特許 7548966 基板処理装置および方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-09-02

(45)【発行日】2024-09-10

(54)【発明の名称】基板処理装置および方法

(51)【国際特許分類】

   B05D 3/00 20060101AFI20240903BHJP

   B05D 1/26 20060101ALI20240903BHJP

   B05D 7/24 20060101ALI20240903BHJP

   B41J 2/01 20060101ALI20240903BHJP

【ＦＩ】

B05D3/00 D

B05D1/26 Z

B05D7/24 301M

B41J2/01 205

B41J2/01 451

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2022130388

(22)【出願日】2022-08-18

(65)【公開番号】P2023031279

(43)【公開日】2023-03-08

【審査請求日】2022-08-18

(31)【優先権主張番号】10-2021-0111471

(32)【優先日】2021-08-24

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】598123150

【氏名又は名称】セメス株式会社

【氏名又は名称原語表記】ＳＥＭＥＳ ＣＯ．， ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】７７，４ｓａｎｄａｎ ５－ｇｉｌ，Ｊｉｋｓａｎ－ｅｕｐ，Ｓｅｏｂｕｋ－ｇｕ，Ｃｈｅｏｎａｎ－ｓｉ，Ｃｈｕｎｇｃｈｅｏｎｇｎａｍ－ｄｏ，３３１－８１４ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ

(74)【代理人】

【識別番号】110000671

【氏名又は名称】ＩＢＣ一番町弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】キム，スン ホ

(72)【発明者】

【氏名】ジャン，ヨン オク

(72)【発明者】

【氏名】ファン，ボ ヨン

(72)【発明者】

【氏名】イ，ヒュン ミン

(72)【発明者】

【氏名】チョイ，クワン ジュン

【審査官】清水 晋治

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１７－５０７７６８（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ０５Ｄ １／００－７／２６

Ｂ０５Ｃ ５／００－２１／００

Ｂ４１Ｊ ２／０１

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

多数のノズルを用いてインクを基板上に吐出して、前記基板上に互いに離隔した多数のインクパターンを形成し、
前記多数のインクパターンそれぞれの、前記インクに含まれる添加物の密度を算出し、
前記多数のノズルそれぞれから吐出されるインクの体積を測定し、
前記算出された多数のインクパターンそれぞれの密度と、前記測定された前記多数のノズルそれぞれから吐出されたインクの体積とに基づいて、一つのピクセル領域内にインクを吐出するための複数のノズルを選定し、前記一つのピクセル領域における基準の密度および基準の体積が設定され、前記複数のノズルは前記基準の密度および前記基準の体積に一致するように選定される、ことを含む、基板処理方法。

【請求項2】

前記多数のインクパターンそれぞれの密度を算出することは、
前記多数のインクパターンのうち第１インクパターンを撮影して、第１インクパターンイメージを生成し、
前記第１インクパターンイメージのグレースケール値を算出し、
前記グレースケール値に基づいて、前記第１インクパターンの密度を算出することを含む、請求項１に記載の基板処理方法。

【請求項3】

前記第１インクパターンイメージのグレースケール値を算出することは、
前記第１インクパターンイメージを多数の部分に区分し、
前記区分された多数の部分それぞれの前記グレースケール値を決定して、前記多数の部分の前記グレースケール値を生成し、
前記多数の部分の前記グレースケール値に基づいて、前記第１インクパターンイメージの前記グレースケール値を決定することを含む、請求項２に記載の基板処理方法。

【請求項4】

前記第１インクパターンイメージの前記グレースケール値は前記多数の部分の前記グレースケール値の平均である、請求項３に記載の基板処理方法。

【請求項5】

前記多数のノズルそれぞれから吐出されるインクの体積を測定することは、
前記多数のノズルそれぞれから吐出される状態のインクを撮影し、
前記撮影されたインクのメイン液滴の体積に基づいて、前記多数のノズルそれぞれから吐出されるインクの体積を算出することを含む、請求項１に記載の基板処理方法。

【請求項6】

前記基板はロールトゥロール方式で提供されるフレキシブル基板である、請求項１に記載の基板処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は基板処理装置および方法に関する。

【背景技術】

【0002】

ＬＣＤパネル、ＰＤＰパネル、ＬＥＤパネルなどのディスプレイ装置を製造するために基板上に印刷工程（例えば、ＲＧＢパターニング（ＲＧＢ Ｐａｔｔｅｒｎｉｎｇ））を行う。インクジェットヘッドを備える印刷装備を用いて印刷工程を行う。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0003】

