(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-08-27
(45)【発行日】2024-09-04
(54)【発明の名称】めっき鋼板
(51)【国際特許分類】
C23C 28/00 20060101AFI20240828BHJP
C09D 201/00 20060101ALI20240828BHJP
C09D 7/61 20180101ALI20240828BHJP
B32B 15/01 20060101ALI20240828BHJP
B32B 15/08 20060101ALI20240828BHJP
B32B 3/30 20060101ALI20240828BHJP
B32B 27/00 20060101ALI20240828BHJP
B32B 27/18 20060101ALI20240828BHJP
【ＦＩ】
C23C28/00 A
C09D201/00
C09D7/61
B32B15/01 C
B32B15/08 Z
B32B3/30
B32B27/00 101
B32B27/18 Z
【請求項の数】
4
(21)【出願番号】P 2020156755
(22)【出願日】2020-09-17
(65)【公開番号】P2022050256
(43)【公開日】2022-03-30
【審査請求日】2023-05-19
(73)【特許権者】
【識別番号】000006655
【氏名又は名称】日本製鉄株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001553
【氏名又は名称】アセンド弁理士法人
(72)【発明者】
【氏名】二葉 敬士
(72)【発明者】
【氏名】柴尾 史生
(72)【発明者】
【氏名】横道 拓哉
(72)【発明者】
【氏名】久米 くるみ
(72)【発明者】
【氏名】宮田 卓哉
(72)【発明者】
【氏名】新頭 英俊
【審査官】菅原 愛
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０２０／２１３６９０（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１９／０７４１０２（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２００７－００２３３０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００４－１５６０８１（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ２３Ｃ ２８／００
Ｃ０９Ｄ ２０１／００
Ｃ０９Ｄ ７／６１
Ｂ３２Ｂ １５／０１
Ｂ３２Ｂ １５／０８
Ｂ３２Ｂ ３／３０
Ｂ３２Ｂ ２７／００
Ｂ３２Ｂ ２７／１８
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
めっき鋼板であって、母材鋼板と、
前記母材鋼板の表面上に位置し、Ｚｎ又はＺｎ合金からなる電気亜鉛系めっき層と、
前記電気亜鉛系めっき層上に位置する複合被膜とを備え、
前記電気亜鉛系めっき層の表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含むテクスチャを有し、
前記複合被膜は、
有機珪素化合物と、
りん酸化合物と、
Ｖ化合物と、
Ｚｒ化合物及びＴｉ化合物のうちの少なくとも１種以上と、
フッ素化合物とを含有し、
前記電気亜鉛系めっき層の表面の表面高さプロファイルのうちの最高高さを有する最高点Ｈｍａｘと最低高さを有する最低点Ｈｍｉｎとを特定し、前記最高点Ｈｍａｘの高さから前記最低点Ｈｍｉｎの高さを差し引いた値である高低差Ｌを求め、得られた前記高低差Ｌの１／３倍の高さであるＬ／３を用いて、前記最低点ＨｍｉｎからＬ／３以上の高さの連続した領域を１つの凸部と定義し、前記最低点ＨｍｉｎからＬ／３未満の高さの連続した領域を１つの凹部と定義したとき、
前記テクスチャの前記凸部の平均表面粗さＲａは５超～２００ｎｍであり、
前記テクスチャにおいて互いに隣り合う前記凸部及び前記凹部の平均高低差が０．３～３．０μｍであり、
前記複合被膜の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＰ含有量のＺｎ含有量に対する質量比であるＰ／Ｚｎの平均値を［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅと定義したとき、前記複合被膜の表面のうち、Ｐ／Ｚｎが［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅの１．２倍以上であるＰ濃化領域の総面積率の、前記テクスチャの前記凹部の総面積率に対する比が０．２５以上である、
めっき鋼板。
【請求項2】
請求項１に記載のめっき鋼板であってさらに、前記複合被膜の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＰ含有量のＳｉ含有量に対する質量比の平均値である［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅが０．１５～０．２５である、
めっき鋼板。
【請求項3】
請求項１又は請求項２に記載のめっき鋼板であって、前記複合被膜の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＶ含有量のＳｉ含有量に対する質量比の平均値である［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅが０．０６～０．１５である、
めっき鋼板。
【請求項4】
請求項１～請求項３のいずれか１項に記載のめっき鋼板であって、前記テクスチャはヘアラインである、
めっき鋼板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、めっき鋼板に関し、さらに詳しくは、表面にテクスチャを備えるめっき鋼板に関する。
【背景技術】
【0002】
電気機器や建材では、外観に意匠性が求められる場合がある。このような物品の意匠性を高める手段として、めっき層を有する鋼板の表面にテクスチャを形成する技術が提案されている。
【0003】
めっき層のうち、電気亜鉛系めっき層は、溶融亜鉛系めっき層と比較して、めっき層の表面をより平坦に形成することができる。そのため、電気亜鉛系めっき層が形成されためっき鋼板は、溶融亜鉛めっき層が形成されためっき鋼板よりもテクスチャを付与しやすい。テクスチャは、鋼板の外観の意匠性を高めることができる。電気亜鉛めっき層にテクスチャを付与することにより、めっき鋼板の外観の意匠性を高めることができる。
【0004】
また、めっき鋼板は一般的に、耐食性が求められる。したがって、意匠性だけでなく、耐食性にも優れためっき鋼板が望まれている。
【0005】
耐食性を高めた鋼板が、国際公開第２００７／０１１００８号（特許文献１）、国際公開第２００８／０５９８９０号（特許文献２）、国際公開第２０１０／０６１９６４号（特許文献３）及び、国際公開第２０１２／１４７８６０号（特許文献４）に開示されている。これらの文献では、めっき層上に無機化合物と有機化合物とを含有する複合被膜を形成することにより、耐食性を高めている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【文献】国際公開第２００７／０１１００８号
【文献】国際公開第２００８／０５９８９０号
【文献】国際公開第２０１０／０６１９６４号
【文献】国際公開第２０１２／１４７８６０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
特許文献１～４では、耐食性に優れためっき鋼板を開示している。しかしながら、これらの文献では、鋼板にテクスチャが形成されていない。そのため、テクスチャが形成されためっき鋼板における、優れた意匠性及び優れた耐食性の両立の観点からの検討がなされていない。
【0008】
本開示の目的は、優れた意匠性及び優れた耐食性を両立可能なめっき鋼板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本開示によるめっき鋼板は、
母材鋼板と、
前記母材鋼板の表面上に位置し、Ｚｎ又はＺｎ合金からなる電気亜鉛系めっき層と、
前記電気亜鉛系めっき層上に位置する複合被膜とを備え、
前記電気亜鉛系めっき層の表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含むテクスチャを有し、
前記複合被膜は、
有機珪素化合物と、
りん酸化合物と、
Ｖ化合物と、
Ｚｒ化合物及びＴｉ化合物のうちの少なくとも１種以上と、
フッ素化合物とを含有し、
前記テクスチャの前記凸部の平均表面粗さＲａは５超～２００ｎｍであり、
前記テクスチャにおいて互いに隣り合う前記凸部及び前記凹部の平均高低差が０．３～３．０μｍであり、
前記複合被膜の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＰ含有量のＺｎ含有量に対する質量比であるＰ／Ｚｎの平均値を［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅと定義したとき、前記複合被膜の表面のうち、Ｐ／Ｚｎが［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅの１．２倍以上であるＰ濃化領域の面積率の、前記テクスチャの前記凹部の面積率に対する比が０．２５以上である。
母材鋼板と、
前記母材鋼板の表面上に位置し、Ｚｎ又はＺｎ合金からなる電気亜鉛系めっき層と、
前記電気亜鉛系めっき層上に位置する複合被膜とを備え、
前記電気亜鉛系めっき層の表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含むテクスチャを有し、
前記複合被膜は、
有機珪素化合物と、
りん酸化合物と、
Ｖ化合物と、
Ｚｒ化合物及びＴｉ化合物のうちの少なくとも１種以上と、
フッ素化合物とを含有し、
前記テクスチャの前記凸部の平均表面粗さＲａは５超～２００ｎｍであり、
前記テクスチャにおいて互いに隣り合う前記凸部及び前記凹部の平均高低差が０．３～３．０μｍであり、
前記複合被膜の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＰ含有量のＺｎ含有量に対する質量比であるＰ／Ｚｎの平均値を［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅと定義したとき、前記複合被膜の表面のうち、Ｐ／Ｚｎが［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅの１．２倍以上であるＰ濃化領域の面積率の、前記テクスチャの前記凹部の面積率に対する比が０．２５以上である。
【発明の効果】
【0010】
本発明によるめっき鋼板は、優れた意匠性及び優れた耐食性を両立可能である。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【発明を実施するための形態】
【0012】
本発明者らは、ヘアラインに代表されるテクスチャを電気亜鉛系めっき層の表面に形成すれば、めっき鋼板の意匠性が高まると考えた。テクスチャは、複数の凸部と複数の凹部とを含む。テクスチャは例えば、ヘアラインである。ヘアラインは、直線上に延在する凸部と、凸部に隣接しており、凸部と同じ延在方向に延在する凹部とを含む。本発明者らは、意匠性が高まるテクスチャの形態について検討を行った。その結果、テクスチャの凸部の平均表面粗さＲａが５超～２００ｎｍであり、かつ、テクスチャにおいて互いに隣り合う前記凸部及び前記凹部の平均高低差が０．３～３．０μｍであれば、優れた意匠性が得られることを見出した。
【0013】
本発明者らはさらに、上述のテクスチャを有するめっき鋼板の耐食性を調査した。調査に際して、本発明者らは初めに、電気亜鉛系めっき層の表面に形成されたテクスチャを観察した。その結果、テクスチャの凹部に相当する電気亜鉛系めっき層部分の厚さは、テクスチャの凸部に相当する電気亜鉛系めっき層部分の厚さよりも薄くなっており、凹部の底に母材鋼板が露出している部分も存在し得ることが判明した。
【0014】
耐食性を高める手段として、テクスチャが形成されためっき層の表面に、特許文献１～４に開示されている複合被膜を形成することが考えられる。これらの文献に開示されている複合被膜は、有機化合物と無機化合物とを含有する。この複合被膜は、有機化合物からなる有機被膜と比較して、導電性、加工時の耐カス性、耐溶剤性、及び、塗装被膜を形成した場合の塗装被膜との密着性に優れる。しかしながら、複合被膜は有機被膜のように厚く形成しにくい。そのため、テクスチャが形成された電気亜鉛系めっき層上に複合被膜を形成した場合、特に、テクスチャの凹部で耐食性が低くなる場合があることが本発明者らの調査により判明した。
【0015】
そこで、本発明者らは、テクスチャが形成されためっき層上に形成する複合被膜について、インヒビターの含有量を従来の複合被膜と比較して増加させなくても、十分な耐食性が得られる手段について検討した。その結果、本発明者らは、複合被膜の成分のうち、電気亜鉛系めっき層中のＺｎと親和性が高く、耐食性を高める元素であるＰの濃度に注目した。そして、複合被膜において、テクスチャの凹部に形成された複合被膜部分のＰ濃度を、テクスチャの凹部以外の部分（つまり凸部）に形成された複合被膜部分のＰ濃度よりも高めることができれば、テクスチャが形成された電気亜鉛系めっき層であっても、意匠性を高めつつ、十分な耐食性も得られると考えた。
【0016】
そこで、複合被膜において、Ｐ濃化領域をどの程度確保すれば、テクスチャが形成された電気亜鉛系めっき層であっても十分な耐食性を得ることができるかについて、本発明者らはさらに検討を行った。具体的には、複合被膜の表面に対して、マイクロ蛍光Ｘ線分析を用いて元素分析を実施して、表面の各微小領域でのＰ含有量（質量％）とＺｎ含有量（質量％）とを測定した。そして、表面で測定された各微小領域でのＰ含有量のＺｎ含有量に対する質量比をＰ／Ｚｎと定義した。さらに、各微小領域で測定されたＰ／Ｚｎの算術平均値を［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅと定義した。そして、Ｐ／Ｚｎが［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅの１．２倍以上とする領域を「Ｐ濃化領域」と定義した。
【0017】
本発明者らは、Ｐ濃化領域の面積率を求め、Ｐ濃化領域の総面積率及びテクスチャの凹部の総面積率と、耐食性との関係をさらに調査した。その結果、Ｐ濃化領域の面積率の、テクスチャ凹部面積率に対する比（以下、Ｐ濃化領域被覆比という）が０．２５以上であれば、優れた意匠性と優れた耐食性との両立が可能であることが判明した。
【0018】
以上の知見に基づいて完成した本実施形態のめっき鋼板は、次の構成を有する。
［１］
めっき鋼板であって、
母材鋼板と、
前記母材鋼板の表面上に位置し、Ｚｎ又はＺｎ合金からなる電気亜鉛系めっき層と、
