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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-08-19
(45)【発行日】2024-08-27
(54)【発明の名称】処理液供給装置、基板処理装置および処理液供給方法
(51)【国際特許分類】
H01L 21/304 20060101AFI20240820BHJP
【ＦＩ】
H01L21/304 648F
H01L21/304 648K
H01L21/304 648G
【請求項の数】
20
(21)【出願番号】P 2020155583
(22)【出願日】2020-09-16
(65)【公開番号】P2022049394
(43)【公開日】2022-03-29
【審査請求日】2023-06-20
(73)【特許権者】
【識別番号】000207551
【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス
(74)【代理人】
【識別番号】110002310
【氏名又は名称】弁理士法人あい特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】山口 直子
(72)【発明者】
【氏名】鰍場 真樹
【審査官】庄司 一隆
(56)【参考文献】
【文献】特開２００３－０５９８８４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－２０１３３０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－０３９８４５（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０１Ｌ ２１／３０４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板に処理液を供給して前記基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給装置であって、処理液中の不純物を除去する不純物除去ユニットと、
前記不純物除去ユニットから処理液を排液する排液流路と、
前記不純物除去ユニットから前記処理ユニットに向けて処理液を送る供給流路と
を備え、
前記不純物除去ユニットが、
処理液を貯留する貯留タンクと、
前記貯留タンクに収容されている感温性ゲルフィルタであって、転移温度を境界として、親水性および疎水性のうちの一方から他方に変化する感温性ゲルを有する感温性ゲルフィルタと、
前記貯留タンクから処理液を引き込み、前記貯留タンク内に処理液を戻すことで処理液を循環させる循環流路であって、前記循環する処理液を前記感温性ゲルフィルタに通過させる循環流路と、
前記転移温度以上の温度に前記感温性ゲルフィルタを加熱する加熱ユニットとを含む、処理液供給装置。
【請求項2】
前記感温性ゲルフィルタは、前記感温性ゲルが疎水性であるときには、その内部を通過する処理液の不純物を捕獲し、前記感温性ゲルが親水性であるときには、その内部を通過する処理液に不純物を放出する、請求項１に記載の処理液供給装置。
【請求項3】
前記感温性ゲルは、前記感温性ゲルフィルタの温度が前記転移温度以上になることで親水性から疎水性に変化し、前記感温性ゲルフィルタの温度が前記転移温度よりも低くなることで疎水性から親水性に変化する、請求項１または２に記載の処理液供給装置。
【請求項4】
前記不純物除去ユニットが、前記循環流路によって循環される処理液中の不純物量を測定する不純物量測定ユニットをさらに含み、前記感温性ゲルが疎水性である状態で前記不純物量測定ユニットによって測定される不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、前記処理液が前記供給流路に送り出され、前記感温性ゲルが疎水性である状態で前記不純物量測定ユニットによって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には、前記感温性ゲルを親水化した後に前記処理液が前記排液流路に送り出される、請求項１～３のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項5】
前記感温性ゲルフィルタが、前記処理液を通過させつつ前記感温性ゲルを保持するフィルタ部材をさらに含む、請求項１～４のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項6】
前記貯留タンクの内部が、前記感温性ゲルフィルタによって、第１収容部および第２収容部に仕切られており、前記第１収容部は、前記感温性ゲルフィルタを挟んで前記第２収容部よりも処理液の循環方向の上流側に位置し、
前記第１収容部には、前記排液流路が接続されており、
前記第２収容部には、前記供給流路が接続されている、請求項１～５のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項7】
前記供給流路が、前記不純物除去ユニットから送出される処理液が流れる上流供給流路と、前記上流供給流路を介して前記不純物除去ユニットから供給される処理液を貯留する供給タンクと、前記供給タンク内の処理液を前記処理ユニットに供給する下流供給流路とを含む、請求項１～６のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項8】
前記循環流路が、前記貯留タンクから処理液が送られる上流循環流路と、前記上流循環流路を介して前記貯留タンクから供給される処理液を貯留する循環タンクと、前記循環タンク内の処理液を前記貯留タンクに戻す下流循環流路とを含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項9】
前記処理ユニットで使用された汚染処理液を前記不純物除去ユニットに戻す帰還流路をさらに備える、請求項１～７のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項10】
前記処理ユニットで使用されていない新たな処理液を前記不純物除去ユニットに供給する新液流路をさらに備える、請求項１～９のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項11】
前記不純物除去ユニットが、前記感温性ゲルフィルタを洗浄する洗浄液を前記貯留タンクに供給する洗浄液流路をさらに含む、請求項１～１０のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項12】
前記不純物除去ユニットが、複数設けられており、各前記不純物除去ユニットが、処理液の送出先を前記供給流路および前記排液流路のいずれかに切り替えるように構成されている、請求項１～１１のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項13】
請求項１～１２のいずれか一項に記載の処理液供給装置と、前記処理ユニットとを含む、基板処理装置。
【請求項14】
処理液で基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給方法であって、処理液を貯留する貯留タンク内に収容されている感温性ゲルフィルタに含まれる感温性ゲルが疎水性である状態で前記感温性ゲルフィルタに処理液を通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記処理液中の不純物を捕獲させて前記処理液中から不純物を除去する不純物除去工程と、
前記不純物除去工程の後、前記処理ユニットに処理液を供給する供給流路へ向けて前記貯留タンクから前記処理液を送り出す供給工程と、
前記供給工程の後、前記感温性ゲルが親水性となっている状態で前記感温性ゲルフィルタに洗浄液を通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタから前記洗浄液に不純物を放出させる不純物放出工程と、
前記不純物放出工程の後、排液流路を介して、前記貯留タンクから前記処理液を排除する排液工程とを含む、処理液供給方法。
【請求項15】
前記感温性ゲルフィルタを転移温度以上の温度に加熱することによって、前記感温性ゲルを疎水性に変化させる疎水化工程と、前記感温性ゲルフィルタを前記転移温度よりも低い温度に冷却することによって、前記感温性ゲルを親水性に変化させる親水化工程とをさらに含む、請求項１４に記載の処理液供給方法。
【請求項16】
前記不純物除去工程が、前記貯留タンクから液体を引き込み前記貯留タンク内に液体を戻す循環流路によって処理液を循環させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記処理液を通過させる循環除去工程を含み、前記不純物放出工程が、前記循環流路によって前記洗浄液を循環させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記洗浄液を通過させる循環洗浄工程を含む、請求項１４または１５に記載の処理液供給方法。
【請求項17】
前記処理ユニットで使用された汚染処理液を、帰還流路を介して前記貯留タンクに帰還させる帰還工程をさらに含み、前記循環除去工程が、前記感温性ゲルフィルタに前記汚染処理液中の不純物を捕獲させて前記汚染処理液から不純物を除去する工程を含み、
前記循環洗浄工程が、前記感温性ゲルフィルタから前記汚染処理液に不純物を放出させる工程を含む、請求項１６に記載の処理液供給方法。
【請求項18】
前記不純物放出工程が、前記貯留タンクに前記洗浄液を供給して前記感温性ゲルフィルタを前記洗浄液に浸漬させ、前記貯留タンク内の前記洗浄液を前記排液流路から排液して前記貯留タンク内に排液流を形成する浸漬洗浄工程を含む、請求項１４または１５に記載の処理液供給方法。
【請求項19】
前記貯留タンクとして、第１貯留タンクおよび第２貯留タンクが設けられており、前記不純物放出工程が、前記第１貯留タンク内に収容されている第１感温性ゲルフィルタに含まれる第１感温性ゲルが親水性である状態で、前記第１感温性ゲルフィルタに洗浄液を通過させることによって、前記第１感温性ゲルフィルタから前記洗浄液に不純物を放出させる工程を含み、
前記不純物除去工程が、前記不純物放出工程が実行されている間に、前記第２貯留タンク内に収容されている第２感温性ゲルフィルタに含まれる第２感温性ゲルが疎水性である状態で前記第２貯留タンク内の処理液を前記第２感温性ゲルフィルタに通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記処理液中の不純物を捕獲させて前記処理液中から不純物を除去する工程を含む、請求項１４～１８のいずれか一項に記載の処理液供給方法。
【請求項20】
処理液で基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給方法であって、転移温度を境界として、親水性および疎水性のうちの一方から他方に変化する感温性ゲルを有する感温性ゲルフィルタを収容する貯留タンク内の処理液を循環させて、前記感温性ゲルフィルタに処理液を通過させる循環工程と、
前記感温性ゲルが疎水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度を調節する温度調節工程と、
前記感温性ゲルが疎水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度が調節されている状態で、前記感温性ゲルフィルタを通過する処理液の不純物量が所定の基準不純物量よりも少ないか否かを判定する不純物量判定工程とを含み、
前記不純物量判定工程によって測定される不純物量が、前記基準不純物量よりも少ない場合には、前記処理ユニットに向けて処理液を送る供給流路に処理液を送出する供給工程が実行され、前記不純物量判定工程によって測定される不純物量が、前記基準不純物量以上である場合には、前記感温性ゲルが親水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度を調節した後、前記処理液を排液する排液流路に処理液を送出する排液工程が実行されるように、前記供給工程および前記排液工程が選択的に実行される、処理液供給方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、基板に処理液を供給する装置、処理液で基板を処理する装置、および、基板に処理液を供給する方法に関する。処理の対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置および有機ＥＬ(Electroluminescence)表示装置等のＦＰＤ(Flat Panel Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板等が含まれる。
【背景技術】
【0002】
処理液によって基板の表面を処理する手法が知られている。基板上には緻密な回路パターンが形成されている。そのため、基板への不純物の付着を抑制するために、処理液を送液する配管には、処理液中の不純物を除去するフィルタが設けられている（下記特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１９－３６６３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献１に開示されているフィルタは、そのポア径よりも大きい不純物を捕獲するように構成されている。そのため、使用時間の経過とともにフィルタが目詰まりを起こして不純物除去効率が低下するので、定期的に交換する必要がある。
そこで、この発明の１つの目的は、フィルタの不純物除去効率が低下した場合に、フィルタを交換することなく不純物除去効率を回復させることができる処理液供給装置、基板処理装置および処理液供給方法を提供することである。
そこで、この発明の１つの目的は、フィルタの不純物除去効率が低下した場合に、フィルタを交換することなく不純物除去効率を回復させることができる処理液供給装置、基板処理装置および処理液供給方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0005】
この発明の一実施形態は、基板に処理液を供給して前記基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給装置を提供する。この処理液供給装置は、処理液中の不純物を除去する不純物除去ユニットと、前記不純物除去ユニットから処理液を排液する排液流路と、前記不純物除去ユニットから前記処理ユニットに向けて処理液を送る供給流路とを備える。
【0006】
そして、前記不純物除去ユニットが、処理液を貯留する貯留タンクと、前記貯留タンクに収容されている感温性ゲルフィルタであって、転移温度を境界として、親水性および疎水性のうちの一方から他方に変化する感温性ゲルを有する感温性ゲルフィルタと、前記貯留タンクから処理液を引き込み、前記貯留タンク内に処理液を戻すことで処理液を循環させる循環流路であって、前記循環する処理液を前記感温性ゲルフィルタに通過させる循環流路と、前記転移温度以上の温度に前記感温性ゲルフィルタを加熱する加熱ユニットとを含む。
【0007】
この装置によれば、感温性ゲルを有する感温性ゲルフィルタが貯留タンクに収容されている。感温性ゲルは、転移温度を境界として、親水性および疎水性の一方から他方に変化する性質を有する。
処理液中に存在する不純物は、主に、金属や有機物等の疎水性物質である。そのため、感温性ゲルが疎水性であるときには、感温性ゲルと不純物との間の疎水性相互作用によって感温性ゲルが不純物を捕獲する。一方、感温性ゲルが親水性であるときには、感温性ゲルと不純物との間の疎水性相互作用が充分に作用せず、感温性ゲルから不純物が放出される。そのため、感温性ゲルフィルタは、加熱ユニットで転移温度以上の温度に加熱されることによって、処理液中の不純物を捕獲可能な状態と、処理液中に不純物を放出可能な状態とのいずれかに切り替えられる。
処理液中に存在する不純物は、主に、金属や有機物等の疎水性物質である。そのため、感温性ゲルが疎水性であるときには、感温性ゲルと不純物との間の疎水性相互作用によって感温性ゲルが不純物を捕獲する。一方、感温性ゲルが親水性であるときには、感温性ゲルと不純物との間の疎水性相互作用が充分に作用せず、感温性ゲルから不純物が放出される。そのため、感温性ゲルフィルタは、加熱ユニットで転移温度以上の温度に加熱されることによって、処理液中の不純物を捕獲可能な状態と、処理液中に不純物を放出可能な状態とのいずれかに切り替えられる。
【0008】
そこで、感温性ゲルが疎水性であるときに循環流路によって処理液を循環させて感温性ゲルフィルタに通過させることによって、貯留タンクおよび循環流路を流れる処理液中の不純物を感温性ゲルフィルタに捕獲させて処理液中から不純物を除去できる。そして、不純物が充分に除去された処理液を、供給流路を介して処理ユニットに供給できる。
不純物を捕獲することによって感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合には、感温性ゲルを親水性に変化させた状態で処理液を感温性ゲルフィルタに通過させれば、感温性ゲルフィルタから不純物を解放させ、不純物を処理液中に放出できる。これにより、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させることができる。そして、不純物を多量に含んだ処理液を、排液流路を介して貯留タンクから排除することで、不純物除去ユニットを再び利用可能な状態に戻すことができる。
不純物を捕獲することによって感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合には、感温性ゲルを親水性に変化させた状態で処理液を感温性ゲルフィルタに通過させれば、感温性ゲルフィルタから不純物を解放させ、不純物を処理液中に放出できる。これにより、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させることができる。そして、不純物を多量に含んだ処理液を、排液流路を介して貯留タンクから排除することで、不純物除去ユニットを再び利用可能な状態に戻すことができる。
【0009】
以上のように、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合であっても、感温性ゲルフィルタを交換することなく不純物除去効率を回復させることができる。
感温性ゲルは、下限臨界溶液温度（ＬＣＳＴ: Lower Critical Solution Temperature）以上の温度になると疎水性を示すＬＣＳＴ型感温性ゲルであってもよい。ＬＣＳＴは、ＬＣＳＴ型感温性ゲルの転移温度に相当する。
感温性ゲルは、下限臨界溶液温度（ＬＣＳＴ: Lower Critical Solution Temperature）以上の温度になると疎水性を示すＬＣＳＴ型感温性ゲルであってもよい。ＬＣＳＴは、ＬＣＳＴ型感温性ゲルの転移温度に相当する。
【0010】
また、感温性ゲルは、上限臨界溶液温度（ＵＣＳＴ: Upper Critical Solution Temperature）よりも低い温度になると疎水性を示すＵＣＳＴ型感温性ゲルであってもよい。ＵＣＳＴは、ＵＣＳＴ型感温性ゲルの転移温度に相当する。
感温性ゲルがＬＣＳＴ型感温性ゲルである場合、加熱によって親水性から疎水性へ感温性ゲルの状態を速やかに変化させることができる。そのため、感温性ゲルフィルタによる不純物の捕獲を速やかに開始することができる。ひいては、不純物が除去された処理液の供給流路への供給を速やかに開始できる。
感温性ゲルがＬＣＳＴ型感温性ゲルである場合、加熱によって親水性から疎水性へ感温性ゲルの状態を速やかに変化させることができる。そのため、感温性ゲルフィルタによる不純物の捕獲を速やかに開始することができる。ひいては、不純物が除去された処理液の供給流路への供給を速やかに開始できる。
【0011】
温度調節によって、親水性から疎水性へ感温性ゲルを変化させることを、感温性ゲルを疎水化すると表現する。同様に、温度調節によって、疎水性から親水性へ感温性ゲルを変化させることを、感温性ゲルを親水化すると表現する。
この発明の一実施形態では、前記不純物除去ユニットが、前記循環流路によって循環される処理液中の不純物量を測定する不純物量測定ユニットをさらに含む。そして、前記感温性ゲルが疎水性である状態で前記不純物量測定ユニットによって測定される不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、前記処理液が前記供給流路に送り出され、前記感温性ゲルが疎水性である状態で前記不純物量測定ユニットによって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には、前記感温性ゲルを親水化した後に前記処理液が前記排液流路に送り出される。
