のプロファイルから生成された加速指令値に基づいて前記第１推力及び前記第２推力それぞれのプロファイルを生成することを特徴とする請求項２乃至４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項6】
前記制御部は、前記複数のショット領域の各々を露光する際の前記第１推力及び前記第２推力それぞれのプロファイルを、時間に関する微分可能関数から生成することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項7】
前記制御部は、前記所定の時刻において、前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータそれぞれが前記基板ステージに前記第１推力及び前記第２推力を発生させるように前記駆動部を制御することを特徴とする請求項２乃至６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項8】
前記制御部は、前記露光期間のいずれの時刻においても前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータそれぞれが前記基板ステージに前記第１推力及び前記第２推力を発生させるように前記駆動部を制御することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項9】
前記露光期間に含まれる第１期間において前記合力は前記第１方向に前記基板ステージに付与され、前記露光期間に含まれ前記第１期間の後の第２期間において前記合力は前記第２方向に前記基板ステージに付与され、前記第１期間と前記第２期間との間の期間において前記合力の大きさは０になることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項10】
前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータはそれぞれ、電磁石アクチュエータであることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項11】
光源からの露光光を用いて原版に形成されたパターンを基板に転写するように前記基板を露光する露光装置であって、前記基板が載置される基板ステージと、
第１推力を前記基板ステージに発生させる第１アクチュエータ、及び第２推力を前記基板ステージに発生させる第２アクチュエータを有し、前記基板ステージを走査方向に駆動する駆動部と、
前記基板上の複数のショット領域の各々を露光する露光期間において、前記基板ステージを前記走査方向に移動させながら前記基板上の複数のショット領域の各々を露光するように前記駆動部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記露光期間において前記基板ステージを前記走査方向に移動させるために、前記第１アクチュエータにより前記第１推力を前記走査方向における第１方向に前記基板ステージに付与させ、前記第２アクチュエータにより前記第２推力を前記走査方向における前記第１方向とは逆の第２方向に前記基板ステージに付与させ、前記第１推力と前記第２推力のそれぞれが変化することにより前記第１推力と前記第２推力の合力は正弦関数に従い変化し、前記合力の向きが変化するとき前記第１推力の大きさと前記第２推力の大きさとがいずれも０にならないように前記駆動部を制御し、
前記露光期間に含まれる第１期間において前記合力は前記第１方向に前記基板ステージに付与され、前記露光期間に含まれ前記第１期間の後の第２期間において前記合力は前記第２方向に前記基板ステージに付与され、前記第１期間と前記第２期間との間の期間において前記合力の大きさは０になることを特徴とする露光装置。
【請求項12】
請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記基板を露光するステップと、露光された前記基板を現像するステップと、
現像された前記基板を加工して物品を製造するステップと、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項13】
基板が載置される基板ステージと、第１推力を前記基板ステージに発生させる第１アクチュエータ、及び第２推力を前記基板ステージに発生させる第２アクチュエータを有し、前記基板ステージを走査方向に駆動する駆動部とを備える露光装置において、光源からの露光光を用いて原版に形成されたパターンを前記基板に転写するように前記基板を露光する方法であって、
前記基板上の複数のショット領域の各々を露光する露光期間において、前記基板ステージを前記走査方向に移動させながら前記基板上の複数のショット領域の各々を露光するように前記駆動部を制御するステップを含み、
該制御するステップは、前記露光期間において前記基板ステージを前記走査方向に移動させるために、前記第１アクチュエータにより前記第１推力を前記走査方向における第１方向に前記基板ステージに付与させ、前記第２アクチュエータにより前記第２推力を前記走査方向における前記第１方向とは逆の第２方向に前記基板ステージに付与させ、前記第１推力と前記第２推力のそれぞれが変化することにより前記第１推力と前記第２推力の合力は正弦関数に従い変化し、前記合力の向きが変化するとき前記第１推力の大きさと前記第２推力の大きさとがいずれも０にならないように前記駆動部を制御するステップを含むことを特徴とする基板を露光する方法。
【請求項14】
基板が載置される基板ステージと、第１推力を前記基板ステージに発生させる第１アクチュエータ、及び第２推力を前記基板ステージに発生させる第２アクチュエータを有し、前記基板ステージを走査方向に駆動する駆動部とを備える露光装置において、光源からの露光光を用いて原版に形成されたパターンを前記基板に転写するように前記基板を露光する方法であって、
前記基板上の複数のショット領域の各々を露光する露光期間において、前記基板ステージを前記走査方向に移動させながら前記基板上の複数のショット領域の各々を露光するように前記駆動部を制御するステップを含み、
該制御するステップは、前記露光期間において前記基板ステージを前記走査方向に移動させるために、前記第１アクチュエータにより前記第１推力を前記走査方向における第１方向に前記基板ステージに付与させ、前記第２アクチュエータにより前記第２推力を前記走査方向における前記第１方向とは逆の第２方向に前記基板ステージに付与させ、前記第１推力と前記第２推力のそれぞれが変化することにより前記第１推力と前記第２推力の合力は正弦関数に従い変化し、前記合力の向きが変化するとき前記第１推力の大きさと前記第２推力の大きさとがいずれも０にならないように前記駆動部を制御するステップを含み、
前記露光期間に含まれる第１期間において前記合力は前記第１方向に前記基板ステージに付与され、前記露光期間に含まれ前記第１期間の後の第２期間において前記合力は前記第２方向に前記基板ステージに付与され、前記第１期間と前記第２期間との間の期間において前記合力の大きさは０になることを特徴とする基板を露光する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、露光装置、及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、基板ステージを走査方向に走査移動させながら、基板ステージ上に載置された基板を露光する露光装置が知られている。
そして、そのような露光装置では、基板を露光する際のスループットを増加させることで生産性を向上させることが求められている。
特許文献１は、基板を露光する際に正弦関数から構成される駆動プロファイルに従って基板ステージを変速させながら走査移動させることで、露光時間を短縮しスループットを向上させた露光装置を開示している。
そして、そのような露光装置では、基板を露光する際のスループットを増加させることで生産性を向上させることが求められている。
特許文献１は、基板を露光する際に正弦関数から構成される駆動プロファイルに従って基板ステージを変速させながら走査移動させることで、露光時間を短縮しスループットを向上させた露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１２－１４２４６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献１では、基板上の所定のショット領域を露光する際に、基板ステージの走査方向における加速度が正の値をとる第１の区間から所定の時刻において０になった後、負の値をとる第２の区間に移行するように基板ステージを走査移動させている。
【0005】
一方、基板ステージに走査方向の正の向きを有する第１の推力を発生させる第１のアクチュエータと走査方向の負の向きを有する第２の推力を発生させる第２のアクチュエータとを用いて基板ステージを走査移動させる露光装置が知られている。
ここで、そのような露光装置において基板を露光する際に、特許文献１に開示されているように基板ステージを変速させながら走査移動させる場合には、第１のアクチュエータから第２のアクチュエータへの切り替えが発生することが考えられる。
すなわち、第１の区間では第１のアクチュエータによって第１の推力のみを発生させることで基板ステージの加速度を正の値にする一方で、第２の区間では第２のアクチュエータによって第２の推力のみを発生させることで基板ステージの加速度を負の値にする。
ここで、そのような露光装置において基板を露光する際に、特許文献１に開示されているように基板ステージを変速させながら走査移動させる場合には、第１のアクチュエータから第２のアクチュエータへの切り替えが発生することが考えられる。
