特許 7545548 液体処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-08-27

(45)【発行日】2024-09-04

(54)【発明の名称】液体処理装置

(51)【国際特許分類】

   A61M 1/16 20060101AFI20240828BHJP

   C02F 1/44 20230101ALI20240828BHJP

   C02F 1/461 20230101ALI20240828BHJP

   B01F 21/00 20220101ALI20240828BHJP

   B01F 23/231 20220101ALI20240828BHJP

   B01F 23/2373 20220101ALI20240828BHJP

   B01F 23/2375 20220101ALI20240828BHJP

   B01F 35/11 20220101ALI20240828BHJP

【ＦＩ】

A61M1/16 161

C02F1/44 A

C02F1/44 H

C02F1/461 A

B01F21/00

B01F23/231

B01F23/2373

B01F23/2375

B01F35/11

【請求項の数】 8

(21)【出願番号】P 2023150606

(22)【出願日】2023-09-15

【審査請求日】2023-09-15

(73)【特許権者】

【識別番号】591201686

【氏名又は名称】株式会社日本トリム

(74)【代理人】

【識別番号】100180644

【弁理士】

【氏名又は名称】▲崎▼山 博教

(72)【発明者】

【氏名】三宅 正人

(72)【発明者】

【氏名】山内 悠平

(72)【発明者】

【氏名】小泉 義信

(72)【発明者】

【氏名】名木 祐貴

(72)【発明者】

【氏名】小河原 賢一郎

【審査官】白土 博之

(56)【参考文献】

【文献】特開２０２０－１４２２０９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－０１３３４９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ａ６１Ｍ １／００－１／３８

Ｂ０１Ｆ ２１／００－２５／９０

Ｃ０２Ｆ １／４４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

液体に対して水素を溶解させる水素溶解装置と、
前記液体に対して逆浸透膜処理を行う逆浸透膜処理装置と、
前記液体の中に気泡を生成させる気泡生成装置と、
前記水素溶解装置、逆浸透膜処理装置、及び前記気泡生成装置を通液可能に接続することにより形成された流路と、
を有し、
前記流路が、
前記水素溶解装置及び前記逆浸透膜処理装置の双方を通過する経路で前記液体を通過させる主流路と、
前記主流路を外れる経路で前記液体を通過させる副流路と、
を有し、
前記気泡生成装置により生成された気泡を含む液体を前記副流路に通過させることができるものであり、
前記主流路が、前記水素溶解装置及び前記逆浸透膜処理装置の双方を通過する経路で前記液体が循環する循環流を形成可能なものであり、
前記循環流を形成するように前記主流路に液体を循環させることにより、前記主流路、前記水素溶解装置、及び前記逆浸透膜処理装置を含む構成を洗浄する主流路洗浄運転と、
前記気泡生成装置により生成された気泡を含む液体を前記副流路に通過させることにより、前記副流路を含む構成を洗浄する副流路洗浄運転と、
を行えること、を特徴とする液体処理装置。

【請求項2】

前記気泡生成装置が前記主流路に設けられており、
前記主流路及び前記副流路が連通した状態において、前記気泡生成装置により生成された気泡を含む液体を前記主流路及び前記副流路に流すことにより、前記主流路洗浄運転及び前記副流路洗浄運転を行えること、を特徴とする請求項１に記載の液体処理装置。

【請求項3】

前記気泡生成装置が、前記副流路に対して接続されていること、を特徴とする請求項１又は２に記載の液体処理装置。

【請求項4】

前記気泡生成装置が、前記流路において前記水素溶解装置と前記逆浸透膜処理装置との間となる位置、及び前記水素溶解装置の少なくともいずれかに接続されていること、を特徴とする請求項１又は２に記載の液体処理装置。

【請求項5】

水素を溶解させた前記液体から脱気した水素を前記気泡生成装置に対して供給する脱気水素供給路を有すること、を特徴とする請求項１又は２に記載の液体処理装置。

【請求項6】

水素を選択的に抽出するフィルタが前記脱気水素供給路に設けられること、を特徴とする請求項５に記載の液体処理装置。

【請求項7】

前記気泡生成装置が、前記液体に含まれている水素を微細化した気泡を生成するものであること、を特徴とする請求項１又は２に記載の液体処理装置。

【請求項8】

前記流路において前記液体を圧送する圧送装置と、
制御装置と、
を有し、
前記気泡生成装置が、前記液体内の圧力を低下させることで、前記液体に含まれる水素を微細化した気泡を生成するものであり、
前記制御装置が、前記気泡生成装置における圧力低下に応じて、前記気泡生成装置から送出される前記液体の圧力が所定の圧力条件を満足するように前記圧送装置の出力を制御すること、を特徴とする請求項１又は２に記載の液体処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、液体処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、血液透析において透析患者に酸化ストレスが発生することが知られている。これは、透析時に発生する活性酸素が原因であると考えられており、この活性酸素を消去して酸化ストレスの軽減を図ることが提案されている。

【0003】

このような知見に基づき、例えば、逆浸透膜（ＲＯ膜）で処理され、純化した水（以下、「逆浸透水」という。）に水素を溶存させることにより、高濃度の水素が溶存する透析液を製造する方法が提案されている。そして、この透析液を使用することにより、水素を生体内のヒドロキシラジカルと反応させ、酸化ストレスや炎症反応を抑制することができる。このような透析液を生成するために現粉末を希釈する透析用水を製造するための装置として、例えば下記特許文献１に開示されているような透析用水製造装置が提供されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開平９－７７６７２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

ここで、本発明者らは、上記特許文献１に開示されているような透析用水製造装置において、メンテナンスのために洗浄を行うための構成について検討した。特許文献１の透析用水製造装置等においては、電解槽等の装置や機器類、及びこれらの装置等に対して接続された管路によって構成される流路（主流路）おいて、洗浄用の水や薬液を循環させる等して、洗浄運転を行うことが考えられる。しかしながら、このような構成とした場合には、例えば電解槽から酸素が溶存した水を排出するための管路等のように、主流路を外れる経路で水を通過させる副流路には洗浄用の水や薬液が流れず、主流路に比べて洗浄しにくい可能性があるとの知見が得られた。

【0006】

そこで本発明は、水素を溶解させるための水素溶解装置等を通過する経路で液体を通過させる主流路と、主流路を外れる経路で水を通過させる副流路とを備えつつ、副流路の洗浄を十分に行うことが可能な液体処理装置の実現を目的とした。

【課題を解決するための手段】

【0007】

（１）本発明の液体処理装置は、液体に対して水素を溶解させる水素溶解装置と、前記液体に対して逆浸透膜処理を行う逆浸透膜処理装置と、前記液体の中に気泡を生成させる気泡生成装置と、前記水素溶解装置、逆浸透膜処理装置、及び前記気泡生成装置を通液可能に接続することにより形成された流路と、を有し、前記流路が、前記水素溶解装置及び前記逆浸透膜処理装置の双方を通過する経路で前記液体を通過させる主流路と、前記主流路を外れる経路で前記液体を通過させる副流路と、を有し、前記気泡生成装置により生成された気泡を含む液体を前記副流路に通過させることができること、を特徴とするものである。