この発明の一実施形態では、前記不純物除去ユニットが、前記循環流路によって循環される処理液中の不純物量を測定する不純物量測定ユニットをさらに含む。そして、前記感温性ゲルが疎水性である状態で前記不純物量測定ユニットによって測定される不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、前記処理液が前記供給流路に送り出され、前記感温性ゲルが疎水性である状態で前記不純物量測定ユニットによって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には、前記感温性ゲルを親水化した後に前記処理液が前記排液流路に送り出される。
【0012】
この構成によれば、処理液の送出先が、不純物量測定ユニットによって測定される不純物量に基づいて切り替えられる。したがって、処理液の送出先を、感温性ゲルの不純物除去効率に基づいて、適切に切り替えることができる。
この発明の一実施形態では、前記感温性ゲルフィルタが、前記処理液を通過させつつ前記感温性ゲルを保持するフィルタ部材をさらに含む。そのため、親水性の感温性ゲルが吸液して膨潤した場合であっても、感温性ゲルを感温性ゲルフィルタの外部に流出させることなく貯留タンク内の所定の位置に維持できる。
この発明の一実施形態では、前記感温性ゲルフィルタが、前記処理液を通過させつつ前記感温性ゲルを保持するフィルタ部材をさらに含む。そのため、親水性の感温性ゲルが吸液して膨潤した場合であっても、感温性ゲルを感温性ゲルフィルタの外部に流出させることなく貯留タンク内の所定の位置に維持できる。
【0013】
この発明の一実施形態では、前記貯留タンクの内部が、前記感温性ゲルフィルタによって、第１収容部および第２収容部に仕切られている。前記第１収容部は、前記感温性ゲルフィルタを挟んで前記第２収容部よりも処理液の循環方向の上流側に位置する。そして、前記第１収容部には、前記排液流路が接続されており、前記第２収容部には、前記供給流路が接続されている。
【0014】
そのため、感温性ゲルフィルタよりも循環方向の上流側の不純物が比較的多い処理液を排液流路に送ることができる。一方、感温性ゲルフィルタよりも循環方向の下流側の不純物が比較的少ない処理液を供給流路に送ることができる。
この発明の一実施形態では、前記供給流路が、前記不純物除去ユニットから送出される処理液が流れる上流供給流路と、前記上流供給流路を介して前記不純物除去ユニットから供給される処理液を貯留する供給タンクと、前記供給タンク内の処理液を前記処理ユニットに供給する下流供給流路とを含む。
この発明の一実施形態では、前記供給流路が、前記不純物除去ユニットから送出される処理液が流れる上流供給流路と、前記上流供給流路を介して前記不純物除去ユニットから供給される処理液を貯留する供給タンクと、前記供給タンク内の処理液を前記処理ユニットに供給する下流供給流路とを含む。
【0015】
この構成によれば、不純物が充分に除去された処理液が、不純物除去ユニットから送出され、供給タンクに貯留される。そのため、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させるために不純物除去ユニットから供給流路への処理液の送出が一時的に停止されている場合であっても、供給タンク内の処理液を処理ユニットに供給できる。したがって、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させつつ、処理ユニットに処理液を安定して供給できる。
【0016】
この発明の一実施形態では、前記循環流路が、前記貯留タンクから処理液が送られる上流循環流路と、前記上流循環流路を介して前記貯留タンクから供給される処理液を貯留する循環タンクと、前記循環タンク内の処理液を前記貯留タンクに戻す下流循環流路とを含む。
この構成によれば、循環流路の一部である循環タンク内に処理液を貯留することができる。そのため、循環流路および貯留タンクを循環する処理液の量を増大させることができる。
この構成によれば、循環流路の一部である循環タンク内に処理液を貯留することができる。そのため、循環流路および貯留タンクを循環する処理液の量を増大させることができる。
【0017】
この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記処理ユニットから排出される汚染処理液を前記不純物除去ユニットに戻す帰還流路をさらに備える。そのため、処理ユニットから排出される汚染処理液を再利用することで、基板処理に要するコストおよび環境負荷を低減できる。
その一方で、処理ユニットから排出される汚染処理液中には不純物が多量に存在している。そのため、汚染処理液を不純物除去ユニットに戻した場合、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下しやすい。しかしながら、感温性ゲルフィルタを含む不純物除去ユニットを用いれば、汚染処理液からの不純物の除去によって不純物除去効率が低下した場合であっても、温度調節によって容易に不純物を放出できる。そのため、感温性ゲルフィルタを交換することなく汚染処理液から不純物を除去できる。
その一方で、処理ユニットから排出される汚染処理液中には不純物が多量に存在している。そのため、汚染処理液を不純物除去ユニットに戻した場合、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下しやすい。しかしながら、感温性ゲルフィルタを含む不純物除去ユニットを用いれば、汚染処理液からの不純物の除去によって不純物除去効率が低下した場合であっても、温度調節によって容易に不純物を放出できる。そのため、感温性ゲルフィルタを交換することなく汚染処理液から不純物を除去できる。
【0018】
この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記処理ユニットで使用されていない新処理液を前記循環タンクに供給する新液流路をさらに備える。
処理ユニットで使用されていない新処理液中の不純物量は、処理ユニットで使用された汚染処理液と比較して非常に少ない。しかしながら、感温性ゲルフィルタを含む不純物除去ユニットを用いて不純物量を新処理液中から一層低減すれば、清浄度が一層高い処理液を処理ユニットに供給できる。
処理ユニットで使用されていない新処理液中の不純物量は、処理ユニットで使用された汚染処理液と比較して非常に少ない。しかしながら、感温性ゲルフィルタを含む不純物除去ユニットを用いて不純物量を新処理液中から一層低減すれば、清浄度が一層高い処理液を処理ユニットに供給できる。
【0019】
この発明の一実施形態では、前記不純物除去ユニットが、前記感温性ゲルフィルタを洗浄する洗浄液を前記貯留タンクに供給する洗浄液流路をさらに含む。そのため、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合には、貯留タンク内に洗浄液を供給して感温性ゲルフィルタを速やかに洗浄できる。
この発明の一実施形態では、前記不純物除去ユニットが、複数設けられている。そして、各前記不純物除去ユニットが、処理液の送出先を前記供給流路および前記排液流路のいずれかに切り替えるように構成されている。そのため、不純物除去ユニットの感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合であっても、その不純物除去ユニットの感温性ゲルフィルタの感温性ゲルから不純物を放出させて不純物除去効率を回復させつつ、別の不純物除去ユニットを用いて処理液から不純物を充分に除去し、その処理液を供給流路に送出できる。
この発明の一実施形態では、前記不純物除去ユニットが、複数設けられている。そして、各前記不純物除去ユニットが、処理液の送出先を前記供給流路および前記排液流路のいずれかに切り替えるように構成されている。そのため、不純物除去ユニットの感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合であっても、その不純物除去ユニットの感温性ゲルフィルタの感温性ゲルから不純物を放出させて不純物除去効率を回復させつつ、別の不純物除去ユニットを用いて処理液から不純物を充分に除去し、その処理液を供給流路に送出できる。
【0020】
この発明の一実施形態では、前記処理液供給装置と前記処理ユニットとを含む、基板処理装置が提供される。この基板処理装置によれば、上述の効果を奏する。
この発明の他の実施形態は、処理液で基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給方法を提供する。この処理液供給方法は、処理液を貯留する貯留タンク内に収容されている感温性ゲルフィルタに含まれる感温性ゲルが疎水性となっている状態で前記感温性ゲルフィルタに処理液を通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記処理液中の不純物を捕獲させて前記処理液中から不純物を除去する不純物除去工程と、前記不純物除去工程の後、前記処理ユニットに処理液を供給する供給流路へ向けて前記貯留タンクから前記処理液を送り出す供給工程と、前記供給工程の後、前記感温性ゲルが親水性である状態で前記感温性ゲルフィルタに洗浄液を通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタから前記洗浄液に不純物を放出させる不純物放出工程と、前記不純物放出工程の後、排液流路を介して、前記貯留タンクから前記処理液を排除する排液工程とを含む。
この発明の他の実施形態は、処理液で基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給方法を提供する。この処理液供給方法は、処理液を貯留する貯留タンク内に収容されている感温性ゲルフィルタに含まれる感温性ゲルが疎水性となっている状態で前記感温性ゲルフィルタに処理液を通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記処理液中の不純物を捕獲させて前記処理液中から不純物を除去する不純物除去工程と、前記不純物除去工程の後、前記処理ユニットに処理液を供給する供給流路へ向けて前記貯留タンクから前記処理液を送り出す供給工程と、前記供給工程の後、前記感温性ゲルが親水性である状態で前記感温性ゲルフィルタに洗浄液を通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタから前記洗浄液に不純物を放出させる不純物放出工程と、前記不純物放出工程の後、排液流路を介して、前記貯留タンクから前記処理液を排除する排液工程とを含む。
【0021】
この方法によれば、感温性ゲルが疎水性であるときに処理液を感温性ゲルフィルタに通過させることによって、処理液中の不純物を感温性ゲルフィルタに捕獲させて処理液中から不純物を除去できる。そして、不純物が充分に除去された処理液を、供給流路を介して処理ユニットに供給できる。
不純物を捕獲することによって感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合には、感温性ゲルを親水化した状態で貯留タンク内の処理液を感温性ゲルフィルタに通過させることで、感温性ゲルフィルタによって捕獲されていた不純物を処理液中に放出できる。これにより、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させることができる。そして、排液流路を介して、処理液とともに多量の不純物を貯留タンクから排除することで、不純物除去ユニットを再び利用可能な状態に戻すことができる。
不純物を捕獲することによって感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合には、感温性ゲルを親水化した状態で貯留タンク内の処理液を感温性ゲルフィルタに通過させることで、感温性ゲルフィルタによって捕獲されていた不純物を処理液中に放出できる。これにより、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させることができる。そして、排液流路を介して、処理液とともに多量の不純物を貯留タンクから排除することで、不純物除去ユニットを再び利用可能な状態に戻すことができる。
【0022】
以上のように、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合であっても、感温性ゲルフィルタを交換することなく不純物除去効率を回復させることができる。
この発明の他の実施形態によれば、前記処理液供給方法が、前記感温性ゲルフィルタを転移温度以上の温度に加熱することによって、前記感温性ゲルを疎水性に変化させる疎水化工程と、前記感温性ゲルフィルタを前記転移温度よりも低い温度に冷却することによって、前記感温性ゲルの状態を親水性に変化させる親水化工程とをさらに含む。
この発明の他の実施形態によれば、前記処理液供給方法が、前記感温性ゲルフィルタを転移温度以上の温度に加熱することによって、前記感温性ゲルを疎水性に変化させる疎水化工程と、前記感温性ゲルフィルタを前記転移温度よりも低い温度に冷却することによって、前記感温性ゲルの状態を親水性に変化させる親水化工程とをさらに含む。
【0023】
この方法によれば、加熱によって感温性ゲルが疎水化し、冷却によって感温性ゲルが親水化する。すなわち、感温性ゲルが、ＬＣＳＴ型感温性ゲルである。
この場合、たとえばヒータによる加熱によって感温性ゲルを速やかに疎水化させることができる。そのため、感温性ゲルフィルタによる不純物の捕獲を速やかに開始できる。ひいては、不純物が除去された処理液の供給流路への供給を速やかに開始できる。
この場合、たとえばヒータによる加熱によって感温性ゲルを速やかに疎水化させることができる。そのため、感温性ゲルフィルタによる不純物の捕獲を速やかに開始できる。ひいては、不純物が除去された処理液の供給流路への供給を速やかに開始できる。
【0024】
この発明の他の実施形態によれば、前記不純物除去工程が、前記貯留タンクから液体を引き込み前記貯留タンク内に液体を戻す循環流路によって処理液を循環させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記処理液を通過させる循環除去工程を含む。そして、前記不純物放出工程が、前記循環流路によって前記洗浄液を循環させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記洗浄液を通過させる循環洗浄工程を含む。
【0025】
この方法によれば、循環流路によって処理液を循環させて感温性ゲルフィルタに処理液を通過させることによって処理液から不純物が除去され、循環流路によって洗浄液を循環させて感温性ゲルフィルタに洗浄液を通過させることによって感温性ゲルフィルタから不純物が放出される。液体の循環によって処理液および洗浄液を感温性ゲルフィルタに効率良く通過させることができる。これにより、処理液から不純物の除去、および、不純物除去効率の回復が速やかに行われる。
【0026】
この発明の他の実施形態によれば、前記処理液供給方法が、前記処理ユニットで使用された汚染処理液を、帰還流路を介して前記貯留タンクに帰還させる帰還工程をさらに含む。そして、前記循環除去工程において前記循環流路によって循環される前記処理液が、前記汚染処理液であり、前記循環洗浄工程において前記循環流路によって循環される前記洗浄液が、前記汚染処理液である。
【0027】
この方法によれば、処理ユニットから排出される汚染処理液が貯留タンクに帰還する。すなわち、汚染処理液が再利用される。これにより、基板処理に要するコストおよび環境負荷を低減できる。
その一方で、汚染処理液中には不純物が多量に存在している。そのため、汚染処理液を不純物除去ユニットに戻した場合、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下しやすい。しかしながら、感温性ゲルフィルタを用いれば、汚染処理液からの不純物の除去によって不純物除去効率が低下した場合であっても、温度調節によって容易に不純物を放出できる。そのため、感温性ゲルフィルタを交換することなく汚染処理液から不純物を除去できる。
その一方で、汚染処理液中には不純物が多量に存在している。そのため、汚染処理液を不純物除去ユニットに戻した場合、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下しやすい。しかしながら、感温性ゲルフィルタを用いれば、汚染処理液からの不純物の除去によって不純物除去効率が低下した場合であっても、温度調節によって容易に不純物を放出できる。そのため、感温性ゲルフィルタを交換することなく汚染処理液から不純物を除去できる。
【0028】
さらに、感温性ゲルフィルタに不純物を捕獲させるための処理液、および、感温性ゲルフィルタから不純物を放出させるための洗浄液として、汚染処理液が用いられる。そのため、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した際には、循環流路によって循環される液体の液種を変更する必要がないため、不純物除去効率の回復に速やかに開始できる。したがって、汚染処理液とは別の種類の洗浄液を感温性ゲルフィルタに通過させる構成と比較して、不純物を感温性ゲルフィルタから速やかに放出させることができる。
【0029】
この発明の他の実施形態によれば、前記不純物放出工程が、前記貯留タンクに前記洗浄液を供給して前記感温性ゲルフィルタを前記洗浄液に浸漬させ、前記貯留タンク内の前記洗浄液を前記排液流路から排液して前記貯留タンク内に排液流を形成する浸漬洗浄工程を含む。
この構成によれば、貯留タンク内に供給された洗浄液に感温性ゲルフィルタが浸漬される。これにより、洗浄液中に感温性ゲルから不純物が放出される。その後、貯留タンク内の洗浄液を排液流路から排液することによって貯留タンク内に排液流が形成される。洗浄液中に放出された不純物が、この排液流によって洗浄液とともに貯留タンク内から除去される。これにより、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させることができる。
この構成によれば、貯留タンク内に供給された洗浄液に感温性ゲルフィルタが浸漬される。これにより、洗浄液中に感温性ゲルから不純物が放出される。その後、貯留タンク内の洗浄液を排液流路から排液することによって貯留タンク内に排液流が形成される。洗浄液中に放出された不純物が、この排液流によって洗浄液とともに貯留タンク内から除去される。これにより、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させることができる。
【0030】
この発明の他の実施形態によれば、前記貯留タンクとして、第１貯留タンクおよび第２貯留タンクが設けられている。前記不純物放出工程が、前記第１貯留タンク内に収容されている第１感温性ゲルフィルタに含まれる第１感温性ゲルが親水性である状態で、前記第１感温性ゲルフィルタに洗浄液を通過させることによって、前記第１感温性ゲルフィルタから前記洗浄液に不純物を放出させる工程を含む。そして、前記不純物除去工程は、前記不純物放出工程が実行されている間に、前記第２貯留タンク内に収容されている第２感温性ゲルフィルタに含まれる前記第２感温性ゲルが疎水性である状態で前記第２貯留タンク内の処理液を前記第２感温性ゲルフィルタに通過させることによって、前記感温性ゲルフィルタに前記処理液中の不純物を捕獲させて前記処理液中から不純物を除去する工程を含む。
【0031】
この方法によれば、第１貯留タンク内に収容されている第１感温性ゲルフィルタから洗浄液に不純物を放出させている間に、別の貯留タンク（第２貯留タンク）に収容されている第２感温性ゲルフィルタによって、処理液から不純物を充分に除去できる。
そのため、一方の感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合にであっても、その感温性ゲルフィルタの感温性ゲルから不純物を放出させて不純物除去効率を回復させつつ、別の感温性ゲルフィルタを用いて処理液から不純物を充分に除去し、その処理液を供給流路に送出できる。
そのため、一方の感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が低下した場合にであっても、その感温性ゲルフィルタの感温性ゲルから不純物を放出させて不純物除去効率を回復させつつ、別の感温性ゲルフィルタを用いて処理液から不純物を充分に除去し、その処理液を供給流路に送出できる。
