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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B1)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-08-13
(45)【発行日】2024-08-21
(54)【発明の名称】反射防止フィルム及び画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 1/11 20150101AFI20240814BHJP
G02B 1/14 20150101ALI20240814BHJP
G02B 1/18 20150101ALI20240814BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20240814BHJP
【ＦＩ】
G02B1/11
G02B1/14
G02B1/18
G02F1/1335
【請求項の数】
6
(21)【出願番号】P 2023113507
(22)【出願日】2023-07-11
【審査請求日】2024-04-23
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000003964
【氏名又は名称】日東電工株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000154
【氏名又は名称】弁理士法人はるか国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】田中 一生
(72)【発明者】
【氏名】横井 遼太郎
(72)【発明者】
【氏名】大井 達也
【審査官】池田 博一
(56)【参考文献】
【文献】特開２００４－０２９１２６（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０２１／１０６７８８（ＷＯ，Ａ１）
【文献】韓国公開特許第１０－２０１４－００５２５１０（ＫＲ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ １／１１
Ｇ０２Ｂ １／１４
Ｇ０２Ｂ １／１８
Ｇ０２Ｆ １／１３３５
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
透明フィルム基材、ハードコート層、プライマー層及び反射防止層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記反射防止層は、屈折率の異なる複数の薄膜の積層体であり、
前記プライマー層は、酸化インジウムスズを主成分とする薄膜であり、かつ酸化インジウムと酸化スズの合計に対する酸化スズの量が２２重量％以上であり、
前記プライマー層の厚みが、０．５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、
前記反射防止層は、屈折率１．９以上の高屈折率層を有し、
前記高屈折率層の材料が、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、又はアンチモンドープ酸化スズである、反射防止フィルム。
【請求項2】
前記プライマー層は、酸化インジウムと酸化スズの合計に対する酸化スズの量が６０重量％以下である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項3】
前記反射防止層の前記プライマー層側とは反対側に配置された防汚層を更に備える、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項4】
前記ハードコート層は、個数平均一次粒子径１．０μｍ未満の粒子を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項5】
前記透明フィルム基材の前記ハードコート層側とは反対側に配置された粘着剤層を更に備える、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項6】
画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置された、請求項１に記載の反射防止フィルムとを備える、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、反射防止フィルム及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の画像表示装置の視認側には、外光の反射による画質低下の防止、コントラスト向上等を目的として、反射防止フィルムが配置されている。反射防止フィルムは、透明フィルム基材上に、屈折率の異なる複数の薄膜の積層体からなる反射防止層を備える。
【0003】
例えば、特許文献１では、ハードコート層上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を含むプライマー層を設け、その上に複数の薄膜からなる反射防止層を形成した反射防止フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２００５－２６６６６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
プライマー層として一般的なＩＴＯ膜が設けられた反射防止フィルムを、硫酸等の酸と接触させると、層間剥離（例えば、反射防止層とハードコート層との間の層間剥離）が発生しやすくなることが、本発明者らの検討により判明した。このため、プライマー層として一般的なＩＴＯ膜が設けられた反射防止フィルムは、耐酸性（酸による腐食に耐える性質）が必要とされる用途に適用することが困難となる可能性がある。なお、耐酸性が必要とされる用途としては、バッテリー液に硫酸が使用されている自動車向け用途（車載用途）等が挙げられる。
【0006】
上記に鑑み、本発明は、耐酸性に優れる反射防止フィルム、及び当該反射防止フィルムを用いた画像表示装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
＜本発明の態様＞
本発明には、以下の態様が含まれる。
本発明には、以下の態様が含まれる。
【0008】
［１］透明フィルム基材、ハードコート層、プライマー層及び反射防止層をこの順に有する反射防止フィルムであって、
前記反射防止層は、屈折率の異なる複数の薄膜の積層体であり、
前記プライマー層は、酸化インジウムスズを主成分とする薄膜であり、かつ酸化インジウムと酸化スズの合計に対する酸化スズの量が１５重量％以上である、反射防止フィルム。
前記反射防止層は、屈折率の異なる複数の薄膜の積層体であり、
前記プライマー層は、酸化インジウムスズを主成分とする薄膜であり、かつ酸化インジウムと酸化スズの合計に対する酸化スズの量が１５重量％以上である、反射防止フィルム。
【0009】
［２］前記プライマー層は、酸化インジウムと酸化スズの合計に対する酸化スズの量が６０重量％以下である、前記［１］に記載の反射防止フィルム。
【0010】
［３］前記プライマー層の厚みが、０．５ｎｍ以上２０ｎｍ以下である、前記［１］又は［２］に記載の反射防止フィルム。
【0011】
［４］前記反射防止層の前記プライマー層側とは反対側に配置された防汚層を更に備える、前記［１］～［３］のいずれか一つに記載の反射防止フィルム。
【0012】
［５］前記ハードコート層は、個数平均一次粒子径１．０μｍ未満の粒子を含む、前記［１］～［４］のいずれか一つに記載の反射防止フィルム。
【0013】
［６］前記透明フィルム基材の前記ハードコート層側とは反対側に配置された粘着剤層を更に備える、前記［１］～［５］のいずれか一つに記載の反射防止フィルム。
【0014】
［７］画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置された、前記［１］～［６］のいずれか一つに記載の反射防止フィルムとを備える、画像表示装置。
【発明の効果】
【0015】
本発明によれば、耐酸性に優れる反射防止フィルム、及び当該反射防止フィルムを用いた画像表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【発明を実施するための形態】
【0017】
以下、本発明の好適な実施形態について詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、本明細書中に記載された学術文献及び特許文献の全てが、本明細書中において参考として援用される。
【0018】
まず、本明細書中で使用される用語について説明する。「屈折率」は、温度２３℃の雰囲気下における波長５５０ｎｍの光に対する屈折率である。層状物（より具体的には、透明フィルム基材、ハードコート層、プライマー層、反射防止層、防汚層、粘着剤層等）の「主面」とは、層状物の厚み方向に直交する面をさす。反射防止フィルムを構成する各層の厚み（膜厚）の数値は、何ら規定していなければ、層を厚み方向に切断した断面の画像から無作為に測定箇所を１０箇所選択し、選択した１０箇所の測定箇所の厚みを測定して得られた１０個の測定値の算術平均値である。
【0019】
薄膜（層）の「主成分」は、何ら規定していなければ、重量基準で、薄膜中に最も多く含まれる成分を意味する。「固形分」とは組成物中の不揮発成分であり、例えば、溶媒以外の成分である。
【0020】
