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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B1)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-08-19
(45)【発行日】2024-08-27
(54)【発明の名称】電線および多芯ケーブル
(51)【国際特許分類】
H01B 7/295 20060101AFI20240820BHJP
【ＦＩ】
H01B7/295
【請求項の数】
13
(21)【出願番号】P 2024521033
(86)(22)【出願日】2023-11-28
(86)【国際出願番号】 JP2023042519
【審査請求日】2024-04-23
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000002130
【氏名又は名称】住友電気工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001195
【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】藤田 太郎
(72)【発明者】
【氏名】田中 成幸
(72)【発明者】
【氏名】福本 遼太
(72)【発明者】
【氏名】渡部 史
(72)【発明者】
【氏名】大川 裕之
(72)【発明者】
【氏名】八木澤 丈
【審査官】北嶋 賢二
(56)【参考文献】
【文献】特開平９－１３９１１８（ＪＰ，Ａ）
【文献】中国実用新案第２０４５１６４７４（ＣＮ，Ｕ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０１Ｂ ７／２９５
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
導体と、前記導体を被覆する被膜と、を備える電線であって、前記被膜は、第１層と、前記第１層上に形成された第２層と、を含み、
前記第１層は、フッ素樹脂を主成分として含み、
前記第２層は、シルセスキオキサンを主成分として含み、
前記シルセスキオキサンは、（ＲＳｉＯ３／２）を構成単位とするポリマーであり、
前記Ｒは、重合性基であり、
前記第２層の厚みは、０．１μｍ以上１００μｍ以下である、電線。
【請求項2】
前記第１層の前記フッ素樹脂は、パーフルオロアルコキシアルカン樹脂、フッ素化エチレンプロピレン樹脂、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂、および架橋エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂からなる群より選択される少なくとも１種のフッ素樹脂である、請求項１に記載の電線。
【請求項3】
前記第１層の前記フッ素樹脂は、第１官能基で変性された樹脂であり、前記第１官能基は、カルボキシル基またはエーテル基を有する、請求項１に記載の電線。
【請求項4】
前記第１官能基は、カルボキシル基、無水マレイン酸基、およびエポキシ基からなる群より選択される少なくとも１種の官能基である、請求項３に記載の電線。
【請求項5】
前記第１層の前記フッ素樹脂は、親水化表面処理が施された状態の樹脂である、請求項１に記載の電線。
【請求項6】
前記親水化表面処理は、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、および活性ナトリウムによるエッチング処理からなる群より選択される少なくとも１種の表面処理である、請求項５に記載の電線。
【請求項7】
前記被膜は、前記第１層と、前記第２層との間に形成された第３層を更に含み、前記第３層は、フッ素樹脂を主成分として含む、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の電線。
【請求項8】
前記第３層の前記フッ素樹脂は、パーフルオロアルコキシアルカン樹脂、フッ素化エチレンプロピレン樹脂、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂、および架橋エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂からなる群より選択される少なくとも１種のフッ素樹脂である、請求項７に記載の電線。
【請求項9】
前記第３層の前記フッ素樹脂は、第２官能基で変性された樹脂であり、前記第２官能基は、カルボキシル基またはエーテル基を有する、請求項７に記載の電線。
【請求項10】
前記第２官能基は、カルボキシル基、無水マレイン酸基、およびエポキシ基からなる群より選択される少なくとも１種の官能基である、請求項９に記載の電線。
【請求項11】
前記重合性基は、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基である、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の電線。
【請求項12】
前記重合性基は、アクリロイル基、メタクリロイル基、およびオキセタニル基からなる群より選択される１種の重合性基である、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の電線。
【請求項13】
請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の電線を備える、多芯ケーブル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、電線および多芯ケーブルに関する。
【背景技術】
【0002】
従来から、自動車、航空機、ロケット、人工衛星、産業ロボット、電気機器、熱機器などの各種の用途で、「導体と、該導体を被覆する被膜と、を備える電線」や「電線を備える、多芯ケーブル」が用いられている（特許文献１～５）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開平９－２８８９１４号公報
【文献】実開平４－６１８０８号公報
【文献】特開２０００－３０５３５号公報
【文献】特開平８－２５５５１３号公報
【文献】特開２０１６－１９２３７４号公報
【発明の概要】
【0004】
本開示の電線は、
導体と、該導体を被覆する被膜と、を備える電線であって、
該被膜は、第１層と、該第１層上に形成された第２層と、を含み、
該第１層は、フッ素樹脂を主成分として含み、
該第２層は、シルセスキオキサンを主成分として含み、
該シルセスキオキサンは、（ＲＳｉＯ３／２）を構成単位とするポリマーであり、
該Ｒは、重合性基であり、
該第２層の厚みは、０．１μｍ以上１００μｍ以下である。
導体と、該導体を被覆する被膜と、を備える電線であって、
該被膜は、第１層と、該第１層上に形成された第２層と、を含み、
該第１層は、フッ素樹脂を主成分として含み、
該第２層は、シルセスキオキサンを主成分として含み、
該シルセスキオキサンは、（ＲＳｉＯ３／２）を構成単位とするポリマーであり、
該Ｒは、重合性基であり、
該第２層の厚みは、０．１μｍ以上１００μｍ以下である。
【図面の簡単な説明】
【0005】
【発明を実施するための形態】
【0006】
［本開示が解決しようとする課題］
自動車、航空機、ロケット、人工衛星、産業ロボット、電気機器、熱機器などの各種の用途で電線が用いられる際に、電線の使用条件は過酷な場合がある。特に、電線の使用条件のうち、温度条件が過酷である場合において、酸素、オゾン、原子状酸素などによる酸化劣化を防ぎ、電線に優れた耐熱性を付与することが求められている。なお、酸化劣化は、空気中の酸素とポリマーとが反応して進行する。酸化劣化は、温度が高いほど促進される傾向がある。温度が高いほど酸素分子がポリマー内を拡散し易く、ポリマーと酸素とが反応し易いためである。温度条件が過酷である場合において、酸化劣化を抑えることにより、加熱による電線の劣化を抑えることができる（言い換えれば、電線の耐熱性を向上することができる）。
自動車、航空機、ロケット、人工衛星、産業ロボット、電気機器、熱機器などの各種の用途で電線が用いられる際に、電線の使用条件は過酷な場合がある。特に、電線の使用条件のうち、温度条件が過酷である場合において、酸素、オゾン、原子状酸素などによる酸化劣化を防ぎ、電線に優れた耐熱性を付与することが求められている。なお、酸化劣化は、空気中の酸素とポリマーとが反応して進行する。酸化劣化は、温度が高いほど促進される傾向がある。温度が高いほど酸素分子がポリマー内を拡散し易く、ポリマーと酸素とが反応し易いためである。温度条件が過酷である場合において、酸化劣化を抑えることにより、加熱による電線の劣化を抑えることができる（言い換えれば、電線の耐熱性を向上することができる）。
【0007】
そこで、本開示は、優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することを目的とする。
【0008】
［本開示の効果］
本開示によれば、優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することが可能である。
本開示によれば、優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することが可能である。
【0009】
［本開示の実施形態の説明］
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
（１）本開示の電線は、
導体と、前記導体を被覆する被膜と、を備える電線であって、
前記被膜は、第１層と、前記第１層上に形成された第２層と、を含み、
前記第１層は、フッ素樹脂を主成分として含み、
前記第２層は、シルセスキオキサンを主成分として含み、
前記シルセスキオキサンは、（ＲＳｉＯ３／２）を構成単位とするポリマーであり、
前記Ｒは、重合性基であり、
前記第２層の厚みは、０．１μｍ以上１００μｍ以下である。
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
（１）本開示の電線は、
導体と、前記導体を被覆する被膜と、を備える電線であって、
前記被膜は、第１層と、前記第１層上に形成された第２層と、を含み、
前記第１層は、フッ素樹脂を主成分として含み、
前記第２層は、シルセスキオキサンを主成分として含み、
前記シルセスキオキサンは、（ＲＳｉＯ３／２）を構成単位とするポリマーであり、
前記Ｒは、重合性基であり、
前記第２層の厚みは、０．１μｍ以上１００μｍ以下である。
【0010】
本開示によれば、優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0011】
（２）上記（１）において、前記第１層の前記フッ素樹脂は、パーフルオロアルコキシアルカン樹脂、フッ素化エチレンプロピレン樹脂、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂、および架橋エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂からなる群より選択される少なくとも１種のフッ素樹脂であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0012】
（３）上記（１）において、前記第１層の前記フッ素樹脂は、第１官能基で変性された樹脂であり、前記第１官能基は、カルボキシル基またはエーテル基を有してもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0013】
（４）上記（３）において、前記第１官能基は、カルボキシル基、無水マレイン酸基、およびエポキシ基からなる群より選択される少なくとも１種の官能基であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0014】
