(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-08-19
(45)【発行日】2024-08-27
(54)【発明の名称】表示パネル及びその製造方法、表示装置
(51)【国際特許分類】
G02F 1/1339 20060101AFI20240820BHJP
G02F 1/1368 20060101ALI20240820BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20240820BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20240820BHJP
【ＦＩ】
G02F1/1339 500
G02F1/1368
G09F9/00 338
G09F9/30 320
G09F9/30 338
【請求項の数】
8
(21)【出願番号】P 2019561817
(86)(22)【出願日】2018-04-28
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2020-11-05
(86)【国際出願番号】 CN2018085028
(87)【国際公開番号】W WO2019033791
(87)【国際公開日】2019-02-21
【審査請求日】2021-04-23
【審判番号】
【審判請求日】2022-12-13
(31)【優先権主張番号】201710703280.6
(32)【優先日】2017-08-16
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(73)【特許権者】
【識別番号】510280589
【氏名又は名称】京東方科技集團股▲ふん▼有限公司
【氏名又は名称原語表記】ＢＯＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＧＲＯＵＰ ＣＯ．，ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１０ Ｊｉｕｘｉａｎｑｉａｏ Ｒｄ．，Ｃｈａｏｙａｎｇ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｂｅｉｊｉｎｇ １０００１５，ＣＨＩＮＡ
(74)【代理人】
【識別番号】100108453
【弁理士】
【氏名又は名称】村山 靖彦
(74)【代理人】
【識別番号】100110364
【弁理士】
【氏名又は名称】実広 信哉
(72)【発明者】
【氏名】程 ▲鴻▼▲飛▼
(72)【発明者】
【氏名】李 ▲パン▼
【合議体】
【審判長】波多江 進
【審判官】野村 伸雄
【審判官】秋田 将行
(56)【参考文献】
【文献】中国特許出願公開第１０６３５３９３０（ＣＮ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２００８／０２６６４９８（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２００６－３５０３０６（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
G02F 1/1339
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
表示パネルであって、第１ベース基板を含むアレイ基板を含み、
前記表示パネルは、前記第１ベース基板に位置し、複数のゲート線と複数のデータ線とが交差して限定される複数の画素領域を含み、
各画素領域は、
開口領域と、
前記開口領域を囲む非開口領域と、
前記非開口領域内に設けられるスペーサーとを含み、
前記非開口領域内に、前記スペーサーが前記開口領域に移動することを防止するように、前記スペーサーの隣に位置するパッド構造がさらに設けられ、
前記ゲート線は、前記第１ベース基板の上において前記非開口領域に対応する領域内に位置し、
前記スペーサーは、前記非開口領域内においてゲート線に対応する領域内に位置し、
前記パッド構造は、前記第１ベース基板の上に位置し、前記非開口領域内に位置する第１パッド及び第２パッドを含み、
前記第１パッド及び前記第２パッドのそれぞれは、前記スペーサーの両側に位置し且つ前記ゲート線の両側に位置し、
前記第１ベース基板の上において前記第１パッドに対応する領域内の各膜層構造の総厚さは、前記第１ベース基板の上において前記ゲート線に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きく、
前記第１ベース基板の上において前記第２パッドに対応する領域内の各膜層構造の総厚さは、前記第１ベース基板の上において前記ゲート線に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きく、
前記第１パッドは、
前記ゲート線と同じ層に位置し、且つ前記ゲート線から離間される第１マット層、データ線と同じ層に位置する第２マット層、及び、活性層と同じ層に位置し、且つ前記活性層から離間される第３マット層を含み、
前記第２パッドは、
前記ゲート線と同じ層に位置し、且つ前記ゲート線から離間される第４マット層、前記データ線と同じ層に位置する第５マット層、及び、前記活性層と同じ層に位置し、且つ前記活性層から離間される第６マット層を含み、
前記表示パネルは、共通電極線をさらに含み、
前記共通電極線は、前記ゲート線と同じ層に位置し且つ前記ゲート線の一側に位置し、
前記第１パッドは、前記共通電極線に対応し、前記第１パッドに対応する前記共通電極線の部分が、前記第１マット層として機能し、或いは、
前記第２パッドは、前記共通電極線に対応し、前記第２パッドに対応する前記共通電極線の部分が、前記第４マット層として機能する
ことを特徴とする表示パネル。
【請求項2】
表示パネルの製造方法であって、前記表示パネルは、請求項１に記載の表示パネルであり、前記表示パネルの製造方法は、
前記表示パネルの非開口領域内に、パッド構造を形成し、前記パッド構造は、前記スペーサーが前記開口領域に移動することを防止するように、前記非開口領域内に設けられるスペーサーの隣に位置するステップを含み、
前記スペーサーは、前記非開口領域内においてゲート線に対応する領域内に位置し、
前記パッド構造は、第１パッド及び第２パッドを含み、
前記表示パネルの非開口領域内に、パッド構造を形成するステップは、
１つの第１ベース基板を用意するステップと、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記第１パッド及び前記第２パッドを形成し、前記第１パッド及び前記第２パッドのそれぞれは、前記スペーサーの両側に位置し且つ前記ゲート線の両側に位置し、前記第１ベース基板の上において前記第１パッドに対応する領域内の各膜層構造の総厚さが、前記第１ベース基板の上において前記ゲート線に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きく、前記第１ベース基板の上において前記第２パッドに対応する領域内の各膜層構造の総厚さが、前記第１ベース基板の上において前記ゲート線に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きいステップと、を含み、
前記第１パッドは、第１マット層、第２マット層及び第３マット層のうちの少なくとも１つを含み、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記第１パッドを形成するステップは、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記第１マット層を形成し、前記第１マット層は、前記ゲート線と同じ層に位置し、且つ前記ゲート線から離間されるステップ、前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記第２マット層を形成し、前記第２マット層は、データ線と同じ層に位置するステップ、及び、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記第３マット層を形成し、前記第３マット層は、活性層と同じ層に位置し、且つ前記活性層から離間されるステップを含み、
前記第２パッドは、第４マット層、第５マット層及び第６マット層のうちの少なくとも１つを含み、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記第２パッドを形成するステップは、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記第４マット層を形成し、前記第４マット層は、前記ゲート線と同じ層に位置し、且つ前記ゲート線から離間されるステップ、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記第５マット層を形成し、前記第５マット層は、データ線と同じ層に位置するステップ、及び、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記第６マット層を形成し、前記第６マット層は、活性層と同じ層に位置し、且つ前記活性層から離間されるステップを含む