しかし、ＱＤ（ｑｕａｎｔｕｍ ｄｏｔ）インクには機能向上のための多様な有機物／無機物が添加される。ところが、このような多様な添加物がヘッドの内部で均一に混合されず、ヘッドの多数のノズルから吐出されるインクの間に添加物の密度差が発生し得る。そのためムラ（ｍｕｒａ）が発生して収率が低下する。

【0004】

本発明が解決しようとする課題は、ムラ発生を最小化して収率を向上させ得る基板処理方法を提供することにある。

【0005】

本発明が解決しようとする他の課題は、ムラ発生を最小化して収率を向上させ得る基板処理装置を提供することにある。

【0006】

本発明の課題は、以上で言及した課題に制限されず、言及されていないまた他の課題は以下の記載から当業者に明確に理解されることができる。

【課題を解決するための手段】

【0007】

前記課題を達成するための本発明の基板処理方法の一面（ａｓｐｅｃｔ）は、多数のノズルを用いてインクを基板上に吐出して、前記基板上に互いに離隔した多数のインクパターンを形成し、前記多数のインクパターンそれぞれの密度を算出し、前記算出された多数のインクパターンそれぞれの密度に基づいて、一つのピクセル領域内にインクを吐出するための少なくとも一つのノズルを選定することを含む。

【0008】

前記他の課題を達成するための本発明の基板処理装置の一面は、多数のノズルを含み、前記多数のノズルを介してインクを基板上に吐出して前記基板上に互いに離隔した多数のインクパターンを形成するヘッドと、前記多数のインクパターンを撮影して、多数のインクパターンイメージを生成する第１イメージ生成モジュールと、前記多数のインクパターンイメージそれぞれのグレースケール値（ｇｒａｙｓｃａｌｅ ｖａｌｕｅ）を算出し、算出された前記グレースケール値に基づいて一つのピクセル領域内にインクを吐出するための少なくとも一つのノズルを選定する制御モジュールを含み得る。

【0009】

前記他の課題を達成するための本発明の基板処理装置の他の面は、第１ステージと、前記第１ステージに隣接する第２ステージと、前記第１ステージおよび前記第２ステージを横切るように配置されたガントリと、前記ガントリに設けられ、多数のノズルを含んで前記第１ステージおよび第２ステージでインクを吐出できるインクジェットヘッドモジュールと、前記ガントリに設けられた第１イメージ生成モジュールと、前記インクジェットヘッドモジュールおよび前記第１イメージ生成モジュールを制御する制御モジュールを含み、前記インクジェットヘッドモジュールは前記第２ステージのテスト用基板にインクを吐出して多数のインクパターンを形成し、前記第１イメージ生成モジュールは前記インクパターンを撮影してインクパターンイメージを生成し、前記制御モジュールは前記インクパターンイメージから、前記多数のインクパターンそれぞれの密度を算出し得る。

【0010】

その他実施形態の具体的な内容は詳細な説明および図面に含まれている。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】本発明の一実施形態による基板処理装置を説明するための概念図である。

【図2】本発明のいくつかの実施形態による基板処理方法における多数のインクパターンそれぞれの密度を算出する方法を説明するためのフローチャートである。

【図3】図２の方法を説明するための概念図である。

【図4】図２の方法を説明するための概念図である。

【図5】図２の方法を説明するための概念図である。

【図6】ノズルミキシング動作を説明するための概念図である。

【図7】本発明の他の実施形態による基板処理装置を説明するための概念図である。

【図8】インクのボリュームを測定する方法を説明するための図である。

【図9】インクのボリュームを測定する方法を説明するための図である。

【図10】本発明の他の実施形態による基板処理装置の動作を説明するためのフローチャートである。

【図11】本発明のまた他の実施形態による基板処理装置を説明するための図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、添付する図面を参照して本発明の好ましい実施形態について詳細に説明する。本発明の利点および特徴、並びにこれらを達成する方法は添付する図面と共に詳細に後述する実施形態を参照すると明確になる。しかし、本発明は以下に開示される実施形態に限定されるものではなく互いに異なる多様な形態で実現することができ、本実施形態は単に本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供するものであり、本発明は請求項の範疇によってのみ定義される。明細書全体にわたって同一参照符号は同一構成要素を指すものとする。