すなわち、第１の区間では第１のアクチュエータによって第１の推力のみを発生させることで基板ステージの加速度を正の値にする一方で、第２の区間では第２のアクチュエータによって第２の推力のみを発生させることで基板ステージの加速度を負の値にする。
【0006】
このとき、基板ステージの加速度が０になる所定の時刻において第１の推力の発生が終了すると同時に第２の推力の発生が開始する。
すなわち、所定の時刻において第１の推力及び第２の推力が同時に０になることで、基板ステージの位置に関する制御偏差が発生し、これにより重ね合わせ精度が低下してしまう。
そこで本発明は、スループットの向上を維持しつつ、基板ステージの位置に関する制御偏差の発生を抑制することができる露光装置を提供することを目的とする。
すなわち、所定の時刻において第１の推力及び第２の推力が同時に０になることで、基板ステージの位置に関する制御偏差が発生し、これにより重ね合わせ精度が低下してしまう。
そこで本発明は、スループットの向上を維持しつつ、基板ステージの位置に関する制御偏差の発生を抑制することができる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明に係る露光装置は、光源からの露光光を用いて原版に形成されたパターンを基板に転写するように基板を露光する露光装置であって、基板が載置される基板ステージと、第１推力を基板ステージに発生させる第１アクチュエータ、及び第２推力を基板ステージに発生させる第２アクチュエータを有し、基板ステージを走査方向に駆動する駆動部と、基板上の複数のショット領域の各々を露光する露光期間において、基板ステージを走査方向に移動させながら基板上の複数のショット領域の各々を露光するように駆動部を制御する制御部とを備え、制御部は、露光期間において基板ステージを走査方向に移動させるために、第１アクチュエータにより第１推力を走査方向における第１方向に基板ステージに付与させ、第２アクチュエータにより第２推力を走査方向における第１方向とは逆の第２方向に基板ステージに付与させ、第１推力と第２推力のそれぞれが変化することにより第１推力と第２推力の合力は正弦関数に従い変化し、合力の向きが変化するとき第１推力の大きさと第２推力の大きさとがいずれも０にならないように駆動部を制御することを特徴とする。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、スループットの向上を維持しつつ、基板ステージの位置に関する制御偏差の発生を抑制することができる露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】第一実施形態に係る露光装置の模式的断面図及び基板ステージの上面図。
【図2】第一実施形態に係る露光装置における加速度プロファイル、速度プロファイル、推力プロファイル及び合力プロファイル。
【図3】第一実施形態に係る露光装置における基板の露光処理を示したフローチャート。
【図4】第二実施形態に係る露光装置における推力プロファイル及び合力プロファイル。
【図5】従来の露光装置における加速度プロファイル及び速度プロファイル。
【図6】別の従来の露光装置における加速度プロファイル、速度プロファイル、推力プロファイル及び合力プロファイル。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下に、本実施形態に係る露光装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている。
なお以下では、基板ステージの基板載置面に垂直な方向をＺ方向、基板載置面内において互いに直交する（垂直な）二つの方向をそれぞれＸ方向及びＹ方向と定義する。
なお以下では、基板ステージの基板載置面に垂直な方向をＺ方向、基板載置面内において互いに直交する（垂直な）二つの方向をそれぞれＸ方向及びＹ方向と定義する。
【0011】
現在、半導体デバイスの製造装置である露光装置では、光学系に対してマスクとウエハとを走査しながら露光を行う走査露光装置が主流となっている。
また、露光装置では露光精度や重ね合わせ精度の向上と同時に生産性の向上が求められている。
また、露光装置では露光精度や重ね合わせ精度の向上と同時に生産性の向上が求められている。
【0012】
そして、そのような要望に応えるために、マスクステージや基板ステージを走査移動させて露光を行う際の加速度及び速度を向上させることで、露光時間を短縮することによって生産性を向上させてきた。
しかしながら、加速度及び速度の向上にはハード的な限界があるため、露光を行う際にマスクステージや基板ステージを変速させながら走査移動させることによって露光時間をさらに短縮する露光装置が提案されている。
しかしながら、加速度及び速度の向上にはハード的な限界があるため、露光を行う際にマスクステージや基板ステージを変速させながら走査移動させることによって露光時間をさらに短縮する露光装置が提案されている。
【0013】
一方、リニアモータを用いてマスクステージや基板ステージを走査移動させる露光装置では、マスクステージや基板ステージの加速度の向上に伴って、リニアモータで用いられるコイルの発熱量が増大する。
それにより、マスクステージや基板ステージにおいて熱膨張が発生することで計測基準が変形したり、レーザ干渉計の光路において空気密度が擾乱したりすることによって、位置計測の精度が低下してしまう虞がある。
それにより、マスクステージや基板ステージにおいて熱膨張が発生することで計測基準が変形したり、レーザ干渉計の光路において空気密度が擾乱したりすることによって、位置計測の精度が低下してしまう虞がある。
【0014】
これに対しては、発熱量が小さい電磁石アクチュエータを用いてマスクステージや基板ステージを走査移動させる露光装置が提案されている。
そして、そのような露光装置では、走査方向の正の向きを有する第１の推力を発生させる第１の電磁石アクチュエータと走査方向の負の向きを有する第２の推力を発生させる第２の電磁石アクチュエータとを用いて各ステージを走査方向に駆動する方法が採られる。
そして、そのような露光装置では、走査方向の正の向きを有する第１の推力を発生させる第１の電磁石アクチュエータと走査方向の負の向きを有する第２の推力を発生させる第２の電磁石アクチュエータとを用いて各ステージを走査方向に駆動する方法が採られる。
【0015】
ここで、基板上の所定のショット領域を露光する際に、基板ステージの加速度が正の値をとる第１の区間から所定の時刻において０になった後、負の値をとる第２の区間に移行するように基板ステージを走査移動させる場合を考える。
このとき、第１の区間では第１の電磁石アクチュエータによって第１の推力のみを発生させる一方で、第２の区間では第２の電磁石アクチュエータによって第２の推力のみを発生させる方法を採ることが考えられる。
すなわちこの場合、第１の区間では第１の推力のみを発生させることで基板ステージの加速度を正の値にする一方で、第２の区間では第２の推力のみを発生させることで基板ステージの加速度を負の値にすることができる。
このとき、第１の区間では第１の電磁石アクチュエータによって第１の推力のみを発生させる一方で、第２の区間では第２の電磁石アクチュエータによって第２の推力のみを発生させる方法を採ることが考えられる。
すなわちこの場合、第１の区間では第１の推力のみを発生させることで基板ステージの加速度を正の値にする一方で、第２の区間では第２の推力のみを発生させることで基板ステージの加速度を負の値にすることができる。
【0016】
このとき、基板ステージの加速度が正の値をとる第１の区間から所定の時刻において０になった後、負の値をとる第２の区間に移行する際に、第１の電磁石アクチュエータから第２の電磁石アクチュエータへの瞬間的な切り替えが発生する。
そしてこの場合、基板ステージを駆動するアクチュエータが瞬間的に切り替わることで、基板ステージの位置に関して制御偏差が発生することによって重ね合わせ精度が低下してしまう虞がある。
そしてこの場合、基板ステージを駆動するアクチュエータが瞬間的に切り替わることで、基板ステージの位置に関して制御偏差が発生することによって重ね合わせ精度が低下してしまう虞がある。
【0017】
そこで本実施形態に係る露光装置では、以下に示す構成を採ることで、基板ステージの加速度（加速方向）が正から負に切り替わる変曲点を有する駆動プロファイルに従って基板ステージを駆動する際に生じるそのような制御偏差の発生を抑制することができる。
【0018】
［第一実施形態］
図１（ａ）は、第一実施形態に係る露光装置１００の模式的断面図を示している。
図１（ａ）は、第一実施形態に係る露光装置１００の模式的断面図を示している。
【0019】
本実施形態に係る露光装置１００は、光源からの露光光を用いてマスク１０２（原版）に形成されたパターンを基板１０４に転写するように基板１０４を露光する。
ここで基板１０４としては、例えばその表面にレジスト（感光剤）が塗布されたウエハが用いられ、基板１０４上には、先の露光処理で形成された互いに同一のパターン構造を有する複数のショット領域が配列されている。
そして本実施形態に係る露光装置１００は、マスク１０２と基板１０４とを互いに同期してＹ方向に走査移動させながら基板１０４上の各ショット領域を高精度に露光するステップ・アンド・スキャン方式を採用している。なおこの際、露光領域は矩形又は円弧スリット形状とされる。
ここで基板１０４としては、例えばその表面にレジスト（感光剤）が塗布されたウエハが用いられ、基板１０４上には、先の露光処理で形成された互いに同一のパターン構造を有する複数のショット領域が配列されている。
そして本実施形態に係る露光装置１００は、マスク１０２と基板１０４とを互いに同期してＹ方向に走査移動させながら基板１０４上の各ショット領域を高精度に露光するステップ・アンド・スキャン方式を採用している。なおこの際、露光領域は矩形又は円弧スリット形状とされる。