ことを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項3】
前記第１マット層と前記ゲート線は、１回のパターニング工程により形成され、前記第２マット層と前記データ線は、１回のパターニング工程により形成され、
前記第３マット層と前記活性層は、１回のパターニング工程により形成される
請求項２に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項4】
前記第２マット層と前記第３マット層は、１回のパターニング工程により形成される請求項２に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項5】
前記第４マット層と前記ゲート線は、１回のパターニング工程により形成され、前記第５マット層と前記データ線は、１回のパターニング工程により形成され、
前記第６マット層と前記活性層は、１回のパターニング工程により形成される
請求項２に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項6】
前記第５マット層と前記第６マット層は、１回のパターニング工程により形成される請求項２に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項7】
前記表示パネルは、前記ゲート線と同じ層に位置し且つ前記ゲート線の一側に位置する共通電極線を含み、前記第１パッドは、前記共通電極線に対応し、前記第１ベース基板の上おいて前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１マット層を形成するステップは、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記共通電極線を形成し、前記第１パッドに対応する前記共通電極線の部分が、前記第１マット層として機能するステップを含み、
或いは、
前記表示パネルは、前記ゲート線と同じ層に位置し且つ前記ゲート線の一側に位置する共通電極線を含み、前記第２パッドは、前記共通電極線に対応し、
前記第１ベース基板の上に前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第４マット層を形成するステップは、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、共通電極線を形成し、前記第２パッドに対応する前記共通電極線の部位が、前記第４マット層として機能するステップを含む
請求項２に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項8】
請求項１に記載の表示パネルを備えることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本願は、２０１７年８月１６日に提出した出願番号が２０１７１０７０３２８０．６であって、発明の名称が「表示パネル及びその製造方法、表示装置」である中国特許出願に基づいて優先権を主張し、当該中国特許出願の内容の全てを本願に援用する。
【0002】
本発明は、表示技術分野に関し、特に、表示パネル及びその製造方法、表示装置に関する。
【背景技術】
【0003】
通常、従来の表示パネルは、積層された２つの表示基板と、２つの表示基板の間に充填された液晶と、上記２つの表示基板のうちの１つの表示基板の非開口領域内に設置され且つセルギャップを保持するためのスペーサーと、を含む。表示パネルがアレイ基板及びカラーフィルタ基板を含み、且つ、スペーサーがアレイ基板の上に設置されていることを一例とすると、スペーサーは、例えば、アレイ基板のゲート線の上方に設置され、アレイ基板とカラーフィルタ基板との間に一定のセルギャップを保持させることができる。
【0004】
ただし、下記のように、アレイ基板及びカラーフィルタ基板が積層されて表示パネルを形成した後、表示パネルに一定の外力が印加されると、スペーサーが外力の作用により開口領域内に移動する可能性があるので、表示パネルの表示性能に影響を与えるという問題点がまだ存在している。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は、上記の少なくとも１つの技術問題を解決するための表示パネルを提供する。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記の技術問題を解決するために、本発明は、表示パネルを提供する。
【0007】
前記表示パネルは、開口領域と、前記開口領域を囲む非開口領域と、前記非開口領域内に設けられるスペーサーと、を含み、前記非開口領域内に、前記スペーサーが前記開口領域に移動することを防止するように、前記スペーサーの隣に位置するパッド構造がさらに設けられる。
【0008】
本発明の一実施例において、前記表示パネルは、第１ベース基板と、前記第１ベース基板の上において前記非開口領域に対応する領域内に位置するゲート線と、を含み、前記スペーサーは、前記非開口領域内においてゲート線に対応する領域内に位置する。前記パッド構造は、前記第１ベース基板の上に位置し、前記非開口領域内に位置する第１パッド及び第２パッドを含む。ここで、前記第１パッド及び前記第２パッドのそれぞれは、前記スペーサーの両側に位置する。また、前記第１パッド及び前記第２パッドのそれぞれは、前記ゲート線の両側に位置する。前記第１ベース基板の上において前記第１パッドに対応する領域内の各膜層構造の総厚さは、前記第１ベース基板の上において前記ゲート線に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きい。前記第１ベース基板の上において前記第２パッドに対応する領域内の各膜層構造の総厚さは、前記第１ベース基板の上において前記ゲート線に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きい。
【0009】
本発明の一実施例において、前記第１パッドは、前記ゲート線と同じ層に位置する第１マット層、及び／又は、データ線と同じ層に位置する第２マット層、及び／又は、活性層と同じ層に位置する第３マット層を含む。前記第２パッドは、前記ゲート線と同じ層に位置する第４マット層、及び／又は、前記データ線と同じ層に位置する第５マット層、及び／又は、前記活性層と同じ層に位置する第６マット層を含む。
【0010】
本発明の一実施例において、前記表示パネルは、前記ゲート線と同じ層に位置する共通電極線を、さらに含む。また、前記共通電極線は、前記ゲート線の一側に位置する。前記第１パッドは、前記共通電極線に対応し、前記第１パッドに対応する前記共通電極線の部分は、前記第１マット層として機能する。或いは、前記第２パッドは、前記共通電極線に対応し、前記第２パッドに対応する前記共通電極線の部分は、前記第４マット層として機能する。
【0011】
上記の技術問題を解決するために、本発明は、
上記のような技術手段に記載された表示パネルを製造するための表示パネルの製造方法を提供する。前記表示パネルの製造方法は、
前記表示パネルの非開口領域内にパッド構造を形成し、前記パッド構造は、スペーサーが開口領域に移動することを防止するように、前記非開口領域内に設けられているスペーサーの隣に位置するステップを含む。
上記のような技術手段に記載された表示パネルを製造するための表示パネルの製造方法を提供する。前記表示パネルの製造方法は、
前記表示パネルの非開口領域内にパッド構造を形成し、前記パッド構造は、スペーサーが開口領域に移動することを防止するように、前記非開口領域内に設けられているスペーサーの隣に位置するステップを含む。
【0012】
本発明の一実施例において、前記スペーサーは、前記非開口領域内においてゲート線に対応する領域内に位置し、前記パッド構造は、第１パッド及び第２パッドを含む。
【0013】
前記表示パネルの非開口領域内に、パッド構造を形成するステップは、
１つの第１ベース基板を用意するステップと、
前記第１ベース基板上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記第１パッド及び前記第２パッドを形成し、前記第１パッド及び前記第２パッドのそれぞれは、前記スペーサーの両側に位置し且つ前記ゲート線の両側に位置し、前記第１ベース基板の上において前記第１パッドに対応する領域内の各膜層構造の総厚さが、前記第１ベース基板の上において前記ゲート線に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きく、前記第１ベース基板の上において前記第２パッドに対応する領域内の各膜層構造の総厚さが、前記第１ベース基板の上において前記ゲート線に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きいステップと、を含む。