【0008】

（２）本発明の液体処理装置は、前記主流路が、前記水素溶解装置及び前記逆浸透膜処理装置の双方を通過する経路で前記液体が循環する循環流を形成可能なものであり、前記循環流を形成するように前記主流路に液体を循環させることにより、前記主流路、前記水素溶解装置、及び前記逆浸透膜処理装置を含む構成を洗浄する主流路洗浄運転と、前記気泡生成装置により生成された気泡を含む液体を前記副流路に通過させることにより、前記副流路を含む構成を洗浄する副流路洗浄運転と、を行えるものであると良い。

【0009】

（３）本発明の液体処理装置は、前記気泡生成装置が前記主流路に設けられており、前記主流路及び前記副流路が連通した状態において、前記気泡生成装置により生成された気泡を含む液体を前記主流路及び前記副流路に流すことにより、前記主流路洗浄運転及び前記副流路洗浄運転を行えるものであると良い。

【0010】

（４）本発明の液体処理装置は、前記気泡生成装置が、前記副流路に対して接続されているものであると良い。

【0011】

（５）本発明の液体処理装置は、前記気泡生成装置が、前記流路において前記水素溶解装置と前記逆浸透膜処理装置との間となる位置、及び前記水素溶解装置の少なくともいずれかに接続されているものであると良い。

【0012】

（６）本発明の液体処理装置は、水素を溶解させた前記液体から脱気した水素を前記気泡生成装置に対して供給する脱気水素供給路を有するものであると良い。

【0013】

（７）本発明の液体処理装置は、水素を選択的に抽出するフィルタが前記脱気水素供給路に設けられるものであると良い。

【0014】

（８）本発明の液体処理装置は、前記気泡生成装置が、前記液体に含まれている水素を微細化した気泡を生成するものであると良い。

【0015】

（９）本発明の液体処理装置は、前記流路において前記液体を圧送する圧送装置と、制御装置と、を有し、前記気泡生成装置が、前記液体内の圧力を低下させることで、前記液体に含まれる水素を微細化した気泡を生成するものであり、前記制御装置が、前記気泡生成装置における圧力低下に応じて、前記気泡生成装置から送出される前記液体の圧力が所定の圧力条件を満足するように前記圧送装置の出力を制御するものであると良い。

【発明の効果】

【0016】

本発明によれば、水素を溶解させるための水素溶解装置等を通過する経路で液体を通過させる主流路と、主流路を外れる経路で水を通過させる副流路とを備えつつ、副流路の洗浄を十分に行うことが可能な液体処理装置を実現できる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】本発明の一実施形態に係る水処理装置の構成を示す説明図である。

【図2】図１の水処理装置を構成する水素溶解装置を模式的に示した断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

以下、本発明の一実施形態に係る液体処理装置１について、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、液体処理装置１は、各種の液体を処理対象とすることができるが、本実施形態の液体処理装置１は、処理対象とされる液体を水とするものとして例示する。また、以下の説明においては、先ず液体処理装置１をなす各部の構成について説明したうえ、流路Ｓの構成、及び液体処理装置１における気泡生成装置１００の配置について説明する。

【0019】

≪液体処理装置１の構成について≫
図１に示すように、液体処理装置１は、タンク２０、水素溶解装置３０、逆浸透膜処理装置４０、及び気泡生成装置１００を備えており、これらを配管接続することにより流路Ｓを形成したものである。液体処理装置１は、これらの構成に加えて、流路Ｓにおけるタンク２０よりも上流側の構成として前処理部１０を有する。さらに、液体処理装置１は、流路Ｓにおけるタンク２０よりも下流側の構成として、電解水タンク５０や、ポンプ６０、昇温装置８０、薬液供給装置９０、気泡生成装置１００等を備えている。また、液体処理装置１は、制御装置２００を備えている。以下、液体処理装置１を構成する各部の構成について、さらに具体的に説明する。

【0020】

前処理部１０は、外部から供給される水道水や井戸水、地下水などの水（原水２）を水素溶解装置３０への供給前に前処理するものである。前処理部１０は、前処理として、原水２から不純物を除去したり、原水２を軟水化したりする処理を行う。前処理部１０は、プレフィルタ１２、軟水化装置１４、及び活性炭処理装置１６等を備えている。

【0021】

プレフィルタ１２は、液体処理装置１の外部から供給される水道水や井戸水、地下水などの水（原水２）から不純物を除去するためのものである。プレフィルタ１２は、適宜のフィルタによって構成できるが、例えば原水２に含まれる硬度成分（カルシウムイオン、マグネシウムイオンなどの溶解固形物等）から、鉄錆や砂粒子等の不純物を除去できるものとされている。

【0022】

軟水化装置１４は、原水２に含まれている硬度成分をイオン交換による置換反応により除去し、軟水とする処理を行うためのものである。流路Ｓにおいて、軟水化装置１４は、プレフィルタ１２に対して下流側に配管接続されている。そのため、軟水化装置１４は、プレフィルタ１２において不純物が除去された原水２からさらに硬度成分を除去し、原水２を軟水化することができる。

【0023】

活性炭処理装置１６は、流路Ｓにおいて、軟水化装置１４に対して下流側に配管接続されている。活性炭処理装置１６には、軟水化装置１４により軟水化処理された原水２が供給される。活性炭処理装置１６は、多孔質の吸着物質である活性炭を用いて、原水２に含まれる残留塩素、クロラミン、有機物などを物理的な吸着作用により除去する処理を行うためのものである。

【0024】

タンク２０は、流路Ｓにおいて、活性炭処理装置１６に対して下流側に配管接続されている。そのため、タンク２０には、プレフィルタ１２において不純物が除去され、軟水化装置１４において軟水化され、さらに活性炭処理装置１６において残留塩素等の物質が除去された原水２が供給され、貯留される。

【0025】

水素溶解装置３０は、流路Ｓにおいて、タンク２０に対して下流側に配管接続されている。水素溶解装置３０は、タンク２０から導入された原水２に水素を溶解させたもの（溶存水素水３）を生成するものである。水素溶解装置３０は、原水２に水素を溶解させて溶存水素水３を生成できるものであればいかなるもので有っても良い。本実施形態では、水素溶解装置３０として、電気分解処理を行うことにより、水素が溶存した溶存水素水３を生成可能なものが採用されている。

【0026】

さらに具体的には、図２に示すように、水素溶解装置３０は、固体高分子膜３２や電解槽３４を備えたものとすることができる。電解槽３４は、電解槽本体３４ａ、導入路３４ｂ、送水路３４ｃ、及び排水路３４ｄを有する。また、水素溶解装置３０は、電解槽本体３４ａの内部に、固体高分子膜３２、陽極３５、陰極３６、誘電体層３８を有する。

