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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-09-05
(45)【発行日】2024-09-13
(54)【発明の名称】流体処理デバイスおよび方法
(51)【国際特許分類】
G01N 35/08 20060101AFI20240906BHJP
【ＦＩ】
G01N35/08 A
【請求項の数】
9
(21)【出願番号】P 2021569936
(86)(22)【出願日】2020-02-07
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2022-08-10
(86)【国際出願番号】 US2020017202
(87)【国際公開番号】W WO2020242544
(87)【国際公開日】2020-12-03
【審査請求日】2023-01-26
(31)【優先権主張番号】62/852,719
(32)【優先日】2019-05-24
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(73)【特許権者】
【識別番号】521511151
【氏名又は名称】ロスト アロー バイオ， インコーポレイテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100078282
【弁理士】
【氏名又は名称】山本 秀策
(74)【代理人】
【識別番号】100113413
【弁理士】
【氏名又は名称】森下 夏樹
(74)【代理人】
【識別番号】100181674
【弁理士】
【氏名又は名称】飯田 貴敏
(74)【代理人】
【識別番号】100181641
【弁理士】
【氏名又は名称】石川 大輔
(74)【代理人】
【識別番号】230113332
【弁護士】
【氏名又は名称】山本 健策
(72)【発明者】
【氏名】キルコイン， クリストファー
【審査官】外川 敬之
(56)【参考文献】
【文献】米国特許出願公開第２０１０／０１６５７８４（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特表２０１３－５２１７８０（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第０３／０６００５６（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０１Ｎ ３５／０８
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
流体処理デバイスであって、前記流体処理デバイスは、２つ以上の流体チャネルの第１の組と２つ以上の流体チャネルの第２の組とを備えている複数の流体チャネルと、
前記複数の流体チャネルのそれぞれに関連付けられているサンプル入力ウェルと、
前記複数の流体チャネルのそれぞれに関連付けられているサンプル出力ウェルと、
少なくとも初期処理ステーションと、
末端処理ステーションと、
前記初期処理ステーションと前記末端処理ステーションとの間に配置されている１つ以上の中間処理ステーションと
を備え、
前記少なくとも初期処理ステーションは、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている第１の初期プロセスポンプアセンブリと、
前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている第２の初期プロセスポンプアセンブリと、
前記複数の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている初期プロセスチャンバと
を備え、
前記初期処理ステーションの前記第１の初期プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であることにより、前記第１の組の前記関連付けられている流体チャネルの各サンプル入力ウェルから、前記第１の組の各関連付けられている流体チャネルの一部を通して、各関連付けられている初期プロセスチャンバの中に流体サンプルを同時に移動させるように構成されており、
前記第２の初期プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であることにより、前記第２の組の前記関連付けられている流体チャネルの各サンプル入力ウェルから、前記第２の組の各関連付けられている流体チャネルの一部を通して、各関連付けられている初期プロセスチャンバの中に流体サンプルを同時に移動させるように構成されており、
前記少なくとも初期処理ステーションは、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている第１の初期試薬ポンプアセンブリと、
前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている第２の初期試薬ポンプアセンブリと、
前記複数の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている初期試薬入力ウェルと、
各初期試薬入力ウェルに関連付けられている初期試薬チャネルと
をさらに備え、
前記初期試薬チャネルは、前記初期試薬入力ウェルを前記関連付けられている流体チャネルの前記初期プロセスチャンバに接続し、
前記第１の初期試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であることにより、前記第１の組の関連付けられている流体チャネルの各初期試薬入力ウェルから、前記関連付けられている初期試薬チャネルを通して、前記第１の組の関連付けられている流体チャネルの各初期プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成されており、
前記第２の初期試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であることにより、前記第２の組の前記関連付けられている流体チャネルの各初期試薬入力ウェルから、前記関連付けられている初期試薬チャネルを通して、前記第２の組の前記関連付けられている流体チャネルの各初期プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成されており、
前記末端処理ステーションは、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている第１の末端プロセスポンプアセンブリと、
前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている第２の末端プロセスポンプアセンブリと
を備え、
前記末端処理ステーションの前記第１の末端プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であることにより、前記第１の組の各関連付けられている流体チャネルの一部を通して、前記第１の組の前記関連付けられている流体チャネルの各サンプル出力ウェルの中に流体を同時に移動させるように構成されており、
前記末端処理ステーションの前記第２の末端プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であることにより、前記第２の組の各関連付けられている流体チャネルの一部を通して、前記第２の組の前記関連付けられている流体チャネルの各サンプル出力ウェルの中に流体を同時に移動させるように構成されており、
各中間処理ステーションは、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている第１の中間プロセスポンプアセンブリと、
前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている第２の中間プロセスポンプアセンブリと、
前記複数の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている中間プロセスチャンバと
を備え、
各中間処理ステーションの前記第１の中間プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であることにより、前記初期処理ステーションまたは前記１つ以上の中間処理ステーションのうちの先行するもののプロセスチャンバから、前記第１の組の各関連付けられている流体チャネルの一部を通して、前記第１の組の各関連付けられている中間プロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成されており、
各中間処理ステーションの前記第２の中間プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であることにより、前記先行する処理ステーションのプロセスチャンバから、前記第２の組の各関連付けられている流体チャネルの一部を通して、前記第２の組の各関連付けられている中間プロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成されており、
各中間処理ステーションは、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている第１の中間試薬ポンプアセンブリと、
前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている第２の中間試薬ポンプアセンブリと、
前記複数の流体チャネルのそれぞれに関連付けられている中間試薬入力ウェルと、
各中間試薬入力ウェルに関連付けられている中間試薬チャネルと
をさらに備え、
前記中間試薬チャネルは、前記中間試薬入力ウェルを前記関連付けられている流体チャネルの前記中間プロセスチャンバに接続し、
前記１つ以上の中間処理ステーションの前記第１の中間試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であることにより、前記第１の組の前記関連付けられている流体チャネルの各中間試薬入力ウェルから、前記関連付けられている中間試薬チャネルを通して、前記第１の組の前記関連付けられている流体チャネルの各中間プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成されており、
前記１つ以上の中間処理ステーションの前記第２の中間試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であることにより、前記第２の組の前記関連付けられている流体チャネルの各中間試薬入力ウェルから、前記関連付けられている中間試薬チャネルを通して、前記第２の組の前記関連付けられている流体チャネルの各中間プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成されている、流体処理デバイス。
【請求項2】
前記流体処理デバイスは、前記初期処理ステーションと前記末端処理ステーションとの間に配置されている５つの中間処理ステーションを備えている、請求項１に記載の流体処理デバイス。
【請求項3】
前記第１の初期プロセスポンプアセンブリおよび前記第２の初期プロセスポンプアセンブリおよび前記第１の中間プロセスポンプアセンブリおよび前記第２の中間プロセスポンプアセンブリおよび前記第１の末端プロセスポンプアセンブリおよび前記第２の末端プロセスポンプアセンブリのそれぞれは、２つ以上のプロセス固定子であって、各プロセス固定子は、第１のプロセスポンプチャンバおよび第２のプロセスポンプチャンバと、第１のプロセスチャンバポートおよび第２のプロセスチャンバポートとを画定し、前記第１のプロセスチャンバポートおよび前記第２のプロセスチャンバポートは、それぞれ、前記第１のプロセスポンプチャンバおよび前記第２のプロセスポンプチャンバと流体連通している、プロセス固定子と、
前記第１のプロセスポンプチャンバおよび前記第２のプロセスポンプチャンバのそれぞれ内に配置されているプロセスプランジャであって、前記第１のプロセスポンプチャンバ内に配置されている前記プロセスプランジャは、第１のプロセスプランジャロッドに接続されており、前記第２のプロセスポンプチャンバ内に配置されている前記プロセスプランジャは、第２のプロセスプランジャロッドに接続されており、
前記第１のプロセスポンプチャンバ内に配置されている前記プロセスプランジャは、前記関連付けられている第１のプロセスチャンバポートを通して前記第１のプロセスポンプチャンバの中に流体を同時に引き込むための第１の方向または前記関連付けられている第１のプロセスチャンバポートを通して前記第１のプロセスポンプチャンバから流体を同時に排出するための第２の方向に、前記第１のプロセスプランジャロッドを介して移動可能であり、
前記第２のプロセスポンプチャンバ内に配置されている前記プロセスプランジャは、前記関連付けられている第２のプロセスチャンバポートを通して前記第２のプロセスポンプチャンバの中に流体を同時に引き込むための第１の方向または前記関連付けられている第２のプロセスチャンバポートを通して前記第２のプロセスポンプチャンバから流体を同時に排出するための第２の方向に、前記第２のプロセスプランジャロッドを介して移動可能である、プロセスプランジャと、
各プロセス固定子に結合されているプロセス弁と
を備え、
前記プロセス弁は、前記第１のプロセスチャンバポートおよび前記第２のプロセスチャンバポートを各関連付けられている流体チャネルの上流部分に流体的に接続する第１の位置と、前記第１のプロセスチャンバポートおよび前記第２のプロセスチャンバポートを各
関連付けられている流体チャネルの下流部分に流体的に接続する第２の位置との間で移動可能であり、前記関連付けられている流体チャネルの前記下流部分は、前記関連付けられているプロセスチャンバまたは前記関連付けられているサンプル出力ウェルと流体連通している、請求項１に記載の流体処理デバイス。
【請求項4】
前記プロセス弁は、前記第１の位置と前記第２の位置との間の回転移動のために前記プロセス固定子に対して回転可能に搭載されている回転子を備えている、請求項３に記載の流体処理デバイス。
【請求項5】
前記第１の初期プロセスポンプアセンブリおよび前記第２の初期プロセスポンプアセンブリおよび前記第１の中間プロセスポンプアセンブリおよび前記第２の中間プロセスポンプアセンブリのそれぞれは、２つ以上の試薬固定子であって、各試薬固定子は、第１の試薬ポンプチャンバおよび第２の試薬ポンプチャンバと、第１の試薬チャンバポートおよび第２の試薬チャンバポートとを画定し、前記第１の試薬チャンバポートおよび前記第２の試薬チャンバポートは、それぞれ、前記試薬ポンプチャンバと流体連通している、試薬固定子と、
前記第１の試薬ポンプチャンバおよび前記第２の試薬ポンプチャンバのそれぞれ内に配置されている試薬プランジャであって、前記第１の試薬ポンプチャンバ内に配置されている前記試薬プランジャは、第１の試薬プランジャロッドに接続されており、前記第２の試薬ポンプチャンバ内に配置されている前記試薬プランジャは、第２の試薬プランジャロッドに接続されており、
前記第１の試薬ポンプチャンバ内に配置されている前記試薬プランジャは、前記第１の試薬チャンバポートを通して前記第１の試薬ポンプチャンバの中に流体を引き込む第１の方向または前記第１の試薬チャンバポートを通して前記第１の試薬ポンプチャンバから流体を排出する第２の方向に、前記第１の試薬プランジャロッドを介して移動可能であり、
前記第２の試薬ポンプチャンバ内に配置されている前記試薬プランジャは、前記第２の試薬チャンバポートを通して前記第２の試薬ポンプチャンバの中に流体を引き込む第１の方向または前記第２の試薬チャンバポートを通して前記第２の試薬ポンプチャンバから流体を排出する第２の方向に、前記第２の試薬プランジャロッドを介して移動可能である、試薬プランジャと、
前記試薬固定子に結合されている試薬弁と
を備え、
前記試薬弁は、前記第１の試薬チャンバポートおよび前記第２の試薬チャンバポートを前記関連付けられている第１の試薬入力ウェルおよび第２の試薬入力ウェルに流体的に接続する第１の位置と、前記第１の試薬チャンバポートおよび前記第２の試薬チャンバポートを前記関連付けられているプロセスチャンバに流体的に接続する第２の位置との間で移動可能である、請求項１～４のいずれか一項に記載の流体処理デバイス。
【請求項6】
前記試薬弁は、前記第１の位置と前記第２の位置との間の回転移動のために前記試薬固定子に対して回転可能に搭載されている回転子を備えている、請求項５に記載の流体処理デバイス。
【請求項7】
前記第１の初期プロセスポンプアセンブリおよび前記第２の初期プロセスポンプアセンブリおよび前記第１の中間プロセスポンプアセンブリおよび前記第２の中間プロセスポンプアセンブリおよび前記第１の末端プロセスポンプアセンブリおよび前記第２の末端プロセスポンプアセンブリは、プロセス弁ロッドを備え、前記第１の初期プロセスポンプアセンブリおよび前記第２の初期プロセスポンプアセンブリおよび前記第１の中間プロセスポンプアセンブリおよび前記第２の中間プロセスポンプアセンブリおよび前記第１の末端プロセスポンプアセンブリおよび前記第２の末端プロセスポンプアセンブリのそれぞれの前記プロセス弁は、前記プロセス弁ロッドに結合されており、それによって、前記プロセス弁ロッドの移動が、それぞれの第１の位置と第２の位置との間で各プロセス弁の同時移動を生じさせる、請求項３～４のいずれか一項に記載の流体処理デバイス。
【請求項8】
前記第１の初期試薬ポンプアセンブリおよび前記第２の初期試薬ポンプアセンブリおよび前記第１の中間試薬ポンプアセンブリおよび前記第２の中間試薬ポンプアセンブリは、試薬弁ロッドを備え、前記第１の初期試薬ポンプアセンブリおよび前記第２の初期試薬ポンプアセンブリおよび前記第１の中間試薬ポンプアセンブリおよび前記第２の中間試薬ポンプアセンブリのそれぞれの前記試薬弁は、前記試薬弁ロッドに結合されており、それによって、前記試薬弁ロッドの移動が、それぞれの第１の位置と第２の位置との間で各試薬弁の同時移動を生じさせる、請求項５～６のいずれか一項に記載の流体処理デバイス。
【請求項9】
前記流体処理デバイスは、８つの流体チャネルを備えている、請求項１～８のいずれか一項に記載の流体処理デバイス。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【0001】
流体の複数のサンプルの多段階流体処理等の流体処理は、人為的エラー、機器エラー（例えば、処理体積またはタイミングの不一致）、二次汚染、および環境汚染を含む、問題の影響を受け得る。これらの問題は、計算、測定、識別、分析、または作動におけるエラー等のエラーにつながり得、それらは、例えば、不精密または不正確な結果および一貫性のないサンプル調製を生成し得る。これらの問題は、従来の流体処理技法およびデバイスにおける精巧な流体処理機器のための要件によって増幅される。加えて、従来の流体処理技法およびデバイスは、時間がかかり、高価である。
【0002】
したがって、複数の流体サンプル（例えば、単一の流体の複数のサンプル）の多段階流体処理を実施し、精密かつ正確な結果を効率的に生成し、一貫した処理された流体サンプルを調製し、人為的エラー、機器エラー、および汚染の問題を回避し得る流体処理デバイスおよび方法の必要性が存在する。複数の高価な従来の流体処理機器に取って代わり、次世代シークエンシング（ＮＧＳ）等のプロセスのための自動サンプル調製を提供し得る低コスト消耗品に含まれるべきそのようなデバイスおよび方法の必要性も存在する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0003】
以下は、本明細書に説明されるいくつかの側面の基本的理解を提供するために、簡略化された概要を提示する。本概要は、請求される主題の広範な概観ではない。これは、請求される主題の主要または重要な要素を識別することも、その範囲を正確に描写することも意図していない。その唯一の目的は、後に提示される、より詳細な説明の前置きとして、簡略化された形態でいくつかの概念を提示することである。
【0004】
本開示の側面は、２つ以上の流体チャネルと、少なくとも第１の処理ステーションとを備えている流体処理デバイスを包含する。第１の処理ステーションは、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１のプロセスポンプアセンブリと、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１のプロセスチャンバであって、第１の処理ステーションの第１のプロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、関連付けられた流体チャネルの各第１のプロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成されている、第１のプロセスチャンバとを含み得る。第１の処理ステーションはさらに、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の試薬ポンプアセンブリと、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の試薬入力ウェルと、各第１の試薬入力ウェルを関連付けられた流体チャネルの第１のプロセスチャンバに接続する、各第１の試薬入力ウェルに関連付けられた第１の試薬チャネルとを含み得る。第１の処理ステーションの第１の試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、関連付けられた流体チャネルの各第１の試薬入力ウェルから、関連付けられた試薬チャネルを通して、関連付けられた流体チャネルの各第１のプロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成される。