【0032】
したがって、貯留タンク内の感温性ゲルフィルタの不純物除去効率を回復させつつ、別の貯留タンク内の感温性ゲルフィルタを用いて処理ユニットに処理液を安定して供給できる。
この発明のさらに他の実施形態は、処理液で基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給方法を提供する。この処理液供給方法は、転移温度を境界として、親水性および疎水性のうちの一方から他方に変化する感温性ゲルを有する感温性ゲルフィルタを収容する貯留タンク内の処理液を循環させて、前記感温性ゲルフィルタに処理液を通過させる循環工程と、前記感温性ゲルが疎水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度を調節する温度調節工程と、前記感温性ゲルが疎水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度が調節されている状態で、前記感温性ゲルフィルタを通過する処理液の不純物量が所定の基準不純物量よりも少ないか否かを判定する不純物量判定工程とを含む。さらに、前記不純物量判定工程によって測定される不純物量が、前記基準不純物量よりも少ない場合には、前記処理ユニットに向けて処理液を送る供給流路に処理液を送出する供給工程が実行され、前記不純物量判定工程によって測定される不純物量が、前記基準不純物量以上である場合には、前記感温性ゲルが親水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度を調節した後、前記処理液を排液する排液流路に処理液を送出する排液工程が実行されるように、前記供給工程および前記排液工程が選択的に実行される。
この発明のさらに他の実施形態は、処理液で基板を処理する処理ユニットに処理液を供給する処理液供給方法を提供する。この処理液供給方法は、転移温度を境界として、親水性および疎水性のうちの一方から他方に変化する感温性ゲルを有する感温性ゲルフィルタを収容する貯留タンク内の処理液を循環させて、前記感温性ゲルフィルタに処理液を通過させる循環工程と、前記感温性ゲルが疎水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度を調節する温度調節工程と、前記感温性ゲルが疎水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度が調節されている状態で、前記感温性ゲルフィルタを通過する処理液の不純物量が所定の基準不純物量よりも少ないか否かを判定する不純物量判定工程とを含む。さらに、前記不純物量判定工程によって測定される不純物量が、前記基準不純物量よりも少ない場合には、前記処理ユニットに向けて処理液を送る供給流路に処理液を送出する供給工程が実行され、前記不純物量判定工程によって測定される不純物量が、前記基準不純物量以上である場合には、前記感温性ゲルが親水性となる温度に前記感温性ゲルフィルタの温度を調節した後、前記処理液を排液する排液流路に処理液を送出する排液工程が実行されるように、前記供給工程および前記排液工程が選択的に実行される。
【0033】
この処理液供給方法によれば、上述の処理液供給方法と同様の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【0034】
【発明を実施するための形態】
【0035】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して説明する。
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１の構成例を示す模式図である。基板処理装置１は、半導体ウエハなどの円板状の基板Ｗを一枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１は、処理液で基板Ｗを処理する処理ユニット２と、処理ユニット２に基板Ｗを搬送する搬送ロボット（図示せず）と、処理ユニット２に処理液を供給する処理液供給装置３と、基板処理装置１を制御するコントローラ４（図２を参照）とを含む。
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１の構成例を示す模式図である。基板処理装置１は、半導体ウエハなどの円板状の基板Ｗを一枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１は、処理液で基板Ｗを処理する処理ユニット２と、処理ユニット２に基板Ｗを搬送する搬送ロボット（図示せず）と、処理ユニット２に処理液を供給する処理液供給装置３と、基板処理装置１を制御するコントローラ４（図２を参照）とを含む。
【0036】
処理ユニット２内で基板Ｗに対して供給される処理液には、薬液やリンス液等が含まれる。薬液は、たとえば、フッ酸（フッ化水素水：ＨＦ）である。薬液は、フッ酸に限られず、硫酸、酢酸、硝酸、塩酸、フッ酸、バッファードフッ酸（ＢＨＦ）、希フッ酸（ＤＨＦ）、アンモニア水、過酸化水素水、界面活性剤、腐食防止剤のうちの少なくとも１つを含む液であってもよい。これらを混合した薬液の例としては、ＳＰＭ（硫酸過酸化水素水混合液）、ＳＣ１（アンモニア過酸化水素水混合液：ＡＰＭ）、ＳＣ２（塩酸過酸化水素水混合液：ＨＰＭ）等が挙げられる。
【0037】
リンス液とは、たとえば、脱イオン水（Deionized Water: DIW）である。リンス液は、ＤＩＷに限られず、炭酸水、電解イオン水、オゾン水、希釈濃度（たとえば、１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下）の塩酸水、アンモニア水、還元水（水素水）、親水性の有機溶剤のうちの少なくとも１つを含む液であってもよい。
親水性の有機溶剤は、たとえば、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、メタノール、エタノール、およびアセトンのうちの少なくとも１つを含む液であってもよい。
親水性の有機溶剤は、たとえば、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、メタノール、エタノール、およびアセトンのうちの少なくとも１つを含む液であってもよい。
【0038】
処理ユニット２は、スピンチャック１０と、処理液ノズル１１と、カップ１２と、処理チャンバ１３とを含む。スピンチャック１０は、一枚の基板Ｗを水平な姿勢で保持しながら基板Ｗの中央部を通る鉛直な回転軸線Ａ１まわりに基板Ｗを回転させる。処理液ノズル１１は、基板Ｗの上面に処理液を供給する。カップ１２は、スピンチャック１０を取り囲み、基板Ｗから飛散する処理液を受ける。処理チャンバ１３は、スピンチャック１０、処理液ノズル１１およびカップ１２を収容する。処理ユニット２内で使用された処理液を汚染処理液という。したがって、カップ１２の底部から排出される処理液は、汚染処理液である。
【0039】
スピンチャック１０は、複数のチャックピン１５と、スピンベース１６と、回転軸１７と、スピンモータ１８とを含む。複数のチャックピン１５は、スピンベース１６の上面に周方向に間隔を空けて配置されている。複数のチャックピン１５は、基板Ｗがスピンベース１６と一体回転可能なように、基板Ｗを把持する。回転軸１７は、回転軸線Ａ１に沿って鉛直方向に延びている。回転軸１７の上端は、スピンベース１６の下面中央に結合されている。スピンモータ１８は、回転軸１７に回転力を与えることによって、スピンベース１６および基板Ｗを回転させる。
【0040】
処理液供給装置３は、処理液中の不純物を除去する不純物除去ユニット２０と、不純物除去ユニット２０から処理液を排液する排液配管２１と、汚染処理液を処理ユニット２から不純物除去ユニット２０に戻す帰還配管２２と、不純物除去ユニット２０から処理ユニット２に向けて処理液を送る供給ユニット１９とを備えている。
供給ユニット１９は、不純物除去ユニット２０から送出される処理液が流れる上流供給配管２３と、上流供給配管２３を介して不純物除去ユニット２０から供給される処理液を貯留する供給タンク２４と、供給タンク２４内の処理液を処理ユニット２に供給する下流供給配管２５と、下流供給配管２５から供給タンク２４へ処理液を戻す供給側戻り配管２６とをさらに備えている。上流供給配管２３内の流路と、供給タンク２４の内部空間と、下流供給配管２５内の流路とによって、供給流路が構成されている。
供給ユニット１９は、不純物除去ユニット２０から送出される処理液が流れる上流供給配管２３と、上流供給配管２３を介して不純物除去ユニット２０から供給される処理液を貯留する供給タンク２４と、供給タンク２４内の処理液を処理ユニット２に供給する下流供給配管２５と、下流供給配管２５から供給タンク２４へ処理液を戻す供給側戻り配管２６とをさらに備えている。上流供給配管２３内の流路と、供給タンク２４の内部空間と、下流供給配管２５内の流路とによって、供給流路が構成されている。
【0041】
不純物除去ユニット２０は、処理液を貯留する貯留タンク３０と、貯留タンク３０に収容されている感温性ゲルフィルタ３１と、貯留タンク３０内の処理液を循環させる循環配管３２とを含む。
循環配管３２は、その内部に貯留タンク３０内の処理液を引き込み、循環配管３２内に引き込んだ処理液をその一端から他端まで移動させ、貯留タンク３０内に戻すことによって、処理液を循環させる。これにより、循環配管３２および貯留タンク３０を循環する処理液が感温性ゲルフィルタ３１内を通過する。循環配管３２は、その内部に循環流路を形成する配管である。
循環配管３２は、その内部に貯留タンク３０内の処理液を引き込み、循環配管３２内に引き込んだ処理液をその一端から他端まで移動させ、貯留タンク３０内に戻すことによって、処理液を循環させる。これにより、循環配管３２および貯留タンク３０を循環する処理液が感温性ゲルフィルタ３１内を通過する。循環配管３２は、その内部に循環流路を形成する配管である。
【0042】
貯留タンク３０は、処理液を貯留する内部空間３３を有する。貯留タンク３０の内部空間３３は、感温性ゲルフィルタ３１によって、第１収容部３３ａと第２収容部３３ｂとに仕切られている。第１収容部３３ａは、感温性ゲルフィルタ３１を挟んで第２収容部３３ｂよりも処理液の循環方向Ｃの上流側に位置する。循環配管３２の上流端は、第２収容部３３ｂに接続されており、循環配管３２の下流端は、第１収容部３３ａに接続されている。
【0043】
この実施形態では、感温性ゲルフィルタ３１は、第２収容部３３ｂが第１収容部３３ａよりも上方に位置するように貯留タンク３０の内部空間３３を仕切っている。そのため、循環配管３２が処理液を循環させている間、循環配管３２の上流端が処理液の液面よりも下方に位置するように、循環配管３２は、貯留タンク３０の内部にまで延びている。
貯留タンク３０内には、貯留タンク３０内の処理液の液面の高さを検知する液面センサ３４が設けられている。液面センサ３４は、非接触式のレベルセンサが好ましく、たとえば、超音波式のレベルセンサであってもよい。
貯留タンク３０内には、貯留タンク３０内の処理液の液面の高さを検知する液面センサ３４が設けられている。液面センサ３４は、非接触式のレベルセンサが好ましく、たとえば、超音波式のレベルセンサであってもよい。
【0044】
不純物除去ユニット２０は、循環ポンプ４０、上流循環バルブ４１、不純物量測定ユニット４２、中間循環バルブ４３、下流循環バルブ４４、循環ヒータ４５、および、循環温度計４６を含む。循環ポンプ４０、上流循環バルブ４１、不純物量測定ユニット４２、中間循環バルブ４３、下流循環バルブ４４、循環ヒータ４５、および、循環温度計４６は、循環配管３２の上流端側から下流端側に向かって、この順番で介装されている。
【0045】
循環ポンプ４０は、貯留タンク３０内の処理液を循環配管３２に送り出す。上流循環バルブ４１、中間循環バルブ４３および下流循環バルブ４４は、循環配管３２内の循環流路を開閉する。
不純物量測定ユニット４２は、たとえば、液中パーティクル測定器および金属濃度測定器の少なくとも一方を含む機器である。液中パーティクル測定器は、サンプルに光を照射して、パーティクルからの光の散乱の強さを測り、そのパーティクルの大きさに比例した光強度を電気信号として取り出すことでパーティクル径およびパーティクル数を測定する機器である。
不純物量測定ユニット４２は、たとえば、液中パーティクル測定器および金属濃度測定器の少なくとも一方を含む機器である。液中パーティクル測定器は、サンプルに光を照射して、パーティクルからの光の散乱の強さを測り、そのパーティクルの大きさに比例した光強度を電気信号として取り出すことでパーティクル径およびパーティクル数を測定する機器である。
【0046】
金属濃度測定器は、イオン選択性電極法（ＩＳＥ: Ion Selective Electrode）を用いた電気化学的測定手法によって、液中の特定イオン濃度を測定する機器である。
循環温度計４６は、循環配管３２内の処理液の温度を検出する循環温度検出ユニットの一例である。
循環ヒータ４５は、循環配管３２内の処理液を加熱する。循環ヒータ４５は、加熱ユニットの一例である。循環配管３２内の流路において循環ヒータ４５によって加熱される循環加熱部分３２ａは、下流循環バルブ４４よりも下流側で、かつ、循環温度計４６よりも上流側に設定される。
循環温度計４６は、循環配管３２内の処理液の温度を検出する循環温度検出ユニットの一例である。
循環ヒータ４５は、循環配管３２内の処理液を加熱する。循環ヒータ４５は、加熱ユニットの一例である。循環配管３２内の流路において循環ヒータ４５によって加熱される循環加熱部分３２ａは、下流循環バルブ４４よりも下流側で、かつ、循環温度計４６よりも上流側に設定される。
【0047】
循環ヒータ４５は、下流循環バルブ４４よりも下流側で、かつ、循環温度計４６よりも上流側の循環加熱部分３２ａを加熱する構成であれば、循環配管３２に介装されている構成でなくてもよく、循環配管３２を外部から加熱する構成であってもよい。
感温性ゲルフィルタ３１は、転移温度を境界として、親水性および疎水性の一方から他方に変化する性質を有する感温性ゲル５０と、処理液を通過させつつ感温性ゲル５０を保持するフィルタ部材５１とを含む。この実施形態では、フィルタ部材５１は、循環方向Ｃの両側から感温性ゲル５０を挟む一対のシート状フィルタ５２を含む。
感温性ゲルフィルタ３１は、転移温度を境界として、親水性および疎水性の一方から他方に変化する性質を有する感温性ゲル５０と、処理液を通過させつつ感温性ゲル５０を保持するフィルタ部材５１とを含む。この実施形態では、フィルタ部材５１は、循環方向Ｃの両側から感温性ゲル５０を挟む一対のシート状フィルタ５２を含む。
【0048】
感温性ゲル５０は、転移温度を境界として、親疎水転移する高分子の共重合体である。親疎水転移とは、親水性および疎水性の一方から他方に変化する性質のことである。
処理液中に存在する不純物は、主に、金属や有機物等の疎水性物質である。そのため、感温性ゲル５０が疎水性であるときには、疎水性相互作用によって感温性ゲル５０が処理液中の不純物を捕獲（吸着）する。一方、感温性ゲル５０が親水性であるときには、疎水性相互作用が弱いため、感温性ゲル５０は、処理液中に不純物を放出する。感温性ゲル５０は、温度変化によって、疎水性および親水性の一方から他方に可逆的に変化する。感温性ゲル５０は、親水条件下では吸水して膨潤し、疎水条件下では脱水して収縮（凝集）する体積相転移を発現する。
処理液中に存在する不純物は、主に、金属や有機物等の疎水性物質である。そのため、感温性ゲル５０が疎水性であるときには、疎水性相互作用によって感温性ゲル５０が処理液中の不純物を捕獲（吸着）する。一方、感温性ゲル５０が親水性であるときには、疎水性相互作用が弱いため、感温性ゲル５０は、処理液中に不純物を放出する。感温性ゲル５０は、温度変化によって、疎水性および親水性の一方から他方に可逆的に変化する。感温性ゲル５０は、親水条件下では吸水して膨潤し、疎水条件下では脱水して収縮（凝集）する体積相転移を発現する。
【0049】
感温性ゲル５０は、転移温度以上の温度で疎水性を示し、転移温度よりも低い温度で親水性を示すＬＣＳＴ型感温性ゲルと、転移温度よりも低い温度で疎水性を示し、転移温度以上の温度で親水性を示すＵＣＳＴ型感温性ゲルとに分類される。ＬＣＳＴ型感温性ゲルは、転移温度以上の温度で疎水性を示し、転移温度よりも低い温度で親水性を示す。ＵＣＳＴ型感温性ゲルは、転移温度以下の温度で疎水性を示し、転移温度よりも高い温度で親水性を示す。
【0050】
ＬＣＳＴ型感温性ゲルは、たとえば、ポリ（Ｎ－アルキルアクリルアミド）、ポリ（Ｎ－イソプロピルアクリルアミド）、ポリ（Ｎ－ビニルアルキルアミド）、ポリビニルアルキルエーテル、メチルセルロースのうちの少なくとも１つを含んでいてもよい。
ＵＣＳＴ型感温性ゲルは、ポリ（アクリルアミド－ＣＯ－アクリロニトリル）、ポリ（アリルアミン－ＣＯ－アリルウレア）、スルフォベタインポリマーのうちの少なくとも１つを含んでいてもよい。
ＵＣＳＴ型感温性ゲルは、ポリ（アクリルアミド－ＣＯ－アクリロニトリル）、ポリ（アリルアミン－ＣＯ－アリルウレア）、スルフォベタインポリマーのうちの少なくとも１つを含んでいてもよい。
【0051】
この実施形態では、感温性ゲルがＬＣＳＴ型感温性ゲルである例について説明する。ＬＣＳＴ型感温性ゲルの転移温度（ＬＣＳＴ）は、常温（５℃以上２５℃以下の温度）よりも高く、たとえば、３０℃以上で、かつ、５０℃以下である。そのため、感温性ゲル５０を親水性から疎水性への変化は、ヒータによる加熱が必要であるが、感温性ゲル５０を疎水性から親水性への変化は、自然冷却によって達成できる。自然冷却とは、クーラ等の冷却ユニットを用いずに、感温性ゲルフィルタ３１および処理液の放熱によって、感温性ゲルフィルタ３１および処理液が冷却されることをいう。
【0052】
帰還配管２２は、その内部に帰還流路を形成する配管である。帰還配管２２の上流端は、たとえば、カップ１２に接続されている。帰還配管２２の下流端は、たとえば、循環配管３２に分岐接続されている。循環配管３２において帰還配管２２が分岐する位置は、中間循環バルブ４３よりも下流側で、かつ、下流循環バルブ４４よりも上流側に位置する。
この実施形態では、帰還配管２２が貯留タンク３０に直接接続されているのではなく、帰還配管２２は、循環配管３２に分岐接続されている。そのため、処理液が、帰還配管２２から貯留タンク３０に直接送られるのではなく、循環配管３２を介して貯留タンク３０に送られる。この実施形態とは異なり、帰還配管２２は、貯留タンク３０の第１収容部３３ａに直接接続されていてもよい。
この実施形態では、帰還配管２２が貯留タンク３０に直接接続されているのではなく、帰還配管２２は、循環配管３２に分岐接続されている。そのため、処理液が、帰還配管２２から貯留タンク３０に直接送られるのではなく、循環配管３２を介して貯留タンク３０に送られる。この実施形態とは異なり、帰還配管２２は、貯留タンク３０の第１収容部３３ａに直接接続されていてもよい。
【0053】
処理液供給装置３は、帰還配管２２に介装され、帰還配管２２内の流路を開閉する帰還バルブ６０を備えている。
排液配管２１は、その内部に排液流路を形成する配管である。排液配管２１の上流端は、貯留タンク３０の第１収容部３３ａに接続されている。処理液供給装置３は、排液配管２１に介装され、排液配管２１内の流路を開閉する排液バルブ７０をさらに備えている。なお、この実施形態とは異なり、処理液供給装置３は、第２収容部３３ｂに接続される排液配管（図示せず）をさらに備えていてもよく、用途に応じて、当該排液配管と排液配管２１とが使い分けられてもよい。
排液配管２１は、その内部に排液流路を形成する配管である。排液配管２１の上流端は、貯留タンク３０の第１収容部３３ａに接続されている。処理液供給装置３は、排液配管２１に介装され、排液配管２１内の流路を開閉する排液バルブ７０をさらに備えている。なお、この実施形態とは異なり、処理液供給装置３は、第２収容部３３ｂに接続される排液配管（図示せず）をさらに備えていてもよく、用途に応じて、当該排液配管と排液配管２１とが使い分けられてもよい。
【0054】
上流供給配管２３は、その内部に上流供給流路を形成する配管である。上流供給配管２３の上流端は、たとえば、循環配管３２に分岐接続されている。上流供給配管２３の上流端は、循環ポンプ４０よりも下流側で、かつ、上流循環バルブ４１よりも上流側において循環配管３２に接続されていることが好ましい。
この実施形態のように、上流供給配管２３の分岐接続位置が循環ポンプ４０よりも下流側に位置する構成であれば、上流供給配管２３に処理液を送り出すポンプを省略できる。上流供給配管２３の下流端は、供給タンク２４に接続されている。上流供給配管２３は、この実施形態では、循環配管３２に接続されているが、この実施形態とは異なり、貯留タンク３０の第１収容部３３ａに直接接続されていてもよい。