前記電気亜鉛系めっき層上に位置する複合被膜とを備え、
前記電気亜鉛系めっき層の表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含むテクスチャを有し、
前記複合被膜は、
有機珪素化合物と、
りん酸化合物と、
Ｖ化合物と、
Ｚｒ化合物及びＴｉ化合物のうちの少なくとも１種以上と、
フッ素化合物とを含有し、
前記テクスチャの前記凸部の平均表面粗さＲａは５超～２００ｎｍであり、
前記テクスチャにおいて互いに隣り合う前記凸部及び前記凹部の平均高低差が０．３～３．０μｍであり、
前記複合被膜の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＰ含有量のＺｎ含有量に対する質量比であるＰ／Ｚｎの平均値を［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅと定義したとき、前記複合被膜の表面のうち、Ｐ／Ｚｎが［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅの１．２倍以上であるＰ濃化領域の総面積率の、前記テクスチャの前記凹部の総面積率に対する比が０．２５以上である、
めっき鋼板。
［１］
めっき鋼板であって、
母材鋼板と、
前記母材鋼板の表面上に位置し、Ｚｎ又はＺｎ合金からなる電気亜鉛系めっき層と、
前記電気亜鉛系めっき層上に位置する複合被膜とを備え、
前記電気亜鉛系めっき層の表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含むテクスチャを有し、
前記複合被膜は、
有機珪素化合物と、
りん酸化合物と、
Ｖ化合物と、
Ｚｒ化合物及びＴｉ化合物のうちの少なくとも１種以上と、
フッ素化合物とを含有し、
前記テクスチャの前記凸部の平均表面粗さＲａは５超～２００ｎｍであり、
前記テクスチャにおいて互いに隣り合う前記凸部及び前記凹部の平均高低差が０．３～３．０μｍであり、
前記複合被膜の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＰ含有量のＺｎ含有量に対する質量比であるＰ／Ｚｎの平均値を［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅと定義したとき、前記複合被膜の表面のうち、Ｐ／Ｚｎが［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅの１．２倍以上であるＰ濃化領域の総面積率の、前記テクスチャの前記凹部の総面積率に対する比が０．２５以上である、
めっき鋼板。
【0019】
［２］
［１］に記載のめっき鋼板であってさらに、
前記複合被膜の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＰ含有量のＳｉ含有量に対する質量比の平均値である［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅが０．１５～０．２５である、
めっき鋼板。
［１］に記載のめっき鋼板であってさらに、
前記複合被膜の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＰ含有量のＳｉ含有量に対する質量比の平均値である［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅが０．１５～０．２５である、
めっき鋼板。
【0020】
［３］
［１］又は［２］に記載のめっき鋼板であって、
前記複合被膜の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＶ含有量のＳｉ含有量に対する質量比の平均値である［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅが０．０６～０．１５である、
めっき鋼板。
［１］又は［２］に記載のめっき鋼板であって、
前記複合被膜の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＶ含有量のＳｉ含有量に対する質量比の平均値である［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅが０．０６～０．１５である、
めっき鋼板。
【0021】
［４］
［１］～［３］のいずれか１項に記載のめっき鋼板であって、
前記テクスチャはヘアラインである、
めっき鋼板。
［１］～［３］のいずれか１項に記載のめっき鋼板であって、
前記テクスチャはヘアラインである、
めっき鋼板。
【0022】
以下、本実施形態のめっき鋼板について詳述する。
【0023】
［めっき鋼板１について］
図１は、本実施形態のめっき鋼板１の断面図である。図１において、紙面に垂直な方向を、めっき鋼板１の圧延方向ＲＤと定義する。めっき鋼板１の板厚方向を、板厚方向ＴＤと定義する。めっき鋼板１のうち、テクスチャの延在方向ＲＤ及び板厚方向ＴＤに対して垂直な方向を、板幅方向ＷＤと定義する。
図１は、本実施形態のめっき鋼板１の断面図である。図１において、紙面に垂直な方向を、めっき鋼板１の圧延方向ＲＤと定義する。めっき鋼板１の板厚方向を、板厚方向ＴＤと定義する。めっき鋼板１のうち、テクスチャの延在方向ＲＤ及び板厚方向ＴＤに対して垂直な方向を、板幅方向ＷＤと定義する。
【0024】
図１を参照して、本実施形態のめっき鋼板１は、母材鋼板１００と、電気亜鉛系めっき層１０と、複合被膜１１とを備える。電気亜鉛系めっき層１０は、母材鋼板１００の表面上に形成されている。複合被膜１１は、電気亜鉛系めっき層１０上に形成されている。
【0025】
図２は、図１に示すめっき鋼板１を、複合被膜１１の上方から見た平面図である。図２を参照して、めっき鋼板１の表面には、テクスチャＴ１が形成されている。テクスチャＴ１は、複数の凹部を含む。図２では、テクスチャＴ１はヘアラインである。ヘアラインは、一方向（図２では方向ＲＤ）に延在する複数の凸部と、凸部と同じ方向に延在する複数の凹部（溝部）とを含む。つまり、ヘアラインは線状の凹凸模様である。ヘアラインは周知のテクスチャであり、研磨ベルト等で表面を一方向に研削（研磨）することにより形成される。上述のとおり、図２では、ヘアラインの凸部及び凹部は圧延方向ＲＤに延在している。しかしながら、ヘアラインの凸部及び凹部は、圧延方向ＲＤ以外の方向に延在していてもよい。
【0026】
以下、母材鋼板１００、電気亜鉛系めっき層１０、及び、複合被膜１１について説明する。
【0027】
［母材鋼板１００について］
母材鋼板１００は、製造するめっき鋼板に求められる各機械的性質（たとえば、引張強度、加工性等）に応じて、周知のめっき鋼板（電気亜鉛めっき鋼板、電気亜鉛合金めっき鋼板、溶融亜鉛めっき鋼板、合金化溶融亜鉛めっき鋼板等）に適用される公知の鋼板を使用すればよい。たとえば、母材鋼板１００として、電気機器用途の鋼板を使用してもよいし、建材用途の鋼板を使用してもよい。母材鋼板１００は熱延鋼板であってもよいし、冷延鋼板であってもよい。
母材鋼板１００は、製造するめっき鋼板に求められる各機械的性質（たとえば、引張強度、加工性等）に応じて、周知のめっき鋼板（電気亜鉛めっき鋼板、電気亜鉛合金めっき鋼板、溶融亜鉛めっき鋼板、合金化溶融亜鉛めっき鋼板等）に適用される公知の鋼板を使用すればよい。たとえば、母材鋼板１００として、電気機器用途の鋼板を使用してもよいし、建材用途の鋼板を使用してもよい。母材鋼板１００は熱延鋼板であってもよいし、冷延鋼板であってもよい。
【0028】
［電気亜鉛系めっき層１０について］
電気亜鉛系めっき層１０は、母材鋼板１００の表面１００Ｓ上に位置する。つまり、電気亜鉛系めっき層１０は、母材鋼板１００の表面１００Ｓ上に形成されている。電気亜鉛系めっき層１０は、周知の化学組成を有すれば足りる。具体的には、電気亜鉛系めっき層１０は、主としてＺｎからなり、Ａｌ含有量は質量％で０．１％未満である。ここで、「主としてＺｎからなる」とは、電気亜鉛系めっき層１０中のＺｎ含有量が少なくとも６０．０％以上であることを意味する。例えば、電気亜鉛系めっき層１０の化学組成は、質量％で６０．０％以上のＺｎを含有し、不純物であるＡｌ含有量は０．１％未満である。
電気亜鉛系めっき層１０は、母材鋼板１００の表面１００Ｓ上に位置する。つまり、電気亜鉛系めっき層１０は、母材鋼板１００の表面１００Ｓ上に形成されている。電気亜鉛系めっき層１０は、周知の化学組成を有すれば足りる。具体的には、電気亜鉛系めっき層１０は、主としてＺｎからなり、Ａｌ含有量は質量％で０．１％未満である。ここで、「主としてＺｎからなる」とは、電気亜鉛系めっき層１０中のＺｎ含有量が少なくとも６０．０％以上であることを意味する。例えば、電気亜鉛系めっき層１０の化学組成は、質量％で６０．０％以上のＺｎを含有し、不純物であるＡｌ含有量は０．１％未満である。
【0029】
電気亜鉛系めっき層１０の化学組成は例えば、質量％でＺｎを６０．０％以上含有し、任意元素として、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ及びＣｒからなる群から選択される１種以上を合計で０～３０．０％含有し、さらに任意元素としてＣを０～５．０％含有してもよい。Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｒ及びＣは含有されなくてもよい。
【0030】
電気亜鉛系めっき層１０中のＺｎ含有量の好ましい下限は８０．０％であり、さらに好ましくは９０．０％であり、さらに好ましくは９５．０％であり、さらに好ましくは９９．５％であり、さらに好ましくは９９．９％である。Ｚｎ含有量は１００％であってもよい。つまり、電気亜鉛系めっき層１０は、Ｚｎ又はＺｎ合金からなり、残部は不純物である。電気亜鉛系めっき層１０は、亜鉛めっき、又は、亜鉛合金めっきを含む概念である。なお、上述のとおり、電気亜鉛系めっき層１０の化学組成は周知である。溶融亜鉛系めっき層はＡｌ含有量が０．１％以上であるのに対して、電気亜鉛系めっき層はＡｌ含有量が０．１％未満である。
【0031】
［電気亜鉛系めっき層１０の化学組成の測定方法］
電気亜鉛系めっき層１０の化学組成は、次の方法で測定できる。めっき鋼板１の圧延方向ＲＤに垂直な断面（以下、観察面という）を含み、電気亜鉛系めっき層１０を含むサンプルを採取する。サンプルの観察面において、めっき鋼板１の表面１０Ｓから板厚方向ＴＤに、ＥＰＭＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｐｒｏｂｅ Ｍｉｃｒｏ Ａｎａｌｙｚｅｒ）法に基づく線分析を実施して、測定対象となる線上での各元素の含有量（質量％）を求める。線分析において、Ｚｎを６０．０質量％以上含有し、かつ、Ａｌ含有量が０．１％未満となる領域（範囲）を、電気亜鉛系めっき層１０と特定する。サンプル観察面において、任意の１０箇所で線分析を実施し、線分析により特定された電気亜鉛系めっき層１０の範囲（線上）での各元素含有量（質量％）を求める。１０カ所の線分析で得られた、電気亜鉛系めっき層１０の範囲での各元素含有量の算術平均値を求める。求めた各元素含有量の算術平均値に基づいて、電気亜鉛系めっき層１０の化学組成を特定する。
電気亜鉛系めっき層１０の化学組成は、次の方法で測定できる。めっき鋼板１の圧延方向ＲＤに垂直な断面（以下、観察面という）を含み、電気亜鉛系めっき層１０を含むサンプルを採取する。サンプルの観察面において、めっき鋼板１の表面１０Ｓから板厚方向ＴＤに、ＥＰＭＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｐｒｏｂｅ Ｍｉｃｒｏ Ａｎａｌｙｚｅｒ）法に基づく線分析を実施して、測定対象となる線上での各元素の含有量（質量％）を求める。線分析において、Ｚｎを６０．０質量％以上含有し、かつ、Ａｌ含有量が０．１％未満となる領域（範囲）を、電気亜鉛系めっき層１０と特定する。サンプル観察面において、任意の１０箇所で線分析を実施し、線分析により特定された電気亜鉛系めっき層１０の範囲（線上）での各元素含有量（質量％）を求める。１０カ所の線分析で得られた、電気亜鉛系めっき層１０の範囲での各元素含有量の算術平均値を求める。求めた各元素含有量の算術平均値に基づいて、電気亜鉛系めっき層１０の化学組成を特定する。
【0032】
［電気亜鉛系めっき層１０の厚さについて］
電気亜鉛系めっき層１０の厚さは特に限定されず、周知の厚さであれば足りる。電気亜鉛系めっき層１０の厚さは例えば、０．５～５．０μｍである。周知の電気亜鉛系めっき処理を実施すれば、電気亜鉛系めっき層１０の厚さを上記範囲に調整することが可能である。
電気亜鉛系めっき層１０の厚さは特に限定されず、周知の厚さであれば足りる。電気亜鉛系めっき層１０の厚さは例えば、０．５～５．０μｍである。周知の電気亜鉛系めっき処理を実施すれば、電気亜鉛系めっき層１０の厚さを上記範囲に調整することが可能である。
【0033】
［電気亜鉛系めっき層１０の厚さの測定方法］
電気亜鉛系めっき層１０の厚さは、次の方法により求めることができる。めっき鋼板１の圧延方向ＲＤに垂直な断面（以下、観察面という）を含み、電気亜鉛系めっき層１０を含むサンプルを採取する。サンプルの観察面において、めっき鋼板１の表面から板厚方向ＴＤに、ＥＰＭＡ分析法に基づく線分析を実施して、測定対象となる線上での各元素の含有量（質量％）を求める。線分析において、Ｚｎを６０．０質量％以上含有し、かつ、Ａｌ含有量が０．１％未満となる領域（範囲）を、電気亜鉛系めっき層１０と特定する。線分析の線上で特定された電気亜鉛系めっき層１０の長さを求める。サンプル観察面において、任意の１０箇所で線分析を実施する。１０箇所の線分析での各線上で求めた電気亜鉛系めっき層１０の長さの算術平均値を、電気亜鉛系めっき層１０の厚さ（μｍ）と定義する。
電気亜鉛系めっき層１０の厚さは、次の方法により求めることができる。めっき鋼板１の圧延方向ＲＤに垂直な断面（以下、観察面という）を含み、電気亜鉛系めっき層１０を含むサンプルを採取する。サンプルの観察面において、めっき鋼板１の表面から板厚方向ＴＤに、ＥＰＭＡ分析法に基づく線分析を実施して、測定対象となる線上での各元素の含有量（質量％）を求める。線分析において、Ｚｎを６０．０質量％以上含有し、かつ、Ａｌ含有量が０．１％未満となる領域（範囲）を、電気亜鉛系めっき層１０と特定する。線分析の線上で特定された電気亜鉛系めっき層１０の長さを求める。サンプル観察面において、任意の１０箇所で線分析を実施する。１０箇所の線分析での各線上で求めた電気亜鉛系めっき層１０の長さの算術平均値を、電気亜鉛系めっき層１０の厚さ（μｍ）と定義する。
【0034】
［テクスチャＴ１について］