【0005】
本開示のさらなる側面によると、流体処理デバイスは、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられたサンプル入力ウェルを含み得、第１の処理ステーションの第１のプロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、関連付けられた流体チャネルの各サンプル入力ウェルから、関連付けられた流体チャネルの一部を通して、関連付けられた流体チャネルの各第１のプロセスチャンバの中に流体サンプルを同時に移動させるように構成される。
【0006】
本開示のさらなる側面によると、流体処理デバイスは、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられたサンプル出力ウェルと、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第２のプロセスポンプアセンブリを含む、第２の処理ステーションを含み得る。第２の処理ステーションの第２のプロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、関連付けられた流体チャネルの各サンプル出力ウェルの中に流体を同時に移動させるように構成される。
【0007】
本開示のさらなる側面によると、流体処理デバイスは、第１の処理ステーションと第２の処理ステーションとの間に配置された１つ以上の中間処理ステーションを含み得る。各中間処理ステーションは、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間プロセスポンプアセンブリと、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間プロセスチャンバとを含み得る。各中間処理ステーションの中間プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、処理ステーションのうちの先行するもののプロセスチャンバから、各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、中間処理ステーションの各中間プロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成される。各中間処理ステーションはさらに、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間試薬ポンプアセンブリと、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間試薬入力ウェルと、各中間試薬入力ウェルを関連付けられた流体チャネルの中間プロセスチャンバに接続する各中間試薬入力ウェルに関連付けられた中間試薬チャネルとを含み得る。中間処理ステーションの中間試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、関連付けられた流体チャネルの各中間試薬入力ウェルから、関連付けられた中間試薬チャネルを通して、関連付けられた流体チャネルの各中間プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成される。いくつかの例では、流体処理デバイスは、第１の処理ステーションと第２の処理ステーションとの間に配置された５つの中間処理ステーションを含み得る。
【0008】
いくつかの例では、第１、第２、および中間プロセスポンプアセンブリの各々は、プロセスポンプチャンバおよびプロセスポンプチャンバと連通しているプロセスチャンバポートを画定するプロセス固定子と、プロセスポンプチャンバ内に配置され、プロセスプランジャロッドに接続されたプロセスプランジャと、プロセス固定子に結合される、プロセス弁とを含み得る。プロセスプランジャは、プロセスチャンバポートを通してプロセスポンプチャンバの中に流体を引き込む第１の方向またはプロセスポンプチャンバからプロセスチャンバポートを通して流体を排出する第２の方向に、プロセスポンプチャンバ内でプロセスプランジャロッドを介して移動可能である。プロセス弁は、プロセスチャンバポートを関連付けられた流体チャネルの上流部分に流体的に接続する第１の位置と、プロセスチャンバポートを関連付けられた流体チャネルの下流部分に流体的に接続する第２の位置との間で移動可能であり、関連付けられた流体チャネルの下流部分は、関連付けられたプロセスチャンバまたは関連付けられたサンプル出力ウェルと流体連通する。いくつかの例では、プロセス弁は、第１の位置と第２の位置との間の回転移動のためにプロセス固定子に対して回転可能に搭載された回転子を含み得る。
【0009】
いくつかの例では、第１および中間試薬ポンプアセンブリの各々は、試薬ポンプチャンバおよび試薬ポンプチャンバと連通している試薬チャンバポートを画定する試薬固定子と、試薬ポンプチャンバ内に配置され、試薬プランジャロッドに接続された試薬プランジャと、試薬固定子に結合される試薬弁とを含み得る。試薬プランジャは、試薬チャンバポートを通して試薬ポンプチャンバの中に流体を引き込む第１の方向または試薬ポンプチャンバから試薬チャンバポートを通して流体を排出する第２の方向に、試薬ポンプチャンバ内で試薬プランジャロッドを介して移動可能である。試薬弁は、試薬チャンバポートを関連付けられた試薬入力ウェルに流体的に接続する第１の位置と、試薬チャンバポートを関連付けられたプロセスチャンバに流体的に接続する第２の位置との間で移動可能である。いくつかの例では、試薬弁は、第１の位置と第２の位置との間の回転移動のために試薬固定子に対して回転可能に搭載された回転子を含み得る。
【0010】
いくつかの例では、第１、第２、および中間処理ステーションの各々のプロセスポンプアセンブリは、単一のプロセスプランジャロッドを含み得、各処理ステーションのプロセスポンプアセンブリのプロセスプランジャの全ては、単一のプロセスプランジャロッドの軸方向移動が、それらのそれぞれの第１および第２の方向にそれらのそれぞれのプロセスポンプチャンバ内でプロセスプランジャの同時移動を生じさせるように、単一のプロセスプランジャロッドに取り付けられる。いくつかの例では、第１および中間処理ステーションの各々の試薬ポンプアセンブリは、単一の試薬プランジャロッドを含み得、各処理ステーションの試薬ポンプアセンブリの試薬プランジャの全ては、単一の試薬プランジャロッドの軸方向移動が、それらのそれぞれの第１および第２の方向にそれらのそれぞれの試薬ポンプチャンバ内で試薬プランジャの同時移動を生じさせるように、単一の試薬プランジャロッドに取り付けられる。
【0011】
いくつかの例では、第１、第２、および中間処理ステーションの各々のプロセスポンプアセンブリは、プロセス弁ロッドを含み得、各処理ステーションのプロセスポンプアセンブリのプロセス弁の全ては、プロセス弁ロッドの移動が、それらのそれぞれの第１の位置と第２の位置との間でプロセス弁の同時移動を生じさせるように、プロセス弁ロッドに結合される。いくつかの例では、第１および中間処理ステーションの各々の試薬ポンプアセンブリは、試薬弁ロッドを含み得、各処理ステーションの試薬ポンプアセンブリの試薬弁の全ては、試薬弁ロッドの移動が、それらのそれぞれの第１の位置と第２の位置との間で試薬弁の同時移動を生じさせるように、試薬弁ロッドに結合される。
【0012】
本開示の側面はまた、流体処理デバイスを介して流体を処理すること等によって流体を処理する方法も包含する。本開示のさらなる側面によると、本方法は、同時かつ一斉に流体の複数のサンプルを処理するステップを含み得、複数のサンプルの各々は、流体処理デバイスの２つ以上の流体チャネルのうちの１つの中で別個に処理される。
【0013】
本開示の主題の他の特徴および特性、および動作の方法、構造の関連要素および部分の組み合わせの機能、および製造の経済は、その全てが、同様の参照番号が種々の図内の対応する部分を指定する本明細書の一部を形成する、付随する図面を参照して、以下の説明および添付の請求項の考慮に応じて、より明白となるであろう。
本発明はさらに、例えば、以下を提供する。
（項目１）
流体処理デバイスであって、前記流体処理デバイスは、
２つ以上の流体チャネルと、
少なくとも第１の処理ステーションと
を備え、
前記少なくとも第１の処理ステーションは、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１のプロセスポンプアセンブリと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１のプロセスチャンバであって、前記第１の処理ステーションの前記第１のプロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、各関連付けられた第１のプロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成されている、第１のプロセスチャンバと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の試薬ポンプアセンブリと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の試薬入力ウェルと、
各第１の試薬入力ウェルに関連付けられた第１の試薬チャネルと
を備え、
前記第１の試薬チャネルは、各第１の試薬入力ウェルを前記関連付けられた流体チャネルの前記第１のプロセスチャンバに接続し、前記第１の処理ステーションの前記第１の試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記関連付けられた流体チャネルの各第１の試薬入力ウェルから、前記関連付けられた試薬チャネルを通して、前記関連付けられた流体チャネルの各第１のプロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成されている、流体処理デバイス。
（項目２）
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられたサンプル入力ウェルをさらに備え、前記第１の処理ステーションの前記第１のプロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記関連付けられた流体チャネルの各サンプル入力ウェルから、前記関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記関連付けられた流体チャネルの各第１のプロセスチャンバの中に流体サンプルを同時に移動させるように構成されている、項目１に記載の流体処理デバイス。
（項目３）
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられたサンプル出力ウェルと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第２のプロセスポンプアセンブリを備えている第２の処理ステーションと
をさらに備え、
前記第２の処理ステーションの前記第２のプロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記関連付けられた流体チャネルの各サンプル出力ウェルの中に流体を同時に移動させるように構成されている、項目１または２に記載の流体処理デバイス。
（項目４）
前記第１の処理ステーションと前記第２の処理ステーションとの間に配置された１つ以上の中間処理ステーションをさらに備え、各中間処理ステーションは、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間プロセスポンプアセンブリと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間プロセスチャンバであって、各中間処理ステーションの前記中間プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記処理ステーションのうちの先行するもののプロセスチャンバから、各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記中間処理ステーションの各中間プロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成されている、中間プロセスチャンバと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間試薬ポンプアセンブリと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間試薬入力ウェルと、
各中間試薬入力ウェルに関連付けられた中間試薬チャネルと
を備え、
前記中間試薬チャネルは、各中間試薬入力ウェルを前記関連付けられた流体チャネルの中間プロセスチャンバに接続し、前記中間処理ステーションの前記中間試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記関連付けられた流体チャネルの各中間試薬入力ウェルから、前記関連付けられた中間試薬チャネルを通して、前記関連付けられた流体チャネルの各中間プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成されている、項目３に記載の流体処理デバイス。
（項目５）
前記第１の処理ステーションと前記第２の処理ステーションとの間に配置された５つの中間処理ステーションを備えている、項目４に記載の流体処理デバイス。
（項目６）
前記第１、第２、および中間プロセスポンプアセンブリの各々は、
プロセスポンプチャンバおよび前記プロセスポンプチャンバと連通しているプロセスチャンバポートを画定するプロセス固定子と、
前記プロセスポンプチャンバ内に配置され、プロセスプランジャロッドに接続されたプロセスプランジャであって、前記プロセスプランジャは、前記プロセスチャンバポートを通して前記プロセスポンプチャンバの中に流体を引き込む第１の方向または前記プロセスポンプチャンバから前記プロセスチャンバポートを通して流体を排出する第２の方向に、前記プロセスポンプチャンバ内で前記プロセスプランジャロッドを介して移動可能である、プロセスプランジャと、
前記プロセス固定子に結合されたプロセス弁と
を備え、
前記プロセス弁は、前記プロセスチャンバポートを前記関連付けられた流体チャネルの上流部分に流体的に接続する第１の位置と、前記プロセスチャンバポートを前記関連付けられた流体チャネルの下流部分に流体的に接続する第２の位置との間で移動可能であり、関連付けられた流体チャネルの前記下流部分は、前記関連付けられたプロセスチャンバまたは前記関連付けられたサンプル出力ウェルと流体連通している、項目５に記載の流体処理デバイス。
（項目７）
前記プロセス弁は、前記第１の位置と前記第２の位置との間の回転移動のために前記プロセス固定子に対して回転可能に搭載された回転子を備えている、項目６に記載の流体処理デバイス。
（項目８）
前記第１および中間試薬ポンプアセンブリの各々は、
試薬ポンプチャンバおよび前記試薬ポンプチャンバと連通している試薬チャンバポートを画定する試薬固定子と、
前記試薬ポンプチャンバ内に配置され、試薬プランジャロッドに接続された試薬プランジャであって、前記試薬プランジャは、前記試薬チャンバポートを通して前記試薬ポンプチャンバの中に流体を引き込む第１の方向または前記試薬ポンプチャンバから前記試薬チャンバポートを通して流体を排出する第２の方向に、前記試薬ポンプチャンバ内で前記試薬プランジャロッドを介して移動可能である、試薬プランジャと、
前記試薬固定子に結合された試薬弁と
を備え、
前記試薬弁は、前記試薬チャンバポートを前記関連付けられた試薬入力ウェルに流体的に接続する第１の位置と、前記試薬チャンバポートを前記関連付けられたプロセスチャンバに流体的に接続する第２の位置との間で移動可能である、項目５－７のいずれか１項に記載の流体処理デバイス。
（項目９）
前記試薬弁は、前記第１の位置と前記第２の位置との間の回転移動のために前記試薬固定子に対して回転可能に搭載された回転子を備えている、項目８に記載の流体処理デバイス。
（項目１０）
前記第１、第２、および中間処理ステーションの各々のプロセスポンプアセンブリは、単一のプロセスプランジャロッドを備え、各処理ステーションの前記プロセスポンプアセンブリの前記プロセスプランジャの全ては、前記単一のプロセスプランジャロッドに取り付けられており、それによって、前記単一のプロセスプランジャロッドの軸方向移動が、それらのそれぞれの第１および第２の方向にそれらのそれぞれのプロセスポンプチャンバ内で前記プロセスプランジャの同時移動を生じさせる、項目６または９に記載の処理デバイス。
（項目１１）
前記第１および中間処理ステーションの各々の試薬ポンプアセンブリは、単一の試薬プランジャロッドを備え、各処理ステーションの前記試薬ポンプアセンブリの前記試薬プランジャの全ては、前記単一の試薬プランジャロッドに取り付けられており、それによって、前記単一の試薬プランジャロッドの軸方向移動が、それらのそれぞれの第１および第２の方向にそれらのそれぞれの試薬ポンプチャンバ内で前記試薬プランジャの同時移動を生じさせる、項目６－１０のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目１２）
前記第１、第２、および中間処理ステーションの各々のプロセスポンプアセンブリは、プロセス弁ロッドを備え、各処理ステーションの前記プロセスポンプアセンブリの前記プロセス弁の全ては、前記プロセス弁ロッドに結合されており、それによって、前記プロセス弁ロッドの移動が、それらのそれぞれの第１の位置と第２の位置との間で前記プロセス弁の同時移動を生じさせる、項目６－１１のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目１３）
前記第１および中間処理ステーションの各々の試薬ポンプアセンブリは、試薬弁ロッドを備え、各処理ステーションの前記試薬ポンプアセンブリの前記試薬弁の全ては、前記試薬弁ロッドに結合されており、それによって、前記試薬弁ロッドの移動が、それらのそれぞれの第１の位置と第２の位置との間で前記試薬弁の同時移動を生じさせる、項目６－１２のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目１４）
４つの流体チャネルを備えている、項目１－１３のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目１５）
流体処理デバイスであって、前記流体処理デバイスは、
２つ以上の流体チャネルの第１の組と２つ以上の流体チャネルの第２の組とを備えている複数の流体チャネルと、
少なくとも初期処理ステーションと
を備え、
前記少なくとも初期処理ステーションは、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の初期プロセスポンプアセンブリ、および前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第２の初期プロセスポンプアセンブリと、
前記複数の流体チャネルの各々に関連付けられた初期プロセスチャンバであって、前記初期処理ステーションの前記第１の初期プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第１の組の各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、各関連付けられた初期プロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成され、前記第２の初期プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第２の組の各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、各関連付けられた初期プロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成されている、初期プロセスチャンバと、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の初期試薬ポンプアセンブリ、および前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第２の初期試薬ポンプアセンブリと、
前記複数の流体チャネルの各々に関連付けられた初期試薬入力ウェルと、
各初期試薬入力ウェルに関連付けられた初期試薬チャネルと
を備え、
前記初期試薬チャネルは、前記初期試薬入力ウェルを前記関連付けられた流体チャネルの前記初期プロセスチャンバに接続し、
前記第１の初期試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第１の組の関連付けられた流体チャネルの各初期試薬入力ウェルから、前記関連付けられた初期試薬チャネルを通して、前記第１の組の関連付けられた流体チャネルの各初期プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成され、前記第２の初期試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各初期試薬入力ウェルから、前記関連付けられた初期試薬チャネルを通して、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各初期プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成されている、流体処理デバイス。
（項目１６）