この実施形態のように、上流供給配管２３の分岐接続位置が循環ポンプ４０よりも下流側に位置する構成であれば、上流供給配管２３に処理液を送り出すポンプを省略できる。上流供給配管２３の下流端は、供給タンク２４に接続されている。上流供給配管２３は、この実施形態では、循環配管３２に接続されているが、この実施形態とは異なり、貯留タンク３０の第１収容部３３ａに直接接続されていてもよい。
【0055】
処理液供給装置３は、上流供給配管２３に介装され、上流供給配管２３内の流路を開閉する上流供給バルブ８０をさらに備えている。
下流供給配管２５は、その内部に下流供給流路を形成する配管である。下流供給配管２５は、下流供給配管２５の上流端が処理液の液面よりも下方に位置するように、供給タンク２４の内部にまで延びている。下流供給配管２５の下流端は、処理液ノズル１１に接続されている。供給ユニット１９は、供給ポンプ８１、供給ヒータ８２、供給フィルタ８３、および下流供給バルブ８４を含む。供給ポンプ８１、供給ヒータ８２、供給フィルタ８３、および下流供給バルブ８４は、下流供給配管２５の上流側からこの順番で下流供給配管２５に介装されている。
下流供給配管２５は、その内部に下流供給流路を形成する配管である。下流供給配管２５は、下流供給配管２５の上流端が処理液の液面よりも下方に位置するように、供給タンク２４の内部にまで延びている。下流供給配管２５の下流端は、処理液ノズル１１に接続されている。供給ユニット１９は、供給ポンプ８１、供給ヒータ８２、供給フィルタ８３、および下流供給バルブ８４を含む。供給ポンプ８１、供給ヒータ８２、供給フィルタ８３、および下流供給バルブ８４は、下流供給配管２５の上流側からこの順番で下流供給配管２５に介装されている。
【0056】
供給ポンプ８１は、供給タンク２４内の処理液を下流供給配管２５に送り出す。供給フィルタ８３は、下流供給配管２５内の処理液中の不純物を除去するフィルタである。供給フィルタ８３としては、常温よりも高温での使用に適したフィルタが用いられる。供給フィルタ８３は、たとえば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）疎水膜をろ過膜として含む。供給フィルタ８３が濾過膜としてＰＴＦＥ疎水膜を含む構成であれば、不純物としての疎水性化合物を処理液から効果的に除去できる。
【0057】
下流供給バルブ８４は、下流供給配管２５内の流路（下流供給流路）を開閉する。
供給ヒータ８２は、下流供給配管２５内の処理液を加熱する。下流供給配管２５内の流路において供給ヒータ８２によって加熱される供給加熱部分２５ａは、たとえば、供給ポンプ８１よりも下流側でかつ供給フィルタ８３よりも上流側に設定される。
供給ヒータ８２は、供給ポンプ８１よりも下流側でかつ供給フィルタ８３よりも上流側の供給加熱部分２５ａを加熱する構成であれば、下流供給配管２５に介装されていなくてもよく、下流供給配管２５を外部から加熱する構成であってもよい。
供給ヒータ８２は、下流供給配管２５内の処理液を加熱する。下流供給配管２５内の流路において供給ヒータ８２によって加熱される供給加熱部分２５ａは、たとえば、供給ポンプ８１よりも下流側でかつ供給フィルタ８３よりも上流側に設定される。
供給ヒータ８２は、供給ポンプ８１よりも下流側でかつ供給フィルタ８３よりも上流側の供給加熱部分２５ａを加熱する構成であれば、下流供給配管２５に介装されていなくてもよく、下流供給配管２５を外部から加熱する構成であってもよい。
【0058】
供給側戻り配管２６の上流端は、下流供給配管２５に分岐接続されている。供給側戻り配管２６の下流端は、供給タンク２４に接続されている。処理液供給装置３は、供給側戻り配管２６に介装され、供給側戻り配管２６内の流路（供給側戻り流路）を開閉する供給側循環バルブ８５をさらに備えている。
供給側戻り配管２６の分岐接続位置は、供給フィルタ８３よりも下流側で、かつ、下流供給バルブ８４よりも上流側に位置することが好ましい。供給側戻り配管２６の分岐接続位置が、供給ポンプ８１よりも下流側であるため、供給側戻り配管２６に処理液を送り出すポンプを供給ポンプ８１とは別に設ける必要がない。供給側戻り配管２６の分岐接続位置が、供給ヒータ８２よりも下流側であるため、供給タンク２４内の処理液を加熱するためのヒータを供給ヒータ８２とは別に設ける必要がない。
供給側戻り配管２６の分岐接続位置は、供給フィルタ８３よりも下流側で、かつ、下流供給バルブ８４よりも上流側に位置することが好ましい。供給側戻り配管２６の分岐接続位置が、供給ポンプ８１よりも下流側であるため、供給側戻り配管２６に処理液を送り出すポンプを供給ポンプ８１とは別に設ける必要がない。供給側戻り配管２６の分岐接続位置が、供給ヒータ８２よりも下流側であるため、供給タンク２４内の処理液を加熱するためのヒータを供給ヒータ８２とは別に設ける必要がない。
【0059】
図２は、基板処理装置１の主要部の電気的構成を説明するためのブロック図である。コントローラ４は、マイクロコンピュータを備えており、所定のプログラムに従って、基板処理装置１に備えられた制御対象を制御する。より具体的には、コントローラ４は、プロセッサ（ＣＰＵ）５と、プログラムが格納されたメモリ６とを含み、プロセッサ５がプログラムを実行することによって、基板処理のための様々な制御処理を実行するように構成されている。
【0060】
特に、コントローラ４は、スピンモータ１８、循環ヒータ４５、供給ヒータ８２、不純物量測定ユニット４２、循環ポンプ４０、供給ポンプ８１、液面センサ３４、循環温度計４６、上流循環バルブ４１、中間循環バルブ４３、下流循環バルブ４４、帰還バルブ６０、排液バルブ７０、上流供給バルブ８０、下流供給バルブ８４、供給側循環バルブ８５等の動作を制御する。その他、コントローラ４は、後述する各実施形態に係る基板処理装置１Ｐ、１Ｑ、１Ｒに備えられる部材の動作も制御する。
【0061】
次に、処理液供給装置３の全体の動作について説明する。
まず、処理ユニット２へ処理液を供給する前に、下流供給バルブ８４が閉じられかつ供給側循環バルブ８５が開かれる。この状態で、供給ポンプ８１を作動させることで、供給タンク２４内の処理液が、下流供給配管２５および供給側戻り配管２６を循環する。詳しくは、供給タンク２４の内の処理液が、下流供給配管２５の上流端から引き込まれ、下流供給配管２５内に引き込まれた処理液が供給側戻り配管２６の下流端まで移動し、供給タンク２４内に戻る。
まず、処理ユニット２へ処理液を供給する前に、下流供給バルブ８４が閉じられかつ供給側循環バルブ８５が開かれる。この状態で、供給ポンプ８１を作動させることで、供給タンク２４内の処理液が、下流供給配管２５および供給側戻り配管２６を循環する。詳しくは、供給タンク２４の内の処理液が、下流供給配管２５の上流端から引き込まれ、下流供給配管２５内に引き込まれた処理液が供給側戻り配管２６の下流端まで移動し、供給タンク２４内に戻る。
【0062】
供給タンク２４内の処理液が、下流供給配管２５および供給側戻り配管２６を循環している間、供給ヒータ８２を作動させることによって、供給タンク２４内の処理液の温度を上昇させることができる。
処理液の温度が充分に上昇した後、下流供給バルブ８４が開かれ、供給側循環バルブ８５が閉じられ、供給ポンプ８１が作動される。これにより、供給タンク２４内の処理液が、処理ユニット２の処理液ノズル１１に供給される。
処理液の温度が充分に上昇した後、下流供給バルブ８４が開かれ、供給側循環バルブ８５が閉じられ、供給ポンプ８１が作動される。これにより、供給タンク２４内の処理液が、処理ユニット２の処理液ノズル１１に供給される。
【0063】
処理液を加熱する必要がない場合には、供給タンク２４内の処理液の循環を省略してもよい。
処理液ノズル１１から吐出された処理液は、回転状態の基板Ｗの上面に着液する。基板Ｗの上面に着液した処理液は、遠心力の作用によって基板Ｗ外に飛散し、カップ１２によって受けられる。
処理液ノズル１１から吐出された処理液は、回転状態の基板Ｗの上面に着液する。基板Ｗの上面に着液した処理液は、遠心力の作用によって基板Ｗ外に飛散し、カップ１２によって受けられる。
【0064】
カップ１２によって受けられた汚染処理液は、帰還配管２２を介して不純物除去ユニット２０に流入する。不純物除去ユニット２０に流入した処理液が不純物除去ユニット２０の感温性ゲルフィルタ３１を通過することによって、汚染処理液中の不純物が除去される。これにより、不純物が除去された清浄処理液が生成される。清浄処理液は、上流供給配管２３を介して供給タンク２４に送られる。このように、汚染処理液から不純物が除去されて清浄処理液が生成され、清浄処理液が供給タンク２４に戻される。つまり、処理液が再利用される。
【0065】
以下では、不純物除去ユニット２０の動作について詳しく説明する。
図３は、不純物除去ユニット２０の動作について説明するためのフローチャートである。図４Ａ～図４Ｅは、不純物除去ユニット２０の動作例について説明するための模式図である。
図４Ａ～図４Ｅでは、開いているバルブを黒色で示しており、閉じているバルブを白色で示している（後述する図６Ａ～図６Ｄ、図８Ａ、図８Ｂおよび図１０Ａ～図１０Ｅにおいても同様）。図４Ａ～図４Ｅでは、作動中のヒータおよびポンプには、「ＯＮ」と記載し、作動していないヒータおよびポンプには、「ＯＦＦ」と記載している（後述する図６Ａ～図６Ｄ、図８Ａ、図８Ｂおよび図１０Ａ～図１０Ｅにおいても同様）。
図３は、不純物除去ユニット２０の動作について説明するためのフローチャートである。図４Ａ～図４Ｅは、不純物除去ユニット２０の動作例について説明するための模式図である。
図４Ａ～図４Ｅでは、開いているバルブを黒色で示しており、閉じているバルブを白色で示している（後述する図６Ａ～図６Ｄ、図８Ａ、図８Ｂおよび図１０Ａ～図１０Ｅにおいても同様）。図４Ａ～図４Ｅでは、作動中のヒータおよびポンプには、「ＯＮ」と記載し、作動していないヒータおよびポンプには、「ＯＦＦ」と記載している（後述する図６Ａ～図６Ｄ、図８Ａ、図８Ｂおよび図１０Ａ～図１０Ｅにおいても同様）。
【0066】
不純物量測定ユニット４２、循環温度計４６および液面センサ３４は、常時作動していてもよい。
図４Ａに示すように、帰還バルブ６０および下流循環バルブ４４が開かれる。これにより、処理液が、不純物除去ユニット２０に戻り（帰還工程）、貯留タンク３０に補充される（補充工程）。
図４Ａに示すように、帰還バルブ６０および下流循環バルブ４４が開かれる。これにより、処理液が、不純物除去ユニット２０に戻り（帰還工程）、貯留タンク３０に補充される（補充工程）。
【0067】
帰還配管２２から貯留タンク３０内に処理液が送られて貯留タンク３０内の処理液の液面が上昇し、液面センサ３４の測定値が循環配管３２の上流端よりも上方の所定の第１高さＨ１に達すると、帰還バルブ６０が閉じられ、上流循環バルブ４１および中間循環バルブ４３が開かれる。そして、循環ポンプ４０が作動される。これにより、図４Ｂに示すように、貯留タンク３０内の処理液が、循環配管３２に引き込まれ循環配管３２から貯留タンク３０内に戻されることで、処理液の循環が開始される（循環工程）。
【0068】
循環配管３２内を流れる処理液は、循環ヒータ４５によって加熱される。貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１は、循環ヒータ４５によって加熱された処理液によって加熱される（ステップＳ１：ゲル加熱開始工程）。
感温性ゲルフィルタ３１は、循環する処理液を介して、循環ヒータ４５によって加熱される（循環加熱工程）。感温性ゲルフィルタ３１は、処理液によって加熱されることで、処理液と同じ温度に達する。そのため、循環配管３２内を流れる処理液の温度を循環温度計４６によって測定することによって、感温性ゲルフィルタ３１の温度（ゲル温度）を間接的に測定できる（ゲル温度測定工程）。この実施形態では、帰還工程においても循環ヒータ４５が作動している。そのため、循環工程が開始される前に処理液の加熱が開始されている。
感温性ゲルフィルタ３１は、循環する処理液を介して、循環ヒータ４５によって加熱される（循環加熱工程）。感温性ゲルフィルタ３１は、処理液によって加熱されることで、処理液と同じ温度に達する。そのため、循環配管３２内を流れる処理液の温度を循環温度計４６によって測定することによって、感温性ゲルフィルタ３１の温度（ゲル温度）を間接的に測定できる（ゲル温度測定工程）。この実施形態では、帰還工程においても循環ヒータ４５が作動している。そのため、循環工程が開始される前に処理液の加熱が開始されている。
【0069】
そして、ステップＳ１の後、コントローラ４は、感温性ゲルフィルタ３１の温度が、転移温度以上の温度であるか否かを監視する（ステップＳ２：第１ゲル温度監視工程）。ゲル温度が感温性ゲル５０の転移温度（ＬＣＳＴ）よりも低い場合には（ステップＳ２：ＮＯ）、ステップＳ２に戻る。
処理液は、循環配管３２および貯留タンク３０を所定時間循環することによって、感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱される。感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されることによって、感温性ゲルフィルタ３１に含まれる感温性ゲルが疎水化される（疎水化工程）。すなわち、感温性ゲル５０が疎水性となる温度に感温性ゲルフィルタ３１の温度が調節される（温度調節工程）。貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されると（ステップＳ２：ＹＥＳ）、ステップＳ３に進む。
処理液は、循環配管３２および貯留タンク３０を所定時間循環することによって、感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱される。感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されることによって、感温性ゲルフィルタ３１に含まれる感温性ゲルが疎水化される（疎水化工程）。すなわち、感温性ゲル５０が疎水性となる温度に感温性ゲルフィルタ３１の温度が調節される（温度調節工程）。貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されると（ステップＳ２：ＹＥＳ）、ステップＳ３に進む。
【0070】
ステップＳ３では、コントローラ４は、ゲル温度が転移温度以上の温度に達したときから所定の不純物除去時間が経過したか否かを監視する（ステップＳ３：経過時間監視工程）。
感温性ゲルフィルタ３１が転移温度以上に加熱されている状態、すなわち、感温性ゲル５０が疎水性となっている状態で、感温性ゲルフィルタ３１に処理液を通過させることによって、処理液中の不純物が感温性ゲルフィルタ３１によって除去される（不純物除去工程、循環除去工程）。感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が充分に高い場合には、不純物は、時間経過とともに処理液から除去される。
感温性ゲルフィルタ３１が転移温度以上に加熱されている状態、すなわち、感温性ゲル５０が疎水性となっている状態で、感温性ゲルフィルタ３１に処理液を通過させることによって、処理液中の不純物が感温性ゲルフィルタ３１によって除去される（不純物除去工程、循環除去工程）。感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が充分に高い場合には、不純物は、時間経過とともに処理液から除去される。
【0071】
この実施形態の不純物除去工程では、不純物除去ユニット２０に供給される処理液は汚染処理液である。そのため、感温性ゲルフィルタ３１によって汚染処理液中の不純物が捕獲されて汚染処理液から不純物が除去される。
循環配管３２および貯留タンク３０を循環する処理液を加熱することで不純物除去工程および疎水化工程が実行される。不純物除去工程は、疎水化工程による感温性ゲル５０の疎水化が達成された後に実行される。
循環配管３２および貯留タンク３０を循環する処理液を加熱することで不純物除去工程および疎水化工程が実行される。不純物除去工程は、疎水化工程による感温性ゲル５０の疎水化が達成された後に実行される。
【0072】
この実施形態とは異なり、処理液の温度が、貯留タンク３０および循環配管３２を循環する前から転移温度以上の温度であった場合には、疎水化工程は実行されず、循環工程の開始と同時に不純物除去工程が開始される。
コントローラ４は、不純物除去時間が経過していない場合（ステップＳ３：ＮＯ）、ステップＳ３に戻る。コントローラ４は、不純物除去時間が経過すると（ステップＳ３：ＹＥＳ）、不純物量測定ユニット４２が測定する不純物量が、基準不純物量よりも低いか否かを判定する（ステップＳ４：不純物量判定工程）。不純物量判定工程は、感温性ゲル５０が疎水性となる温度にゲル温度が調節されている状態で実行される。
コントローラ４は、不純物除去時間が経過していない場合（ステップＳ３：ＮＯ）、ステップＳ３に戻る。コントローラ４は、不純物除去時間が経過すると（ステップＳ３：ＹＥＳ）、不純物量測定ユニット４２が測定する不純物量が、基準不純物量よりも低いか否かを判定する（ステップＳ４：不純物量判定工程）。不純物量判定工程は、感温性ゲル５０が疎水性となる温度にゲル温度が調節されている状態で実行される。
【0073】
不純物除去時間経過後に、不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量が基準不純物量よりも低い場合には（ステップＳ４：ＹＥＳ）、図４Ｃに示すように、処理液の循環を維持しながら、上流供給バルブ８０が開かれる。貯留タンク３０から供給タンク２４に向けて、不純物が充分に除去された処理液（清浄処理液）が送られる（ステップＳ５：供給工程）。すなわち、循環配管３２および貯留タンク３０を循環する処理液から不純物が充分に除去された後、供給工程が実行される。
【0074】
供給工程の実行によって、貯留タンク３０内の処理液の液面が低下し、図４Ｃに二点鎖線に示すように液面センサ３４の測定値が所定の第２高さＨ２に達すると、上流供給バルブ８０、上流循環バルブ４１および中間循環バルブ４３が閉じられる。これにより、処理液の循環および供給タンク２４への処理液の供給が停止される。その後、貯留タンク３０に処理液が補充されると、不純物除去ユニット２０の動作がステップＳ１から再び開始される。
【0075】
一方、不純物除去時間経過後においても、不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には（ステップＳ４：ＮＯ）、図４Ｄに示すように、循環ヒータ４５が停止される。
循環ヒータ４５が停止された状態で処理液が循環配管３２および貯留タンク３０を所定時間循環することによって、処理液が常温にまで自然冷却される。貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１は、処理液によって冷却される（ステップＳ６：ゲル加熱停止工程）。
循環ヒータ４５が停止された状態で処理液が循環配管３２および貯留タンク３０を所定時間循環することによって、処理液が常温にまで自然冷却される。貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１は、処理液によって冷却される（ステップＳ６：ゲル加熱停止工程）。
【0076】
感温性ゲルフィルタ３１は、循環する処理液を介して、冷却される（循環冷却工程）。感温性ゲルフィルタ３１は、処理液によって冷却されることで、処理液と同じ温度に達する。
ステップＳ６の後、コントローラ４は、感温性ゲルフィルタ３１の温度が、転移温度よりも低いか否かを監視する（ステップＳ７：第２ゲル温度監視工程）。コントローラ４は、貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度以上である場合には（ステップＳ７：ＮＯ）、ステップＳ７に戻る。
ステップＳ６の後、コントローラ４は、感温性ゲルフィルタ３１の温度が、転移温度よりも低いか否かを監視する（ステップＳ７：第２ゲル温度監視工程）。コントローラ４は、貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度以上である場合には（ステップＳ７：ＮＯ）、ステップＳ７に戻る。
【0077】
処理液は、循環配管３２および貯留タンク３０を所定時間循環することによって、感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却される。感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却されることによって、感温性ゲルフィルタ３１に含まれる感温性ゲルが親水化される（親水化工程）。