図２を参照して、めっき鋼板１の上方から見て、めっき鋼板１の表面は、テクスチャＴ１を有する。本明細書において「テクスチャ」とは、物理的又は化学的手法によって、めっき鋼板１の表面に形成された凹凸模様を意味する。図２では、テクスチャＴ１はヘアラインである。図３は、図１及び図２に示すめっき鋼板１の圧延方向ＲＤに垂直な断面の一例を示す図である。図２及び図３を参照して、テクスチャＴ１の一例であるヘアライン（以下、ヘアラインＴ１ともいう）は、複数の凸部Ｃ１０と、複数の凹部（溝部）Ｒ１０とを含む。複数の凸部Ｃ１０の延在方向、及び、複数の凹部Ｒ１０の延在方向は、同一方向である。ここでいう同一方向とは、めっき鋼板１の平面視（図２）において、板幅方向ＷＤに配列された、互いに隣り合う凸部Ｃ１０のなす角度のうち９０％以上が、±５°未満であることを意味し、互いに隣り合う凹部Ｒ１０同士のなす角度のうち９０％以上が、±５°未満であることを意味する。
図２を参照して、めっき鋼板１の上方から見て、めっき鋼板１の表面は、テクスチャＴ１を有する。本明細書において「テクスチャ」とは、物理的又は化学的手法によって、めっき鋼板１の表面に形成された凹凸模様を意味する。図２では、テクスチャＴ１はヘアラインである。図３は、図１及び図２に示すめっき鋼板１の圧延方向ＲＤに垂直な断面の一例を示す図である。図２及び図３を参照して、テクスチャＴ１の一例であるヘアライン（以下、ヘアラインＴ１ともいう）は、複数の凸部Ｃ１０と、複数の凹部（溝部）Ｒ１０とを含む。複数の凸部Ｃ１０の延在方向、及び、複数の凹部Ｒ１０の延在方向は、同一方向である。ここでいう同一方向とは、めっき鋼板１の平面視（図２）において、板幅方向ＷＤに配列された、互いに隣り合う凸部Ｃ１０のなす角度のうち９０％以上が、±５°未満であることを意味し、互いに隣り合う凹部Ｒ１０同士のなす角度のうち９０％以上が、±５°未満であることを意味する。
【0035】
図１及び図２では、テクスチャＴ１としてヘアラインが示されている。しかしながら、テクスチャＴ１はヘアラインに限定されない。テクスチャＴ１はヘアライン以外に例えば、エンボスパターン、バイブレーション仕上げ、梨地（ブラスト）仕上げ、槌目（ハンマー）パターン仕上げ、布目（サテン）仕上げ、等であってもよい。好ましくは、テクスチャＴ１はヘアラインである。凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０が一方向に延在する場合、凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の延在方向は特に限定されない。テクスチャＴ１において、凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の延在方向は、図２に示すように圧延方向ＲＤに沿って延在していてもよいし、図示しないが、圧延方向ＲＤに対して交差して延在していてもよい。
【0036】
［複合被膜１１について］
複合被膜１１は、電気亜鉛系めっき層１０上に位置する。つまり、複合被膜１１は、電気亜鉛系めっき層１０上に形成されている。複合被膜１１は、インヒビターとして、有機珪素化合物と、りん酸化合物と、Ｖ化合物と、Ｚｒ化合物及びＴｉ化合物のうちの少なくとも１種以上と、フッ素化合物とを含有する。複合被膜１１は、優れた耐食性を有する。以下、各インヒビターについて説明する。
複合被膜１１は、電気亜鉛系めっき層１０上に位置する。つまり、複合被膜１１は、電気亜鉛系めっき層１０上に形成されている。複合被膜１１は、インヒビターとして、有機珪素化合物と、りん酸化合物と、Ｖ化合物と、Ｚｒ化合物及びＴｉ化合物のうちの少なくとも１種以上と、フッ素化合物とを含有する。複合被膜１１は、優れた耐食性を有する。以下、各インヒビターについて説明する。
【0037】
［有機珪素化合物について］
有機珪素化合物は、環状シロキサン結合を有する。「環状シロキサン結合」とは、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が連続する構成を有し、かつ、Ｓｉ及びＯの結合のみで構成され、Ｓｉ－Ｏの繰り返し数が３～８の環状の構造を意味する。なお、「鎖状シロキサン結合」は、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が連続する構成を有し、かつ、ＳｉとＯの結合のみで構成され、Ｓｉ－Ｏ繰り返し数が３～８の間であって環状ではない構造を意味する。
有機珪素化合物は、環状シロキサン結合を有する。「環状シロキサン結合」とは、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が連続する構成を有し、かつ、Ｓｉ及びＯの結合のみで構成され、Ｓｉ－Ｏの繰り返し数が３～８の環状の構造を意味する。なお、「鎖状シロキサン結合」は、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合が連続する構成を有し、かつ、ＳｉとＯの結合のみで構成され、Ｓｉ－Ｏ繰り返し数が３～８の間であって環状ではない構造を意味する。
【0038】
有機珪素化合物に環状シロキサン結合を含有する場合、複合被膜１１の見かけ架橋密度が高まる。この場合、めっき鋼板１を加工する際に発生する熱による複合被膜１１の分解及び破壊を抑制できる。また、複合被膜１１が密な被膜になるため、めっき鋼板１の耐食性が高まる。さらに、めっき鋼板１の加工時の耐カス性が高まる。ここで、「加工時の耐カス性」とは、めっき鋼板１に対してプレス加工等の加工を実施したときに、めっき鋼板１の表面がプレス金型等により強い摺動を受け、めっき鋼板１の表面を被覆している複合被膜１１から黒いカス状物質が生じて固着、堆積することによってめっき鋼板１の外観（意匠性）を低下することに対する耐性を意味する。
【0039】
本実施形態において、複合被膜１１が含む有機珪素化合物は限定されない。有機珪素化合物は例えば、分子中にアミノ基を１つ含有するシランカップリング剤（Ａ）と、分子中にグリシジル基を１つ含有するシランカップリング剤（Ｂ）を固形分質量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕で０．５～２．０の割合で配合して得られるものである。
【0040】
固形分質量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕が０．５以上であれば、耐指紋性、浴安定性、及び、耐カス性が顕著に向上する。固形分質量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕が２．０以下であれば、耐水性が顕著に向上する。固形分質量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕のさらに好ましい下限は０．９である。固形分質量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕のさらに好ましい上限は１．７であり、さらに好ましくは１．１である。
【0041】
シランカップリング剤（Ａ）はアミノ基を少なくとも１つ含有していれば、特に限定されない。シランカップリング剤（Ａ）は例えば、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン等からなる群から選択される１種以上である。シランカップリング剤（Ｂ）は例えば、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等からなる群から選択される１種以上である。
【0042】
有機珪素化合物の製造方法は、特に限定されない。例えば、ｐＨ４に調整した水に、シランカップリング剤（Ａ）と、シランカップリング剤（Ｂ）とを順次添加し、所定時間攪拌すればよい。
【0043】
［りん酸化合物について］
りん酸化合物は、複合被膜１１の耐食性を高める。りん酸化合物は特に限定されない。りん酸化合物は例えば、りん酸、りん酸アンモニウム塩、りん酸カリウム塩、りん酸ナトリウム塩等からなる群から選択される１種以上である。好ましくは、りん酸化合物は、りん酸である。りん酸を用いる場合、複合被膜１１の耐食性がさらに高まる。
りん酸化合物は、複合被膜１１の耐食性を高める。りん酸化合物は特に限定されない。りん酸化合物は例えば、りん酸、りん酸アンモニウム塩、りん酸カリウム塩、りん酸ナトリウム塩等からなる群から選択される１種以上である。好ましくは、りん酸化合物は、りん酸である。りん酸を用いる場合、複合被膜１１の耐食性がさらに高まる。
【0044】
［Ｖ化合物について］
Ｖ化合物は、複合被膜１１の耐食性を高める。Ｖ化合物はＶを含有した化合物であれば特に限定されない。Ｖ化合物は例えば、五酸化バナジウムＶ２Ｏ５、メタバナジン酸ＨＶＯ３、メタバナジン酸アンモニウム、メタバナジン酸ナトリウム、オキシ三塩化バナジウムＶＯＣｌ３、三酸化バナジウムＶ２Ｏ３、二酸化バナジウムＶＯ２、オキシ硫酸バナジウムＶＯＳＯ４、バナジウムオキシアセチルアセトネートＶＯ（ＯＣ（＝ＣＨ２）ＣＨ２ＣＯＣＨ３）２、バナジウムアセチルアセトネートＶ（ＯＣ（＝ＣＨ２）ＣＨ２ＣＯＣＨ３）３、及び、三塩化バナジウムＶＣｌ３からなる群から選択される１種以上である。Ｖ化合物はまた、水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、１～３級アミノ基、アミド基、りん酸基及びホスホン酸基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有する有機化合物により、５価のバナジウム化合物を４価～２価に還元して生成したものであってもよい。
Ｖ化合物は、複合被膜１１の耐食性を高める。Ｖ化合物はＶを含有した化合物であれば特に限定されない。Ｖ化合物は例えば、五酸化バナジウムＶ２Ｏ５、メタバナジン酸ＨＶＯ３、メタバナジン酸アンモニウム、メタバナジン酸ナトリウム、オキシ三塩化バナジウムＶＯＣｌ３、三酸化バナジウムＶ２Ｏ３、二酸化バナジウムＶＯ２、オキシ硫酸バナジウムＶＯＳＯ４、バナジウムオキシアセチルアセトネートＶＯ（ＯＣ（＝ＣＨ２）ＣＨ２ＣＯＣＨ３）２、バナジウムアセチルアセトネートＶ（ＯＣ（＝ＣＨ２）ＣＨ２ＣＯＣＨ３）３、及び、三塩化バナジウムＶＣｌ３からなる群から選択される１種以上である。Ｖ化合物はまた、水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、１～３級アミノ基、アミド基、りん酸基及びホスホン酸基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有する有機化合物により、５価のバナジウム化合物を４価～２価に還元して生成したものであってもよい。
【0045】
［Ｚｒ化合物及びＴｉ化合物について］
Ｚｒ化合物及びＴｉ化合物はいずれも、複合被膜１１の耐食性を高める。Ｚｒ化合物はＺｒを含有した化合物でであって、Ｚｒの酸化物、水酸化物、錯化合物、無機酸又は有機酸との塩等である。Ｚｒ化合物は例えば、硝酸ジルコニル（ＺｒＯ（ＮＯ３）２）、酢酸ジルコニル、硫酸ジルコニル、炭酸ジルコニウムアンモニウム｛（ＮＨ４）２［Ｚｒ（ＣＯ３）２（ＯＨ）２］｝、ジルコニウムアセテートからなる群から選択される１種以上である。
Ｚｒ化合物及びＴｉ化合物はいずれも、複合被膜１１の耐食性を高める。Ｚｒ化合物はＺｒを含有した化合物でであって、Ｚｒの酸化物、水酸化物、錯化合物、無機酸又は有機酸との塩等である。Ｚｒ化合物は例えば、硝酸ジルコニル（ＺｒＯ（ＮＯ３）２）、酢酸ジルコニル、硫酸ジルコニル、炭酸ジルコニウムアンモニウム｛（ＮＨ４）２［Ｚｒ（ＣＯ３）２（ＯＨ）２］｝、ジルコニウムアセテートからなる群から選択される１種以上である。
【0046】
Ｔｉ化合物はＴｉを含有する化合物であって、Ｔｉの酸化物、水酸化物、錯化合物、無機酸又は有機酸との塩等である。Ｔｉ化合物は例えば、硫酸チタニル（ＴｉＯＳＯ４）、チタンラクテート、ジイソプロポキシチタニウムビスアセチルアセトン｛（Ｃ５Ｈ７Ｏ２）２Ｔｉ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］２｝、乳酸とチタニウムアルコキシドとの反応物からなる群から選択される１種以上である。
【0047】
［フッ素化合物について］
フッ素化合物は、複合被膜１１の耐食性を高める。フッ素化合物は、フッ素を含有する化合物であれば特に限定されない。フッ素化合物は例えば、フッ化水素酸、ホウフッ化水素酸、ケイフッ化水素酸、これらのフッ化物、及び、錯フッ化物塩からなる群から選択される１種以上である。
フッ素化合物は、複合被膜１１の耐食性を高める。フッ素化合物は、フッ素を含有する化合物であれば特に限定されない。フッ素化合物は例えば、フッ化水素酸、ホウフッ化水素酸、ケイフッ化水素酸、これらのフッ化物、及び、錯フッ化物塩からなる群から選択される１種以上である。
【0048】
なお、Ｚｒ化合物及びフッ素化合物は、一体化されていてもよい。具体的には、複合被膜１１は、Ｚｒ化合物及びフッ素化合物を別個の化合物として含有してもよいし、Ｚｒ及びフッ素を含有する化合物を含有していてもよい。例えば、ジルコニウムフッ化水素酸は、Ｚｒ化合物としても作用し、かつ、フッ素化合物としても作用する。したがって、ジルコニウムフッ化水素酸は、Ｚｒ化合物及びフッ素化合物を含む。また、Ｔｉ化合物及びフッ素化合物は、一体化されていてもよい。具体的には、複合被膜１１は、Ｔｉ化合物及びフッ素化合物を別個の化合物として含有してもよいし、Ｔｉ及びフッ素を含有する化合物を含有していてもよい。例えば、チタンフッ化水素酸は、Ｔｉ化合物として作用し、かつ、フッ素化合物としても作用する。したがって、チタンフッ化水素酸は、Ｔｉ化合物及びフッ素化合物を含む。
【0049】
［めっき鋼板１のテクスチャＴ１の凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０について］
図４は、テクスチャＴ１の凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の延在方向に垂直な方向及びめっき鋼板１の板厚方向を含む断面図である。図４を参照して、テクスチャＴ１における凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０は次のとおり定義する。
図４は、テクスチャＴ１の凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の延在方向に垂直な方向及びめっき鋼板１の板厚方向を含む断面図である。図４を参照して、テクスチャＴ１における凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０は次のとおり定義する。
【0050】
高さ方向の表示分解能が１ｎｍ以上であり、かつ、幅方向の表示分解能が１ｎｍ以上であるレーザー顕微鏡（つまり、高さ方向及び幅方向の表示分解能が１ｎｍよりも優れたレーザー顕微鏡）を準備する。レーザー顕微鏡を用いて、倍率５００倍で平面視において、鋼板の各エッジ（各端）から５ｍｍ幅のエッジ近傍領域を除く内部領域内から、凸部Ｃ１０の延在方向に１０ｍｍ、凸部Ｃ１０の延在方向に垂直な方向に１０ｍｍの任意の１箇所の矩形範囲を特定する。特定した矩形範囲内のテクスチャＴ１の複数の凸部Ｃ１０及び複数の凹部Ｒ１０の表面高さプロファイルを測定する。
【0051】
次に、矩形範囲内で得られた表面高さプロファイルを用いて、矩形範囲内において、凸部Ｃ１０の延在方向に１００μｍ間隔で、凸部Ｃ１０の延在方向に垂直な方向及びめっき鋼板１の板厚方向を含む断面（図４参照）を特定する。各断面において、テクスチャＴ１が形成された電気亜鉛系めっき層１０の表面１０Ｓの表面高さプロファイルを求める。求めた表面高さプロファイルのうちの最高高さを有する最高点Ｈｍａｘと最低高さを有する最低点Ｈｍｉｎとを特定する。得られた最高点Ｈｍａｘ及び最低点Ｈｍｉｎを用いて、高低差Ｌを次の式で求める。