（５）上記（１）において、前記第１層の前記フッ素樹脂は、親水化表面処理が施された状態の樹脂であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0015】
（６）上記（５）において、前記親水化表面処理は、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、および活性ナトリウムによるエッチング処理からなる群より選択される少なくとも１種の表面処理であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0016】
（７）上記（１）から（６）のいずれかにおいて、前記被膜は、前記第１層と、前記第２層との間に形成された第３層を更に含み、前記第３層は、フッ素樹脂を主成分として含んでもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0017】
（８）上記（７）において、前記第３層の前記フッ素樹脂は、パーフルオロアルコキシアルカン樹脂、フッ素化エチレンプロピレン樹脂、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂、および架橋エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂からなる群より選択される少なくとも１種のフッ素樹脂であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0018】
（９）上記（７）において、前記第３層の前記フッ素樹脂は、第２官能基で変性された樹脂であり、前記第２官能基は、カルボキシル基またはエーテル基を有してもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0019】
（１０）上記（９）において、前記第２官能基は、カルボキシル基、無水マレイン酸基、およびエポキシ基からなる群より選択される少なくとも１種の官能基であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0020】
（１１）上記（１）から（１０）のいずれかにおいて、前記重合性基は、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0021】
（１２）上記（１）から（１０）のいずれかにおいて、前記重合性基は、アクリロイル基、メタクリロイル基、およびオキセタニル基からなる群より選択される１種の重合性基であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0022】
（１３）本開示の多芯ケーブルは、
上述の（１）から（１２）に記載の電線を備える。
上述の（１）から（１２）に記載の電線を備える。
【0023】
本開示によれば、優れた耐熱性を有する電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0024】
［本開示の実施形態の詳細］
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）の電線および多芯ケーブルの具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。本開示の図面において、同一の参照符号は、同一部分または相当部分を表すものである。また、長さ、幅、厚さ、深さなどの寸法関係は図面の明瞭化と簡略化のために適宜変更されており、必ずしも実際の寸法関係を表すものではない。
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）の電線および多芯ケーブルの具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。本開示の図面において、同一の参照符号は、同一部分または相当部分を表すものである。また、長さ、幅、厚さ、深さなどの寸法関係は図面の明瞭化と簡略化のために適宜変更されており、必ずしも実際の寸法関係を表すものではない。
【0025】
本開示において「Ａ～Ｂ」という形式の表記は、範囲の上限下限（すなわちＡ以上Ｂ以下）を意味し、Ａにおいて単位の記載がなく、Ｂにおいてのみ単位が記載されている場合、Ａの単位とＢの単位とは同じである。
【0026】
本開示において化合物などを化学式で表す場合、原子比を特に限定しないときは従来公知のあらゆる原子比を含むものとし、必ずしも化学量論的範囲のもののみに限定されるべきではない。
【0027】
［実施形態１：電線］
本開示の一実施形態に係る電線について、図１および図２を用いて説明する。図１は、本開示の一実施形態に係る電線の模式的な斜視図である。図２は、図１のＩＩ－ＩＩに沿った模式的な断面図である。
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）は、
導体２と、該導体２を被覆する被膜５と、を備える電線１であって、
該被膜５は、第１層３と、該第１層３上に形成された第２層４と、を含み、
該第１層３は、フッ素樹脂を主成分として含み、
該第２層４は、シルセスキオキサンを主成分として含み、
該シルセスキオキサンは、（ＲＳｉＯ３／２）を構成単位とするポリマーであり、
該Ｒは、重合性基であり、
該第２層４の厚みは、０．１μｍ以上１００μｍ以下である。
本開示の一実施形態に係る電線について、図１および図２を用いて説明する。図１は、本開示の一実施形態に係る電線の模式的な斜視図である。図２は、図１のＩＩ－ＩＩに沿った模式的な断面図である。
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）は、
導体２と、該導体２を被覆する被膜５と、を備える電線１であって、
該被膜５は、第１層３と、該第１層３上に形成された第２層４と、を含み、
該第１層３は、フッ素樹脂を主成分として含み、
該第２層４は、シルセスキオキサンを主成分として含み、
該シルセスキオキサンは、（ＲＳｉＯ３／２）を構成単位とするポリマーであり、
該Ｒは、重合性基であり、
該第２層４の厚みは、０．１μｍ以上１００μｍ以下である。
【0028】
本開示によれば、優れた耐熱性を有する電線１および該電線１を備える多芯ケーブルを提供することができる。その理由は、以下の通りと推察される。
【0029】
本実施形態の電線１において、被膜５は、第１層３と、該第１層３上に形成された第２層４と、を含み、該第１層３は、フッ素樹脂を主成分として含み、該第２層４は、シルセスキオキサンを主成分として含み、該シルセスキオキサンは、（ＲＳｉＯ３／２）を構成単位とするポリマーであり、該Ｒは、重合性基であり、該第２層４の厚みは、０．１μｍ以上１００μｍ以下である。これによると、第２層４が緻密な保護膜となる関係で、空気中の酸素による酸化劣化を防ぐことができる為、優れた耐熱性を有する電線１および該電線１を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0030】
≪電線≫
電線１の長手方向に垂直な横断面の円相当径（ｅｑｕｉｖａｌｅｎｔ ｃｉｒｃｌｅ ｄｉａｍｅｔｅｒ）は、０．１ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、０．２ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、０．５ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよい。なお、ここで、長手方向とは、後述する「第１方向」と言い換えることができる。
電線１の長手方向に垂直な横断面の円相当径（ｅｑｕｉｖａｌｅｎｔ ｃｉｒｃｌｅ ｄｉａｍｅｔｅｒ）は、０．１ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、０．２ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、０．５ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよい。なお、ここで、長手方向とは、後述する「第１方向」と言い換えることができる。
【0031】
電線１の長手方向に垂直な横断面の円相当径は、以下の方法により特定することができる。先ず、測定対象が電線１である点を除いては、導体２の平均断面積と同様の方法で、電線１の平均断面積を求める。次に該「電線１の平均断面積」に基づいて、円相当径を算出することにより、電線１の長手方向に垂直な横断面の円相当径を特定することができる。
【0032】
なお、同一の電線１において上記方法で測定する限りにおいて、測定箇所を任意に変更しても測定結果にばらつきがないことが確認されている。
【0033】
≪導体≫
電線１は、導体２を備える。導体２の材質は、導電率が高く且つ機械的強度が大きい金属材料であり得る。このような金属材料としては、例えば、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、銀、軟鉄、鋼、ステンレス鋼が挙げられる。導体２は、１種の金属材料を線状に形成した線材とすることができる。また、導体２は、線材をめっきなどの技術により、更に別の金属で被覆した多層構造としたものを用いることもできる。多層構造を有する導体２としては、例えば、錫めっき銅線、ニッケルめっき銅線、銀めっき銅線、銅めっきアルミニウム線、銅めっき鋼線が挙げられる。
電線１は、導体２を備える。導体２の材質は、導電率が高く且つ機械的強度が大きい金属材料であり得る。このような金属材料としては、例えば、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、銀、軟鉄、鋼、ステンレス鋼が挙げられる。導体２は、１種の金属材料を線状に形成した線材とすることができる。また、導体２は、線材をめっきなどの技術により、更に別の金属で被覆した多層構造としたものを用いることもできる。多層構造を有する導体２としては、例えば、錫めっき銅線、ニッケルめっき銅線、銀めっき銅線、銅めっきアルミニウム線、銅めっき鋼線が挙げられる。
【0034】
導体２の形状は特に制限されず、従来公知の形状を用いることができる。導体２の形状としては、例えば、断面が円形状の丸線、断面が正方形状の角線、長方形状の平角線、複数の素線を撚り合わせた撚り線が挙げられる。
【0035】
導体２の長手方向に垂直な横断面の円相当径（ｅｑｕｉｖａｌｅｎｔ ｃｉｒｃｌｅ ｄｉａｍｅｔｅｒ）は、０．０５ｍｍ以上３０ｍｍ以下であってもよく、０．１ｍｍ以上１５ｍｍ以下であってもよく、０．３ｍｍ以上８ｍｍ以下であってもよい。ここで、長手方向とは、後述する「第１方向」と言い換えることができる。
【0036】
導体２の長手方向に垂直な横断面の円相当径は、測定対象が導体２である点を除いては、電線１の長手方向に垂直な横断面の円相当径と同様の方法で特定することができる。
【0037】
なお、同一の導体２において上記方法で測定する限りにおいて、測定箇所を任意に変更しても測定結果にばらつきがないことが確認されている。
【0038】
導体２の平均断面積は特に制限されず、用途によって適宜選択することができる。導体２の平均断面積は、０．００１５ｍｍ２以上５５０ｍｍ２以下であってもよく、０．００６ｍｍ２以上１４０ｍｍ２以下であってもよく、０．０５ｍｍ２以上４０ｍｍ２以下であってもよい。本開示において、導体２の平均断面積の測定方法は以下の通りである。１本の導体２を直線状にのばし、導体２の一方の端部から他方の端部をつなぐ第１方向を法線とする平面で導体２を切断し、断面を露出させて断面積を測定する。１本の導体２について、任意の５箇所で第１方向を法線とする平面で導体２を切断して断面積を測定し、平均値を算出する。該平均値が、導体２の平均断面積に該当する。