粒子の個数平均一次粒子径は、何ら規定していなければ、走査型電子顕微鏡及び画像処理ソフトウェア（例えば、アメリカ国立衛生研究所製「ＩｍａｇｅＪ」）を用いて測定した、１００個の一次粒子の円相当径（ヘイウッド径：一次粒子の投影面積と同じ面積を有する円の直径）の個数平均値である。
【0021】
以下、化合物名の後に「系」を付けて、化合物及びその誘導体を包括的に総称する場合がある。また、化合物名の後に「系」を付けて重合体名を表す場合には、何ら規定していなければ、重合体の繰り返し単位が化合物又はその誘導体に由来することを意味する。本明細書に例示の成分や官能基等は、特記しない限り、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【0022】
以下の説明において参照する図面は、理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の大きさ、個数、形状等は、図面作成の都合上から実際とは異なる場合がある。また、説明の都合上、後に説明する図面において、先に説明した図面と同一構成部分については、同一符号を付して、その説明を省略する場合がある。
【0023】
＜第１実施形態：反射防止フィルム＞
本発明の第１実施形態に係る反射防止フィルムは、透明フィルム基材、ハードコート層、プライマー層及び反射防止層をこの順に有する反射防止フィルム（積層体）である。反射防止層は、屈折率の異なる複数の薄膜の積層体である。プライマー層は、酸化インジウムスズを主成分とする薄膜であり、かつ酸化インジウムと酸化スズの合計に対する酸化スズの量が１５重量％以上である。
本発明の第１実施形態に係る反射防止フィルムは、透明フィルム基材、ハードコート層、プライマー層及び反射防止層をこの順に有する反射防止フィルム（積層体）である。反射防止層は、屈折率の異なる複数の薄膜の積層体である。プライマー層は、酸化インジウムスズを主成分とする薄膜であり、かつ酸化インジウムと酸化スズの合計に対する酸化スズの量が１５重量％以上である。
【0024】
以下、プライマー層中の酸化インジウムと酸化スズの合計（１００重量％）に対する酸化スズの量（単位：重量％）を、単に「プライマー層中の酸化スズの量」又は「酸化スズの量」と記載することがある。
【0025】
第１実施形態に係る反射防止フィルムは、上述した構成を備えるため、耐酸性に優れる。その理由は、以下のように推測される。
【0026】
第１実施形態に係る反射防止フィルムでは、ハードコート層と反射防止層との密着性を高めるためのプライマー層として、酸化インジウムスズを主成分とする薄膜が設けられている。また、第１実施形態に係る反射防止フィルムのプライマー層では、酸化スズの量が１５重量％以上である。このため、第１実施形態に係る反射防止フィルムでは、プライマー層が、酸に対して腐食しにくくなる傾向がある。よって、第１実施形態に係る反射防止フィルムは、酸と接触しても、ハードコート層と反射防止層との密着性が確保されるため、耐酸性に優れる。
【0027】
また、第１実施形態に係る反射防止フィルムは、上述した構成を備えるため、紫外線が照射された際の層間の密着性を確保できる。以下、紫外線が照射された際の層間の密着性を確保できる性質を、「耐候性」と記載することがある。
【0028】
第１実施形態において、耐酸性により優れる反射防止フィルムを得るためには、プライマー層中の酸化スズの量が、１８重量％以上であることが好ましく、２０重量％以上であることがより好ましく、２２重量％以上であることが更に好ましく、２４重量％以上であることが更により好ましく、２５重量％以上、３０重量％以上、３５重量％以上又は４０重量％以上であってもよい。
【0029】
第１実施形態において、透明性に優れる反射防止フィルムを得るためには、プライマー層中の酸化スズの量が、６０重量％以下であることが好ましく、５５重量％以下であることがより好ましく、５０重量％以下であることが更に好ましく、４５重量％以下であってもよい。
【0030】
以下、第１実施形態に係る反射防止フィルムの構成について、図面を参照しながら説明する。図１は、第１実施形態に係る反射防止フィルムの一例を示す断面図である。図１に示す反射防止フィルム１０は、透明フィルム基材１１、ハードコート層１２、プライマー層１３及び反射防止層１４をこの順に有する。プライマー層１３は、ハードコート層１２及び反射防止層１４の両方と接している。プライマー層１３は、酸化インジウムスズを主成分とする薄膜であり、かつ酸化インジウムと酸化スズの合計に対する酸化スズの量が１５重量％以上である。
【0031】
また、反射防止フィルム１０は、反射防止層１４のプライマー層１３側とは反対側に配置された防汚層１９を更に備える。つまり、反射防止フィルム１０は、透明フィルム基材１１、ハードコート層１２、プライマー層１３、反射防止層１４及び防汚層１９をこの順に有する。
【0032】
反射防止層１４は、プライマー層１３側から、高屈折率層１５、低屈折率層１６、高屈折率層１７及び低屈折率層１８の４層をこの順に有する。高屈折率層及び低屈折率層の詳細については、後述する。なお、反射防止フィルムの反射防止層は、反射防止層１４のような４層構成に限定されず、２層構成、３層構成、５層構成、又は６層以上の積層構成であってもよい。反射防止フィルムの反射防止層は、好ましくは、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層との交互積層体である。空気界面での反射を低減するためには、反射防止フィルムの反射防止層は、最外層（ハードコート層１２から最も離れた層）が低屈折率層であることが好ましい。
【0033】
第１実施形態に係る反射防止フィルムは、図１に示す反射防止フィルム１０とは異なる層構成であってもよい。例えば、第１実施形態に係る反射防止フィルムは、図２に示すように、透明フィルム基材１１のハードコート層１２側とは反対側に配置された粘着剤層２１を更に備える、反射防止フィルム２０であってもよい。
【0034】
粘着剤層２１を構成する粘着剤は、特に限定されず、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル－塩化ビニル共重合体、変性ポリオレフィン、エポキシ系樹脂、フッ素系樹脂、天然ゴム、合成ゴム等のポリマーをベースポリマーとする透明な粘着剤を、適宜に選択して用いることができる。粘着剤層２１の厚みは、特に限定されないが、薄層性及び接着性を両立させる観点から、５μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。
【0035】
粘着剤層２１の透明フィルム基材１１側とは反対側の主面には、はく離ライナー（不図示）が仮着されていてもよい。はく離ライナーは、例えば、反射防止フィルム２０を後述する画像表示パネル１０１（図３参照）と貼り合わせるまでの間、粘着剤層２１の表面を保護する。はく離ライナーの構成材料としては、アクリル、ポリオレフィン、環状ポリオレフィン、ポリエステル等から形成されたプラスチックフィルムが好適に用いられる。はく離ライナーの厚みは、例えば、５μｍ以上２００μｍ以下である。はく離ライナーの表面には、離型処理が施されていることが好ましい。離型処理に使用される離型剤の材料としては、シリコーン系材料、フッ素系材料、長鎖アルキル系材料、脂肪酸アミド系材料等が挙げられる。
【0036】
以上、図面を参照しながら第１実施形態に係る反射防止フィルムの構成について説明したが、本発明に係る反射防止フィルムは、上述した構成に限定されない。
【0037】
例えば、本発明に係る反射防止フィルムは、防汚層を備えていない反射防止フィルムであってもよい。また、本発明に係る反射防止フィルムは、上述した構成に含まれる層（透明フィルム基材、ハードコート層、プライマー層、反射防止層及び防汚層）とは異なる光学機能層を備えていてもよい。
【0038】
次に、第１実施形態に係る反射防止フィルムの要素について説明する。
【0039】
［透明フィルム基材］
透明フィルム基材は、例えば可撓性を有する透明な樹脂フィルムである。透明フィルム基材を構成する材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアリレート樹脂、及びポリビニルアルコール樹脂が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、及びポリエチレンナフタレートが挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が挙げられる。セルロース樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が挙げられる。これらの材料は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。透明フィルム基材の材料としては、透明性及び強度の観点から、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、及びセルロース樹脂からなる群より選択される一種が好ましく、ＰＥＴ、ＣＯＰ、及びＴＡＣからなる群より選択される一種がより好ましく、ＴＡＣが更に好ましい。つまり、透明フィルム基材としては、ポリエステル樹脂フィルム、ポリオレフィン樹脂フィルム、及びセルロース樹脂フィルムからなる群より選択される一種のフィルムが好ましく、ＰＥＴフィルム、ＣＯＰフィルム、及びＴＡＣフィルムからなる群より選択される一種のフィルムがより好ましく、ＴＡＣフィルムが更に好ましい。