前記複数の流体チャネルの各々に関連付けられたサンプル入力ウェルをさらに備え、前記初期処理ステーションの前記第１の初期プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第１の組の前記関連付けられた流体チャネルの各サンプル入力ウェルから、前記関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記第１の組の前記関連付けられた流体チャネルの各初期プロセスチャンバの中に流体サンプルを同時に移動させるように構成され、前記初期処理ステーションの前記第２の初期プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各サンプル入力ウェルから、前記関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各初期プロセスチャンバの中に流体サンプルを同時に移動させるように構成されている、項目１５に記載の流体処理デバイス。
（項目１７）
前記複数の流体チャネルの各々に関連付けられたサンプル出力ウェルと、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の端末プロセスポンプアセンブリと、前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第２の端末プロセスポンプアセンブリとを備えている端末処理ステーションと
をさらに備え、
前記端末処理ステーションの前記第１の端末プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第１の組の各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記第１の組の前記関連付けられた流体チャネルの各サンプル出力ウェルの中に流体を同時に移動させるように構成され、前記端末処理ステーションの前記第２の端末プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第２の組の各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各サンプル出力ウェルの中に流体を同時に移動させるように構成されている、項目１５または１６に記載の流体処理デバイス。
（項目１８）
前記初期処理ステーションと前記端末処理ステーションとの間に配置された１つ以上の中間処理ステーションをさらに備え、各中間処理ステーションは、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の中間プロセスポンプアセンブリ、および前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第２の中間プロセスポンプアセンブリと、
前記複数の流体チャネルの各々に関連付けられた中間プロセスチャンバであって、各中間処理ステーションの前記第１の中間プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記処理ステーションのうちの先行するもののプロセスチャンバから、前記第１の組の各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記第１の組の各関連付けられた中間プロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成され、各中間処理ステーションの前記第２の中間プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記先行する処理ステーションのプロセスチャンバから、前記第２の組の各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記第２の組の各関連付けられた中間プロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成されている、中間プロセスチャンバと、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の中間試薬ポンプアセンブリ、および前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第２の中間試薬ポンプアセンブリと、
前記複数の流体チャネルの各々に関連付けられた中間試薬入力ウェルと、
各中間試薬入力ウェルに関連付けられた中間試薬チャネルと
を備え、
前記中間試薬チャネルは、前記中間試薬入力ウェルを前記関連付けられた流体チャネルの前記中間プロセスチャンバに接続し、
前記中間処理ステーションの前記第１の中間試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第１の組の前記関連付けられた流体チャネルの各中間試薬入力ウェルから、前記関連付けられた中間試薬チャネルを通して、前記第１の組の前記関連付けられた流体チャネルの各中間プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成され、前記中間処理ステーションの前記第２の中間試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各中間試薬入力ウェルから、前記関連付けられた中間試薬チャネルを通して、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各中間プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成されている、項目１７に記載の流体処理デバイス。
（項目１９）
前記初期処理ステーションと前記端末処理ステーションとの間に配置された５つの中間処理ステーションを備えている、項目１８に記載の流体処理デバイス。
（項目２０）
前記初期、中間、および端末処理ステーションの各々の前記第１および第２のプロセスポンプアセンブリの各々は、
２つ以上のプロセス固定子であって、各プロセス固定子は、第１および第２のプロセスポンプチャンバと、第１および第２のプロセスチャンバポートとを画定し、前記第１および第２のプロセスチャンバポートは、それぞれ、前記第１および第２のプロセスポンプチャンバと流体連通している、プロセス固定子と、
各第１および第２のプロセスポンプチャンバ内に配置されたプロセスプランジャであって、前記第１のプロセスポンプチャンバ内に配置された前記プロセスプランジャは、第１のプロセスプランジャロッドに接続され、前記第２のプロセスポンプチャンバ内に配置された前記プロセスプランジャは、第２のプロセスプランジャロッドに接続され、
前記第１のプロセスポンプチャンバ内に配置された前記プロセスプランジャは、前記関連付けられた第１のプロセスチャンバポートを通して前記第１のプロセスポンプチャンバの中に流体を同時に引き込むための第１の方向または前記関連付けられた第１のプロセスチャンバポートを通して前記第１のプロセスポンプチャンバから流体を同時に排出するための第２の方向に、前記第１のプロセスプランジャロッドを介して移動可能であり、前記第２のプロセスポンプチャンバ内に配置された前記プロセスプランジャは、前記関連付けられた第２のプロセスチャンバポートを通して前記第２のプロセスポンプチャンバの中に流体を同時に引き込むための第１の方向または前記関連付けられた第２のプロセスチャンバポートを通して前記第２のプロセスポンプチャンバから流体を同時に排出するための第２の方向に、前記第２のプロセスプランジャロッドを介して移動可能である、プロセスプランジャと、
各プロセス固定子に結合されたプロセス弁と
を備え、
前記プロセス弁は、前記第１および第２のプロセスチャンバポートを各関連付けられた流体チャネルの上流部分に流体的に接続する第１の位置と、前記第１および第２のプロセスチャンバポートを各関連付けられた流体チャネルの下流部分に流体的に接続する第２の位置との間で移動可能であり、前記関連付けられた流体チャネルの前記下流部分は、前記関連付けられたプロセスチャンバまたは前記関連付けられたサンプル出力ウェルと流体連通している、項目１８に記載の流体処理デバイス。
（項目２１）
前記プロセス弁は、前記第１の位置と前記第２の位置との間の回転移動のために前記プロセス固定子に対して回転可能に搭載された回転子を備えている、項目２０に記載の流体処理デバイス。
（項目２２）
前記初期および中間処理ステーションの各々の前記第１および第２のプロセスポンプアセンブリの各々は、
２つ以上の試薬固定子であって、各試薬固定子は、第１および第２の試薬ポンプチャンバと、第１および第２の試薬チャンバポートとを画定し、前記第１および第２の試薬チャンバポートは、それぞれ、前記試薬ポンプチャンバと流体連通している、試薬固定子と、
各第１および第２の試薬ポンプチャンバ内に配置された試薬プランジャであって、前記第１の試薬ポンプチャンバ内に配置された前記試薬プランジャは、第１の試薬プランジャロッドに接続され、前記第２の試薬ポンプチャンバ内に配置された前記試薬プランジャは、第２の試薬プランジャロッドに接続され、
前記第１の試薬ポンプチャンバ内に配置された前記試薬プランジャは、前記第１の試薬チャンバポートを通して前記第１の試薬ポンプチャンバの中に流体を引き込む第１の方向または前記第１の試薬チャンバポートを通して前記第１の試薬ポンプチャンバから流体を排出する第２の方向に、前記第１の試薬プランジャロッドを介して移動可能であり、前記第２の試薬ポンプチャンバ内に配置された前記試薬プランジャは、前記第２の試薬チャンバポートを通して前記第２の試薬ポンプチャンバの中に流体を引き込む第１の方向または前記第２の試薬チャンバポートを通して前記第２の試薬ポンプチャンバから流体を排出する第２の方向に、前記第２の試薬プランジャロッドを介して移動可能である、試薬プランジャと、
前記試薬固定子に結合された試薬弁と
を備え、
前記試薬弁は、前記第１および第２の試薬チャンバポートを前記関連付けられた第１および第２の試薬入力ウェルに流体的に接続する第１の位置と、前記第１および第２の試薬チャンバポートを前記関連付けられたプロセスチャンバに流体的に接続する第２の位置との間で移動可能である、項目１８－２１のいずれか１項に記載の流体処理デバイス。
（項目２３）
前記試薬弁は、前記第１の位置と前記第２の位置との間の回転移動のために前記試薬固定子に対して回転可能に搭載された回転子を備えている、項目２２に記載の流体処理デバイス。
（項目２４）
前記初期、中間、および端末処理ステーションの各々の前記第１および第２のプロセスポンプアセンブリは、プロセス弁ロッドを備え、各処理ステーションの前記プロセスポンプアセンブリの前記プロセス弁の全ては、前記プロセス弁ロッドに結合されており、それによって、前記プロセス弁ロッドの移動が、それらのそれぞれの第１の位置と第２の位置との間で前記プロセス弁の同時移動を生じさせる、項目２０－２２のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目２５）
前記初期および中間処理ステーションの各々の前記試薬ポンプアセンブリは、試薬弁ロッドを備え、各処理ステーションの前記試薬ポンプアセンブリの前記試薬弁の全ては、前記試薬弁ロッドに結合されており、それによって、前記試薬弁ロッドの移動が、それらのそれぞれの第１の位置と第２の位置との間で前記試薬弁の同時移動を生じさせる、項目２０－２４のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目２６）
８つの流体チャネルを備えている、項目１５－２５のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目２７）
流体処理カセットを処理するためのデバイスであって、前記流体処理カセットは、１つ以上のプロセスチャンバを有し、前記１つ以上のプロセスチャンバの内で、サンプル材料が、サンプル混合物を形成するために少なくとも１つの試薬と混合され、前記デバイスは、
流体処理カセットを受け取り、保持するためのカセットトレイと、
１つ以上の磁石であって、各磁石は、前記カセットトレイ内で保持された前記流体処理カセットのプロセスチャンバに関連付けられており、各磁石は、磁場を前記関連付けられたプロセスチャンバ内の前記サンプル混合物に印加する前記関連付けられたプロセスチャンバに対する第１の位置と、前記磁石が前記第１の位置にあるときと比較して前記磁石が第２の位置にあるときに低減した磁場を前記関連付けられたプロセスチャンバ内の前記サンプル混合物に印加するための前記関連付けられたプロセスチャンバに対する第２の位置との間で移動可能である、磁石と、
１つ以上の熱要素と
を備え、
各熱要素は、前記カセットトレイ内に保持された前記流体処理カセットの関連付けられたプロセスチャンバと、前記関連付けられたプロセスチャンバに関連付けられた前記磁石との間に位置付けられ、前記１つ以上の熱要素の各々は、前記関連付けられたプロセスチャンバ内の前記サンプル混合物を選択的に加熱および／または冷却するように制御され、
前記熱要素は、前記磁石が前記第１の位置にあるときと同時に、または異なる時間に、前記関連付けられたプロセスチャンバ内の前記サンプル混合物を加熱または冷却することと、磁場を前記関連付けられたプロセスチャンバ内の前記サンプル混合物に印加することとを行うように構成されている、デバイス。
（項目２８）
前記１つ以上の磁石は、前記流体処理カセットの各プロセスチャンバに関連付けられた永久磁石を備え、前記デバイスは、
各永久磁石に結合され、前記永久磁石を前記第２の位置に付勢するように構成されたばねと、
前記永久磁石のうちの１つ以上のものの下方に配置された磁石リフタと
をさらに備え、
前記磁石リフタは、各磁石のばねの付勢に逆らって前記１つ以上の永久磁石を前記磁石の第１の位置まで選択的に持ち上げるように構成されている、項目２７に記載のデバイス。
（項目２９）
前記磁石リフタに結合された磁石リフタペダルと、
拡張可能な磁石リフトアクチュエータアームを含む磁石リフトアクチュエータと
をさらに備え、
前記磁石リフトアクチュエータアームは、前記磁石リフタペダルに係合し、前記磁石リフタを持ち上げて作動させ、前記永久磁石を持ち上げるように構成されている、項目２７に記載のデバイス。
（項目３０）
２つ以上の磁石リフタと、関連付けられた磁石リフタペダルとを備え、前記磁石リフトアクチュエータは、前記磁石リフトアクチュエータアームが前記関連付けられた磁石リフタペダルに係合できるように、前記磁石リフタのうちの異なるものに対する動作位置に選択的に移動可能である、項目２９に記載のデバイス。
（項目３１）
各熱要素は、加熱器回路に取り付けられた抵抗加熱器を備え、各抵抗加熱器の温度は、独立して制御可能である、項目２７－３０のいずれか１項に記載のデバイス。
（項目３２）
各磁石は、前記磁石がその第１の位置にあるとき、前記関連付けられた熱要素を通してその関連付けられたプロセスチャンバ内の前記サンプル混合物に磁場を印加するように構成されている、項目２７－３１のいずれか１項に記載のデバイス。
（項目３３）
流体処理カセットを処理する方法であって、前記流体処理カセットは、１つ以上のプロセスチャンバを有し、前記１つ以上のプロセスチャンバ内で、サンプル材料が、サンプル混合物を形成するために少なくとも１つの試薬と混合され、前記方法は、
Ａ．前記関連付けられたプロセスチャンバに近接していない位置から前記関連付けられたプロセスチャンバに近接した位置まで、各プロセスチャンバに関連付けられた磁石を移動させることによって、各プロセスチャンバ内の前記サンプル混合物に磁場を印加することと、
Ｂ．１つ以上の熱要素を用いて、各プロセスチャンバ内の前記サンプル混合物を選択的に加熱および／または冷却することであって、各熱要素は、関連付けられたプロセスチャンバと、前記関連付けられたプロセスチャンバに関連付けられた前記磁石との間に位置付けられている、ことと
を含み、
ステップＡとステップＢとは、各関連付けられたプロセスチャンバにおいて同時に、または異なる時間に生じることができる、方法。
本発明はさらに、例えば、以下を提供する。
（項目１）
流体処理デバイスであって、前記流体処理デバイスは、
２つ以上の流体チャネルと、
少なくとも第１の処理ステーションと
を備え、
前記少なくとも第１の処理ステーションは、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１のプロセスポンプアセンブリと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１のプロセスチャンバであって、前記第１の処理ステーションの前記第１のプロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、各関連付けられた第１のプロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成されている、第１のプロセスチャンバと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の試薬ポンプアセンブリと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の試薬入力ウェルと、
各第１の試薬入力ウェルに関連付けられた第１の試薬チャネルと
を備え、
前記第１の試薬チャネルは、各第１の試薬入力ウェルを前記関連付けられた流体チャネルの前記第１のプロセスチャンバに接続し、前記第１の処理ステーションの前記第１の試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記関連付けられた流体チャネルの各第１の試薬入力ウェルから、前記関連付けられた試薬チャネルを通して、前記関連付けられた流体チャネルの各第１のプロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成されている、流体処理デバイス。
（項目２）
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられたサンプル入力ウェルをさらに備え、前記第１の処理ステーションの前記第１のプロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記関連付けられた流体チャネルの各サンプル入力ウェルから、前記関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記関連付けられた流体チャネルの各第１のプロセスチャンバの中に流体サンプルを同時に移動させるように構成されている、項目１に記載の流体処理デバイス。
（項目３）
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられたサンプル出力ウェルと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第２のプロセスポンプアセンブリを備えている第２の処理ステーションと
をさらに備え、
前記第２の処理ステーションの前記第２のプロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記関連付けられた流体チャネルの各サンプル出力ウェルの中に流体を同時に移動させるように構成されている、項目１または２に記載の流体処理デバイス。
（項目４）
前記第１の処理ステーションと前記第２の処理ステーションとの間に配置された１つ以上の中間処理ステーションをさらに備え、各中間処理ステーションは、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間プロセスポンプアセンブリと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間プロセスチャンバであって、各中間処理ステーションの前記中間プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記処理ステーションのうちの先行するもののプロセスチャンバから、各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記中間処理ステーションの各中間プロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成されている、中間プロセスチャンバと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間試薬ポンプアセンブリと、
前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間試薬入力ウェルと、
各中間試薬入力ウェルに関連付けられた中間試薬チャネルと
を備え、
前記中間試薬チャネルは、各中間試薬入力ウェルを前記関連付けられた流体チャネルの中間プロセスチャンバに接続し、前記中間処理ステーションの前記中間試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記関連付けられた流体チャネルの各中間試薬入力ウェルから、前記関連付けられた中間試薬チャネルを通して、前記関連付けられた流体チャネルの各中間プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成されている、項目３に記載の流体処理デバイス。
（項目５）
前記第１の処理ステーションと前記第２の処理ステーションとの間に配置された５つの中間処理ステーションを備えている、項目４に記載の流体処理デバイス。
（項目６）
前記第１、第２、および中間プロセスポンプアセンブリの各々は、
プロセスポンプチャンバおよび前記プロセスポンプチャンバと連通しているプロセスチャンバポートを画定するプロセス固定子と、
前記プロセスポンプチャンバ内に配置され、プロセスプランジャロッドに接続されたプロセスプランジャであって、前記プロセスプランジャは、前記プロセスチャンバポートを通して前記プロセスポンプチャンバの中に流体を引き込む第１の方向または前記プロセスポンプチャンバから前記プロセスチャンバポートを通して流体を排出する第２の方向に、前記プロセスポンプチャンバ内で前記プロセスプランジャロッドを介して移動可能である、プロセスプランジャと、