【0027】

電解槽本体３４ａは、電気分解が行われる原水２を貯留可能な槽状のものである。導入路３４ｂは、タンク２０から供給された原水２を電解槽本体３４ａの内部に導入するためのものである。送水路３４ｃは、水素溶解装置３０によって生成された溶存水素水３を流路Ｓの下流側に送出するための流路である。また、排水路３４ｄは、水素溶解装置３０における処理によって発生した排水（溶存酸素水）を外部に排出するための流路である。

【0028】

固体高分子膜３２は、水素溶解装置３０において電解質として機能するものである。固体高分子膜３２は、電解槽３４の短手方向略中央部において、電解槽３４の長手方向に延びるように配置されている。これにより、電解槽３４の内部空間は、固体高分子膜３２を介して一方側の空間と、他方側の空間とに隔てられている。固体高分子膜３２は、電気分解により、陽極３５側で発生したオキソニウムイオン（Ｈ_３Ｏ^＋）を陰極３６側へと移動させる役割を有するものである。固体高分子膜３２は、例えばスルホン酸基を有するフッ素系の樹脂材料により形成されたものを好適に使用することができる。より具体的には、ナフィオン（デュポン社製）、Ｆｌｅｍｉｏｎ（旭硝子社製）、Ａｃｉｐｌｅｘ（旭硝子社製）などを固体高分子膜３２として好適に用いることができる。

【0029】

陽極３５及び陰極３６は、電解槽３４への給電を行う給電体として機能するものである。陽極３５及び陰極３６は、固体高分子膜３２を介して互いに対向するように配置されている。陽極３５及び陰極３６は、例えば、チタンや白金などの素材を用いて形成されている。陽極３５と陰極３６は、電気的に接続されている。

【0030】

誘電体層３８は、固体高分子膜３２と陽極３５との間に形成された空間、及び固体高分子膜３２と陰極３６との間に形成された空間に配されている。誘電体層３８は、例えばチタンや白金などの素材を用いて形成されている。

【0031】

水素溶解装置３０において原水２を電気分解すると、陽極３５側、及び陰極３６側において以下のような反応が起こる。
陽極側：６Ｈ_２Ｏ→４Ｈ_３Ｏ^＋＋Ｏ_２＋４ｅ^－
陰極側：４Ｈ_３Ｏ^＋＋４ｅ^－→２Ｈ_２＋４Ｈ_２Ｏ

【0032】

水素溶解装置３０においては、陰極３６における水素の生成原料としてオキソニウムイオン（Ｈ_３Ｏ^＋）が使用され、電気分解処理の際にＯＨ^－イオンが発生しない。従って、水素溶解装置３０は、溶存水素の量を増やすために高い電流値で電気分解処理を行った場合であっても、処理水のｐＨが変化しない。従って、水素溶解装置３０においては、ｐＨの上限値に起因して、処理水の溶存水素濃度が抑制されてしまうという不都合を生じることがなくなり、所望の高い電流値で電気分解処理を行い、処理水の溶存水素濃度を向上させることが可能になる。その結果、必要な溶存水素濃度を有する処理水を得ることが可能になる。

【0033】

水素溶解装置３０は、上述した電気分解処理により生成した溶存水素水３を、電解槽本体３４ａの陰極３６側に形成された送水路３４ｃから、逆浸透膜処理装置４０側に導出できる。本実施形態の流路Ｓでは、水素溶解装置３０と逆浸透膜処理装置４０との間に電解水タンク５０が設けられている。そのため、水素溶解装置３０の送水路３４ｃから導出された溶存水素水３は、逆浸透膜処理装置４０に到達する前に、一旦、電解水タンク５０に導入され、貯蔵される。一方、電気分解処理により、陽極３５側で発生した溶存酸素水４は、陽極３５側に形成された排水路３４ｄにより、電解槽本体３４ａの外部へと排出される。

【0034】

逆浸透膜処理装置４０は、流路Ｓにおいて水素溶解装置３０よりも下流側に配されている。本実施形態では、逆浸透膜処理装置４０は、電解水タンク５０を介して水素溶解装置３０よりも下流側において配管接続されている。逆浸透膜処理装置４０は、逆浸透膜４２を用いて逆浸透膜処理を行うための装置である。図１に示すように、逆浸透膜処理装置４０は、逆浸透膜４２、逆浸透水タンク４４、及び逆浸透水ポンプ４６を備えている。

【0035】

逆浸透膜４２は、水素溶解装置３０により生成した溶存水素水３に対して、逆浸透処理を行うためのものである。ここで、半透膜を境界にして、濃度の異なる溶液がある場合、低濃度の溶液から高濃度の溶液へ水が移動する現象（浸透）が生じる。これに対し、半透膜を境界にして、高濃度の溶液側に圧力を加えることにより、高濃度側の溶液から低濃度側の溶液へ水を移動させ、低濃度側に水が浸透する現象（逆浸透）を生じさせることができる。逆浸透膜４２は、逆浸透膜処理装置４０において逆浸透させた水（逆浸透水）を得る処理（逆浸透膜処理）を行うために設けられている。

【0036】

逆浸透膜処理装置４０は、供給された水を逆浸透させることにより、微量金属類などの不純物を除去することができる。逆浸透膜処理装置４０は、水素溶解装置３０側（本実施形態では電解水タンク５０）から供給された溶存水素水３から、さらに微量金属類などの不純物を除去することができる。本実施形態の液体処理装置１では、上述したように水素溶解装置３０において溶存水素水３を生成するまでの段階において、既にプレフィルタ１２において不純物が除去され、軟水化装置１４において軟水化され、さらに活性炭処理装置１６において残留塩素等の物質が除去されている。そのため、液体処理装置１は、逆浸透膜処理装置４０によって溶存水素水３を逆浸透処理することにより、ＩＳＯ１３９５９（透析用水基準）に規定される水質基準を満たす水（逆浸透水）を得ることができる。また、液体処理装置１においては、水素溶解装置３０において生成された溶存水素水３を逆浸透膜処理装置４０によって逆浸透処理する。そのため、液体処理装置１は、逆浸透膜処理装置４０における逆浸透処理を行うことにより、水素が溶存した逆浸透水（逆浸透溶存水素水５）を得ることができる。

【0037】

逆浸透水タンク４４は、流路Ｓにおいて、上述した逆浸透膜４２よりも下流側に設けられている。逆浸透水タンク４４は、逆浸透膜４２による逆浸透膜処理がなされた逆浸透水（逆浸透溶存水素水５）を貯蔵するためのものである。逆浸透水ポンプ４６は、逆浸透水タンク４４に貯留されている逆浸透溶存水素水５を流路Ｓの系外に設けられた溶解装置１１０及び透析液供給装置１２０に向けて圧送するためのものである。

【0038】

逆浸透水ポンプ４６は、逆浸透溶存水素水５が溶解装置１１０及び透析液供給装置１２０において使用される場合に所定のタイミングで作動し、溶解装置１１０及び透析液供給装置１２０に供給される。これにより、溶解装置１１０において所定の透析液が製成されるとともに、製成された透析液が透析液供給装置１２０に供給される。透析液は、透析液供給装置１２０から各患者監視装置（図示せず）へ供給され、患者の血液の浄化に用いられる。