【0013】

空間的に相対的な用語である「下（ｂｅｌｏｗ）」、「下（ｂｅｎｅａｔｈ）」、「下部（ｌｏｗｅｒ）」、「上（ａｂｏｖｅ）」、「上部（ｕｐｐｅｒ）」などは図面に示されているように一つの素子または構成要素と他の素子または構成要素との相関関係を容易に記述するために使用される。空間的に相対的な用語は図面に示されている方向に加えて使用時または動作時の素子の互いに異なる方向を含む用語として理解されなければならない。例えば、図面に示されている素子をひっくり返す場合、他の素子の「下（ｂｅｌｏｗ）」または「下（ｂｅｎｅａｔｈ）」と記述された素子は他の素子の「上（ａｂｏｖｅ）」に置かれ得る。したがって、例示的な用語の「下」は下と上の方向をすべて含むことができる。素子は他の方向に配向されてもよく、そのため空間的に相対的な用語は配向によって解釈されることができる。

【0014】

第１、第２などが多様な素子、構成要素および／またはセクションを叙述するために使われるが、これらの素子、構成要素および／またはセクションはこれらの用語によって制限されないのはもちろんである。これらの用語は単に一つの素子、構成要素またはセクションを他の素子、構成要素またはセクションと区別するために使用する。したがって、以下で言及される第１素子、第１構成要素または第１セクションは本発明の技術的思想内で第２素子、第２構成要素または第２セクションであり得るのはもちろんである。

【0015】

図１は本発明の一実施形態による基板処理装置を説明するための概念図である。

【0016】

図１を参照すると、本発明の一実施形態による基板処理装置はヘッド１２０、第１イメージ生成モジュール１３０、制御モジュール１５０等を含む。

【0017】

ヘッド１２０は多数のノズルを含む。ヘッド１２０は多数のノズルを介してインクを基板１１０上に吐出して基板１１０上に互いに離隔した多数のインクパターンＰを形成する。

【0018】

基板１１０は図示するように一方向に（図面符号Ｓを参照）移動することができ、フレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）性質を有するテスト用基板であり得るが、これに限定されない。基板１１０はロールトゥロール（ｒｏｌｌ－ｔｏ－ｒｏｌｌ）方式で提供されるフレキシブル基板であり得る。または、基板１１０はガラス基板のようにハードな（ｈａｒｄ）性質を有する基板でもあり得る。

【0019】

インクパターンＰはヘッド１２０から吐出されたインクによって基板１１０上に形成される。多数のインクパターンＰそれぞれはヘッド１２０の多数のノズルそれぞれに対応する。例えば、一つのノズルが一つの吐出領域Ａ内に一度吐出して一つのインクパターンＰを生成することもでき、一つのノズルが一つの吐出領域Ａ内に多数回吐出して一つのインクパターンＰを生成することができる。

【0020】

第１イメージ生成モジュール１３０はインクパターンＰを撮影して、インクパターンイメージ（図３の１０を参照）を生成する。第１イメージ生成モジュール１３０は例えば、カメラを含み得るが、これに限定されない。インクパターンイメージ１０を生成できるものであればいかなるものでも可能である。

【0021】

制御モジュール１５０は生成された多数のインクパターンイメージ１０に基づいて、対応する多数のインクパターンＰそれぞれの密度を算出する。詳しく後述するが、制御モジュール１５０は多数のインクパターンイメージ１０それぞれのグレースケール値（ｇｒａｙｓｃａｌｅ ｖａｌｕｅ）を算出し、グレースケール値に基づいて密度を算出する。制御モジュール１５０は算出された密度に基づいてノズルミキシング動作を行う。一つのピクセル領域内に一つのピクセルを形成するために、多数のノズルが使用される。すなわち、多数のノズルから前記一つのピクセル領域内にインクを吐出してその結果として一つのピクセルが完成される。ノズルミキシング動作は一つのピクセル領域内にインクを吐出するための少なくとも一つのノズルを選定し、選定された少なくとも一つのノズルを用いて前記ピクセル領域にインクを吐出することを意味する。

【0022】

また、制御モジュール１５０はヘッド１２０の動作、第１イメージ生成モジュール１３０の動作を制御することができる。さらに制御モジュール１５０は基板１１０の動作も制御することができる。