前記プロセス固定子に結合されたプロセス弁と
を備え、
前記プロセス弁は、前記プロセスチャンバポートを前記関連付けられた流体チャネルの上流部分に流体的に接続する第１の位置と、前記プロセスチャンバポートを前記関連付けられた流体チャネルの下流部分に流体的に接続する第２の位置との間で移動可能であり、関連付けられた流体チャネルの前記下流部分は、前記関連付けられたプロセスチャンバまたは前記関連付けられたサンプル出力ウェルと流体連通している、項目５に記載の流体処理デバイス。
（項目７）
前記プロセス弁は、前記第１の位置と前記第２の位置との間の回転移動のために前記プロセス固定子に対して回転可能に搭載された回転子を備えている、項目６に記載の流体処理デバイス。
（項目８）
前記第１および中間試薬ポンプアセンブリの各々は、
試薬ポンプチャンバおよび前記試薬ポンプチャンバと連通している試薬チャンバポートを画定する試薬固定子と、
前記試薬ポンプチャンバ内に配置され、試薬プランジャロッドに接続された試薬プランジャであって、前記試薬プランジャは、前記試薬チャンバポートを通して前記試薬ポンプチャンバの中に流体を引き込む第１の方向または前記試薬ポンプチャンバから前記試薬チャンバポートを通して流体を排出する第２の方向に、前記試薬ポンプチャンバ内で前記試薬プランジャロッドを介して移動可能である、試薬プランジャと、
前記試薬固定子に結合された試薬弁と
を備え、
前記試薬弁は、前記試薬チャンバポートを前記関連付けられた試薬入力ウェルに流体的に接続する第１の位置と、前記試薬チャンバポートを前記関連付けられたプロセスチャンバに流体的に接続する第２の位置との間で移動可能である、項目５－７のいずれか１項に記載の流体処理デバイス。
（項目９）
前記試薬弁は、前記第１の位置と前記第２の位置との間の回転移動のために前記試薬固定子に対して回転可能に搭載された回転子を備えている、項目８に記載の流体処理デバイス。
（項目１０）
前記第１、第２、および中間処理ステーションの各々のプロセスポンプアセンブリは、単一のプロセスプランジャロッドを備え、各処理ステーションの前記プロセスポンプアセンブリの前記プロセスプランジャの全ては、前記単一のプロセスプランジャロッドに取り付けられており、それによって、前記単一のプロセスプランジャロッドの軸方向移動が、それらのそれぞれの第１および第２の方向にそれらのそれぞれのプロセスポンプチャンバ内で前記プロセスプランジャの同時移動を生じさせる、項目６または９に記載の処理デバイス。
（項目１１）
前記第１および中間処理ステーションの各々の試薬ポンプアセンブリは、単一の試薬プランジャロッドを備え、各処理ステーションの前記試薬ポンプアセンブリの前記試薬プランジャの全ては、前記単一の試薬プランジャロッドに取り付けられており、それによって、前記単一の試薬プランジャロッドの軸方向移動が、それらのそれぞれの第１および第２の方向にそれらのそれぞれの試薬ポンプチャンバ内で前記試薬プランジャの同時移動を生じさせる、項目６－１０のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目１２）
前記第１、第２、および中間処理ステーションの各々のプロセスポンプアセンブリは、プロセス弁ロッドを備え、各処理ステーションの前記プロセスポンプアセンブリの前記プロセス弁の全ては、前記プロセス弁ロッドに結合されており、それによって、前記プロセス弁ロッドの移動が、それらのそれぞれの第１の位置と第２の位置との間で前記プロセス弁の同時移動を生じさせる、項目６－１１のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目１３）
前記第１および中間処理ステーションの各々の試薬ポンプアセンブリは、試薬弁ロッドを備え、各処理ステーションの前記試薬ポンプアセンブリの前記試薬弁の全ては、前記試薬弁ロッドに結合されており、それによって、前記試薬弁ロッドの移動が、それらのそれぞれの第１の位置と第２の位置との間で前記試薬弁の同時移動を生じさせる、項目６－１２のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目１４）
４つの流体チャネルを備えている、項目１－１３のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目１５）
流体処理デバイスであって、前記流体処理デバイスは、
２つ以上の流体チャネルの第１の組と２つ以上の流体チャネルの第２の組とを備えている複数の流体チャネルと、
少なくとも初期処理ステーションと
を備え、
前記少なくとも初期処理ステーションは、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の初期プロセスポンプアセンブリ、および前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第２の初期プロセスポンプアセンブリと、
前記複数の流体チャネルの各々に関連付けられた初期プロセスチャンバであって、前記初期処理ステーションの前記第１の初期プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第１の組の各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、各関連付けられた初期プロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成され、前記第２の初期プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第２の組の各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、各関連付けられた初期プロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成されている、初期プロセスチャンバと、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の初期試薬ポンプアセンブリ、および前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第２の初期試薬ポンプアセンブリと、
前記複数の流体チャネルの各々に関連付けられた初期試薬入力ウェルと、
各初期試薬入力ウェルに関連付けられた初期試薬チャネルと
を備え、
前記初期試薬チャネルは、前記初期試薬入力ウェルを前記関連付けられた流体チャネルの前記初期プロセスチャンバに接続し、
前記第１の初期試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第１の組の関連付けられた流体チャネルの各初期試薬入力ウェルから、前記関連付けられた初期試薬チャネルを通して、前記第１の組の関連付けられた流体チャネルの各初期プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成され、前記第２の初期試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各初期試薬入力ウェルから、前記関連付けられた初期試薬チャネルを通して、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各初期プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成されている、流体処理デバイス。
（項目１６）
前記複数の流体チャネルの各々に関連付けられたサンプル入力ウェルをさらに備え、前記初期処理ステーションの前記第１の初期プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第１の組の前記関連付けられた流体チャネルの各サンプル入力ウェルから、前記関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記第１の組の前記関連付けられた流体チャネルの各初期プロセスチャンバの中に流体サンプルを同時に移動させるように構成され、前記初期処理ステーションの前記第２の初期プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各サンプル入力ウェルから、前記関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各初期プロセスチャンバの中に流体サンプルを同時に移動させるように構成されている、項目１５に記載の流体処理デバイス。
（項目１７）
前記複数の流体チャネルの各々に関連付けられたサンプル出力ウェルと、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の端末プロセスポンプアセンブリと、前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第２の端末プロセスポンプアセンブリとを備えている端末処理ステーションと
をさらに備え、
前記端末処理ステーションの前記第１の端末プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第１の組の各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記第１の組の前記関連付けられた流体チャネルの各サンプル出力ウェルの中に流体を同時に移動させるように構成され、前記端末処理ステーションの前記第２の端末プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第２の組の各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各サンプル出力ウェルの中に流体を同時に移動させるように構成されている、項目１５または１６に記載の流体処理デバイス。
（項目１８）
前記初期処理ステーションと前記端末処理ステーションとの間に配置された１つ以上の中間処理ステーションをさらに備え、各中間処理ステーションは、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の中間プロセスポンプアセンブリ、および前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第２の中間プロセスポンプアセンブリと、
前記複数の流体チャネルの各々に関連付けられた中間プロセスチャンバであって、各中間処理ステーションの前記第１の中間プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記処理ステーションのうちの先行するもののプロセスチャンバから、前記第１の組の各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記第１の組の各関連付けられた中間プロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成され、各中間処理ステーションの前記第２の中間プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記先行する処理ステーションのプロセスチャンバから、前記第２の組の各関連付けられた流体チャネルの一部を通して、前記第２の組の各関連付けられた中間プロセスチャンバの中に流体を同時に移動させるように構成されている、中間プロセスチャンバと、
前記第１の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の中間試薬ポンプアセンブリ、および前記第２の組の前記２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第２の中間試薬ポンプアセンブリと、
前記複数の流体チャネルの各々に関連付けられた中間試薬入力ウェルと、
各中間試薬入力ウェルに関連付けられた中間試薬チャネルと
を備え、
前記中間試薬チャネルは、前記中間試薬入力ウェルを前記関連付けられた流体チャネルの前記中間プロセスチャンバに接続し、
前記中間処理ステーションの前記第１の中間試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第１の組の前記関連付けられた流体チャネルの各中間試薬入力ウェルから、前記関連付けられた中間試薬チャネルを通して、前記第１の組の前記関連付けられた流体チャネルの各中間プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成され、前記中間処理ステーションの前記第２の中間試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各中間試薬入力ウェルから、前記関連付けられた中間試薬チャネルを通して、前記第２の組の前記関連付けられた流体チャネルの各中間プロセスチャンバの中に試薬を同時に移動させるように構成されている、項目１７に記載の流体処理デバイス。
（項目１９）
前記初期処理ステーションと前記端末処理ステーションとの間に配置された５つの中間処理ステーションを備えている、項目１８に記載の流体処理デバイス。
（項目２０）
前記初期、中間、および端末処理ステーションの各々の前記第１および第２のプロセスポンプアセンブリの各々は、
２つ以上のプロセス固定子であって、各プロセス固定子は、第１および第２のプロセスポンプチャンバと、第１および第２のプロセスチャンバポートとを画定し、前記第１および第２のプロセスチャンバポートは、それぞれ、前記第１および第２のプロセスポンプチャンバと流体連通している、プロセス固定子と、
各第１および第２のプロセスポンプチャンバ内に配置されたプロセスプランジャであって、前記第１のプロセスポンプチャンバ内に配置された前記プロセスプランジャは、第１のプロセスプランジャロッドに接続され、前記第２のプロセスポンプチャンバ内に配置された前記プロセスプランジャは、第２のプロセスプランジャロッドに接続され、
前記第１のプロセスポンプチャンバ内に配置された前記プロセスプランジャは、前記関連付けられた第１のプロセスチャンバポートを通して前記第１のプロセスポンプチャンバの中に流体を同時に引き込むための第１の方向または前記関連付けられた第１のプロセスチャンバポートを通して前記第１のプロセスポンプチャンバから流体を同時に排出するための第２の方向に、前記第１のプロセスプランジャロッドを介して移動可能であり、前記第２のプロセスポンプチャンバ内に配置された前記プロセスプランジャは、前記関連付けられた第２のプロセスチャンバポートを通して前記第２のプロセスポンプチャンバの中に流体を同時に引き込むための第１の方向または前記関連付けられた第２のプロセスチャンバポートを通して前記第２のプロセスポンプチャンバから流体を同時に排出するための第２の方向に、前記第２のプロセスプランジャロッドを介して移動可能である、プロセスプランジャと、
各プロセス固定子に結合されたプロセス弁と
を備え、
前記プロセス弁は、前記第１および第２のプロセスチャンバポートを各関連付けられた流体チャネルの上流部分に流体的に接続する第１の位置と、前記第１および第２のプロセスチャンバポートを各関連付けられた流体チャネルの下流部分に流体的に接続する第２の位置との間で移動可能であり、前記関連付けられた流体チャネルの前記下流部分は、前記関連付けられたプロセスチャンバまたは前記関連付けられたサンプル出力ウェルと流体連通している、項目１８に記載の流体処理デバイス。
（項目２１）
前記プロセス弁は、前記第１の位置と前記第２の位置との間の回転移動のために前記プロセス固定子に対して回転可能に搭載された回転子を備えている、項目２０に記載の流体処理デバイス。
（項目２２）
前記初期および中間処理ステーションの各々の前記第１および第２のプロセスポンプアセンブリの各々は、
２つ以上の試薬固定子であって、各試薬固定子は、第１および第２の試薬ポンプチャンバと、第１および第２の試薬チャンバポートとを画定し、前記第１および第２の試薬チャンバポートは、それぞれ、前記試薬ポンプチャンバと流体連通している、試薬固定子と、
各第１および第２の試薬ポンプチャンバ内に配置された試薬プランジャであって、前記第１の試薬ポンプチャンバ内に配置された前記試薬プランジャは、第１の試薬プランジャロッドに接続され、前記第２の試薬ポンプチャンバ内に配置された前記試薬プランジャは、第２の試薬プランジャロッドに接続され、
前記第１の試薬ポンプチャンバ内に配置された前記試薬プランジャは、前記第１の試薬チャンバポートを通して前記第１の試薬ポンプチャンバの中に流体を引き込む第１の方向または前記第１の試薬チャンバポートを通して前記第１の試薬ポンプチャンバから流体を排出する第２の方向に、前記第１の試薬プランジャロッドを介して移動可能であり、前記第２の試薬ポンプチャンバ内に配置された前記試薬プランジャは、前記第２の試薬チャンバポートを通して前記第２の試薬ポンプチャンバの中に流体を引き込む第１の方向または前記第２の試薬チャンバポートを通して前記第２の試薬ポンプチャンバから流体を排出する第２の方向に、前記第２の試薬プランジャロッドを介して移動可能である、試薬プランジャと、
前記試薬固定子に結合された試薬弁と
を備え、
前記試薬弁は、前記第１および第２の試薬チャンバポートを前記関連付けられた第１および第２の試薬入力ウェルに流体的に接続する第１の位置と、前記第１および第２の試薬チャンバポートを前記関連付けられたプロセスチャンバに流体的に接続する第２の位置との間で移動可能である、項目１８－２１のいずれか１項に記載の流体処理デバイス。
（項目２３）
前記試薬弁は、前記第１の位置と前記第２の位置との間の回転移動のために前記試薬固定子に対して回転可能に搭載された回転子を備えている、項目２２に記載の流体処理デバイス。
（項目２４）
前記初期、中間、および端末処理ステーションの各々の前記第１および第２のプロセスポンプアセンブリは、プロセス弁ロッドを備え、各処理ステーションの前記プロセスポンプアセンブリの前記プロセス弁の全ては、前記プロセス弁ロッドに結合されており、それによって、前記プロセス弁ロッドの移動が、それらのそれぞれの第１の位置と第２の位置との間で前記プロセス弁の同時移動を生じさせる、項目２０－２２のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目２５）
前記初期および中間処理ステーションの各々の前記試薬ポンプアセンブリは、試薬弁ロッドを備え、各処理ステーションの前記試薬ポンプアセンブリの前記試薬弁の全ては、前記試薬弁ロッドに結合されており、それによって、前記試薬弁ロッドの移動が、それらのそれぞれの第１の位置と第２の位置との間で前記試薬弁の同時移動を生じさせる、項目２０－２４のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目２６）
８つの流体チャネルを備えている、項目１５－２５のいずれか１項に記載の処理デバイス。
（項目２７）
流体処理カセットを処理するためのデバイスであって、前記流体処理カセットは、１つ以上のプロセスチャンバを有し、前記１つ以上のプロセスチャンバの内で、サンプル材料が、サンプル混合物を形成するために少なくとも１つの試薬と混合され、前記デバイスは、
流体処理カセットを受け取り、保持するためのカセットトレイと、
１つ以上の磁石であって、各磁石は、前記カセットトレイ内で保持された前記流体処理カセットのプロセスチャンバに関連付けられており、各磁石は、磁場を前記関連付けられたプロセスチャンバ内の前記サンプル混合物に印加する前記関連付けられたプロセスチャンバに対する第１の位置と、前記磁石が前記第１の位置にあるときと比較して前記磁石が第２の位置にあるときに低減した磁場を前記関連付けられたプロセスチャンバ内の前記サンプル混合物に印加するための前記関連付けられたプロセスチャンバに対する第２の位置との間で移動可能である、磁石と、
１つ以上の熱要素と
を備え、
各熱要素は、前記カセットトレイ内に保持された前記流体処理カセットの関連付けられたプロセスチャンバと、前記関連付けられたプロセスチャンバに関連付けられた前記磁石との間に位置付けられ、前記１つ以上の熱要素の各々は、前記関連付けられたプロセスチャンバ内の前記サンプル混合物を選択的に加熱および／または冷却するように制御され、
前記熱要素は、前記磁石が前記第１の位置にあるときと同時に、または異なる時間に、前記関連付けられたプロセスチャンバ内の前記サンプル混合物を加熱または冷却することと、磁場を前記関連付けられたプロセスチャンバ内の前記サンプル混合物に印加することとを行うように構成されている、デバイス。
（項目２８）
前記１つ以上の磁石は、前記流体処理カセットの各プロセスチャンバに関連付けられた永久磁石を備え、前記デバイスは、
各永久磁石に結合され、前記永久磁石を前記第２の位置に付勢するように構成されたばねと、
前記永久磁石のうちの１つ以上のものの下方に配置された磁石リフタと
をさらに備え、
前記磁石リフタは、各磁石のばねの付勢に逆らって前記１つ以上の永久磁石を前記磁石の第１の位置まで選択的に持ち上げるように構成されている、項目２７に記載のデバイス。
（項目２９）
前記磁石リフタに結合された磁石リフタペダルと、
拡張可能な磁石リフトアクチュエータアームを含む磁石リフトアクチュエータと
をさらに備え、
前記磁石リフトアクチュエータアームは、前記磁石リフタペダルに係合し、前記磁石リフタを持ち上げて作動させ、前記永久磁石を持ち上げるように構成されている、項目２７に記載のデバイス。
（項目３０）
２つ以上の磁石リフタと、関連付けられた磁石リフタペダルとを備え、前記磁石リフトアクチュエータは、前記磁石リフトアクチュエータアームが前記関連付けられた磁石リフタペダルに係合できるように、前記磁石リフタのうちの異なるものに対する動作位置に選択的に移動可能である、項目２９に記載のデバイス。
（項目３１）
各熱要素は、加熱器回路に取り付けられた抵抗加熱器を備え、各抵抗加熱器の温度は、独立して制御可能である、項目２７－３０のいずれか１項に記載のデバイス。