【0039】

電解水タンク５０は、流路Ｓにおいて、水素溶解装置３０と逆浸透膜処理装置４０との間に設けられたタンクである。電解水タンク５０は、水素溶解装置３０から導出された溶存水素水３を、逆浸透膜処理装置４０への供給に備えて貯蔵するものである。

【0040】

ポンプ６０は、流路Ｓにおいて水を圧送するものである。ポンプ６０は、流路Ｓにおいていかなる位置に設けられていても良いが、逆浸透膜処理装置４０が備える逆浸透膜４２よりも上流側に配置されていると良い。本実施形態では、ポンプ６０は、電解水タンク５０よりも流路Ｓの下流側（好ましくは電解水タンク５０の直下流側）であって、逆浸透膜処理装置４０よりも上流側（好ましくは逆浸透膜処理装置４０の直上流側）の位置に配されている。これにより、タンク２０に貯蔵された水（原水２）を必要とされる流量で水素溶解装置３０に導入させるためのコントロールを精度良く行うことができる。ポンプ６０は、印加電流値等により出力制御可能なものとすることができる。本実施形態では、ポンプ６０は、デューティー比制御により出力制御可能なものとされている。

【0041】

液体処理装置１は、上述したタンク２０や、水素溶解装置３０、逆浸透膜処理装置４０等を配管接続して構成される流路Ｓを洗浄するための構成として、昇温装置８０や薬液供給装置９０を備えている。

【0042】

昇温装置８０は、流路Ｓに対して洗浄運転時に供給される洗浄用の液体（例えば原水２や、原水に薬液を加えた液体）等を加熱して昇温させるものである。液体処理装置１は、昇温装置８０によって加熱された洗浄用の液体を流路Ｓに供給することにより、水素細菌等の殺菌や駆除を行うことができる。昇温装置８０は、タンク２０、及び逆浸透水タンク４４のいずれか一方又は双方に設置すると良い。図１に示した例においては、タンク２０に対して第一の昇温装置８０（第一昇温装置８０ａ）を配するとともに、逆浸透水タンク４４に第二の昇温装置８０（第二昇温装置８０ｂ）を配している。

【0043】

タンク２０に第一昇温装置８０ａを設置することにより、流路Ｓの洗浄に際して洗浄に用いる水を加温するときに、大量の水をまとめて加温できるため、洗浄運転を効率的に行える。また、原水２のシリカ含有率が高い場合に、水温が低いまま逆浸透膜４２を透過させるとシリカで目詰まりが起こることから、タンク２０に第一昇温装置８０ａを設置しておくことにより、第一昇温装置８０ａによって加温された原水２を洗浄用として供給し、前述のようなシリカによる逆浸透膜４２の目詰まりを抑制できる。また、逆浸透水タンク４４に第二昇温装置８０ｂを配することにより、患者に使用する水温が低くならないよう、逆浸透水タンク４４に貯留されている段階で適切な温度を保つことができる。さらに、逆浸透水タンク４４に第二昇温装置８０ｂを配することにより、流路Ｓにおいてタンク２０よりも下流側の部分だけを洗浄するように洗浄用の水を流すときに、洗浄用の水を加温するために使用したり、洗浄用として第一昇温装置８０ａにおいて加温した水を、逆浸透水タンク４４に到達した段階において必要に応じて第二昇温装置８０ｂによって補助的に加温するといった使い方が可能となる。

【0044】

薬液供給装置９０は、流路Ｓを洗浄に用いる薬液を供給するものである。薬液供給装置９０は、例えばタンク２０に対して配管接続される等、適宜の位置に配置することができる。薬液供給装置９０は、例えば、図１に示したように、流路Ｓをなす管路とは別にタンク２０に対して接続された管路を設け、当該管路を介してタンク２０に薬液を導入可能なように接続されたものとすることができる。

【0045】

気泡生成装置１００は、処理対象である水の中に気泡を生成させる装置である。気泡生成装置１００は、ウルトラファインバブル（直径１μｍ未満）を生成する装置、マイクロバブル（直径１μｍ～１００μｍ）を生成する装置、サブミリバブル（直径１００μｍ～１ｍｍ）を生成する装置、ミリバブル（直径１ｍｍ以上）を生成する装置等とすることができる。気泡生成装置１００は、これらから選ばれるいずれの装置によって構成されても良いが、ウルトラファインバブル生成装置、あるいはマイクロバブル生成装置によって構成すると良い。

【0046】

気泡生成装置１００をマイクロバブル生成装置によって構成する場合には、例えば、液流せん断による気相分散によりマイクロバブルを生成するもの、キャビテーションによりマイクロバブルを生成するもの、液中ガス溶解度変化によりマイクロバブルを生成するもの、分散相の相変化によりマイクロバブルを生成するもの等を好適に採用できる。液流せん断による気相分散によりマイクロバブルを生成するマイクロバブル生成装置として、例えば、旋回液流式、スタティックミキサー式、微細孔式のものを好適に採用することができる。また、キャビテーションによりマイクロバブルを生成するマイクロバブル生成装置として、エゼクター式、ベンチュリー式のもの等を好適に採用できる。液中ガス溶解度変化によりマイクロバブルを生成するマイクロバブル生成装置として、加圧溶解式（減圧析出式）、冷却溶解式（加温析出式）のものを好適に採用できる。分散相の相変化によりマイクロバブルを生成するマイクロバブル生成装置として、混合蒸気凝縮式のものを好適に採用できる。

【0047】

気泡生成装置１００をウルトラファインバブル生成装置によって構成する場合には、例えば、界面張力低下によりウルトラファインバブルを生成するもの、強度液せん断流による気相分散と混合によりウルトラファインバブルを生成するもの、液中ガス溶解度変化によりウルトラファインバブルを生成するもの等を好適に採用できる。界面張力低下によりウルトラファインバブルを生成するものとして、微細孔式のものを好適に採用できる。強度液せん断流による気相分散と混合によりウルトラファインバブルを生成するものとして、スタティックミキサー式、旋回液流式のものを好適に採用できる。混合蒸気凝縮式のものとして、加圧溶解式（減圧析出式）のものを好適に採用できる。

【0048】

気泡生成装置１００には、上述した各種の原理や方式のウルトラファインバブル生成装置、あるいはマイクロバブル生成装置のうち、液体（水）に含まれている気体を微細化した気泡を生成するものを好適に利用できる。本実施形態では、気泡生成装置１００は、上述したエゼクター式やベンチュリー式のように、液体内（水中）の圧力を低下させることで、液体（水）に含まれる気体（水素）を微細化した気泡を生成するものによって構成されている。

【0049】

気泡生成装置１００は、流路Ｓを流れる水の中に気泡を生成させることができるように設けられている。気泡生成装置１００は、後に詳述するように、目的や期待する効果に応じて流路Ｓをなす管路の途中や、流路Ｓに設けられた水素溶解装置３０、逆浸透膜処理装置４０等の装置類、タンク２０、電解水タンク５０等のように流路Ｓに設けられた各種の部材等、適宜の箇所に設置することができる。