【0023】

本発明の一実施形態による基板処理装置の動作をまとめると次のとおりである。

【0024】

まず、ヘッド１２０は多数のノズルを用いてインクを基板１１０上に吐出して、基板１１０上に互いに離隔した多数のインクパターンＰを形成する。次に、制御モジュール１５０は多数のインクパターンＰそれぞれの密度を算出する。次に、制御モジュール１５０は算出された多数のインクパターンＰそれぞれの密度に基づいて、一つのピクセル領域（図６のＰ１，Ｐ２，Ｐ３を参照）内にインクを吐出するための少なくとも一つのノズル（図６のＮ１～Ｎ１０参照）を選定する（すなわち、ノズルミキシング動作を行う）。

【0025】

以下では、多数のインクパターンＰそれぞれの密度を算出する方法を図２ないし図５を参照して説明する。

【0026】

図２は本発明のいくつかの実施形態による基板処理方法における、多数のインクパターンＰそれぞれの密度を算出する方法を説明するためのフローチャートである。図３ないし図５は図２の方法を説明するための概念図である。

【0027】

図１および図２を参照すると、ヘッド１２０により基板１１０上に互いに離隔した多数のインクパターンＰが形成された後に、第１イメージ生成モジュール１３０は多数のインクパターンＰのうち第１インクパターン（多数のインクパターンのうち任意の一つを意味する）を撮影して第１インクパターンイメージ１０を生成する（図２のＳ２１０）。

【0028】

第１インクパターンイメージ１０は図３に示したもののとおりである。例えば、第１インクパターンイメージ１０のセンター領域１０Ｃはエッジ領域１０Ｅに比べて明るくてもよい。第１インクパターンＰで添加物（例えば、無機物）が集まっている領域は、第１インクパターンイメージ１０で相対的に暗く見える（エッジ領域１０Ｅを参照）。逆に、第１インクパターンＰで添加物が少ない領域は、第１インクパターンイメージ１０で相対的に明るく見える（センター領域１０Ｃを参照）。

【0029】

第１インクパターンイメージ１０はグレースケール（ｇｒａｙｓｃａｌｅ）で表示されたものであり得る。すなわち、第１インクパターンイメージ１０は第１イメージ生成モジュール１３０によりグレースケールで撮影されたものでもあり得、第１イメージ生成モジュール１３０によりカラー（ｃｏｌｏｒ）で撮影された後制御モジュール１５０によりグレースケールに変化したものであり得る。

【0030】

次に、制御モジュール１５０は第１インクパターンイメージ１０のグレースケール値を算出する（図２のＳ２２０）。

【0031】

具体的には、図４に示すように、制御モジュール１５０は第１インクパターンイメージ１０を多数の部分１０ａ～１０ｆに区分する。例えば、制御モジュール１５０は第１インクパターンイメージ１０に多数の横線と多数の縦線が互いに交差するように配置し、多数の横線と多数の縦線によって定義される領域を生成したが、これに限定されない。また、制御モジュール１５０は一つの部分１０ａ～１０ｆが実質的な四角形形状になるようにしたが、これに限定されない。一つの部分１０ａ～１０ｆは実質的な三角形形状または五角形形状であってもよい。

【0032】

また、図５に示すように、制御モジュール１５０は区分された多数の部分１０ａ～１０ｆそれぞれのグレースケール値（ｇｒａｙｓｃａｌｅ ｖａｌｕｅ）を決定して、多数の部分グレースケール値を生成する。例えば、多数の部分１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ，１０ｅ，１０ｆそれぞれの部分グレースケール値は９、１０、１１、６、５、６等であり得る。すなわち、第１インクパターンイメージ１０のセンター領域１０Ｃに位置する部分１０ｄ，１０ｅ，１０ｆは相対的に部分グレースケール値が小さく、エッジ領域１０Ｅに位置する部分１０ａ，１０ｂ，１０ｃは相対的に部分グレースケール値が大きくてもよい。このような部分グレースケール値は例示的なものであり、これに限定されない。図示とは異なり、インクパターンＰによってはセンター領域１０Ｃに位置する部分１０ｄ，１０ｅ，１０ｆの部分グレースケール値が相対的に大きく、エッジ領域１０Ｅに位置する部分１０ａ，１０ｂ，１０ｃの部分グレースケール値が相対的に小さくてもよい。