高低差Ｌ＝最高点Ｈｍａｘの高さ－最低点Ｈｍｉｎの高さ
高低差Ｌ＝最高点Ｈｍａｘの高さ－最低点Ｈｍｉｎの高さ
【0052】
得られた高低差Ｌの１／３倍の高さ、つまり、Ｌ／３を用いて、上記断面において、凸部Ｃ１０と凹部Ｒ１０とを次のとおり定義する。断面における表面１０Ｓのうち、最低点ＨｍｉｎからＬ／３以上の高さの連続した領域を、１つの凸部Ｃ１０と定義する。最低点ＨｍｉｎからＬ／３未満の高さの連続した領域を、１つの凹部Ｒ１０と定義する。つまり、図４の断面での表面１０Ｓにおいて、最低点ＨｍｉｎからＬ／３の高さであってかつ凸部Ｃ１０の延在方向に垂直な方向（図４では板幅方向ＷＤ）に平行な仮想線分Ｗｒｅｆよりも上方の連続した領域の各々を凸部Ｃ１０と定義し、仮想線分Ｗｒｅｆ以下の連続した領域の各々を凹部Ｒ１０と定義する。
【0053】
［凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａ］
上述の１００μｍ間隔の各断面において、凸部Ｃ１０と認定された表面領域の算術平均粗さＲａ（ｎｍ）を求める。具体的には、断面での表面１０Ｓで特定された各凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａ（ｎｍ）を、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に基づいて求める。評価長さはカットオフ値の５倍とし、カットオフ値λｓは２０μｍとする。各凸部Ｃ１０で得られた算術平均粗さＲａの算術平均値を、その断面での凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａ（ｎｍ）と定義する。１００μｍ間隔の各断面で得られた凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａの算術平均値を、めっき鋼板１の凸部Ｃ１０の算術平均粗さ（ｎｍ）と定義する。
上述の１００μｍ間隔の各断面において、凸部Ｃ１０と認定された表面領域の算術平均粗さＲａ（ｎｍ）を求める。具体的には、断面での表面１０Ｓで特定された各凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａ（ｎｍ）を、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に基づいて求める。評価長さはカットオフ値の５倍とし、カットオフ値λｓは２０μｍとする。各凸部Ｃ１０で得られた算術平均粗さＲａの算術平均値を、その断面での凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａ（ｎｍ）と定義する。１００μｍ間隔の各断面で得られた凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａの算術平均値を、めっき鋼板１の凸部Ｃ１０の算術平均粗さ（ｎｍ）と定義する。
【0054】
本実施形態のめっき鋼板１では、上述の測定方法により得られた凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａが２００ｎｍ以下である。凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａが２００ｎｍを超える場合、電気亜鉛系めっき層１０の表面１０Ｓ上にテクスチャＴ１が十分に形成されていないことを意味する。この場合、めっき鋼板１の意匠性が低くなる。
【0055】
凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａが２００ｎｍ以下であれば、表面１０Ｓ上にテクスチャＴ１が十分に形成されている。そのため、優れた意匠性が得られる。凸部Ｃ１０の算術平均粗さの下限値は特に限定されない。しかしながら、凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａを過剰に低くすれば、製造コストが高くなる。したがって、工業生産を考慮すれば、凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａの好ましい下限は５ｎｍ超である。凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａの好ましい上限は１９０ｎｍであり、さらに好ましくは１８０ｎｍであり、さらに好ましくは１７０ｎｍであり、さらに好ましくは１６０ｎｍである。凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａの好ましい下限は１０ｎｍであり、さらに好ましくは１５ｎｍである。
【0056】
［互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差について］
上述の凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０を特定する各断面において、互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差（μｍ）を次の方法で定義する。
上述の凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０を特定する各断面において、互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差（μｍ）を次の方法で定義する。
【0057】
図４を参照して、凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０を特定した各断面の表面１０Ｓにおいて、互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０に注目する。例えば、図４の凸部Ｃ１０ａと凹部Ｒ１０ａとに注目する。レーザー顕微鏡を用いた上記矩形範囲での表面高さプロファイルに基づいて、凸部Ｃ１０ａの最高高さを求める。図４では、凸部Ｃ１０ａにおいて、点Ｈｃａでの高さが最も高い。さらに、凹部Ｒ１０ａの最低高さを求める。図４では、凹部Ｒ１０ａにおいて、点Ｈｒａでの高さが最も低い。得られた結果に基づいて、凸部Ｃ１０ａと凹部Ｒ１０ａとでの高低差を次のとおり求める。
高低差＝点Ｈｃａでの高さ－点Ｈｒａでの高さ
高低差＝点Ｈｃａでの高さ－点Ｈｒａでの高さ
【0058】
次に、図４において、互いに隣り合う凸部Ｃ１０ａと凹部Ｒ１０ｂとに注目する。レーザー顕微鏡を用いた上記矩形範囲での表面高さプロファイルに基づいて、凸部Ｃ１０ａの最高高さ（点Ｈｃａでの高さ）を求める。さらに、凹部Ｒ１０ｂの最低高さを求める。図４では、凹部Ｒ１０ｂにおいて、点Ｈｒｂでの高さが最も低い。得られた結果に基づいて、凸部Ｃ１０ａと凹部Ｒ１０ｂとでの高低差を次のとおり求める。
高低差＝点Ｈｃａでの高さ－点Ｈｒｂでの高さ
高低差＝点Ｈｃａでの高さ－点Ｈｒｂでの高さ
【0059】
以上のとおり、各断面において、表面１０Ｓ上の互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の高低差を全て求める。そして、求めた高低差の算術平均値を、その断面での互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差（μｍ）とする。上記矩形範囲での全ての断面の平均高低差の算術平均値を、めっき鋼板１での互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差（μｍ）と定義する。
【0060】
本実施形態では、めっき鋼板１での互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差（μｍ）が０．３～３．０μｍである。互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差（μｍ）が０．３μｍ未満であれば、テクスチャＴ１が十分に深く形成されていない。この場合、めっき鋼板１の意匠性が低下する。一方、互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差（μｍ）が３．０μｍを超えれば、テクスチャＴ１が深すぎる。テクスチャが粗くなりすぎて美麗なテクスチャが形成されない。例えば、テクスチャがヘアラインである場合、互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差（μｍ）が３．０μｍを超えれば、ヘアラインが粗くなりすぎて美麗なヘアラインが得られない。その結果、めっき鋼板１の意匠性がかえって低下する。めっき鋼板１での互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差（μｍ）が０．３～３．０μｍであれば、テクスチャＴ１が適切な深さで形成されている。そのため、めっき鋼板１の意匠性が十分に高まる。互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差（μｍ）の好ましい下限は０．４μｍであり、さらに好ましくは０．５μｍであり、さらに好ましくは０．６μｍである。互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差（μｍ）の好ましい上限は２．８μｍであり、さらに好ましくは２．６μｍであり、さらに好ましくは２．４μｍである。
【0061】
［テクスチャＴ１の凹部Ｒ１０の総面積率について］
テクスチャＴ１の凹部Ｒ１０の総面積率は次のとおり定義される。高さ方向の表示分解能が１ｎｍ以上であり、かつ、幅方向の表示分解能が１ｎｍ以上であるレーザー顕微鏡（つまり、高さ方向及び幅方向の表示分解能が１ｎｍよりも優れたレーザー顕微鏡）を準備する。レーザー顕微鏡を用いて、倍率５００倍で平面視において、鋼板の各エッジ（各端）から５ｍｍ幅のエッジ近傍領域を除く内部領域内から、凸部Ｃ１０の延在方向に１０ｍｍ、凸部Ｃ１０の延在方向に垂直な方向に１０ｍｍの任意の１箇所の矩形範囲を特定する。特定した矩形範囲内のテクスチャＴ１の複数の凸部Ｃ１０及び複数の凹部Ｒ１０の表面高さプロファイルを測定する。レーザー顕微鏡は、矩形範囲内のテクスチャＴ１の表面高さプロファイルを、連続した三次元データとして測定できる。
テクスチャＴ１の凹部Ｒ１０の総面積率は次のとおり定義される。高さ方向の表示分解能が１ｎｍ以上であり、かつ、幅方向の表示分解能が１ｎｍ以上であるレーザー顕微鏡（つまり、高さ方向及び幅方向の表示分解能が１ｎｍよりも優れたレーザー顕微鏡）を準備する。レーザー顕微鏡を用いて、倍率５００倍で平面視において、鋼板の各エッジ（各端）から５ｍｍ幅のエッジ近傍領域を除く内部領域内から、凸部Ｃ１０の延在方向に１０ｍｍ、凸部Ｃ１０の延在方向に垂直な方向に１０ｍｍの任意の１箇所の矩形範囲を特定する。特定した矩形範囲内のテクスチャＴ１の複数の凸部Ｃ１０及び複数の凹部Ｒ１０の表面高さプロファイルを測定する。レーザー顕微鏡は、矩形範囲内のテクスチャＴ１の表面高さプロファイルを、連続した三次元データとして測定できる。
【0062】
次に、矩形範囲内で得られた表面高さプロファイルのうちの最高高さを有する最高点Ｈｍａｘと最低高さを有する最低点Ｈｍｉｎとを特定する。得られた最高点Ｈｍａｘ及び最低点Ｈｍｉｎを用いて、高低差Ｌを次の式で求める。
高低差Ｌ＝最高点Ｈｍａｘの高さ－最低点Ｈｍｉｎの高さ
高低差Ｌ＝最高点Ｈｍａｘの高さ－最低点Ｈｍｉｎの高さ
【0063】
得られた高低差Ｌの１／３倍の高さ、つまり、Ｌ／３を用いて、上記断面において、凸部Ｃ１０と凹部Ｒ１０とを次のとおり定義する。断面における表面１０Ｓのうち、最低点ＨｍｉｎからＬ／３超の高さの領域を、凸部Ｃ１０と定義する。最低点ＨｍｉｎからＬ／３以下の高さの領域を、凹部Ｒ１０と定義する。
【0064】
以上の方法により、矩形範囲を平面視した場合における、凹部Ｒ１０の領域を特定できる。そして、特定された凹部Ｒ１０の領域の総面積を求める。たとえば、周知の２値化処理により、表面高さがＬ／３以下の領域（つまり、凹部Ｒ１０）と、表面高さがＬ／３超の領域（つまり凸部Ｃ１０）とを区別する。そして、矩形範囲を平面視した場合における、凹部Ｒ１０の領域の総面積を求める。凹部Ｒ１０領域の総面積と、矩形範囲を平面視した場合における矩形範囲の総面積とに基づいて、凹部Ｒ１０の総面積率（％）を求める。
【0065】
［Ｐ濃化領域被覆比について］
めっき鋼板１の複合被膜１１において、Ｐ濃化領域被覆比を次のとおり定義する。複合被膜１１の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＰ含有量のＺｎ含有量に対する質量比であるＰ／Ｚｎの平均値を、［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅと定義する。そして、複合被膜１１の表面のうち、Ｐ／Ｚｎが［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅの１．２倍以上である領域を、「Ｐ濃化領域」と定義する。Ｐ濃化領域の面積率（％）を、Ｐ濃化領域面積率と定義する。上述のテクスチャＴ１の凹部Ｒ１０の総面積率に対する、Ｐ濃化領域面積率の比を、「Ｐ濃化領域被覆比」と定義する。この場合、本実施形態のめっき鋼板１では、Ｐ濃化領域被覆比が０．２５以上である。
めっき鋼板１の複合被膜１１において、Ｐ濃化領域被覆比を次のとおり定義する。複合被膜１１の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＰ含有量のＺｎ含有量に対する質量比であるＰ／Ｚｎの平均値を、［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅと定義する。そして、複合被膜１１の表面のうち、Ｐ／Ｚｎが［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅの１．２倍以上である領域を、「Ｐ濃化領域」と定義する。Ｐ濃化領域の面積率（％）を、Ｐ濃化領域面積率と定義する。上述のテクスチャＴ１の凹部Ｒ１０の総面積率に対する、Ｐ濃化領域面積率の比を、「Ｐ濃化領域被覆比」と定義する。この場合、本実施形態のめっき鋼板１では、Ｐ濃化領域被覆比が０．２５以上である。
【0066】
Ｐ濃化領域被覆比が０．２５未満であれば、テクスチャＴ１の凹部Ｔ１０上に十分なＰ濃化領域が形成されていない。この場合、めっき鋼板１において、十分な耐食性が得られない。具体的には、Ｐ濃化領域被覆比が０．２５未満であれば、テクスチャＴ１の凹部Ｔ１０において、錆が発生する場合がある。Ｐ濃化領域被覆比が０．２５以上であれば、テクスチャＴ１の凹部Ｔ１０上にＰ濃化領域が十分に形成されている。そのため、めっき鋼板１において、優れた意匠性を確保しつつ、かつ、優れた耐食性が得られる。Ｐ濃化領域被覆比の好ましい下限は０．３０であり、さらに好ましくは０．３５であり、さらに好ましくは０．４０であり、さらに好ましくは０．４５である。Ｐ濃化領域被覆比は１．００が最も好ましい。しかしながら、実際の工業生産においては、Ｐ濃化領域被覆比の上限はたとえば０．９９であってもよいし、０．９５であってもよい。