（項目３２）
各磁石は、前記磁石がその第１の位置にあるとき、前記関連付けられた熱要素を通してその関連付けられたプロセスチャンバ内の前記サンプル混合物に磁場を印加するように構成されている、項目２７－３１のいずれか１項に記載のデバイス。
（項目３３）
流体処理カセットを処理する方法であって、前記流体処理カセットは、１つ以上のプロセスチャンバを有し、前記１つ以上のプロセスチャンバ内で、サンプル材料が、サンプル混合物を形成するために少なくとも１つの試薬と混合され、前記方法は、
Ａ．前記関連付けられたプロセスチャンバに近接していない位置から前記関連付けられたプロセスチャンバに近接した位置まで、各プロセスチャンバに関連付けられた磁石を移動させることによって、各プロセスチャンバ内の前記サンプル混合物に磁場を印加することと、
Ｂ．１つ以上の熱要素を用いて、各プロセスチャンバ内の前記サンプル混合物を選択的に加熱および／または冷却することであって、各熱要素は、関連付けられたプロセスチャンバと、前記関連付けられたプロセスチャンバに関連付けられた前記磁石との間に位置付けられている、ことと
を含み、
ステップＡとステップＢとは、各関連付けられたプロセスチャンバにおいて同時に、または異なる時間に生じることができる、方法。
【図面の簡単な説明】
【0014】
本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を形成する、付随する図面は、本開示の主題の種々の例を図示する。図面では、同様の参照番号が、同じまたは機能的に類似する要素を示す。
【0015】
【0016】
【0017】
【0018】
【0019】
【0020】
【0021】
【0022】
【0023】
【0024】
【0025】
【0026】
【0027】
【0028】
【0029】
【0030】
【0031】
【0032】
【0033】
【0034】
【0035】
【0036】
【0037】
【0038】
【0039】
【0040】
【0041】
【0042】
【0043】
【0044】
【0045】
【0046】
【0047】
【0048】
【0049】
【0050】
【0051】
【0052】
【発明を実施するための形態】
【0053】
本開示の主題の側面は、種々の形態で具現化され得るが、以下の説明および付随する図面は、単に、これらの形態のうちのいくつかを主題の具体的例として開示することを意図しているにすぎない。故に、本開示の主題は、そのように説明および図示される形態または例に限定されることを意図していない。
【0054】
別様に定義されない限り、本明細書で使用される全ての専門用語、表記、および他の技術用語、または用語は、本開示が属する技術分野の当業者によって一般的に理解されるものと同一の意味を有する。本明細書で参照される全ての特許、出願、公開出願、および他の出版物は、参照することによって、それらの全体として組み込まれる。本節に記載される定義が、参照することによって本明細書に組み込まれる、特許、出願、公開出願、および他の出版物に記載される定義に反する、または別様に矛盾する場合、本節に記載される定義が、参照することによって本明細書に組み込まれる定義より優先する。
【0055】
別様に示されない、または文脈が別様に示唆しない限り、本明細書で使用されるように、「ａ」または「ａｎ」は、「少なくとも１つ」または「１つ以上の」を意味する。
【0056】
本説明は、構成要素、装置、場所、特徴、またはその一部の位置および／または配向を説明する際に、相対的空間および／または配向用語を使用し得る。具体的に記述されない、または別様に説明の文脈によって決定付けられない限り、限定ではないが、上部、底部、上方、下方、下、その上に、上側、下側、その左、その右、その前、背後に、隣に、隣接して、間に、水平、垂直、対角、縦、横、半径方向、軸方向等を含む、そのような用語は、図面内のそのような構成要素、装置、場所、特徴、またはその一部を参照する際に便宜上使用され、限定的であることを意図していない。
【0057】
さらに、別様に記述されないかぎり、本説明に述べられる任意の具体的寸法は、単に、本開示の側面を具現化するデバイスの例示的実装を表すにすぎず、限定的であることを意図していない。
【0058】
用語「約」の使用は、明示的に示されるかどうかにかかわらず、本明細書に規定される全ての数値に適用される。本用語は、概して、当業者が、本開示の文脈で、記載される数値への適正な量の逸脱と見なすであろう（すなわち、同等の機能または結果を有する）、数字の範囲を指す。例えば、限定的であることを意図していないが、本用語は、そのような逸脱が値の最終機能または結果を改変しないことを前提として、所与の数値の±１０パーセントの逸脱を含むものとして解釈されることができる。したがって、当業者によって理解されるであろうようないくつかの状況下で、約１％の値は、０．９％～１．１％の範囲であると解釈されることができる。
【0059】
本明細書で使用されるように、用語「隣接する」は、近傍にある、または接していることを指す。隣接する物体は、相互から間隔を置かれることができる、または互いに実際に、または直接接触することができる。いくつかの事例では、隣接する物体は、相互に結合されることができる、または互いに一体的に形成されることができる。
【0060】
本明細書で使用されるように、用語「近接する」は、近傍にある、接している、または比較的または機能的に小さい距離または空間によって分離されることを指す。例えば、第２の物体に近接する第１の物体は、第２の物体と接触することができる、または第１の物体から第２の物体までの距離または空間が、２つの物体がそれらのそれぞれの機能を果たす、または本開示によるそれらのそれぞれの特性を呈することを可能にするように、第２の物体の距離内にあり得る。
【0061】
本明細書で使用されるように、用語「実質的に」および「実質的」は、著しい度合いまたは程度を指す。例えば、事象、状況、特性、または性質と併せて使用されるとき、本用語は、事象、状況、特性、または性質が精密に生じる事例、および本明細書に説明される例の典型的許容レベルまたは変動性を考慮すること等の事象、状況、特性、または性質が密接に近似して生じる事例を指し得る。
【0062】
本明細書で使用されるように、用語「随意の」および「随意に」は、続いて説明される構成要素、構造、要素、事象、状況、特性、性質等が含まれる、または生じる場合とそうではない場合があり、説明は、構成要素、構造、要素、事象、状況、特性、性質等が含まれる、または生じる事例と、それが含まれない、または生じない事例とを含むことを意味する。
【0063】
種々の例によると、本明細書に説明されるようなアセンブリおよびデバイスは、１つ以上の要素、例えば、チャネル、分岐チャネル、弁、流動スプリッタ、通気口、ポート、アクセス面積、ビア、ビーズ、試薬含有ビーズ、カバー層、反応構成要素、それらの任意の組み合わせ、および同等物のうちの１つ以上のものを含む、１つ以上の流体処理通路を備え得る流体カートリッジと組み合わせて使用され得る。任意の要素が、別の要素と流体連通し得る。
【0064】
本明細書に説明される、または請求項に記載される、要素および構成要素の全ての可能性として考えられる組み合わせが、検討され、本開示の一部と見なされる。下記にさらに詳細に議論される、前述の概念および追加の概念の全ての組み合わせは、（そのような概念が相互に矛盾しないことを前提として）本明細書に開示される主題の一部であるとして検討されることを理解されたい。特に、本開示の最後に表出する請求される主題の全ての組み合わせは、本明細書に開示される主題の一部であるとして検討される。
【0065】
添付の請求項では、用語「～を含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」は、それぞれの用語「～を備えている（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」の平易な英語の均等物として使用される。用語「～を備えている」および「～を含む」は、本明細書では、記載される要素を含むだけではなく、任意の追加の要素をさらに包含し、非制約であることを意図している。さらに、以下の請求項では、用語「第１の」、「第２の」、「第３の」等は、単に標識として使用されるにすぎず、それらの目的に数値的要件を課すことを意図していない。
【0066】
用語「流体連通」は、直接流体連通、例えば、２つの領域が、２つの領域を接続する非閉塞流体処理通路を介して互いに流体連通し得ること、または流体連通することが可能であり得る、例えば、２つの領域が、その中に配置された弁を備え得る流体処理通路を介して接続されるときに、互いに流体連通することが可能であり得ることのいずれかを意味し、流体連通は、例えば、溶解可能な弁を溶解させること、破裂可能な弁を破裂させること、または別様に流体処理通路内に配置された弁を開放することによって、弁を作動させることに応じて、２つの領域の間に確立されることができる。
【0067】
効率的に、最小限の人為的エラーまたは機器エラーを伴って、複数の流体サンプルを処理することが可能な流体処理デバイスの必要性が存在する。流体処理は、例えば、流体分析または次世代シークエンシング（ＮＧＳ）のためのサンプル調製等の流体サンプル調製を含むことができる。ＮＧＳサンプル調製は、例えば、高価で時間のかかるプロセス（例えば、１～３日）であり、精巧な研究室設備を要求する。さらに、ＮＧＳサンプル調製および他の従来の流体処理技法およびデバイスは、人為的エラー、機器エラーまたは故障、二次汚染、および環境汚染の影響を受け得る。
【0068】
本開示の側面は、同じ処理ステップを介して、別個であるが類似する流体チャネル内で同時に複数の流体サンプルを処理し、それによって、効率を増加させ、不一致を回避し、コストを低減することが可能な新規の流体処理デバイスを包含する。流体処理デバイスは、従来の流体処理技法に関連付けられた複数の別個の高価な機器に取って代わる単回使用消耗品等の消耗品に含まれることができる。例えば、流体処理デバイスは、ＮＧＳのためのサンプル調製を自動化することができる。流体処理デバイスは、ＤＮＡサンプル、唾液、およびホルマリン固定およびパラフィン包埋された（ＦＦＰＥ）組織の初期サンプル調製（ＩＳＰ）を含む、種々の流体の流体処理またはサンプル流体調製のために好適である。さらに、環境汚染が、例えば、流体処理デバイスをシールし、流体処理デバイスの流体チャネルと外部処理機器との間の接触を最小化することによって、回避される。二次汚染が、例えば、流体処理デバイスの流体チャネルの間の任意の流体連通を除去することによって、回避される。
【0069】
流体処理デバイスは、３、４、５、６、７、８、９、１０、または１０を上回る流体チャネル等の２つ以上の流体チャネルを備えていることができる。流体チャネルは、流体チャネルと全ての他の流体チャネルとの間に流体連通が存在せず、二次汚染を回避し、緩衝剤洗浄または廃棄物収集の必要性を排除し得るように、全ての他の流体チャネルと別個であり得る。２つ以上の流体チャネルは、同じまたは類似する体積、形状、長さ、サイズ、または相対的位置付けを伴う構成要素等の同じまたは実質的に類似する構成要素に関連付けられる、またはそれを備えていることができる。２つ以上の流体チャネルは、同じまたは類似する数の構成要素に関連付けられることができ、関連付けられた構成要素は、２つ以上の流体チャネル内で同じまたは類似する順序にあり得る。いくつかの実施形態では、流体処理デバイスの全ての流体チャネルは、各流体チャネル内で同一の順序に配列される、同じ容積の流体経路を伴う対応する構成要素に関連付けられる。
【0070】
流体処理デバイスは、サンプル入力ウェル、チャネル、チャンバ、ポート、または他の流体入力要素等の各流体チャネルに関連付けられたサンプル入力構成要素を備えていることができる。流体処理デバイスは、サンプル出力ウェル、チャネル、チャンバ、ポート、または他の流体出力要素等の各流体チャネルに関連付けられたサンプル出力構成要素を備えていることができる。流体処理デバイス内の流体チャネルは、経路、チャネル、容器、ポート、レセプタクル、チャンバ、ウェル、弁、回転子、または他の流体構成要素等の流体構成要素を備えている、またはそれに関連付けられることができる。
【0071】
流体処理デバイスは、２つ以上の処理ステーションを備えていることができる。処理ステーションは、流体処理デバイスの２つ以上の流体チャネルに関連付けられることができ、各処理ステーションは、関連付けられた流体チャネルのそれぞれの中の流体に少なくとも１つの処理ステップを実施するように構成されることができる。処理ステーションの処理ステップは、関連付けられた流体チャネルのそれぞれの中の流体に同じように、かつ同時に実施されることができる。処理ステップは、流体を移動させるステップ、流体を保持するステップ、１つ以上の試薬を流体に添加するステップ、流体から１つ以上の廃棄物質を除去するステップ、温度制御（例えば、加熱）を流体に実施するステップ、または磁気分離手技等の磁気手技を流体に実施するステップを含むことができる。温度制御は、温度制御が、（例えば、ポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ）の目的のために）上昇した反応温度または熱サイクリングを制御し得るように、空気流および／または薄膜加熱器によって実施されることができる。磁気制御は、例えば、流体チャネル内の永久磁石と流体との間の距離を変化させることによって、永久磁石を使用して実施されることができる。
【0072】
例えば、流体処理デバイスは、８つの別個の流体チャネルと、８つ全ての流体チャネルとそれぞれ関連付けられる、６つの処理ステーションとを備えていることができる。本流体処理デバイスは、（例えば、各流体チャネルに関連付けられたサンプル入力ウェルを介して）８つの同じサンプル流体のうちの１つを８つの流体チャネルのそれぞれの中に受け取ることができ、６つの処理ステーションの各々は、次に、８つの流体チャネル内のサンプル流体が、全て同時に同一の処理ステップを受けるように、各流体チャネル内のサンプル流体に同じように処理ステップを同時に実施することができる。いったんサンプル流体が、次に、６つ全ての処理ステーションによって処理されると、各処理されたサンプル流体は、（例えば、各流体チャネルに関連付けられたサンプル出力ウェルを介して）流体処理デバイスから除去されることができる。別個の流体チャネルは、二次汚染を回避し、各サンプル流体の同時の同じ処理は、処理されたサンプル流体の間の不一致を回避する。
【0073】
流体処理デバイスは、少なくとも第１の処理ステーションを備えていることができる。第１の処理ステーションは、２つ以上の流体チャネルのそれぞれの中の流体を処理するように構成されることができる。第１の処理ステーションは、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１のプロセスチャンバまたは他の類似構成要素（例えば、セル、容器、チャネル、コンパートメント、またはレセプタクル）を備えていることができる。第１の処理ステーションはさらに、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１のプロセスポンプアセンブリを備えていることができる。第１のプロセスポンプアセンブリは、各関連付けられた流体チャネルの一部を通して流体を移動させる、または各関連付けられた流体チャネルの一部を通して廃棄物質を移動させる等の１つ以上の処理ステップを各関連付けられた流体チャネル内の流体に実施するように構成されることができる。第１のプロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、処理ステップを各関連付けられた流体チャネル内の流体に同時に実施するように構成されることができる。処理ステップは、例えば、各関連付けられた流体チャネル内の下流の流体を、関連付けられた流体チャネルのサンプル入力ウェル等の第１のプロセスチャンバから上流にある関連付けられた流体チャネルの一部から、関連付けられた流体チャネルの第１のプロセスチャンバの中に移動させるステップであり得る。処理ステップは、例えば、廃棄物を、サンプル入力ウェル、第１の処理ステーションの第１のプロセスチャンバ、または第１の処理ステーションの第１のプロセスポンプアセンブリから下流にある関連付けられた流体チャネルの一部から、サンプル入力ウェル、第１の処理ステーションの第１のプロセスチャンバ、または第１の処理ステーションの第１のプロセスポンプアセンブリの中に上流に移動させるステップであり得る。例えば、サンプル流体内の着目分子は、第１の処理ステーションの第１のプロセスポンプアセンブリが、第１のプロセスチャンバからサンプル入力ウェルの中に上流に、または第１のプロセスポンプアセンブリの中に上流に、廃棄物を移動させている間に、第１の処理ステーションの第１のプロセスチャンバに近接して磁石によって定常して保持された強磁性粒子（例えば、磁気ビーズ）に着目分子（ＤＮＡ等）を結合すること等によって、定常に保持され得る。これは、流体が洗い流されることを可能にし、したがって、着目分子を残す（ビーズ精製）。最後のステップは、磁気ビーズから分子を洗い落とし、その流体を次の処理ステップ上に送ることである。磁気ビーズは、試薬入力ウェルに添加される流体内にある。
【0074】
第１の処理ステーションはさらに、試薬入力ウェル、チャネル、チャンバ、ポート、または他の試薬入力要素等の２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の試薬入力構成要素を備えていることができる。いくつかの実施形態では、第１の試薬入力構成要素は、第１の試薬入力ウェルであり得る。第１の処理ステーションは、各第１の試薬入力ウェルに関連付けられた第１の試薬チャネルを備えていることができる。第１の試薬チャネルは、流体チャネル、ポート、または弁等の１つ以上の流体通路要素を備えていることができる。流体チャネルに関連付けられた第１の試薬入力ウェルが、関連付けられた第１の試薬チャネルを介して、関連付けられた流体チャネルの第１のプロセスチャンバに接続されることができる。第１の処理ステーションはさらに、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた第１の試薬ポンプアセンブリを備えていることができる。第１の試薬ポンプアセンブリは、例えば、試薬入力ウェルに関連付けられた第１の試薬チャネルを介して、関連付けられた流体チャネルの試薬入力ウェルから関連付けられた流体チャネルの第１のプロセスチャンバまで等、試薬（例えば、磁気ビーズを含む試薬）を移動させる処理ステップを実施するように構成されることができる。第１の試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、各関連付けられた流体チャネル内で試薬を同時に移動させるように構成されることができる。
【0075】
流体処理デバイスは、１つ以上の中間処理ステーションを備えていることができる。中間処理ステーションは、第１の処理ステーションと最終処理ステーションとの間に配置されることができる。中間処理ステーションは、第１の処理ステーションから下流にあるが、最終処理ステーションから上流にある、２つ以上の流体チャネルのそれぞれの一部等の２つ以上の流体チャネルのそれぞれの中で流体を処理するように構成されることができる。中間処理ステーションは、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間プロセスチャンバまたは他の類似構成要素（例えば、セル、容器、チャネル、コンパートメント、またはレセプタクル）を備えていることができる。中間処理ステーションはさらに、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間プロセスポンプアセンブリを備えていることができる。中間処理ステーションの中間プロセスポンプアセンブリは、各関連付けられた流体チャネルの一部を通して流体を移動させる、または各関連付けられた流体チャネルの一部を通して廃棄物質を移動させる等の１つ以上の処理ステップを各関連付けられた流体チャネル内の流体に実施するように構成されることができる。中間プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、処理ステップを各関連付けられた流体チャネル内の流体に同時に実施するように構成されることができる。処理ステップは、例えば、各関連付けられた流体チャネル内の下流の流体を、先行する処理ステーションのプロセスチャンバ、例えば、第１の処理ステーションの第１のプロセスチャンバまたは先行する中間処理ステーションの中間プロセスチャンバ等の中間プロセスチャンバから上流にある関連付けられた流体チャネルの一部から、関連付けられた流体チャネルの中間プロセスチャンバの中に移動させるステップであり得る。プロセスステップは、例えば、廃棄物を、先行する処理ステーション、中間処理ステーションの中間プロセスチャンバ、または中間処理ステーションの中間プロセスポンプアセンブリから下流にある関連付けられた流体チャネルの一部から、先行する処理ステーション（例えば、先行する処理ステーションのプロセスチャンバまたはプロセスポンプアセンブリ）、中間処理ステーションの中間プロセスチャンバ、または中間処理ステーションの中間プロセスポンプアセンブリの中に上流に移動させるステップであり得る。例えば、ビーズ精製プロセスが、中間処理ステーションの中間プロセスポンプアセンブリが廃棄物を中間プロセスチャンバから先行する処理ステーションの中に上流に、または中間プロセスポンプアセンブリの中に上流に移動させている間に、中間処理ステーションの中間プロセスチャンバ内で実施されることができる。
【0076】