【0033】

また、制御モジュール１５０は多数の部分グレースケール値に基づいて、第１インクパターンイメージ１０全体のグレースケール値を決定する。

【0034】

例えば、制御モジュール１５０は多数の部分グレースケール値の平均を出して、第１インクパターンイメージ１０のグレースケール値を決定することができる（すなわち、算術平均を利用）。または、制御モジュール１５０は特定領域に加重値を付与して（例えば、エッジ領域１０Ｅに対応する部分グレースケール値に相対的に高い加重値を付与して）、第１インクパターンイメージ１０のグレースケール値を決定することができる（すなわち、加重平均を利用）。制御モジュール１５０は算術平均、加重平均以外の他の方式を用いて、第１インクパターンイメージ１０のグレースケール値を決定することができる。

【0035】

次に、制御モジュール１５０は決定された第１インクパターンイメージ１０のグレースケール値に基づいて、第１インクパターンＰの密度を算出する（図２のＳ２３０）。

【0036】

具体的には、制御モジュール１５０は第１インクパターンイメージ１０のグレースケール値に対応するように第１インクパターンＰの密度を決定することができる。
前述したように、第１インクパターンＰで添加物（例えば、無機物）が集まっている領域は、第１インクパターンイメージ１０で相対的に暗く見える。逆に、第１インクパターンＰで添加物が少ない領域は、第１インクパターンイメージ１０で相対的に明るく見える。したがって、第１インクパターンイメージ１０のグレースケール値に比例して、第１インクパターンＰの密度を決定することができる。例えば、第１インクパターンイメージ１０のグレースケール値が大きいと、第１インクパターンＰの密度値を大きく決定することができる。または、第１インクパターンイメージ１０のグレースケール値を、第１インクパターンＰの密度で決定することもできる。

【0037】

以下では図６を参照して、算出された多数のインクパターンＰそれぞれの密度に基づいて、一つのピクセル領域（例えば、Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３の一つ）内にインクを吐出するための少なくとも一つのノズル（例えば、Ｎ１～Ｎ１０の一つ）を選定する方法（すなわち、ノズルミキシング動作）を説明する。

【0038】

図６はノズルミキシング動作を説明するための概念図である。

【0039】

図６を参照すると、ヘッド１２０には多数のノズルＮ１～Ｎ１０が設けられている。図１ないし図５を用いて説明した方法により、多数のノズルＮ１～Ｎ１０それぞれに対してインクの密度が測定された。例えば、第１ノズルＮ１から吐出されるインクの密度は９、第２ノズルＮ２から吐出されるインクの密度は８、第３ノズルＮ３から吐出されるインクの密度は８、第９ノズルＮ９から吐出されるインクの密度は１０、第１０ノズルＮ１０から吐出されるインクの密度は１１であると仮定する。

【0040】

説明の便宜上、多数のノズルＮ１～Ｎ１０それぞれから吐出されるインクのボリューム（ｖｏｌｕｍｅ）はすべて同一であると仮定する。例えば、多数のノズルＮ１～Ｎ１０それぞれから吐出されるインクのボリュームは１であると仮定する。

【0041】

例えば、基板Ｇには多数のピクセル領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３が定義されている。

【0042】

ヘッド１２０は第１方向Ｘに、すなわち図面上で左右方向に移動する。基板１１０は第２方向Ｙに、すなわち図面上で上下方向に移動することができる。
ここで、各ピクセル領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３にボリューム３のインクが吐出される場合のみピクセルが完成されると仮定する。一つのノズルＮ１～Ｎ１０から吐出されるインクのボリュームは１であるので、一つのピクセル領域（例えば、Ｐ１）に３回のインク吐出が行われなければならない。

【0043】

ピクセル領域Ｐ１内のインクの密度を１０に合わせるために、制御モジュール１５０はピクセル領域Ｐ１内にインクを吐出するためのノズルとして、第１ノズルＮ１、第９ノズルＮ９、第１０ノズルＮ１０を選定する。選定された３個のノズルＮ１，Ｎ９，Ｎ１０はそれぞれピクセル領域Ｐ１に１回ずつインクを吐出する。すると、ボリュームは３に合わせられ（すなわち、１＋１＋１＝３）、密度は１０に合わせられる（すなわち、（９＋１０＋１１）／３＝１０）。

【0044】

または、ピクセル領域Ｐ２内のインクの密度を９に合わせるために、制御モジュール１５０はピクセル領域Ｐ２内にインクを吐出するためのノズルとして、第１ノズルＮ１、第３ノズルＮ３、第９ノズルＮ９を選定する。選定された３個のノズルＮ１，Ｎ３，Ｎ９はそれぞれピクセル領域Ｐ２に１回ずつインクを吐出する。すると、ボリュームは３に合わせられ（すなわち、１＋１＋１＝３）、密度は９に合わせられる（すなわち、（９＋８＋１０）／３＝９）。第２ノズルＮ２から吐出されるインクの密度と第３ノズルＮ３から吐出されるインクの密度は互いに同一であるため、Ｎ１、Ｎ３、Ｎ９の代わりにＮ１、Ｎ２、Ｎ９が選定されることもできる。