感温性ゲルフィルタ３１が転移温度よりも低い温度に冷却されている状態、すなわち、感温性ゲル５０が親水性となっている状態で、感温性ゲルフィルタ３１に処理液を通過させることによって、感温性ゲルフィルタ３１によって捕獲されていた不純物が処理液中に放出される（不純物放出工程、循環洗浄工程、循環放出工程）。
感温性ゲルフィルタ３１が転移温度よりも低い温度に冷却されている状態、すなわち、感温性ゲル５０が親水性となっている状態で、感温性ゲルフィルタ３１に処理液を通過させることによって、感温性ゲルフィルタ３１によって捕獲されていた不純物が処理液中に放出される（不純物放出工程、循環洗浄工程、循環放出工程）。
【0078】
この実施形態の不純物放出工程において不純物除去ユニット２０に供給される処理液は、洗浄液としての汚染処理液である。そのため、感温性ゲルフィルタ３１から汚染処理液に不純物が放出される。
貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却されると（ステップＳ７：ＹＥＳ）、図４Ｅに示すように、処理液の循環を維持しながら、排液バルブ７０が開かれる。これにより、貯留タンク３０から排液配管２１（排液流路）に向けて処理液が送られる（ステップＳ８：排液工程）。すなわち、循環配管３２および貯留タンク３０を循環する処理液に不純物が放出された後、排液工程が実行される。
貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却されると（ステップＳ７：ＹＥＳ）、図４Ｅに示すように、処理液の循環を維持しながら、排液バルブ７０が開かれる。これにより、貯留タンク３０から排液配管２１（排液流路）に向けて処理液が送られる（ステップＳ８：排液工程）。すなわち、循環配管３２および貯留タンク３０を循環する処理液に不純物が放出された後、排液工程が実行される。
【0079】
排液工程の実行によって、貯留タンク３０内の処理液の液面が低下し、図４Ｅに二点鎖線に示すように液面センサ３４の測定値が所定の第２高さＨ２に達すると、排液バルブ７０、上流循環バルブ４１および中間循環バルブ４３が閉じられる。これにより、処理液の循環および排液が停止される。その後、貯留タンク３０に処理液が補充されると、不純物除去ユニット２０の動作がステップＳ１から再び開始される。
【0080】
このように、この実施形態では、不純物除去ユニット２０の不純物除去効率の低下度合に応じて、供給工程と排液工程とが選択的に実行される。
ただし、最初の不純物除去工程の実行前では、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率は低下しておらず充分に高い。そのため、最初の不純物除去工程の際に不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量は、基準不純物量よりも低い。したがって、不純物除去ユニット２０の動作において、供給工程（ステップＳ５）が少なくとも一回実行された後に、二回目以降の動作において排液工程（ステップＳ８）が実行される。
ただし、最初の不純物除去工程の実行前では、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率は低下しておらず充分に高い。そのため、最初の不純物除去工程の際に不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量は、基準不純物量よりも低い。したがって、不純物除去ユニット２０の動作において、供給工程（ステップＳ５）が少なくとも一回実行された後に、二回目以降の動作において排液工程（ステップＳ８）が実行される。
【0081】
第１実施形態によれば、感温性ゲル５０が疎水性であるときに処理液を感温性ゲルフィルタ３１に通過させることによって、処理液中の不純物を感温性ゲルフィルタ３１に捕獲させ処理液中から不純物を除去できる。そして、不純物が充分に除去された処理液を、上流供給配管２３、供給タンク２４および下流供給配管２５を介して処理ユニット２に供給できる。
【0082】
不純物を捕獲することによって感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下した場合には、感温性ゲル５０を親水性に変化させた状態で貯留タンク３０内の洗浄液としての処理液を循環配管３２によって循環させて感温性ゲルフィルタ３１に通過させれば、感温性ゲルフィルタ３１によって捕獲されていた不純物を処理液中に放出できる。これにより、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率を回復させることができる。そして、不純物を多量に含んだ処理液を、排液配管２１を介して貯留タンク３０から排除することで、不純物除去ユニット２０を再び利用可能な状態に戻すことができる。
【0083】
以上のように、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下した場合であっても、感温性ゲルフィルタ３１を交換することなく不純物除去効率を回復させることができる。
この実施形態のように、感温性ゲル５０がＬＣＳＴ型感温性ゲルである場合、加熱によって親水性から疎水性へ感温性ゲル５０の状態を速やかに変化させることができる。そのため、感温性ゲルフィルタ３１による不純物の捕獲を速やかに開始することができる。ひいては、不純物が除去された処理液の上流供給配管２３（供給流路）への供給を速やかに開始できる。
この実施形態のように、感温性ゲル５０がＬＣＳＴ型感温性ゲルである場合、加熱によって親水性から疎水性へ感温性ゲル５０の状態を速やかに変化させることができる。そのため、感温性ゲルフィルタ３１による不純物の捕獲を速やかに開始することができる。ひいては、不純物が除去された処理液の上流供給配管２３（供給流路）への供給を速やかに開始できる。
【0084】
第１実施形態によれば、感温性ゲル５０が疎水性である状態で不純物量測定ユニット４２によって測定された不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、処理液が上流供給配管２３に送り出される。そして、感温性ゲル５０が疎水性である状態で不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には、感温性ゲル５０を親水化した後に処理液が排液配管２１に送り出される。
【0085】
そのため、貯留タンク３０内の処理液の送出先が、不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量に基づいて適切に切り替えることができる。
詳しくは、不純物除去工程が実行された後の不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が充分に高い。そのため、不純物除去工程の後、上流供給配管２３に向けて清浄度の高い処理液を送り出すことができる。一方、不純物除去工程が実行された後の不純物量が基準不純物量以上である場合には、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下している。そのため、不純物放出工程を実行することで、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が回復される。
詳しくは、不純物除去工程が実行された後の不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が充分に高い。そのため、不純物除去工程の後、上流供給配管２３に向けて清浄度の高い処理液を送り出すことができる。一方、不純物除去工程が実行された後の不純物量が基準不純物量以上である場合には、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下している。そのため、不純物放出工程を実行することで、感温性ゲルフィルタの不純物除去効率が回復される。
【0086】
このように、不純物量を測定することで、適切なタイミングで不純物除去効率を回復させることができる。
第１実施形態によれば、感温性ゲルフィルタ３１が、処理液を通過させつつ感温性ゲル５０を保持するフィルタ部材５１をさらに含む。そのため、親水性の感温性ゲル５０が吸液して膨潤した場合であっても、感温性ゲル５０を感温性ゲルフィルタ３１の外部に流出させることなく貯留タンク３０内の所定の位置に維持できる。
第１実施形態によれば、感温性ゲルフィルタ３１が、処理液を通過させつつ感温性ゲル５０を保持するフィルタ部材５１をさらに含む。そのため、親水性の感温性ゲル５０が吸液して膨潤した場合であっても、感温性ゲル５０を感温性ゲルフィルタ３１の外部に流出させることなく貯留タンク３０内の所定の位置に維持できる。
【0087】
第１実施形態によれば、貯留タンク３０の内部空間３３が、感温性ゲルフィルタ３１によって、第１収容部３３ａおよび第２収容部３３ｂに仕切られている。第１収容部３３ａは、感温性ゲルフィルタ３１を挟んで第２収容部３３ｂよりも処理液の循環方向Ｃの上流側に位置する。そして、上流供給配管２３は、第２収容部３３ｂに接続されており、第１収容部３３ａには、排液配管２１が接続されている。
【0088】
そのため、感温性ゲルフィルタ３１よりも循環方向Ｃの上流側の不純物が比較的多い処理液を排液配管２１に送ることができる。一方、感温性ゲルフィルタ３１よりも循環方向Ｃの下流側の不純物が比較的少ない処理液を上流供給配管２３に送ることができる。
第１実施形態によれば、上流供給配管２３と、供給タンク２４と、下流供給配管２５とによって、供給流路が構成されている。そのため、不純物除去ユニット２０によって生成された清浄処理液が、供給タンク２４に貯留される。そのため、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率を回復させるために不純物除去ユニット２０から上流供給配管２３への処理液の送出が一時的に停止されている場合であっても、供給タンク２４内の処理液を処理ユニット２に供給できる。したがって、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率を回復させつつ、処理ユニット２に処理液を安定して供給できる。
第１実施形態によれば、上流供給配管２３と、供給タンク２４と、下流供給配管２５とによって、供給流路が構成されている。そのため、不純物除去ユニット２０によって生成された清浄処理液が、供給タンク２４に貯留される。そのため、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率を回復させるために不純物除去ユニット２０から上流供給配管２３への処理液の送出が一時的に停止されている場合であっても、供給タンク２４内の処理液を処理ユニット２に供給できる。したがって、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率を回復させつつ、処理ユニット２に処理液を安定して供給できる。
【0089】
第１実施形態によれば、汚染処理液が、帰還配管２２を介して貯留タンク３０に帰還させる。処理ユニット２から排出される汚染処理液を再利用することで、基板処理に要するコストおよび環境負荷を低減できる。
その一方で、汚染処理液中には不純物が多量に存在している。そのため、汚染処理液を不純物除去ユニット２０に戻した場合、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下しやすい。しかしながら、汚染処理液からの不純物の除去によって不純物除去効率が低下した場合であっても、感温性ゲルフィルタ３１は、冷却によって容易に不純物を放出できる。そのため、感温性ゲルフィルタ３１を交換することなく汚染処理液から不純物を除去できる。
その一方で、汚染処理液中には不純物が多量に存在している。そのため、汚染処理液を不純物除去ユニット２０に戻した場合、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下しやすい。しかしながら、汚染処理液からの不純物の除去によって不純物除去効率が低下した場合であっても、感温性ゲルフィルタ３１は、冷却によって容易に不純物を放出できる。そのため、感温性ゲルフィルタ３１を交換することなく汚染処理液から不純物を除去できる。
【0090】
さらに、感温性ゲルフィルタ３１に不純物を捕獲させるための処理液、および、感温性ゲルフィルタ３１から不純物を放出させるための洗浄液として、汚染処理液が用いられる。そのため、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下した際には、循環配管３２によって循環される液体の液種を変更する必要がないため、不純物除去効率の回復に速やかに開始できる。したがって、汚染処理液とは別の種類の洗浄液を感温性ゲルフィルタ３１に通過させて感温性ゲル５０から不純物を放出させる構成と比較して、感温性ゲルフィルタ３１から不純物を速やかに除去できる。
【0091】
第１実施形態によれば、処理液を循環させて感温性ゲルフィルタ３１に処理液を通過させる。そのため、処理液を感温性ゲルフィルタ３１に効率良く通過させることができる。これにより、処理液から不純物の除去、および、不純物除去効率の回復が速やかに行われる。
また、この実施形態では、帰還配管２２は、循環ヒータ４５よりも上流側で循環配管３２に接続されている。そのため、帰還配管２２から貯留タンク３０に送られる処理液が循環ヒータ４５によって加熱される。したがって、処理液が循環される前に処理液の加熱が開始される。
また、この実施形態では、帰還配管２２は、循環ヒータ４５よりも上流側で循環配管３２に接続されている。そのため、帰還配管２２から貯留タンク３０に送られる処理液が循環ヒータ４５によって加熱される。したがって、処理液が循環される前に処理液の加熱が開始される。
【0092】
第１実施形態では、ステップＳ６のゲル加熱停止工程の後に、感温性ゲルフィルタ３１を冷却する方法として、循環冷却工程が用いられる。しかしながら、循環冷却工程では、処理液の冷却に伴って、感温性ゲルフィルタ３１から処理液に不純物が放出されるため、この不純物によって循環配管３２が汚染されるおそれがある。
そこで、循環冷却工程を行うことなく感温性ゲルフィルタ３１を冷却するために、循環ポンプ４０を停止させた状態で放置して感温性ゲルフィルタ３１を自然冷却させてもよい。感温性ゲルフィルタ３１の温度低下を促進するために、図示しない冷却ユニット（クーラ）を貯留タンク３０に設け、当該冷却ユニットを用いて貯留タンク３０を冷却することで感温性ゲルフィルタ３１を強制的に冷却してもよい。
そこで、循環冷却工程を行うことなく感温性ゲルフィルタ３１を冷却するために、循環ポンプ４０を停止させた状態で放置して感温性ゲルフィルタ３１を自然冷却させてもよい。感温性ゲルフィルタ３１の温度低下を促進するために、図示しない冷却ユニット（クーラ）を貯留タンク３０に設け、当該冷却ユニットを用いて貯留タンク３０を冷却することで感温性ゲルフィルタ３１を強制的に冷却してもよい。
【0093】
また、ゲル加熱停止工程（ステップＳ６）の後、循環冷却工程および第２ゲル温度監視工程（ステップＳ７）を行うことなく、排液工程（ステップＳ８）が行われてもよい。貯留タンク３０から処理液が排出される過程で処理液が自然冷却され、冷却された処理液によって感温性ゲルフィルタ３１が処理液の温度にまで冷却される。感温性ゲルフィルタ３１が常温にまで冷却されることによって、不純物を放出する。処理液に放出された不純物は、処理液とともに貯留タンク３０外へ排出されるため、不純物による循環配管３２の汚染を抑制できる。
【0094】
＜第２実施形態＞
図５は、この発明の第２実施形態に係る基板処理装置１Ｐの構成例を示す模式図である。図５および後述する図６Ａ～図６Ｄにおいて、前述の図１～図４Ｅに示された構成と同等の構成については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。基板処理装置１Ｐが、第１実施形態に係る基板処理装置１と主に異なる点は、処理液供給装置３Ｐが、洗浄液配管９０、洗浄液ポンプ９１および洗浄液バルブ９２を備える点である。
図５は、この発明の第２実施形態に係る基板処理装置１Ｐの構成例を示す模式図である。図５および後述する図６Ａ～図６Ｄにおいて、前述の図１～図４Ｅに示された構成と同等の構成については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。基板処理装置１Ｐが、第１実施形態に係る基板処理装置１と主に異なる点は、処理液供給装置３Ｐが、洗浄液配管９０、洗浄液ポンプ９１および洗浄液バルブ９２を備える点である。
【0095】
洗浄液配管９０は、貯留タンク３０に洗浄液を供給する。洗浄液配管９０は、その内部に洗浄液流路を形成する配管である。洗浄液配管９０の上流端は、洗浄液タンク９３に接続されており、洗浄液配管９０の下流端は、貯留タンク３０に接続されている。
洗浄液ポンプ９１は、洗浄液配管９０に介装されている。洗浄液ポンプ９１は、洗浄液タンク９３内の洗浄液を洗浄液配管９０に向けて送り出す。洗浄液バルブ９２は、洗浄液ポンプ９１よりも下流側で洗浄液配管９０に介装されている。洗浄液バルブ９２は、洗浄液配管９０内の洗浄液流路を開閉する。
洗浄液ポンプ９１は、洗浄液配管９０に介装されている。洗浄液ポンプ９１は、洗浄液タンク９３内の洗浄液を洗浄液配管９０に向けて送り出す。洗浄液バルブ９２は、洗浄液ポンプ９１よりも下流側で洗浄液配管９０に介装されている。洗浄液バルブ９２は、洗浄液配管９０内の洗浄液流路を開閉する。
【0096】
第２実施形態における洗浄液は、汚染処理液ではなく、洗浄液タンク９３内に貯留されたＤＩＷ等である。より具体的には、洗浄液としては、リンス液と同様の液体を使用することができる。洗浄液は、ＤＩＷに限られず、炭酸水、電解イオン水、オゾン水、希釈濃度（たとえば、１０ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下）の塩酸水、アンモニア水、還元水（水素水）、親水性の有機溶剤のうちの少なくとも１つを含む液であってもよい。
【0097】
次に、第２実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例について説明する。
第２実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例は、排液工程（ステップＳ８）を除いて第１実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例とほぼ同じである。そのため、以下では、排液工程（ステップＳ８）を中心に、第２実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例について説明する。
第２実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例は、排液工程（ステップＳ８）を除いて第１実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例とほぼ同じである。そのため、以下では、排液工程（ステップＳ８）を中心に、第２実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例について説明する。
【0098】
図６Ａ～図６Ｄは、第２実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例を説明するための模式図である。
第２実施形態においても、第１実施形態と同様に、不純物除去時間経過後に、不純物量が基準不純物量よりも低い場合には（ステップＳ４：ＹＥＳ）、処理液が、循環配管３２および貯留タンク３０を所定時間循環することによって感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却される（循環冷却工程）。
第２実施形態においても、第１実施形態と同様に、不純物除去時間経過後に、不純物量が基準不純物量よりも低い場合には（ステップＳ４：ＹＥＳ）、処理液が、循環配管３２および貯留タンク３０を所定時間循環することによって感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却される（循環冷却工程）。
【0099】
貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却されると（ステップＳ７：ＹＥＳ）、図６Ａに示すように、上流循環バルブ４１、中間循環バルブ４３、および下流循環バルブ４４が閉じられ、排液バルブ７０が開かれる。さらに、循環ポンプ４０が停止される。
この実施形態では、排液流路が貯留タンク３０の底面から開口しているため、処理液は、自重によって、貯留タンク３０から排液配管２１（排液流路）に向けて送られる（ステップＳ８：排液工程）。