透明フィルム基材は、例えば可撓性を有する透明な樹脂フィルムである。透明フィルム基材を構成する材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアリレート樹脂、及びポリビニルアルコール樹脂が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、及びポリエチレンナフタレートが挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が挙げられる。セルロース樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が挙げられる。これらの材料は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。透明フィルム基材の材料としては、透明性及び強度の観点から、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、及びセルロース樹脂からなる群より選択される一種が好ましく、ＰＥＴ、ＣＯＰ、及びＴＡＣからなる群より選択される一種がより好ましく、ＴＡＣが更に好ましい。つまり、透明フィルム基材としては、ポリエステル樹脂フィルム、ポリオレフィン樹脂フィルム、及びセルロース樹脂フィルムからなる群より選択される一種のフィルムが好ましく、ＰＥＴフィルム、ＣＯＰフィルム、及びＴＡＣフィルムからなる群より選択される一種のフィルムがより好ましく、ＴＡＣフィルムが更に好ましい。
【0040】
透明フィルム基材の厚みは、強度の観点から、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上、更に好ましくは２０μｍ以上である。透明フィルム基材の厚みは、取扱い性の観点から、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。
【0041】
透明フィルム基材の一方の主面又は両主面は、表面改質処理されていてもよい。表面改質処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、及びカップリング剤処理が挙げられる。
【0042】
透明フィルム基材の全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ ７３７５－２００８）は、反射防止フィルムの透明性を向上させる観点から、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上、更に好ましくは９５％以上１００％以下である。
【0043】
［ハードコート層］
ハードコート層は、反射防止フィルムの硬度や弾性率等の機械的特性を高める層である。ハードコート層は、例えば、硬化性樹脂組成物（ハードコート層形成用組成物）の硬化物からなる。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、アミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、及びメラミン樹脂が挙げられる。これらの硬化性樹脂は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。ハードコート層の硬度を高める観点から、硬化性樹脂としては、アクリル樹脂及びウレタンアクリレート系樹脂からなる群より選択される一種以上が好ましく、ウレタンアクリレート系樹脂がより好ましい。
ハードコート層は、反射防止フィルムの硬度や弾性率等の機械的特性を高める層である。ハードコート層は、例えば、硬化性樹脂組成物（ハードコート層形成用組成物）の硬化物からなる。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、アミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、及びメラミン樹脂が挙げられる。これらの硬化性樹脂は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。ハードコート層の硬度を高める観点から、硬化性樹脂としては、アクリル樹脂及びウレタンアクリレート系樹脂からなる群より選択される一種以上が好ましく、ウレタンアクリレート系樹脂がより好ましい。
【0044】
また、硬化性樹脂組成物としては、例えば、紫外線硬化型の樹脂組成物、及び熱硬化型の樹脂組成物が挙げられる。反射防止フィルムの生産性向上の観点から、硬化性樹脂組成物としては、紫外線硬化型の樹脂組成物が好ましい。紫外線硬化型の樹脂組成物には、紫外線硬化型モノマー、紫外線硬化型オリゴマー及び紫外線硬化型ポリマーからなる群より選択される一種以上が含まれる。紫外線硬化型の樹脂組成物の具体例としては、特開２０１６－１７９６８６号公報に記載のハードコート層形成用組成物が挙げられる。
【0045】
また、硬化性樹脂組成物は、微粒子を含有してもよい。硬化性樹脂組成物に微粒子を配合することにより、ハードコート層における、硬さの調整、表面粗さの調整、屈折率の調整及び防眩性の調整が可能となる。微粒子としては、例えば、金属（又は半金属）の酸化物粒子、ガラス粒子、及び有機粒子が挙げられる。金属（又は半金属）の酸化物粒子の材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化カドミウム、及び酸化アンチモンが挙げられる。有機粒子の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル－スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、及びポリカーボネートが挙げられる。
【0046】
また、硬化性樹脂組成物は、上記微粒子として、個数平均一次粒子径が１．０μｍ未満の粒子（以下、「ナノ粒子」と記載することがある）を含んでいてもよい。つまり、ハードコート層は、ナノ粒子を含んでいてもよい。ハードコート層がナノ粒子を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなる場合、ハードコート層の表面に、微細な凹凸が形成され、ハードコート層と、その上に形成される層（例えばプライマー層）との密着性が向上する傾向がある。
【0047】
密着性向上に寄与する微細な凹凸形状を形成する観点から、ナノ粒子の個数平均一次粒子径は、２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることが好ましく、２５ｎｍ以上７０ｎｍ以下であることがより好ましく、３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
【0048】
ナノ粒子の材料としては、無機酸化物が好ましい。無機酸化物としては、酸化シリコン（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化セリウム、酸化マグネシウム等の金属（又は半金属）の酸化物が挙げられる。無機酸化物は、複数種の（半）金属の複合酸化物でもよい。例示の無機酸化物の中でも、密着性向上効果が高いことから、酸化シリコンが好ましい。つまり、ナノ粒子としては、酸化シリコンの粒子（シリカ粒子）が好ましい。ナノ粒子としての無機酸化物粒子の表面には、樹脂との密着性や親和性を高める目的で、アクリル基、エポキシ基等の官能基が導入されていてもよい。
【0049】
ハードコート層におけるナノ粒子の量は、硬化性樹脂１００重量部に対して、５重量部以上であることが好ましく、１０重量部以上、２０重量部以上又は３０重量部以上であってもよい。ナノ粒子の量が５重量部以上であれば、ハードコート層上に形成される層との密着性をより向上させることができる。ハードコート層におけるナノ粒子の量の上限は、硬化性樹脂１００重量部に対して、例えば９０重量部であり、８０重量部であることが好ましく、７０重量部であってもよい。
【0050】
ハードコート層の厚みは、ハードコート層の硬度を高める観点から、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは２μｍ以上である。ハードコート層の厚みは、反射防止フィルムの柔軟性確保の観点から、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは４０μｍ以下、更に好ましくは３５μｍ以下、更により好ましくは３０μｍ以下である。
【0051】
ハードコート層の透明フィルム基材側とは反対側の主面は、表面改質処理されていてもよい。表面改質処理としては、例えば、プラズマ処理、コロナ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、及びカップリング剤処理が挙げられる。ハードコート層の透明フィルム基材側とは反対側に設けられる層（例えば、後述するプライマー層）とハードコート層との密着性を高めるためには、ハードコート層の透明フィルム基材側とは反対側の主面は、プラズマ処理されていることが好ましい。
【0052】
［プライマー層］
プライマー層は、ハードコート層と反射防止層との密着性を高めるための層である。本実施形態では、プライマー層が酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を主成分とする薄膜である。プライマー層がＩＴＯを主成分として含むことにより、ハードコート層と反射防止層との密着性を高めつつ、透明性に優れるプライマー層が得られる。また、プライマー層がＩＴＯを主成分として含むことにより、反射防止フィルムに適度な帯電防止性を持たせることができる。