【0020】
図１（ａ）に示されているように、本実施形態に係る露光装置１００は、投影光学系１０１、マスクステージ１０３、基板ステージ１０５、照明光学系１０６及び制御部１１１を備えている。
【0021】
投影光学系１０１は、光軸ＡＸがＺ方向に平行になるように配置されており、マスク１０２のパターンの像を投影光学系１０１の像面、すなわち基板１０４上に投影する。
なお、投影光学系１０１の倍率は、例えば１／４、１／２及び１／５から選択することができる。
なお、投影光学系１０１の倍率は、例えば１／４、１／２及び１／５から選択することができる。
【0022】
マスクステージ１０３は、マスク１０２を保持しており、露光を行う際に投影光学系１０１の光軸ＡＸに垂直なＸＹ面内において、Ｙ方向に平行な矢印１０３ａの方向に走査移動する。
このとき、マスクステージ１０３は、マスクステージ１０３のＸ方向における位置が目標位置に維持されるように補正駆動される。
そして、マスクステージ１０３のＸ方向及びＹ方向における位置は、干渉計１０９がマスクステージ１０３上に配置されたバーミラー１０７からの反射光を計測することで決定される。
このとき、マスクステージ１０３は、マスクステージ１０３のＸ方向における位置が目標位置に維持されるように補正駆動される。
そして、マスクステージ１０３のＸ方向及びＹ方向における位置は、干渉計１０９がマスクステージ１０３上に配置されたバーミラー１０７からの反射光を計測することで決定される。
【0023】
基板ステージ１０５は、載置される基板１０４を不図示のチャックを用いて吸着保持しており、露光を行う際に投影光学系１０１の光軸ＡＸに垂直なＸＹ面内において、Ｙ方向に平行な矢印１０５ａの方向に走査移動する。
具体的には、基板ステージ１０５は、Ｘ方向及びＹ方向それぞれに移動可能なＸＹステージと、投影光学系１０１の光軸ＡＸに平行なＺ方向（基板１０４の高さ方向）に移動可能なＺステージとを含む。
さらに、基板ステージ１０５は、Ｘ軸及びＹ軸の回りに回転可能なレベリングステージと、Ｚ軸の回りに回転可能な回転ステージとを含む。
このように、基板ステージ１０５では、マスク１０２に形成されているパターンの像を基板１０４上の所望のショット領域に一致させるための六軸駆動系が構成されている。
そして、基板ステージ１０５のＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向における位置は、干渉計１１０が基板ステージ１０５上に配置されたバーミラー１０８からの反射光を計測することで決定される。
具体的には、基板ステージ１０５は、Ｘ方向及びＹ方向それぞれに移動可能なＸＹステージと、投影光学系１０１の光軸ＡＸに平行なＺ方向（基板１０４の高さ方向）に移動可能なＺステージとを含む。
さらに、基板ステージ１０５は、Ｘ軸及びＹ軸の回りに回転可能なレベリングステージと、Ｚ軸の回りに回転可能な回転ステージとを含む。
このように、基板ステージ１０５では、マスク１０２に形成されているパターンの像を基板１０４上の所望のショット領域に一致させるための六軸駆動系が構成されている。
そして、基板ステージ１０５のＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向における位置は、干渉計１１０が基板ステージ１０５上に配置されたバーミラー１０８からの反射光を計測することで決定される。
【0024】
照明光学系１０６は、エキシマレーザ等のパルス光を発生する不図示の光源からの光をマスク１０２に照明する。
具体的には、照明光学系１０６は、入射光の断面形状（寸法）を予め定められた形状に整形するためのビーム整形光学系と、入射光の配光特性を均一にしてマスク１０２を均一な照度で照明するためのオプティカルインテグレータとを有している。
また照明光学系１０６は、チップサイズに対応する矩形の照明領域を規定するためのマスキングブレード、コリメータレンズ及びミラー等を有している。
これにより、照明光学系１０６は、遠紫外領域のパルス光を効率的に透過又は反射することができる。
具体的には、照明光学系１０６は、入射光の断面形状（寸法）を予め定められた形状に整形するためのビーム整形光学系と、入射光の配光特性を均一にしてマスク１０２を均一な照度で照明するためのオプティカルインテグレータとを有している。
また照明光学系１０６は、チップサイズに対応する矩形の照明領域を規定するためのマスキングブレード、コリメータレンズ及びミラー等を有している。
これにより、照明光学系１０６は、遠紫外領域のパルス光を効率的に透過又は反射することができる。
【0025】
制御部１１１は、ＣＰＵやメモリ等を含んでおり、本実施形態に係る露光装置１００の各構成部材を統括的に制御する。
具体的には、制御部１１１は、マスク１０２に形成されているパターンからの光を基板１０４の所定のショット領域に結像させるために、マスク１０２を保持するマスクステージ１０３と基板１０４を保持する基板ステージ１０５との駆動を制御する。
例えば制御部１１１は、マスクステージ１０３及び基板ステージ１０５のＸＹ面内における位置（Ｘ方向及びＹ方向における位置、及びＺ軸周りの角度）及びＺ方向における位置（Ｘ軸周り及びＹ軸周りそれぞれにおける角度）を調整する。
また制御部１１１は、基板１０４上の所定のショット領域を露光する際にはマスクステージ１０３及び基板ステージ１０５を互いに同期して走査移動させると共に、露光するショット領域を切り替える際には、基板ステージ１０５をステップ移動させる。
これにより制御部１１１は、基板ステージ１０５によって保持されている基板１０４を走査しながら基板１０４の各ショット領域を露光する露光処理を制御することができる。
具体的には、制御部１１１は、マスク１０２に形成されているパターンからの光を基板１０４の所定のショット領域に結像させるために、マスク１０２を保持するマスクステージ１０３と基板１０４を保持する基板ステージ１０５との駆動を制御する。
例えば制御部１１１は、マスクステージ１０３及び基板ステージ１０５のＸＹ面内における位置（Ｘ方向及びＹ方向における位置、及びＺ軸周りの角度）及びＺ方向における位置（Ｘ軸周り及びＹ軸周りそれぞれにおける角度）を調整する。
また制御部１１１は、基板１０４上の所定のショット領域を露光する際にはマスクステージ１０３及び基板ステージ１０５を互いに同期して走査移動させると共に、露光するショット領域を切り替える際には、基板ステージ１０５をステップ移動させる。
これにより制御部１１１は、基板ステージ１０５によって保持されている基板１０４を走査しながら基板１０４の各ショット領域を露光する露光処理を制御することができる。
【0026】
また、マスクステージ１０３を矢印１０３ａの方向に走査移動させる際には、基板ステージ１０５は、投影光学系１０１の倍率（縮小倍率）だけ補正した速度で矢印１０５ａの方向に走査移動する。
そして、マスク１０２に形成されているパターンのＸＹ面内における位置合わせは、マスクステージ１０３の位置、基板ステージ１０５の位置、及び基板ステージ１０５に対する基板１０４上の各ショット領域の位置に基づいて行われる。
ここで、マスクステージ１０３及び基板ステージ１０５それぞれの位置は、上述したように干渉計１０９及び１１０によって計測される。
そして、基板ステージ１０５に対する基板１０４上の各ショット領域の位置は、不図示のアライメント顕微鏡によって基板ステージ１０５上に設けられたマークの位置及び基板１０４上に形成されたアライメントマークの位置を検出することで計測される。
そして、マスク１０２に形成されているパターンのＸＹ面内における位置合わせは、マスクステージ１０３の位置、基板ステージ１０５の位置、及び基板ステージ１０５に対する基板１０４上の各ショット領域の位置に基づいて行われる。
ここで、マスクステージ１０３及び基板ステージ１０５それぞれの位置は、上述したように干渉計１０９及び１１０によって計測される。
そして、基板ステージ１０５に対する基板１０４上の各ショット領域の位置は、不図示のアライメント顕微鏡によって基板ステージ１０５上に設けられたマークの位置及び基板１０４上に形成されたアライメントマークの位置を検出することで計測される。
【0027】
図１（ｂ）は、本実施形態に係る露光装置１００に設けられた基板ステージ１０５の上面図を示している。
【0028】
図１（ｂ）に示されているように、基板ステージ１０５は、基板１０４を搭載して短距離駆動及び長距離駆動それぞれを行う微動ステージ２０１及び粗動ステージ２０２から構成される。
具体的には、粗動ステージ２０２は、Ｘスライダ２０３及びＹスライダ２０４によって移動可能に支持されていると共に、リニアモータ可動子２０５、２０６、２０７及び２０８に接続されている。
リニアモータ可動子２０５、２０６、２０７及び２０８はそれぞれ、リニアモータ固定子２０９、２１０、２１１及び２１２との間に生じるローレンツ力によって、粗動ステージ２０２をＸ方向及びＹ方向に駆動することができる。
具体的には、粗動ステージ２０２は、Ｘスライダ２０３及びＹスライダ２０４によって移動可能に支持されていると共に、リニアモータ可動子２０５、２０６、２０７及び２０８に接続されている。
リニアモータ可動子２０５、２０６、２０７及び２０８はそれぞれ、リニアモータ固定子２０９、２１０、２１１及び２１２との間に生じるローレンツ力によって、粗動ステージ２０２をＸ方向及びＹ方向に駆動することができる。
【0029】
微動ステージ２０１は、複数の電磁石アクチュエータ２１３、２１４、２１５及び２１６によって、Ｘ方向及びＹ方向に移動可能であるように粗動ステージ２０２に非接触で連結される。