【0067】
［Ｐ濃化領域被覆比の測定方法］
Ｐ濃化領域被覆比は、次の方法で測定できる。めっき鋼板１を平面視した場合のめっき鋼板１の表面のうち、鋼板の各エッジ（各端）から５ｍｍ幅のエッジ近傍領域を除く内部領域内で特定した上述の矩形範囲において、マイクロ蛍光Ｘ線分析を実施して、矩形範囲の各微小領域でのＰ含有量（質量％）及びＺｎ含有量（質量％）を測定する。具体的には、矩形範囲（１０ｍｍ×１０ｍｍ）を１２８×１２８個の微小領域に区切り、各微小領域でのＰ含有量及びＺｎ含有量を測定する。各微小領域において、Ｐ含有量のＺｎ含有量に対する質量比（Ｐ／Ｚｎ）を求める。矩形範囲で求めた全微小領域のＰ／Ｚｎの算術平均値を［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅとする。
Ｐ濃化領域被覆比は、次の方法で測定できる。めっき鋼板１を平面視した場合のめっき鋼板１の表面のうち、鋼板の各エッジ（各端）から５ｍｍ幅のエッジ近傍領域を除く内部領域内で特定した上述の矩形範囲において、マイクロ蛍光Ｘ線分析を実施して、矩形範囲の各微小領域でのＰ含有量（質量％）及びＺｎ含有量（質量％）を測定する。具体的には、矩形範囲（１０ｍｍ×１０ｍｍ）を１２８×１２８個の微小領域に区切り、各微小領域でのＰ含有量及びＺｎ含有量を測定する。各微小領域において、Ｐ含有量のＺｎ含有量に対する質量比（Ｐ／Ｚｎ）を求める。矩形範囲で求めた全微小領域のＰ／Ｚｎの算術平均値を［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅとする。
【0068】
各微小領域のうち、Ｐ／Ｚｎが［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅの１．２倍以上となる微小領域を「Ｐ濃化領域」と特定する。そして、Ｐ濃化領域の総面積と、矩形範囲の面積とに基づいて、Ｐ濃化領域面積率（％）を求める。
【0069】
求めたＰ濃化領域面積率（％）を、上述のテクスチャＴ１の凹部Ｒ１０の総面積率で除して（＝Ｐ濃化領域面積率／凹部総面積率）、Ｐ濃化領域被覆比を求める。
【0070】
以上のとおり、本実施形態のめっき鋼板１では、複数の凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０を含むテクスチャＴ１が形成された電気亜鉛系めっき層１０と、複合被膜１１とを備え、めっき鋼板１の表面において、テクスチャＴ１の凸部Ｃ１０の平均表面粗さＲａは５超～２００ｎｍであり、テクスチャＴ１において、互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差が０．３～３．０μｍである。そのため、本実施形態のめっき鋼板１は、意匠性に優れる。本実施形態のめっき鋼板１はさらに、Ｐ濃化領域被覆比が０．２５以上である。そのため、本実施形態のめっき鋼板１では、電気亜鉛系めっき層１０及びテクスチャＴ１により、優れた意匠性が得られ、かつ、電気亜鉛系めっき層１０及び複合被膜１１により、優れた耐食性が得られる。つまり、めっき鋼板１では、優れた意匠性及び優れた耐食性の両立が可能である。
【0071】
［複合被膜１１中の好ましい［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅについて］
上述の複合被膜１１の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＰ含有量のＳｉ含有量に対する質量比であるＰ／Ｓｉの平均値を［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅと定義する。複合被膜１１において、好ましくは、［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅは０．１５～０．２５である。
上述の複合被膜１１の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＰ含有量のＳｉ含有量に対する質量比であるＰ／Ｓｉの平均値を［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅと定義する。複合被膜１１において、好ましくは、［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅは０．１５～０．２５である。
【0072】
［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅが０．１５～０．２５であれば、複合被膜１１中でのＰ含有量が十分に高いため、めっき鋼板１の耐食性がさらに高まる。したがって、好ましい［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅは０．１５～０．２５である。［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅのさらに好ましい下限は０．１６であり、さらに好ましくは０．１７である。［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅのさらに好ましい上限は０．２４であり、さらに好ましくは０．２３である。
【0073】
［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅは次の方法で測定できる。めっき鋼板１を平面視した場合のめっき鋼板１の表面のうち、上述のＰ濃化領域を測定した矩形範囲において、マイクロ蛍光Ｘ線分析を実施して、矩形範囲の各微小領域でのＰ含有量（質量％）及びＳｉ含有量（質量％）を測定する。具体的には、矩形範囲（１０ｍｍ×１０ｍｍ）を１２８×１２８個の微小領域に区切り、各微小領域でのＰ含有量及びＳｉ含有量を測定する。各微小領域において、Ｐ含有量のＳｉ含有量に対する質量比（Ｐ／Ｓｉ）を求める。求めたＰ／Ｓｉの算術平均値を［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅと定義する。
【0074】
［複合被膜１１中の好ましい［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅについて］
複合被膜１１が有機珪素化合物とりん酸化合物とを含有するだけでなく、Ｖ化合物も含有する場合、好ましくは、複合被膜１１の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＶ含有量のＳｉ含有量に対する比であるＶ／Ｓｉの平均値を［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅと定義する。この場合、好ましい［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅは０．０６～０．１５である。
複合被膜１１が有機珪素化合物とりん酸化合物とを含有するだけでなく、Ｖ化合物も含有する場合、好ましくは、複合被膜１１の表面に対してマイクロ蛍光Ｘ線分析法による元素分析を実施して得られるＶ含有量のＳｉ含有量に対する比であるＶ／Ｓｉの平均値を［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅと定義する。この場合、好ましい［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅは０．０６～０．１５である。
【0075】
［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅが０．０６～０．１５であれば、複合被膜１１中でのＶ含有量が十分に高いため、めっき鋼板１の耐食性がさらに高まる。したがって、好ましい［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅは０．０６～０．１５である。［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅのさらに好ましい下限は０．０７であり、さらに好ましくは０．０８である。［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅのさらに好ましい上限は０．１４であり、さらに好ましくは０．１３である。
【0076】
［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅは次の方法で測定できる。めっき鋼板１を平面視した場合のめっき鋼板１の表面のうち、上述のＰ濃化領域を測定した矩形範囲において、マイクロ蛍光Ｘ線分析を実施して、矩形範囲の各微小領域でのＰ含有量（質量％）及びＳｉ含有量（質量％）を測定する。具体的には、矩形範囲（１０ｍｍ×１０ｍｍ）を１２８×１２８個の微小領域に区切り、各微小領域でのＶ含有量及びＳｉ含有量を測定する。各微小領域において、Ｖ含有量のＳｉ含有量に対する質量比（Ｖ／Ｓｉ）を求める。求めたＶ／Ｓｉの算術平均値を［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅと定義する。
【0077】
［テクスチャＴ１のパターンについて］
上述の説明では、テクスチャＴ１の一例として、ヘアラインを例に説明した。しかしながら、上述のとおり、テクスチャＴ１はヘアラインに限定されない。例えば、テクスチャＴ１がエンボスパターン、ドットパターン及びバイブレーションからなる群から選択される１種以上であってもよい。
上述の説明では、テクスチャＴ１の一例として、ヘアラインを例に説明した。しかしながら、上述のとおり、テクスチャＴ１はヘアラインに限定されない。例えば、テクスチャＴ１がエンボスパターン、ドットパターン及びバイブレーションからなる群から選択される１種以上であってもよい。
【0078】
［複合被膜１１の好ましい付着量について］
めっき鋼板１における複合被膜１１の好ましい付着量は、０．０５～２．００ｇ／ｍ２である。複合被膜１１の付着量が０．０５ｇ／ｍ２以上であれば、後述の製造方法での複合被膜形成工程（Ｓ４）において、電気亜鉛系めっき層１０の凹部Ｒ１０に複合被膜用組成物が十分に溜まりやすくなる。そのため、Ｐ濃化領域がより有効に形成されやすい。複合被膜１１の付着量が２．００ｇ／ｍ２以下であれば、めっき鋼板に対してプレス加工等の加工を施し、複合皮膜の表面が金型等により強い摺動を受けたときに複合被膜から黒いカス状の物質が生成及び堆積するのを抑制することができ、加工が施された場合であっても、めっき鋼板の意匠性を高めることができる。複合被膜１１の付着量のさらに好ましい下限は０．１０ｇ／ｍ２であり、さらに好ましくは０．３０ｇ／ｍ２である。複合被膜１１の付着量のさらに好ましい上限は１．００ｇ／ｍ２であり、さらに好ましくは０．８０ｇ／ｍ２である。
めっき鋼板１における複合被膜１１の好ましい付着量は、０．０５～２．００ｇ／ｍ２である。複合被膜１１の付着量が０．０５ｇ／ｍ２以上であれば、後述の製造方法での複合被膜形成工程（Ｓ４）において、電気亜鉛系めっき層１０の凹部Ｒ１０に複合被膜用組成物が十分に溜まりやすくなる。そのため、Ｐ濃化領域がより有効に形成されやすい。複合被膜１１の付着量が２．００ｇ／ｍ２以下であれば、めっき鋼板に対してプレス加工等の加工を施し、複合皮膜の表面が金型等により強い摺動を受けたときに複合被膜から黒いカス状の物質が生成及び堆積するのを抑制することができ、加工が施された場合であっても、めっき鋼板の意匠性を高めることができる。複合被膜１１の付着量のさらに好ましい下限は０．１０ｇ／ｍ２であり、さらに好ましくは０．３０ｇ／ｍ２である。複合被膜１１の付着量のさらに好ましい上限は１．００ｇ／ｍ２であり、さらに好ましくは０．８０ｇ／ｍ２である。
【0079】
複合被膜１１の付着量は次の方法で測定できる。複合被膜の原料である複合被膜用組成物を別途乾燥固化する。固化した組成物（標準試料）の質量と、蛍光Ｘ線分析（Ｘ－Ｒａｙ Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｃｅ：ＸＲＦ）で測定されたＳｉ強度との相関をとった検量線を作成する（検量線法）。続いて、複合被膜１１が形成されためっき鋼板１から、サンプルを採取する。サンプルの複合被膜１１に対して蛍光Ｘ線分析を実施して、Ｓｉ強度を得る。得られたＳｉ強度と検量線とに基づいて、複合被膜１１の付着量（ｇ／ｍ２）を求める。
【0080】
［製造方法］
以下、本実施形態のめっき鋼板１の製造方法の一例を説明する。以降に説明する製造方法は、本実施形態のめっき鋼板１を製造するための一例である。したがって、上述の構成を有するめっき鋼板１は、以降に説明する製造方法以外の他の製造方法により製造されてもよい。しかしながら、以降に説明する製造方法は、本実施形態のめっき鋼板１の製造方法の好ましい一例である。
以下、本実施形態のめっき鋼板１の製造方法の一例を説明する。以降に説明する製造方法は、本実施形態のめっき鋼板１を製造するための一例である。したがって、上述の構成を有するめっき鋼板１は、以降に説明する製造方法以外の他の製造方法により製造されてもよい。しかしながら、以降に説明する製造方法は、本実施形態のめっき鋼板１の製造方法の好ましい一例である。
【0081】
めっき鋼板１の製造方法の一例は、母材鋼板１００を準備する工程（母材鋼板準備工程：Ｓ１）と、準備された母材鋼板１００に対して電気亜鉛めっき処理を実施して、母材鋼板１００の表面上に電気亜鉛系めっき層１０を形成する工程（電気亜鉛めっき処理工程：Ｓ２）と、電気亜鉛系めっき層１０の表面にテクスチャＴ１を形成する工程（テクスチャ形成工程：Ｓ３）と、テクスチャＴ１が形成された電気亜鉛系めっき層１０上に複合被膜１１を形成する工程（複合被膜形成工程：Ｓ４）とを含む。以下、各工程について説明する。
【0082】
［母材鋼板準備工程（Ｓ１）］
母材鋼板準備工程（Ｓ１）では、上述の母材鋼板１００を準備する。母材鋼板１００が鋼板である場合、母材鋼板１００は熱延鋼板であってもよいし、冷延鋼板であってもよい。
母材鋼板準備工程（Ｓ１）では、上述の母材鋼板１００を準備する。母材鋼板１００が鋼板である場合、母材鋼板１００は熱延鋼板であってもよいし、冷延鋼板であってもよい。
【0083】
［電気亜鉛めっき処理工程（Ｓ２）］
電気亜鉛めっき処理工程（Ｓ２）では、母材鋼板１００の表面に対して、電気亜鉛系めっき処理を実施して、電気亜鉛系めっき層１０を形成する。
電気亜鉛めっき処理工程（Ｓ２）では、母材鋼板１００の表面に対して、電気亜鉛系めっき処理を実施して、電気亜鉛系めっき層１０を形成する。
【0084】