１つの第１ベース基板を用意するステップと、
前記第１ベース基板上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記第１パッド及び前記第２パッドを形成し、前記第１パッド及び前記第２パッドのそれぞれは、前記スペーサーの両側に位置し且つ前記ゲート線の両側に位置し、前記第１ベース基板の上において前記第１パッドに対応する領域内の各膜層構造の総厚さが、前記第１ベース基板の上において前記ゲート線に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きく、前記第１ベース基板の上において前記第２パッドに対応する領域内の各膜層構造の総厚さが、前記第１ベース基板の上において前記ゲート線に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きいステップと、を含む。
【0014】
本発明の一実施例において、前記第１パッドは、第１マット層、第２マット層及び第３マット層のうちの少なくとも１つを含み、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に前記第１パッドを形成するステップは、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記ゲート線と同じ層に位置する前記第１マット層を形成するステップ、
及び／又は、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、データ線と同じ層に位置する前記第２マット層を形成するステップ、
及び／又は、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、活性層と同じ層に位置する前記第３マット層を形成するステップを含む。
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に前記第１パッドを形成するステップは、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記ゲート線と同じ層に位置する前記第１マット層を形成するステップ、
及び／又は、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、データ線と同じ層に位置する前記第２マット層を形成するステップ、
及び／又は、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、活性層と同じ層に位置する前記第３マット層を形成するステップを含む。
【0015】
本発明の一実施例において、前記第１マット層と前記ゲート線は、１回のパターニング工程により形成され、前記第２マット層と前記データ線は、１回のパターニング工程により形成され、前記第３マット層と前記活性層は、１回のパターニング工程により形成される。
【0016】
本発明の一実施例において、前記第２マット層と前記第３マット層は、１回のパターニング工程により形成される。
【0017】
本発明の一実施例において、前記第２パッドは、第４マット層、第５マット層及び第６マット層のうちの少なくとも１つを含む。
【0018】
前記表示パネルの非開口領域に対応する前記第１ベース基板上の領域内に、前記第２パッドを形成するステップは、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記ゲート線と同じ層に位置する前記第４マット層を形成するステップ、
及び／又は、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、データ線と同じ層に位置する前記第５マット層を形成するステップ、
及び／又は、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、活性層と同じ層に位置する前記第６マット層を形成するステップを含む。
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記ゲート線と同じ層に位置する前記第４マット層を形成するステップ、
及び／又は、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、データ線と同じ層に位置する前記第５マット層を形成するステップ、
及び／又は、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、活性層と同じ層に位置する前記第６マット層を形成するステップを含む。
【0019】
本発明の一実施例において、前記第４マット層と前記ゲート線は、１回のパターニング工程により形成され、前記第５マット層と前記データ線は、１回のパターニング工程により形成され、前記第６マット層と前記活性層は、１回のパターニング工程により形成される。
【0020】
本発明の一実施例において、前記第５マット層と前記第６マット層は、１回のパターニング工程により形成される。
【0021】
本発明の一実施例において、前記表示パネルは、前記ゲート線と同じ層に位置し且つ前記ゲート線の一側に位置する共通電極線を含み、前記第１パッドは、前記共通電極線に対応し、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１マット層を形成するステップは、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記共通電極線を形成し、前記第１パッドに対応する前記共通電極線の部分は、前記第１マット層として機能するステップを含み、
又は、
前記表示パネルは、前記ゲート線と同じ層に位置し且つ前記ゲート線の一側に位置する共通電極線を含み、前記第２パッドは、前記共通電極線に対応し、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第４マット層を形成するステップは、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、共通電極線を形成し、前記第２パッドに対応する前記共通電極線の部位は、前記第４マット層として機能するステップを含む。
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１マット層を形成するステップは、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、前記共通電極線を形成し、前記第１パッドに対応する前記共通電極線の部分は、前記第１マット層として機能するステップを含み、
又は、
前記表示パネルは、前記ゲート線と同じ層に位置し且つ前記ゲート線の一側に位置する共通電極線を含み、前記第２パッドは、前記共通電極線に対応し、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第４マット層を形成するステップは、
前記第１ベース基板の上において前記表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、共通電極線を形成し、前記第２パッドに対応する前記共通電極線の部位は、前記第４マット層として機能するステップを含む。
【0022】
上記の技術問題を解決するために、本発明は、
上記のような技術手段に記載された表示パネルを備える表示装置を提供する。
上記のような技術手段に記載された表示パネルを備える表示装置を提供する。
【図面の簡単な説明】
【0023】
ここで説明する図面は、本発明に対するさらなる理解を提供するためのものであり、本発明の一部を構成する。本発明の例示的な実施例及びその説明は本発明を解釈することを意図しており、本発明を限定するものではない。
【0024】
【図1】本発明の関連実施例に係る表示パネルの平面図である。
【図2】本発明の実施例に係る表示パネルの平面図である。
【図4】本発明の実施例に係る別の表示パネルの平面図である。
【図6】本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャート１である。
【図7】本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャート２である。
【図8】本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャート３である。
【図9】本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャート４である。
【図10】本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャート５である。
【発明を実施するための形態】
【0025】
以下、本発明の実施例に係る表示パネル及びその製造方法、表示装置をさらに説明するために、添付の図面を参照しながら詳細に説明する。
【0026】