そして、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５は微動ステージ２０１をＹ方向に駆動させることができる一方で、電磁石アクチュエータ２１４及び２１６は微動ステージ２０１をＸ方向に駆動させることができる。
そして、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５は微動ステージ２０１をＹ方向に駆動させることができる一方で、電磁石アクチュエータ２１４及び２１６は微動ステージ２０１をＸ方向に駆動させることができる。
【0030】
なお、電磁石アクチュエータ２１３乃至２１６は、吸引力のみを発生させることが可能であり、制御部１１１によって制御される。
また、微動ステージ２０１では、不図示のＸＹＺリニアモータによって、Ｚ方向、Ｘ軸周りの回転方向、Ｙ軸周りの回転方向及びＺ軸周りの回転方向に駆動されることで、六軸駆動系が構成されている。
また、微動ステージ２０１では、不図示のＸＹＺリニアモータによって、Ｚ方向、Ｘ軸周りの回転方向、Ｙ軸周りの回転方向及びＺ軸周りの回転方向に駆動されることで、六軸駆動系が構成されている。
【0031】
そして、微動ステージ２０１を＋Ｙ方向、すなわちＹ方向の正の向きに駆動させる場合には、電磁石アクチュエータ２１３によって吸引力である推力をＹ方向の正の向き（第１方向）に生じさせる。
一方、微動ステージ２０１を－Ｙ方向、すなわちＹ方向の負の向きに駆動させる場合には、電磁石アクチュエータ２１５によって吸引力である推力をＹ方向の負の向き（第２方向）に生じさせる。
一方、微動ステージ２０１を－Ｙ方向、すなわちＹ方向の負の向きに駆動させる場合には、電磁石アクチュエータ２１５によって吸引力である推力をＹ方向の負の向き（第２方向）に生じさせる。
【0032】
また、微動ステージ２０１を＋Ｘ方向、すなわちＸ方向の正の向きに駆動させる場合には、電磁石アクチュエータ２１４によって吸引力である推力をＸ方向の正の向きに生じさせる。
一方、微動ステージ２０１を－Ｘ方向、すなわちＸ方向の負の向きに駆動させる場合には、電磁石アクチュエータ２１６によって吸引力である推力をＸ方向の負の向きに生じさせる。
すなわち本実施形態に係る露光装置１００では、複数のアクチュエータの各々が微動ステージ２０１に対して互いに異なる向きの推力を発生させる。
一方、微動ステージ２０１を－Ｘ方向、すなわちＸ方向の負の向きに駆動させる場合には、電磁石アクチュエータ２１６によって吸引力である推力をＸ方向の負の向きに生じさせる。
すなわち本実施形態に係る露光装置１００では、複数のアクチュエータの各々が微動ステージ２０１に対して互いに異なる向きの推力を発生させる。
【0033】
本実施形態に係る露光装置１００では、上記のように基板ステージ１０５を構成することによって、基板１０４を高速かつ高精度に位置決めすることが可能となる。
また本実施形態に係る露光装置１００では、微動ステージ２０１を駆動するための駆動部は、電磁石アクチュエータ２１３（第１のアクチュエータ）、２１４、２１５（第２のアクチュエータ）、２１６から構成される。
なお、微動ステージ２０１をＹ方向に駆動するための電磁石アクチュエータの数は上記の二個に限らず、三個以上の電磁石アクチュエータを用いて微動ステージ２０１をＹ方向に駆動することもできる。
また本実施形態に係る露光装置１００では、微動ステージ２０１を駆動するための駆動部は、電磁石アクチュエータ２１３（第１のアクチュエータ）、２１４、２１５（第２のアクチュエータ）、２１６から構成される。
なお、微動ステージ２０１をＹ方向に駆動するための電磁石アクチュエータの数は上記の二個に限らず、三個以上の電磁石アクチュエータを用いて微動ステージ２０１をＹ方向に駆動することもできる。
【0034】
図５は、従来の露光装置４００において基板１０４上の所定のショット領域に露光を行う際の微動ステージ２０１のＹ方向における加速度プロファイルＡｐ及び速度プロファイルＶｐを示している。
なおここで示す従来の露光装置４００は、本実施形態に係る露光装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。
また以下では、Ｙ方向における加速度Ａ及び速度Ｖをそれぞれ、単に加速度Ａ及び速度Ｖと称する。
なおここで示す従来の露光装置４００は、本実施形態に係る露光装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。
また以下では、Ｙ方向における加速度Ａ及び速度Ｖをそれぞれ、単に加速度Ａ及び速度Ｖと称する。
【0035】
図５に示されているように、露光装置４００において基板１０４上の所定のショット領域に露光を行う際の微動ステージ２０１の駆動は、制御部１１１によって以下に示すように制御される。
具体的には、まず時刻ｔ０からｔ３までの加速区間５０１において微動ステージ２０１をＹ方向に加速する際に、時刻ｔ１においてＡｍａｘに到達するように時刻ｔ０から時刻ｔ１まで加速度Ａを増加させる。
そして、時刻ｔ１から時刻ｔ２の間では加速度ＡをＡｍａｘに維持した後、時刻ｔ３において０になるように時刻ｔ２から時刻ｔ３まで加速度Ａを減少させることで、微動ステージ２０１の速度Ｖは露光速度Ｖｓに到達する。
具体的には、まず時刻ｔ０からｔ３までの加速区間５０１において微動ステージ２０１をＹ方向に加速する際に、時刻ｔ１においてＡｍａｘに到達するように時刻ｔ０から時刻ｔ１まで加速度Ａを増加させる。
そして、時刻ｔ１から時刻ｔ２の間では加速度ＡをＡｍａｘに維持した後、時刻ｔ３において０になるように時刻ｔ２から時刻ｔ３まで加速度Ａを減少させることで、微動ステージ２０１の速度Ｖは露光速度Ｖｓに到達する。
【0036】
次に、時刻ｔ３からｔ４までの等速区間５０２において微動ステージ２０１のＹ方向における速度Ｖを露光速度Ｖｓに維持したまま、基板１０４上の所定のショット領域を走査しながら露光する。
そして、時刻ｔ４からｔ７までの減速区間５０３において微動ステージ２０１をＹ方向に減速する際に、時刻ｔ５において－Ａｍａｘに到達するように時刻ｔ４から時刻ｔ５まで加速度Ａを減少させる。
その後、時刻ｔ５から時刻ｔ６の間では加速度Ａを－Ａｍａｘに維持し、最後に時刻ｔ７において０になるように時刻ｔ６から時刻ｔ７まで加速度Ａを増加させることで、微動ステージ２０１の速度Ｖは０に到達する。
そして、時刻ｔ４からｔ７までの減速区間５０３において微動ステージ２０１をＹ方向に減速する際に、時刻ｔ５において－Ａｍａｘに到達するように時刻ｔ４から時刻ｔ５まで加速度Ａを減少させる。
その後、時刻ｔ５から時刻ｔ６の間では加速度Ａを－Ａｍａｘに維持し、最後に時刻ｔ７において０になるように時刻ｔ６から時刻ｔ７まで加速度Ａを増加させることで、微動ステージ２０１の速度Ｖは０に到達する。
【0037】
そして、上記に示した走査駆動とステップ駆動とを連続的に繰り返すことによって、基板１０４上の全体に設けられた複数のショット領域を露光することができる。
ここで、生産性を向上させるためには、露光速度Ｖｓや最高加速度Ａｍａｘを向上させることによって、加速区間５０１、露光区間５０２及び減速区間５０３それぞれにおける時間を短縮することで、基板１０４の一枚当たりの処理時間を短縮することが考えられる。
しかしながら、最高加速度Ａｍａｘの向上にはハード的な制約があるために、それによる生産性の向上には限界がある。
ここで、生産性を向上させるためには、露光速度Ｖｓや最高加速度Ａｍａｘを向上させることによって、加速区間５０１、露光区間５０２及び減速区間５０３それぞれにおける時間を短縮することで、基板１０４の一枚当たりの処理時間を短縮することが考えられる。
しかしながら、最高加速度Ａｍａｘの向上にはハード的な制約があるために、それによる生産性の向上には限界がある。
【0038】
図６（ａ）は、別の従来の露光装置５００において基板１０４上の所定のショット領域に露光を行う際の微動ステージ２０１のＹ方向における加速度プロファイルＡｐ及び速度プロファイルＶｐを示している。
なおここで示す別の従来の露光装置５００は、本実施形態に係る露光装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。
また以下では、Ｙ方向における加速度Ａ、速度Ｖ及び推力Ｆをそれぞれ、単に加速度Ａ、速度Ｖ及び推力Ｆと称する。
なおここで示す別の従来の露光装置５００は、本実施形態に係る露光装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。
また以下では、Ｙ方向における加速度Ａ、速度Ｖ及び推力Ｆをそれぞれ、単に加速度Ａ、速度Ｖ及び推力Ｆと称する。
【0039】
露光装置５００では、加速度Ａが正弦関数に従って周期的に変化することで、速度Ｖも周期的に変化する。なお図６（ａ）では、加速度Ａ及び速度Ｖの一周期における時間変化しか示されていないことに注意されたい。
【0040】
具体的には、まず所定の時刻ｔ０において加速度Ａ及び速度ＶがそれぞれＡ０及び－Ｖ０であったとする。
そして、変速区間６０１では、時刻ｔ０から時刻ｔ１までの間において加速度ＡがＡｍａｘまで増加した後にＡ０まで減少することで、速度Ｖは－Ｖ０からＶ０まで増加する。
次に、露光区間６０２では、時刻ｔ１から時刻ｔ３までの間において加速度Ａが－Ａ０まで減少することで、速度ＶはＶ０からＶｍａｘまで増加した後にＶ０まで減少する。
そして、変速区間６０３では、時刻ｔ３から時刻ｔ４までの間において加速度Ａが－Ａｍａｘまで減少した後に－Ａ０まで増加することで、速度ＶはＶ０から－Ｖ０まで減少する。
そして、変速区間６０１では、時刻ｔ０から時刻ｔ１までの間において加速度ＡがＡｍａｘまで増加した後にＡ０まで減少することで、速度Ｖは－Ｖ０からＶ０まで増加する。
次に、露光区間６０２では、時刻ｔ１から時刻ｔ３までの間において加速度Ａが－Ａ０まで減少することで、速度ＶはＶ０からＶｍａｘまで増加した後にＶ０まで減少する。