プライマー層は、ハードコート層と反射防止層との密着性を高めるための層である。本実施形態では、プライマー層が酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を主成分とする薄膜である。プライマー層がＩＴＯを主成分として含むことにより、ハードコート層と反射防止層との密着性を高めつつ、透明性に優れるプライマー層が得られる。また、プライマー層がＩＴＯを主成分として含むことにより、反射防止フィルムに適度な帯電防止性を持たせることができる。
【0053】
プライマー層は、酸化インジウム及び酸化スズ以外の酸化物を含んでいてもよいが、ハードコート層と反射防止層との密着性をより高めるためには、プライマー層中のＩＴＯの含有率は、プライマー層の全量に対して、９０重量％以上であることが好ましく、９９重量％以上であることがより好ましい。以下、ＩＴＯを主成分とする薄膜を、「ＩＴＯ層」と記載することがある。
【0054】
ハードコート層と反射防止層との密着性を高めつつ、プライマー層の透明性を確保するためには、プライマー層の厚みは、０．５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが好ましく、０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることがより好ましく、１．０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
【0055】
［反射防止層］
反射防止層は、屈折率の異なる２層以上の薄膜からなる。一般に、反射防止層は、入射光と反射光の逆転した位相が互いに打ち消し合うように、薄膜の光学膜厚（屈折率と厚みの積）が調整される。反射防止層を、屈折率の異なる２層以上の薄膜の多層積層体とすることにより、可視光の広帯域の波長範囲において、反射率を小さくできる。
反射防止層は、屈折率の異なる２層以上の薄膜からなる。一般に、反射防止層は、入射光と反射光の逆転した位相が互いに打ち消し合うように、薄膜の光学膜厚（屈折率と厚みの積）が調整される。反射防止層を、屈折率の異なる２層以上の薄膜の多層積層体とすることにより、可視光の広帯域の波長範囲において、反射率を小さくできる。
【0056】
反射防止層を構成する薄膜の材料としては、金属（又は半金属）の酸化物、窒化物、フッ化物等が挙げられる。反射防止層は、好ましくは、高屈折率層と低屈折率層の交互積層体である。
【0057】
高屈折率層は、屈折率が、例えば１．９以上であり、好ましくは２．０以上である。高屈折率層の材料としては、酸化チタン、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５等）、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）等が挙げられる。中でも、酸化チタン及び酸化ニオブからなる群より選択される一種以上が好ましい。低屈折率層は、屈折率が、例えば１．６以下であり、好ましくは１．５以下である。低屈折率層の材料としては、酸化シリコン（ＳｉＯ２等）、窒化チタン、フッ化マグネシウム、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化ハフニウム、フッ化ランタン等が挙げられる。中でも酸化シリコンが好ましい。特に、高屈折率層としての酸化ニオブ薄膜と、低屈折率層としての酸化シリコン薄膜とを交互に積層することが好ましい。低屈折率層と高屈折率層に加えて、屈折率１．６超１．９未満の中屈折率層が設けられてもよい。
【0058】
高屈折率層及び低屈折率層の膜厚は、それぞれ、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。屈折率や積層構成等に応じて、可視光の反射率が小さくなるように、各層の膜厚を設計すればよい。例えば、高屈折率層と低屈折率層の積層構成としては、ハードコート層側から、光学膜厚２０ｎｍ以上５５ｎｍ以下の高屈折率層、光学膜厚２５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の低屈折率層、光学膜厚８０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下の高屈折率層、及び光学膜厚１００ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の低屈折率層からなる４層構成が挙げられる。
【0059】
反射防止層が、高屈折率層としての酸化ニオブ薄膜と、低屈折率層としての酸化シリコン薄膜とを交互に積層させた、４層の交互積層体である場合、反射防止層の構成としては、ハードコート層側から、厚み５ｎｍ以上２０ｎｍ以下の酸化ニオブ薄膜、厚み１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の酸化シリコン薄膜、厚み６５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の酸化ニオブ薄膜、及び厚み６０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の酸化シリコン薄膜をこの順に備える構成が挙げられる。
【0060】
耐屈曲性に優れる反射防止フィルムを得るためには、反射防止層の厚みは、１４０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下であることが好ましく、１７０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下であることがより好ましく、１８０ｎｍ以上２６０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１９０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であることが更により好ましい。なお、本明細書において、「反射防止層の厚み」は、反射防止層を構成する各層の厚みの合計（合計厚み）である。
【0061】
［防汚層］
反射防止フィルムは、反射防止層のプライマー層側とは反対側に防汚層を備えることが好ましく、反射防止フィルムの最表層として防汚層を備えることがより好ましい。防汚層が設けられることにより、例えば、外部環境からの汚染（指紋、手垢、埃等）の影響を低減できるとともに、反射防止フィルムの表面に付着した汚染物質の除去が容易となる。
反射防止フィルムは、反射防止層のプライマー層側とは反対側に防汚層を備えることが好ましく、反射防止フィルムの最表層として防汚層を備えることがより好ましい。防汚層が設けられることにより、例えば、外部環境からの汚染（指紋、手垢、埃等）の影響を低減できるとともに、反射防止フィルムの表面に付着した汚染物質の除去が容易となる。
【0062】
反射防止層の反射防止性能の低下を抑制するためには、防汚層は、反射防止層の最表層（例えば低屈折率層）との屈折率差が小さいことが好ましい。防汚層の屈折率としては、１．６以下が好ましく、１．５５以下がより好ましい。
【0063】
防汚層の材料としては、フッ素含有化合物が好ましい。フッ素含有化合物は、防汚性に優れつつ、低屈折率化に寄与し得る。中でも、撥水性に優れ、高い防汚性を発揮できることから、パーフルオロポリエーテル骨格を含有するアルコキシシラン化合物が好ましい。パーフルオロポリエーテル骨格を含有するアルコキシシラン化合物としては、例えば、炭素原子数１以上４以下の直鎖状又は分枝鎖状のパーフルオロアルキレンオキシド単位を複数有するアルコキシシラン化合物が挙げられる。炭素原子数１以上４以下の直鎖状又は分枝鎖状のパーフルオロアルキレンオキシド単位としては、例えば、パーフルオロメチレンオキシド単位（－ＣＦ２Ｏ－）、パーフルオロエチレンオキシド単位（－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－）、パーフルオロプロピレンオキシド単位（－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－）、パーフルオロイソプロピレンオキシド単位（－ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ－）等が挙げられる。
【0064】
防汚層の厚みは、例えば、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。防汚層の厚みが大きいほど、防汚性が向上する傾向がある。防汚層の厚みは、５ｎｍ以上であることが好ましく、６ｎｍ以上であることがより好ましい。一方、防眩性を高める観点から、防汚層の厚みは、１５ｎｍ以下であることが好ましい。
【0065】
［反射防止フィルムの好ましい態様］
耐候性及び透明性を確保しつつ、耐酸性に優れる反射防止フィルムを得るためには、第１実施形態に係る反射防止フィルムは、下記条件１を満たすことが好ましく、下記条件２を満たすことがより好ましく、下記条件３を満たすことが更に好ましい。
条件１：プライマー層中の酸化スズの量が１５重量％以上６０重量％以下である。
条件２：上記条件１を満たし、かつプライマー層の厚みが０．５ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。
条件３：上記条件２を満たし、かつハードコート層が個数平均一次粒子径１．０μｍ未満の粒子を含む。