図１は、本発明の関連実施例に係る表示パネルの平面図である。アレイ基板は、図１に示すように、複数のゲート線１１及び複数のデータ線１３により交差して限定される複数の画素領域を含む。各画素領域は、開口領域１（即ち、表示パネルの開口領域１）と、開口領域１を囲む非開口領域２（即ち、表示パネルの非開口領域２）とを含む。スペーサー２０は、一般的に非開口領域２内においてゲート線に対応する領域内に設置される。
【0027】
上記の構造により、アレイ基板の非開口領域２内に設置されるスペーサー２０は、一定のセルギャップを保持するようにセルを支持することができる。しかしながら、また下記のように、アレイ基板及びカラーフィルタ基板が積層されて表示パネルを形成した後、表示パネルに一定の外力が印加されると、スペーサー２０が外力の作用により開口領域１内まで移動する可能性があるので、スペーサー２０の周囲の液晶の配置に影響するだけではなく、開口領域１を介して透過される光も遮断され、これにより、開口率の低下を引き起こし、したがって、表示パネルの表示性能に影響する問題点が存在している。
【0028】
図２、図３又は図４、図５を参照すると、本発明の実施例に係る表示パネルは、開口領域１と、開口領域１を囲む非開口領域２と、非開口領域２内に設置されるスペーサー２０と、を含む。非開口領域２内には、パッド構造３０がさらに設けられている。パッド構造３０は、スペーサー２０が開口領域１に移動することを防止するように、スペーサー２０の隣に位置する。
【0029】
例えば、本発明の実施例に係る表示パネルは、積層されたアレイ基板及びカラーフィルタ基板を含む。アレイ基板は、第１ベース基板１０と、第１ベース基板１０の上に位置し、複数のゲート線１１及び複数のデータ線１３が交差して限定される複数の画素領域と、を含む。各画素領域は、開口領域１（即ち、表示パネルの開口領域１）と、開口領域１を囲む非開口領域２（即ち、表示パネルの非開口領域２）と、を含む。また、各画素領域には、１つの画素ユニットが対応して設置される。各画素ユニットは、薄膜トランジスタ１４及び画素電極１６を含む。ここで、薄膜トランジスタ１４は、ボトムゲート薄膜トランジスタであってもよい。薄膜トランジスタ１４は、ゲート１４１、ゲート絶縁層１４２、活性層１４３、ソース１４４及びドレイン１４５を含む。
【0030】
薄膜トランジスタ１４は、ゲート１４１が第１ベース基板１０の上に位置し、ゲート１４１が対応するゲート線１１に接続される。ゲート１４１及びゲート線１１は、１回のパターニング工程により形成され、材料として、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）などの単体金属材料を選択してもよいし、上記の単体金属のうちの少なくとも２つにより構成された合金材料を選択してもよい。第１ベース基板１０に垂直する方向におけるゲート線１１及びゲート１４１の構造は、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。ゲート線１１及びゲート１４１が多層構造である場合、２つのモリブデン構造層及び１つのアルミニウム構造層により構成されるサンドイッチ構造（即ち、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ構造）、或いは、２つのチタン構造層及び１つの銅構造層により構成されるサンドイッチ構造（即ち、Ｔｉ／Ｃｕ／Ｔｉ構造）、或いは、モリブデンチタン合金構造層及び銅構造層により構成される２層構造（即ち、ＭｏＴｉ／Ｃｕ構造）を含むことができる。
【0031】
ゲート絶縁層１４２は、第１ベース基板１０及びゲート１４１を覆う。ゲート絶縁層１４２の材料として、窒化シリコン又は酸化シリコンを採用することができる。また、ゲート絶縁層１４２は、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。ゲート絶縁層１４２は、多層構造である場合、酸化シリコン構造層及び窒化シリコン構造層により構成される２層構造（即ち、酸化シリコン／窒化シリコン構造）を含むことができる。
【0032】
活性層１４３は、ゲート絶縁層１４２の上に位置し、ゲート１４１に対応する。活性層１４３の材料として、アモルファスシリコン、単結晶シリコン、多結晶シリコン、又は金属酸化物半導体材料であってもよい。活性層１４３の材料として金属酸化物半導体材料を選択する場合、インジウム-ガリウム-亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｇａｌｌｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ，ＩＧＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等でありことができる。
【0033】
ソース１４４及びドレイン１４５は、それぞれ活性層１４３に接触する。ソース１４４、ドレイン１４５及びデータ線１３は、同じ層に設置され、そして１回のパターニング工程により形成される。ソース１４４は、対応するデータ線１３に接続され、ドレイン１４５は、対応する画素電極１６に接続される。ソース１４４、ドレイン１４５及びデータ線１３の材料として、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）などの単体金属材料を選択してもよいし、上記の単体金属のうちの少なくとも２つにより構成される合金材料を選択してもよい。第１ベース基板１０に垂直する方向においてソース１４４、ドレイン１４５及びデータ線１３の構造は、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。ソース１４４、ドレイン１４５及びデータ線１３は、多層構造である場合、２つのモリブデン構造層及び１つのアルミニウム構造層により構成されるサンドイッチ構造（即ち、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ構造）、或いは、２つのチタン構造層及び１つの銅構造層により構成されるサンドイッチ構造（即ち、Ｔｉ／Ｃｕ／Ｔｉ構造）、或いは、モリブデンチタン合金構造層及び銅構造層により構成される２層構造（即ち、ＭｏＴｉ／Ｃｕ構造）を含むことができる。
【0034】
画素電極１６は、薄膜トランジスタ１４の上方に位置し、対応する開口領域１内に位置する。画素電極１６と薄膜トランジスタ１４との間には、パッシベーション層１５が形成されている。パッシベーション層１５は、ゲート絶縁層１４２、ソース１４４、ドレイン１４５、データ線１３、活性層１４３を覆う。パッシベーション層１５の材料として、窒化シリコン又は酸化シリコンを採用してもよい。また、パッシベーション層１５は、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。パッシベーション層１５は、多層構造である場合、酸化シリコン構造層及び窒化シリコン構造層により構成される２層構造（即ち、酸化シリコン／窒化シリコン構造）を含むことができる。
【0035】
ドレイン１４５に対応するパッシベーション層１５の部位には、ビアホールが設けられている。画素電極１６は、対応するビアホールを介して対応するドレイン１４５に接続される。画素電極１６の材料として、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ，ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ，ＩＺＯ）又は他の透明な金属酸化物導電性材料を選択して使用してもよい。
【0036】
カラーフィルタ基板は、第２ベース基板４０、第２ベース基板４０の上に形成されているブラックマトリクス４２及びカラーフィルタ層４１、を含む。ブラックマトリクス４２により、複数の開口領域１（即ち、表示パネルの開口領域１）が限定される（表示パネルの非開口領域２がブラックマトリクス４２に対応する。）。ブラックマトリクス４２は、ゲート線１１、データ線１３及び薄膜トランジスタ１４に対応する。カラーフィルタ層４１は、第２ベース基板４０の上において開口領域１に対応する領域内に位置する。
【0037】
アレイ基板とカラーフィルタ基板との間には、スペーサー２０が設けられている。スペーサー２０は、アレイ基板及びカラーフィルタ基板を積層する際に、一定のセルギャップを保持するようにセルを支持する。ここで、スペーサー２０は、アレイ基板において非開口領域２に対応する領域（ブラックマトリクス４２に対応する領域と理解されてもよい。）内に設けられ、そして、非開口領域２においてアレイ基板上のゲート線１１に対応する領域内に位置してもよく、或いは、スペーサー２０は、カラーフィルタ基板にいて非開口領域２に対応する領域内に設けられ、非開口領域２においてアレイ基板上のゲート線１１に対応する領域内に位置してもよく、スペーサー２０がカラーフィルタ基板のブラックマトリクス４２においてゲート線１１に対応する領域内に設けられると理解されてもよい。非開口領域２内には、パッド構造３０がさらに設けられている。パッド構造３０は、アレイ基板の上において非開口領域２に対応する領域内に設けられてもよいし、カラーフィルタ基板の上において非開口領域２に対応する領域内に設けられてもよい。パッド構造３０は、スペーサー２０の隣に位置され、スペーサー２０の位置を限定することによって、スペーサー２０が表示パネルの開口領域１内までに移動することを防止することができる。