【0039】
≪被膜≫
電線１は、導体２を被覆する被膜５を備える。被膜５は、第１層３と、該第１層３上に形成された第２層４と、を含む。被膜５は、第１層３と、該第１層３上に形成された第２層４と、のみからなってもよく、第１層３と、第２層４との間に形成された第３層を更に含んでもよく、第１層３と、該第１層３上に形成された第２層４と、に加えて、後述する他の層を更に含んでもよい。
電線１は、導体２を被覆する被膜５を備える。被膜５は、第１層３と、該第１層３上に形成された第２層４と、を含む。被膜５は、第１層３と、該第１層３上に形成された第２層４と、のみからなってもよく、第１層３と、第２層４との間に形成された第３層を更に含んでもよく、第１層３と、該第１層３上に形成された第２層４と、に加えて、後述する他の層を更に含んでもよい。
【0040】
被膜５の厚みは、０．０２５ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよい。被膜５の厚みが０．０２５ｍｍ未満である場合、被膜５に破損が生じ易い傾向がある。被膜５の厚みが１０ｍｍ超である場合、電線１は硬く曲げ難くなり、且つ、コストが高くなる傾向がある。被膜５の厚みは、０．０５０ｍｍ以上２．５ｍｍ以下であってもよく、０．１５０ｍｍ以上１ｍｍ以下であってもよい。
【0041】
本開示において、被膜５の厚みは以下の方法で特定することができる。電線１を直線状にのばし、該電線１の一方の端部から他方の端部をつなぐ第１方向を法線とする平面で、該電線１を切断し、断面を露出させる。該断面において、任意の３箇所の被膜５の厚さを測定し、これらの平均値を算出する。任意の計５箇所で第１方向を法線とする平面で電線１を切断して該平均値を求め、これらの平均を算出することにより、被膜５の厚みを特定する。
【0042】
なお、同一の電線１において上記方法で測定する限りにおいて、測定箇所を任意に変更しても測定結果にばらつきがないことが確認されている。
【0043】
＜第１層＞
第１層３は、フッ素樹脂を主成分として含む。ここで、「フッ素樹脂を主成分として含む」とは、フッ素樹脂を例えば５０質量％以上で含むことを意味する。第１層３は、フッ素樹脂からなってもよい。「第１層３は、フッ素樹脂からなってもよい」とは、第１層３は、フッ素樹脂のみからなってもよく、本開示の効果を損なわない範囲でフッ素樹脂に加えて、他の成分（第１不可避不純物など）を含んでもよいことを意味する。第１不可避不純物として、架橋助剤（トリアリルイソシアヌレート、トリメチルペンテントリメタクリレートなど）、充填剤（シリカ、タルク、炭酸カルシウム、クレー、酸化亜鉛など）、滑剤（オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、ステアリン酸、ステアリン酸亜鉛など）、着色顔料（酸化チタンなどの無機顔料、有機顔料、カーボンなど）、難燃剤（臭素系難燃剤、三酸化アンチモン、メラミンシアヌレート、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウムなど）などが挙げられる。
第１層３は、フッ素樹脂を主成分として含む。ここで、「フッ素樹脂を主成分として含む」とは、フッ素樹脂を例えば５０質量％以上で含むことを意味する。第１層３は、フッ素樹脂からなってもよい。「第１層３は、フッ素樹脂からなってもよい」とは、第１層３は、フッ素樹脂のみからなってもよく、本開示の効果を損なわない範囲でフッ素樹脂に加えて、他の成分（第１不可避不純物など）を含んでもよいことを意味する。第１不可避不純物として、架橋助剤（トリアリルイソシアヌレート、トリメチルペンテントリメタクリレートなど）、充填剤（シリカ、タルク、炭酸カルシウム、クレー、酸化亜鉛など）、滑剤（オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、ステアリン酸、ステアリン酸亜鉛など）、着色顔料（酸化チタンなどの無機顔料、有機顔料、カーボンなど）、難燃剤（臭素系難燃剤、三酸化アンチモン、メラミンシアヌレート、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウムなど）などが挙げられる。
【0044】
第１層３のフッ素樹脂は、パーフルオロアルコキシアルカン樹脂、フッ素化エチレンプロピレン樹脂、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂、および架橋エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂からなる群より選択される少なくとも１種のフッ素樹脂であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線１および該電線１を備える多芯ケーブルを提供することができる。なお、本開示において、パーフルオロアルコキシアルカン樹脂は、ＰＦＡ樹脂と言い換えることができ、フッ素化エチレンプロピレン樹脂は、ＦＥＰ樹脂と言い換えることができ、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂は、ＥＴＦＥ樹脂と言い換えることができ、架橋エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂は、架橋ＥＴＦＥ樹脂と言い換えることができる。
【0045】
第１層３のフッ素樹脂は、第１官能基で変性された樹脂であり、該第１官能基は、カルボキシル基またはエーテル基を有してもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線１および該電線１を備える多芯ケーブルを提供することができる。なお、第１官能基で変性された樹脂としては、例えば、ＰＦＡ樹脂を無水マレイン酸基で変性処理した樹脂、ＰＦＡ樹脂をカルボキシル基で変性処理した樹脂、ＰＦＡ樹脂をエポキシ基で変性処理した樹脂、ＦＥＰ樹脂を無水マレイン酸基で変性処理した樹脂、ＦＥＰ樹脂をカルボキシル基で変性処理した樹脂、ＦＥＰ樹脂をエポキシ基で変性処理した樹脂、ＥＴＦＥ樹脂を無水マレイン酸基で変性処理した樹脂、ＥＴＦＥ樹脂をカルボキシル基で変性処理した樹脂、ＥＴＦＥ樹脂をエポキシ基で変性処理した樹脂、架橋ＥＴＦＥ樹脂を無水マレイン酸基で変性処理した樹脂、架橋ＥＴＦＥ樹脂をカルボキシル基で変性処理した樹脂、および架橋ＥＴＦＥ樹脂をエポキシ基で変性処理した樹脂が挙げられる。なお、「第１官能基で変性された」状態とは、第１官能基がポリマー分子鎖の末端または非末端に対しグラフト結合している状態、または、第１官能基がポリマー分子鎖中に共重合している状態を意味する。
【0046】
第１官能基は、カルボキシル基、無水マレイン酸基、およびエポキシ基からなる群より選択される少なくとも１種の官能基であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線１および該電線１を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0047】
第１層３のフッ素樹脂は、親水化表面処理が施された状態の樹脂であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0048】
上記親水化表面処理は、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、および活性ナトリウムによるエッチング処理からなる群より選択される少なくとも１種の表面処理であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線および該電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0049】
第１層３の組成は、核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクトルおよびフーリエ変換赤外分光法（ＦＴ－ＩＲ）による赤外吸収スペクトルの測定に基づく化学結合状態の解析と、示差走査熱量計による結晶融解温度および結晶融解熱量の測定と、を組み合わせて実行することによって特定することができる。
【0050】
第１層３のフッ素樹脂の重量平均分子量は、１０，０００以上５，０００，０００以下であってもよく、５０，０００以上２，０００，０００以下であってもよく、１００，０００以上１，０００，０００以下であってもよい。第１層３において、フッ素樹脂の重量平均分子量は、ＪＩＳ－Ｋ７２５２－１：２００８「プラスチック－サイズ排除クロマトグラフィーによる高分子の平均分子量および分子量分布の求め方－第１部：通則」に準拠して、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定することにより特定できる。
【0051】
第１層３の厚みは、０．０２５ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよい。これによって、電線１に対しより優れた耐熱性を付与することができる。また、電線１をより折り曲げ易くすることができる。第１層３の厚みの下限は、０．０２５ｍｍ以上であってもよく、０．０５０ｍｍ以上であってもよく、０．１００ｍｍ以上であってもよく、０．２００ｍｍ以上であってもよい。第１層３の厚みの上限は、１０ｍｍ以下であってもよく、２．５ｍｍ以下であってもよく、１ｍｍ以下であってもよく、０．５００ｍｍ以下であってもよい。第１層３の厚みは、０．０５０ｍｍ以上２．５ｍｍ以下であってもよく、０．１００ｍｍ以上１ｍｍ以下であってもよい。
【0052】
第１層３の厚みは、測定対象が第１層３である点を除いては、被膜５の厚みと同様の方法で特定することができる。
【0053】
なお、同一の電線１において上記方法で測定する限りにおいて、測定箇所を任意に変更しても測定結果にばらつきがないことが確認されている。
【0054】
＜第３層＞
被膜５は、第１層３と、第２層４との間に形成された第３層（図示なし）を更に含み、該第３層は、フッ素樹脂を主成分として含んでもよい。これによって、電線１に対しより優れた耐熱性を付与することができる。ここで、「フッ素樹脂を主成分として含む」とは、フッ素樹脂を例えば５０質量％以上で含むことを意味する。第３層は、フッ素樹脂からなってもよい。「第３層は、フッ素樹脂からなってもよい」とは、第３層は、フッ素樹脂のみからなってもよく、本開示の効果を損なわない範囲でフッ素樹脂に加えて、他の成分（第３不可避不純物など）を含んでもよいことを意味する。第３不可避不純物として、架橋助剤（トリアリルイソシアヌレート、トリメチルペンテントリメタクリレートなど）、充填剤（シリカ、タルク、炭酸カルシウム、クレー、酸化亜鉛など）、滑剤（オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、ステアリン酸、ステアリン酸亜鉛など）、着色顔料（酸化チタンなどの無機顔料、有機顔料、カーボンなど）、難燃剤（臭素系難燃剤、三酸化アンチモン、メラミンシアヌレート、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウムなど）などが挙げられる。
被膜５は、第１層３と、第２層４との間に形成された第３層（図示なし）を更に含み、該第３層は、フッ素樹脂を主成分として含んでもよい。これによって、電線１に対しより優れた耐熱性を付与することができる。ここで、「フッ素樹脂を主成分として含む」とは、フッ素樹脂を例えば５０質量％以上で含むことを意味する。第３層は、フッ素樹脂からなってもよい。「第３層は、フッ素樹脂からなってもよい」とは、第３層は、フッ素樹脂のみからなってもよく、本開示の効果を損なわない範囲でフッ素樹脂に加えて、他の成分（第３不可避不純物など）を含んでもよいことを意味する。第３不可避不純物として、架橋助剤（トリアリルイソシアヌレート、トリメチルペンテントリメタクリレートなど）、充填剤（シリカ、タルク、炭酸カルシウム、クレー、酸化亜鉛など）、滑剤（オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、ステアリン酸、ステアリン酸亜鉛など）、着色顔料（酸化チタンなどの無機顔料、有機顔料、カーボンなど）、難燃剤（臭素系難燃剤、三酸化アンチモン、メラミンシアヌレート、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウムなど）などが挙げられる。