電気亜鉛系めっき処理は、周知の方法で実施すればよい。電気亜鉛めっき浴、及び、電気亜鉛合金めっき浴は、周知の浴を用いれば足りる。電気めっき浴はたとえば、硫酸浴、塩化物浴、ジンケート浴、シアン化物浴、ピロりん酸浴、ホウ酸浴、クエン酸浴、その他錯体浴及びこれらの組合せ等である。電気亜鉛合金めっき浴はたとえば、Ｚｎイオンの他に、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｒ及びＣから選ばれる１つ以上の単イオン又は錯イオンを含有する。また、レベリング効果や硬度上昇などの所望の効果を得るために適宜有機添加剤などを電気めっき浴に添加してもよい。
【0085】
電気亜鉛系めっき処理における、電気亜鉛めっき浴及び電気亜鉛合金めっき浴の化学組成、温度、流速、及び、めっき処理時の条件（電流密度、通電パターン等）は、適宜調整が可能である。電気亜鉛めっき処理における電気亜鉛系めっき層１０の厚さは、電気亜鉛めっき処理時における電流密度の範囲内で電流値と時間とを調整することにより、調整可能である。
【0086】
以上の製造工程により、母材鋼板１００上に電気亜鉛系めっき層１０が形成される。
【0087】
［テクスチャ形成工程（Ｓ３）］
テクスチャ形成工程（Ｓ３）では、電気亜鉛系めっき層１０の表面に対して周知のテクスチャ加工を実施することにより、電気亜鉛系めっき層１０の表面に対してテクスチャＴ１を形成する。
テクスチャ形成工程（Ｓ３）では、電気亜鉛系めっき層１０の表面に対して周知のテクスチャ加工を実施することにより、電気亜鉛系めっき層１０の表面に対してテクスチャＴ１を形成する。
【0088】
テクスチャＴ１がヘアラインである場合、周知のヘアライン加工を実施する。ヘアライン加工方法はたとえば、周知の研磨ベルトで表面を研磨してヘアラインを形成する方法、周知の砥粒ブラシで表面を研磨してヘアラインを形成する方法、ヘアライン形状を付与したロールで圧延転写してヘアラインを形成する方法等がある。ヘアラインの長さや深さ、頻度は、周知の研磨ベルトの粒度や、周知の砥粒ブラシの粒度やロールの表面形状を調整することにより、調整可能である。なお、ヘアラインを付与する方法としては、表面品質の観点から、研磨ベルト又は砥粒ブラシで表面を研磨してヘアラインを形成することが好ましい。
【0089】
テクスチャＴ１がエンボスパターン、ドットパターン及びバイブレーション等の凹凸形状である場合、ロールを用いた周知の転写方法を実施してもよい。具体的には、エンボスパターン等の凹凸形状のテクスチャＴ１が形成されているロールを準備する。準備されたロールを、めっき鋼板の電気亜鉛系めっき層１０の表面に押し当てて、ロールに形成されている凹凸形状を、電気亜鉛系めっき層１０の表面に転写する。以上の工程により、エンボスパターン等の凹凸形状を電気亜鉛系めっき層１０に形成することができる。
【0090】
テクスチャ形成工程（Ｓ３）において、加工条件を調整することにより、テクスチャＴ１の凸部Ｃ１０の平均表面粗さＲａを５超～２００ｎｍとし、テクスチャＴ１において互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差を０．３～３．０μｍに調整することができる。
【0091】
［複合被膜形成工程（Ｓ４）］
複合被膜形成工程（Ｓ４）では、テクスチャＴ１が形成された電気亜鉛系めっき層１０の表面に、複合被膜１１を形成する。
複合被膜形成工程（Ｓ４）では、テクスチャＴ１が形成された電気亜鉛系めっき層１０の表面に、複合被膜１１を形成する。
【0092】
具体的には、初めに、複合被膜１１用の組成物（薬剤）を準備する。複合被膜用組成物は、加熱炉で乾燥した後の複合被膜１１が上述の組成となるように、有機珪素化合物と、りん酸化合物と、Ｖ化合物と、Ｚｒ化合物及びＴｉ化合物からなる群から選択される１種以上と、フッ素化合物とを含有する。
【0093】
準備された複合被膜用組成物を、めっき鋼板上の電気亜鉛系めっき層１０の表面に塗布する。塗布方法は周知の方法であればよい。塗布方法は例えば、吹き付け法、ロールコーター法、カーテンコーター法等である。
【0094】
電気亜鉛系めっき層１０上に複合被膜用組成物を塗布した後、めっき鋼板を加熱炉内に通板させる。これにより、複合被膜用組成物が乾燥されて固化し、複合被膜１１が形成される。複合被膜形成工程（Ｓ４）では、加熱炉での鋼板最高到達温度（Ｐｅａｋ－Ｍｅｔａｌ－Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ：ＰＭＴ）（℃）、及び、複合被膜用組成物と電気亜鉛系めっき層１０上に塗布してから加熱炉に装入されるまでの時間（以下、保持時間という）（秒）を次の範囲に調整する。
鋼板最高到達温度ＰＭＴ：５０～２５０℃
保持時間：０．５秒以上
以下、各条件について説明する。
鋼板最高到達温度ＰＭＴ：５０～２５０℃
保持時間：０．５秒以上
以下、各条件について説明する。
【0095】
［鋼板最高到達温度ＰＭＴについて］
鋼板最高到達温度ＰＭＴを５０～２５０℃に調整する。ここで、鋼板最高到達温度ＰＭＴとは、加熱炉内での鋼板の最高温度を意味する。鋼板最高到達温度ＰＭＴが５０℃未満であれば、複合被膜用組成物中の溶媒が十分に揮発せず、健全な複合被膜１１が得られない。
鋼板最高到達温度ＰＭＴを５０～２５０℃に調整する。ここで、鋼板最高到達温度ＰＭＴとは、加熱炉内での鋼板の最高温度を意味する。鋼板最高到達温度ＰＭＴが５０℃未満であれば、複合被膜用組成物中の溶媒が十分に揮発せず、健全な複合被膜１１が得られない。
【0096】
一方、鋼板最高到達温度ＰＭＴが２５０℃を超えれば、形成された複合被膜１１の有機鎖の一部が分解してしまう場合がある。
【0097】
鋼板最高到達温度ＰＭＴが５０～２５０℃であれば、複合被膜１１が健全に形成される。鋼板最高到達温度ＰＭＴの好ましい下限は７０℃であり、さらに好ましくは１００℃である。鋼板最高到達温度ＰＭＴの好ましい上限は２００℃であり、さらに好ましくは１５０℃である。鋼板最高到達温度ＰＭＴはたとえば、次の方法で測定する。加熱炉の出側に配置された測温計を用いて、加熱炉を通過した直後のめっき鋼板の温度を測定する。測定された温度を、鋼板最高到達温度ＰＭＴ（℃）と定義する。
【0098】
［保持時間について］
本明細書において保持時間とは、複合被膜用組成物（薬液）が鋼板の電気亜鉛系めっき層１０上に塗布されてから加熱炉に装入されるまでの時間（秒）を意味する。保持時間が０．５秒未満であれば、複合被膜用組成物中のＰがテクスチャＴ１の凹部Ｔ１０上に濃化する前に、複合被膜用組成物中の溶媒の揮発が開始されてしまう。この場合、Ｐ濃化領域が十分に形成されず、Ｐ濃化領域被覆比が０．５０未満になる。
本明細書において保持時間とは、複合被膜用組成物（薬液）が鋼板の電気亜鉛系めっき層１０上に塗布されてから加熱炉に装入されるまでの時間（秒）を意味する。保持時間が０．５秒未満であれば、複合被膜用組成物中のＰがテクスチャＴ１の凹部Ｔ１０上に濃化する前に、複合被膜用組成物中の溶媒の揮発が開始されてしまう。この場合、Ｐ濃化領域が十分に形成されず、Ｐ濃化領域被覆比が０．５０未満になる。
【0099】
保持時間が０．５秒以上であれば、鋼板最高到達温度ＰＭＴが５０～２５０℃であることを前提として、複合被膜用組成物中のＰがテクスチャＴ１の凹部Ｔ１０上に十分に濃化する。この場合、Ｐ濃化領域被覆比が０．５０以上になる。保持時間の好ましい下限は１．０秒である。
【0100】
なお、保持時間の上限については特に限定されない。しかしながら、保持時間が過剰に長ければ、設備投資が過大になったり、生産性が低下したりする。したがって、保持時間の好ましい上限は１０．０秒であり、さらに好ましくは８．０秒である。
【0101】
以上の製造工程により、本実施形態のめっき鋼板１を製造できる。なお、本実施形態のめっき鋼板１は、上記製造方法に限定されず、上述の構成を有するめっき鋼板１が製造できれば、上記製造方法以外の他の製造方法で本実施形態のめっき鋼板１を製造してもよい。ただし、上記製造方法は、本実施形態のめっき鋼板１の製造に好適である。
【実施例1】
【0102】
以下、実施例により本発明の一態様の効果をさらに具体的に説明する。以下の実施例での条件は、本実施形態のめっき鋼板１の実施可能性及び効果を確認するために採用した一条件例である。したがって、本発明はこの一条件例に限定されない。本発明は、本発明の要旨を逸脱せず、本発明の目的を達成する限り、種々の条件を採用し得る。
【0103】
実施例１では、複合被膜を備えるめっき鋼板に対して、外観の意匠性及び耐食性について調査した。
【0104】
表１に示す各試験番号のめっき鋼板を製造した。具体的には、母材鋼板として、ＪＩＳ Ｇ ３１４１（２０１７）に規定されているＳＰＣＣに相当する化学組成の鋼板を準備した。母材鋼板の厚さは０．６ｍｍとした。
【0105】
【表1】
【0106】
各鋼板に対して電気亜鉛めっき処理を実施して、表１に示す組成の電気亜鉛系めっき層を形成した。
【0107】
具体的には、試験番号１～７、１３～１６及び２３～２９では、Ｚｎからなる電気亜鉛系めっき層を母材鋼板上に形成した。具体的には、次の電気亜鉛めっき処理を実施して、Ｚｎからなる電気亜鉛系めっき層を形成した。硫酸Ｚｎ七水和物を１．０ｍｏｌ／ｌと、無水硫酸ナトリウム５０ｇ／Ｌとを含み、ｐＨを２．０に調整しためっき浴を準備した。電気めっきでは、浴温を５０℃とし、電流密度を５０Ａ／ｄｍ２とした。厚さが３．０μｍ程度となるように、めっき時間を調整した。以上の工程により、母材鋼板上に、電気亜鉛系めっき層を形成した。上述のＥＰＭＡ分析法により、電気亜鉛めっき層の化学組成を分析した。その結果、電気亜鉛めっき層の化学組成は、Ｚｎからなる化学組成であり、Ａｌ含有量は０．１％未満であった。表１において、Ｚｎからなる化学組成であり、Ａｌ含有量は０．１％未満である電気亜鉛系めっき層の化学組成を「Ｚｎ」と表記する。
【0108】
試験番号８、９、１７及び１８では、母材鋼板に対して、電気亜鉛合金めっき浴を準備し、Ｚｎ－１２％Ｎｉの電気亜鉛系めっき層を形成した。具体的には、次の電気亜鉛めっき処理を実施して、電気亜鉛系めっき層を形成した。硫酸Ｚｎ七水和物を０．４ｍｏｌ／ｌと、硫酸Ｎｉ六水和物を０．６ｍｏｌ／ｌと、無水硫酸ナトリウム５０ｇ／Ｌとを含み、ｐＨを２．０に調整しためっき浴を準備した。電気めっきでは、浴温を５０℃とし、めっき組成がＺｎ－１２％Ｎｉ、厚さが３．０μｍ程度となるように、電流密度とめっき時間を調整した。以上の工程により、母材鋼板上に、電気亜鉛合金めっき層を形成した。上述のＥＰＭＡ分析法により、電気亜鉛合金めっき層の化学組成を分析した。その結果、電気亜鉛合金めっき層の化学組成は、Ｎｉが１２％であり、残部がＺｎであった。Ｎｉ含有量が１２％であり、残部がＺｎであるめっき層の化学組成を「Ｚｎ－１２Ｎｉ」と表記する。
【0109】
試験番号１０、１９及び２０では、母材鋼板に対して、電気亜鉛合金めっき浴を準備し、Ｚｎ－１４％Ｆｅの電気亜鉛合金めっき層を形成した。具体的には、次の電気亜鉛合金めっき処理を実施して、電気亜鉛合金めっき層を形成した。硫酸Ｚｎ七水和物を０．４ｍｏｌ／ｌと、硫酸Ｆｅ７水和物を０．７ｍｏｌ／ｌと、無水硫酸ナトリウム５０ｇ／Ｌとを含み、ｐＨを１．６に調整しためっき浴を準備した。電気めっきでは、浴温を５０℃とし、めっき組成がＺｎ－１４％Ｆｅ、厚さが３．０μｍ程度となるように、電流密度とめっき時間を調整した。以上の工程により、母材鋼板上に、電気亜鉛合金めっき層を形成した。上述のＥＰＭＡ分析法により、電気亜鉛合金めっき層の化学組成を分析した。その結果、電気亜鉛合金めっき層の化学組成は、Ｆｅが１４％であり、残部がＺｎであった。Ｆｅ含有量が１４％であり、残部がＺｎであるめっき層の化学組成を「Ｚｎ－１４Ｆｅ」と表記する。
【0110】
試験番号１１、１２、２１及び２２では、母材鋼板に対して、電気亜鉛合金めっき浴を準備し、Ｚｎ－２％Ｃｏの電気亜鉛合金めっき層を形成した。具体的には、次の電気亜鉛合金めっき処理を実施して、電気亜鉛合金めっき層を形成した。硫酸Ｚｎ七水和物を０．９ｍｏｌ／ｌと、硫酸Ｃｏ７水和物を０．１ｍｏｌ／ｌと、無水硫酸ナトリウム５０ｇ／Ｌとを含み、ｐＨを１．８に調整しためっき浴を準備した。電気めっきでは、浴温を５０℃とし、めっき組成がＺｎ－２％Ｃｏ、厚さが３．０μｍ程度となるように、電流密度とめっき時間を調整した。以上の工程により、母材鋼板上に、電気亜鉛合金めっき層を形成した。上述のＥＰＭＡ分析法により、電気亜鉛合金めっき層の化学組成を分析した。その結果、電気亜鉛合金めっき層の化学組成は、Ｃｏが２％であり、残部がＺｎであった。Ｃｏ含有量が２％であり、残部がＺｎであるめっき層の化学組成を「Ｚｎ－２Ｃｏ」と表記する。
【0111】
電気亜鉛系めっき層が形成された試験番号２～２９の鋼板に対して、テクスチャ形成工程を実施して、電気亜鉛系めっき層の表面上にテクスチャを形成した。具体的には、周知のテクスチャ形成工程を実施して、電気亜鉛系めっき層の表面上にヘアラインを形成した。なお、試験番号１の鋼板に対しては、テクスチャ形成工程を実施しなかった。
【0112】
テクスチャ形成工程を実施しなかった試験番号１の鋼板、及び、ヘアラインが形成された試験番号２～２９の鋼板に対して、ロールコーターで所定の付着量となるように複合被膜用組成物（薬液）を塗布し、表１に示す鋼板最高到達温度ＰＭＴ及び保持時間で複合被膜形成工程を実施して、複合被膜を形成した。
【0113】
試験番号１～２４及び２９の複合被膜用組成物を、次のとおり準備した。シランカップリング剤（Ａ）：３－アミノプロピルトリメトキシシラン、及び、シランカップリング剤（Ｂ）：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランを準備し、固形分質量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕＝１．０の割合でｐＨ４に調整した水に添加し、所定時間攪拌して有機珪素化合物を製造した。なお、製造された有機珪素化合物は、環状シロキサン結合を有する化合物であった。
【0114】
試験番号１～２２の複合被膜用組成物は、製造した上記有機珪素化合物と、りん酸化合物であるりん酸と、Ｖ化合物であるオキシ硫酸バナジウム（ＶＯＳＯ４）と、Ｚｒ化合物及びフッ素化合物であるジルコニウムフッ化水素酸とを含有した。
【0115】
試験番号２３の複合被膜用組成物は、製造した上記有機珪素化合物と、りん酸化合物であるりん酸と、Ｖ化合物であるオキシ硫酸バナジウム（ＶＯＳＯ４）と、Ｔｉ化合物及びフッ素化合物であるチタンフッ化水素酸を含有した。
【0116】
試験番号２４の複合被膜用組成物は、製造した上記有機珪素化合物と、りん酸化合物であるりん酸と、Ｖ化合物であるオキシ硫酸バナジウム（ＶＯＳＯ４）と、Ｚｒ化合物及びフッ素化合物であるジルコニウムフッ化水素酸と、Ｔｉ化合物及びフッ素化合物であるチタンフッ化水素酸を含有した。
【0117】
試験番号２５の複合被膜用組成物を、次のとおり準備した。シランカップリング剤（Ａ）：３－アミノプロピルトリメトキシシラン、及び、シランカップリング剤（Ｂ）：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランを準備し、固形分質量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕＝２．０の割合でｐＨ４に調整した水に添加し、所定時間攪拌して有機珪素化合物を製造した。なお、製造された有機珪素化合物は、環状シロキサン結合を有する化合物であった。試験番号２５の複合被膜用組成物は、上記有機珪素化合物と、りん酸化合物であるりん酸と、Ｖ化合物であるオキシ硫酸バナジウム（ＶＯＳＯ４）と、Ｚｒ化合物及びフッ素化合物であるジルコニウムフッ化水素酸とを含有した。