【0050】

制御装置２００は、液体処理装置１の動作制御を行うものである。制御装置２００は、液体処理装置１によって原水２から逆浸透溶存水素水５を生成するための水処理運転の他に、流路Ｓに洗浄用の液体を通液させることにより、流路Ｓの洗浄を行うための洗浄運転を行わせることができる。本実施形態の液体処理装置１は、制御装置２００による制御のもと、後に詳述するように、主として流路Ｓを構成する主流路Ｓ１に存在する各部の洗浄を行う運転（主流路洗浄運転）、主として流路Ｓを構成する副流路Ｓ２の洗浄を行う運転（副流路洗浄運転）を行うことができる。

【0051】

≪流路Ｓについて≫
液体処理装置１は、上述したタンク２０、水素溶解装置３０、逆浸透膜処理装置４０、気泡生成装置１００等からなる構成部材を配管接続することにより形成された流路Ｓを有する。流路Ｓは、主流路Ｓ１、及び副流路Ｓ２を有する。主流路Ｓ１は、通液経路Ｒ１と、循環経路Ｒ２とを形成可能なように配管接続したものである。主流路Ｓ１は、切替弁４８を備えており、切替弁４８の切り替え操作によって水が流れる経路を通液経路Ｒ１と循環経路Ｒ２とに切り替えることができる。

【0052】

通液経路Ｒ１は、原水２の供給源から水素溶解装置３０及び逆浸透膜処理装置４０を経て液体の供給先である溶解装置１１０や透析液供給装置１２０に向かう経路で液体を通過させる経路である。液体処理装置１は、通液経路Ｒ１を水が流れるように切替弁４８を切り替えた状態においてポンプ６０を作動させることにより、圧送された水を水素溶解装置３０、及び逆浸透膜処理装置４０において処理し、原水２から逆浸透溶存水素水５を生成して供給する運転（水処理運転）を行える。

【0053】

循環経路Ｒ２は、水素溶解装置３０及び逆浸透膜処理装置４０の双方を通過する経路で水が循環する循環流をなすように水を通過させる経路である。液体処理装置１は、循環経路Ｒ２を水が流れるように切替弁４８を切り替えた状態においてポンプ６０を作動させることにより、循環経路Ｒ２において水を循環させ、主流路Ｓ１に存在する各部の洗浄を行う運転（主流路洗浄運転）を行うことができる。液体処理装置１は、メンテナンス運転に際して、適宜、薬液供給装置９０から薬液を供給したり、昇温装置８０を作動させて水を昇温させたりすることにより、各部の洗浄効果を高めることができる。また、主経路Ｓ１と循環経路Ｒ２の下流の接続箇所は、図１で示す前処理部１０の上流の箇所に限らず、適宜主経路Ｓ１のいずれかの箇所と接続させることができ、また循環経路Ｒ２を分岐させて主経路Ｓ１の複数個所と接続させてもよい。

【0054】

副流路Ｓ２は、主流路Ｓ１を外れる経路で水を通過させる流路である。本実施形態では、副流路Ｓ２として、水素溶解装置３０から溶存酸素水４を排出するための第一排出経路Ｄ１をなす第一副流路Ｓ２１と、逆浸透膜処理装置４０において溶存水素水３から不純物を除去した残渣として排出される濃縮水６を排出するための第二排出経路Ｄ２をなす第二副流路Ｓ２２とを有する。第一副流路Ｓ２１及び第二副流路Ｓ２２には、それぞれ第一開閉弁３９及び第二開閉弁４９が設けられている。第一開閉弁３９を開状態とすることにより水素溶解装置３０から溶存酸素水４を排出することができる。また、第二開閉弁４９を開状態とすることにより、逆浸透膜処理装置４０から濃縮水６を排出することができる。

【0055】

また、流路Ｓには、脱気水素供給路Ｇが接続されている。脱気水素供給路Ｇは、流路Ｓを流れる水から脱気した水素を気泡生成装置１００に対して供給するものである。脱気水素供給路Ｇは、一端側が水素溶解装置３０、あるいは水素溶解装置３０よりも流路Ｓにおける水の流れ方向下流側に接続されている。また、脱気水素供給路Ｇの他端側は、気泡生成装置１００、あるいは流路Ｓにおいて気泡生成装置１００よりも上流側の位置など、脱気水素供給路Ｇを流れる水素を気泡生成装置１００に供給可能な箇所に接続される。図１に示す例では、脱気水素供給路Ｇは、一端側が水素溶解装置３０に対して直接接続され、他端側が気泡生成装置１００に対して直接接続されている。図１に示す例では、脱気水素供給路Ｇには、水素を選択的に抽出するフィルタ１０４が設けられている。

【0056】

≪気泡生成装置１００の配置について≫
気泡生成装置１００は、主流路Ｓ１及び副流路Ｓ２において通液経路Ｒ１、循環経路Ｒ２、第一排出経路Ｄ１、及び第二排出経路Ｄ２をなす管路や、これらの経路に設けられた装置や器具類等に設けることができる。例えば、気泡生成装置１００は、流路Ｓ（主流路Ｓ１）の通液経路Ｒ１をなす部分において、前処理部１０、タンク２０、水素溶解装置３０、逆浸透膜処理装置４０（逆浸透水タンク４４）、電解水タンク５０等の装置や器具、前処理部１０の上流側の位置Ｘ１、前処理部１０及びタンク２０の間の位置Ｘ２、タンク２０及び水素溶解装置３０の間の位置Ｘ３、水素溶解装置３０及び電解水タンク５０の間の位置Ｘ４、電解水タンク５０及びポンプ６０の間の位置Ｘ５、ポンプ６０及び逆浸透膜４２の間の位置Ｘ６、逆浸透膜４２及び逆浸透水タンク４４の間の位置Ｘ７、逆浸透水タンク４４及び逆浸透水ポンプ４６の間の位置Ｘ８、逆浸透膜処理装置４０（ポンプ６０）の下流側に接続される配管の位置Ｘ９等に設けることができる、また、気泡生成装置１００は、流路Ｓ（主流路Ｓ１）の循環経路Ｒ２をなす部分において、逆浸透膜処理装置４０と前処理部１０とを繋ぐ管路上の位置Ｘ１０に設けることができる。また、気泡生成装置１００は、流路Ｓ（副流路Ｓ２）の第一排出経路Ｄ１をなす管路上の位置Ｙ１、第二排出経路Ｄ２をなす管路上の位置Ｙ２等に設けることができる。また、気泡生成装置１００は、一箇所にだけ設ける構成としたり、複数箇所に設ける構成としたりすることができる。