【0055】
第３層のフッ素樹脂は、パーフルオロアルコキシアルカン樹脂、フッ素化エチレンプロピレン樹脂、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂、および架橋エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂からなる群より選択される少なくとも１種のフッ素樹脂であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線１および該電線１を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0056】
第３層のフッ素樹脂は、第２官能基で変性された樹脂であり、該第２官能基は、カルボキシル基またはエーテル基を有してもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線１および該電線１を備える多芯ケーブルを提供することができる。なお、第２官能基で変性された樹脂としては、例えば、ＰＦＡ樹脂を無水マレイン酸基で変性処理した樹脂、ＰＦＡ樹脂をカルボキシル基で変性処理した樹脂、ＰＦＡ樹脂をエポキシ基で変性処理した樹脂、ＦＥＰ樹脂を無水マレイン酸基で変性処理した樹脂、ＦＥＰ樹脂をカルボキシル基で変性処理した樹脂、ＦＥＰ樹脂をエポキシ基で変性処理した樹脂、ＥＴＦＥ樹脂を無水マレイン酸基で変性処理した樹脂、ＥＴＦＥ樹脂をカルボキシル基で変性処理した樹脂、ＥＴＦＥ樹脂をエポキシ基で変性処理した樹脂、架橋ＥＴＦＥ樹脂を無水マレイン酸基で変性処理した樹脂、架橋ＥＴＦＥ樹脂をカルボキシル基で変性処理した樹脂、および架橋ＥＴＦＥ樹脂をエポキシ基で変性処理した樹脂が挙げられる。なお、「第２官能基で変性された」状態とは、第２官能基がポリマー分子鎖の末端または非末端に対しグラフト結合している状態、または、第２官能基がポリマー分子鎖中に共重合している状態を意味する。
【0057】
第２官能基は、カルボキシル基、無水マレイン酸基、およびエポキシ基からなる群より選択される少なくとも１種の官能基であってもよい。これによって、より優れた耐熱性を有する電線１および該電線１を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0058】
第３層の組成は、測定対象が「第３層」である点を除いては、「第１層３の組成」の測定方法と同様の方法で特定することができる。
【0059】
第３層のフッ素樹脂の重量平均分子量は、１０，０００以上５，０００，０００以下であってもよく、５０，０００以上２，０００，０００以下であってもよく、１００，０００以上１，０００，０００以下であってもよい。第３層において、フッ素樹脂の重量平均分子量は、ＪＩＳ－Ｋ７２５２－１：２００８「プラスチック－サイズ排除クロマトグラフィーによる高分子の平均分子量および分子量分布の求め方－第１部：通則」に準拠して、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定することにより特定できる。
【0060】
第３層の厚みは、０．０２５ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよい。これによって、電線１に対しより優れた耐熱性を付与することができる。また、電線１をより折り曲げ易くすることができる。第３層の厚みの下限は、０．０２５ｍｍ以上であってもよく、０．０５０ｍｍ以上であってもよく、０．１００ｍｍ以上であってもよく、０．２００ｍｍ以上であってもよい。第３層の厚みの上限は、１０ｍｍ以下であってもよく、２．５ｍｍ以下であってもよく、１ｍｍ以下であってもよく、０．５００ｍｍ以下であってもよい。第３層の厚みは、０．０５０ｍｍ以上２．５ｍｍ以下であってもよく、０．１００ｍｍ以上１ｍｍ以下であってもよい。
【0061】
第３層の厚みは、測定対象が第３層である点を除いては、被膜５の厚みと同様の方法で特定することができる。
【0062】
なお、同一の電線１において上記方法で測定する限りにおいて、測定箇所を任意に変更しても測定結果にばらつきがないことが確認されている。
【0063】
＜第２層＞
第２層４は、シルセスキオキサンを主成分として含む。ここで、「シルセスキオキサンを主成分として含む」とは、シルセスキオキサンを例えば５０質量％以上で含むことを意味する。シルセスキオキサンは、（ＲＳｉＯ３／２）を構成単位とするポリマーであり、該Ｒは、重合性基である。これらによって、電線１に対し、優れた耐熱性を付与することができる。第２層４は、シルセスキオキサンからなってもよい。「第２層４は、シルセスキオキサンからなってもよい」とは、第２層４は、シルセスキオキサンのみからなってもよく、本開示の効果を損なわない範囲でシルセスキオキサンに加えて、他の成分（第２不可避不純物など）を含んでもよいことを意味する。第２不可避不純物として、光ラジカル重合開始剤、熱重合開始剤、アクリルモノマー、有機溶剤、滑剤、顔料などが挙げられる。
第２層４は、シルセスキオキサンを主成分として含む。ここで、「シルセスキオキサンを主成分として含む」とは、シルセスキオキサンを例えば５０質量％以上で含むことを意味する。シルセスキオキサンは、（ＲＳｉＯ３／２）を構成単位とするポリマーであり、該Ｒは、重合性基である。これらによって、電線１に対し、優れた耐熱性を付与することができる。第２層４は、シルセスキオキサンからなってもよい。「第２層４は、シルセスキオキサンからなってもよい」とは、第２層４は、シルセスキオキサンのみからなってもよく、本開示の効果を損なわない範囲でシルセスキオキサンに加えて、他の成分（第２不可避不純物など）を含んでもよいことを意味する。第２不可避不純物として、光ラジカル重合開始剤、熱重合開始剤、アクリルモノマー、有機溶剤、滑剤、顔料などが挙げられる。
【0064】
シルセスキオキサンは、ランダム構造、ハシゴ構造、完全カゴ型構造、および不完全カゴ型構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含んでもよい。なお、ここで「ランダム構造」とは、式１で表される構造を意味し、「ハシゴ構造」とは、式２で表される構造を意味し、「完全カゴ型構造」とは、式３で表される構造または式４で表される構造を意味し、「不完全カゴ型構造」とは、式５で表される構造または式６で表される構造を意味する。なお、式３で表される構造は、「Ｔ８」と言い換えることができ、式４で表される構造は、「Ｔ１０」と言い換えることができる。
【0065】
【化1】
【0066】
【化2】
【0067】
【化3】
【0068】
重合性基は、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基であってもよい。これらの重合性基は、重合反応性、特に光重合反応性に優れている関係で、より優れた耐熱性を有する電線１および該電線１を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0069】
重合性基は、アクリロイル基、メタクリロイル基、およびオキセタニル基からなる群より選択される１種の重合性基であってもよい。これらの重合性基は、重合反応性、特に光重合反応性に優れている関係で、より優れた耐熱性を有する電線１および該電線１を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0070】
第２層４の組成は、核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクトルおよびフーリエ変換赤外分光法（ＦＴ－ＩＲ）による赤外吸収スペクトルの測定に基づく化学結合状態の解析と、熱重量測定（ＴＧ）による灰分の測定と、を組み合わせて実行することによって特定することができる。
【0071】
第２層４の厚みは、０．１μｍ以上１００μｍ以下である。これによって、第２層４は、耐熱性効果を十分に発揮することができる為、優れた耐熱性を有する電線１および該電線１を備える多芯ケーブルを提供することができる。第２層４の厚みの下限は、０．１μｍ以上であってもよく、０．５μｍ以上であってもよく、１μｍ以上であってもよく、２μｍ以上であってもよい。第２層４の厚みの上限は、１００μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以下であってもよい。第２層４の厚みは、０．５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１μｍ以上２０μｍ以下であってもよい。
【0072】
第２層４の厚みは、測定対象が第２層４である点を除いては、被膜５の厚みと同様の方法で特定することができる。
【0073】
なお、同一の第２層４において上記方法で測定する限りにおいて、測定箇所を任意に変更しても測定結果にばらつきがないことが確認されている。
【0074】
＜他の層＞
上記被膜５は、他の層を更に含み得る。該他の層としては、表面層、中間層などが挙げられる。表面層とは、被膜５の表面に位置する層である。中間層とは、導体２と第１層３との間または第１層３と第２層４との間に位置する層である。
上記被膜５は、他の層を更に含み得る。該他の層としては、表面層、中間層などが挙げられる。表面層とは、被膜５の表面に位置する層である。中間層とは、導体２と第１層３との間または第１層３と第２層４との間に位置する層である。
【0075】
≪電線の製造方法≫
被膜５が第１層３と第２層４との間に形成された第３層を含まない場合においては、本実施形態の電線１の製造方法は、例えば、導体２、第１層３形成用コンパウンド、および第２層４形成用ワニスを準備する、第１工程と、該導体２の外周面上に第１層３を形成する、第２工程と、該第１層３の表面上に第２層４を形成する、第３工程と、をこの順で含む。被膜５が第１層３と第２層４との間に形成された第３層を更に含む場合においては、本実施形態の電線１の製造方法は、例えば、第２工程と、第３工程との間で、第２Ａ工程を更に含む。第１工程は、導体２を準備する、第１Ａ工程と、第１層３形成用コンパウンドを準備する、第１Ｂ工程と、第２層４形成用ワニスを準備する、第１Ｃ工程と、を含む。被膜５が第１層３と第２層４との間に形成された第３層を更に含む場合においては、第１工程は、第３層形成用ワニスを準備する、第１Ｄ工程を更に含む。本実施形態の電線１の製造方法は、「他の層を形成する工程」を更に含むことができる。なお、「他の層を形成する工程」は、従来公知の方法により実行することができる。
被膜５が第１層３と第２層４との間に形成された第３層を含まない場合においては、本実施形態の電線１の製造方法は、例えば、導体２、第１層３形成用コンパウンド、および第２層４形成用ワニスを準備する、第１工程と、該導体２の外周面上に第１層３を形成する、第２工程と、該第１層３の表面上に第２層４を形成する、第３工程と、をこの順で含む。被膜５が第１層３と第２層４との間に形成された第３層を更に含む場合においては、本実施形態の電線１の製造方法は、例えば、第２工程と、第３工程との間で、第２Ａ工程を更に含む。第１工程は、導体２を準備する、第１Ａ工程と、第１層３形成用コンパウンドを準備する、第１Ｂ工程と、第２層４形成用ワニスを準備する、第１Ｃ工程と、を含む。被膜５が第１層３と第２層４との間に形成された第３層を更に含む場合においては、第１工程は、第３層形成用ワニスを準備する、第１Ｄ工程を更に含む。本実施形態の電線１の製造方法は、「他の層を形成する工程」を更に含むことができる。なお、「他の層を形成する工程」は、従来公知の方法により実行することができる。