【0045】

このように一つのピクセル領域Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３内にインクを吐出するための少なくとも一つのノズルＮ１～Ｎ１０を、密度を基準として選定することができる。

【0046】

図７は本発明の他の実施形態による基板処理装置を説明するための概念図である。図８および図９はインクのボリュームを測定する方法を説明するための図である。説明の便宜上図１ないし図６を用いて説明した内容と異なる点を中心に説明する。

【0047】

まず図７を参照して、本発明の他の実施形態による基板処理装置は、ヘッド１２０、第１イメージ生成モジュール１３０、第２イメージ生成モジュール１４０、制御モジュール１５０等を含む。

【0048】

ヘッド１２０は多数のノズルを介してインクを基板１１０上に吐出して基板１１０上に互いに離隔した多数のインクパターンＰを形成する。

【0049】

第１イメージ生成モジュール１３０は基板１１０上の多数のインクパターンＰを撮影して、多数のインクパターンイメージ（図３の１０参照）を生成する。

【0050】

制御モジュール１５０は多数のインクパターンイメージ１０に基づいて、対応する多数のインクパターンＰそれぞれの密度を算出する。前述したように、制御モジュール１５０は多数のインクパターンイメージ１０それぞれのグレースケール値（ｇｒａｙｓｃａｌｅ ｖａｌｕｅ）を算出し、グレースケール値に基づいて密度を算出する。

【0051】

第２イメージ生成モジュール１４０は多数のノズルそれぞれから吐出されるインクを撮影し、多数のインク液滴イメージ（図８の３００を参照）を生成する。第２イメージ生成モジュール１４０は例えば、カメラを含み得るが、これに限定されない。インク液滴イメージ３００を生成できるものであれば、いかなるものでも可能である。

【0052】

また、制御モジュール１５０は多数のインク液滴イメージ３００に基づいて、対応する多数のインクのボリュームを算出する。

【0053】

ここで、図９を参照すると、図９は多数のインク液滴イメージ３００のうち第１インク液滴イメージ（多数のインク液滴イメージのうち任意の一つを意味する）の位置に応じたボリュームを示す図である。図９のｙ軸はノズルの表面から離れた距離（ｄｉｓｔａｎｃｅ）を意味し（単位：μｍ）、ｘ軸はピクセル別の体積（ｖｏｌｕｍｅ／ｐｉｘｅｌ）を意味する（単位ｐＬ）。

【0054】

制御モジュール１５０はインク液滴イメージ（図８の３００を参照）を同じ位置に応じたボリュームグラフ（図９参照）に変換し、メイン液滴３０１を見つける。メイン液滴３０１を見つける方法は多様であり得るが、例えば、図９でスロープ（ｓｌｏｐｅ）が急激に増加または急激に減少する領域を基準としてメイン液滴３０１を見つける。

【0055】

制御モジュール１５０はこのように見つけたインクのメイン液滴３０１のボリュームに基づいて、ノズルから吐出されるインクのボリュームを算出する。例えば、制御モジュール１５０はインクのメイン液滴３０１のボリュームを、インクの全体ボリュームとして決定する。インク液滴でメイン液滴３０１が全体ボリュームに寄与する程度が非常に大きく、メイン液滴３０１を除いた残りの部分（例えば、サテライト液滴（３０２）、連結液滴３０３等）は全体ボリュームに寄与する程度が小さいからである。

【0056】

制御モジュール１５０はヘッド１２０の動作、第１イメージ生成モジュール１３０、第２イメージ生成モジュール１４０の動作を制御する。さらに制御モジュール１５０は基板１１０の動作を制御することもできる。

【0057】

本発明の他の実施形態による基板処理装置の動作をまとめると次のとおりである。図１０を参照すると、ヘッド１２０は多数のノズルを用いてインクを基板１１０上に吐出して、基板１１０上に互いに離隔した多数のインクパターンＰを形成する。