【0057】

上述したように、液体処理装置１において、気泡生成装置１００は、目的や期待する効果に応じて適宜の箇所に設置することができる。具体的には、気泡生成装置１００は、水に水素を含有させた逆浸透溶存水素水５の水素濃度が供給先である溶解装置１１０や透析液供給装置１２０に到達するまでの間に、所定の最低濃度よりも低くなるのを抑制する効果（水素濃度低減抑制効果）を目的として、流路Ｓに設置することができる。水素濃度低減抑制効果を目的として気泡生成装置１００を設ける場合には、気泡生成装置１００は、水処理運転時に水が流れる通液経路Ｒ１をなす管路、及び通液経路Ｒ１の途中に設けられた装置や器具等に設けられると良い。具体的には、水素濃度低減抑制効果を目的とする場合、気泡生成装置１００は、前処理部１０、タンク２０、水素溶解装置３０、逆浸透膜処理装置４０（逆浸透水タンク４４）、電解水タンク５０等の装置や器具、及び上述した位置Ｘ１～Ｘ９のうち、少なくともいずれかの位置に設けると良い。また、水素濃度低減抑制効果を目的とする場合、気泡生成装置１００は、原水２に対して水素を溶解させる水素溶解装置３０、あるいはこれよりも下流側に設けるとさらに良い。

【0058】

また、気泡生成装置１００として、上述したエゼクター式やベンチュリー式のように、液体内（水中）の圧力を低下させることによって、液体（水）に含まれる気体（水素）を微細化した気泡を生成するものを用いる場合、気泡生成装置１００における圧力低下が生じる。このような気泡生成装置１００における圧力低下の補填効果（圧力低下補填効果）を目的とする場合には、ポンプ６０や逆浸透水ポンプ４６等の圧送装置に対して水の流れ方向上流側に設けると良い。具体的には、圧力低下補填効果を目的とする場合、気泡生成装置１００は、ポンプ６０の上流側に位置する位置Ｘ５、ポンプ６０に対して配管接続された電解水タンク５０等、ポンプ６０に対して水の流れ方向直前の位置に設けると良い。従って、水処理運転時における水素濃度低減抑制効果、及び圧力低下補填効果の双方を得ることを目的とする場合、気泡生成装置１００は、図１に示す例のようにポンプ６０に対して水の流れ方向直前にある位置Ｘ５、及び水素溶解装置３０のいずれか一方又は双方に設けられると良い。また、圧力の低下を適時正確に検知するために、主流路Ｓ１のいずれかの箇所に流量又は水圧を測定できる装置を配置してもよく、又は溶解装置１１０、透析液供給装置１２０その他外部装置にて検知した流量又は水圧の測定値を制御装置２００にフィードバックできる構成としてもよい（図示せず）。この場合、制御装置２００は、当該測定値と、予め定めた流量又は水圧の基準値を比較し、測定値が常に基準値の近似値をとるよう前記圧送装置を制御することにより、より適時に圧力低下補填効果を得ることができる。

【0059】

また、気泡生成装置１００において発生する気泡による液体処理装置１の各部の洗浄効果の向上を目的とする場合、気泡生成装置１００は、主流路Ｓ１をなす各部や、副流路Ｓ２に設けられると良い。具体的には、循環経路Ｒ２において水を循環させ、主流路Ｓ１に存在する各部の洗浄を行う運転（主流路洗浄運転）を行う場合における洗浄効果の向上を目的とする場合、気泡生成装置１００は、前処理部１０、タンク２０、水素溶解装置３０、逆浸透膜処理装置４０（逆浸透水タンク４４）、電解水タンク５０等の装置や器具、及び上述した位置Ｘ１～Ｘ１０のうち、少なくともいずれかの位置に設けると良い。

【0060】

また、主流路洗浄運転により循環経路Ｒ２において洗浄用の水や薬液等を循環させるだけでは水や薬液が到達しない副流路Ｓ２の洗浄を行う運転（副流路洗浄運転）を行えるようにすることを目的とする場合、気泡生成装置１００は、第一排出経路Ｄ１上の位置Ｙ１、第二排出経路Ｄ２をなす管路上の位置Ｙ２等に設けられると良い。また、液体処理装置１が第一開閉弁３９や第二開閉弁４９を開状態とする等により、主流路Ｓ１と副流路Ｓ２とを連通させることができるものである場合には、主流路Ｓ１において主流路Ｓ１と副流路Ｓ２との連通箇所よりも上流側となる位置に気泡生成装置１００を設ける等して、主流路Ｓ１において発生させた気泡を含む水を副流路Ｓ２に供給できるようにすることで、副流路洗浄運転を行えるようにすると良い。本実施形態では、図１に示すように、位置Ｘ５に気泡生成装置１００を設けるとともに、気泡生成装置１００あるいはよりも下流側の管路、及び第一排出経路Ｄ１をなす副流路Ｓ２（第一副流路Ｓ２１）の管路をバイパスするバイパス流路１０２を設けている。これにより、位置Ｘ５に設けられた気泡生成装置１００において発生した気泡を含む水を第一排出経路Ｄ１に供給して洗浄できるものとされている。

【0061】

図１に示す例においては、バイパス流路１０２を第一排出経路Ｄ１に到達するように設けた例を示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、液体処理装置１は、第一排出経路Ｄ１に代えて第二排出経路Ｄ２に到達するようにバイパス流路１０２を設けた構成、バイパス流路１０２を複数設けて第一排出経路Ｄ１及び第二排出経路Ｄ２の双方に接続した構成、バイパス流路１０２を分岐させて第一排出経路Ｄ１及び第二排出経路Ｄ２の双方に接続した構成等として、副流路洗浄運転を行えるようにすると良い。

【0062】

≪作用効果について≫
上述した実施形態、及び各実施例を踏まえれば、本発明は、以下の（１）～（８）に示すような特徴的構成を有し、本発明に特有の効果が得られる。

【0063】

（ａ）上述した液体処理装置１は、液体に対して水素を溶解させる水素溶解装置３０と、液体に対して逆浸透膜処理を行う逆浸透膜処理装置４０と、液体の中に気泡を生成させる気泡生成装置１００と、水素溶解装置３０、逆浸透膜処理装置４０、及び気泡生成装置１００を通液可能に接続することにより形成された流路Ｓと、を有し、流路Ｓが、液体の供給源から水素溶解装置３０及び逆浸透膜処理装置４０を経て液体の供給先に向かう経路で液体を通過させる通液経路Ｒ１を有し、気泡生成装置１００が、通液経路Ｒ１を流れる液体の中に気泡を生成させるものである。

【0064】

液体処理装置１は、上記（ａ）のような構成とされているため、気泡生成装置１００によって通液経路Ｒ１を流れる液体（上記実施形態では水。以下同様。）の中に気泡を生成することにより、水素溶解装置３０によって液中に溶解させた水素を液中に滞留させることができる。これにより、液体処理装置１は、水素溶解装置３０によって液中に溶解させた水素が脱気して消失するのを抑制し、液中における水素濃度を高く、かつ長く維持させることができる。従って、液体処理装置１は、水素を含有させた液体の水素濃度が、供給先に到達するまでの間に所定の最低濃度よりも低くなるのを抑制できる。