【0076】
＜第１工程＞
＜第１Ａ工程：導体を準備する工程＞
第１Ａ工程において、導体２を準備する。導体２は、従来公知の方法を用いて製造することにより準備してもよく、市販品を購入することにより準備してもよい。
＜第１Ａ工程：導体を準備する工程＞
第１Ａ工程において、導体２を準備する。導体２は、従来公知の方法を用いて製造することにより準備してもよく、市販品を購入することにより準備してもよい。
【0077】
＜第１Ｂ工程：第１層形成用コンパウンドを準備する工程＞
第１Ｂ工程において、第１層３形成用コンパウンドを準備する。例えば、第１層３形成用コンパウンドは、以下の方法により準備することができる。先ず、原材料として、フッ素樹脂を準備する。原材料として、該フッ素樹脂に加えて、例えば、架橋助剤、滑剤、充填剤などを準備してもよい。次に、該原材料を混練することにより、第１層３形成用コンパウンドを準備することができる。
第１Ｂ工程において、第１層３形成用コンパウンドを準備する。例えば、第１層３形成用コンパウンドは、以下の方法により準備することができる。先ず、原材料として、フッ素樹脂を準備する。原材料として、該フッ素樹脂に加えて、例えば、架橋助剤、滑剤、充填剤などを準備してもよい。次に、該原材料を混練することにより、第１層３形成用コンパウンドを準備することができる。
【0078】
フッ素樹脂としては、例えば、パーフルオロアルコキシアルカン樹脂、フッ素化エチレンプロピレン樹脂、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂、架橋エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー樹脂、およびこれらの樹脂を無水マレイン酸基、カルボキシル基、またはエポキシ基で変性処理した樹脂が挙げられる。
【0079】
フッ素樹脂の重量平均分子量は、１０，０００以上５，０００，０００以下であってもよく、５０，０００以上２，０００，０００以下であってもよく、１００，０００以上１，０００，０００以下であってもよい。
【0080】
混練は、例えば、２８０℃以上３５０℃以下に加熱したロールを用いて実行することができる。また、混練の時間は、５分以上３０分以下とすることができる。
【0081】
＜第１Ｃ工程：第２層形成用ワニスを準備する工程＞
第１Ｃ工程において、第２層４形成用ワニスを準備する。例えば、第２層４形成用ワニスは、以下の方法により準備することができる。先ず、原材料として、シルセスキオキサン誘導体を準備する。シルセスキオキサン誘導体は、従来公知の方法で製造することにより準備してもよく、市販品を購入することにより準備してもよい。原材料として、シルセスキオキサン誘導体に加えて、例えば、光ラジカル重合開始剤、アクリルモノマー、溶剤などを準備してもよい。次に、シルセスキオキサン誘導体に対し、光ラジカル重合開始剤などを添加し、撹拌することにより、第２層４形成用ワニスを準備することができる。
第１Ｃ工程において、第２層４形成用ワニスを準備する。例えば、第２層４形成用ワニスは、以下の方法により準備することができる。先ず、原材料として、シルセスキオキサン誘導体を準備する。シルセスキオキサン誘導体は、従来公知の方法で製造することにより準備してもよく、市販品を購入することにより準備してもよい。原材料として、シルセスキオキサン誘導体に加えて、例えば、光ラジカル重合開始剤、アクリルモノマー、溶剤などを準備してもよい。次に、シルセスキオキサン誘導体に対し、光ラジカル重合開始剤などを添加し、撹拌することにより、第２層４形成用ワニスを準備することができる。
【0082】
撹拌速度は、例えば、１０ｒｐｍ以上１０００ｒｐｍ以下であり得る。撹拌時の温度は、１０℃以上４０℃以下であり得る。撹拌時の温度は、室温であってもよい。撹拌時間は、５分以上３０分以下であり得る。
【0083】
＜第１Ｄ工程：第３層形成用ワニスを準備する工程＞
第１Ｄ工程において、第３層形成用コンパウンドを準備する。第１Ｄ工程は、「第１層形成用コンパウンド」が「第３層形成用コンパウンド」に読み替えられる点を除いては、第１Ｂ工程と同様の方法で実行される。
第１Ｄ工程において、第３層形成用コンパウンドを準備する。第１Ｄ工程は、「第１層形成用コンパウンド」が「第３層形成用コンパウンド」に読み替えられる点を除いては、第１Ｂ工程と同様の方法で実行される。
【0084】
＜第２工程＞
第２工程において、導体２の外周面上に第１層３を形成する。例えば、第１層３は、以下の方法により形成することができる。先ず、第１層３形成用コンパウンドを、ヘッドが３００℃以上３５０℃以下、シリンダーが２８０℃以上３２０℃以下に設定された押出機内に圧入する。次に、上記導体２の外周に対し、第１層３形成用コンパウンドを押出被覆する。第１層のフッ素樹脂が架橋ＥＴＦＥ樹脂である場合においては、押出被覆された第１層３形成用コンパウンドに対し、０．１ｋＧｙ以上５００ｋＧｙ以下の電子線を照射してもよい。以上によって、導体２の外周面上に第１層３を形成することができる。
第２工程において、導体２の外周面上に第１層３を形成する。例えば、第１層３は、以下の方法により形成することができる。先ず、第１層３形成用コンパウンドを、ヘッドが３００℃以上３５０℃以下、シリンダーが２８０℃以上３２０℃以下に設定された押出機内に圧入する。次に、上記導体２の外周に対し、第１層３形成用コンパウンドを押出被覆する。第１層のフッ素樹脂が架橋ＥＴＦＥ樹脂である場合においては、押出被覆された第１層３形成用コンパウンドに対し、０．１ｋＧｙ以上５００ｋＧｙ以下の電子線を照射してもよい。以上によって、導体２の外周面上に第１層３を形成することができる。
【0085】
第２Ａ工程において、第１層３の表面上に第３層を形成する。例えば、第３層は、以下の方法により形成することができる。先ず、第３層形成用コンパウンドを、ヘッドが３００℃以上３５０℃以下、シリンダーが２８０℃以上３２０℃以下に設定された押出機内に圧入する。次に、上記第１層３の表面に対し、第３層形成用コンパウンドを押出被覆する。第３層のフッ素樹脂が架橋ＥＴＦＥ樹脂である場合においては、押出被覆された第３層形成用コンパウンドに対し、０．１ｋＧｙ以上５００ｋＧｙ以下の電子線を照射してもよい。以上によって、第１層３の表面上に第３層を形成することができる。
【0086】
＜第３工程＞
本実施形態の電線１の製造方法が、第２工程と、第３工程との間で、第２Ａ工程を含まない場合においては、第３工程において、第１層３の表面上に第２層４を形成する。例えば、第２層４は、以下の方法により形成することができる。先ず、第１層３の表面上に第２層４形成用ワニスを塗布する。次に、第１層３の表面上に塗布された第２層４形成用ワニスに対し、以下の条件で光硬化処理を実行することにより、第１層３の表面上に第２層４を形成することができる。なお、第２層４の厚みが所定の厚みとなるまで、第３工程を繰り返し実行してもよい。
（光硬化処理の条件）
光源：高圧水銀灯（入力電力：１０Ｗ／ｃｍ以上３００Ｗ／ｃｍ以下）
ランプ高さ：１ｃｍ以上５０ｃｍ以下
コンベアスピード：１ｍ／分以上１０ｍ／分以下
１パス当たりの積算光量：１，０００ｍＪ／ｃｍ２以上３０，０００ｍＪ／ｃｍ２以下
パス回数：１回以上１０回以下
雰囲気：空気
本実施形態の電線１の製造方法が、第２工程と、第３工程との間で、第２Ａ工程を含まない場合においては、第３工程において、第１層３の表面上に第２層４を形成する。例えば、第２層４は、以下の方法により形成することができる。先ず、第１層３の表面上に第２層４形成用ワニスを塗布する。次に、第１層３の表面上に塗布された第２層４形成用ワニスに対し、以下の条件で光硬化処理を実行することにより、第１層３の表面上に第２層４を形成することができる。なお、第２層４の厚みが所定の厚みとなるまで、第３工程を繰り返し実行してもよい。
（光硬化処理の条件）
光源：高圧水銀灯（入力電力：１０Ｗ／ｃｍ以上３００Ｗ／ｃｍ以下）
ランプ高さ：１ｃｍ以上５０ｃｍ以下
コンベアスピード：１ｍ／分以上１０ｍ／分以下
１パス当たりの積算光量：１，０００ｍＪ／ｃｍ２以上３０，０００ｍＪ／ｃｍ２以下
パス回数：１回以上１０回以下
雰囲気：空気
【0087】
本実施形態の電線１の製造方法が、第２工程と、第３工程との間で、第２Ａ工程を更に含む場合においては、第３工程において、第３層の表面上に第２層４を形成する。例えば、第２層４は、以下の方法により形成することができる。先ず、第３層の表面上に第２層４形成用ワニスを塗布する。次に、第３層の表面上に塗布された第２層４形成用ワニスに対し、以下の条件で光硬化処理を実行することにより、第３層の表面上に第２層４を形成することができる。なお、第２層４の厚みが所定の厚みとなるまで、第３工程を繰り返し実行してもよい。
（光硬化処理の条件）
光源：高圧水銀灯（入力電力：１０Ｗ／ｃｍ以上３００Ｗ／ｃｍ以下）
ランプ高さ：１ｃｍ以上５０ｃｍ以下
コンベアスピード：１ｍ／分以上１０ｍ／分以下
１パス当たりの積算光量：１，０００ｍＪ／ｃｍ２以上３０，０００ｍＪ／ｃｍ２以下
パス回数：１回以上１０回以下
雰囲気：空気
（光硬化処理の条件）
光源：高圧水銀灯（入力電力：１０Ｗ／ｃｍ以上３００Ｗ／ｃｍ以下）
ランプ高さ：１ｃｍ以上５０ｃｍ以下
コンベアスピード：１ｍ／分以上１０ｍ／分以下
１パス当たりの積算光量：１，０００ｍＪ／ｃｍ２以上３０，０００ｍＪ／ｃｍ２以下
パス回数：１回以上１０回以下
雰囲気：空気
【0088】
［実施形態２：多芯ケーブル］
本実施形態の多芯ケーブルは、実施形態１に記載の電線を備える。
本実施形態の多芯ケーブルは、実施形態１に記載の電線を備える。
【0089】
本開示によれば、優れた耐熱性を有する電線を備える多芯ケーブルを提供することができる。
【0090】
本実施形態に係る多芯ケーブルは、実施形態１に記載の電線を備える限りにおいて特に制限されない。なお、本開示において、多芯ケーブルとは、複数の電線を備えるケーブルを意味する。「本実施形態の多芯ケーブルは、実施形態１に記載の電線を備える」とは、本実施形態に記載の多芯ケーブルが備える複数の電線のうち、少なくとも１つは、実施形態１に記載の電線であることを意味する。
【0091】
≪多芯ケーブルの製造方法≫
本実施形態に係る多芯ケーブルの製造方法は、実施形態１に記載の電線を用いる点を除いては、従来公知の方法と同様の方法により実行することができる。
本実施形態に係る多芯ケーブルの製造方法は、実施形態１に記載の電線を用いる点を除いては、従来公知の方法と同様の方法により実行することができる。
【実施例】
【0092】
本実施の形態を実施例によりさらに具体的に説明する。ただし、これらの実施例により本実施の形態が限定されるものではない。
【0093】
≪電線の作製≫
以下の様にして、試料１～１９、１０１～１１２に係る電線を作製した。
以下の様にして、試料１～１９、１０１～１１２に係る電線を作製した。
【0094】
＜第１工程＞