各中間処理ステーションはさらに、中間試薬入力ウェル、チャネル、チャンバ、ポート、または他の試薬入力要素等の２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間試薬入力構成要素を備えていることができる。いくつかの実施形態では、中間試薬入力構成要素は、中間試薬入力ウェルであり得る。中間処理ステーションは、各中間試薬入力ウェルに関連付けられた中間試薬チャネルを備えていることができる。中間試薬チャネルは、流体チャネル、ポート、または弁等の１つ以上の流体通路要素を備えていることができる。流体チャネルに関連付けられた中間試薬入力ウェルは、関連付けられた中間試薬チャネルを介して、関連付けられた流体チャネルの中間プロセスチャンバに接続されることができる。中間処理ステーションはさらに、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた中間試薬ポンプアセンブリを備えていることができる。中間試薬ポンプアセンブリは、例えば、中間試薬入力ウェルに関連付けられた中間試薬チャネルを介して、関連付けられた流体チャネルの中間試薬入力ウェルから関連付けられた流体チャネルの中間プロセスチャンバまで等、試薬（例えば、磁気ビーズまたは洗浄緩衝剤を含む試薬）を移動させる処理ステップを実施するように構成されることができる。中間試薬ポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、各関連付けられた流体チャネル内で試薬を同時に移動させるように構成されることができる。
【0077】
流体処理デバイスは、最終処理ステーションを備えていることができる。最終処理ステーションは、２つ以上の流体チャネルのそれぞれの中の流体を処理するように構成されることができる。最終処理ステーションは、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた最終プロセスチャンバまたは他の類似構成要素（例えば、セル、容器、チャネル、コンパートメント、またはレセプタクル）を備えていることができる。最終処理ステーションは、サンプル出力ウェル、チャネル、チャンバ、ポート、または他の流体出力要素等の２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられたサンプル出力構成要素（例えば、サンプル出力ウェル）を備えていることができる。最終処理ステーションは、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた最終プロセスポンプアセンブリを備えていることができる。最終プロセスポンプアセンブリは、各関連付けられた流体チャネルの一部を通して流体を移動させる、または各関連付けられた流体チャネルの一部を通して廃棄物質を移動させる等の１つ以上の処理ステップを各関連付けられた流体チャネル内の流体に実施するように構成されることができる。最終プロセスポンプアセンブリは、一斉に動作可能であり、処理ステップを各関連付けられた流体チャネル内の流体に同時に実施するように構成されることができる。処理ステップは、例えば、各関連付けられた流体チャネル内の下流の流体を、先行する処理ステーションのプロセスチャンバ、例えば、第１の処理ステーションの第１のプロセスチャンバまたは先行する中間処理ステーションの中間プロセスチャンバ等のサンプル出力ウェルから上流にある関連付けられた流体チャネルの一部から、関連付けられた流体チャネルのサンプル出力ウェルの中に移動させるステップであり得る。プロセスステップは、例えば、廃棄物を、先行する処理ステーション、最終処理ステーションの最終プロセスチャンバ、または最終処理ステーションの最終プロセスポンプアセンブリから下流にある関連付けられた流体チャネルの一部から、先行する処理ステーション（例えば、先行する処理ステーションのプロセスチャンバまたはプロセスポンプアセンブリ）、最終処理ステーションの最終プロセスチャンバ、または最終処理ステーションの最終プロセスポンプアセンブリの中に上流に移動させるステップであり得る。例えば、ビーズ精製プロセスが、最終処理ステーションの最終プロセスポンプアセンブリが廃棄物を最終プロセスチャンバから先行する処理ステーションの中に上流に、または最終プロセスポンプアセンブリの中に上流に移動させている間に、最終処理ステーションの最終プロセスチャンバ内で実施されることができる。いくつかの実施形態では、最終処理ステーションは、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた最終プロセスチャンバまたは類似構成要素を備えない。いくつかの実施形態では、最終処理ステーションは、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた最終試薬入力構成要素、最終試薬チャネル、および／または最終試薬ポンプアセンブリを備えない。いくつかの実施形態では、最終処理ステーションは、２つ以上の流体チャネルの各々に関連付けられた最終試薬入力構成要素、最終試薬チャネル、および／または最終試薬ポンプアセンブリを備えていることができる。いくつかの実施形態では、最終試薬関連特徴は、流体機能を実施しない（例えば、最終試薬関連特徴は、雰囲気に通気されない）、および／または構造またはアセンブリ目的を果たす。
【0078】
いくつかの例では、流体処理デバイスは、第１の中間処理ステーションおよび第２の中間処理ステーション等の複数の中間処理ステーションを備えている。いくつかの例では、流体処理デバイスは、３、４、５、６、７、８、９、１０、または１０個を上回る中間処理ステーションを備えている。複数の中間処理ステーションは、次に、１つ以上の処理ステップを実施することができる。例えば、第１の処理ステーションは、第１のプロセスポンプアセンブリを介して、サンプル入力ウェルから第１の処理ステーションの第１のプロセスチャンバまで流体サンプルを移動させ、第１の試薬ポンプアセンブリを介して、試薬を第１のプロセスチャンバの中に移動させることによって、２つ以上の関連付けられた流体チャネルのそれぞれの中の流体サンプルに処理ステップを実施することができ、次いで、第１の中間処理ステーションは、第１の中間プロセスポンプアセンブリを介して、流体サンプルを第１の中間処理ステーションの第１の中間プロセスチャンバに移動させ、第１の中間試薬ポンプアセンブリを介して、試薬を第１の中間プロセスチャンバの中に移動させることによって、２つ以上の関連付けられた流体チャネルのそれぞれの中の流体サンプルに処理ステップを実施することができ、次いで、第２の中間処理ステーションは、第２の中間プロセスポンプアセンブリを介して、流体サンプルを第２の中間処理ステーションの第２の中間プロセスチャンバに移動させ、第２の中間試薬ポンプアセンブリを介して、試薬を第２の中間プロセスチャンバの中に移動させることによって、２つ以上の関連付けられた流体チャネルのそれぞれの中の流体サンプルに処理ステップを実施することができ、次いで、最終処理ステーションは、流体サンプルをサンプル出力ウェルに移動させることによって、２つ以上の関連付けられた流体チャネルのそれぞれの中の流体サンプルに処理ステップを実施することができる。
【0079】
いくつかの実施形態では、第１のプロセスポンプアセンブリ、中間プロセスポンプアセンブリ、および／または最終プロセスポンプアセンブリは、往復ポンプ、例えば、プランジャポンプ等の少なくとも１つの容積型ポンプを備えている。例えば、これらのプロセスポンプアセンブリの各々は、少なくとも１つのプロセスポンプチャンバを画定し、少なくとも１つのプロセスポンプチャンバと流体連通する少なくとも１つのプロセスチャンバポートを画定するプロセス固定子を備えていることができる。いくつかの実施形態では、単一の固定子は、２つ以上のプロセスポンプアセンブリの構成要素を備えていることができる。例えば、単一のプロセス固定子は、２つ以上のプロセスチャンバポートの各々が、プロセスポンプチャンバのうちの１つと流体連通し、各プロセスポンプチャンバおよび関連付けられたプロセスチャンバポートが、２つ以上のプロセスポンプアセンブリのうちの１つの構成要素であるように、２つ以上のプロセスポンプチャンバおよび２つ以上のプロセスチャンバポートを画定することができる。１つ以上のプロセスプランジャは、プロセスポンプチャンバ内に配置されることができ、プロセスポンプチャンバ内で移動可能であり得る。プロセスプランジャは、プロセスプランジャロッドに接続されることができ、プロセスプランジャロッドを介して（例えば、軸方向に）移動可能であり得る。例えば、第１の方向へのプロセスポンプチャンバ内のプロセスプランジャの移動は、プロセスポンプチャンバと流体接続するプロセスチャンバポートを通して、プロセスポンプチャンバの中に流体を引き込むことができ、第２の方向へのプロセスポンプチャンバ内のプロセスプランジャの移動は、プロセスチャンバポートを通してプロセスポンプチャンバから流体を排出することができる。
【0080】
いくつかの実施形態では、処理ステーションの２つ以上のプロセスポンプアセンブリ（例えば、第１の処理ステーションの２つ以上の第１のプロセスポンプアセンブリ、中間処理ステーションの２つ以上の中間プロセスポンプアセンブリ、または最終処理ステーションの２つ以上の最終ポンプアセンブリ）は、単一のプロセスプランジャロッドを備え、２つ以上のプロセスポンプアセンブリのそれぞれのプロセスポンプチャンバ内に配置されたプロセスプランジャは、単一のプロセスプランジャロッドの軸方向移動が、それらのそれぞれの第１および第２の方向にそれらのそれぞれのプロセスポンプチャンバ内でプロセスプランジャの同時移動を生じさせるように、単一のプロセスプランジャロッドに取り付けられる。そのような実施形態は、プロセスポンプチャンバの中に、またはプロセスポンプチャンバから外に流体を移動させるステップ等の同一の処理ステップを２つ以上のプロセスポンプアセンブリに関連付けられた流体チャネル内の流体に同時に実施することができる。
【0081】
いくつかの実施形態では、第１のプロセスポンプアセンブリ、中間プロセスポンプアセンブリ、および／または最終プロセスポンプアセンブリは、少なくとも１つのプロセス弁を備えている。例えば、プロセス弁は、プロセスポンプアセンブリを関連付けられた流体チャネルの上流部分に流体的に接続する第１の位置と、プロセスポンプアセンブリを関連付けられた流体チャネルの下流部分に流体的に接続する第２の位置との間で移動可能であり得る。プロセス弁はまた、流体が、プロセスポンプアセンブリの関連付けられたプロセスチャンバまたは流体構成要素（例えば、チャンバ、チャネル、またはポート）等の構成要素内に保持される、またはそこに進入すること、またはそこから退出することを阻止されるように、閉鎖されるか、または、閉鎖位置まで移動可能であり得る。プロセス弁は、プロセス弁ロッドに動作可能に結合されることができ、プロセス弁ロッドを介して、例えば、第１の位置と第２の位置との間で移動可能（例えば、回転可能）であり得る。いくつかの実施形態では、プロセス弁は、第１の位置および第２の位置が、プロセス固定子によって画定されるプロセスチャンバポートを、それぞれ、関連付けられた流体チャネルの上流部分および下流部分に流体的に接続するように、プロセスポンプアセンブリのプロセス固定子に結合される。いくつかの実施形態では、プロセス弁は、第１の位置と第２の位置との間で回転可能である、複数の回転子ポートおよび／または回転子流体経路を伴う回転子等の回転子を備えている。例えば、プロセス弁は、第１の位置と第２の位置との間の回転移動のためにプロセス固定子に対して回転可能に搭載された回転子を備えていることができ、プロセス弁ロッドは、プロセス回転子ロッドであり得る。いくつかの実施形態では、単一のプロセス弁は、２つ以上のプロセスポンプアセンブリの構成要素であり、第１のプロセスポンプアセンブリの第１のプロセスポンプをその関連付けられた流体チャネルの上流部分に、第１のプロセスポンプアセンブリの第１のプロセスポンプをその関連付けられた流体チャネルの下流部分に、第２の別個のプロセスポンプアセンブリの第２のプロセスポンプをその関連付けられた流体チャネルの上流部分に、および／または第２の別個のプロセスポンプアセンブリの第２のプロセスポンプをその関連付けられた流体チャネルの下流部分に流体的に接続するために、２つ以上の位置の間で移動させられることができる。
【0082】
いくつかの実施形態では、処理ステーションの２つ以上のプロセスポンプアセンブリ（例えば、第１の処理ステーションの２つ以上の第１のプロセスポンプアセンブリ、中間処理ステーションの２つ以上の中間プロセスポンプアセンブリ、または最終処理ステーションの２つ以上の最終ポンプアセンブリ）は、単一のプロセス弁ロッドを備え、２つ以上のプロセスポンプアセンブリのそれぞれのプロセス弁は、単一のプロセス弁ロッドの移動が、それらの第１の位置と第２の位置との間でプロセス弁の同時移動を生じさせるように、単一のプロセス弁ロッドに結合される。そのような実施形態は、プロセスポンプアセンブリから上流または下流に流体移動を指向するステップ、または流体がプロセスポンプアセンブリの関連付けられたプロセスチャンバまたは流体構成要素に進入すること、またはそこから退出することを阻止するステップ等の同一の処理ステップを２つ以上のプロセスポンプアセンブリに関連付けられた流体チャネル内の流体に同時に実施することができる。
【0083】
いくつかの実施形態では、第１の試薬ポンプアセンブリおよび／または中間試薬ポンプアセンブリは、往復ポンプ、例えば、プランジャポンプ等の少なくとも１つの容積型ポンプを備えている。例えば、これらの試薬ポンプアセンブリの各々は、少なくとも１つの試薬ポンプチャンバを画定し、少なくとも１つの試薬ポンプチャンバと流体連通する少なくとも１つの試薬チャンバポートを画定する試薬固定子を備えていることができる。いくつかの実施形態では、単一の固定子は、２つ以上の試薬ポンプアセンブリの構成要素を備えていることができる。例えば、単一の試薬固定子は、２つ以上の試薬チャンバポートの各々が、試薬ポンプチャンバのうちの１つと流体連通し、各試薬ポンプチャンバおよび関連付けられる試薬チャンバポートが、２つ以上の試薬ポンプアセンブリのうちの１つの構成要素であるように、２つ以上の試薬ポンプチャンバおよび２つ以上の試薬チャンバポートを画定することができる。１つ以上の試薬プランジャは、試薬ポンプチャンバ内に配置されることができ、試薬ポンプチャンバ内で移動可能であり得る。試薬プランジャは、試薬プランジャロッドに接続されることができ、試薬プランジャロッドを介して（例えば、軸方向に）移動可能であり得る。例えば、第１の方向への試薬ポンプチャンバ内の試薬プランジャの移動は、試薬ポンプチャンバと流体接続する試薬チャンバポートを通して、試薬ポンプチャンバの中に流体を引き込むことができ、第２の方向への試薬ポンプチャンバ内の試薬プランジャの移動は、試薬チャンバポートを通して試薬ポンプチャンバから流体を排出することができる。
【0084】
いくつかの実施形態では、処理ステーションの２つ以上の試薬ポンプアセンブリ（例えば、第１の処理ステーションの２つ以上の第１の試薬ポンプアセンブリ、または中間処理ステーションの２つ以上の中間試薬ポンプアセンブリ）は、単一の試薬プランジャロッドを備え、２つ以上の試薬ポンプアセンブリのそれぞれの試薬ポンプチャンバ内に配置された試薬プランジャは、単一の試薬プランジャロッドの軸方向移動が、それらのそれぞれの第１および第２の方向にそれらのそれぞれの試薬ポンプチャンバ内で試薬プランジャの同時移動を生じさせるように、単一の試薬プランジャロッドに取り付けられる。そのような実施形態は、試薬入力ウェルから試薬ポンプチャンバの中に試薬を移動させるステップ、または試薬ポンプチャンバからプロセスチャンバの中に試薬を移動させるステップ等の同一の処理ステップを２つ以上の試薬ポンプアセンブリに関連付けられた流体チャネル内の流体に同時に実施することができる。
【0085】
いくつかの実施形態では、第１の試薬ポンプアセンブリおよび／または中間試薬ポンプアセンブリは、少なくとも１つの試薬弁を備えている。例えば、試薬弁は、試薬ポンプアセンブリを関連付けられた試薬入力ウェルに流体的に接続する第１の位置と、試薬ポンプアセンブリを関連付けられたプロセスチャンバに流体的に接続する第２の位置との間で移動可能であり得る。試薬弁はまた、試薬が、試薬ポンプアセンブリの関連付けられた試薬入力ウェル、関連付けられたプロセスチャンバまたは流体構成要素（例えば、チャンバ、チャネル、またはポート）等の構成要素内に保持されるか、または、そこに進入すること、またはそこから退出することを阻止されるように、閉鎖される、または閉鎖位置まで移動可能であり得る。試薬弁は、試薬弁ロッドに動作可能に結合されることができ、試薬弁ロッドを介して、例えば、第１の位置と第２の位置との間で移動可能（例えば、回転可能）であり得る。いくつかの実施形態では、試薬弁は、第１の位置が、試薬固定子によって画定される試薬チャンバポートを関連付けられた試薬入力ウェルに流体的に接続し、第２の位置が、試薬チャンバポートを関連付けられたプロセスチャンバに流体的に接続するように、試薬ポンプアセンブリの試薬固定子に結合される。いくつかの実施形態では、試薬弁は、第１の位置と第２の位置との間で回転可能である、複数の回転子ポートおよび／または回転子流体経路を伴う回転子等の回転子を備えている。例えば、試薬弁は、第１の位置と第２の位置との間の回転移動のために試薬固定子に対して回転可能に搭載された回転子を備えていることができ、試薬弁ロッドは、試薬回転子ロッドであり得る。いくつかの実施形態では、単一の試薬弁は、２つ以上の試薬ポンプアセンブリの構成要素であり、第１の試薬ポンプアセンブリの第１の試薬ポンプをその関連付けられた流体チャネルの試薬入力ウェルに、第１の試薬ポンプアセンブリの第１の試薬ポンプをその関連付けられた流体チャネルのプロセスチャンバに、第２の別個の試薬ポンプアセンブリの第２の試薬ポンプをその関連付けられた流体チャネルの試薬入力ウェルに、および／または第２の別個の試薬ポンプアセンブリの第２の試薬ポンプをその関連付けられた流体チャネルのプロセスチャンバに流体的に接続するために、２つ以上の位置の間で移動させられることができる。
【0086】
いくつかの実施形態では、処理ステーションの２つ以上の試薬ポンプアセンブリ（例えば、第１の処理ステーションの２つ以上の第１の試薬ポンプアセンブリ、または中間処理ステーションの２つ以上の中間試薬ポンプアセンブリ）は、単一の試薬弁ロッドを備え、２つ以上の試薬ポンプアセンブリのそれぞれの試薬弁は、単一の試薬弁ロッドの移動が、それらの第１の位置と第２の位置との間で試薬弁の同時移動を生じさせるように、単一の試薬弁ロッドに結合される。そのような実施形態は、試薬入力ウェルからの試薬移動を指向または阻止するステップ、または関連付けられたプロセスチャンバに指向するステップ等の同一の処理ステップを２つ以上の試薬ポンプアセンブリに関連付けられた流体チャネル内の流体に同時に実施することができる。
【0087】
いくつかの例では、１つ以上のプロセスポンプチャンバおよび／または試薬ポンプチャンバは、プランジャロッドシールを用いてシールされることができる。プランジャロッドシールは、ポンプチャンバ内に配置される１つ以上のプランジャロッドおよび／または１つ以上のプランジャと組み合わせて動作し、ポンプチャンバにシールを形成することができる。プランジャロッドシールは、ポンプチャンバ内のシールを破ること、またはシール解除することなく、または流体または空気がシールされたポンプから逃散することを可能にすることなく、１つ以上のプランジャロッドが、プランジャロッドシールを通して延び、それを通して移動することを可能にすることができる。
【0088】
いくつかの例では、プロセス固定子または試薬固定子等の固定子が、溶接、接着剤、またはエラストマシール等によって、１つ以上の固定子シールに結合されることができる。例えば、プロセス固定子および試薬固定子は、共有固定子シールに接続されることができる。固定子シールは、固定子シールの表面の中に形成される流体経路等の流体経路を備えていることができ、そのような固定子シール流体経路は、固定子シールが結合される固定子の流体ポートまたはチャネルとの流体連通を接続または形成することができる。
【0089】
いくつかの実施形態では、処理ステーション（例えば、第１の処理ステーション、中間処理ステーション、または最終処理ステーション）の２つ以上のプロセスチャンバは、互いに流体連通する。例えば、処理ステーションの２つ以上のプロセスチャンバは、２つ以上の流体チャネルからのプロセス流体が、単一のプールされたプロセスチャンバの中に受容され得、２つ以上の流体チャネルに関連付けられる処理ステーションのプロセスポンプアセンブリの各々が、単一のプールされたプロセスチャンバから上流にある関連付けられた流体チャネルの部分から単一のプールされたプロセスチャンバの中にプロセス流体を移動させ得るように、２つ以上の流体チャネルに関連付けられる単一のプールされたプロセスチャンバを形成するために組み合わせられることができる。いくつかの例では、最終処理ステーションは、１つ以上のプールされたプロセスチャンバを備え、１つ以上のプールされたプロセスチャンバの各々は、プールされた出力ウェルに関連付けられる。
【0090】
いくつかの実施形態では、回転子弁、固定子、または固定子シール等の構成要素は、処理ステーションの２つ以上のポンプアセンブリの構成要素である。例えば、処理ステーションの２つ以上のポンプアセンブリは、単一の回転子弁または単一の固定子を備えていることができる。例えば、単一の回転子弁は、２つの別個の流体チャネル内でプロセス流体または試薬を指向することができ、単一の固定子は、２つの別個の流体チャネル毎にプロセスポンプチャンバおよび／または試薬ポンプチャンバを画定することができる。回転子弁、固定子、または固定子シール等の単一の構成要素が、２つ以上のポンプアセンブリの構成要素である、いくつかの実施形態では、２つ以上のポンプアセンブリのうちの１つ以上のものは、２つ以上のポンプアセンブリのうちの残りのものを作動させることなく、作動されることができる。例えば、単一の固定子が、第１の流体チャネルの第１のポンプアセンブリのプロセスポンプチャンバおよび／または試薬ポンプチャンバを画定し、第２の別個の流体チャネルの第２のポンプアセンブリのプロセスポンプチャンバおよび／または試薬ポンプチャンバを画定する場合、第１の流体チャネルの第１のポンプアセンブリは、第２の別個の流体チャネルの第２のポンプアセンブリを作動させることなく、作動されることができ、逆も同様である。