【0058】

第２イメージ生成モジュール１４０は多数のノズルから吐出される状態のインクを撮影してインク液滴イメージ（図８の３００を参照）を生成する。次に、制御モジュール１５０はインク液滴イメージ３００からインクのボリュームを算出する（Ｓ４１０）
第１イメージ生成モジュール１３０は多数のインクパターンＰを撮影してインクパターンイメージ（図３の１０を参照）を生成する。次に、制御モジュール１５０はインクパターンイメージ１０からインクの密度を算出する（Ｓ４２０）。

【0059】

次に、制御モジュール１５０は多数のインクパターンイメージそれぞれのグレースケール値（すなわち、インクの密度）と多数のノズルそれぞれから吐出されたインクのボリュームに基づいて、一つのピクセル領域内にインクを吐出するための少なくとも一つのノズルを選定することができる（すなわち、ノズルミキシング動作を実行）（Ｓ４３０）。

【0060】

ここで、再び図６を参照して、ノズルミキシング動作を具体的に説明する。前述したように、多数のノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３，Ｎ９，Ｎ１０から吐出されるインクの密度は、それぞれ９、８、８、１０、１１であると仮定する。また、多数のノズルＮ１，Ｎ２，Ｎ３，Ｎ９，Ｎ１０から吐出されるインクのボリュームは、それぞれ１、１．２、０．８、１．２、１であると仮定する。

【0061】

例えば、ピクセル領域Ｐ３内のインクの密度を９に合わせるには、制御モジュール１５０はピクセル領域Ｐ３内にインクを吐出するためのノズルとして、第１ノズルＮ１、第３ノズルＮ３、第９ノズルＮ９を選定する。

【0062】

具体的に説明すると、先に密度を基準として使用可能なノズル候補を選定する。ピクセル領域Ｐ３内のインクの密度を９に合わせるために、ノズル候補はＮ１、Ｎ２、Ｎ３、Ｎ９が選定され得る。次に、体積を基準として、前記ノズル候補のうち最終的に使用するノズルを選定する。一つのピクセル領域Ｐ３内のインクのボリュームは３に合わせなければならないため、Ｎ２よりはＮ３がより適する。したがって、最終的に使用されるノズルはＮ１、Ｎ３、Ｎ９が選定される。

【0063】

選定された３個のノズルＮ１，Ｎ３，Ｎ９はそれぞれピクセル領域Ｐ２に１回ずつインクを吐出する。すると、ボリュームは３に合わせられ（すなわち、１＋０．８＋１．２＝３）、密度は９に合わせられる（すなわち、（９＋８＋１０）／３＝９）。

【0064】

図１１は本発明のまた他の実施形態による基板処理装置を説明するための図である。

【0065】

図１１を参照すると、本発明のまた他の実施形態による基板処理装置は、第１ステージＰＴ、第２ステージＭＴ、ガントリ４１０、インクジェットヘッドモジュール４２０、第１イメージ生成モジュール４４０ａ，４４０ｂ，４４０ｃ、第２イメージ生成モジュール４３０、テスト用基板ＪＯＦ１，ＪＯＦ２，ＪＯＦ３、基板Ｇ等を含む。

【0066】

第１ステージＰＴは基板Ｇを支持して移動させるための領域である。第１ステージＰＴで基板Ｇを移動する方法は、特定方式に限定されない。例えば、ホルダが基板Ｇを 保持して移動させたり、エアーフローティング方式によって基板Ｇを移動させることができる。基板Ｇは第２方向Ｙに沿って移動し得る。基板Ｇは例えば、ガラス基板を有することができる。

【0067】

第２ステージＭＴは第１ステージＰＴに第１方向Ｘに隣接して配置される。第２ステージＭＴには、多数のテスト用基板ＪＯＦ１，ＪＯＦ２，ＪＯＦ３が配置される。多数のテスト用基板ＪＯＦ１，ＪＯＦ２，ＪＯＦ３は第２方向Ｙに沿って長く延びるように配置され得る。多数のテスト用基板ＪＯＦ１，ＪＯＦ２，ＪＯＦ３は第１方向Ｘを互いに隣接して配置される。多数のテスト用基板ＪＯＦ１，ＪＯＦ２，ＪＯＦ３それぞれはフレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）性質を有し、例えば、ロールトゥロール（ｒｏｌｌ－ｔｏ－ｒｏｌｌ）方式で提供されることができる。

【0068】

ガントリ４１０は第１ステージＰＴおよび第２ステージＭＴ上に、第１ステージＰＴおよび第２ステージＭＴを横切るように配置される。ガントリ４１０は第１方向Ｘに長く延び得る。