【0118】
試験番号２６の複合被膜用組成物を、次のとおり準備した。シランカップリング剤（Ａ）：３－アミノプロピルトリメトキシシラン、及び、シランカップリング剤（Ｂ）：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランを準備し、固形分質量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕＝０．７の割合でｐＨ４に調整した水に添加し、所定時間攪拌して有機珪素化合物を製造した。なお、製造された有機珪素化合物は、環状シロキサン結合を有する化合物であった。試験番号２６の複合被膜用組成物は、上記有機珪素化合物と、りん酸化合物であるりん酸と、Ｖ化合物であるオキシ硫酸バナジウム（ＶＯＳＯ４）と、Ｚｒ化合物及びフッ素化合物であるジルコニウムフッ化水素酸とを含有した。
【0119】
試験番号２７の複合被膜用組成物を、次のとおり準備した。シランカップリング剤（Ａ）：３－アミノプロピルトリエトキシシラン、及び、シランカップリング剤（Ｂ）：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランを準備し、固形分質量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕＝１．０の割合でｐＨ４に調整した水に添加し、所定時間攪拌して有機珪素化合物を製造した。なお、製造された有機珪素化合物は、環状シロキサン結合を有する化合物であった。試験番号２７の複合被膜用組成物は、上記有機珪素化合物と、りん酸化合物であるりん酸と、Ｖ化合物であるオキシ硫酸バナジウム（ＶＯＳＯ４）と、Ｚｒ化合物及びフッ素化合物であるジルコニウムフッ化水素酸とを含有した。
【0120】
試験番号２８の複合被膜用組成物を、次の方法で準備した。シランカップリング剤（Ａ）：３－アミノプロピルトリエトキシシラン、及び、シランカップリング剤（Ｂ）：３－グリシドキシプロピルエリメトキシシランを準備し、固形分質量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕＝１．０の割合でｐＨ４に調整した水に添加し、所定時間攪拌して有機珪素化合物を製造した。なお、製造された有機珪素化合物は、環状シロキサン結合を有する化合物であった。試験番号２８の複合被膜用組成物は、上記有機珪素化合物と、りん酸化合物であるりん酸と、Ｖ化合物であるオキシ硫酸バナジウム（ＶＯＳＯ４）と、Ｚｒ化合物及びフッ素化合物であるジルコニウムフッ化水素酸とを含有した。
【0121】
試験番号２９の複合被膜用組成物は、上記有機珪素化合物と、りん酸化合物であるりん酸と、Ｖ化合物であるバナジウムオキシアセチルアセトネートＶＯ（ＯＣ（＝ＣＨ２）ＣＨ２ＣＯＣＨ３）と、Ｚｒ化合物及びフッ素化合物であるジルコニウムフッ化水素酸とを含有した。
【0122】
いずれの試験番号においても、鋼板最高到達温度ＰＭＴは適切であった。一方、試験番号１～６、８、９、１１～２９では保持時間が適切であったものの、試験番号７及び１０では保持時間が短すぎた。
【0123】
以上の方法により、めっき鋼板を製造した。製造されためっき鋼板に対して、次の評価試験を実施した。
【0124】
［評価試験］
［テクスチャの凸部の算術平均粗さＲａ測定試験］
各試験番号のめっき鋼板に対して、テクスチャの凸部の算術平均粗さＲａを次の方法で求めた。
［テクスチャの凸部の算術平均粗さＲａ測定試験］
各試験番号のめっき鋼板に対して、テクスチャの凸部の算術平均粗さＲａを次の方法で求めた。
【0125】
高さ方向の表示分解能が１ｎｍ以上であり、かつ、幅方向の表示分解能が１ｎｍ以上であるキーエンス社製レーザー顕微鏡（商品名：ＶＫ－９７１０）を準備した。レーザー顕微鏡を用いて、倍率５００倍で平面視において、鋼板の各エッジ（各端）から５ｍｍ幅のエッジ近傍領域を除く内部領域内から、凸部Ｃ１０の延在方向に１０ｍｍ、凸部Ｃ１０の延在方向に垂直な方向に１０ｍｍの１つの矩形範囲を特定した。特定した矩形範囲内のテクスチャの複数の凸部Ｃ１０及び複数の凹部Ｒ１０の表面高さプロファイルを測定した。
【0126】
次に、矩形範囲内で得られた表面高さプロファイルを用いて、矩形範囲内において、凸部の延在方向に１００μｍ間隔で、凸部の延在方向に垂直な方向及びめっき鋼板の板厚方向を含む断面（図４参照）における、テクスチャが形成された電気亜鉛系めっき層の表面高さプロファイルを求めた。求めた表面高さプロファイルのうちの最高高さを有する最高点Ｈｍａｘと最低高さを有する最低点Ｈｍｉｎとを特定した。得られた最高点Ｈｍａｘ及び最低点Ｈｍｉｎを用いて、高低差Ｌを次の式で求めた。
高低差Ｌ＝最高点Ｈｍａｘの高さ－最低点Ｈｍｉｎの高さ
高低差Ｌ＝最高点Ｈｍａｘの高さ－最低点Ｈｍｉｎの高さ
【0127】
得られた高低差Ｌの１／３倍の高さ、つまり、Ｌ／３を用いて、上記断面において、凸部と凹部とを次のとおり定義した。断面における表面のうち、最低点ＨｍｉｎからＬ／３以上の高さの連続した領域を、１つの凸部Ｃ１０と定義した。最低点ＨｍｉｎからＬ／３未満の高さの連続した領域を、１つの凹部Ｒ１０と定義した。つまり、図４の断面での表面１０Ｓにおいて、最低点ＨｍｉｎからＬ／３の高さであってかつ凸部の延在方向に垂直な方向（図４では板幅方向ＷＤ）に平行な仮想線分Ｗｒｅｆよりも上方の連続した領域の各々を凸部Ｃ１０と定義し、仮想線分Ｗｒｅｆ以下の連続した領域の各々を凹部Ｒ１０と定義した。
【0128】
上述の１００μｍ間隔の各断面において、凸部Ｃ１０と認定された表面領域の算術平均粗さＲａ（ｎｍ）を求める。具体的には、断面での表面１０Ｓで特定された各凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａ（ｎｍ）を、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に基づいて求める。評価長さはカットオフ値の５倍とし、カットオフ値λｓは２０μｍとした。各凸部Ｃ１０で得られた算術平均粗さＲａの算術平均値を、その断面での凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａ（ｎｍ）と定義する。１００μｍ間隔の各断面で得られた凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａの算術平均値を、めっき鋼板１の凸部Ｃ１０の算術平均粗さ（ｎｍ）と定義した。得られた凸部Ｃ１０の算術平均粗さＲａ（ｎｍ）を表１に示す。
【0129】
［互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差測定試験］
各試験番号のめっき鋼板において、互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差を次の方法で求めた。
各試験番号のめっき鋼板において、互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差を次の方法で求めた。
【0130】
図４を参照して、凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０を特定した上述の各断面の表面１０Ｓにおいて、互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０に注目した。互いに隣り合う凸部Ｃ１０ａと凹部Ｒ１０ａとに注目し、レーザー顕微鏡を用いた上記矩形範囲での表面高さプロファイルに基づいて、凸部Ｃ１０ａでの最高高さを求めた。さらに、凹部Ｒ１０ａでの最低高さを求めた。得られた結果に基づいて、凸部Ｃ１０ａと凹部Ｒ１０ａとでの高低差を次のとおり求めた。
高低差＝凸部Ｃ１０ａでの最高高さ－凹部Ｒ１０での最低高さ
高低差＝凸部Ｃ１０ａでの最高高さ－凹部Ｒ１０での最低高さ
【0131】
同様に、互いに隣り合う他の凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０に対しても、高低差を求めた。各断面において、表面１０Ｓ上の互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の高低差を全て求めた。そして、求めた高低差の算術平均値を、その断面での互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差（μｍ）とした。上記矩形範囲での全ての断面の平均高低差の算術平均値を、めっき鋼板１での互いに隣り合う凸部Ｃ１０及び凹部Ｒ１０の平均高低差（μｍ）と定義した。平均高低差（μｍ）を表１に示す。
【0132】
［複合被膜付着量測定試験］
各試験番号のめっき鋼板の複合被膜の付着量を次の方法で求めた。各試験番号ごとに、複合被膜の原料である複合被膜用組成物を別途乾燥固化した。固化した組成物（標準試料）の質量と、ＸＲＦで測定されたＳｉ強度との相関をとった検量線を作成した（検量線法）。続いて、複合被膜が形成されためっき鋼板から、サンプルを採取した。サンプルの複合被膜に対して蛍光Ｘ線分析を実施して、Ｓｉ強度を得た。得られたＳｉ強度と検量線とに基づいて、複合被膜の付着量（ｇ／ｍ２）を求めた。
各試験番号のめっき鋼板の複合被膜の付着量を次の方法で求めた。各試験番号ごとに、複合被膜の原料である複合被膜用組成物を別途乾燥固化した。固化した組成物（標準試料）の質量と、ＸＲＦで測定されたＳｉ強度との相関をとった検量線を作成した（検量線法）。続いて、複合被膜が形成されためっき鋼板から、サンプルを採取した。サンプルの複合被膜に対して蛍光Ｘ線分析を実施して、Ｓｉ強度を得た。得られたＳｉ強度と検量線とに基づいて、複合被膜の付着量（ｇ／ｍ２）を求めた。
【0133】
［テクスチャの凹部の総面積率測定試験］
各試験番号のめっき鋼板１における凹部の総面積率を次の方法で求めた。高さ方向の表示分解能が１ｎｍ以上であり、かつ、幅方向の表示分解能が１ｎｍ以上であるキーエンス社製レーザー顕微鏡（商品名：ＶＫ－９７１０）を準備した。レーザー顕微鏡を用いて、倍率５００倍で平面視において、鋼板の各エッジ（各端）から５ｍｍ幅のエッジ近傍領域を除く内部領域内から、凸部Ｃ１０の延在方向に１０ｍｍ、凸部Ｃ１０の延在方向に垂直な方向に１０ｍｍの１つの矩形範囲を特定した。特定した矩形範囲内のテクスチャＴ１の複数の凸部Ｃ１０及び複数の凹部Ｒ１０の表面高さプロファイルを測定した。レーザー顕微鏡は、矩形範囲内のテクスチャＴ１の表面高さプロファイルを、連続した三次元データとして測定した。
各試験番号のめっき鋼板１における凹部の総面積率を次の方法で求めた。高さ方向の表示分解能が１ｎｍ以上であり、かつ、幅方向の表示分解能が１ｎｍ以上であるキーエンス社製レーザー顕微鏡（商品名：ＶＫ－９７１０）を準備した。レーザー顕微鏡を用いて、倍率５００倍で平面視において、鋼板の各エッジ（各端）から５ｍｍ幅のエッジ近傍領域を除く内部領域内から、凸部Ｃ１０の延在方向に１０ｍｍ、凸部Ｃ１０の延在方向に垂直な方向に１０ｍｍの１つの矩形範囲を特定した。特定した矩形範囲内のテクスチャＴ１の複数の凸部Ｃ１０及び複数の凹部Ｒ１０の表面高さプロファイルを測定した。レーザー顕微鏡は、矩形範囲内のテクスチャＴ１の表面高さプロファイルを、連続した三次元データとして測定した。
【0134】
次に、矩形範囲内で得られた表面高さプロファイルのうちの最高高さを有する最高点Ｈｍａｘと最低高さを有する最低点Ｈｍｉｎとを特定した。得られた最高点Ｈｍａｘ及び最低点Ｈｍｉｎを用いて、高低差Ｌを次の式で求めた。
高低差Ｌ＝最高点Ｈｍａｘの高さ－最低点Ｈｍｉｎの高さ
高低差Ｌ＝最高点Ｈｍａｘの高さ－最低点Ｈｍｉｎの高さ
【0135】
得られた高低差Ｌの１／３倍の高さ、つまり、Ｌ／３を用いて、上記断面において、凸部Ｃ１０と凹部Ｒ１０とを次のとおり定義した。断面における表面１０Ｓのうち、最低点ＨｍｉｎからＬ／３以上の高さの領域を、凸部Ｃ１０と定義した。最低点ＨｍｉｎからＬ／３未満の高さの領域を、凹部Ｒ１０と定義した。
【0136】
以上の方法により、矩形範囲を平面視した場合における、凹部Ｒ１０の領域を特定できる。そして、特定された凹部Ｒ１０の領域の総面積を求めた。具体的には、周知の２値化処理により、表面高さがＬ／３以下の領域（つまり、凹部Ｒ１０）と、表面高さがＬ／３超の領域（つまり凸部Ｃ１０）とを区別した。そして、矩形範囲を平面視した場合における、凹部Ｒ１０の領域の総面積を求めた。凹部Ｒ１０領域の総面積と、矩形範囲を平面視した場合における矩形範囲の総面積とに基づいて、凹部Ｒ１０の総面積率（％）を求めた。
【0137】
［Ｐ濃化領域被覆比の測定試験］
次の方法により、各試験番号のめっき鋼板の表面でのＰ濃化領域被覆比を求めた。めっき鋼板を平面視した場合のめっき鋼板の表面のうち、凹部Ｒ１０の総面積率を求めた矩形範囲において、マイクロ蛍光Ｘ線分析を実施して、矩形範囲の各微小領域でのＰ含有量（質量％）及びＺｎ含有量（質量％）を測定した。具体的には、矩形範囲（１０ｍｍ×１０ｍｍ）を１２８×１２８個の微小領域に区切り、各微小領域でのＰ含有量及びＺｎ含有量を測定した。各微小領域において、Ｐ含有量のＺｎ含有量に対する質量比（Ｐ／Ｚｎ）を求めた。求めたＰ／Ｚｎの算術平均値を［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅとした。
次の方法により、各試験番号のめっき鋼板の表面でのＰ濃化領域被覆比を求めた。めっき鋼板を平面視した場合のめっき鋼板の表面のうち、凹部Ｒ１０の総面積率を求めた矩形範囲において、マイクロ蛍光Ｘ線分析を実施して、矩形範囲の各微小領域でのＰ含有量（質量％）及びＺｎ含有量（質量％）を測定した。具体的には、矩形範囲（１０ｍｍ×１０ｍｍ）を１２８×１２８個の微小領域に区切り、各微小領域でのＰ含有量及びＺｎ含有量を測定した。各微小領域において、Ｐ含有量のＺｎ含有量に対する質量比（Ｐ／Ｚｎ）を求めた。求めたＰ／Ｚｎの算術平均値を［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅとした。
【0138】
各微小領域のうち、Ｐ／Ｚｎが［Ｐ／Ｚｎ］ａｖｅの１．２倍以上となる微小領域を「Ｐ濃化領域」と特定した。そして、Ｐ濃化領域の総面積と、矩形範囲の面積とに基づいて、Ｐ濃化領域面積率（％）を求めた。
【0139】
求めたＰ濃化領域面積率（％）を、上述のテクスチャの凹部Ｒ１０の総面積率で除して（＝Ｐ濃化領域面積率／凹部総面積率）、Ｐ濃化領域被覆比を求めた。
【0140】
［耐食性評価試験］
各試験番号のめっき鋼板に対して、次の方法により、耐食性（長期耐食性）を評価した。各試験番号のめっき鋼板から、７５ｍｍ×１００ｍｍの試験片を１０枚採取した。試験片の端面及び裏面をテープシールで保護した。次に、試験片に対して、３５℃に保持された５％ＮａＣｌの塩水噴霧試験を、ＪＩＳ Ｚ ２３７１（２０１５）に準拠して実施した。１０枚の試験片について塩水噴霧試験を２４０時間継続した。２４０時間経過後の試各験片において、鋼板表面に形成された錆の面積率（％）（以下、錆面積率という）を求めた。錆面積率は、錆領域の面積を、鋼板表面の面積で除して得た。各試験片の錆面積率に応じて、耐食性を次のとおり評価した。