耐候性及び透明性を確保しつつ、耐酸性に優れる反射防止フィルムを得るためには、第１実施形態に係る反射防止フィルムは、下記条件１を満たすことが好ましく、下記条件２を満たすことがより好ましく、下記条件３を満たすことが更に好ましい。
条件１：プライマー層中の酸化スズの量が１５重量％以上６０重量％以下である。
条件２：上記条件１を満たし、かつプライマー層の厚みが０．５ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。
条件３：上記条件２を満たし、かつハードコート層が個数平均一次粒子径１．０μｍ未満の粒子を含む。
【0066】
［反射防止フィルムの製造方法］
次に、第１実施形態に係る反射防止フィルムの好適な製造方法について説明する。以下、第１実施形態に係る反射防止フィルムの好適な製造方法を、製造方法Ｍと記載することがある。
次に、第１実施形態に係る反射防止フィルムの好適な製造方法について説明する。以下、第１実施形態に係る反射防止フィルムの好適な製造方法を、製造方法Ｍと記載することがある。
【0067】
製造方法Ｍは、例えば、プライマー層形成工程及び反射防止層形成工程を備える。製造方法Ｍは、プライマー層形成工程及び反射防止層形成工程以外の工程（他の工程）を備えていてもよい。他の工程としては、例えば、後述するハードコート層形成工程、ハードコート層の表面処理工程、及び防汚層形成工程が挙げられる。
【0068】
以下、製造方法Ｍの一例が備える各工程について説明する。
【0069】
（ハードコート層形成工程）
ハードコート層形成工程は、透明フィルム基材の一方の主面にハードコート層を形成する工程である。例えば、透明フィルム基材の一方の主面に硬化性樹脂組成物（ハードコート層形成用組成物）を塗布し、必要に応じて溶媒の除去及び樹脂の硬化を行うことにより、ハードコート層が形成される。ハードコート層形成用組成物は、例えば、上述した硬化性樹脂、及び重合開始剤（例えば光重合開始剤）を含み、必要に応じてこれらの成分を溶解又は分散可能な溶媒を含む。
ハードコート層形成工程は、透明フィルム基材の一方の主面にハードコート層を形成する工程である。例えば、透明フィルム基材の一方の主面に硬化性樹脂組成物（ハードコート層形成用組成物）を塗布し、必要に応じて溶媒の除去及び樹脂の硬化を行うことにより、ハードコート層が形成される。ハードコート層形成用組成物は、例えば、上述した硬化性樹脂、及び重合開始剤（例えば光重合開始剤）を含み、必要に応じてこれらの成分を溶解又は分散可能な溶媒を含む。
【0070】
ハードコート層形成用組成物は、上記成分の他に、ナノ粒子、個数平均一次粒子径１．０μｍ以上の粒子、レベリング剤、粘度調整剤（チクソトロピー剤、増粘剤等）、帯電防止剤、ブロッキング防止剤、分散剤、分散安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、界面活性剤、滑剤等の添加剤を含んでいてもよい。
【0071】
ハードコート層形成用組成物の塗布方法としては、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、スロットオリフィスコート法、カーテンコート法、ファウンテンコート法、コンマコート法等の任意の適切な方法を採用し得る。塗布後の塗膜の乾燥温度は、ハードコート層形成用組成物の組成等に応じて、適切な温度に設定すればよく、例えば、５０℃以上１５０℃以下である。ハードコート層形成用組成物中の樹脂成分が熱硬化性樹脂である場合は、加熱によって塗膜を硬化させる。ハードコート層形成用組成物中の樹脂成分が光硬化性樹脂である場合は、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって塗膜を硬化させる。照射光の積算光量は、好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ２以上５００ｍＪ／ｃｍ２以下である。
【0072】
（ハードコート層の表面処理工程）
ハードコート層の表面処理工程では、ハードコート層の透明フィルム基材側とは反対側の主面を表面改質処理する。表面改質処理としては、例えば、プラズマ処理、コロナ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、及びカップリング剤処理が挙げられる。表面改質処理がプラズマ処理である場合、不活性ガスとしては、例えばアルゴンガスが使用される。また、プラズマ処理における放電電力は、例えば５０Ｗ以上３００Ｗ以下である。また、プラズマ処理における圧力条件は、例えば０．１Ｐａ以上２．５Ｐａ以下である。
ハードコート層の表面処理工程では、ハードコート層の透明フィルム基材側とは反対側の主面を表面改質処理する。表面改質処理としては、例えば、プラズマ処理、コロナ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、及びカップリング剤処理が挙げられる。表面改質処理がプラズマ処理である場合、不活性ガスとしては、例えばアルゴンガスが使用される。また、プラズマ処理における放電電力は、例えば５０Ｗ以上３００Ｗ以下である。また、プラズマ処理における圧力条件は、例えば０．１Ｐａ以上２．５Ｐａ以下である。
【0073】
（プライマー層形成工程）
プライマー層形成工程は、ハードコート層上にプライマー層を形成（成膜）する工程である。プライマー層の成膜方法は、特に限定されず、ウェットコーティング法及びドライコーティング法のいずれでもよい。膜厚が均一な薄膜を形成できることから、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタ法等のドライコーティング法が好ましい。生産性を高める観点から、プライマー層の成膜方法としては、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置を用いて成膜する方法（ロールトゥロール方式のスパッタ法）が好ましい。
プライマー層形成工程は、ハードコート層上にプライマー層を形成（成膜）する工程である。プライマー層の成膜方法は、特に限定されず、ウェットコーティング法及びドライコーティング法のいずれでもよい。膜厚が均一な薄膜を形成できることから、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタ法等のドライコーティング法が好ましい。生産性を高める観点から、プライマー層の成膜方法としては、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置を用いて成膜する方法（ロールトゥロール方式のスパッタ法）が好ましい。
【0074】
ロールトゥロール方式のスパッタ法では、長尺のフィルム（例えば、ハードコート層が形成された透明フィルム基材）を長手方向（ＭＤ方向）に搬送しながら、例えば、プライマー層及び反射防止層を連続成膜できる。スパッタ法では、アルゴン等の不活性ガス、及び必要に応じて酸素等の反応性ガスを成膜室内に導入しながら成膜が行われる。プライマー層としてＩＴＯ層を成膜する場合、スパッタ法によるＩＴＯ層の成膜は、酸化物ターゲットを用いる方法、及び金属（又は半金属）ターゲットを用いる反応性スパッタのいずれでも実施できる。
【0075】
スパッタ法を実施するための電源としては、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＲＦ電源、及び、ＭＦＡＣ電源（周波数帯が数ｋＨｚ～数ＭＨｚのＡＣ電源）が挙げられる。スパッタ法における放電電力は、例えば１ｋＷ以上１００ｋＷ以下であり、好ましくは１ｋＷ以上５０ｋＷ以下である。スパッタ法を実施する際の成膜ロールの表面温度は、例えば－２５℃以上２５℃以下であり、好ましくは－２０℃以上０℃以下である。スパッタ法を実施する際の成膜室内の圧力は、好ましくは０．０１Ｐａ以上１０Ｐａ以下であり、より好ましくは０．０５Ｐａ以上５Ｐａ以下であり、更に好ましくは０．１Ｐａ以上１Ｐａ以下である。
【0076】
（反射防止層形成工程）
反射防止層形成工程は、プライマー層上に反射防止層を成膜する工程である。反射防止層の成膜方法は、特に限定されず、ウェットコーティング法及びドライコーティング法のいずれでもよい。膜厚が均一な薄膜を形成できることから、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタ法等のドライコーティング法が好ましい。生産性を高める観点から、プライマー層の成膜方法としては、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置を用いて成膜する方法（ロールトゥロール方式のスパッタ法）が好ましい。反射防止層形成工程でスパッタ法を実施する際は、例えば、上述した（プライマー層形成工程）で説明した条件の中で成膜条件を適宜設定することができる。
反射防止層形成工程は、プライマー層上に反射防止層を成膜する工程である。反射防止層の成膜方法は、特に限定されず、ウェットコーティング法及びドライコーティング法のいずれでもよい。膜厚が均一な薄膜を形成できることから、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタ法等のドライコーティング法が好ましい。生産性を高める観点から、プライマー層の成膜方法としては、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置を用いて成膜する方法（ロールトゥロール方式のスパッタ法）が好ましい。反射防止層形成工程でスパッタ法を実施する際は、例えば、上述した（プライマー層形成工程）で説明した条件の中で成膜条件を適宜設定することができる。