【0038】
上記の分析からわかるように、本発明の実施例に係る表示パネルにおいて、表示パネルの非開口領域２内のスペーサー２０の隣に設けられているパッド構造３０を利用してスペーサー２０の位置を限定することによって、スペーサー２０が開口領域１内まで移動することを防止することで、スペーサー２０の位置が移動することによるスペーサー２０周囲の液晶の配置が変化することを防止するとともに、開口領域１を介して透過される光がスペーサー２０が開口領域１に移動されたスペーサー２０によって遮断されることを防止することができる。これにより、スペーサー２０が開口領域１に移動することによる液晶の配置及び表示パネルの開口率に影響することを防止することで、表示パネルの表示性能を改善することができる。
【0039】
上記の実施例において、パッド構造３０は、非開口領域２内のスペーサー２０の隣に設けられている。例えば、スペーサー２０の一側にパッド構造３０を設けたり、スペーサー２０の対向する両側にパッド構造３０を設けたり、スペーサー２０の周りにパッド構造３０を設けたりしてもよい。本発明の実施例において、図２、図３又は図４、図５を参照し続けると、本発明の実施例に係る表示パネルは、第１ベース基板１０と、第１ベース基板１０の上において非開口領域２に対応する領域内に位置するゲート線１１と、を含む。スペーサー２０は、非開口領域２内においてゲート線１１に対応する領域内に位置する。パッド構造３０は、第１ベース基板１０の上に位置する。パッド構造３０は、非開口領域２内に位置する第１パッド３１及び第２パッド３２を含む。ここで、第１パッド３１及び第２パッド３２は、それぞれスペーサー２０の両側に位置する。また、第１パッド３１及び第２パッド３２は、それぞれゲート線１１の両側に位置する。第１ベース基板１０上において第１パッド３１に対応する領域内の各膜層構造の総厚さは、第１ベース基板１０上においてゲート線１１に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きい。第１ベース基板１０上において第２パッド３２に対応する領域内の各膜層構造の総厚さは、第１ベース基板１０上においてゲート線１１に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きい。
【0040】
具体的に、図２、図３又は図４、図５を参照し続けると、スペーサー２０は、非開口領域２内においてゲート線１１に対応する領域内に位置する。例えば、スペーサー２０は、図３又は図５におけるゲート線１１の直上に位置する。パッド構造３０は、第１パッド３１及び第２パッド３２を含む。第１パッド３１及び第２パッド３２は、それぞれスペーサー２０の両側に設置され、且つゲート線１１の両側に設置される。例えば、第１パッド３１は、図２又は図４の上部に位置する開口領域１とスペーサー２０との間に位置し、第２パッド３２は、図２又は図４の下部に位置する開口領域１とスペーサー２０との間に位置している。第１ベース基板１０上において第１パッド３１に対応する領域内の各膜層構造の総厚さは、第１ベース基板１０上においてゲート線１１に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きい。また、第１ベース基板１０上において第２パッド３２に対応する領域内の各膜層構造の総厚さは、第１ベース基板１０上においてゲート線１１に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きい。
【0041】
例えば、図２及び図３を参照すると、第１ベース基板１０上において第１パッド３１に対応する領域内の膜層は、第１パッド３１、ゲート絶縁層１４２及びパッシベーション層１５を含み；第１ベース基板１０上において第２パッド３２に対応する領域内の膜層は、第２パッド３２、ゲート絶縁層１４２及びパッシベーション層１５を含み；第１ベース基板１０上においてゲート線１１に対応する領域内の膜層は、ゲート線１１、ゲート絶縁層１４２及びパッシベーション層１５を含む。第１パッド３１、ゲート絶縁層１４２、パッシベーション層１５の総厚さは、ゲート線１１、ゲート絶縁層１４２及びパッシベーション層１５の総厚さよりも大きい。第２パッド３２、ゲート絶縁層１４２及びパッシベーション層１５の総厚さは、ゲート線１１、ゲート絶縁層１４２及びパッシベーション層１５の総厚さよりも大きい。つまり、図３又は図５に示すように、第１ベース基板１０の上部においてスペーサー２０に対応する領域に、１つの溝が形成している。スペーサー２０は、溝内に配置されている。溝の溝壁がスペーサー２０の両側を遮断することによって、スペーサー２０が開口領域１に移動することを防止する。
【0042】
第１パッド３１及び第２パッド３２のそれぞれをスペーサー２０の対向する両側に設置し、且つゲート線１１の両側に位置させる。したがって、第１パッド３１及び第２パッド３２のそれぞれは、スペーサー２０を阻止するように、対応する開口領域１とスペーサー２０との間に位置することによって、スペーサー２０の位置を限定するので、スペーサー２０が開口領域１に移動することを防止することができる。
【0043】
上記の実施例において、第１パッド３１は、様々な形式で設置されることができる。例えば、図２及び図３に示したように、第１パッド３１は、ゲート線１１と同じ層に位置する第１マット層３１１、及び／又は、データ線１３と同じ層に位置する第２マット層３１２、及び／又は、活性層１４３と同じ層に位置する第３マット層３１３を含むことができる。つまり、第１パッド３１は、第１マット層３１１、第２マット層３１２及び第３マット層３１３のうちの少なくとも１つを含むことができる。ここで、図３を一例として説明すると、第１ベース基板１０の上においてゲート線１１に対応する領域内の膜層は、ゲート線１１、ゲート絶縁層１４２及びパッシベーション層１５を含み；第１ベース基板１０の上において第１パッド３１に対応する領域内の膜層は、第１パッド３１、ゲート絶縁層１４２及びパッシベーション層１５を含む。第１パッド３１が第１マット層３１１、第２マット層３１２及び第３マット層３１３のうちの１つを含む場合、第１パッド３１の厚さは、ゲート線１１の厚さよりも大きくさせることによって、第１ベース基板１０の上において第１パッド３１に対応する領域内の各膜層構造の総厚さが、第１ベース基板１０の上においてゲート線１１に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きくなる。即ち、第１パッド３１が第１マット層３１１のみ含む場合、第１マット層３１１の厚さは、ゲート線１１の厚さよりも大きくなり；第１パッド３１が第２マット層３１２のみ含む場合、第２マット層３１２の厚さは、データ線１３の厚さよりも大きくなり；第１パッド３１が第３マット層３１３のみ含む場合、第３マット層３１３の厚さは、活性層１４３の厚さよりも大きくなる。
【0044】
上記の実施例において、第１マット層３１１は、ゲート線１１と同じ層に位置する。第１マット層３１１は、別個に形成されることができ、ゲート線１１と１回のパターニング工程により形成されてもよい。本発明の少なくとも１つの実施例において、第１マット層３１１とゲート線１１は、１回のパターニング工程により形成されることができ、第２マット層３１２は、データ線１３と同じ層に位置する。第２マット層３１２は、別個に形成されることができ、データ線１３と１回のパターニング工程により形成されてもよい。本発明の少なくとも１つの実施例において、第２マット層３１２とデータ線１３は、１回のパターニング工程により形成されることができる。第３マット層３１３は、活性層１４３と同じ層に位置する。第３マット層３１３は、別個に形成されることができ、活性層１４３と１回のパターニング工程により形成されてもよい。本発明の少なくとも１つの実施例において、第３マット層３１３と活性層１４３は、１回のパターニング工程により形成されることができる。第１マット層３１１とゲート線１１は、１回のパターニング工程により形成され、第２マット層３１２とデータ線１３は、１回のパターニング工程により形成され、第３マット層３１３と活性層１４３は、１回のパターニング工程により形成されることができる。これにより、表示パネルの製造時の工程ステップを減少するとともに、表示パネルの製造際に必要となるマスクの数を減少できるので、表示パネルの製造コストを削減し、表示パネルの製造効率を向上することができる。
【0045】