表１１および表１２に記載の導体を、市販品を購入することにより準備した（第１Ａ工程）。また、表１および表２に記載の原材料を、表１および表２に記載の組成で、表１および表２に記載の温度に加熱したロールを用いて、表１および表２に記載の時間混練することにより、第１層形成用コンパウンドを準備した（第１Ｂ工程）。なお、フッ素樹脂としては、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に架橋ＥＴＦＥ樹脂、架橋ＥＴＦＥ樹脂（無水マレイン酸基による変性）、架橋ＥＴＦＥ樹脂（カルボキシル基による変性）、または架橋ＥＴＦＥ樹脂（エポキシ基による変性）と記載されている場合を除いては、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に記載された樹脂を用いた。ＰＦＡ樹脂としては、ＡＧＣ社製の「Ｐ－６３Ｐ」（商標）を用い、ＦＥＰ樹脂としては、ケマーズ社製の「９４９４」（商標）を用い、ＥＴＦＥ樹脂としては、ＡＧＣ社製の「Ｃ－５５ＡＸＰ」（商標）を用いた。表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に架橋ＥＴＦＥ樹脂、架橋ＥＴＦＥ樹脂（無水マレイン酸基による変性）、架橋ＥＴＦＥ樹脂（カルボキシル基による変性）、または架橋ＥＴＦＥ樹脂（エポキシ基による変性）と記載されている場合は、フッ素樹脂としてＡＧＣ社製の「Ｃ－５５ＡＸＰ」（商標）を用いた。架橋助剤としては、ａｌｌｎｅｘ社製の「ＥＢＥＣＲＹＬ」（商標）を用いた。「無水マレイン酸基を有する不飽和モノマー」としては、東京化成工業株式会社製の無水マレイン酸を用いた。「カルボキシル基を有する不飽和モノマー」としては、東京化成工業株式会社製のアクリル酸を用いた。「エポキシ基を有する不飽和モノマー」としては、東京化成工業株式会社製のアリルグリシジルエーテルを用いた。
表１１および表１２に記載の導体を、市販品を購入することにより準備した（第１Ａ工程）。また、表１および表２に記載の原材料を、表１および表２に記載の組成で、表１および表２に記載の温度に加熱したロールを用いて、表１および表２に記載の時間混練することにより、第１層形成用コンパウンドを準備した（第１Ｂ工程）。なお、フッ素樹脂としては、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に架橋ＥＴＦＥ樹脂、架橋ＥＴＦＥ樹脂（無水マレイン酸基による変性）、架橋ＥＴＦＥ樹脂（カルボキシル基による変性）、または架橋ＥＴＦＥ樹脂（エポキシ基による変性）と記載されている場合を除いては、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に記載された樹脂を用いた。ＰＦＡ樹脂としては、ＡＧＣ社製の「Ｐ－６３Ｐ」（商標）を用い、ＦＥＰ樹脂としては、ケマーズ社製の「９４９４」（商標）を用い、ＥＴＦＥ樹脂としては、ＡＧＣ社製の「Ｃ－５５ＡＸＰ」（商標）を用いた。表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に架橋ＥＴＦＥ樹脂、架橋ＥＴＦＥ樹脂（無水マレイン酸基による変性）、架橋ＥＴＦＥ樹脂（カルボキシル基による変性）、または架橋ＥＴＦＥ樹脂（エポキシ基による変性）と記載されている場合は、フッ素樹脂としてＡＧＣ社製の「Ｃ－５５ＡＸＰ」（商標）を用いた。架橋助剤としては、ａｌｌｎｅｘ社製の「ＥＢＥＣＲＹＬ」（商標）を用いた。「無水マレイン酸基を有する不飽和モノマー」としては、東京化成工業株式会社製の無水マレイン酸を用いた。「カルボキシル基を有する不飽和モノマー」としては、東京化成工業株式会社製のアクリル酸を用いた。「エポキシ基を有する不飽和モノマー」としては、東京化成工業株式会社製のアリルグリシジルエーテルを用いた。
【0095】
また、シルセスキオキサン誘導体に対し、表３および表４に記載の原材料（言い換えれば、シルセスキオキサン誘導体以外の原材料）を表３および表４に記載の組成となる様に添加し、表３および表４に記載の条件で撹拌することにより、第２層形成用ワニスを準備した（第１Ｃ工程）。なお、「第１Ｃ工程」欄の全ての欄に「－」と記載されている場合、「第１Ｃ工程」が実行されなかったことを意味する。なお、「シルセスキオキサン誘導体」としては、表１５および表１６に記載のシルセスキオキサンの誘導体を用いた。Ｒ（重合性基）がアクリロイル基（ラジカル重合性基）であるシルセスキオキサンの誘導体としては、東亞合成株式会社製の「ＡＣ－ＳＱ ＴＡ－１００」（商標）を用い、Ｒ（重合性基）がメタクリロイル基（ラジカル重合性基）であるシルセスキオキサンの誘導体としては、東亞合成株式会社製の「ＭＡＣ－ＳＱ ＴＭ－１００」（商標）を用い、Ｒ（重合性基）がオキセタニル基（カチオン重合性基）であるシルセスキオキサンの誘導体としては、東亞合成株式会社製の「ＱＸ－ＳＱ ＳＩ－２０」（商標）を用いた。光ラジカル重合開始剤としては、ＥＬＫＥＭ社製の「ＢＬＵＥＳＩＬ ＰＩ ２０７４」（商標）を用いた。
【0096】
また、表５および表６に記載の原材料を、表５および表６に記載の組成で、表５および表６に記載の温度に加熱したロールを用いて、表５および表６に記載の時間混練することにより、第３層形成用コンパウンドを準備した（第１Ｄ工程）。なお、フッ素樹脂としては、表１３および表１４の「第３層」欄の「組成」欄に架橋ＥＴＦＥ樹脂、架橋ＥＴＦＥ樹脂（無水マレイン酸基による変性）、架橋ＥＴＦＥ樹脂（カルボキシル基による変性）、または架橋ＥＴＦＥ樹脂（エポキシ基による変性）と記載されている場合を除いては、表１３および表１４の「第３層」欄の「組成」欄に記載された樹脂を用いた。表１３および表１４の「第３層」欄の「組成」欄に架橋ＥＴＦＥ樹脂、架橋ＥＴＦＥ樹脂（無水マレイン酸基による変性）、架橋ＥＴＦＥ樹脂（カルボキシル基による変性）、または架橋ＥＴＦＥ樹脂（エポキシ基による変性）と記載されている場合は、フッ素樹脂としてＡＧＣ社製の「Ｃ－５５ＡＸＰ」（商標）を用いた。また、「第１Ｄ工程」欄の全ての欄において「－」と記載されている場合、「第１Ｄ工程」が実行されなかったことを意味する。
【0097】
＜第２工程＞
先ず、第１層形成用コンパウンドを、ヘッドが表７および表８に記載の温度に設定され、且つシリンダーが表７および表８に記載の温度に設定された押出機内に圧入した。次に、上記導体の外周に対し、第１層の厚みが表１１および表１２に記載の通りとなる様に、第１層形成用コンパウンドを押出被覆した。次に、「第２工程」欄の「電子線［ｋＧｙ」欄に「０」と記載されている場合を除いては、押出被覆された第１層形成用コンパウンドに対し、表７および表８に記載の線量の電子線を照射した。以上によって、導体の外周面上に第１層を形成した。
先ず、第１層形成用コンパウンドを、ヘッドが表７および表８に記載の温度に設定され、且つシリンダーが表７および表８に記載の温度に設定された押出機内に圧入した。次に、上記導体の外周に対し、第１層の厚みが表１１および表１２に記載の通りとなる様に、第１層形成用コンパウンドを押出被覆した。次に、「第２工程」欄の「電子線［ｋＧｙ」欄に「０」と記載されている場合を除いては、押出被覆された第１層形成用コンパウンドに対し、表７および表８に記載の線量の電子線を照射した。以上によって、導体の外周面上に第１層を形成した。
【0098】
＜第２Ａ工程＞
先ず、第３層形成用コンパウンドを、ヘッドが表７および表８に記載の温度に設定され、且つシリンダーが表７および表８に記載の温度に設定された押出機内に圧入した。次に、上記導体の外周に対し、第３層の厚みが表１３および表１４に記載の通りとなる様に、第３層形成用コンパウンドを押出被覆した。次に、「第２Ａ工程」欄の「電子線［ｋＧｙ」欄に「－」または「０」と記載されている場合を除いては、押出被覆された第３層形成用コンパウンドに対し、表７および表８に記載の線量の電子線を照射した。以上によって、第１層の表面上に第３層を形成した。なお、「第２Ａ工程」欄の全ての欄に「－」と記載されている場合、「第２Ａ工程」が実行されなかったことを意味する。
先ず、第３層形成用コンパウンドを、ヘッドが表７および表８に記載の温度に設定され、且つシリンダーが表７および表８に記載の温度に設定された押出機内に圧入した。次に、上記導体の外周に対し、第３層の厚みが表１３および表１４に記載の通りとなる様に、第３層形成用コンパウンドを押出被覆した。次に、「第２Ａ工程」欄の「電子線［ｋＧｙ」欄に「－」または「０」と記載されている場合を除いては、押出被覆された第３層形成用コンパウンドに対し、表７および表８に記載の線量の電子線を照射した。以上によって、第１層の表面上に第３層を形成した。なお、「第２Ａ工程」欄の全ての欄に「－」と記載されている場合、「第２Ａ工程」が実行されなかったことを意味する。
【0099】
＜第３工程＞
先ず、第２Ａ工程が実行されなかった場合においては、第１層の表面上に第２層形成用ワニスを塗布し、第２Ａ工程が実行された場合においては、第３層の表面上に第２層形成用ワニスを塗布した。次に、第２Ａ工程が実行されなかった場合においては、第１層の表面上に塗布された第２層形成用ワニスに対し、以下の条件で光硬化処理を実行することにより、第１層の表面上に第２層を形成した。第２Ａ工程が実行された場合においては、第３層の表面上に塗布された第２層形成用ワニスに対し、以下の条件で光硬化処理を実行することにより、第３層の表面上に第２層を形成した。第２層の厚みが、表２に記載の通りになるまで、第２層形成用ワニスの塗布と、光硬化処理とを繰り返し実行した。なお、「第３工程」欄の全ての欄に「－」と記載されている場合、「第３工程」が実行されなかったことを意味する。
（光硬化処理の条件）
光源：高圧水銀灯（入力電力［Ｗ／ｃｍ］は、表９および表１０に記載の通り）
ランプ高さ：表９および表１０に記載の通り
コンベアスピード：表９および表１０に記載の通り
１パス当たりの積算光量：表９および表１０に記載の通り
パス回数：表９および表１０に記載の通り
雰囲気：空気
先ず、第２Ａ工程が実行されなかった場合においては、第１層の表面上に第２層形成用ワニスを塗布し、第２Ａ工程が実行された場合においては、第３層の表面上に第２層形成用ワニスを塗布した。次に、第２Ａ工程が実行されなかった場合においては、第１層の表面上に塗布された第２層形成用ワニスに対し、以下の条件で光硬化処理を実行することにより、第１層の表面上に第２層を形成した。第２Ａ工程が実行された場合においては、第３層の表面上に塗布された第２層形成用ワニスに対し、以下の条件で光硬化処理を実行することにより、第３層の表面上に第２層を形成した。第２層の厚みが、表２に記載の通りになるまで、第２層形成用ワニスの塗布と、光硬化処理とを繰り返し実行した。なお、「第３工程」欄の全ての欄に「－」と記載されている場合、「第３工程」が実行されなかったことを意味する。
（光硬化処理の条件）
光源：高圧水銀灯（入力電力［Ｗ／ｃｍ］は、表９および表１０に記載の通り）
ランプ高さ：表９および表１０に記載の通り
コンベアスピード：表９および表１０に記載の通り
１パス当たりの積算光量：表９および表１０に記載の通り
パス回数：表９および表１０に記載の通り
雰囲気：空気
【0100】
以上により、試料１～１９、１０１～１１２に係る電線を作製した。
【0101】
【表1】
【0102】
【表2】
【0103】
【表3】
【0104】
【表4】
【0105】
【表5】
【0106】
【表6】
【0107】
【表7】
【0108】
【表8】
【0109】
【表9】
【0110】
【表10】
【0111】
【表11】
【0112】
【表12】
【0113】
【表13】
【0114】
【表14】
【0115】
【表15】
【0116】
【表16】
【0117】
【表17】
【0118】
【表18】
【0119】
≪電線の特性評価≫
＜第１層の組成＞
各試料に係る電線について、第１層の組成を実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果を、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に記す。なお、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に成分名が記載されている場合においては、第１層は、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に記載された成分を主成分として含んでいることを意味する。例えば、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に「ＰＦＡ樹脂」と記載されている場合、第１層は、フッ素樹脂を主成分として含み、該フッ素樹脂は、パーフルオロアルコキシアルカン樹脂であることを意味する。