そして、変速区間６０３では、時刻ｔ３から時刻ｔ４までの間において加速度Ａが－Ａｍａｘまで減少した後に－Ａ０まで増加することで、速度ＶはＶ０から－Ｖ０まで減少する。
【0041】
このとき、露光装置５００では、加速度Ａ及び速度Ｖがそれぞれ０及びＶｍａｘに到達する時刻ｔ２が時刻ｔ１と時刻ｔ３との中間、すなわち（ｔ１＋ｔ３）／２となるように、露光区間６０２を設定している。
そして、この露光区間６０２において基板１０４上の所定のショット領域に露光を行うことで、微動ステージ２０１の走査速度を略一定に保ちながら安定した露光を行うことができる。なお、このとき時刻ｔ２において所定のショット領域の中心を走査露光することになる。
そして、この露光区間６０２において基板１０４上の所定のショット領域に露光を行うことで、微動ステージ２０１の走査速度を略一定に保ちながら安定した露光を行うことができる。なお、このとき時刻ｔ２において所定のショット領域の中心を走査露光することになる。
【0042】
このように、露光装置５００では、変速しながら露光を行うことで、変速区間６０１、露光区間６０２及び変速区間６０３を短縮することができる。
これにより、基板１０４の一枚当たりの処理時間を短縮することができる。
これにより、基板１０４の一枚当たりの処理時間を短縮することができる。
【0043】
図６（ｂ）は、露光装置５００における電磁石アクチュエータ２１３及び２１５それぞれの推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐ並びに電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐを示している。
なおここでは、電磁石アクチュエータ２１３の推力Ｆ１は微動ステージ２０１を＋Ｙ方向に駆動させるために正の値で示す一方で、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は微動ステージ２０１を－Ｙ方向に駆動させるために負の値で示すことに注意されたい。
なおここでは、電磁石アクチュエータ２１３の推力Ｆ１は微動ステージ２０１を＋Ｙ方向に駆動させるために正の値で示す一方で、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は微動ステージ２０１を－Ｙ方向に駆動させるために負の値で示すことに注意されたい。
【0044】
図６（ｂ）に示されているように、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐ（合力Ｆの時間依存性）は、微動ステージ２０１の加速度プロファイルＡｐ（加速度Ａの時間依存性）に基づいて出力されることになる。
すなわち、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐは、微動ステージ２０１の加速度Ａが±Ａｍａｘになるときに合力Ｆが±Ｆｍａｘになるように、加速度プロファイルＡｐと同じ周期且つ位相で変化する。
そして、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５それぞれの推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐは、それぞれの和が電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐになるように、すなわち合力プロファイルＦｐから分配される。
すなわち、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐは、微動ステージ２０１の加速度Ａが±Ａｍａｘになるときに合力Ｆが±Ｆｍａｘになるように、加速度プロファイルＡｐと同じ周期且つ位相で変化する。
そして、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５それぞれの推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐは、それぞれの和が電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐになるように、すなわち合力プロファイルＦｐから分配される。
【0045】
このとき、合力プロファイルＦｐからそれぞれの推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐへの分配の方法としては、従来、合力Ｆの正負に従って分配を行う方法が採られる。
すなわち、図６（ｂ）に示されているように、微動ステージ２０１を＋Ｙ方向に駆動させるように合力Ｆが正である、時刻ｔ２より前の区間では、電磁石アクチュエータ２１３に吸引力である推力Ｆ１を生じさせる。
一方、微動ステージ２０１を－Ｙ方向に駆動させるように合力Ｆが負である、時刻ｔ２より後の区間では、電磁石アクチュエータ２１５に吸引力である推力Ｆ２を生じさせる。
このように、微動ステージ２０１の加速度Ａの符号に応じて、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の一方のみに推力を生じさせるように、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５は制御される。
すなわち、図６（ｂ）に示されているように、微動ステージ２０１を＋Ｙ方向に駆動させるように合力Ｆが正である、時刻ｔ２より前の区間では、電磁石アクチュエータ２１３に吸引力である推力Ｆ１を生じさせる。
一方、微動ステージ２０１を－Ｙ方向に駆動させるように合力Ｆが負である、時刻ｔ２より後の区間では、電磁石アクチュエータ２１５に吸引力である推力Ｆ２を生じさせる。
このように、微動ステージ２０１の加速度Ａの符号に応じて、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の一方のみに推力を生じさせるように、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５は制御される。
【0046】
このため、図６（ｂ）に示されているように、露光区間６０２において時刻ｔ１ではＦ０であった電磁石アクチュエータ２１３の推力Ｆ１は減少し始めた後、時刻ｔ２において０に到達し、時刻ｔ２以降においては０のまま維持される。
一方、露光区間６０２において時刻ｔ１では０であった電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は、時刻ｔ２から減少し始め、時刻ｔ３において－Ｆ０に到達する。
一方、露光区間６０２において時刻ｔ１では０であった電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は、時刻ｔ２から減少し始め、時刻ｔ３において－Ｆ０に到達する。
【0047】
そして、図６（ｂ）に示されているように、推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐの和が合力プロファイルＦｐになるため、電磁石アクチュエータ２１３の推力Ｆ１は、時刻ｔ２において急峻に変化する。
換言すると、電磁石アクチュエータ２１３の推力プロファイルＦ１ｐ（推力Ｆ１の時間依存性）は、時刻ｔ２において微分不連続になる。
同様に、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２も時刻ｔ２において急峻に変化する。換言すると、電磁石アクチュエータ２１５の推力プロファイルＦ２ｐ（推力Ｆ２の時間依存性）も、時刻ｔ２において微分不連続になる。
さらに換言すると、露光装置５００では、露光区間６０２における推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐはそれぞれ、推力Ｆ１及びＦ２が０になる時刻ｔ２において時間に関して微分可能ではない関数から生成される。
換言すると、電磁石アクチュエータ２１３の推力プロファイルＦ１ｐ（推力Ｆ１の時間依存性）は、時刻ｔ２において微分不連続になる。
同様に、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２も時刻ｔ２において急峻に変化する。換言すると、電磁石アクチュエータ２１５の推力プロファイルＦ２ｐ（推力Ｆ２の時間依存性）も、時刻ｔ２において微分不連続になる。
さらに換言すると、露光装置５００では、露光区間６０２における推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐはそれぞれ、推力Ｆ１及びＦ２が０になる時刻ｔ２において時間に関して微分可能ではない関数から生成される。
【0048】
すなわち、露光装置５００における微動ステージ２０１の加速度プロファイルＡｐのように加速度Ａが連続的に変化する場合、加速度Ａが正から負に瞬間的に切り替わる変曲点ｔ２が露光区間６０２内に存在する。
そして、変曲点ｔ２において、電磁石アクチュエータ２１３の推力Ｆ１が微分不連続に０に到達すると同時に、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２も微分不連続に０から変化し始める。
そして、変曲点ｔ２において、電磁石アクチュエータ２１３の推力Ｆ１が微分不連続に０に到達すると同時に、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２も微分不連続に０から変化し始める。
【0049】
そのため、微動ステージ２０１への推力の印加は、変曲点ｔ２において電磁石アクチュエータ２１３から電磁石アクチュエータ２１５へ瞬間的に切り替わるため、微動ステージ２０１において制御偏差が生じる可能性がある。