同様に、第２パッド３２も、様々な形式で設置することができる。例えば、図２及び図３に示したように、第２パッド３２は、ゲート線１１と同じ層に位置する第４マット層３２１、及び／又は、データ線１３と同じ層に位置する第５マット層３２２、及び／又は、活性層１４３と同じ層に位置する第６マット層３２３を含むことができる。つまり、第２パッド３２は、第４マット層３２１、第５マット層３２２及び第６マット層３２３のうちの少なくとも１つを含むことができる。ここで、図３を一例として説明すると、第１ベース基板１０の上においてゲート線１１に対応する領域内の膜層は、ゲート線１１、ゲート絶縁層１４２及びパッシベーション層１５を含み；第１ベース基板１０の上において第２パッド３２に対応する領域内の膜層は、第２パッド３２、ゲート絶縁層１４２及びパッシベーション層１５を含む。第２パッド３２が第４マット層３２１、第５マット層３２２及び第６マット層３２３のうちの１つを含む場合、第２パッド３２の厚さは、ゲート線１１の厚さよりも大きくさせることによって、第１ベース基板１０の上において第２パッド３２に対応する領域内の各膜層構造の総厚さが、第１ベース基板１０の上においてゲート線１１に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きくなる。即ち、第２パッド３２が第４マット層３２１のみ含む場合、第２マット層３２１の厚さは、ゲート線１１の厚さよりも大きくなり；第２パッド３２が第５マット層３２２のみ含む場合、第５マット層３２２の厚さは、データ線１３の厚さよりも大きくなり；第２パッド３２が第６マット層３２３のみ含む場合、第６マット層３２３の厚さは、活性層１４３の厚さよりも大きくなる。
【0046】
上記の実施例において、第４マット層３２１は、ゲート線１１と同じ層に位置する。第４マット層３２１は、別個に形成されることができ、ゲート線１１と１回のパターニング工程により形成されてもよい。本発明の少なくとも１つの実施例において、第４マット層３２１とゲート線１１は、１回のパターニング工程により形成されることができ、第５マット層３２２は、データ線１３と同じ層に位置する。第５マット層３２２は、別個に形成されることができ、データ線１３と１回のパターニング工程により形成されてもよい。本発明の少なくとも１つの実施例において、第５マット層３２２とデータ線１３は、１回のパターニング工程により形成されることができる。第６マット層３２３は、活性層１４３と同じ層に位置する。第６マット層３２３は、別個に形成されることができ、活性層１４３と１回のパターニング工程により形成されてもよい。本発明の少なくとも１つの実施例において、第６マット層３２３と活性層１４３は、１回のパターニング工程により形成されることができる。第４マット層３２１とゲート線１１は、１回のパターニング工程により形成され、第５マット層３２２とデータ線１３は、１回のパターニング工程により形成され、第６マット層３２３と活性層１４３は、１回のパターニング工程により形成されることができる。これにより、表示パネルの製造時の工程ステップを減少するともに、表示パネルの製造時に必要となるマスクの数を減少できるので、表示パネルの製造コストを削減し、表示パネルの製造効率を向上できる。
【0047】
図４及び図５を参照すると、表示パネルが共通電極線１２をさらに含む場合、共通電極線１２は、ゲート線１１と同じ層に位置し、ゲート線１１の一側に位置する。この時、第１パッド３１を共通電極線１２に対応させることで、第１パッド３１に対応する共通電極線１２の部分が、第１パッド３１の第１マット層３１１として機能することができる。または、図４及び図５を参照すると、第２パッド３２を共通電極線１２にも対応させることで、第２パッド３２に対応する共通電極線１２の部分が、第２パッド３２の第４マット層３２１として機能することができる。つまり、第１マット層３１１または第４マット層３２１を別途に設置する必要がなくなる。このような設計によって、第１マット層３１１及び第４マット層３２１を別途に設置する際、非開口領域２内に第１パッド３１及び第２パッド３２が設置するための領域を保留する必要がなくなるので、非開口領域２の面積を減少し、開口率を増加させることができる。
【0048】
また、第１パッド３１に対応する共通電極線１２の部分を第１パッド３１の第１マット層３１１として機能させたり、第２パッド３２に対応する共通電極線１２の部分を第２パッド３２の第４マット層３２１として機能させ、また、共通電極線１２をゲート線１１と同じ層に設置し、１回のパターニング工程により共通電極線１２及びゲート線１１を形成されることによって、表示パネルを製造する時の工程ステップを減少するとともに、表示パネルの製造際に必要となるマスクの数を減少できるので、表示パネルの製造コストを削減し、表示パネルの製造効率を向上できる。
【0049】
また、第１パッド３１に対応する共通電極線１２の部分を第１パッド３１の第１マット層３１１として機能させたり、第２パッド３２に対応する共通電極線１２の部分を第２パッド３２の第４マット層３２１として機能させたりし、また、第１マット層３１１又は第４マット層３２１を形成する際に使われるマスクに第１マット層３１１又は第４マット層３２１を形成するための小さい領域を設ける必要がないので、マスクの構造を簡素化し、表示パネルを製造するコストを削減することができる。
【0050】
本発明の実施例は、上記のような実施例に記載した表示パネルを備える表示装置をさらに提供する。
【0051】
前記表示装置及び上記の表示パネルは、関連技術に対して同様な利点を有するので、ここでは詳細な説明を省略する。
【0052】
図６を参照すると、本発明の実施例は、上記の実施例に記載した表示パネルを製造するための表示パネルの製造方法をさらに提供する。前記表示パネルの製造方法は、下記のステップを含む。
【0053】
ステップＳ１００において、表示パネルの非開口領域内に、パッド構造を形成し、パッド構造は、スペーサーが開口領域に移動することを防止するように、非開口領域内に設けられるスペーサーの横に位置する。
【0054】
本明細書の様々な実施例は漸進的に説明されており、様々な実施例の間の同一又は類似の部分は互いに参照され、各実施例は、他の実施例との違いに焦点を当てる。特に、表示パネルの製造方法の実施例は、表示パネルの実施例とほぼ同様であるため、説明は比較的簡単になり、関連する部分は表示パネルの実施例の説明を参照することができる。
【0055】
スペーサーは、非開口領域内においてゲート線に対応する領域内に位置し、パッド構造が第１パッド及び第２パッドを含む場合、図７に示すように、表示パネルの非開口領域内に、パッド構造を形成するステップＳ１００は、下記のステップを含むことができる。
【0056】
ステップＳ１１０において、１つの第１ベース基板を用意する。
【0057】
ステップＳ１２０において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１パッド及び第２パッドを形成し、第１パッド及び第２パッドのそれぞれは、スペーサーの両側に位置し、ゲート線の両側に位置し、第１ベース基板の上において第１パッドに対応する領域内の各膜層構造の総厚さが、第１ベース基板の上においてゲート線に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きく、第１ベース基板の上において第２パッドに対応する領域内の各膜層構造の総厚さが、第１ベース基板の上においてゲート線に対応する領域内の各膜層構造の総厚さよりも大きい。
【0058】
第１パッドは、ゲート線と同じ層に位置する第１マット層と、データ線と同じ層に位置する第２マット層と、活性層と同じ層に位置する第３マット層とのうちの少なくとも１つを含むことができる。第１パッドが第１マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0059】
ステップＳ１２１において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１マット層を形成し、第１マット層は、ゲート線と同じ層に位置する。
【0060】
第１パッドが第２マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0061】
ステップＳ１２２において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第２マット層を形成し、第２マット層は、データ線と同じ層に位置する。
【0062】
第１パッドが第３マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0063】
ステップＳ１２３において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第３マット層を形成し、第３マット層は、活性層と同じ層に位置する。
【0064】
第１パッドが第１マット層及び第２マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0065】
ステップＳ１２１において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１マット層を形成し、第１マット層は、ゲート線と同じ層に位置する。