【0065】

（ｂ）上述した液体処理装置１は、気泡生成装置１００が、流路Ｓにおいて水素溶解装置３０と逆浸透膜処理装置４０との間となる位置（図１に示す例では位置Ｘ４～Ｘ６）、及び水素溶解装置３０の少なくともいずれかに接続されたものである。

【0066】

液体処理装置１は、上記（ｂ）のような構成とされているため、水素溶解装置３０によって液中に溶解させた水素を、溶解後間もなくバブル化することができる。これにより、液体処理装置１は、水素溶解装置３０によって液中に溶解させた水素の脱気をより一層効率良く抑制し、液中の水素濃度を高く、かつ長く維持させることができる。

【0067】

（ｃ）上述した液体処理装置１は、水素を溶解させた液体から脱気した水素を気泡生成装置１００に対して供給する脱気水素供給路Ｇを有するものである。

【0068】

液体処理装置１は、上記（ｃ）のような構成とされているため、液体から脱気した水素を用い、気泡生成装置１００において液中に水素を含む気泡を生成できる。これにより、液体処理装置１は、脱気に伴う液中の水素濃度の低下を抑制できる。

【0069】

（ｄ）上述した液体処理装置１は、水素を選択的に抽出するフィルタ１０４が脱気水素供給路Ｇに設けられるものである。

【0070】

液体処理装置１は、上記（ｄ）のような構成とされているため、脱気水素供給路Ｇに流入した気体から選択的に水素を抽出して気泡生成装置１００に供給できる。これにより、液体処理装置１は、より一層確実に液中における水素濃度の維持、上昇を促進させることができる。

【0071】

（ｅ）上述した液体処理装置１は、気泡生成装置１００が、液体に含まれている水素を微細化した気泡を生成するものである。

【0072】

液体処理装置１は、上記（ｅ）のような構成とされているため、水素溶解装置３０によって液中に溶解させた水素を微細化し、液中における水素濃度の維持、上昇を促進させることができる。

【0073】

（ｆ）上述した液体処理装置１は、流路Ｓにおいて液体を圧送するポンプ６０（圧送装置）と、制御装置２００と、を有し、気泡生成装置１００が、液体内の圧力を低下させることで、液体に含まれる水素を微細化した気泡を生成するものであり、制御装置２００が、気泡生成装置１００における圧力低下に応じて、気泡生成装置１００から送出される液体の圧力が所定の圧力条件を満足するようにポンプ６０（圧送装置）の出力を制御するものである。

【0074】

液体処理装置１は、上記（ｆ）のような構成とされているため、水素溶解装置３０によって液中に溶解させた水素を微細化することにより液体内の圧力が低下したとしても、ポンプ６０（圧送装置）によって液体内の圧力低下を回復させることができる。これにより、液体処理装置１は、液体の供給先（上記実施形態では溶解装置１１０や透析液供給装置１２０）に対して、所定の圧力レベルを確保した状態で液体（逆浸透溶存水素水５）を供給することができる。

【0075】

（ｇ）上述した液体処理装置１は、液体に対して水素を溶解させる水素溶解装置３０と、液体に対して逆浸透膜処理を行う逆浸透膜処理装置４０と、液体の中に気泡を生成させる気泡生成装置１００と、水素溶解装置３０、逆浸透膜処理装置４０、及び気泡生成装置１００を通液可能に接続することにより形成された流路Ｓと、を有し、流路Ｓが、水素溶解装置３０及び逆浸透膜処理装置４０の双方を通過する経路で液体を通過させる主流路Ｓ１と、主流路Ｓ１を外れる経路で液体を通過させる副流路Ｓ２と、を有し、気泡生成装置１００により生成された気泡を含む液体を副流路Ｓ２に通過させることができるものである。

【0076】

液体処理装置１は、上記（ｇ）のような構成とされているため、気泡生成装置１００により生成された液体を主流路Ｓ１だけでなく、副流路Ｓ２にも通過させることができる。これにより、液体処理装置１は、水や薬液を用いる等して洗浄運転を行う場合に、主流路Ｓ１に存在する各部の洗浄を行う運転（主流路洗浄運転）だけでなく、副流路Ｓ２の洗浄を行う運転（副流路洗浄運転）においても気泡生成装置１００により生成される気泡を活用して洗浄を行うことができる。

【0077】

（ｈ）上述した液体処理装置１は、主流路Ｓ１が、水素溶解装置３０及び逆浸透膜処理装置４０の双方を通過する経路で液体が循環する循環流を形成可能なものであり、循環流を形成するように主流路Ｓ１に液体を循環させることにより、主流路Ｓ１、水素溶解装置３０、及び逆浸透膜処理装置４０を含む構成を洗浄する主流路洗浄運転と、気泡生成装置１００により生成された気泡を含む液体を副流路Ｓ２に通過させることにより、副流路Ｓ２を含む構成を洗浄する副流路洗浄運転と、を行えるものである。

【0078】

液体処理装置１は、上記（ｈ）のような構成とされているため、主流路洗浄運転によって主流路Ｓ１を洗浄するだけでなく、副流路洗浄運転を行うことにより、主流路洗浄運転を行うだけでは洗浄が難しい副流路Ｓ２についても気泡生成装置１００により生成された気泡を含む液体を活用して洗浄を行うことができる。

【0079】

（ｉ）上述した液体処理装置１は、気泡生成装置１００が主流路Ｓ１に設けられており、主流路Ｓ１及び副流路Ｓ２が連通した状態において、気泡生成装置１００により生成された気泡を含む液体を主流路Ｓ１及び副流路Ｓ２に流すことにより、主流路洗浄運転及び副流路洗浄運転を行えるものである。

【0080】

液体処理装置１は、上記（ｉ）のような構成とされているため、主流路Ｓ１に設けられた気泡生成装置１００において発生した気泡を含む液体を用いて主流路洗浄運転及び副流路洗浄運転の双方を行うことができる。従って、液体処理装置１は、上記（ｉ）の構成とすることにより、気泡生成装置１００を主流路Ｓ１の洗浄、及び副流路Ｓ２の洗浄の双方に活用することができる。

【0081】

（ｊ）上述した液体処理装置１は、気泡生成装置１００が、副流路Ｓ２に対して接続されているものである。

【0082】

液体処理装置１は、例えば、上記実施形態において説明したように、流路Ｓ（副流路Ｓ２）の第一排出経路Ｄ１をなす管路上の位置Ｙ１、第二排出経路Ｄ２をなす管路上の位置Ｙ２等に設けることにより、上記（ｊ）のような構成とすることができる。液体処理装置１は、上記（ｊ）の構成を採用することにより、気泡生成装置１００によって発生した気泡を含む液体を副流路Ｓ２において発生させ、副流路Ｓ２の洗浄効率をより一層向上させることができる。