この実施形態では、排液流路が貯留タンク３０の底面から開口しているため、処理液は、自重によって、貯留タンク３０から排液配管２１（排液流路）に向けて送られる（ステップＳ８：排液工程）。
【0100】
その後、排液バルブ７０が閉じられ洗浄液バルブ９２が開かれる。そして、洗浄液ポンプ９１が作動される。これにより、図６Ｂに示すように、貯留タンク３０内に洗浄液が供給される。たとえば、図６Ｂに二点鎖線で示すように、液面センサ３４の測定値が所定の第１高さＨ１に達すると、洗浄液バルブ９２が閉じられる。第１高さＨ１は、感温性ゲルフィルタ３１よりも高い位置に設定されている。これにより、感温性ゲルフィルタ３１が洗浄液に浸漬される（洗浄液浸漬工程）。
【0101】
感温性ゲルフィルタ３１を洗浄液に浸漬させた後、排液バルブ７０が再び開かれる。これにより、図６Ｃに示すように、貯留タンク３０内の洗浄液が貯留タンク３０内に排液流Ｄを形成しながら排液配管２１から排液される（浸漬洗浄工程）。
その後、浸漬洗浄工程（図６Ｂおよび図６Ｃを参照）が繰り返される。具体的には、貯留タンク３０に洗浄液を再び供給して感温性ゲルフィルタ３１を洗浄液に浸漬させ、貯留タンク３０内の洗浄液を排液配管２１から排液して貯留タンク３０内に排液流Ｄが形成される。排液流Ｄは、上方から下方に向かう洗浄液の流れである。
その後、浸漬洗浄工程（図６Ｂおよび図６Ｃを参照）が繰り返される。具体的には、貯留タンク３０に洗浄液を再び供給して感温性ゲルフィルタ３１を洗浄液に浸漬させ、貯留タンク３０内の洗浄液を排液配管２１から排液して貯留タンク３０内に排液流Ｄが形成される。排液流Ｄは、上方から下方に向かう洗浄液の流れである。
【0102】
浸漬洗浄工程が複数回実行された後、排液バルブ７０が閉じられた状態で、帰還バルブ６０および下流循環バルブ４４が開かれ、図６Ｄに示すように、貯留タンク３０に汚染処理液が供給される。これにより、たとえば、図６Ｄに二点鎖線で示すように、液面センサ３４の測定値が所定の第１高さＨ１に達すると、帰還バルブ６０および下流循環バルブ４４が閉じられる。これにより、感温性ゲルフィルタ３１が汚染処理液に浸漬される（汚染処理液浸漬工程）。その後、排液バルブ７０が開かれて貯留タンク３０内の汚染処理液が排液される。これにより、貯留タンク３０内に残存していた洗浄液が汚染処理液によって置換される。
【0103】
第２実施形態によれば、第１実施形態と同様の効果を奏する。
第２実施形態によれば、以下の効果も奏する。第２実施形態では、貯留タンク３０内に供給された洗浄液に感温性ゲルフィルタ３１が浸漬される。これにより、洗浄液中に感温性ゲル５０から不純物が放出される。その後、貯留タンク３０内の洗浄液を排液配管２１から排液することによって貯留タンク３０内に排液流Ｄが形成される。洗浄液中に放出された不純物が、この排液流Ｄによって洗浄液とともに貯留タンク３０内から除去される。これにより、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率を回復させることができる。
また、第２実施形態によれば、洗浄液が、洗浄液配管９０を介して、洗浄液タンク９３から貯留タンク３０に供給される。そのため、感温性ゲルフィルタ３１を速やかに洗浄できる。
第２実施形態によれば、以下の効果も奏する。第２実施形態では、貯留タンク３０内に供給された洗浄液に感温性ゲルフィルタ３１が浸漬される。これにより、洗浄液中に感温性ゲル５０から不純物が放出される。その後、貯留タンク３０内の洗浄液を排液配管２１から排液することによって貯留タンク３０内に排液流Ｄが形成される。洗浄液中に放出された不純物が、この排液流Ｄによって洗浄液とともに貯留タンク３０内から除去される。これにより、感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率を回復させることができる。
また、第２実施形態によれば、洗浄液が、洗浄液配管９０を介して、洗浄液タンク９３から貯留タンク３０に供給される。そのため、感温性ゲルフィルタ３１を速やかに洗浄できる。
【0104】
第２実施形態とは異なり、循環冷却工程を行うことなく感温性ゲルフィルタ３１を冷却するために、循環ポンプ４０を停止させた状態で放置して感温性ゲルフィルタ３１を自然冷却させてもよい。また、感温性ゲルフィルタ３１の温度低下を促進するために、図示しない冷却ユニット（クーラ）を貯留タンク３０に設け、冷却ユニットを用いて貯留タンク３０を冷却することで感温性ゲルフィルタ３１を強制的に冷却してもよい。
【0105】
また、ゲル加熱停止工程（ステップＳ６）の後、循環冷却工程および第２ゲル温度監視工程（ステップＳ７）を行うことなく、排液工程（ステップＳ８）が行われてもよい。すなわち、ゲル加熱停止工程において循環ヒータ４５が停止されるとともに、循環ポンプ４０が停止され、かつ、排液バルブ７０が開かれる。これにより、感温性ゲルフィルタ３１が冷却される前に貯留タンク３０内の処理液が排液される。その後、貯留タンク３０内に供給される洗浄液によって、感温性ゲルフィルタ３１が、処理液の温度にまで冷却される。それによって感温性ゲルフィルタ３１が不純物を放出する。処理液に放出された不純物は、処理液とともに貯留タンク３０外へ排出されるため、不純物による循環配管３２の汚染を抑制できる。
【0106】
＜第３実施形態＞
図７は、この発明の第３実施形態に係る基板処理装置１Ｑの構成例を示す模式図である。図７ならびに後述する図８Ａおよび図８Ｂにおいて、前述の図１～図６Ｄに示された構成と同等の構成については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。
基板処理装置１Ｑが第１実施形態に係る基板処理装置１と主に異なる点は、処理液供給装置３Ｑが、複数（この実施形態では２個）の不純物除去ユニット２０を備えている点である。
図７は、この発明の第３実施形態に係る基板処理装置１Ｑの構成例を示す模式図である。図７ならびに後述する図８Ａおよび図８Ｂにおいて、前述の図１～図６Ｄに示された構成と同等の構成については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。
基板処理装置１Ｑが第１実施形態に係る基板処理装置１と主に異なる点は、処理液供給装置３Ｑが、複数（この実施形態では２個）の不純物除去ユニット２０を備えている点である。
【0107】
複数の不純物除去ユニット２０は、第１不純物除去ユニット２０Ａと、第２不純物除去ユニット２０Ｂとを含む。第１不純物除去ユニット２０Ａおよび第２不純物除去ユニット２０Ｂは、いずれも同様の構成を有している。
詳しくは、第１不純物除去ユニット２０Ａの貯留タンク３０、感温性ゲルフィルタ３１、循環配管３２、循環ポンプ４０、上流循環バルブ４１、不純物量測定ユニット４２、中間循環バルブ４３、下流循環バルブ４４、循環ヒータ４５、および、循環温度計４６を、それぞれ、第１貯留タンク３０Ａ、第１感温性ゲルフィルタ３１Ａ、第１循環配管３２Ａ、第１循環ポンプ４０Ａ、第１上流循環バルブ４１Ａ、第１不純物量測定ユニット４２Ａ、第１中間循環バルブ４３Ａ、第１下流循環バルブ４４Ａ、第１循環ヒータ４５Ａ、第１循環温度計４６Ａと表現する場合がある。
詳しくは、第１不純物除去ユニット２０Ａの貯留タンク３０、感温性ゲルフィルタ３１、循環配管３２、循環ポンプ４０、上流循環バルブ４１、不純物量測定ユニット４２、中間循環バルブ４３、下流循環バルブ４４、循環ヒータ４５、および、循環温度計４６を、それぞれ、第１貯留タンク３０Ａ、第１感温性ゲルフィルタ３１Ａ、第１循環配管３２Ａ、第１循環ポンプ４０Ａ、第１上流循環バルブ４１Ａ、第１不純物量測定ユニット４２Ａ、第１中間循環バルブ４３Ａ、第１下流循環バルブ４４Ａ、第１循環ヒータ４５Ａ、第１循環温度計４６Ａと表現する場合がある。
【0108】
同様に、第２不純物除去ユニット２０Ｂの貯留タンク３０、感温性ゲルフィルタ３１、循環配管３２、循環ポンプ４０、上流循環バルブ４１、不純物量測定ユニット４２、中間循環バルブ４３、下流循環バルブ４４、循環ヒータ４５、および、循環温度計４６を、それぞれ、第２貯留タンク３０Ｂ、第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂ、第２循環配管３２Ｂ、第２循環ポンプ４０Ｂ、第２上流循環バルブ４１Ｂ、第２不純物量測定ユニット４２Ｂ、第２中間循環バルブ４３Ｂ、第２下流循環バルブ４４Ｂ、第２循環ヒータ４５Ｂ、第２循環温度計４６Ｂと表現する場合がある。
【0109】
第３実施形態の処理液供給装置３Ｑは、複数の帰還配管２２および複数の排液配管２１を備えている。
複数の帰還配管２２は、第１帰還配管２２Ａおよび第２帰還配管２２Ｂ含む。第１帰還配管２２Ａは、その内部に第１帰還流路を形成する配管である。第２帰還配管２２Ｂは、その内部に第２帰還流路を形成する配管である。
複数の帰還配管２２は、第１帰還配管２２Ａおよび第２帰還配管２２Ｂ含む。第１帰還配管２２Ａは、その内部に第１帰還流路を形成する配管である。第２帰還配管２２Ｂは、その内部に第２帰還流路を形成する配管である。
【0110】
第１帰還配管２２Ａの上流端は、たとえば、カップ１２に接続されている。第１帰還配管２２Ａの下流端は、たとえば、第１循環配管３２Ａに分岐接続されている。第１帰還配管２２Ａに介装されている帰還バルブ６０は、第１帰還配管２２Ａ内の流路（第１帰還流路）を開閉する第１帰還バルブ６０Ａともいう。
第２帰還配管２２Ｂの上端部は、第１帰還バルブ６０Ａよりも上流側で第１帰還配管２２Ａに接続されている。第２帰還配管２２Ｂの下流端は、たとえば、第２循環配管３２Ｂに分岐接続されている。第２帰還配管２２Ｂに介装されている帰還バルブ６０は、第２帰還配管２２Ｂ内の流路（第２帰還流路）を開閉する第２帰還バルブ６０Ｂともいう。
第２帰還配管２２Ｂの上端部は、第１帰還バルブ６０Ａよりも上流側で第１帰還配管２２Ａに接続されている。第２帰還配管２２Ｂの下流端は、たとえば、第２循環配管３２Ｂに分岐接続されている。第２帰還配管２２Ｂに介装されている帰還バルブ６０は、第２帰還配管２２Ｂ内の流路（第２帰還流路）を開閉する第２帰還バルブ６０Ｂともいう。
【0111】
複数の排液配管２１は、第１排液配管２１Ａおよび第２排液配管２１Ｂを含む。第１排液配管２１Ａの上流端および第２排液配管２１Ｂの上流端は、それぞれ、第１貯留タンク３０Ａおよび第２貯留タンク３０Ｂに接続されている。第１排液配管２１Ａは、その内部に第１排液流路を形成する配管である。第２排液配管２１Ｂは、その内部に第２排液流路を形成する配管である。
【0112】
第１帰還配管２２Ａに介装されている排液バルブ７０は、第１排液配管２１Ａ内の流路（第１排液流路）を開閉する第１排液バルブ７０Ａともいう。第２排液配管２１Ｂに介装されている排液バルブ７０は、第２排液配管２１Ｂ内の流路（第２排液流路）を開閉する第２排液バルブ７０Ｂともいう。
供給ユニット１９は、複数の上流供給配管２３を備える。複数の上流供給配管２３は、第１上流供給配管２３Ａおよび第２上流供給配管２３Ｂを含む。
供給ユニット１９は、複数の上流供給配管２３を備える。複数の上流供給配管２３は、第１上流供給配管２３Ａおよび第２上流供給配管２３Ｂを含む。
【0113】
第１上流供給配管２３Ａは、その内部に第１上流供給流路を形成する配管である。第１上流供給配管２３Ａの上流端は、たとえば、第１循環ポンプ４０Ａよりも下流側で、かつ、第１上流循環バルブ４１Ａよりも上流側で、第１循環配管３２Ａに分岐接続されている。第１上流供給配管２３Ａに介装されている上流供給バルブ８０は、第１上流供給配管２３Ａ内の流路（第１上流供給流路）を開閉する第１上流供給バルブ８０Ａともいう。
【0114】
第２上流供給配管２３Ｂは、その内部に第２上流供給流路を形成する配管である。第２上流供給配管２３Ｂの上流端は、たとえば、第２循環ポンプ４０Ｂよりも下流側で、かつ、第２上流循環バルブ４１Ｂよりも上流側において、第２循環配管３２Ｂに分岐接続されている。第２上流供給配管２３Ｂの下流端は、第１上流供給バルブ８０Ａよりも下流側で第１上流供給配管２３Ａに接続されている。第２上流供給配管２３Ｂに介装されている上流供給バルブ８０は、第２上流供給配管２３Ｂ内の流路（第２上流供給流路）を開閉する第２上流供給バルブ８０Ｂともいう。
【0115】
次に、第３実施形態に係る複数の不純物除去ユニット２０の動作例について説明する。
第３実施形態に係る各不純物除去ユニット２０の動作例は、第１実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例とほぼ同じである。しかしながら、第３実施形態に係る複数の不純物除去ユニット２０は、一部の不純物除去ユニット２０が不純物除去効率を回復させている間に、別の不純物除去ユニット２０が処理液から不純物を除去するように動作される。
第３実施形態に係る各不純物除去ユニット２０の動作例は、第１実施形態に係る不純物除去ユニット２０の動作例とほぼ同じである。しかしながら、第３実施形態に係る複数の不純物除去ユニット２０は、一部の不純物除去ユニット２０が不純物除去効率を回復させている間に、別の不純物除去ユニット２０が処理液から不純物を除去するように動作される。
【0116】
そのため、以下では、各不純物除去ユニット２０の動作の詳細については説明を省略し、第１不純物除去ユニット２０Ａが不純物除去効率を回復させている間に、第２不純物除去ユニット２０Ｂが処理液から不純物を除去している様子について説明する。
図８Ａおよび図８Ｂは、第３実施形態に係る複数の不純物除去ユニット２０の動作例を説明するための模式図である。
図８Ａおよび図８Ｂは、第３実施形態に係る複数の不純物除去ユニット２０の動作例を説明するための模式図である。
【0117】
具体的には、図８Ａに示すように、第１循環ヒータ４５Ａによる加熱を停止した状態で、処理液を第１循環配管３２Ａおよび第１貯留タンク３０Ａに循環させる。これにより、処理液が冷却され、処理液を介して第１感温性ゲルフィルタ３１Ａが冷却される。第１感温性ゲルフィルタ３１Ａが転移温度よりも低い温度に冷却されている状態、すなわち、第１感温性ゲル５０Ａが親水性である状態で、第１感温性ゲルフィルタ３１Ａに処理液を通過させることによって、不純物が第１感温性ゲルフィルタ３１Ａから処理液に放出される（不純物放出工程、循環放出工程）。
【0118】
ここで、不純物放出工程において、第１感温性ゲルフィルタ３１Ａを冷却するために、処理液を循環させることなく、第１循環ポンプ４０Ａを停止した状態で第１感温性ゲルフィルタ３１Ａを常温に自然冷却させてもよい。第１感温性ゲルフィルタ３１Ａの温度低下を促進するために、図示しない冷却ユニット（クーラ）を第１貯留タンク３０Ａに設け、冷却ユニットを用いて第１貯留タンク３０Ａを冷却することで第１感温性ゲルフィルタ３１Ａを強制的に冷却してもよい。
【0119】
一方、第２不純物除去ユニット２０Ｂでは、処理液が、第２循環ヒータ４５Ｂによって加熱されながら、第２循環配管３２Ｂおよび第２貯留タンク３０Ｂを循環する。これにより、処理液が加熱され、処理液を介して第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂが加熱される。
第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂが転移温度以上に加熱されている状態、すなわち、第２感温性ゲル５０Ｂが疎水性となっている状態で、第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂに処理液を通過させることによって、処理液中の不純物が第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂによって捕獲されて、処理液中から除去される（不純物除去工程、循環除去工程）。
第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂが転移温度以上に加熱されている状態、すなわち、第２感温性ゲル５０Ｂが疎水性となっている状態で、第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂに処理液を通過させることによって、処理液中の不純物が第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂによって捕獲されて、処理液中から除去される（不純物除去工程、循環除去工程）。
【0120】
その後、図８Ｂに示すように、第１不純物除去ユニット２０Ａでは、処理液の循環を維持しながら、第１排液バルブ７０Ａが開かれる。これにより、第１貯留タンク３０Ａから第１排液配管２１Ａ（第１排液流路）に向けて処理液が送られる（排液工程）。すなわち、第１循環配管３２Ａおよび第１貯留タンク３０Ａを循環する処理液に第１感温性ゲルフィルタ３１Ａから不純物が放出された後、排液工程が実行される。
【0121】
一方、第２不純物除去ユニット２０Ｂでは、処理液の循環を維持しながら、第２上流供給バルブ８０Ｂが開かれる。第２貯留タンク３０Ｂから供給タンク２４（供給流路）に向けて、清浄処理液が送られる（供給工程）。すなわち、第２循環配管３２Ｂおよび第２貯留タンク３０Ｂを循環する処理液から不純物が第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂによって充分に除去された後、供給工程が実行される。
【0122】
このように、第３実施形態では、第１貯留タンク３０Ａ内に収容されている第１感温性ゲルフィルタ３１Ａから洗浄液に不純物を放出させている間に、別の貯留タンク（第２貯留タンク３０Ｂ）に収容されている第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂによって、処理液から不純物を充分に除去できる。
そのため、一方の感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下した場合であっても、その感温性ゲルフィルタ３１の感温性ゲル５０から不純物を放出させて不純物除去効率を回復させつつ、別の感温性ゲルフィルタ３１を用いて処理液から不純物を充分に除去し、その処理液を供給ユニット１９に送出できる。
そのため、一方の感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率が低下した場合であっても、その感温性ゲルフィルタ３１の感温性ゲル５０から不純物を放出させて不純物除去効率を回復させつつ、別の感温性ゲルフィルタ３１を用いて処理液から不純物を充分に除去し、その処理液を供給ユニット１９に送出できる。
【0123】
したがって、一部の貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１の不純物除去効率を回復させつつ、別の貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１を用いて処理ユニット２に処理液を安定して供給できる。
当然、図８Ａおよび図８Ｂとは異なり、第１不純物除去ユニット２０Ａにおいて不純物除去工程が実行され、第２不純物除去ユニット２０Ｂにおいて不純物放出工程が実行されることもある。
当然、図８Ａおよび図８Ｂとは異なり、第１不純物除去ユニット２０Ａにおいて不純物除去工程が実行され、第２不純物除去ユニット２０Ｂにおいて不純物放出工程が実行されることもある。
【0124】
第２不純物除去ユニット２０Ｂにおいて不純物放出工程が行われる場合であっても、第１不純物除去ユニット２０Ａにおいて不純物放出工程が行われるときと同様に、冷却方法を変更することが可能である。
すなわち、第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂを冷却するために、処理液を循環させることなく、第２循環ポンプ４０Ｂを停止させた状態で第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂを常温にまで自然冷却させてもよい。第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂの温度低下を促進するために、図示しない冷却ユニット（クーラ）を第２貯留タンク３０Ｂに設け、冷却ユニットを用いて第２貯留タンク３０Ｂを冷却することで第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂを強制的に冷却してもよい。