【0091】
いくつかの実施形態では、１つ以上の中間サンプル出力ウェルは、流体チャネルに関連付けられることができる。中間サンプル出力ウェルが、例えば、関連付けられた流体チャネルの２つの処理ステーションの間に、またはポンプアセンブリに関連付けられた流体チャネルのプロセスチャンバとの間に配置されることができる。中間サンプル出力ウェルは、流体処理デバイスの処理ステーションにおけるサンプルプロセス流体への試薬の添加の前または後に、ある体積のサンプルプロセス流体が、流体処理デバイスの２つ以上の流体チャネルのそれぞれから回収されることを可能にするように構成されることができる。サンプル流体は、流体処理デバイスの外側で実施される、品質制御試験、アーカイビング、または他の流体分析の目的のために、中間サンプル出力ウェルから回収されることができる。
【0092】
いくつかの実施形態では、流体処理デバイスは、消耗カセットを備えている。カセットは、上部プレートおよび基部プレート内にカプセル化またはシールされる、流体構成要素を備えていることができる。カセットは、カセットの内側にカプセル化またはシールされる以下の構成要素、すなわち、全ての流体構成要素、またはサンプル入力構成要素、試薬入力構成要素、および／またはサンプル出力構成要素を除く全ての流体構成要素、または全ての処理ステーション、または全てのポンプアセンブリを含有することができる。カセット幅は、約２００ｍｍ、１５０ｍｍ、１２５ｍｍ、１００ｍｍ、９０ｍｍ、８０ｍｍ、７０ｍｍ、または６０ｍｍ未満であり得る。カセット長さは、約４００ｍｍ、３５０ｍｍ、３２５ｍｍ、３００ｍｍ、２７５ｍｍ、２５０ｍｍ、２２５ｍｍ、２１０ｍｍ、２００ｍｍ、１９０ｍｍ、１８０ｍｍ、または１７０ｍｍ未満であり得る。一例では、カセットは、８つの流体チャネルと、７つの処理ステーションとを含み、幅９０ｍｍ、長さ２１０ｍｍとなる。いくつかの例では、カセットの構成要素は、サイズおよび死容積を減少させるようにスタックされる。
【0093】
いくつかの実施形態では、流体処理デバイスは、液体ハンドラの内側に嵌合するように計または定寸されることができる。液体ハンドラは、サンプル流体をデバイスのサンプル入力ウェルの中に堆積させること等によって、サンプル流体を流体処理デバイスに移送することができる。液体ハンドラは、デバイスのサンプル出力ウェルまたはデバイスの中間サンプル出力ウェルから処理されたサンプル流体を回収すること等によって、流体処理デバイスから処理されたサンプル流体を除去することができる。液体ハンドラは、試薬を流体処理デバイスの試薬入力ウェルの中に堆積させること等によって、試薬を流体処理デバイスに移送することができる。流体処理デバイスは、標準マイクロタイタープレート間隔（例えば、９ｍｍ）に位置付けられるチャンバ等の液体ハンドラから流体を受け取る、またはそれによって回収された流体を有するように定寸および間隔を置かれたサンプル入力チャンバまたはウェルと、試薬入力チャンバまたはウェルと、中間サンプル出力チャンバまたはウェルと、サンプル出力チャンバまたはウェルとを備えていることができる。
【0094】
いくつかの実施形態では、流体処理デバイスの構成要素は、単純な処理（例えば、レーザ切断、水ジェット切断、ヒートシーリング、または潤滑）、プラスチック成型（例えば、射出成型、ブロー成型、または圧縮成型）、溶接（例えば、超音波溶接）、接着剤、またはスナップ継手を利用すること、または前述のうちの２つ以上のもののある組み合わせによって、製造される、および／または組み立てられることができる。流体処理デバイスの構成要素は、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ＯＰＰ（ポリプロピレン）フィルム、熱可塑性ウレタン、熱可塑性エラストマ、ナイロン、またはポリシロキサン等のプラスチックから成ることができる。流体処理デバイスは、いくつかの構成要素、例えば、固定子、プランジャ、プランジャロッド、回転子弁ロッド、回転子弁、固定子シール、プランジャロッドシール、およびガスケットの複製を備えている。
【0095】
本開示の側面は、流体処理デバイスのポンプおよび／または弁をアクティブ化および制御するように構成される、アクチュエータデバイスを包含する。いくつかの実施形態では、アクチュエータデバイスは、１つ以上の弁ロッドまたは回転子ロッドを作動させること等によって、流体処理デバイスの弁を作動させる、１つ以上の弁アクチュエータ（例えば、回転子アクチュエータ）を備えている。例えば、アクチュエータデバイスは、１つ以上のプロセス弁または１つ以上のプロセス弁ロッドを作動させるための１つ以上のプロセス弁アクチュエータを備えていることができる。例えば、アクチュエータデバイスは、１つ以上の試薬弁または１つ以上の試薬弁ロッドを作動させるための１つ以上の試薬弁アクチュエータを備えていることができる。いくつかの実施形態では、アクチュエータデバイスは、一度に１つの処理ステーションの弁または弁ロッドを作動させるためのいくつかの弁アクチュエータを備え、作動デバイスは、例えば、流体処理デバイスの処理ステーションの間で弁アクチュエータを移動させるための１つ以上の弁線形アクチュエータを備えていることができる。いくつかの実施形態では、アクチュエータデバイスは、１つ以上のプランジャロッドを作動させること等によって、流体処理デバイスのポンプを作動させる、１つ以上のポンプアクチュエータ（例えば、プランジャアクチュエータ）を備えている。例えば、アクチュエータデバイスは、１つ以上のプロセスポンプまたは１つ以上のプロセスプランジャロッドを作動させるための１つ以上のプロセスポンプアクチュエータを備えていることができる。例えば、アクチュエータデバイスは、１つ以上の試薬ポンプまたは１つ以上の試薬プランジャロッドを作動させるための１つ以上の試薬ポンプアクチュエータを備えていることができる。いくつかの実施形態では、アクチュエータデバイスは、一度に１つの処理ステーションのポンプまたはポンプロッドを作動させるためのいくつかのポンプアクチュエータを備え、作動デバイスは、例えば、流体処理デバイスの処理ステーションの間でポンプアクチュエータを移動させるための１つ以上のポンプ線形アクチュエータを備えていることができる。
【0096】
いくつかの実施形態では、アクチュエータデバイスは、流体処理デバイスのプロセスチャンバの温度を制御することができる。例えば、アクチュエータデバイスは、各プロセスチャンバの下方に位置付けられるように構成された加熱器または熱要素を備えていることができる。アクチュエータデバイスは、例えば、アクチュエータデバイスが、所与の処理ステーション内の全てのプロセスチャンバの温度を選択的に制御し得るように、個別にプロセスチャンバを加熱するように構成される薄いフレックス回路加熱器を備えていることができる。アクチュエータデバイスはさらに、冷却のための１つ以上のファンまたはブロワを備えていることができる。プロセスチャンバの温度制御は、（例えば、ＰＣＲ目的のための）熱サイクリングを含むことができる。
【0097】
いくつかの実施形態では、アクチュエータデバイスは、流体処理デバイスのプロセスチャンバ内の磁場を制御することができる。例えば、アクチュエータデバイスは、磁場をプロセスチャンバの内容物に印加する、プロセスチャンバに近接する第１の位置、および磁場をプロセスチャンバの内容物に印加しない、プロセスチャンバに近接しない、またはあまり近接しない第２の位置等のプロセスチャンバから異なる距離に移動させられ得る１つ以上の永久磁石を備えていることができる。いくつかの例では、アクチュエータデバイスは、１つ以上の磁石を１つ以上のプロセスチャンバの底部まで持ち上げること等によって、１つ以上の磁石を１つ以上のプロセスチャンバの近接近内に移動させるように構成されている、磁石リフタを備えている。アクチュエータデバイスは、流体処理デバイスの処理ステーション内のプロセスチャンバの数に等しい、いくつかの磁石を備えていることができ、アクチュエータデバイスは、アクチュエータデバイスが一度に所与の処理ステーション内の全てのプロセスチャンバの磁場を選択的に制御し得るように、処理ステーションの間で磁石および磁石リフタを移動させるための磁石線形アクチュエータを備えていることができる。
【0098】
いくつかの実施形態では、アクチュエータデバイスは、別個に、または同時に、流体処理デバイスのプロセスチャンバ内の温度および磁場の両方を制御することができる。例えば、アクチュエータデバイスは、１つ以上のプロセスチャンバを加熱または冷却し、異なる時間に、または同時に、磁気制御を１つ以上のプロセスチャンバに適用することができる。いくつかの例では、アクチュエータデバイスは、（１）薄いフレキシブル回路加熱器がプロセスチャンバに近接して配置される、流体処理デバイス内の処理ステーションのプロセスチャンバを加熱するように構成される、薄いフレキシブル回路加熱器と、（２）１つ以上の磁石の１つ以上の磁場がプロセスチャンバの内容物に印加される、プロセスチャンバに近接する第１の位置と、１つ以上の磁石の１つ以上の磁場がプロセスチャンバの内容物に印加されない（またはあまり印加されない）、プロセスチャンバに近接しない第２の位置との間で、１つ以上の磁石を移動させるように構成されている、磁石リフタに結合される、１つ以上の磁石とを備えている。いくつかの例では、薄いフレキシブル回路加熱器は、１つ以上の磁石がプロセスチャンバに近接する第１の位置にあるときに、プロセスチャンバと１つ以上の磁石との間に配置され、１つ以上の磁石は、１つ以上の磁石が第１の位置にあるときに、プロセスチャンバの表面または壁に対して薄いフレキシブル回路加熱器を押圧することができる。例えば、温度制御は、１つ以上の磁石が第１の位置または第２の位置にあるときに、薄いフレキシブル回路加熱器を介してプロセスチャンバ内で実施されることができ、磁気制御は、１つ以上の磁石が第１の位置にあるときに、１つ以上の磁石を介してプロセスチャンバ内で実施されることができる。いくつかの実施形態では、アクチュエータデバイスは、ＤＮＡ精製プロトコルに従って、プロセスチャンバ内で熱および／または磁気制御を実施するように構成される。
【0099】
図１は、ある実施形態による、例示的流体処理デバイスである、（上部プレート１０（図２に示される）が除去され、示されていない）流体処理カセット５の基部プレート３０の上面図である。図１に示されるように、カセット５は、カセット５の合計８つの入力ウェルの例示である入力ウェル３４と、カセット５の合計８つの出力ウェルの例示である出力ウェル３６とを備えている。カセット５は、８つの別個の流体チャネルを備え、いずれの流体チャネルも別の流体チャネルと流体連通しない。８つの入力ウェル３４の各々は、異なる流体チャネルに関連付けられ、８つの出力ウェル３６の各々は、異なる流体チャネルに関連付けられる。入力ウェル３４および関連付けられた出力ウェル３６は、同一の流体チャネルに関連付けられ、他の入力ウェルおよび出力ウェルは、基部プレート３０の近位および遠位端におけるそれらの位置付けに基づいて、対で同様に関連付けられる。
【0100】
図１に示されるように、カセット５は、第１の処理ステーション５００と、最終処理ステーション５６０と、第１の処理ステーション５００と最終処理ステーション５６０との間に位置付けられる、第１、第２、第３、第４、および第５の中間処理ステーション５１０、５２０、５３０、５４０、および５５０とを備えている。カセット５は、基部プレート３０および上部プレート１０（図２参照）内に処理ステーションをカプセル化およびシールし、シールされた消耗デバイスを形成する。第１の処理ステーション５００は、第１のポンプアセンブリカラム５０１と、第２のポンプアセンブリカラム５０２と、第３のポンプアセンブリカラム５０３と、第４のポンプアセンブリカラム５０４とを備え、これらのポンプアセンブリカラムの各々は、一斉に動作可能であり、第１の処理ステーション５００における８つ全ての流体チャネル内の流体に実質的に類似する処理ステップを同時に実施するように構成される。第１の中間処理ステーション５１０は、第１の中間ポンプアセンブリカラム５１１と、第２の中間ポンプアセンブリカラム５１２と、第３の中間ポンプアセンブリカラム５１３と、第４の中間ポンプアセンブリカラム５１４とを備え、これらのポンプアセンブリカラムの各々は、一斉に動作可能であり、第１の中間処理ステーション５１０における８つ全ての流体チャネル内の流体に実質的に類似する処理ステップを同時に実施するように構成される。各中間処理ステーション５２０、５３０、５４０、および５５０は、同様に、第１、第２、第３、および第４の中間ポンプアセンブリカラムを含む。最終処理ステーション５６０は、第１の最終ポンプアセンブリカラム５６１と、第２の最終ポンプアセンブリカラム５６２と、第３の最終ポンプアセンブリカラム５６３と、第４の最終ポンプアセンブリカラム５６４とを備え、これらのポンプアセンブリカラムの各々は、一斉に動作可能であり、最終処理ステーション５６０における８つ全ての流体チャネル内の流体に実質的に類似する処理ステップを同時に実施するように構成される。
【0101】
第１の処理ステーション５００および第１の中間処理ステーション５１０の各ポンプアセンブリカラムは、カセット５の８つの流体チャネルが、これらの処理ステーションのそれぞれにおいて別個に処理されるように、２つの別個の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリおよび試薬ポンプアセンブリを備えている。最終処理ステーション５６０の各ポンプアセンブリカラムは、カセット５の８つの流体チャネルが、本処理ステーション内で別個に処理されるように、２つの別個の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリを備えている。最終処理ステーション５６０のポンプアセンブリカラムは、機能的試薬ポンプアセンブリを含まないこともある。
【0102】
図２は、カセット５の上面斜視図を示す。図２に示されるように、カセット５は、内部流体処理構成要素（図示せず）が、入力ウェルと出力ウェルとの間に配置され、基部プレート３０および上部プレート１０内にカプセル化される、一方の端部上の入力ウェル（例えば、入力ウェル３４）および反対端上の出力ウェル（例えば、出力ウェル３６）を伴うシールされたデバイスを備えている。上部プレート１０の上部分が、上部フィルム１２によってシールされる。複数の試薬入力ウェル１４が、上部プレート１０の上部に形成され、特定の流体チャネルのための特定の処理ステーションにおいて、ある体積の試薬または他のプロセス流体を受け取るように構成される。試薬入力ウェル１４は、上部プレート１０に形成される合計４８個の試薬入力ウェルの例示であり、そのうちの８つは、６つの処理ステーション、すなわち、第１の処理ステーション５００、および第１、第２、第３、第４、および第５の中間処理ステーション５１０、５２０、５３０、５４０、および５５０（図１参照）のそれぞれにおける流体チャネルに関連付けられる（流体チャネルあたり１つの試薬入力ウェル）。
【0103】
上部プレート１０に同様に形成される他の上部プレートポンプ制御ポートの例示である上部プレート１０に形成される上部プレートポンプ制御ポート２１２は、試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０（下記に説明される、図３６、３８、３９参照）が、第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２（図１１参照）を介して内部流体構成要素を作動させることを可能にするように構成される。基部プレート３０に形成される他の基部プレートポンプ制御ポートの例示である基部プレート３０に形成される基部プレートポンプ制御ポート２１４は、プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２（下記に説明される、図３６、３８、３９参照）が、第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６（図１１参照）を介して内部流体構成要素を作動させることを可能にするように構成される。試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０が、第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２に結合される場合、上部プレートポンプ制御ポート２１２から外への試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０の後退は、第１および第２の試薬プランジャロッドヨーク２０１、２０３（図１１参照）の各々が、上部プレートポンプ制御ポート２１２の直径よりも大きい直径を有するので、第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２と上部プレート１０との間の干渉に起因して、試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０を第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２から分断させるであろう。プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２が、第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６に結合される場合、基部プレートポンプ制御ポート２１４から外へのプロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２の後退は、第１および第２のプロセスプランジャロッドヨーク２０５、２０７（図１１参照）の各々が、基部プレートポンプ制御ポート２１４の直径よりも大きい直径を有するので、第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６と基部プレート３０との間の干渉に起因して、プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２を第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６から分断させるであろう。したがって、第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２および第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６は、それぞれ、試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０およびプロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２の後退および解放に応じて、上部プレート１０および基部プレート３０の内側で保持されるように構成される。
【0104】
図３は、カセット５の底面斜視図を示す。基部プレート３０の底部分が、基部フィルム３２によってシールされる。基部フィルム３２は、基部プレート３０の底部に形成される特徴（例えば、プロセスチャンバ３８）を示すように、図３では半透明として示され、そのような特徴の底面は、基部フィルム３２によってシールされる。複数のプロセスチャンバ３８が、基部プレート３０の底部に形成され、特定の流体チャネルのための特定の処理ステーションにおいて流体を受け取るように構成される。プロセスチャンバ３８は、基部プレート３０に形成される合計４８個のプロセスチャンバの例示であり、そのうちの８つは、６つの処理ステーション、すなわち、第１の処理ステーション５００、および第１、第２、第３、第４、および第５の中間処理ステーション５１０、５２０、５３０、５４０、および５５０（図１参照）のそれぞれにおける８つの流体チャネルに関連付けられる（流体チャネルあたり１つのプロセスチャンバ）。上部プレート１０に同様に形成される他の上部プレート回転子制御ポートの例示である上部プレート１０に形成される上部プレート回転子制御ポート２３６は、試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０（図３６、３７、３９参照）が、試薬回転子ロッド２３０（図１５参照）を介して内部流体構成要素を作動させることを可能にするように構成される。基部プレート３０に形成される他の基部プレート回転子制御ポートの例示である基部プレート３０に形成される基部プレート回転子制御ポート２３８は、プロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２（図３６、３７、３９参照）が、プロセス回転子ロッド２３２（図１５参照）を介して流体構成要素を作動させることを可能にするように構成される。試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０が、試薬回転子ロッド２３０に結合される場合、上部プレート回転子制御ポート２３６から外へ、かつそこからある距離を離した試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０の後退は、試薬回転子ロッド２３０と上部プレート１０との間の干渉に起因して、試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０を試薬回転子ロッド２３０から分断させるであろう。プロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２が、プロセス回転子ロッド２３２に結合される場合、基部プレート回転子制御ポート２３８から外へ、かつそこからある距離を離したプロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２の後退は、プロセス回転子ロッド２３２と基部プレート３０との間の干渉に起因して、プロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２をプロセス回転子ロッド２３２から分断させるであろう。したがって、試薬回転子ロッド２３０およびプロセス回転子ロッド２３２は、それぞれ、試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０およびプロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２の後退および解放に応じて、上部プレート１０および基部プレート３０の内側で保持されるように構成される。