【0083】

上述した液体処理装置１は、本発明の一実施形態を示したものに過ぎず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜構成の変更や省略、追加等を行うことができる。液体処理装置１は、図１に示した構成とした場合、水素を含有させた液体の水素濃度が、供給先に到達するまでの間に所定の最低濃度よりも低くなるのを抑制するという目的、副流路Ｓ２の洗浄を行えるようにすることを目的の双方を達成可能なものであるが、例えば、これらのうちの一方の目的のみを達成できるもので良いのであれば、上記（ａ）及び上記（ｇ）の構成のうちいずれか一方を満足しないものとすることが可能である。

【0084】

また、上記実施形態においては、上記（ｂ）のように、気泡生成装置１００が、流路Ｓにおいて水素溶解装置３０と逆浸透膜処理装置４０との間となる位置（図１に示す例では位置Ｘ４～Ｘ６）、及び水素溶解装置３０の少なくともいずれかに接続されたものとした例を示したが、本発明はこれに限定されず、他の位置（図１に示す例ではＸ１～Ｘ３、Ｘ７～Ｘ１０、Ｙ１、Ｙ２）等に設けた構成とすることも可能である。

【0085】

上記実施形態の液体処理装置１においては、上記（ｃ）のように脱気水素供給路Ｇを設けた構成を例示したが、本発明はこれに限定されず、脱気水素供給路Ｇを備えていないものとすることも可能である。

【0086】

上記実施形態では、上記（ｄ）のように、水素を選択的に抽出するフィルタ１０４を脱気水素供給路Ｇに設けたものを例示したが、本発明はこれに限定されない。液体処理装置１は、脱気水素供給路Ｇにフィルタ１０４を具備していないものとしても良い。

【0087】

上記実施形態では、上記（ｅ）のように、気泡生成装置１００として、液体に含まれている水素を微細化した気泡を生成するものを採用したものを例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、上記実施形態において例示したように、液体処理装置１は、気泡生成装置１００として、他の原理や方式によって液中に気泡を生成するものとすることも可能である。

【0088】

上記実施形態では、上記（ｆ）のように、気泡生成装置１００として、液体内の圧力を低下させることで、液体に含まれる水素を微細化した気泡を生成するものを採用しつつ、気泡生成装置１００における圧力低下に応じて、気泡生成装置１００から送出される液体の圧力が所定の圧力条件を満足するように、制御装置２００がポンプ６０（圧送装置）の出力を制御するものを例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、ポンプ６０の出力制御を行わなくても溶解装置１１０や透析液供給装置１２０への液体の供給圧が十分確保できる場合や、供給圧の低下が生じても問題ない場合、液体処理装置１よりも下流側に設けられた別の装置において液体を加圧して圧送可能なものである場合等においては、上記（ｆ）のような構成を備えていないものとすることも可能である。

【0089】

上記実施形態の液体処理装置１は、上記（ｈ）のように、主流路Ｓ１を洗浄する主流路洗浄運転、及び副流路Ｓ２を洗浄する副流路洗浄運転の双方において、気泡生成装置１００により生成された気泡を含む液体を活用するものであるが、本発明はこれに限定されない。例えば、液体処理装置１は、水素を含有させた液体の水素濃度が供給先に到達するまでの間に所定の最低濃度よりも低くなるのを抑制するという目的を達成できるのであれば、副流路Ｓ２の洗浄を行えるようにするという目的を達成できなくても良い場合には、気泡生成装置１００により生成された気泡を含む液体を、主流路Ｓ１にのみ供給し、副流路Ｓ２には供給しない構成とすることが可能である。また、液体処理装置１は、気泡生成装置１００により生成された気泡を活用して副流路Ｓ２の洗浄を行えるようにするという目的を達成することができるのであれば、主流路Ｓ１の洗浄において気泡生成装置１００により生成された気泡を活用する必要がないのであれば、副流路Ｓ２にのみ気泡生成装置１００により生成された気泡を含む液体を供給する構成とすると良い。

【0090】

上記実施形態では、上記（ｉ）のように、主流路Ｓ１に設けられた気泡生成装置１００を主流路Ｓ１に設けられた気泡生成装置１００において発生した気泡を含む液体を用いて主流路洗浄運転及び副流路洗浄運転の双方を行える構成とした例を示したが、液体処理装置１は、必ずしもこのような構成とする必要はない。例えば、液体処理装置１は、主流路Ｓ１に設けられた気泡生成装置１００を活用して主流路洗浄運転を行うとともに、これとは別に副流路Ｓ２に設けられた気泡生成装置１００により副流路洗浄運転を行うものとすることも可能である。

【0091】

上記実施形態では、上記（ｊ）のように、気泡生成装置１００が副流路Ｓ２に対して接続されたものとすることができる例を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。図１等に示す例のように、副流路Ｓ２に接続された気泡生成装置１００を備えず、主流路Ｓ１に接続された気泡生成装置１００のみからなるものとすることも可能である。

【0092】

本願発明は、上述した実施の形態等に記載の構成に限定されることなく、本願発明の技術的思想の範囲を逸脱しない範囲において適宜設計変更等することが可能である。上述した各実施の形態や変形例の構成要素は任意に選択して組み合わせて構成するとよい。また各実施の形態や変形例の任意の構成要素と、課題を解決するための手段、発明を実施するための形態等に記載の任意の構成要素または課題を解決するための手段、発明を実施するための形態等に記載の任意の構成要素を具体化した構成要素とは任意に組み合わせて構成するとよい。これらについても、本願または本願に基づく分割出願等において権利取得する意思を有する。

【産業上の利用可能性】

【0093】

本発明は、水素溶解装置と逆浸透膜処理装置とを備えた水処理装置全般において好適に利用できる。

【符号の説明】

【0094】

１ ：液体処理装置
５ ：逆浸透溶存水素水
３０ ：水素溶解装置
４０ ：逆浸透膜処理装置
６０ ：ポンプ
１００ ：気泡生成装置
１０４ ：フィルタ
１１０ ：溶解装置
１２０ ：透析液供給装置
２００ ：制御装置
Ｄ１ ：第一排出経路
Ｄ２ ：第二排出経路
Ｇ ：脱気水素供給路
Ｒ１ ：通液経路
Ｒ２ ：循環径路
Ｓ ：流路
Ｓ１ ：主流路
Ｓ２ ：副流路

【要約】

【課題】水素を溶解させるための水素溶解装置等を通過する経路で液体を通過させる主流路と、主流路を外れる経路で水を通過させる副流路とを備えつつ、副流路の洗浄を十分に行うことが可能な液体処理装置の実現を目的とした。
【解決手段】液体処理装置１は、水素溶解装置３０と、逆浸透膜処理装置４０と、液体の中に気泡を生成させる気泡生成装置１００と、水素溶解装置３０、逆浸透膜処理装置４０、及び気泡生成装置１００を通液可能に接続することにより形成された流路Ｓと、を有し、流路Ｓが、水素溶解装置３０及び逆浸透膜処理装置４０の双方を通過する経路で液体を通過させる主流路Ｓ１と、主流路Ｓ１を外れる経路で液体を通過させる副流路Ｓ２と、を有し、気泡生成装置１００により生成された気泡を含む液体を副流路Ｓ２に通過させることができる。
【選択図】図１

【図1】

【図2】