すなわち、露光装置５００では、露光を行っている露光区間６０２において微動ステージ２０１に制御偏差が生じることで、重ね合わせ精度が低下してしまう。
すなわち、露光装置５００では、露光を行っている露光区間６０２において微動ステージ２０１に制御偏差が生じることで、重ね合わせ精度が低下してしまう。
【0050】
そこで、本実施形態に係る露光装置１００では、以下に示すような制御を行うことで、そのような微動ステージ２０１における制御偏差の発生を抑制することができる。
【0051】
図２（ａ）は、本実施形態に係る露光装置１００において基板１０４上の所定のショット領域に露光を行う際の微動ステージ２０１のＹ方向における加速度プロファイルＡｐ及び速度プロファイルＶｐを示している。
なお以下では、Ｙ方向における加速度Ａ、速度Ｖ及び推力Ｆをそれぞれ、単に加速度Ａ、速度Ｖ及び推力Ｆと称する。
なお以下では、Ｙ方向における加速度Ａ、速度Ｖ及び推力Ｆをそれぞれ、単に加速度Ａ、速度Ｖ及び推力Ｆと称する。
【0052】
本実施形態に係る露光装置１００では、微動ステージ２０１の加速度Ａを正弦関数に従って周期的に変化するように構成することで、微動ステージ２０１の速度Ｖも周期的に変化する。なお図２（ａ）では、加速度Ａ及び速度Ｖの一周期における時間変化しか示されていないことに注意されたい。
【0053】
具体的には、まず所定の時刻ｔ０において加速度Ａ及び速度ＶがそれぞれＡ０及び－Ｖ０であったとする。
そして、時刻ｔ０から時刻ｔ１までの間の変速区間３０１では、時刻ｔ’において加速度ＡがＡｍａｘまで増加した後、時刻ｔ１においてＡ０まで減少することで、速度Ｖは－Ｖ０からＶ０まで増加する。
次に、時刻ｔ１から時刻ｔ３までの間の露光区間３０２では、時刻ｔ２において加速度Ａが０まで減少した後、時刻ｔ３において－Ａ０まで減少することで、速度ＶはＶ０からＶｍａｘまで増加した後にＶ０まで減少する。
そして、時刻ｔ３から時刻ｔ４までの間の変速区間３０３では、時刻ｔ’’において加速度Ａが－Ａｍａｘまで減少した後、時刻ｔ４において－Ａ０まで増加することで、速度ＶはＶ０から－Ｖ０まで減少する。
そして、時刻ｔ０から時刻ｔ１までの間の変速区間３０１では、時刻ｔ’において加速度ＡがＡｍａｘまで増加した後、時刻ｔ１においてＡ０まで減少することで、速度Ｖは－Ｖ０からＶ０まで増加する。
次に、時刻ｔ１から時刻ｔ３までの間の露光区間３０２では、時刻ｔ２において加速度Ａが０まで減少した後、時刻ｔ３において－Ａ０まで減少することで、速度ＶはＶ０からＶｍａｘまで増加した後にＶ０まで減少する。
そして、時刻ｔ３から時刻ｔ４までの間の変速区間３０３では、時刻ｔ’’において加速度Ａが－Ａｍａｘまで減少した後、時刻ｔ４において－Ａ０まで増加することで、速度ＶはＶ０から－Ｖ０まで減少する。
【0054】
このとき、本実施形態に係る露光装置１００では、加速度Ａ及び速度Ｖがそれぞれ０及びＶｍａｘに到達する時刻ｔ２が時刻ｔ１と時刻ｔ３との中間、すなわち（ｔ１＋ｔ３）／２となるように、露光区間３０２を設定している。
そして本実施形態に係る露光装置１００では、この露光区間３０２において基板１０４上の所定のショット領域に露光を行うことで、微動ステージ２０１の走査速度を略一定に保ちながら安定した露光を行うことができる。なお、このとき時刻ｔ２において所定のショット領域の中心を走査露光することになる。
そして本実施形態に係る露光装置１００では、この露光区間３０２において基板１０４上の所定のショット領域に露光を行うことで、微動ステージ２０１の走査速度を略一定に保ちながら安定した露光を行うことができる。なお、このとき時刻ｔ２において所定のショット領域の中心を走査露光することになる。
【0055】
このように、本実施形態に係る露光装置１００では、変速しながら露光を行うことで、変速区間３０１、露光区間３０２及び変速区間３０３を短縮することができる。
これにより、基板１０４の一枚当たりの処理時間を短縮することができる。
これにより、基板１０４の一枚当たりの処理時間を短縮することができる。
【0056】
そして図２（ａ）に示されているように、本実施形態に係る露光装置１００では、露光区間３０２における加速度プロファイルＡｐは、時間に関する微分可能関数から生成される。
換言すると、本実施形態に係る露光装置１００では、露光区間３０２における加速度プロファイルＡｐは、露光区間３０２における任意の時刻においてｄＡ（ｔ）／ｄｔの値が存在する、時間ｔに依存する関数Ａ（ｔ）から生成される。
換言すると、本実施形態に係る露光装置１００では、露光区間３０２における加速度プロファイルＡｐは、露光区間３０２における任意の時刻においてｄＡ（ｔ）／ｄｔの値が存在する、時間ｔに依存する関数Ａ（ｔ）から生成される。
【0057】
図２（ｂ）は、本実施形態に係る露光装置１００における電磁石アクチュエータ２１３及び２１５それぞれの推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐ並びに電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐを示している。
【0058】
図２（ｂ）に示されているように、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐは、微動ステージ２０１の加速度プロファイルＡｐに基づいて生成されることになる。
すなわち、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐは、微動ステージ２０１の加速度Ａが±Ａｍａｘになるときに合力Ｆが±Ｆｍａｘになるように、加速度プロファイルＡｐと同じ周期及び位相で変化する。
そして、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５それぞれの推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐは、それぞれの和が電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐになるように、すなわち合力プロファイルＦｐから分配される。
換言すると、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５それぞれの推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐは、微動ステージ２０１の加速度プロファイルＡｐから生成された加速指令値に基づいて生成される。
すなわち、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐは、微動ステージ２０１の加速度Ａが±Ａｍａｘになるときに合力Ｆが±Ｆｍａｘになるように、加速度プロファイルＡｐと同じ周期及び位相で変化する。
そして、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５それぞれの推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐは、それぞれの和が電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐになるように、すなわち合力プロファイルＦｐから分配される。
換言すると、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５それぞれの推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐは、微動ステージ２０１の加速度プロファイルＡｐから生成された加速指令値に基づいて生成される。
【0059】
このとき、本実施形態に係る露光装置１００では、露光区間３０２において電磁石アクチュエータ２１３及び２１５それぞれの推力Ｆ１及びＦ２が同時に０にならないように、合力プロファイルＦｐから推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐへの分配を行う。
【0060】
具体的には、例えば時刻ｔ’においてＦｍａｘであった電磁石アクチュエータ２１３（第１のアクチュエータ）の推力Ｆ１（第１の推力）は、露光区間３０２が始まる時刻ｔ１においてＦ０となった後、時刻ｔ３において０に到達するように単調減少する。
一方、０であった電磁石アクチュエータ２１５（第２のアクチュエータ）の推力Ｆ２（第２の推力）は、時刻ｔ１から減少し始め、露光区間３０２が終わる時刻ｔ３において－Ｆ０となった後、時刻ｔ’’において－Ｆｍａｘに到達するように単調減少する。
これにより、時刻ｔ２において微動ステージ２０１へ推力を印加するアクチュエータが電磁石アクチュエータ２１３から電磁石アクチュエータ２１５へ瞬間的に切り替わらないように、微動ステージ２０１へ印加される推力を制御することができる。
一方、０であった電磁石アクチュエータ２１５（第２のアクチュエータ）の推力Ｆ２（第２の推力）は、時刻ｔ１から減少し始め、露光区間３０２が終わる時刻ｔ３において－Ｆ０となった後、時刻ｔ’’において－Ｆｍａｘに到達するように単調減少する。
これにより、時刻ｔ２において微動ステージ２０１へ推力を印加するアクチュエータが電磁石アクチュエータ２１３から電磁石アクチュエータ２１５へ瞬間的に切り替わらないように、微動ステージ２０１へ印加される推力を制御することができる。
【0061】
すなわち、本実施形態に係る露光装置１００では、露光区間３０２において電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の一方の推力が０に到達する又は０から変化し始める際に、他方の推力を発生させておく。