【0066】
ステップＳ１２２において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第２マット層を形成し、第２マット層は、データ線と同じ層に位置する。
【0067】
第１パッドが第１マット層及び第３マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0068】
ステップＳ１２１において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１マット層を形成し、第１マット層は、ゲート線と同じ層に位置する。
【0069】
ステップＳ１２３において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第３マット層を形成し、第３マット層は、活性層と同じ層に位置する。
【0070】
第１パッドが第２マット層及び第３マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0071】
ステップＳ１２３において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第３マット層を形成し、第３マット層は、活性層と同じ層に位置する。
【0072】
ステップＳ１２２において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第２マット層を形成し、第２マット層は、データ線と同じ層に位置する。
【0073】
第１パッドが第１マット層、第２マット層及び第３マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0074】
ステップＳ１２１において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１マット層を形成し、第１マット層は、ゲート線と同じ層に位置する。
【0075】
ステップＳ１２３において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第３マット層を形成し、第３マット層は、活性層と同じ層に位置する。
【0076】
ステップＳ１２２において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第２マット層を形成し、第２マット層は、データ線と同じ層に位置する。
【0077】
ステップＳ１２１において、第１マット層とゲート線は、１回のパターニング工程により形成されてもよい。ステップＳ１２２において、第２マット層とデータ線は、１回のパターニング工程により形成されてもよい。ステップＳ１２３において、第３マット層と活性層は、１回のパターニング工程により形成されてもよい。このように、表示パネルの製造時の工程ステップを減少するとともに、表示パネルの製造際に必要となるマスクの数を減少できるので、表示パネルの製造コストを削減し、表示パネルの製造効率を向上することができる。
【0078】
上記の実施例において、第１パッドが第２マット層及び第３マット層を同時に含む場合、即ち、第１パッドが第２マット層及び第３マット層を含み、又は、第１パッドが第１マット層、第２マット層及び第３マット層を含む場合、第２マット層及び第３マット層は、１回のパターニング工程により形成されることができる。この時、第２マット層は、データ線と同じ層に設けられ、第３マット層は、活性層と同じ層に設けられるので、第２マット層及び第３マット層を形成する際に、まず、活性層材料層を形成し、次にデータ線材料層を形成し、その後、ハーフトーンマスクのようなマスクを利用して、活性層、データ線、第２マット層及び第３マット層を同時に形成することによって、表示パネルの製造際の工程ステップを減少するとともに、表示パネルの製造際に必要となるマスクの数を減少できるので、表示パネルの製造コストを削減し、表示パネルの製造効率を向上することができる。
【0079】
第２パッドは、第４マット層、第５マット層及び第５マット層のうちの少なくとも１つを含むことができる。第２パッドが第４マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第２パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0080】
ステップＳ１２４において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第４マット層を形成し、第４マット層は、ゲート線と同じ層に位置する。
【0081】
第２パッドが第５マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第２パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0082】
ステップＳ１２５において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第５マット層を形成し、第５マット層は、データ線と同じ層に位置する。
【0083】
第２パッドが第６マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第２パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0084】
ステップＳ１２６において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第６マット層を形成し、第６マット層は、活性層と同じ層に位置する。
【0085】
第２パッドが第４マット層及び第５マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第２パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0086】
ステップＳ１２４において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第４マット層を形成し、第４マット層は、ゲート線と同じ層に位置する。
【0087】
ステップＳ１２５において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第５マット層を形成し、第５マット層は、データ線と同じ層に位置する。
【0088】
第２パッドが第４マット層及び第６マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第２パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0089】
ステップＳ１２４において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第４マット層を形成し、第４マット層は、ゲート線と同じ層に位置する。
【0090】
ステップＳ１２６において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第６マット層を形成し、第６マット層は、活性層と同じ層に位置する。
【0091】
第２パッドが第５マット層及び第６マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第２パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0092】
ステップＳ１２６において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第６マット層を形成し、第６マット層は、活性層と同じ層に位置する。
【0093】
ステップＳ１２５において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第５マット層を形成し、第５マット層は、データ線と同じ層に位置する。
【0094】
第２パッドが第４マット層、第５マット層及び第６マット層を含む場合、図８に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第２パッドを形成するステップＳ１２０は、下記のステップを含むことができる。
【0095】
ステップＳ１２４において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第４マット層を形成し、第４マット層は、ゲート線と同じ層に位置する。
【0096】
ステップＳ１２６において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第６マット層を形成し、第６マット層は、活性層と同じ層に位置する。
【0097】
ステップＳ１２５において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第５マット層を形成し、第５マット層は、データ線と同じ層に位置する。
【0098】