【0077】
（防汚層形成工程）
防汚層形成工程は、反射防止層のプライマー層側とは反対側に防汚層を形成する工程である。防汚層形成工程では、例えば、フッ素含有化合物を材料として用い、ドライコーティング法で防汚層を形成する。ドライコーティング法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、及びＣＶＤ法が挙げられ、真空蒸着法が好ましい。
防汚層形成工程は、反射防止層のプライマー層側とは反対側に防汚層を形成する工程である。防汚層形成工程では、例えば、フッ素含有化合物を材料として用い、ドライコーティング法で防汚層を形成する。ドライコーティング法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、及びＣＶＤ法が挙げられ、真空蒸着法が好ましい。
【0078】
＜第２実施形態：画像表示装置＞
次に、本発明の第２実施形態に係る画像表示装置について説明する。第２実施形態に係る画像表示装置は、画像表示パネルと、画像表示パネルの視認側に配置された、第１実施形態に係る反射防止フィルムとを備える。以下、第１実施形態と重複する内容については説明を省略する。
次に、本発明の第２実施形態に係る画像表示装置について説明する。第２実施形態に係る画像表示装置は、画像表示パネルと、画像表示パネルの視認側に配置された、第１実施形態に係る反射防止フィルムとを備える。以下、第１実施形態と重複する内容については説明を省略する。
【0079】
図３は、第２実施形態に係る画像表示装置の一例を示す断面図である。図３に示す画像表示装置１００は、画像表示パネル１０１と、画像表示パネル１０１の視認側（図３中の上方側）に配置された、第１実施形態に係る反射防止フィルムの一例である反射防止フィルム１０とを備える。画像表示装置１００では、反射防止フィルム１０の透明フィルム基材１１と画像表示パネル１０１とが粘着剤層２１を介して貼り合わせられている。
【0080】
画像表示パネル１０１としては、液晶セル、有機ＥＬセル等の画像表示セルを含む画像表示パネルが例示できる。
【0081】
第２実施形態に係る画像表示装置は、画像表示パネルの視認側に反射防止フィルムが配置されているため、外光の反射が低減され、視認性に優れる。また、第２実施形態に係る画像表示装置は、第１実施形態に係る反射防止フィルムを備えるため、耐酸性に優れる。
【実施例】
【0082】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【0083】
＜実施例１の反射防止フィルムの作製＞
［ハードコート層形成工程］
個数平均一次粒子径５０ｎｍのシリカ粒子を含有するウレタンアクリレート系の紫外線硬化型樹脂組成物（荒川化学工業社製「ビームセット５７７」）と、この紫外線硬化型樹脂組成物の固形分１００重量部に対して、シリコーン樹脂粒子（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製「トスパール１３０」、平均粒子径：３．０μｍ、屈折率：１．４３、真比重：１．３２）０．１重量部と、架橋ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）粒子（積水化成品工業社製「テクポリマー ＳＳＸ－１０３」、平均粒子径：３．０μｍ、屈折率：１．５０、真比重：１．２０）４．０重量部と、チクソトロピー剤（クニミネ工業社製「スメクトンＳＡＮ」、有機粘土である合成スメクタイト）２．０重量部と、光重合開始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）３．０重量部と、シリコーン系レベリング剤（共栄社化学社製「ポリフロー ＬＥ３０３」）０．１５重量部とを混合し、酢酸ブチルで希釈して、固形分濃度４０重量％のハードコート層形成用組成物ＨＣ１を得た。次いで、透明フィルム基材としてのＴＡＣフィルム（富士フイルム社製「フジタック ＴＧ６０ＵＬ」、厚み：６０μｍ）の一方の主面に、上記手順で得られたハードコート層形成用組成物ＨＣ１を塗布し、塗膜を形成した。次に、この塗膜を、温度６０℃で６０秒間加熱することにより乾燥させた後、紫外線照射により硬化させた。紫外線照射する際は、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算光量を３００ｍＪ／ｃｍ２とした。これにより、ＴＡＣフィルム上に厚み６μｍのハードコート層を形成した。
［ハードコート層形成工程］
個数平均一次粒子径５０ｎｍのシリカ粒子を含有するウレタンアクリレート系の紫外線硬化型樹脂組成物（荒川化学工業社製「ビームセット５７７」）と、この紫外線硬化型樹脂組成物の固形分１００重量部に対して、シリコーン樹脂粒子（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製「トスパール１３０」、平均粒子径：３．０μｍ、屈折率：１．４３、真比重：１．３２）０．１重量部と、架橋ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）粒子（積水化成品工業社製「テクポリマー ＳＳＸ－１０３」、平均粒子径：３．０μｍ、屈折率：１．５０、真比重：１．２０）４．０重量部と、チクソトロピー剤（クニミネ工業社製「スメクトンＳＡＮ」、有機粘土である合成スメクタイト）２．０重量部と、光重合開始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）３．０重量部と、シリコーン系レベリング剤（共栄社化学社製「ポリフロー ＬＥ３０３」）０．１５重量部とを混合し、酢酸ブチルで希釈して、固形分濃度４０重量％のハードコート層形成用組成物ＨＣ１を得た。次いで、透明フィルム基材としてのＴＡＣフィルム（富士フイルム社製「フジタック ＴＧ６０ＵＬ」、厚み：６０μｍ）の一方の主面に、上記手順で得られたハードコート層形成用組成物ＨＣ１を塗布し、塗膜を形成した。次に、この塗膜を、温度６０℃で６０秒間加熱することにより乾燥させた後、紫外線照射により硬化させた。紫外線照射する際は、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算光量を３００ｍＪ／ｃｍ２とした。これにより、ＴＡＣフィルム上に厚み６μｍのハードコート層を形成した。
【0084】
［ハードコート層の表面処理工程］
次いで、ロールトゥロール方式のプラズマ処理装置により、１．０Ｐａの真空雰囲気下、ハードコート層が形成されたＴＡＣフィルムを搬送しながら、ハードコート層の表面をプラズマ処理した。プラズマ処理する際は、不活性ガスとしてアルゴンガスを用い、放電電力を１００Ｗとした。これにより、ＴＡＣフィルムと、プラズマ処理されたハードコート層とを備える積層体（以下、「光学フィルムＦ１」と記載することがある）を得た。
次いで、ロールトゥロール方式のプラズマ処理装置により、１．０Ｐａの真空雰囲気下、ハードコート層が形成されたＴＡＣフィルムを搬送しながら、ハードコート層の表面をプラズマ処理した。プラズマ処理する際は、不活性ガスとしてアルゴンガスを用い、放電電力を１００Ｗとした。これにより、ＴＡＣフィルムと、プラズマ処理されたハードコート層とを備える積層体（以下、「光学フィルムＦ１」と記載することがある）を得た。
【0085】
［プライマー層形成工程］
次いで、光学フィルムＦ１をロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置に導入し、成膜室内を１×１０－４Ｐａまで減圧した。次いで、光学フィルムＦ１を搬送しながら、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：１３の体積比で導入し、成膜ロールの表面温度を－８℃とし、スパッタ法により、ハードコート層上に厚み１．５ｎｍのＩＴＯ層（プライマー層）を形成した。プライマー層の形成には、ターゲット材料として、酸化インジウムと酸化スズとを８５：１５の重量比で含有するＩＴＯターゲットを用いた。また、スパッタ法により成膜する際は、電源をＭＦＡＣ電源とし、放電電力を４．５ｋＷとし、成膜室内の圧力を０．２Ｐａとした。
次いで、光学フィルムＦ１をロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置に導入し、成膜室内を１×１０－４Ｐａまで減圧した。次いで、光学フィルムＦ１を搬送しながら、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：１３の体積比で導入し、成膜ロールの表面温度を－８℃とし、スパッタ法により、ハードコート層上に厚み１．５ｎｍのＩＴＯ層（プライマー層）を形成した。プライマー層の形成には、ターゲット材料として、酸化インジウムと酸化スズとを８５：１５の重量比で含有するＩＴＯターゲットを用いた。また、スパッタ法により成膜する際は、電源をＭＦＡＣ電源とし、放電電力を４．５ｋＷとし、成膜室内の圧力を０．２Ｐａとした。
【0086】
［反射防止層形成工程］