【0069】

インクジェットヘッドモジュール４２０はガントリ４１０に設けられ、ガントリ４１０に沿って移動することができる（図面符号Ｗを参照）。図示するように、インクジェットヘッドモジュール２２０は第１方向Ｘに移動できるが、これに限定されない。インクジェットヘッドモジュール４２０はインクを吐出する多数のヘッドを含み得、各ヘッドは多数のノズルを含むことができる。インクは例えば、ＱＤ（Ｑｕａｎｔｕｍ Ｄｏｔ）インクであり得るが、これに限定されない。

【0070】

多数の第１イメージ生成モジュール４４０ａ，４４０ｂ，４４０ｃはガントリ４１０に形成される。多数の第１イメージ生成モジュール４４０ａ，４４０ｂ，４４０ｃそれぞれはカメラを含み得るが、これに限定されない。第１イメージ生成モジュール４４０ａ，４４０ｂ，４４０ｃはテスト用基板ＪＯＦ１，ＪＯＦ２，ＪＯＦ３に対応する位置に配置され得る。

【0071】

インクジェットヘッドモジュール４２０は多数のテスト用基板ＪＯＦ１，ＪＯＦ２，ＪＯＦ３にインクを吐出して、テスト用基板ＪＯＦ１，ＪＯＦ２，ＪＯＦ３に多数のインクパターンＰを形成する。第１イメージ生成モジュール４４０ａ，４４０ｂ，４４０ｃは多数のインクパターンＰを撮影し、多数のインクパターンイメージ（図３の１０を参照）を生成する。制御モジュール（図示せず）は多数のインクパターンイメージ１０それぞれのグレースケール値（ｇｒａｙｓｃａｌｅ ｖａｌｕｅ）を算出し、グレースケール値に基づいてインクパターンの密度を算出する。

【0072】

第２イメージ生成モジュール４３０はガントリ４１０に設けられ、インクジェットヘッドモジュール４２０に隣接して配置される。第２イメージ生成モジュール４３０はインクジェットヘッドモジュール４２０と共にガントリ４１０に沿って移動し得る。第２イメージ生成モジュール４３０は多数のノズルそれぞれから吐出されるインクを撮影して、多数のインク液滴イメージ（図８の３００を参照）を生成する。制御モジュール（図示せず）は多数のインク液滴イメージ３００から、前記インクのボリュームを算出する。

【0073】

制御モジュール１５０は算出された密度とボリュームを用いて、ノズルミキシング動作を行う。

【0074】

一方、インクの密度を算出することは、インクのボリュームを算出することよりもより頻繁に行われ得る。インクのボリュームは主にノズルの状態に応じて変わるので、相対的に容易に変わらない。反面、インクの密度はインクの添加物の混合程度によって変わるので、インクのボリュームに比べて相対的に容易に変わり得る。したがって、制御モジュール１５０がノズルに応じたインクのボリュームデータを第１期間の間使用できれば、制御モジュール１５０はノズルに応じたインクの密度データを第１期間より短い第２期間の間のみ使用することができる。

【0075】

例えば、工程処理された基板Ｇが第１ステージＰＴでアンロードされて工程処理される新しい基板Ｇが第１ステージＰＴにロードされる前に、インクジェットヘッドモジュール４２０は第２ステージＭＴに移動してテスト用基板ＪＯＦ１，ＪＯＦ２，ＪＯＦ３にインクを吐出してインクパターンを形成する。第１イメージ生成モジュール４４０ａ，４４０ｂ，４４０ｃはインクパターンを撮影してインクパターンイメージを生成する。すなわち、制御モジュール１５０は新しい基板Ｇが第１ステージＰＴにロードされるたびに、ノズルに応じたインクの密度データを生成することができる。

【0076】

反面、基板処理装置のセッティング期間やメンテナンス期間など既に設定された時期にのみ、第２イメージ生成モジュール１４０が吐出されるインクを撮影してインク液滴イメージを生成することができる。すなわち、制御モジュール１５０は既に設定された時期にのみ（または定期的に）ノズルに応じたインクのボリュームデータを生成することができる。

【0077】

制御モジュール１５０はこのように生成されたインクの密度データ、ボリュームデータを用いてノズルミキシング動作を行う。

【0078】

以上と添付する図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明がその技術的思想や必須の特徴を変更せず他の具体的な形態で実施できることを理解することができる。したがって、上記一実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】