換言すると、本実施形態に係る露光装置１００では、露光区間３０２のうち少なくとも一部の区間において、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の推力Ｆ１及びＦ２が共に０ではない。
さらに換言すると、本実施形態に係る露光装置１００では、露光区間３０２のうち少なくとも一部の区間において、微動ステージ２０１に対して電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力が印加されている。
換言すると、本実施形態に係る露光装置１００では、露光区間３０２のうち少なくとも一部の区間において、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の推力Ｆ１及びＦ２が共に０ではない。
さらに換言すると、本実施形態に係る露光装置１００では、露光区間３０２のうち少なくとも一部の区間において、微動ステージ２０１に対して電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力が印加されている。
【0062】
すなわち、基板１０４上の一部のショット領域の各々を露光する際に、微動ステージ２０１のＹ方向における加速度Ａが正の値をとる区間から所定の時刻において０になった後、負の値をとる区間に移行するように加速度プロファイルＡｐが生成される。
同様に、基板１０４上の残りのショット領域の各々を露光する際に、微動ステージ２０１のＹ方向における加速度Ａが負の値をとる区間から所定の時刻において０になった後、正の値をとる区間に移行するように加速度プロファイルＡｐが生成される。
そして、本実施形態に係る露光装置１００では、制御部１１１が、生成された加速度プロファイルＡｐに従って微動ステージ２０１を走査移動させるように駆動部を制御する。
同様に、基板１０４上の残りのショット領域の各々を露光する際に、微動ステージ２０１のＹ方向における加速度Ａが負の値をとる区間から所定の時刻において０になった後、正の値をとる区間に移行するように加速度プロファイルＡｐが生成される。
そして、本実施形態に係る露光装置１００では、制御部１１１が、生成された加速度プロファイルＡｐに従って微動ステージ２０１を走査移動させるように駆動部を制御する。
【0063】
このとき、本実施形態に係る露光装置１００では、基板１０４上の複数のショット領域を露光する際の各走査移動の少なくとも一部の時間において、複数のアクチュエータそれぞれが微動ステージ２０１に推力を発生させるように駆動部が制御される。
特に、基板１０４上の複数のショット領域を露光する際の各走査移動における加速度Ａが０になる所定の時刻において、複数のアクチュエータそれぞれが微動ステージ２０１に推力を発生させるように駆動部が制御される。
これにより、本実施形態に係る露光装置１００では、露光を行っている露光区間３０２において微動ステージ２０１における制御偏差の発生を抑制することができ、重ね合わせ精度の低下を抑制することができる。
特に、基板１０４上の複数のショット領域を露光する際の各走査移動における加速度Ａが０になる所定の時刻において、複数のアクチュエータそれぞれが微動ステージ２０１に推力を発生させるように駆動部が制御される。
これにより、本実施形態に係る露光装置１００では、露光を行っている露光区間３０２において微動ステージ２０１における制御偏差の発生を抑制することができ、重ね合わせ精度の低下を抑制することができる。
【0064】
また、本実施形態に係る露光装置１００では、図２（ｂ）に示されているように、電磁石アクチュエータ２１３の推力Ｆ１は、時刻ｔ３において０に到達する際に微分連続で変化させることが好ましい。
同様に、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は、時刻ｔ１において０から微分連続で変化させることが好ましい。
換言すると、露光区間３０２における推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐはそれぞれ、時間に関する微分可能関数から生成されることが好ましい。
これにより、露光を行っている露光区間３０２において微動ステージ２０１における制御偏差の発生をさらに抑制することができ、重ね合わせ精度の低下をさらに抑制することができる。
同様に、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は、時刻ｔ１において０から微分連続で変化させることが好ましい。
換言すると、露光区間３０２における推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐはそれぞれ、時間に関する微分可能関数から生成されることが好ましい。
これにより、露光を行っている露光区間３０２において微動ステージ２０１における制御偏差の発生をさらに抑制することができ、重ね合わせ精度の低下をさらに抑制することができる。
【0065】
また具体的には、例えば露光区間３０２における電磁石アクチュエータ２１３及び２１５それぞれの推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐは、以下の式（１）及び（２）のように表すことができる。
【数1】
【数2】
【0066】
図３は、本実施形態に係る露光装置１００における基板１０４の露光処理を示したフローチャートである。
【0067】
図３に示されているように、基板１０４の露光処理が開始されると（ステップＳ１）、基板１０４が基板ステージ１０５上に搬送される（ステップＳ２）。
次に、制御部１１１によって、基板１０４のアライメントが行われ（ステップＳ３）、基板１０４上において露光されるショット領域のレイアウト情報から基板ステージ１０５及びマスクステージ１０３の駆動プロファイルが算出される（ステップＳ４）。
次に、制御部１１１によって、基板１０４のアライメントが行われ（ステップＳ３）、基板１０４上において露光されるショット領域のレイアウト情報から基板ステージ１０５及びマスクステージ１０３の駆動プロファイルが算出される（ステップＳ４）。
【0068】
そして、ステップＳ４において算出された基板ステージ１０５及びマスクステージ１０３の駆動プロファイルから、各ステージに設けられている電磁石アクチュエータの推力指令値を算出し（ステップＳ５）、出力タイミングを設定する（ステップＳ６）。
その後、ステップＳ５及びＳ６によって算出された電磁石アクチュエータの推力指令値及び出力タイミングに基づいて、基板ステージ１０５及びマスクステージ１０３の走査駆動が行われる。この走査駆動とステップ駆動とを繰り返すことによって、基板１０４の各ショット領域に対して露光が行われる（ステップＳ７）。
そして、基板１０４の全てのショット領域に対して露光が完了すると、基板１０４が基板ステージ１０５上から回収され（ステップＳ８）、基板１０４の露光処理が終了する（ステップＳ９）。
その後、ステップＳ５及びＳ６によって算出された電磁石アクチュエータの推力指令値及び出力タイミングに基づいて、基板ステージ１０５及びマスクステージ１０３の走査駆動が行われる。この走査駆動とステップ駆動とを繰り返すことによって、基板１０４の各ショット領域に対して露光が行われる（ステップＳ７）。
そして、基板１０４の全てのショット領域に対して露光が完了すると、基板１０４が基板ステージ１０５上から回収され（ステップＳ８）、基板１０４の露光処理が終了する（ステップＳ９）。
【0069】
以上のように、本実施形態に係る露光装置１００では、基板１０４上の複数のショット領域を露光する際の各走査移動の少なくとも一部の時間において、複数のアクチュエータそれぞれが微動ステージ２０１に推力を発生させるように駆動部が制御される。
これにより、露光区間３０２の時刻ｔ２における合力Ｆの符号反転に伴う電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の一方から他方への切り替えは行われない。
そのため、露光を行っている露光区間３０２において微動ステージ２０１における制御偏差の発生を抑制することができ、重ね合わせ精度の低下を抑制することができる。
これにより、露光区間３０２の時刻ｔ２における合力Ｆの符号反転に伴う電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の一方から他方への切り替えは行われない。
そのため、露光を行っている露光区間３０２において微動ステージ２０１における制御偏差の発生を抑制することができ、重ね合わせ精度の低下を抑制することができる。
【0070】
なお本実施形態に係る露光装置１００では、露光区間３０２における電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐを、式（１）及び（２）に示される関数から生成しているが、上記の条件が満たされていればこれに限られない。
また、上記の制御方法は、電磁石アクチュエータ２１４及び２１６による微動ステージ２０１のＸ方向における駆動やマスクステージ１０３の駆動においても同様に適用することができる。
また、上記の制御方法は、電磁石アクチュエータ２１４及び２１６による微動ステージ２０１のＸ方向における駆動やマスクステージ１０３の駆動においても同様に適用することができる。
【0071】
［第二実施形態］
図４は、第二実施形態に係る露光装置における電磁石アクチュエータ２１３及び２１５それぞれの推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐ並びに電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐを示している。
なお、本実施形態に係る露光装置は、第一実施形態に係る露光装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して説明を省略する。