プライマー層の形成に続いて、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置を用いてプライマー層形成後の光学フィルムＦ１を搬送しながら、スパッタ法により、プライマー層上に、第１層：厚み１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層（屈折率：２．３３）、第２層：厚み２７ｎｍのＳｉＯ２層（屈折率：１．４６）、第３層：厚み１０８ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、及び第４層：厚み８６ｎｍのＳｉＯ２層をこの順に成膜した。これにより、プライマー層上に、４層構成（第１層、第２層、第３層及び第４層からなる４層構成）の反射防止層を形成した。第１層～第４層の各層の成膜では、いずれも、成膜ロールの表面温度を－８℃とし、電源をＭＦＡＣ電源とし、成膜室内の圧力を０．７Ｐａとした。また、第１層の成膜では、Ｎｂターゲットを用い、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：５の体積比で導入し、放電電力を１３．０ｋＷとした。第２層の成膜では、Ｓｉターゲットを用い、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：３３の体積比で導入し、放電電力を２５．５ｋＷとした。第３層の成膜では、Ｎｂターゲットを用い、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：１３の体積比で導入し、放電電力を２７．５ｋＷとした。第４層の成膜では、Ｓｉターゲットを用い、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：３０の体積比で導入し、放電電力を２０．５ｋＷとした。
プライマー層の形成に続いて、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置を用いてプライマー層形成後の光学フィルムＦ１を搬送しながら、スパッタ法により、プライマー層上に、第１層：厚み１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層（屈折率：２．３３）、第２層：厚み２７ｎｍのＳｉＯ２層（屈折率：１．４６）、第３層：厚み１０８ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、及び第４層：厚み８６ｎｍのＳｉＯ２層をこの順に成膜した。これにより、プライマー層上に、４層構成（第１層、第２層、第３層及び第４層からなる４層構成）の反射防止層を形成した。第１層～第４層の各層の成膜では、いずれも、成膜ロールの表面温度を－８℃とし、電源をＭＦＡＣ電源とし、成膜室内の圧力を０．７Ｐａとした。また、第１層の成膜では、Ｎｂターゲットを用い、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：５の体積比で導入し、放電電力を１３．０ｋＷとした。第２層の成膜では、Ｓｉターゲットを用い、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：３３の体積比で導入し、放電電力を２５．５ｋＷとした。第３層の成膜では、Ｎｂターゲットを用い、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：１３の体積比で導入し、放電電力を２７．５ｋＷとした。第４層の成膜では、Ｓｉターゲットを用い、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：３０の体積比で導入し、放電電力を２０．５ｋＷとした。
【0087】
［防汚層形成工程］
コーティング剤（信越化学工業社製「ＳＨＩＮ－ＥＴＳＵ ＳＵＢＥＬＹＮ ＫＹ１９０３－１」、有効成分：パーフルオロポリエーテル骨格を含有するアルコキシシラン化合物）を乾燥して固化したものを蒸着源として用い、蒸着源の加熱温度を２６０℃にして、真空蒸着法により反射防止層上に厚み８ｎｍの防汚層を形成した。これにより、ＴＡＣフィルムと、ハードコート層と、プライマー層と、反射防止層と、防汚層とをこの順に備える反射防止フィルム（実施例１の反射防止フィルム）を得た。
コーティング剤（信越化学工業社製「ＳＨＩＮ－ＥＴＳＵ ＳＵＢＥＬＹＮ ＫＹ１９０３－１」、有効成分：パーフルオロポリエーテル骨格を含有するアルコキシシラン化合物）を乾燥して固化したものを蒸着源として用い、蒸着源の加熱温度を２６０℃にして、真空蒸着法により反射防止層上に厚み８ｎｍの防汚層を形成した。これにより、ＴＡＣフィルムと、ハードコート層と、プライマー層と、反射防止層と、防汚層とをこの順に備える反射防止フィルム（実施例１の反射防止フィルム）を得た。
【0088】
＜実施例２の反射防止フィルムの作製＞
プライマー層形成工程において、ターゲット材料として、酸化インジウムと酸化スズとを８０：２０の重量比で含有するＩＴＯターゲットを用いたこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、実施例２の反射防止フィルムを得た。
プライマー層形成工程において、ターゲット材料として、酸化インジウムと酸化スズとを８０：２０の重量比で含有するＩＴＯターゲットを用いたこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、実施例２の反射防止フィルムを得た。
【0089】
＜実施例３の反射防止フィルムの作製＞
プライマー層形成工程において、ターゲット材料として、酸化インジウムと酸化スズとを７５：２５の重量比で含有するＩＴＯターゲットを用いたこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、実施例３の反射防止フィルムを得た。
プライマー層形成工程において、ターゲット材料として、酸化インジウムと酸化スズとを７５：２５の重量比で含有するＩＴＯターゲットを用いたこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、実施例３の反射防止フィルムを得た。
【0090】
＜実施例４の反射防止フィルムの作製＞
プライマー層形成工程において、ターゲット材料として、酸化インジウムと酸化スズとを７０：３０の重量比で含有するＩＴＯターゲットを用いたこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、実施例４の反射防止フィルムを得た。
プライマー層形成工程において、ターゲット材料として、酸化インジウムと酸化スズとを７０：３０の重量比で含有するＩＴＯターゲットを用いたこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、実施例４の反射防止フィルムを得た。
【0091】
＜実施例５の反射防止フィルムの作製＞
プライマー層形成工程において、ターゲット材料として、酸化インジウムと酸化スズとを６０：４０の重量比で含有するＩＴＯターゲットを用いたこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、実施例５の反射防止フィルムを得た。
プライマー層形成工程において、ターゲット材料として、酸化インジウムと酸化スズとを６０：４０の重量比で含有するＩＴＯターゲットを用いたこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、実施例５の反射防止フィルムを得た。
【0092】
＜比較例１の反射防止フィルムの作製＞
プライマー層形成工程において、ターゲット材料として、酸化インジウムと酸化スズとを９０：１０の重量比で含有するＩＴＯターゲットを用いたこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、比較例１の反射防止フィルムを得た。
プライマー層形成工程において、ターゲット材料として、酸化インジウムと酸化スズとを９０：１０の重量比で含有するＩＴＯターゲットを用いたこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、比較例１の反射防止フィルムを得た。
【0093】
＜参考例１の反射防止フィルムの作製＞
プライマー層形成工程を以下の手順に変更したこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、参考例１の反射防止フィルムを得た。
プライマー層形成工程を以下の手順に変更したこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、参考例１の反射防止フィルムを得た。
【0094】
［参考例１のプライマー層形成工程］
光学フィルムＦ１をロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置に導入し、成膜室内を１×１０－４Ｐａまで減圧した。次いで、光学フィルムＦ１を搬送しながら、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：９の体積比で導入し、成膜ロールの表面温度を－８℃とし、スパッタ法により、ハードコート層上に厚み３．０ｎｍのＳｉＯｘ層（ｘ＜２）を形成した。プライマー層（ＳｉＯｘ層）の形成には、ターゲット材料として、Ｓｉターゲットを用いた。また、スパッタ法により成膜する際は、電源をＭＦＡＣ電源とし、放電電力を４．５ｋＷとし、成膜室内の圧力を０．７Ｐａとした。