＜第１層の組成＞
各試料に係る電線について、第１層の組成を実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果を、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に記す。なお、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に成分名が記載されている場合においては、第１層は、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に記載された成分を主成分として含んでいることを意味する。例えば、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に「ＰＦＡ樹脂」と記載されている場合、第１層は、フッ素樹脂を主成分として含み、該フッ素樹脂は、パーフルオロアルコキシアルカン樹脂であることを意味する。
【0120】
＜第２層の組成＞
各試料に係る電線について、第２層の組成を実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果を、表１５および表１６の「第２層」欄の「組成」欄に記す。なお、表１５および表１６の「第２層」欄の「組成」欄に成分名が記載されている場合においては、第２層は、表１５および表１６の「第２層」欄の「組成」欄に記載された成分を主成分として含んでいることを意味する。例えば、表１５および表１６の「第２層」欄の「組成」欄に「シルセスキオキサン」と記載され、且つ、表１５および表１６の「第２層」欄の「Ｒ」欄に「アクリロイル基（ラジカル重合性基）」と記載されている場合、第２層は、シルセスキオキサンを主成分として含み、該シルセスキオキサンは、（ＲＳｉＯ３／２）を構成単位とするポリマーであり、該Ｒは、重合性基であり、該重合性基は、ラジカル重合性基であり、且つ、アクリロイル基であることを意味する。
各試料に係る電線について、第２層の組成を実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果を、表１５および表１６の「第２層」欄の「組成」欄に記す。なお、表１５および表１６の「第２層」欄の「組成」欄に成分名が記載されている場合においては、第２層は、表１５および表１６の「第２層」欄の「組成」欄に記載された成分を主成分として含んでいることを意味する。例えば、表１５および表１６の「第２層」欄の「組成」欄に「シルセスキオキサン」と記載され、且つ、表１５および表１６の「第２層」欄の「Ｒ」欄に「アクリロイル基（ラジカル重合性基）」と記載されている場合、第２層は、シルセスキオキサンを主成分として含み、該シルセスキオキサンは、（ＲＳｉＯ３／２）を構成単位とするポリマーであり、該Ｒは、重合性基であり、該重合性基は、ラジカル重合性基であり、且つ、アクリロイル基であることを意味する。
【0121】
＜第３層の組成＞
各試料に係る電線について、第３層の組成を実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果を、表１３および表１４の「第３層」欄の「組成」欄に記す。なお、表１３および表１４の「第３層」欄の「組成」欄に成分名が記載されている場合においては、第３層は、表１３および表１４の「第３層」欄の「組成」欄に記載された成分を主成分として含んでいることを意味する。例えば、表１３および表１４の「第３層」欄の「組成」欄に「ＰＦＡ樹脂」と記載されている場合、第３層は、フッ素樹脂を主成分として含み、該フッ素樹脂は、パーフルオロアルコキシアルカン樹脂であることを意味する。
各試料に係る電線について、第３層の組成を実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果を、表１３および表１４の「第３層」欄の「組成」欄に記す。なお、表１３および表１４の「第３層」欄の「組成」欄に成分名が記載されている場合においては、第３層は、表１３および表１４の「第３層」欄の「組成」欄に記載された成分を主成分として含んでいることを意味する。例えば、表１３および表１４の「第３層」欄の「組成」欄に「ＰＦＡ樹脂」と記載されている場合、第３層は、フッ素樹脂を主成分として含み、該フッ素樹脂は、パーフルオロアルコキシアルカン樹脂であることを意味する。
【0122】
＜被膜の厚み＞
各試料に係る電線について、被膜の厚みを実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果を、表１５および表１６の「被膜」欄の「厚み［μｍ］」欄に記す。
各試料に係る電線について、被膜の厚みを実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果を、表１５および表１６の「被膜」欄の「厚み［μｍ］」欄に記す。
【0123】
＜電線の長手方向に垂直な横断面の円相当径＞
各試料に係る電線について、電線の長手方向に垂直な横断面の円相当径を実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果を、表１５および表１６の「電線」欄の「円相当径［ｍｍ］」欄に記す。
各試料に係る電線について、電線の長手方向に垂直な横断面の円相当径を実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果を、表１５および表１６の「電線」欄の「円相当径［ｍｍ］」欄に記す。
【0124】
＜評価試験１＞
先ず、各試料に係る電線（長さ：３５０ｍｍ）を８本ずつ準備した。次に、該電線の両端に対し、末端と、該末端から該電線の長手方向に２５ｍｍ離れた位置とに挟まれた領域の被膜を剥がした。次に、各試料に係る８本の電線（長さ：３５０ｍｍ）のそれぞれを、８５±２℃、１００±２℃、１２５±３℃、１５０±３℃、１７５±３℃、２００±３℃、２２５±４℃、および２５０±４℃のそれぞれの温度の恒温槽中で３０００時間放置した。次に、該電線を該恒温槽から取り出した後、室温で１６時間放置した。次に、電線１２の長手方向に垂直な横断面の円相当径の１．５倍の直径を有するマンドレル１１に、重し１３の質量５ｋｇ、ワインディング速度１ｓ－１、室温の条件で２箇所に２回ずつ巻き付けた（図３）。次に、各試料に係る電線において、導体が露出していないことを目視で確認した後、該電線を塩水（３質量％）に１０分間浸漬させた。次に、該電線に対し、１ｋＶ、１分間の条件で課電を行った。次に、該電線を目視で観察することによって、該電線において、被膜の破壊の有無を特定した。次に、以下の評価基準に基づいて、電線の耐熱性を評価した。得られた結果を表１７および表１８の「評価試験１」欄に記す。評価結果が、Ｈに近い程、電線の耐熱性が優れていることを意味する。なお、第１層のフッ素樹脂の種類によって（言い換えれば、第１層の組成によって）、電線の耐熱性が異なることを踏まえ、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に記載された樹脂が同じである試料同士で相対比較を行った。
（評価基準）
Ａ：恒温槽の温度が８５±２℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｂ：恒温槽の温度が１００±２℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｃ：恒温槽の温度が１２５±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｄ：恒温槽の温度が１５０±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｅ：恒温槽の温度が１７５±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｆ：恒温槽の温度が２００±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｇ：恒温槽の温度が２２５±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｈ：恒温槽の温度が２５０±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
先ず、各試料に係る電線（長さ：３５０ｍｍ）を８本ずつ準備した。次に、該電線の両端に対し、末端と、該末端から該電線の長手方向に２５ｍｍ離れた位置とに挟まれた領域の被膜を剥がした。次に、各試料に係る８本の電線（長さ：３５０ｍｍ）のそれぞれを、８５±２℃、１００±２℃、１２５±３℃、１５０±３℃、１７５±３℃、２００±３℃、２２５±４℃、および２５０±４℃のそれぞれの温度の恒温槽中で３０００時間放置した。次に、該電線を該恒温槽から取り出した後、室温で１６時間放置した。次に、電線１２の長手方向に垂直な横断面の円相当径の１．５倍の直径を有するマンドレル１１に、重し１３の質量５ｋｇ、ワインディング速度１ｓ－１、室温の条件で２箇所に２回ずつ巻き付けた（図３）。次に、各試料に係る電線において、導体が露出していないことを目視で確認した後、該電線を塩水（３質量％）に１０分間浸漬させた。次に、該電線に対し、１ｋＶ、１分間の条件で課電を行った。次に、該電線を目視で観察することによって、該電線において、被膜の破壊の有無を特定した。次に、以下の評価基準に基づいて、電線の耐熱性を評価した。得られた結果を表１７および表１８の「評価試験１」欄に記す。評価結果が、Ｈに近い程、電線の耐熱性が優れていることを意味する。なお、第１層のフッ素樹脂の種類によって（言い換えれば、第１層の組成によって）、電線の耐熱性が異なることを踏まえ、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に記載された樹脂が同じである試料同士で相対比較を行った。
（評価基準）
Ａ：恒温槽の温度が８５±２℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｂ：恒温槽の温度が１００±２℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｃ：恒温槽の温度が１２５±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｄ：恒温槽の温度が１５０±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｅ：恒温槽の温度が１７５±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｆ：恒温槽の温度が２００±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｇ：恒温槽の温度が２２５±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｈ：恒温槽の温度が２５０±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
【0125】
≪評価試験２≫