図４は、第二実施形態に係る露光装置における電磁石アクチュエータ２１３及び２１５それぞれの推力プロファイルＦ１ｐ及びＦ２ｐ並びに電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐを示している。
なお、本実施形態に係る露光装置は、第一実施形態に係る露光装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して説明を省略する。
【0072】
また、本実施形態に係る露光装置において基板１０４上の所定のショット領域に露光を行う際の微動ステージ２０１のＹ方向における加速度プロファイルＡｐ及び速度プロファイルＶｐは、第一実施形態に係る露光装置１００と同様であるため、説明を省略する。
また、本実施形態に係る露光装置における電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐも、第一実施形態に係る露光装置１００と同様であるため、説明を省略する。
また、本実施形態に係る露光装置における電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力プロファイルＦｐも、第一実施形態に係る露光装置１００と同様であるため、説明を省略する。
【0073】
図４に示すように、本実施形態に係る露光装置では、第一実施形態に係る露光装置１００と同様に、露光区間３０２において電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の一方の推力が０に到達する又は０から変化し始める際に、他方の推力を発生させておく。
換言すると、本実施形態に係る露光装置では、露光区間３０２のうち少なくとも一部の区間において、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の推力Ｆ１及びＦ２が共に０ではない。
さらに換言すると、本実施形態に係る露光装置では、露光区間３０２のうち少なくとも一部の区間において、微動ステージ２０１に対して電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力が印加されている。
換言すると、本実施形態に係る露光装置では、露光区間３０２のうち少なくとも一部の区間において、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の推力Ｆ１及びＦ２が共に０ではない。
さらに換言すると、本実施形態に係る露光装置では、露光区間３０２のうち少なくとも一部の区間において、微動ステージ２０１に対して電磁石アクチュエータ２１３及び２１５の合力が印加されている。
【0074】
しかしながら、本実施形態に係る露光装置では、第一実施形態に係る露光装置１００とは異なり、電磁石アクチュエータ２１３の推力Ｆ１は、露光区間３０２より後の時刻において０に到達する。
一方、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は、露光区間３０２より前の時刻から減少し始める。
一方、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は、露光区間３０２より前の時刻から減少し始める。
【0075】
具体的には、時刻ｔ’においてＦｍａｘであった電磁石アクチュエータ２１３の推力Ｆ１は、露光区間３０２が始まる時刻ｔ１においてＦ０となった後、露光区間３０２より後の時刻ｔ＋において０に到達するように単調減少する。
一方、０であった電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は、露光区間３０２より前の時刻ｔ－から減少し始め、露光区間３０２が始まる時刻ｔ１において－Ｆ０’となった後、時刻ｔ’’において－Ｆｍａｘに到達するように単調減少する。
一方、０であった電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は、露光区間３０２より前の時刻ｔ－から減少し始め、露光区間３０２が始まる時刻ｔ１において－Ｆ０’となった後、時刻ｔ’’において－Ｆｍａｘに到達するように単調減少する。
【0076】
このように、本実施形態に係る露光装置では、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５それぞれの推力Ｆ１及びＦ２が０に到達する又は０から変化し始める時刻を露光区間３０２以外の変速区間３０１又は３０３内に設定する。
換言すると、本実施形態に係る露光装置では、基板１０４上の複数のショット領域を露光する際の各走査移動のいずれの時刻においても複数のアクチュエータそれぞれが微動ステージ２０１に推力を発生させるように駆動部が制御される。
これにより、露光区間３０２において、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５を、推力が０に到達する又は０から変化し始めるように、オンにするか又はオフにする際に発生する可能性がある微動ステージ２０１における制御偏差の発生も抑制することができる。
換言すると、本実施形態に係る露光装置では、基板１０４上の複数のショット領域を露光する際の各走査移動のいずれの時刻においても複数のアクチュエータそれぞれが微動ステージ２０１に推力を発生させるように駆動部が制御される。
これにより、露光区間３０２において、電磁石アクチュエータ２１３及び２１５を、推力が０に到達する又は０から変化し始めるように、オンにするか又はオフにする際に発生する可能性がある微動ステージ２０１における制御偏差の発生も抑制することができる。
【0077】
また、本実施形態に係る露光装置においても、図４に示されているように、電磁石アクチュエータ２１３の推力Ｆ１は、時刻ｔ＋において０に到達する際に微分連続で変化させることが好ましい。換言すると、電磁石アクチュエータ２１３の推力Ｆ１は、時刻ｔ＋において時間ｔに関して微分可能な関数から生成されることが好ましい。
同様に、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は、時刻ｔ－において０から微分連続で変化させることが好ましい。換言すると、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は、時刻ｔ－において時間ｔに関して微分可能な関数から生成されることが好ましい。
同様に、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は、時刻ｔ－において０から微分連続で変化させることが好ましい。換言すると、電磁石アクチュエータ２１５の推力Ｆ２は、時刻ｔ－において時間ｔに関して微分可能な関数から生成されることが好ましい。
【0078】
以上のように、本実施形態に係る露光装置では、基板１０４上の複数のショット領域を露光する際の各走査移動のいずれの時刻においても複数のアクチュエータそれぞれが微動ステージ２０１に推力を発生させるように駆動部が制御される。
これにより、露光を行っている露光区間３０２において微動ステージ２０１における制御偏差の発生をさらに抑制することができ、重ね合わせ精度の低下をさらに抑制することができる。
これにより、露光を行っている露光区間３０２において微動ステージ２０１における制御偏差の発生をさらに抑制することができ、重ね合わせ精度の低下をさらに抑制することができる。
【0079】
［物品の製造方法］
本実施形態に係る露光装置を用いた物品の製造方法は、例えば、半導体素子、磁気記憶媒体や液晶表示素子等のデバイスを製造するのに好適である。
本実施形態に係る物品の製造方法は、本実施形態に係る露光装置を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する工程と、露光された基板を現像する工程とを含む。
また、本実施形態に係る物品の製造方法は、現像された基板を加工するための他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含みうる。
本実施形態に係る物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも一つにおいて有利である。
本実施形態に係る露光装置を用いた物品の製造方法は、例えば、半導体素子、磁気記憶媒体や液晶表示素子等のデバイスを製造するのに好適である。
本実施形態に係る物品の製造方法は、本実施形態に係る露光装置を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する工程と、露光された基板を現像する工程とを含む。
また、本実施形態に係る物品の製造方法は、現像された基板を加工するための他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含みうる。
本実施形態に係る物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも一つにおいて有利である。
【符号の説明】
【0080】
１００ 露光装置
１０２ マスク（原版）
１０４ 基板
１１１ 制御部
２０１ 微動ステージ（基板ステージ）
２１３ 電磁石アクチュエータ（アクチュエータ）
２１５ 電磁石アクチュエータ（アクチュエータ）
１０２ マスク（原版）
１０４ 基板
１１１ 制御部
２０１ 微動ステージ（基板ステージ）
２１３ 電磁石アクチュエータ（アクチュエータ）
２１５ 電磁石アクチュエータ（アクチュエータ）
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】