光学フィルムＦ１をロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置に導入し、成膜室内を１×１０－４Ｐａまで減圧した。次いで、光学フィルムＦ１を搬送しながら、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：９の体積比で導入し、成膜ロールの表面温度を－８℃とし、スパッタ法により、ハードコート層上に厚み３．０ｎｍのＳｉＯｘ層（ｘ＜２）を形成した。プライマー層（ＳｉＯｘ層）の形成には、ターゲット材料として、Ｓｉターゲットを用いた。また、スパッタ法により成膜する際は、電源をＭＦＡＣ電源とし、放電電力を４．５ｋＷとし、成膜室内の圧力を０．７Ｐａとした。
【0095】
＜参考例２の反射防止フィルムの作製＞
プライマー層形成工程を以下の手順に変更したこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、参考例２の反射防止フィルムを得た。
プライマー層形成工程を以下の手順に変更したこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、参考例２の反射防止フィルムを得た。
【0096】
［参考例２のプライマー層形成工程］
光学フィルムＦ１をロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置に導入し、成膜室内を１×１０－４Ｐａまで減圧した。次いで、光学フィルムＦ１を搬送しながら、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：１０の体積比で導入し、成膜ロールの表面温度を－８℃とし、スパッタ法により、ハードコート層上に厚み１．５ｎｍのＴｉＯｘ層（ｘ＜２）を形成した。プライマー層（ＴｉＯｘ層）の形成には、ターゲット材料として、Ｔｉターゲットを用いた。また、スパッタ法により成膜する際は、電源をＭＦＡＣ電源とし、放電電力を４．５ｋＷとし、成膜室内の圧力を０．７Ｐａとした。
光学フィルムＦ１をロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置に導入し、成膜室内を１×１０－４Ｐａまで減圧した。次いで、光学フィルムＦ１を搬送しながら、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：１０の体積比で導入し、成膜ロールの表面温度を－８℃とし、スパッタ法により、ハードコート層上に厚み１．５ｎｍのＴｉＯｘ層（ｘ＜２）を形成した。プライマー層（ＴｉＯｘ層）の形成には、ターゲット材料として、Ｔｉターゲットを用いた。また、スパッタ法により成膜する際は、電源をＭＦＡＣ電源とし、放電電力を４．５ｋＷとし、成膜室内の圧力を０．７Ｐａとした。
【0097】
＜測定方法及び評価方法＞
［酸化スズの量の測定方法］
測定対象の反射防止フィルム（詳しくは、実施例１～５及び比較例１の反射防止フィルムのいずれか）のプライマー層中の酸化スズの量は、以下に示す手順で測定した。まず、測定対象の反射防止フィルムのプライマー層の成膜条件と同じ条件で、光学フィルムＦ１のハードコート層上に厚み１．５ｎｍのプライマー層を成膜した。次いで、得られたプライマー層の元素組成を、走査型蛍光Ｘ線分析装置（リガク社製「ＺＳＸ ＰｒｉｍｕｓＩＩ」）を用いて測定した。そして、酸化インジウムと酸化スズの合計に対する酸化スズの量（単位：重量％）を算出した。
［酸化スズの量の測定方法］
測定対象の反射防止フィルム（詳しくは、実施例１～５及び比較例１の反射防止フィルムのいずれか）のプライマー層中の酸化スズの量は、以下に示す手順で測定した。まず、測定対象の反射防止フィルムのプライマー層の成膜条件と同じ条件で、光学フィルムＦ１のハードコート層上に厚み１．５ｎｍのプライマー層を成膜した。次いで、得られたプライマー層の元素組成を、走査型蛍光Ｘ線分析装置（リガク社製「ＺＳＸ ＰｒｉｍｕｓＩＩ」）を用いて測定した。そして、酸化インジウムと酸化スズの合計に対する酸化スズの量（単位：重量％）を算出した。
【0098】
［耐酸性の評価方法］
評価対象の反射防止フィルム（詳しくは、実施例１～５、比較例１並びに参考例１及び２の反射防止フィルムのいずれか）の防汚層表面に、硫酸水溶液（キシダ化学社製「３７％（１＋３）－硫酸」、硫酸の濃度：３７重量％、水の濃度：６３重量％）をスポイトで１滴滴下し、温度２３℃かつ相対湿度５０％の雰囲気下に２２時間静置した。次いで、防汚層表面を水洗し、反射防止フィルム中の層間剥離の有無を目視で確認した。層間剥離が無かった場合、Ａ（耐酸性に優れている）と評価した。一方、層間剥離が有った場合、Ｂ（耐酸性に優れていない）と評価した。
評価対象の反射防止フィルム（詳しくは、実施例１～５、比較例１並びに参考例１及び２の反射防止フィルムのいずれか）の防汚層表面に、硫酸水溶液（キシダ化学社製「３７％（１＋３）－硫酸」、硫酸の濃度：３７重量％、水の濃度：６３重量％）をスポイトで１滴滴下し、温度２３℃かつ相対湿度５０％の雰囲気下に２２時間静置した。次いで、防汚層表面を水洗し、反射防止フィルム中の層間剥離の有無を目視で確認した。層間剥離が無かった場合、Ａ（耐酸性に優れている）と評価した。一方、層間剥離が有った場合、Ｂ（耐酸性に優れていない）と評価した。
【0099】
［耐候性の評価方法］
まず、評価対象の反射防止フィルム（詳しくは、実施例１～５、比較例１並びに参考例１及び２の反射防止フィルムのいずれか）のＴＡＣフィルム側の主面に、粘着剤を介して厚み５ｍｍのガラス板を貼り合わせて、評価用試料を得た。次いで、評価用試料を、耐候性評価装置（岩崎電気社製「アイスーパー ＳＵＶ－Ｗ１６１」）に投入し、下記の条件で防汚層側から紫外線を照射した。
まず、評価対象の反射防止フィルム（詳しくは、実施例１～５、比較例１並びに参考例１及び２の反射防止フィルムのいずれか）のＴＡＣフィルム側の主面に、粘着剤を介して厚み５ｍｍのガラス板を貼り合わせて、評価用試料を得た。次いで、評価用試料を、耐候性評価装置（岩崎電気社製「アイスーパー ＳＵＶ－Ｗ１６１」）に投入し、下記の条件で防汚層側から紫外線を照射した。
【0100】
（紫外線照射条件）
ブラックパネル温度（ＢＰＴ）：８５℃
相対湿度：４５％
紫外線強度：１５０ｍＷ／ｃｍ２
照射時間：３２．５時間
ブラックパネル温度（ＢＰＴ）：８５℃
相対湿度：４５％
紫外線強度：１５０ｍＷ／ｃｍ２
照射時間：３２．５時間
【0101】
次いで、紫外線照射後の反射防止フィルムの防汚層側に１００個のマス目を形成し、ＪＩＳ Ｋ５４００（クロスカット試験法）に従って、碁盤目剥離試験を実施した。そして、剥がれたマス目の個数をカウントし、以下の基準に従い、耐候性を判定した。なお、「剥がれ」とは、１マスの面積の１／４以上の剥離があった場合を意味する。
Ａ：剥がれたマス目の個数が、９個以下であった。
Ｂ：剥がれたマス目の個数が、１０個以上であった。
Ａ：剥がれたマス目の個数が、９個以下であった。
Ｂ：剥がれたマス目の個数が、１０個以上であった。
【0102】
判定結果がＡの場合、「耐候性に優れている」と評価した。一方、判定結果がＢの場合、「耐候性に優れていない」と評価した。
【0103】
＜結果＞
実施例１～５、比較例１並びに参考例１及び２について、プライマー層を構成する酸化物の種類、酸化スズの量、耐酸性の評価結果、及び耐候性の評価結果を表１に示す。なお、表１において、「－」は、測定しなかったことを意味する。
実施例１～５、比較例１並びに参考例１及び２について、プライマー層を構成する酸化物の種類、酸化スズの量、耐酸性の評価結果、及び耐候性の評価結果を表１に示す。なお、表１において、「－」は、測定しなかったことを意味する。
【0104】
【表1】
【0105】
表１に示すように、実施例１～５では、プライマー層中の酸化スズの量が１５重量％以上であった。実施例１～５では、耐酸性の評価結果がＡであった。よって、実施例１～５の反射防止フィルムは、耐酸性に優れていた。
【0106】
表１に示すように、比較例１では、プライマー層中の酸化スズの量が１５重量％未満であった。比較例１では、耐酸性の評価結果がＢであった。よって、比較例１の反射防止フィルムは、耐酸性に優れていなかった。
【0107】
なお、耐候性については、プライマー層としてＴｉＯｘ層を設けた参考例２以外は、全てＡ（耐候性に優れている）であった。
【0108】
以上の結果から、本発明によれば、耐酸性に優れる反射防止フィルムを提供できることが示された。
【符号の説明】
【0109】
１０、２０ 反射防止フィルム
１１ 透明フィルム基材
１２ ハードコート層
１３ プライマー層
１４ 反射防止層
１９ 防汚層
２１ 粘着剤層
１００ 画像表示装置
１０１ 画像表示パネル
１１ 透明フィルム基材
１２ ハードコート層
１３ プライマー層
１４ 反射防止層
１９ 防汚層
２１ 粘着剤層
１００ 画像表示装置
１０１ 画像表示パネル
【要約】
【課題】耐酸性に優れる反射防止フィルム、及び当該反射防止フィルムを用いた画像表示装置を提供する。
【解決手段】反射防止フィルム１０は、透明フィルム基材１１、ハードコート層１２、プライマー層１３及び反射防止層１４をこの順に有する。反射防止層１４は、屈折率の異なる複数の薄膜の積層体である。プライマー層１３は、酸化インジウムスズを主成分とする薄膜であり、かつ酸化インジウムと酸化スズの合計に対する酸化スズの量が１５重量％以上である。
【選択図】図１
【解決手段】反射防止フィルム１０は、透明フィルム基材１１、ハードコート層１２、プライマー層１３及び反射防止層１４をこの順に有する。反射防止層１４は、屈折率の異なる複数の薄膜の積層体である。プライマー層１３は、酸化インジウムスズを主成分とする薄膜であり、かつ酸化インジウムと酸化スズの合計に対する酸化スズの量が１５重量％以上である。
【選択図】図１
【図1】
【図2】
【図3】