すなわち、第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂを冷却するために、処理液を循環させることなく、第２循環ポンプ４０Ｂを停止させた状態で第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂを常温にまで自然冷却させてもよい。第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂの温度低下を促進するために、図示しない冷却ユニット（クーラ）を第２貯留タンク３０Ｂに設け、冷却ユニットを用いて第２貯留タンク３０Ｂを冷却することで第２感温性ゲルフィルタ３１Ｂを強制的に冷却してもよい。
【0125】
＜第４実施形態＞
図９は、この発明の第４実施形態に係る基板処理装置１Ｒの構成例を示す模式図である。図９および後述する図１０Ａ～図１０Ｅにおいて、前述の図１～図８Ｂに示された構成と同等の構成については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。
基板処理装置１Ｒが第１実施形態に係る基板処理装置１と主に異なる点は、処理液供給装置３Ｒの不純物除去ユニット２０Ｒに供給される処理液が新液タンク１４１から供給される新処理液である点、および、循環流路が、上流循環配管１００、循環タンク１０１および下流循環配管１０２によって形成されている点である。
図９は、この発明の第４実施形態に係る基板処理装置１Ｒの構成例を示す模式図である。図９および後述する図１０Ａ～図１０Ｅにおいて、前述の図１～図８Ｂに示された構成と同等の構成については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。
基板処理装置１Ｒが第１実施形態に係る基板処理装置１と主に異なる点は、処理液供給装置３Ｒの不純物除去ユニット２０Ｒに供給される処理液が新液タンク１４１から供給される新処理液である点、および、循環流路が、上流循環配管１００、循環タンク１０１および下流循環配管１０２によって形成されている点である。
【0126】
詳しくは、第４実施形態に係る不純物除去ユニット２０Ｒは、貯留タンク３０Ｒと、貯留タンク３０Ｒから処理液が送られる上流循環配管１００と、上流循環配管１００を介して貯留タンク３０Ｒから供給される処理液を貯留する循環タンク１０１と、循環タンク内の処理液を貯留タンク３０Ｒに戻す下流循環配管１０２とを含む。貯留タンク３０Ｒ内の構成は、第１実施形態に係る貯留タンク３０と同様である。
【0127】
上流循環配管１００は、その内部に上流循環流路を形成する配管である。上流循環配管１００の上流端は、貯留タンク３０Ｒに接続されており、上流循環配管１００の下流端は、循環タンク１０１に接続されている。上流循環配管１００の上流端は、詳しくは、第２収容部３３ｂに接続されており、上流循環配管１００内を処理液が流れている間に上流循環配管１００の上流端が処理液の液面よりも下方に維持されるように、上流循環配管１００の上流端は、貯留タンク３０Ｒの内部にまで延びている。
【0128】
下流循環配管１０２は、その内部に下流循環流路を形成する配管である。下流循環配管１０２の上流端は、循環タンク１０１に接続されており、下流循環配管１０２の下流端は、貯留タンク３０Ｒの第１収容部３３ａに接続されている。下流循環配管１０２の上流端は、下流循環配管１０２内を処理液が流れている間において下流循環配管１０２の上流端が処理液の液面よりも下方に位置するように、循環タンク１０１の内部にまで延びている。
【0129】
不純物除去ユニット２０は、不純物量測定ユニット１１０、上流循環バルブ１１１、循環ポンプ１１２、第１下流循環バルブ１１３、循環ヒータ１１４、循環フィルタ１１５、第２下流循環バルブ１１６、第３下流循環バルブ１１７および循環温度計１１８を備えている。不純物量測定ユニット１１０および上流循環バルブ１１１は、上流循環配管１００の上流側からこの順番で上流循環配管１００に介装されている。
【0130】
不純物量測定ユニット１１０は、不純物量測定ユニット４２と同様の構成である。上流循環バルブ１１１は、上流循環配管１００の内の流路（上流循環流路）を開閉する。
循環ポンプ１１２、第１下流循環バルブ１１３、第２下流循環バルブ１１６、第３下流循環バルブ１１７、および、循環温度計１１８は、下流循環配管１０２の上流側から下流側に向かってこの順番で、下流循環配管１０２に介装されている。
循環ポンプ１１２、第１下流循環バルブ１１３、第２下流循環バルブ１１６、第３下流循環バルブ１１７、および、循環温度計１１８は、下流循環配管１０２の上流側から下流側に向かってこの順番で、下流循環配管１０２に介装されている。
【0131】
循環ポンプ１１２は、循環タンク１０１内の処理液を下流循環配管１０２に送り出す。下流循環配管１０２に処理液が送り出されることによって、下流循環配管１０２内の処理液が貯留タンク３０Ｒ内に送り出され、貯留タンク３０Ｒ内の処理液が上流循環配管１００内に送り出される。言い換えると、循環ポンプ１１２は、貯留タンク３０Ｒ内の処理液を上流循環配管１００に送り出している。この実施形態とは異なり、循環ポンプ１１２は、上流循環配管１００に介装されていてもよい。
【0132】
第１下流循環バルブ１１３、第２下流循環バルブ１１６および第３下流循環バルブ１１７は、下流循環配管１０２内の流路（下流循環流路）を開閉する。
循環フィルタ１１５は、下流循環配管１０２内の処理液中の不純物を除去するフィルタである。循環フィルタ１１５としては、常温よりも高温での使用に適したフィルタが用いられる。循環フィルタ１１５は、たとえば、ＰＴＦＥ疎水膜をろ過膜として含む。循環フィルタ１１５が濾過膜としてＰＴＦＥ疎水膜を含む構成であれば、不純物としての疎水性化合物を処理液から効果的に除去できる。
循環フィルタ１１５は、下流循環配管１０２内の処理液中の不純物を除去するフィルタである。循環フィルタ１１５としては、常温よりも高温での使用に適したフィルタが用いられる。循環フィルタ１１５は、たとえば、ＰＴＦＥ疎水膜をろ過膜として含む。循環フィルタ１１５が濾過膜としてＰＴＦＥ疎水膜を含む構成であれば、不純物としての疎水性化合物を処理液から効果的に除去できる。
【0133】
循環ヒータ１１４は、下流循環配管１０２内の処理液を加熱する。循環ヒータ１１４は、加熱ユニットの一例である。下流循環配管１０２において循環ヒータ１１４によって加熱される循環加熱部分１０２ａは、下流循環配管１０２において第１下流循環バルブ１１３よりも下流側で、かつ循環フィルタ１１５よりも上流側の位置に設定されている。
循環ヒータ１１４は、第１下流循環バルブ１１３よりも下流側で、かつ循環フィルタ１１５よりも上流側の循環加熱部分１０２ａを加熱する構成であれば、下流循環配管１０２に介装されている構成でなくてもよく、下流循環配管１０２を外部から加熱する構成であってもよい。
循環ヒータ１１４は、第１下流循環バルブ１１３よりも下流側で、かつ循環フィルタ１１５よりも上流側の循環加熱部分１０２ａを加熱する構成であれば、下流循環配管１０２に介装されている構成でなくてもよく、下流循環配管１０２を外部から加熱する構成であってもよい。
【0134】
循環温度計１１８は、下流循環配管１０２内の処理液の温度を検出する循環温度検出ユニットの一例である。
不純物除去ユニット２０Ｒは、下流循環配管１０２に分岐接続される分岐循環配管１０３をさらに備えている。分岐循環配管１０３の上流端は、循環ポンプ１１２の下流側で、かつ、第１下流循環バルブ１１３の上流側において、下流循環配管１０２に分岐接続されている。分岐循環配管１０３の下流端は、第２下流循環バルブ１１６の下流側で、かつ、第３下流循環バルブ１１７の上流側において、下流循環配管１０２に分岐接続されている。
不純物除去ユニット２０Ｒは、下流循環配管１０２に分岐接続される分岐循環配管１０３をさらに備えている。分岐循環配管１０３の上流端は、循環ポンプ１１２の下流側で、かつ、第１下流循環バルブ１１３の上流側において、下流循環配管１０２に分岐接続されている。分岐循環配管１０３の下流端は、第２下流循環バルブ１１６の下流側で、かつ、第３下流循環バルブ１１７の上流側において、下流循環配管１０２に分岐接続されている。
【0135】
不純物除去ユニット２０Ｒは、第１分岐バルブ１２０、第２分岐バルブ１２１および循環クーラ１２２を備えている。分岐循環配管１０３には、第１分岐バルブ１２０および第２分岐バルブ１２１が、上流側からこの順番で介装されている。第１分岐バルブ１２０および第２分岐バルブ１２１は、分岐循環配管１０３内の流路（分岐循環流路）を開閉する。
【0136】
循環クーラ１２２は、分岐循環配管１０３内の処理液を冷却する。循環クーラ１２２は、感温性ゲルフィルタ３１Ｒを冷却させる冷却ユニットの一例である。分岐循環配管１０３において循環クーラ１２２によって冷却される循環冷却部分１０３ａは、分岐循環配管１０３において第１分岐バルブ１２０よりも下流側で、かつ第２分岐バルブ１２１よりも上流側の位置に設定されている。
【0137】
循環クーラ１２２は、第１分岐バルブ１２０よりも下流側で、かつ第２分岐バルブ１２１よりも上流側の循環冷却部分１０３ａを冷却する構成であれば、分岐循環配管１０３に介装されている構成でなくてもよく、分岐循環配管１０３を外部から加熱する構成であってもよい。
第４実施形態に係る処理液供給装置３Ｒは、不純物除去ユニット２０Ｒから処理ユニット２に向けて処理液を送る供給配管１３０と、処理ユニット２で使用されていない処理液（新処理液）を不純物除去ユニット２０に供給する新液配管１４０と、不純物除去ユニット２０から処理液を排液する排液配管２１とを備えている。排液配管２１は、第１実施形態と同様の構成である。
第４実施形態に係る処理液供給装置３Ｒは、不純物除去ユニット２０Ｒから処理ユニット２に向けて処理液を送る供給配管１３０と、処理ユニット２で使用されていない処理液（新処理液）を不純物除去ユニット２０に供給する新液配管１４０と、不純物除去ユニット２０から処理液を排液する排液配管２１とを備えている。排液配管２１は、第１実施形態と同様の構成である。
【0138】
処理ユニット２内で使用されていない処理液とは、処理液ノズル１１から吐出された後、配管を介して循環流路に戻った処理液ではなく、新液タンク１４１から循環流路に新たに供給される処理液のことである。
供給配管１３０は、その内部に供給流路を形成する配管である。供給配管１３０の上流端は、たとえば、上流循環配管１００において不純物量測定ユニット１１０よりも上流側に分岐接続されている。供給配管の下流端は、処理液ノズル１１に接続されている。この実施形態とは異なり、供給配管１３０の上流端は、貯留タンク３０Ｒの第２収容部３３ｂに接続されていてもよい。
供給配管１３０は、その内部に供給流路を形成する配管である。供給配管１３０の上流端は、たとえば、上流循環配管１００において不純物量測定ユニット１１０よりも上流側に分岐接続されている。供給配管の下流端は、処理液ノズル１１に接続されている。この実施形態とは異なり、供給配管１３０の上流端は、貯留タンク３０Ｒの第２収容部３３ｂに接続されていてもよい。
【0139】
処理液供給装置３Ｒは、供給配管１３０に介装され、供給配管１３０内の流路（供給流路）を開閉する供給バルブ１３１をさらに備えている。
新液配管１４０は、循環タンク１０１に新処理液を供給する。新処理液は、処理ユニット２で使用されていない処理液であり、汚染処理液よりも清浄度が高い。新液配管１４０は、その内部に新液流路を形成する配管である。新液配管１４０の上流端は、新液タンク１４１に接続されており、新液配管１４０の下流端は、循環タンク１０１に接続されている。
新液配管１４０は、循環タンク１０１に新処理液を供給する。新処理液は、処理ユニット２で使用されていない処理液であり、汚染処理液よりも清浄度が高い。新液配管１４０は、その内部に新液流路を形成する配管である。新液配管１４０の上流端は、新液タンク１４１に接続されており、新液配管１４０の下流端は、循環タンク１０１に接続されている。
【0140】
処理液供給装置３は、新液配管１４０に介装されている新液ポンプ１４２と、新液ポンプ１４２よりも下流側で新液配管１４０に介装されている新液バルブ１４３とを含む。新液ポンプ１４２は、新液タンク１４１内の新液を新液配管１４０に向けて送り出す。新液バルブ１４３は、新液ポンプ１４２よりも下流側で新液配管１４０に介装されている。新液バルブ１４３は、新液配管１４０内の新液流路を開閉する。
【0141】
以下では、図３および図１０Ａ～図１０Ｅを参照して、第４実施形態に係る不純物除去ユニット２０Ｒの動作について詳しく説明する。図１０Ａ～図１０Ｅは、不純物除去ユニット２０Ｒの動作例について説明するための模式図である。
不純物量測定ユニット１１０、循環温度計１１８および液面センサ３４は、常時作動していてもよい。
不純物量測定ユニット１１０、循環温度計１１８および液面センサ３４は、常時作動していてもよい。
【0142】
新液バルブ１４３が開かれ、新液ポンプ１４２が作動されることにより、新処理液が、不純物除去ユニット２０Ｒの循環タンク１０１に補充される（補充工程）。循環タンク１０１に処理液が充分貯留されている場合には、不純物除去ユニット２０Ｒへの新処理液の補充は省略可能である。
図１０Ａに示すように、循環タンク１０１に処理液が貯留されている状態で、循環ポンプ１１２および循環ヒータ１１４が作動され、第１下流循環バルブ１１３、第２下流循環バルブ１１６および第３下流循環バルブ１１７が開かれる。これにより、貯留タンク３０Ｒに処理液が補充される。
図１０Ａに示すように、循環タンク１０１に処理液が貯留されている状態で、循環ポンプ１１２および循環ヒータ１１４が作動され、第１下流循環バルブ１１３、第２下流循環バルブ１１６および第３下流循環バルブ１１７が開かれる。これにより、貯留タンク３０Ｒに処理液が補充される。
【0143】
貯留タンク３０Ｒ内に処理液が送られて貯留タンク３０Ｒ内の処理液の液面が上昇し、液面センサ３４の測定値が上流循環配管１００の上流端よりも上方の所定の第１高さＨ１に達すると、新液バルブ１４３が閉じられ、新液ポンプ１４２が停止される。そして、上流循環バルブ１１１が開かれる。これにより、図１０Ｂに示すように、貯留タンク３０Ｒ内の処理液が、上流循環配管１００に引き込まれ下流循環配管１０２から貯留タンク３０Ｒ内に戻されることで、処理液の循環が開始される（循環工程）。
【0144】
上流循環配管１００内を流れる処理液は、循環ヒータ１１４によって加熱される。貯留タンク３０Ｒ内の感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、循環ヒータ１１４によって加熱された処理液によって加熱される（ステップＳ１：ゲル加熱開始工程）。
第４実施形態とは異なり、処理液の循環や、貯留タンク３０Ｒから上流循環配管１００への処理液の供給を助けるため、上流循環配管１００にポンプ（図示せず）をさらに介装させてもよい。
第４実施形態とは異なり、処理液の循環や、貯留タンク３０Ｒから上流循環配管１００への処理液の供給を助けるため、上流循環配管１００にポンプ（図示せず）をさらに介装させてもよい。
【0145】
感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、循環する処理液を介して、循環ヒータ１１４によって加熱される（循環加熱工程）。感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、処理液によって加熱されることで、処理液と同じ温度に達する。そのため、下流循環配管１０２内を流れる処理液の温度を循環温度計１１８によって測定することによって、感温性ゲルフィルタ３１Ｒの温度（ゲル温度）が間接的に測定される（ゲル温度測定工程）。
【0146】
そして、ステップＳ１の後、コントローラ４は、感温性ゲルフィルタ３１Ｒの温度が、転移温度よりも低いか否かを監視する（ステップＳ２：第１ゲル温度監視工程）。ゲル温度が感温性ゲル５０の転移温度よりも低い場合には（ステップＳ２：ＮＯ）、ステップＳ２に戻る。
処理液は、上流循環配管１００、循環タンク１０１および下流循環配管１０２によって構成される循環流路と、貯留タンク３０Ｒとを所定時間循環することによって、感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱される。感温性ゲルフィルタ３１Ｒが感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されることによって、感温性ゲルフィルタ３１Ｒに含まれる感温性ゲルが疎水化される（疎水化工程）。貯留タンク３０Ｒ内の感温性ゲルフィルタ３１Ｒが感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されると（ステップＳ２：ＹＥＳ）、ステップＳ３に進む。
処理液は、上流循環配管１００、循環タンク１０１および下流循環配管１０２によって構成される循環流路と、貯留タンク３０Ｒとを所定時間循環することによって、感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱される。感温性ゲルフィルタ３１Ｒが感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されることによって、感温性ゲルフィルタ３１Ｒに含まれる感温性ゲルが疎水化される（疎水化工程）。貯留タンク３０Ｒ内の感温性ゲルフィルタ３１Ｒが感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されると（ステップＳ２：ＹＥＳ）、ステップＳ３に進む。
【0147】
ステップＳ３では、コントローラ４は、ゲル温度が転移温度以上の温度に達したときから所定の不純物除去時間が経過したか否かを監視する（ステップＳ３：経過時間監視工程）。
感温性ゲルフィルタ３１Ｒが転移温度以上に加熱されている状態、すなわち、感温性ゲル５０が疎水性となっている状態で、感温性ゲルフィルタ３１Ｒに処理液を通過させることによって、処理液中の不純物が感温性ゲルフィルタ３１Ｒによって捕獲されて、処理液中から除去される（不純物除去工程、循環除去工程）。感温性ゲルフィルタ３１Ｒの不純物除去効率が充分に高い場合には、不純物は、時間経過とともに処理液から除去される。
感温性ゲルフィルタ３１Ｒが転移温度以上に加熱されている状態、すなわち、感温性ゲル５０が疎水性となっている状態で、感温性ゲルフィルタ３１Ｒに処理液を通過させることによって、処理液中の不純物が感温性ゲルフィルタ３１Ｒによって捕獲されて、処理液中から除去される（不純物除去工程、循環除去工程）。感温性ゲルフィルタ３１Ｒの不純物除去効率が充分に高い場合には、不純物は、時間経過とともに処理液から除去される。
【0148】
この実施形態の不純物除去工程では、不純物除去ユニット２０Ｒに供給される処理液は、新液である。そのため、感温性ゲルフィルタ３１Ｒによって汚染処理液中の不純物が捕獲されて汚染処理液から不純物が除去される。
循環流路（上流循環配管１００、循環タンク１０１および下流循環配管１０２）と貯留タンク３０Ｒとを循環する処理液を加熱することで不純物除去工程および疎水化工程が行われる。不純物除去工程は、疎水化工程による感温性ゲル５０の疎水化が達成された後に実行される。
循環流路（上流循環配管１００、循環タンク１０１および下流循環配管１０２）と貯留タンク３０Ｒとを循環する処理液を加熱することで不純物除去工程および疎水化工程が行われる。不純物除去工程は、疎水化工程による感温性ゲル５０の疎水化が達成された後に実行される。
【0149】
この実施形態とは異なり、処理液の温度が、貯留タンク３０Ｒおよび循環流路（上流循環配管１００、循環タンク１０１および下流循環配管１０２）を循環する前から転移温度以上の温度であった場合には、循環工程の開始と同時に不純物除去工程が開始される。
コントローラ４は、不純物除去時間が経過していない場合（ステップＳ３：ＮＯ）、ステップＳ３に戻る。不純物除去時間が経過すると（ステップＳ３：ＹＥＳ）、不純物量測定ユニット４２が検出する不純物量が、基準不純物量よりも低いか否かを判定する（ステップＳ４：不純物量判定工程）。不純物量判定工程は、感温性ゲル５０が疎水性となる温度にゲル温度が調節されている状態で実行される。
コントローラ４は、不純物除去時間が経過していない場合（ステップＳ３：ＮＯ）、ステップＳ３に戻る。不純物除去時間が経過すると（ステップＳ３：ＹＥＳ）、不純物量測定ユニット４２が検出する不純物量が、基準不純物量よりも低いか否かを判定する（ステップＳ４：不純物量判定工程）。不純物量判定工程は、感温性ゲル５０が疎水性となる温度にゲル温度が調節されている状態で実行される。
【0150】
不純物除去時間経過後に、不純物量測定ユニット１１０によって測定される不純物量が基準不純物量よりも低い場合には（ステップＳ４：ＹＥＳ）、図１０Ｃに示すように、処理液の循環を維持しながら、供給バルブ１３１が開かれる。貯留タンク３０Ｒから供給配管１３０（供給流路）に向けて、不純物が充分に除去された処理液（清浄処理液）が送られる（ステップＳ５：供給工程）。すなわち、循環流路および貯留タンク３０Ｒを循環する処理液から不純物が充分に除去された後、供給工程が実行される。この実施形態では、供給配管１３０は、処理ユニット２の処理液ノズル１１（図９を参照）に直接接続されているので、供給バルブ１３１が開かれると、基板Ｗの上面に処理液が供給される。