評価Ａ：全ての試験片の錆面積率が３％以下である。
評価Ｂ：試験片のうち、錆面積率が３％超の試験片が１枚以上あり、かつ、全ての試験片の錆面積率が１０％以下である。
評価Ｃ：試験片のうち、錆面積率が１０％超の試験片が１枚以上あり、かつ、全ての試験片の錆面積率が１５％以下である。
評価Ｘ：試験片のうち、錆面積率が１５％超の試験片が１枚以上ある
評価Ａ～Ｃである場合、耐食性に優れると判断した（表１及び表２中の「耐食性」欄で「Ａ」又は「Ｂ」又は「Ｃ」）。評価Ｘの場合、耐食性が低いと判断した（表１及び表２中の「耐食性」欄で「Ｘ」）。
各試験番号のめっき鋼板に対して、次の方法により、耐食性（長期耐食性）を評価した。各試験番号のめっき鋼板から、７５ｍｍ×１００ｍｍの試験片を１０枚採取した。試験片の端面及び裏面をテープシールで保護した。次に、試験片に対して、３５℃に保持された５％ＮａＣｌの塩水噴霧試験を、ＪＩＳ Ｚ ２３７１（２０１５）に準拠して実施した。１０枚の試験片について塩水噴霧試験を２４０時間継続した。２４０時間経過後の試各験片において、鋼板表面に形成された錆の面積率（％）（以下、錆面積率という）を求めた。錆面積率は、錆領域の面積を、鋼板表面の面積で除して得た。各試験片の錆面積率に応じて、耐食性を次のとおり評価した。
評価Ａ：全ての試験片の錆面積率が３％以下である。
評価Ｂ：試験片のうち、錆面積率が３％超の試験片が１枚以上あり、かつ、全ての試験片の錆面積率が１０％以下である。
評価Ｃ：試験片のうち、錆面積率が１０％超の試験片が１枚以上あり、かつ、全ての試験片の錆面積率が１５％以下である。
評価Ｘ：試験片のうち、錆面積率が１５％超の試験片が１枚以上ある
評価Ａ～Ｃである場合、耐食性に優れると判断した（表１及び表２中の「耐食性」欄で「Ａ」又は「Ｂ」又は「Ｃ」）。評価Ｘの場合、耐食性が低いと判断した（表１及び表２中の「耐食性」欄で「Ｘ」）。
【0141】
［意匠性評価試験］
各試験番号のめっき鋼板に対して、次の方法で意匠性を評価した。各試験番号のめっき鋼板の任意の点において、テクスチャ（ヘアライン）と平行方向の光沢度Ｇ６０（Ｇｌ）と、テクスチャ（ヘアライン）と直行方向の光沢度Ｇ６０（Ｇｃ）とを光沢度計で測定した。光沢度計は、スガ試験機株式会社製のグロスメーター（商品名：ＵＧＶ－６Ｐ）を用いた。得られた光沢度Ｇｌと、光沢度Ｇｃとに基づいて、Ｇｃ／Ｇｌを求めた。０．３０≦Ｇｃ／Ｇｌ＜０．８５の範囲内となった場合、意匠性に優れると判断した（表１中で評価「優」）。Ｇｃ／Ｇｌが０．３０未満である場合、又は、Ｇｃ／Ｇｌが０．８５以上である場合、意匠性が低いと判断した（表１中で評価「不可」）。
各試験番号のめっき鋼板に対して、次の方法で意匠性を評価した。各試験番号のめっき鋼板の任意の点において、テクスチャ（ヘアライン）と平行方向の光沢度Ｇ６０（Ｇｌ）と、テクスチャ（ヘアライン）と直行方向の光沢度Ｇ６０（Ｇｃ）とを光沢度計で測定した。光沢度計は、スガ試験機株式会社製のグロスメーター（商品名：ＵＧＶ－６Ｐ）を用いた。得られた光沢度Ｇｌと、光沢度Ｇｃとに基づいて、Ｇｃ／Ｇｌを求めた。０．３０≦Ｇｃ／Ｇｌ＜０．８５の範囲内となった場合、意匠性に優れると判断した（表１中で評価「優」）。Ｇｃ／Ｇｌが０．３０未満である場合、又は、Ｇｃ／Ｇｌが０．８５以上である場合、意匠性が低いと判断した（表１中で評価「不可」）。
【0142】
［評価結果］
表１を参照して、試験番号５、６、８、９、１１～２９では、テクスチャの凸部の算術平均粗さＲａが５超～２００ｎｍの範囲内であり、テクスチャで互いに隣り合う凸部及び凹部の平均高低差が０．３～３．０μｍの範囲内であった。さらに、Ｐ濃化領域被覆比が０．２５以上であった。そのため、意匠性に優れ、耐食性にも優れた。
表１を参照して、試験番号５、６、８、９、１１～２９では、テクスチャの凸部の算術平均粗さＲａが５超～２００ｎｍの範囲内であり、テクスチャで互いに隣り合う凸部及び凹部の平均高低差が０．３～３．０μｍの範囲内であった。さらに、Ｐ濃化領域被覆比が０．２５以上であった。そのため、意匠性に優れ、耐食性にも優れた。
【0143】
一方、試験番号１では、テクスチャ形成工程を実施せず、電気亜鉛系めっき層の表面にテクスチャを形成しなかった。そのため、テクスチャの凸部の算術平均粗さＲａが２００ｎｍを超え、意匠性が低かった。
【0144】
試験番号２では複合被膜の付着量が少なすぎ、そのため、Ｐ濃化領域被覆比が０．２５未満となった。その結果、意匠性に優れるものの、耐食性が低かった。
【0145】
試験番号３では、テクスチャで互いに隣り合う凸部及び凹部の平均高低差が０．３μｍ未満であった。その結果、耐食性に優れるものの、意匠性も低かった。
【0146】
試験番号４では、テクスチャで互いに隣り合う凸部及び凹部の平均高低差が３．０μｍを超えた。その結果、耐食性に優れるものの、意匠性が低かった。
【0147】
試験番号７及び１０は、テクスチャ形成工程での保持時間が短すぎた。そのため、いずれの試験番号においても、Ｐ濃化領域被覆比が０．２５未満となった。その結果、意匠性に優れるものの、耐食性が低かった。
【実施例2】
【0148】
実施例２では、めっき鋼板の複合被膜の［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅ及び［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅと、耐食性との関係を調査した。
【0149】
表２に示す各試験番号のめっき鋼板を製造した。具体的には、母材鋼板として、ＪＩＳ Ｇ ３１４１（２０１７）に規定されているＳＰＣＣに相当する化学組成の鋼板を準備した。母材鋼板の厚さは０．６ｍｍとした。
【0150】
【表2】
【0151】
各鋼板に対して電気亜鉛めっき処理を実施して、表２に示す組成の電気亜鉛系めっき層を形成した。
【0152】
具体的には、試験番号１～３、５～７、９、１１及び１２では、実施例１の試験番号１と同じ条件で電気亜鉛めっき処理を実施し、厚さが３．０μｍ程度となるように、めっき時間を調整した。以上の工程により、母材鋼板上に、電気亜鉛系めっき層を形成した。上述のＥＰＭＡ分析法により、電気亜鉛めっき層の化学組成を分析した。その結果、電気亜鉛めっき層の化学組成は、Ｚｎからなる化学組成であり、Ａｌ含有量は０．１％未満であった。
【0153】
試験番号４では、実施例１の試験番号８と同じ条件で電気亜鉛めっき処理を実施し、めっき組成がＺｎ－１２％Ｎｉ、厚さが３．０μｍ程度となるように、電流密度とめっき時間を調整した。以上の工程により、母材鋼板上に、電気亜鉛合金めっき層を形成した。上述のＥＰＭＡ分析法により、電気亜鉛合金めっき層の化学組成を分析した。その結果、電気亜鉛合金めっき層の化学組成は、Ｎｉが１２％であり、残部がＺｎであった。
【0154】
試験番号８では、実施例１の試験番号１０と同じ条件で電気亜鉛めっき処理を実施し、めっき組成がＺｎ－１４％Ｆｅ、厚さが３．０μｍ程度となるように、電流密度とめっき時間を調整した。以上の工程により、母材鋼板上に、電気亜鉛合金めっき層を形成した。上述のＥＰＭＡ分析法により、電気亜鉛合金めっき層の化学組成を分析した。その結果、電気亜鉛合金めっき層の化学組成は、Ｆｅが１４％であり、残部がＺｎであった。
た。
た。
【0155】
試験番号１０では、実施例１の試験番号１０と同じ条件で電気亜鉛めっき処理を実施し、めっき組成がＺｎ－２％Ｃｏ、厚さが３．０μｍ程度となるように、電流密度とめっき時間を調整した。以上の工程により、母材鋼板上に、電気亜鉛合金めっき層を形成した。上述のＥＰＭＡ分析法により、電気亜鉛合金めっき層の化学組成を分析した。その結果、電気亜鉛合金めっき層の化学組成は、Ｃｏが２％であり、残部がＺｎであった。
【0156】
電気亜鉛系めっき層が形成された試験番号１～１２の鋼板に対して、テクスチャ形成工程を実施して、電気亜鉛系めっき層の表面上にテクスチャを形成した。具体的には、周知のテクスチャ形成工程を実施して、電気亜鉛系めっき層の表面上にヘアラインを形成した。
【0157】
ヘアラインが形成された試験番号１～１２の鋼板に対して、ロールコーターで所定の付着量となるように複合被膜用組成物（薬液）を塗布し、表２に示す鋼板最高到達温度ＰＭＴ及び保持時間で複合被膜形成工程を実施して、複合被膜を形成した。
【0158】
複合被膜用組成物は、次のとおり準備した。シランカップリング剤（Ａ）：３－アミノプロピルトリメトキシシラン、及び、シランカップリング剤（Ｂ）：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランを準備し、固形分質量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕＝１．０の割合でｐＨ４に調整した水に添加し、所定時間攪拌して有機珪素化合物を製造した。
【0159】
試験番号１～１２の複合被膜用組成物は、製造した上記有機珪素化合物と、りん酸化合物であるりん酸と、Ｖ化合物であるオキシ硫酸バナジウム（ＶＯＳＯ４）と、Ｚｒ化合物及びフッ素化合物であるジルコニウムフッ化水素酸とを含有した。
【0160】
以上の方法により、めっき鋼板を製造した。製造されためっき鋼板に対して、実施例１と同様に、テクスチャの凸部の算術平均粗さＲａ（ｎｍ）、テクスチャで互いに隣り合う凸部及び凹部の平均高低差（μｍ）、Ｐ濃化領域被覆比を求めた。さらに、次の方法により、めっき鋼板の複合被膜の［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅ及び［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅを求めた。
【0161】
［［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅ測定試験］
各試験番号において、めっき鋼板を平面視した場合のめっき鋼板表面のうち、上述のＰ濃化領域総面積率を測定した矩形範囲において、マイクロ蛍光Ｘ線分析を実施して、各矩形範囲の各微小領域でのＰ含有量（質量％）及びＳｉ含有量（質量％）を測定した。具体的には、矩形範囲（１０ｍｍ×１０ｍｍ）を１２８×１２８個の微小領域に区切り、各微小領域でのＰ含有量及びＳｉ含有量を測定した。各微小領域において、Ｐ含有量のＳｉ含有量に対する質量比（Ｐ／Ｓｉ）を求めた。求めたＰ／Ｓｉの算術平均値を［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅと定義した。
各試験番号において、めっき鋼板を平面視した場合のめっき鋼板表面のうち、上述のＰ濃化領域総面積率を測定した矩形範囲において、マイクロ蛍光Ｘ線分析を実施して、各矩形範囲の各微小領域でのＰ含有量（質量％）及びＳｉ含有量（質量％）を測定した。具体的には、矩形範囲（１０ｍｍ×１０ｍｍ）を１２８×１２８個の微小領域に区切り、各微小領域でのＰ含有量及びＳｉ含有量を測定した。各微小領域において、Ｐ含有量のＳｉ含有量に対する質量比（Ｐ／Ｓｉ）を求めた。求めたＰ／Ｓｉの算術平均値を［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅと定義した。
【0162】
［［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅ測定試験］
各試験番号において、めっき鋼板を平面視した場合のめっき鋼板表面のうち、上述のＰ濃化領域総面積率を測定した矩形範囲において、マイクロ蛍光Ｘ線分析を実施して、矩形範囲の各微小領域でのＶ含有量（質量％）及びＳｉ含有量（質量％）を測定した。具体的には、矩形範囲（１０ｍｍ×１０ｍｍ）を１２８×１２８個の微小領域に区切り、各微小領域でのＶ含有量及びＳｉ含有量を測定した。各微小領域において、Ｖ含有量のＳｉ含有量に対する質量比（Ｖ／Ｓｉ）を求めた。求めたＶ／Ｓｉの算術平均値を［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅと定義した。
各試験番号において、めっき鋼板を平面視した場合のめっき鋼板表面のうち、上述のＰ濃化領域総面積率を測定した矩形範囲において、マイクロ蛍光Ｘ線分析を実施して、矩形範囲の各微小領域でのＶ含有量（質量％）及びＳｉ含有量（質量％）を測定した。具体的には、矩形範囲（１０ｍｍ×１０ｍｍ）を１２８×１２８個の微小領域に区切り、各微小領域でのＶ含有量及びＳｉ含有量を測定した。各微小領域において、Ｖ含有量のＳｉ含有量に対する質量比（Ｖ／Ｓｉ）を求めた。求めたＶ／Ｓｉの算術平均値を［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅと定義した。
【0163】
［耐食性評価試験及び意匠性評価試験］
試験番号１～１２のめっき鋼板に対して、実施例１と同じ条件で耐食性評価試験及び意匠性評価試験を実施した。
試験番号１～１２のめっき鋼板に対して、実施例１と同じ条件で耐食性評価試験及び意匠性評価試験を実施した。
【0164】
［評価結果］
表２を参照して、試験番号１～１２ではいずれも、テクスチャの凸部の算術平均粗さＲａが５超～２００ｎｍの範囲内であり、テクスチャで互いに隣り合う凸部及び凹部の平均高低差が０．３～３．０μｍの範囲内であった。さらに、Ｐ濃化領域被覆比が０．２５以上であった。そのため、意匠性に優れ、耐食性にも優れた。
表２を参照して、試験番号１～１２ではいずれも、テクスチャの凸部の算術平均粗さＲａが５超～２００ｎｍの範囲内であり、テクスチャで互いに隣り合う凸部及び凹部の平均高低差が０．３～３．０μｍの範囲内であった。さらに、Ｐ濃化領域被覆比が０．２５以上であった。そのため、意匠性に優れ、耐食性にも優れた。
【0165】
特に、試験番号１及び２は、［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅが適切な範囲であった。そのため、試験番号１１及び１２と比較して、耐食性に優れた。
【0166】
また、試験番号５及び６は、［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅが適切な範囲であった。そのため、試験番号１１及び１２と比較して、耐食性に優れた。
【0167】
特に、試験番号３、４、７～１０は、［Ｐ／Ｓｉ］ａｖｅ及び［Ｖ／Ｓｉ］ａｖｅが適切な範囲であった。そのため、試験番号１、２、５、６、１１及び１２と比較して、耐食性に優れた。
【0168】
以上、本発明の実施の形態を説明した。しかしながら、上述した実施の形態は本発明を実施するための例示に過ぎない。したがって、本発明は上述した実施の形態に限定されることなく、その趣旨を逸脱しない範囲内で上述した実施の形態を適宜変更して実施することができる。
【符号の説明】
【0169】
１ めっき鋼板
１０ 電気亜鉛系めっき層
１１ 複合被膜
Ｔ１ テクスチャ
Ｃ１０ 凸部
Ｒ１０ 凹部
１０ 電気亜鉛系めっき層
１１ 複合被膜
Ｔ１ テクスチャ
Ｃ１０ 凸部
Ｒ１０ 凹部
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】