ステップＳ１２４において、第４マット層とゲート線は、１回のパターニング工程により形成されることができる。ステップＳ１２５において、第５マット層とデータ線は、１回のパターニング工程により形成されることができる。ステップＳ１２６において、第６マット層と活性層は、１回のパターニング工程により形成されることができる。これにより、表示パネルの製造工程ステップを減少するとともに、表示パネルの製造際に必要となるマスクの数を減少できるので、表示パネルの製造コストを削減し、表示パネルの製造効率を向上することができる。
【0099】
上記の実施例において、第２パッドが第５マット層及び第６マット層を同時に含む場合、即ち、第２パッドが第５マット層及び第６マット層を含み、又は、第２パッドが第４マット層、第５マット層及び第６マット層を含む場合、第５マット層及び第６マット層は、１回のパターニング工程により形成されることができる。この時、第５マット層は、データ線と同じ層に設けられ、第６マット層は、活性層と同じ層に設けられるので、第５マット層及び第６マット層を形成する際に、まず、活性層材料層を形成し、次にデータ線材料層を形成し、その後、ハーフトーンマスクのようなマスクを利用して、活性層、データ線、第５マット層及び第６マット層を同時に形成ることによって、表示パネルの製造際の工程ステップを減少するとともに、表示パネルの製造際に必要となるマスクの数を減少することができるので、表示パネルの製造コストを削減し、表示パネルの製造効率を向上することができる。
【0100】
表示パネルがゲート線と同じ層に設けられ且つゲート線の一側に位置する共通電極線をさらに含む場合、第１パッドを共通電極線に対応させることができる。この時、図９に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第１マット層を形成するステップＳ１２１は、下記のステップを含むことができる。
【0101】
ステップＳ１２１１において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、共通電極線を形成し、第１パッドに対応する共通電極線の部分は、第１マット層として機能する。
【0102】
表示パネルがゲート線と同じ層に設けられ且つゲート線の一側に位置する共通電極線をさらに含む場合にも、第２パッドを共通電極線に対応させることができる。この時、図１０に示すように、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、第４マット層を形成するステップＳ１２４は、下記のステップを含むことができる。
【0103】
ステップＳ１２４１において、第１ベース基板の上において表示パネルの非開口領域に対応する領域内に、共通電極線を形成し、第２パッドに対応する共通電極線の部分は、第４マット層として機能する。
【0104】
【0105】
１つの第１ベース基板を用意する。
【0106】
スパッタ工程（Ｓｐｕｔｔｅｒ）を利用して第１ベース基板の上にアルミニウム（Ａｌ）層のような金属層を堆積し、１回のパターニング工程によってゲート、ゲート線、共通電極線及び第１マット層を形成する。ゲートは、対応するゲート線に接続される。即ち、まず、金属層の上にフォトレジストをコーティングし、次に、マスクを利用してフォトレジストを露光し、その後、露光されたフォトレジストを現像させることにより金属層のエッチングが必要な部位を露出させ、そして、エッチング工程（ドライエッチング工程又はウェットエッチング工程）を利用して金属層におけるエッチングする必要がある部位の金属をエッチング除去し、この後、残留しているフォトレジストを除去することによって、ゲート、ゲート線、共通電極線及び第１マット層の形成を実現する。ここで、第１マット層及び共通電極線は、それぞれゲート線の両側に設置され、第２パッドは、共通電極線に対応し、第２パッドに対応する共通電極線の部分は、第４マット層として機能する。
【0107】
プラズマ化学気相成長法（Ｐｌａｓｍａ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＰＥＣＶＤ）を利用してゲート絶縁層を形成する。ゲート絶縁層は、第１ベース基板、ゲート、ゲート線、共通電極線及び第１マット層を覆い、ゲート絶縁層の材料は、窒化シリコン又は酸化シリコンであってもよい。
【0108】
ゲート絶縁層の上に活性層材料層を堆積し、１回のパターニング工程によって活性層、第３マット層及び第６マット層を形成する。第３マット層は、第１マット層に対応し、第６マット層は、第２パッドに対応する共通電極線の部分に対応する。例えば、活性層の材料がアモルファスシリコンである場合、プラズマ化学気相成長法（Ｐｌａｓｍａ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＰＥＣＶＤ）を利用してゲート絶縁層の上にアモルファスシリコン層を堆積し、その後、フォトレジストコーティング、露光、現像、エッチング、残留のフォトレジスト除去の工程を利用して、活性層、第３マット層及び第６マット層を形成することができる。或いは、活性層の材料がインジウム-ガリウム-亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ）のような金属酸化物半導体材料である場合、スパッタ工程を利用してゲート絶縁層の上に金属酸化物半導体材料層を堆積し、その後、フォトレジストコーティング、露光、現像、エッチング、残留のフォトレジスト除去の工程を利用して活性層、第３マット層及び第６マット層を形成することができる。
【0109】
スパッタ工程（Ｓｐｕｔｔｅｒ）を利用して第１ベース基板の上にアルミニウム（Ａｌ）層のような金属層を堆積し、１回のパターニング工程によってソース、ドレイン、データ線、第２マット層及び第５マット層を形成する。ソース及びドレインは、それぞれ活性層に接触される。ソースは、対応するデータ線に接続される。第２マット層は、第３マット層の上に位置し、第５マット層は、第６マット層の上に位置する。即ち、フォトレジストコーティング、露光、現像、エッチング、残留のフォトレジスト除去の工程を利用して、ソース、ドレイン、データ線、第２マット層及び第５マット層を形成する。
【0110】
プラズマ化学気相成長法（Ｐｌａｓｍａ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＰＥＣＶＤ）を利用してパッシベーション層を形成する。パッシベーション層は、ゲート絶縁層、活性層、ソース、ドレイン、データ線、第２マット層及び第５マット層を覆い、また、フォトレジストコーティング、露光、現像、エッチング、残留のフォトレジスト除去の工程を利用して、ドレインに対応するパッシベーション層の部位にビアホールを形成する。ここで、パッシベーション層の材料は、窒化シリコン又は酸化シリコンであってもよい。
【0111】
スパッタ工程を利用して、パッシベーション層の上にインジウムスズ酸化物材料層のような透明な金属酸化物導電性材料層を堆積し、フォトレジストコーティング、露光、現像、エッチング、残留のフォトレジスト除去の工程を利用して、画素電極を形成し、画素電極は、パッシベーション層内のビアホールを介してドレインに接続される。
【0112】
上記の実施形態の説明において、特定の特徴、構造、材料、又は特性は、適切な方式でいかなる１つ又は複数の実施例又は一例に組み合わせることができる。
【0113】
上記のように、本発明の具体的な実施形態に過ぎないが、本発明の範囲はそれに限定されず、当業者は本発明に開示された技術的範囲内で変更又は置換を容易に考えることができるが、いずれも本発明の範囲内に含まれるべきである。したがって、本発明の範囲は、特許請求の範囲によって決定されるべきである。
【0114】
１ 開口領域
２ 非開口領域
１０ 第１ベース基板
１１ ゲート線
１２ 共通電極線
１３ データ線
１４ 薄膜トランジスタ
１４１ ゲート
１４２ ゲート絶縁層
１４３ 活性層
１４４ ソース
１４５ ドレイン
１５ パッシベーション層
１６ 画素電極
２０ スペーサー
３０ パッド構造
３１ 第１パッド
３１１ 第１マット層
３１２ 第２マット層
３１３ 第３マット層
３２ 第２パッド
３２１ 第４マット層
３２２ 第５マット層
３２３ 第６マット層
４０ 第２ベース基板
４１ カラーフィルタ層
４２ ブラックマトリクス
２ 非開口領域
１０ 第１ベース基板
１１ ゲート線
１２ 共通電極線
１３ データ線
１４ 薄膜トランジスタ
１４１ ゲート
１４２ ゲート絶縁層
１４３ 活性層
１４４ ソース
１４５ ドレイン
１５ パッシベーション層
１６ 画素電極
２０ スペーサー
３０ パッド構造
３１ 第１パッド
３１１ 第１マット層
３１２ 第２マット層
３１３ 第３マット層
３２ 第２パッド
３２１ 第４マット層
３２２ 第５マット層
３２３ 第６マット層
４０ 第２ベース基板
４１ カラーフィルタ層
４２ ブラックマトリクス
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】