【0151】
供給工程の実行によって、循環タンク１０１および貯留タンク３０Ｒ内の処理液の液面が低下し、液面センサ３４の測定値が所定の第２高さＨ２に達すると、供給バルブ１３１が閉じられる。あるいは、所定時間供給工程が継続された後、供給バルブ１３１が閉じられる。そして、処理液の循環を維持しながら、新液タンク１４１から循環タンク１０１への新液の供給が開始される。その後、貯留タンク３０Ｒに処理液が補充されると、不純物除去ユニット２０の動作が再び開始される。
【0152】
一方、不純物除去時間経過後においても、不純物量測定ユニット１１０によって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には（ステップＳ４：ＮＯ）、図１０Ｄに示すように、循環ヒータ１１４が停止され、第１下流循環バルブ１１３および第２下流循環バルブ１１６が閉じられる。その代わりに、循環クーラ１２２が作動され、第１分岐バルブ１２０および第２分岐バルブ１２１が開かれる。
【0153】
分岐循環配管１０３を流れる処理液は、循環クーラ１２２によって冷却される。貯留タンク３０Ｒ内の感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、循環クーラ１２２によって冷却された処理液によって冷却される（ステップＳ６：ゲル加熱停止工程、ゲル冷却工程）。
感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、循環する処理液を介して、冷却される（循環冷却工程）。感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、処理液によって冷却されることで、処理液と同じ温度に達する。
感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、循環する処理液を介して、冷却される（循環冷却工程）。感温性ゲルフィルタ３１Ｒは、処理液によって冷却されることで、処理液と同じ温度に達する。
【0154】
ステップＳ６の後、コントローラ４は、感温性ゲルフィルタ３１Ｒの温度が、転移温度よりも低いか否かを監視する（ステップＳ７：第２ゲル温度監視工程）。貯留タンク３０Ｒ内の感温性ゲルフィルタ３１Ｒが感温性ゲルの転移温度以上である場合には（ステップＳ７：ＮＯ）、ステップＳ７に戻る。
処理液は、循環流路および貯留タンク３０Ｒを所定時間循環することによって、感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却される。感温性ゲルフィルタ３１Ｒが感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却されることによって、感温性ゲルフィルタ３１Ｒに含まれる感温性ゲルが親水化される（親水化工程）。
処理液は、循環流路および貯留タンク３０Ｒを所定時間循環することによって、感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却される。感温性ゲルフィルタ３１Ｒが感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却されることによって、感温性ゲルフィルタ３１Ｒに含まれる感温性ゲルが親水化される（親水化工程）。
【0155】
感温性ゲルフィルタ３１Ｒが転移温度よりも低い温度に冷却されている状態、すなわち、感温性ゲル５０が親水性となっている状態で、感温性ゲルフィルタ３１Ｒに処理液を通過させることによって、感温性ゲルフィルタ３１Ｒによって捕獲されていた不純物が処理液中に放出される（不純物放出工程、循環放出工程）。
この実施形態の不純物放出工程において不純物除去ユニット２０に供給される処理液は、洗浄液としての新液である。そのため、感温性ゲルフィルタ３１Ｒから新液に不純物が放出される。
この実施形態の不純物放出工程において不純物除去ユニット２０に供給される処理液は、洗浄液としての新液である。そのため、感温性ゲルフィルタ３１Ｒから新液に不純物が放出される。
【0156】
貯留タンク３０Ｒ内の感温性ゲルフィルタ３１Ｒが感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度に冷却されると（ステップＳ７：ＹＥＳ）、図１０Ｅに示すように、処理液の循環を維持しながら、排液バルブ７０が開かれる。これにより、貯留タンク３０Ｒから排液配管２１（排液流路）に向けて処理液が送られる（ステップＳ８：排液工程）。すなわち、循環流路および貯留タンク３０Ｒを循環する処理液に不純物が放出された後、排液工程が実行される。
【0157】
排液工程の実行によって、貯留タンク３０Ｒ内の処理液の液面が低下し、液面センサ３４の測定値が所定の第２高さＨ２に達すると、排液バルブ７０、上流循環バルブ４１および中間循環バルブ４３が閉じられる。あるいは、所定時間排液工程が継続された後、排液バルブ７０が閉じられる。これにより、処理液の循環および排液が停止される。その後、貯留タンク３０Ｒに処理液が補充されると、不純物除去ユニット２０Ｒの動作がステップＳ１から再び開始される。
【0158】
このように、第４実施形態においても、不純物除去ユニット２０Ｒの不純物除去効率の低下度合に応じて、供給工程と排液工程とが選択的に実行される。
ただし、最初の不純物除去工程の実行前では、感温性ゲルフィルタ３１Ｒの不純物除去効率は低下しておらず充分に高い。そのため、最初の不純物除去工程の際に不純物量測定ユニット１１０によって測定される不純物量は、基準不純物量よりも低い。したがって、不純物除去ユニット２０Ｒの動作において、供給工程（ステップＳ５）が少なくとも一回実行された後に、二回目以降の動作において排液工程（ステップＳ８）が実行される。
ただし、最初の不純物除去工程の実行前では、感温性ゲルフィルタ３１Ｒの不純物除去効率は低下しておらず充分に高い。そのため、最初の不純物除去工程の際に不純物量測定ユニット１１０によって測定される不純物量は、基準不純物量よりも低い。したがって、不純物除去ユニット２０Ｒの動作において、供給工程（ステップＳ５）が少なくとも一回実行された後に、二回目以降の動作において排液工程（ステップＳ８）が実行される。
【0159】
第４実施形態によれば、第１実施形態と同様の効果を奏する。
また、新処理液中に不純物量は、処理ユニット２で使用された汚染処理液と比較して非常に少ない。しかしながら、感温性ゲルフィルタ３１Ｒを含む不純物除去ユニット２０を用いて不純物量を新処理液中から一層低減すれば、清浄度が一層高い処理液を処理ユニット２に供給できる。
また、新処理液中に不純物量は、処理ユニット２で使用された汚染処理液と比較して非常に少ない。しかしながら、感温性ゲルフィルタ３１Ｒを含む不純物除去ユニット２０を用いて不純物量を新処理液中から一層低減すれば、清浄度が一層高い処理液を処理ユニット２に供給できる。
【0160】
ステップＳ６のゲル加熱停止工程の後に、感温性ゲルフィルタ３１Ｒを冷却する方法として、第４実施形態では、循環冷却工程が用いられる。しかしながら、感温性ゲルフィルタ３１Ｒを冷却するために、処理液を循環させることなく、循環ポンプ１１２を停止させた状態で感温性ゲルフィルタ３１Ｒが常温にまで自然冷却させてもよい。感温性ゲルフィルタ３１Ｒの温度低下を促進するために、図示しない冷却ユニット（クーラ）を貯留タンク３０Ｒに設け、冷却ユニットを用いて貯留タンク３０Ｒを冷却することで感温性ゲルフィルタ３１Ｒを強制的に冷却してもよい。
【0161】
また、排液バルブ７０を閉じ、第１分岐バルブ１２０および第２分岐バルブ１２１を開くことで、冷却された処理液を貯留タンク３０Ｒに注入し、感温性ゲルフィルタ３１Ｒを浸漬および冷却してもよい（浸漬洗浄工程）。これにより、感温性ゲルフィルタ３１Ｒから処理液中に不純物が放出される。その後、排液バルブ７０を開くことで、貯留タンク３０Ｒから不純物とともに処理液を排液できる。
【0162】
このように、処理液の循環を行うことなく感温性ゲルフィルタ３１Ｒから不純物を放出させれば循環流路の汚染を回避しつつ、感温性ゲルフィルタ３１Ｒの不純物効率を回復できる。なお、貯留タンク３０Ｒへの処理液の注入は複数回行われてもよい。すなわち、浸漬による感温性ゲルフィルタ３１Ｒの洗浄は複数回行われてもよい。
＜その他の実施形態＞
この発明は、以上に説明した実施形態に限定されるものではなく、さらに他の形態で実施することができる。
＜その他の実施形態＞
この発明は、以上に説明した実施形態に限定されるものではなく、さらに他の形態で実施することができる。
【0163】
たとえば、図１１に示すように、貯留タンク３０の内部空間３３は、第１収容部３３ａと第２収容部３３ｂとが感温性ゲルフィルタ３１を挟んで横方向（水平方向）に互いに対向するように感温性ゲルフィルタ３１によって仕切られていてもよい。この場合、貯留タンク３０に接続される各配管（循環配管３２、排液配管２１等）は、貯留タンク３０の第１収容部３３ａおよび第２収容部３３ｂのいずれに接続されているかに関わらず、貯留タンク３０の下端部に接続されていることが好ましい。そうであれば処理液の液面と、配管の端部との位置関係を考慮することなく、処理液を循環配管３２に循環させることができる。むろん、この構成は、第１実施形態～第３実施形態に係る貯留タンク３０だけでなく、図９に示す第４実施形態に係る貯留タンク３０Ｒにも適用可能である。
【0164】
また、図１、図５および図７に二点鎖線で示すように、供給タンク２４に新処理液を供給できるように構成されていてもよい。詳しくは、処理液供給装置３，３Ｐ，３Ｑが、新液タンク１５０から新処理液が送出される新液配管１５１と、新液配管１５１に介装された新液ポンプ１５２と、新液ポンプ１５２よりも下流側で新液配管１５１に介装された新液バルブ１５３とを含んでいてもよい。
【0165】
また、各実施形態を組み合わせることが可能である。たとえば、図１２に示すように、第１実施形態と第４実施形態とが組み合わせられていてもよい。すなわち、汚染処理液が帰還配管２２から不純物除去ユニット２０に供給され、不純物除去ユニット２０から不純物除去ユニット２０Ｒに清浄処理液が供給される。そして、不純物除去ユニット２０Ｒによってさらに清浄化された処理液が処理ユニット２に供給される。第４実施形態において、不純物除去ユニット２０Ｒを複数設けることも可能である。
【0166】
また、第１実施形態に係る処理液供給装置３（図１を参照）、第２実施形態に係る処理液供給装置３Ｐ（図５を参照）、第３実施形態に係る処理液供給装置３Ｑ（図７を参照）においても、第４実施形態と同様に、不純物除去ユニット２０が、処理液を冷却するクーラ（冷却ユニット）を有していてもよい。この場合、クーラによって冷却された処理液を介して、感温性ゲルフィルタ３１が冷却される。
【0167】
また、上述の各実施形態では、感温性ゲルフィルタ３１の加熱は、循環流路内の処理液を介して行われる。しかしながら、貯留タンク３０内にヒータを設けて貯留タンク３０内の処理液を加熱し、その処理液を介して感温性ゲルフィルタ３１を加熱してもよい。あるいは、感温性ゲルフィルタ３１を直接加熱してもよい。
また、上述の各実施形態では、感温性ゲル５０がＬＣＳＴ型感温性ゲルである例について説明した。上述の実施形態とは異なり、感温性ゲル５０は、ＵＣＳＴ型感温性ゲルであってもよい。
また、上述の各実施形態では、感温性ゲル５０がＬＣＳＴ型感温性ゲルである例について説明した。上述の実施形態とは異なり、感温性ゲル５０は、ＵＣＳＴ型感温性ゲルであってもよい。
【0168】
ＵＣＳＴ型感温性ゲルの転移温度（ＵＣＳＴ）は、常温よりも高く、たとえば、３０℃以上で５０℃以下である。つまり、ＵＣＳＴ型感温性ゲルは、常温において疎水性である。そのため、処理液を加熱することなく、処理液を感温性ゲルフィルタ３１に通過させることによって、処理液から不純物を除去できる。処理液の温度を常温に維持することによって、感温性ゲルフィルタ３１の温度が調節される（温度調節工程）。
【0169】
そのため、感温性ゲル５０がＵＣＳＴ型感温性ゲルである場合には、不純物除去ユニット２０の動作例は、図１３に示すように、図３に示す動作例とは多少異なる。
具体的には、コントローラ４が、ゲル加熱開始工程（ステップＳ１）が省略され、まず、ゲル温度が転移温度よりも低いか否かを監視する（ステップＳ１０：第１ゲル温度監視工程）。ゲル温度が感温性ゲル５０の転移温度（ＵＣＳＴ）以上の温度である場合には（ステップＳ１０：ＮＯ）、ステップＳ１０に戻る。
具体的には、コントローラ４が、ゲル加熱開始工程（ステップＳ１）が省略され、まず、ゲル温度が転移温度よりも低いか否かを監視する（ステップＳ１０：第１ゲル温度監視工程）。ゲル温度が感温性ゲル５０の転移温度（ＵＣＳＴ）以上の温度である場合には（ステップＳ１０：ＮＯ）、ステップＳ１０に戻る。
【0170】
ゲル温度が感温性ゲル５０の転移温度よりも低い温度である場合には（ステップＳ１０：ＹＥＳ）、コントローラ４は、ゲル温度が転移温度以上の温度に達したときから所定の不純物除去時間が経過したか否かを監視する（ステップＳ３：経過時間監視工程）。
コントローラ４は、不純物除去時間が経過していない場合（ステップＳ３：ＮＯ）、ステップＳ３に戻る。不純物除去時間が経過すると（ステップＳ３：ＹＥＳ）、不純物量測定ユニット４２が検出する不純物量が、基準不純物量よりも低いか否かを判定する（ステップＳ４：不純物量判定工程）。
コントローラ４は、不純物除去時間が経過していない場合（ステップＳ３：ＮＯ）、ステップＳ３に戻る。不純物除去時間が経過すると（ステップＳ３：ＹＥＳ）、不純物量測定ユニット４２が検出する不純物量が、基準不純物量よりも低いか否かを判定する（ステップＳ４：不純物量判定工程）。
【0171】
不純物除去時間経過後に、不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量が基準不純物量よりも低い場合には（ステップＳ４：ＹＥＳ）、供給工程（ステップＳ５）が実行される。
一方、不純物除去時間経過後においても、不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には（ステップＳ４：ＮＯ）、循環ヒータ４５が作動され、感温性ゲルフィルタ３１の加熱が開始される（ステップＳ１１：ゲル加熱開始工程）。
一方、不純物除去時間経過後においても、不純物量測定ユニット４２によって測定される不純物量が基準不純物量以上である場合には（ステップＳ４：ＮＯ）、循環ヒータ４５が作動され、感温性ゲルフィルタ３１の加熱が開始される（ステップＳ１１：ゲル加熱開始工程）。
【0172】
その後、コントローラ４は、感温性ゲルフィルタ３１の温度が、転移温度以上の温度であるか否かを監視する（ステップＳ１２：第２ゲル温度監視工程）。貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度よりも低い場合には（ステップＳ１２：ＮＯ）、ステップＳ１２に戻る。
一方、貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されると（ステップＳ１２：ＹＥＳ）、排液工程（ステップＳ８）が実行される。
一方、貯留タンク３０内の感温性ゲルフィルタ３１が感温性ゲル５０の転移温度以上の温度に加熱されると（ステップＳ１２：ＹＥＳ）、排液工程（ステップＳ８）が実行される。
【0173】
このように、感温性ゲル５０がＵＣＳＴ型感温性ゲルである場合においても、供給工程と排液工程とが選択的に実行される。詳しくは、不純物量が基準不純物量よりも少ない場合には、供給ユニット１９に処理液を送出される。そして、不純物量が基準不純物量以上である場合には、感温性ゲル５０が親水性となる温度（転移温度以上の温度）に感温性ゲルフィルタ３１の温度を調節した後、排液配管２１に処理液が送出される。
【0174】
なお、上述した実施形態は例示的なものであり、種々の変更が可能である。たとえば、処理液の循環を好適に行うために、配管に介装されるポンプの位置や個数を適宜変更することが可能である。また、排液を好適に行うために、貯留タンクに接続される排液配管の個数や接続位置を適宜変更することが可能である。また、貯留タンクに直接接続され、新液を貯留タンクへと供給する新液供給ユニットや、貯留タンクに直接接続され洗浄液を貯留タンクへと供給する洗浄液供給ユニットをさらに設ける等の変更が可能である。
【0175】
その他、特許請求の範囲に記載した範囲で種々の変更を行うことができる。
【符号の説明】
【0176】
１ ：基板処理装置
１Ｐ ：基板処理装置
１Ｑ ：基板処理装置
１Ｒ ：基板処理装置
２ ：処理ユニット
３ ：処理液供給装置
３Ｐ ：処理液供給装置
３Ｑ ：処理液供給装置
３Ｒ ：処理液供給装置
１９ ：供給ユニット（供給流路）
２０ ：不純物除去ユニット
２０Ａ ：第１不純物除去ユニット
２０Ｂ ：第２不純物除去ユニット
２０Ｒ ：不純物除去ユニット
２１ ：排液配管（排液流路）
２１Ａ ：第１排液配管（排液流路）
２１Ｂ ：第２排液配管（排液流路）
２２ ：帰還配管（帰還流路）
２２Ａ ：第１帰還配管（帰還流路）
２２Ｂ ：第２帰還配管（帰還流路）
２３ ：上流供給配管（供給流路）
２３Ａ ：第１上流供給配管（供給流路）
２３Ｂ ：第２上流供給配管（供給流路）
２４ ：供給タンク（供給流路）
２５ ：下流供給配管（供給流路）
３０ ：貯留タンク
３０Ａ ：第１貯留タンク
３０Ｂ ：第２貯留タンク
３０Ｒ ：貯留タンク
３１ ：感温性ゲルフィルタ
３１Ａ ：第１感温性ゲルフィルタ
３１Ｂ ：第２感温性ゲルフィルタ
３１Ｒ ：感温性ゲルフィルタ
３２ ：循環配管（循環流路）
３２Ａ ：第１循環配管（循環流路）
３２Ｂ ：第２循環配管（循環流路）
３３ ：内部空間
３３ａ ：第１収容部
３３ｂ ：第２収容部
４２ ：不純物量測定ユニット
４２Ａ ：第１不純物量測定ユニット
４２Ｂ ：第２不純物量測定ユニット
４５ ：循環ヒータ（加熱ユニット）
４５Ａ ：第１循環ヒータ（加熱ユニット）
４５Ｂ ：第２循環ヒータ（加熱ユニット）
５０ ：感温性ゲル
５０Ａ ：第１感温性ゲル
５０Ｂ ：第２感温性ゲル
５１ ：フィルタ部材
１００ ：上流循環配管（循環流路）
１０１ ：循環タンク（循環流路）
１０２ ：下流循環配管（循環流路）
１１０ ：不純物量測定ユニット
１１４ ：循環ヒータ（加熱ユニット）
１３０ ：供給配管（供給流路）
１４０ ：新液配管（新液流路）
Ｗ ：基板
１Ｐ ：基板処理装置
１Ｑ ：基板処理装置
１Ｒ ：基板処理装置
２ ：処理ユニット
３ ：処理液供給装置
３Ｐ ：処理液供給装置
３Ｑ ：処理液供給装置
３Ｒ ：処理液供給装置
１９ ：供給ユニット（供給流路）
２０ ：不純物除去ユニット
２０Ａ ：第１不純物除去ユニット
２０Ｂ ：第２不純物除去ユニット
２０Ｒ ：不純物除去ユニット
２１ ：排液配管（排液流路）
２１Ａ ：第１排液配管（排液流路）
２１Ｂ ：第２排液配管（排液流路）
２２ ：帰還配管（帰還流路）
２２Ａ ：第１帰還配管（帰還流路）
２２Ｂ ：第２帰還配管（帰還流路）
２３ ：上流供給配管（供給流路）
２３Ａ ：第１上流供給配管（供給流路）
２３Ｂ ：第２上流供給配管（供給流路）
２４ ：供給タンク（供給流路）
２５ ：下流供給配管（供給流路）
３０ ：貯留タンク
３０Ａ ：第１貯留タンク
３０Ｂ ：第２貯留タンク
３０Ｒ ：貯留タンク
３１ ：感温性ゲルフィルタ
３１Ａ ：第１感温性ゲルフィルタ
３１Ｂ ：第２感温性ゲルフィルタ
３１Ｒ ：感温性ゲルフィルタ
３２ ：循環配管（循環流路）
３２Ａ ：第１循環配管（循環流路）
３２Ｂ ：第２循環配管（循環流路）
３３ ：内部空間
３３ａ ：第１収容部
３３ｂ ：第２収容部
４２ ：不純物量測定ユニット
４２Ａ ：第１不純物量測定ユニット
４２Ｂ ：第２不純物量測定ユニット
４５ ：循環ヒータ（加熱ユニット）
４５Ａ ：第１循環ヒータ（加熱ユニット）
４５Ｂ ：第２循環ヒータ（加熱ユニット）
５０ ：感温性ゲル
５０Ａ ：第１感温性ゲル
５０Ｂ ：第２感温性ゲル
５１ ：フィルタ部材
１００ ：上流循環配管（循環流路）
１０１ ：循環タンク（循環流路）
１０２ ：下流循環配管（循環流路）
１１０ ：不純物量測定ユニット
１１４ ：循環ヒータ（加熱ユニット）
１３０ ：供給配管（供給流路）
１４０ ：新液配管（新液流路）
Ｗ ：基板
【図1】
【図2】
【図3】
【図4A】
【図4B】
【図4C】
【図4D】
【図4E】
【図5】
【図6A】
【図6B】
【図6C】
【図6D】
【図7】
【図8A】
【図8B】
【図9】
【図10A】
【図10B】
【図10C】
【図10D】
【図10E】
【図11】
【図12】
【図13】