先ず、各試料に係る電線（長さ：３５０ｍｍ）を８本ずつ準備した。次に、該電線の両端に対し、末端と、該末端から該電線の長手方向に２５ｍｍ離れた位置とに挟まれた領域の被膜を剥がした。次に、各試料に係る８本の電線（長さ：３５０ｍｍ）のそれぞれを、１１０±２℃、１２５±３℃、１５０±３℃、１７５±３℃、２００±３℃、２２５±４℃、２５０±４℃、および２７５±４℃のそれぞれの温度の恒温槽中で２４０時間放置した。次に、該電線を該恒温槽から取り出した後、室温で１６時間放置した。次に、電線１２の長手方向に垂直な横断面の円相当径の５倍の直径を有するマンドレル１１に、重し１３の質量５ｋｇ、ワインディング速度１ｓ－１、室温の条件で２箇所に２回ずつ巻き付けた（図３）。次に、各試料に係る電線において、導体が露出していないことを目視で確認した後、該電線を塩水（３質量％）に１０分間浸漬させた。次に、該電線に対し、１ｋＶ、１分間の条件で課電を行った。次に、該電線を目視で観察することによって、該電線において、被膜の破壊の有無を特定した。次に、以下の評価基準に基づいて、電線の耐熱性を評価した。得られた結果を表１７および表１８の「評価試験２」欄に記す。評価結果が、Ｈ’に近い程、電線の耐熱性が優れていることを意味する。なお、第１層のフッ素樹脂の種類によって（言い換えれば、第１層の組成によって）、電線の耐熱性が異なることを踏まえ、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に記載された樹脂が同じである試料同士で相対比較を行った。
（評価基準）
Ａ’：恒温槽の温度が１１０±２℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｂ’：恒温槽の温度が１２５±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｃ’：恒温槽の温度が１５０±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｄ’：恒温槽の温度が１７５±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｅ’：恒温槽の温度が２００±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｆ’：恒温槽の温度が２２５±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｇ’：恒温槽の温度が２５０±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｈ’：恒温槽の温度が２７５±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
先ず、各試料に係る電線（長さ：３５０ｍｍ）を８本ずつ準備した。次に、該電線の両端に対し、末端と、該末端から該電線の長手方向に２５ｍｍ離れた位置とに挟まれた領域の被膜を剥がした。次に、各試料に係る８本の電線（長さ：３５０ｍｍ）のそれぞれを、１１０±２℃、１２５±３℃、１５０±３℃、１７５±３℃、２００±３℃、２２５±４℃、２５０±４℃、および２７５±４℃のそれぞれの温度の恒温槽中で２４０時間放置した。次に、該電線を該恒温槽から取り出した後、室温で１６時間放置した。次に、電線１２の長手方向に垂直な横断面の円相当径の５倍の直径を有するマンドレル１１に、重し１３の質量５ｋｇ、ワインディング速度１ｓ－１、室温の条件で２箇所に２回ずつ巻き付けた（図３）。次に、各試料に係る電線において、導体が露出していないことを目視で確認した後、該電線を塩水（３質量％）に１０分間浸漬させた。次に、該電線に対し、１ｋＶ、１分間の条件で課電を行った。次に、該電線を目視で観察することによって、該電線において、被膜の破壊の有無を特定した。次に、以下の評価基準に基づいて、電線の耐熱性を評価した。得られた結果を表１７および表１８の「評価試験２」欄に記す。評価結果が、Ｈ’に近い程、電線の耐熱性が優れていることを意味する。なお、第１層のフッ素樹脂の種類によって（言い換えれば、第１層の組成によって）、電線の耐熱性が異なることを踏まえ、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に記載された樹脂が同じである試料同士で相対比較を行った。
（評価基準）
Ａ’：恒温槽の温度が１１０±２℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｂ’：恒温槽の温度が１２５±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｃ’：恒温槽の温度が１５０±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｄ’：恒温槽の温度が１７５±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｅ’：恒温槽の温度が２００±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｆ’：恒温槽の温度が２２５±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｇ’：恒温槽の温度が２５０±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｈ’：恒温槽の温度が２７５±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
【0126】
≪評価試験３≫
先ず、各試料に係る電線（長さ：３５０ｍｍ）を８本ずつ準備した。次に、該電線の両端に対し、末端と、該末端から該電線の長手方向に２５ｍｍ離れた位置とに挟まれた領域の被膜を剥がした。次に、各試料に係る８本の電線（長さ：３５０ｍｍ）のそれぞれを、１３５±３℃、１５０±３℃、１７５±３℃、２００±３℃、２２５±４℃、２５０±４℃、２７５±４℃、および３００±４℃のそれぞれの温度の恒温槽中で６時間放置した。次に、該電線を該恒温槽から取り出した後、室温で１６時間放置した。次に、電線１２の長手方向に垂直な横断面の円相当径の１．５倍の直径を有するマンドレル１１に、重し１３の質量５ｋｇ、ワインディング速度１ｓ－１、室温の条件で２箇所に２回ずつ巻き付けた（図３）。次に、各試料に係る電線において、導体が露出していないことを目視で確認した後、該電線を塩水（３質量％）に１０分間浸漬させた。次に、該電線に対し、１ｋＶ、１分間の条件で課電を行った。次に、該電線を目視で観察することによって、該電線において、被膜の破壊の有無を特定した。次に、以下の評価基準に基づいて、電線の耐熱性を評価した。得られた結果を表１７および表１８の「評価試験３」欄に記す。評価結果が、Ｈ’’に近い程、電線の耐熱性が優れていることを意味する。なお、第１層のフッ素樹脂の種類によって（言い換えれば、第１層の組成によって）、電線の耐熱性が異なることを踏まえ、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に記載された樹脂が同じである試料同士で相対比較を行った。
（評価基準）
Ａ’’：恒温槽の温度が１３５±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｂ’’：恒温槽の温度が１５０±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｃ’’：恒温槽の温度が１７５±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｄ’’：恒温槽の温度が２００±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｅ’’：恒温槽の温度が２２５±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｆ’’：恒温槽の温度が２５０±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｇ’’：恒温槽の温度が２７５±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｈ’’：恒温槽の温度が３００±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
先ず、各試料に係る電線（長さ：３５０ｍｍ）を８本ずつ準備した。次に、該電線の両端に対し、末端と、該末端から該電線の長手方向に２５ｍｍ離れた位置とに挟まれた領域の被膜を剥がした。次に、各試料に係る８本の電線（長さ：３５０ｍｍ）のそれぞれを、１３５±３℃、１５０±３℃、１７５±３℃、２００±３℃、２２５±４℃、２５０±４℃、２７５±４℃、および３００±４℃のそれぞれの温度の恒温槽中で６時間放置した。次に、該電線を該恒温槽から取り出した後、室温で１６時間放置した。次に、電線１２の長手方向に垂直な横断面の円相当径の１．５倍の直径を有するマンドレル１１に、重し１３の質量５ｋｇ、ワインディング速度１ｓ－１、室温の条件で２箇所に２回ずつ巻き付けた（図３）。次に、各試料に係る電線において、導体が露出していないことを目視で確認した後、該電線を塩水（３質量％）に１０分間浸漬させた。次に、該電線に対し、１ｋＶ、１分間の条件で課電を行った。次に、該電線を目視で観察することによって、該電線において、被膜の破壊の有無を特定した。次に、以下の評価基準に基づいて、電線の耐熱性を評価した。得られた結果を表１７および表１８の「評価試験３」欄に記す。評価結果が、Ｈ’’に近い程、電線の耐熱性が優れていることを意味する。なお、第１層のフッ素樹脂の種類によって（言い換えれば、第１層の組成によって）、電線の耐熱性が異なることを踏まえ、表１１および表１２の「第１層」欄の「組成」欄に記載された樹脂が同じである試料同士で相対比較を行った。
（評価基準）
Ａ’’：恒温槽の温度が１３５±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｂ’’：恒温槽の温度が１５０±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｃ’’：恒温槽の温度が１７５±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｄ’’：恒温槽の温度が２００±３℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｅ’’：恒温槽の温度が２２５±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｆ’’：恒温槽の温度が２５０±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｇ’’：恒温槽の温度が２７５±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
Ｈ’’：恒温槽の温度が３００±４℃以下である場合において、被膜の破壊なし
【0127】
試料１～１９に係る電線は実施例に該当する。試料１０１～１１２に係る電線は比較例に該当する。表１７および表１８の結果から、試料１～１９に係る電線は、試料１０１～１１２に係る電線に比して、優れた耐熱性を有することが分かった。
【0128】
以上により、試料１～１９に係る電線は、優れた耐熱性を有することが分かった。
【0129】
以上のように本開示の実施の形態および実施例について説明を行なったが、上述の各実施の形態および実施例の構成を適宜組み合わせたり、様々に変形することも当初から予定している。
【0130】
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した実施の形態および実施例ではなく請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【0131】
１ 電線、２ 導体、３ 第１層、４ 第２層、５ 被膜、１１ マンドレル、１２ 電線、１３ 重し
【要約】
電線は、導体と、前記導体を被覆する被膜と、を備える電線であって、前記被膜は、第１層と、前記第１層上に形成された第２層と、を含み、前記第１層は、フッ素樹脂を主成分として含み、前記第２層は、シルセスキオキサンを主成分として含み、前記シルセスキオキサンは、（ＲＳｉＯ３／２）を構成単位とするポリマーであり、前記Ｒは、重合性基であり、前記第２層の厚みは、０．１μｍ以上１００μｍ以下である、電線。
【図1】
【図2】
【図3】