【0105】
識別標識５２は、カセット５内で処理される、または処理されるように求められるサンプル流体が、識別され得るように、バーコードまたはＲＦＩＤタグ、および／または人間に可読の識別マーカ等の機械可読識別マーカを備えていることができる。
【0106】
図４は、上部プレート１０の底面斜視図である。試薬ウェルポート１８は、上部プレート１０の上部に形成され、試薬入力ウェル内の試薬が、ポンプアセンブリカラム５１１、５１２、５１３、および５１４（図１、１７参照）等のポンプアセンブリカラムが封入される、カセット５の内側に移動させられることを可能にする試薬入力ウェル１４（図２、７参照）の底部に位置するポートである。試薬・回転子ポート２０が、ガスケットスロット６４（図６、７参照）を介して試薬ウェルポート１８に接続され、試薬ウェルポート１８に進入する試薬が、試薬ポンプアセンブリの上側回転子１５０（図１５参照）まで移動することを可能にする。試薬・プロセスチャンバ上部プレートポート２２は、試薬が、試薬・プロセスチャンバガスケットポート６６（図６、７参照）を介して、次いで、試薬・プロセスチャンバ基部プレートポート４２（図５、７参照）を介して、試薬ポンプアセンブリの上側回転子１５０（図１５参照）から関連付けられたプロセスチャンバ３８（図７参照）まで移動することを可能にする。図４に標識される、２つの試薬ウェルポート１８、２つの試薬・回転子ポート２０、および２つの試薬・プロセスチャンバ上部プレートポート２２は、繰り返しの特徴であり、その１つずつが、６つの処理ステーション、すなわち、第１の処理ステーション５００、および第１、第２、第３、第４、および第５の中間処理ステーション５１０、５２０、５３０、５４０、および５５０（図１参照）のそれぞれにおける８つの流体チャネルの各々に関連付けられる。試薬ウェルポート１８、試薬・回転子ポート２０、および試薬・プロセスチャンバ上部プレートポート２２に関して、図２８および３４の匹敵する要素４０２および４２２（第１および第２の試薬ウェルポート）、４０６および４２６（第１および第２の試薬・回転子ポート）、および４１０および４３０（第１および第２の試薬・プロセスチャンバ上部プレートポート）を参照されたい。
【0107】
図５は、基部プレート３０の上面斜視図である。試薬・プロセスチャンバ基部プレートポート４２は、試薬が、試薬・プロセスチャンバ上部プレートポート２２（図４参照）から、試薬・プロセスチャンバガスケットポート６６（図６参照）を介して、基部プレート３０の底側に形成されるプロセスチャンバ３８（図３参照）まで移動することを可能にする。図５に標識される、試薬・プロセスチャンバ基部プレートポート４２は、繰り返しの特徴であり、その１つずつが、６つの処理ステーション、すなわち、第１の処理ステーション５００、および第１、第２、第３、第４、および第５の中間処理ステーション５１０、５２０、５３０、５４０、および５５０（図１参照）のそれぞれにおける８つの流体チャネルの各々に関連付けられる。基部プレート３０に形成される他のガスケット位置付け支柱の例示であるガスケット位置付け支柱４８は、支柱孔６２の中に嵌合し、ガスケット６０（図６参照）を固着および安定化するように構成される。
【0108】
図６は、試薬ウェルポート１８と試薬・回転子ポート２０（図４参照）との間に流体通路を形成する、ガスケットスロット６４を備えている、ガスケット６０の斜視図である。ガスケット６０はさらに、試薬が、試薬・プロセスチャンバ上部プレートポート２２（図４参照）から試薬・プロセスチャンバ基部プレートポート４２（図５参照）まで移動することを可能にする試薬・プロセスチャンバガスケットポート６６を備えている。ガスケット６０はさらに、ガスケット位置付け支柱４８（図５参照）等のガスケット位置付け支柱を受け取るように構成された支柱孔６２等の支柱孔を備えている。
【0109】
図７は、図２の線Ａ－Ａに沿って得られた流体処理カセット５の部分斜視断面図を示す。図７に示されるように、ガスケット６０は、上部プレート１０および基部プレート３０の一部の間に位置付けられ、固定される。図７はまた、試薬入力ウェル１４内の試薬が試薬ウェルポート１８を通してガスケットスロット６４の中に流体的に接続されることも示す。また、試薬は、上部プレート１０の上部の上の一部から、試薬・プロセスチャンバ上部プレートポート２２を通して下に、次いで、試薬・プロセスチャンバガスケットポート６６を通して、次いで、試薬・プロセスチャンバ基部プレートポート４２を通して、プロセスチャンバ３８の中に流体的に接続される。プロセスチャンバ３８は、プロセスチャンバ出口ポート４４を介して、後続の処理ステーションに接続される。基部フィルム３２の一部が、プロセスチャンバ３８の底面を形成する。
【0110】
図８は、試薬ポンプアセンブリの上部固定子８０と、プロセスポンプアセンブリの底部固定子１００と、上部固定子８０と底部固定子１００との間に配置される固定子シール１２０とを備えている固定子アセンブリの分解上面斜視図を示す。上部固定子８０は、完全に上部固定子８０を通して延び、上部固定子８０の底部から第１の試薬ポンプチャンバ８５まで延びている第１の試薬ポンプポート８６と流体連通する固定子シール１２０の第１の上部固定子流体経路１３０と流体連通する第１の試薬回転子ポート８４を備えている。上部固定子８０はさらに、完全に上部固定子８０を通して延び、上部固定子８０の底部から第２の試薬ポンプチャンバ８９まで延びている第２の試薬ポンプポート９０と流体連通する固定子シール１２０の第２の上部固定子流体経路１３２と流体連通する第２の試薬回転子ポート８８を備えている。第１および第２の試薬ポンプチャンバ８５、８９は、それらのそれぞれの試薬ポンプポート８６、９０、上部固定子流体経路１３０、１３２、および試薬回転子ポート８４、８８を介して、別個の流体チャネルに関連付けられる。
【0111】
上部固定子８０はさらに、スナップ継手を形成し、上部固定子８０および上部プレート１０を相互に固定しる等のために、上部プレート１０内の対応する孔の中にスナップ留めされるように構成される戻り止めを伴う可撓性タブである、少なくとも１つのスナップタブ８１を備えている。
【0112】
底部固定子１００は、完全に底部固定子１００を通して延びている、第１のプロセス回転子ポート１０４と、第２のプロセス回転子ポート１０８とを備えている。底部固定子１００はさらに、第１のプロセスポンプチャンバ１０５から底部固定子１００の上部まで延びている第１のプロセスポンプポート１０６と流体連通する第１のプロセスポンプチャンバ１０５を備えている。底部固定子１００はさらに、第２のプロセスポンプチャンバ１０９から底部固定子１００の上部まで延びている第２のプロセスポンプポート１１０と流体連通する第２のプロセスポンプチャンバ１０９を備えている。
【0113】
底部固定子１００はまた、固定子シール１２０の整列ピン１２３（図９参照）を受け取るように構成される、整列孔１０２も備えている。
【0114】
底部固定子１００はさらに、スナップ継手を形成し、底部固定子１００および基部プレート１０を相互に固定しる等のために、基部プレート３０内の対応する孔の中にスナップ留めされるように構成される戻り止めを伴う可撓性タブである、少なくとも１つのスナップタブ１０１を備えている。
【0115】
図９は、試薬ポンプアセンブリの上部固定子８０と、プロセスポンプアセンブリの底部固定子１００と、上部固定子８０と底部固定子１００との間に配置される固定子シール１２０とを備えている固定子アセンブリの分解底面斜視図を示す。底部固定子１００は、完全に底部固定子１００を通して延び、底部固定子１００の上部から第１のプロセスポンプチャンバ１０５まで延びている第１のプロセスポンプポート１０６と流体連通する固定子シール１２０の第１の底部固定子流体経路１３６と流体連通する第１のプロセス回転子ポート１０４を備えている。底部固定子１００はさらに、完全に底部固定子１００を通して延び、底部固定子１００の上部から第２のプロセスポンプチャンバ１０９まで延びている第２のプロセスポンプポート１１０と流体連通する固定子シール１２０の第２の底部固定子流体経路１３８と流体連通する第２のプロセス回転子ポート１０８を備えている。第１および第２のプロセスポンプチャンバ１０５、１０９は、それらのそれぞれのプロセスポンプポート１０６、１１０、底部固定子流体経路１３６、１３８、およびプロセス回転子ポート１０４、１０８を介して、別個の流体チャネルに関連付けられる。上部固定子８０は、完全に上部固定子８０を通して延びている、第１の試薬回転子ポート８４と、第２の試薬回転子ポート８８とを備えている。上部固定子８０はさらに、第１の試薬ポンプチャンバ８５から上部固定子８０の底部まで延びている第１の試薬ポンプポート８６と流体連通する第１の試薬ポンプチャンバ８５を備えている。上部固定子８０はさらに、第２の試薬ポンプチャンバ８９から上部固定子８０の底部まで延びている第２の試薬ポンプポート９０と流体連通する第２の試薬ポンプチャンバ８９を備えている。
【0116】
【0117】
図１０は、固定子シール１２０を示す。固定子シール１２０は、上部固定子８０の整列孔８２の中に嵌合するように構成された上部整列ピン１２２と、底部固定子１００の整列孔１０２の中に嵌合し、上部固定子８０、底部固定子１００、および固定子シール１２０を整合させるように構成された底部整列ピン１２３（図９参照）とを備えている。固定子シール１２０はさらに、各上部固定子流体経路１３０、１３２、および底部固定子流体経路１３６、１３８の周囲に固定子流体経路シーラント１２４を備えている。上部固定子８０、底部固定子１００、および固定子シール１２０は、カセット５の組立の間および溶接の間にともに溶接（例えば、超音波溶接）され得、固定子シール１２０の固定子流体経路シーラント１２４は、３つの構成要素を一緒に固定し、上部または底部固定子流体経路（１３０、１３２、１３６、１３８）の周囲からの漏出または二次汚染を防止するように、上部固定子８０および底部固定子１００の中に溶融される。留意すると、固定子シール１２０の一方の表面上の上部整列ピン１２２、第１の上部固定子流体経路１３０、および第２の上部固定子流体経路１３２、および固定子シール１２０の反対表面上の底部整列ピン１２３、第２の底部固定子流体経路１３８、および第１の底部固定子流体経路１３６は、それぞれ、固定子シール１２０の反対表面上の鏡像状特徴である。したがって、固定子シール１２０の構成要素は、説明目的のために「上部」または「底部」として標識され、そのように限定されない。例えば、固定子シール１２０のいずれかの反対表面が、上部固定子８０の底部または底部固定子１００の上部と整合され、それに固定されることができる。
【0118】
図１１は、回転子構成要素（下記に説明される）が除去された、カセット５の処理ステーションのポンプアセンブリの上面斜視図を示す。図１１に示されるポンプアセンブリは、上部固定子と、底部固定子と、固定子シールとをそれぞれ備えている、４つの固定子アセンブリを備え、そのうちの上部固定子８０、底部固定子１００、および固定子シール１２０が、それぞれ、例示的である。ポンプアセンブリはさらに、４つの上部固定子の第１の試薬ポンプチャンバを通して軸方向に延びている、第１の試薬プランジャロッド２００を備え、そのうちの上部固定子８０の第１の試薬ポンプチャンバ８５（図８、９参照）が、例示的である。ポンプアセンブリはさらに、４つの上部固定子の第２の試薬ポンプチャンバを通して軸方向に延びている、第２の試薬プランジャロッド２０２を備え、そのうちの上部固定子８０の第２の試薬ポンプチャンバ８９（図８、９、１２参照）が、例示的である。ポンプアセンブリはさらに、４つの底部固定子の第１のプロセスポンプチャンバを通して軸方向に延びている、第１のプロセスプランジャロッド２０４を備え、そのうちの底部固定子１００の第１のプロセスポンプチャンバ１０５（図８、９参照）が、例示的である。ポンプアセンブリはさらに、４つの底部固定子の第２のプロセスポンプチャンバを通して軸方向に延びている、第２のプロセスプランジャロッド２０６を備え、そのうちの底部固定子１００の第２のプロセスポンプチャンバ１０９（図８、９、１２参照）が、例示的である。第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２は、それぞれ、第１および第２の試薬プランジャロッドヨーク２０１、２０３を備えている。第１および第２の試薬プランジャロッドヨーク２０１、２０３は、第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２を試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０（下記に説明される、図３６、３８、３９参照）に動作可能に結合および分断するように構成される。第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６は、それぞれ、第１および第２のプランジャロッドヨーク２０５、２０７を備えている。第１および第２のプロセスプランジャロッドヨーク２０５、２０７は、第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６をプロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２（下記に説明される、図３６、３８、３９参照）に動作可能に結合および分断するように構成される。
【0119】
図１２は、図１１の線Ｂ－Ｂに沿って得られた、回転子構成要素が除去された図１１のポンプアセンブリの上面斜視断面図を示す。図１２に示されるように、試薬プランジャ２０８が、上部固定子８０の第２の試薬ポンプチャンバ８９内に配置され、類似試薬プランジャが、互いの上部固定子の第２の試薬ポンプチャンバ内に配置される。また、プロセスプランジャ２０９が、底部固定子１００の第２のプロセスポンプチャンバ１０９内に配置され、類似プロセスプランジャが、互いの底部固定子の第２のプロセスポンプチャンバ内に配置される。第２の試薬ポンプチャンバ内の試薬プランジャの全ては、第２の試薬プランジャロッド２０２の軸方向移動が、それらのそれぞれの第２の試薬ポンプチャンバ８９内で試薬プランジャ２０８の同時移動を生じさせるように、単一の第２の試薬プランジャロッド２０２に取り付けられる。具体的に、第２の試薬ポンプポート９０から離れるように試薬プランジャ２０８を移動させる、第１の方向へ（図１２の右側へ）の第２の試薬プランジャロッド２０２の軸方向移動が、第２の試薬ポンプポート９０を介して第２の試薬ポンプチャンバ８９の中に試薬を引き込み、第２の試薬ポンプポート９０のより近くに試薬プランジャ２０８を移動させる、第２の方向へ（図１２の左側へ）の第２の試薬プランジャロッド２０２の軸方向移動が、第２の試薬ポンプポート９０を介して第２の試薬ポンプチャンバ８９から外に試薬を排出するであろう。同様に、第２のプロセスポンプチャンバ１０９内のプロセスプランジャ２０９の全ては、第２のプロセスプランジャロッド２０６の軸方向移動が、それらのそれぞれの第２のプロセスポンプチャンバ１０９内でプロセスプランジャ２０９の同時移動を生じさせるように、単一の第２のプロセスプランジャロッド２０６に取り付けられる。具体的に、第２のプロセスポンプポート１１０から離れるようにプロセスプランジャ２０９を移動させる、第１の方向へ（図１２の右側へ）の第２のプロセスプランジャロッド２０６の軸方向移動が、第２のプロセスポンプポート１１０を介して第２のプロセスポンプチャンバ１０９の中に試薬を引き込み、第２のプロセスポンプポート１１０のより近くにプロセスプランジャ２０９を移動させる、第２の方向へ（図１２の左側へ）の第２のプロセスプランジャロッド２０６の軸方向移動が、第２のプロセスポンプポート１１０を介して第２のプロセスポンプチャンバ１０９から外に試薬を排出するであろう。それぞれ、試薬プランジャ（例えば、試薬プランジャ２０８）またはプロセスプランジャ（例えば、プロセスプランジャ２０９）を介してシールされない、第２の試薬ポンプチャンバ（例えば、第２の試薬ポンプチャンバ８９）および第２のプロセスポンプチャンバ（例えば、第２のプロセスポンプチャンバ１０９）の端部は、プランジャロッドシール（例えば、プランジャロッドシール２１０）によってシールされる。例えば、プランジャロッドシール２１０は、第２の試薬プランジャロッド２０２および第２のプロセスプランジャロッド２０６が、ポンプチャンバをシール解除することなく、かつ流体または空気がシールされたポンプチャンバから逃散することを可能にすることなく、プランジャロッドシール２１０を通して延在および移動することを許容されるように、それぞれ、試薬プランジャ２０８およびプロセスプランジャ２０９とともに第２の試薬ポンプチャンバ８９および第２のプロセスポンプチャンバ１０９をシールする。
【0120】
図１３は、カセット５の試薬ポンプアセンブリの構成要素である、上側回転子１５０の上面斜視図である。上側回転子１５０は、第１の回転子経路１５４を介して流体連通する第１の回転子ポート１５６および第２の回転子ポート１５８を備えている。上側回転子１５０はさらに、第２の回転子経路１６２を介して流体連通する第３の回転子ポート１６４および第４の回転子ポート１６６を備えている。第１、第２、第３、および第４の回転子ポート１５６、１５８、１６４、および１６６の各々は、完全に上側回転子１５０を通して延びている。上側回転子１５０はまた、上側固定子１５０を試薬回転子ロッド２３０（図１５参照）に結合するように構成される、回転子コネクタ１５２も備えている。上側回転子１５０は、図１３に示される上側回転子１５０の上部に面した部分が下側回転子１７０の底部に面した部分と同等であることを除いて、カセット５のプロセスポンプアセンブリの構成要素である、下側回転子１７０（図１５参照）に実質的に類似する。
【0121】
図１４は、上側回転子１５０の底面斜視図であり、第１、第２、第３、および第４の回転子ポート１５６、１５８、１６４、および１６６の各々が、完全に上側回転子１５０を通して延びていることを示す。図１４に示される上側回転子１５０の底部に面した部分は、下側回転子１７０（図１５参照）の上部に面した部分と同等である。
【0122】
図１５は、カセット５の処理ステーションのポンプアセンブリの上面斜視図である。図１５に示されるポンプアセンブリは、図１１に示されるようなポンプアセンブリに類似するが、図１５に示されるようなポンプアセンブリは、上側回転子（例えば、上側回転子１５０）と、下側回転子（例えば、下側回転子１７０）と、試薬回転子ロッド２３０と、プロセス回転子ロッド２３２とを含む。カセット５のポンプアセンブリ内の上側回転子１５０等の上側回転子および下側回転子１７０等の下側回転子は、それぞれ、上部固定子８０および底部固定子１００に結合される、回転子弁である。上側回転子１５０等の上側回転子は、試薬入力ウェル１４（図２参照）等の試薬入力ウェルを、上部固定子８０（図８、９、１２参照）によって画定される第１および第２の試薬ポンプチャンバ８５、８９に流体的に接続する第１の位置と、第１および第２の試薬ポンプチャンバ８５、８９をプロセスチャンバ３８（図３参照）等の関連付けられたプロセスチャンバに流体的に接続する第２の位置との間で、移動可能である。下側回転子１７０等の下側回転子は、底部固定子１００（図８、９、１２参照）によって画定される第１および第２のプロセスポンプチャンバ１０５、１０９を流体チャネルの上流部分（例えば、先行する処理ステーションの入力ウェル３４（図１参照）またはプロセスチャンバ３８）に流体的に接続する第１の位置と、第１および第２のプロセスポンプチャンバ１０５、１０９を流体チャネルの下流部分（例えば、本処理ステーションのプロセスチャンバ３８または出力ウェル３６（図１参照））に流体的に接続する第２の位置との間で、移動可能である。第１の位置における下側回転子１７０は、第１および第２のプロセスポンプチャンバ１０５、１０９が、それぞれ、第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６の移動の方向に応じて、流体チャネルの上流部分からサンプル流体を受け取ること、または廃棄流体を流体チャネルの上流部分に排出することを可能にする（図１１、１２参照）。第２の位置における下側回転子１７０は、第１および第２のプロセスポンプチャンバ１０５、１０９が、再度、それぞれ、第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６の移動の方向に応じて、サンプル流体を流体チャネルの下流部分に排出すること、または流体チャネルの上流部分から廃棄流体を受け取ることを可能にする。上側回転子１５０等の上側回転子は全て、試薬回転子ロッド２３０の移動が、それらの第１の位置と第２の位置との間で上側回転子１５０の同時移動を生じさせるように、回転子コネクタ１５２等の回転子コネクタを介して、単一の試薬回転子ロッド２３０に結合される。同様に、下側回転子１７０等の下側回転子は全て、プロセス回転子ロッド２３２の移動が、それらの第１の位置と第２の位置との間で下側回転子１７０の同時移動を生じさせるように、回転子コネクタ１７２等の回転子コネクタを介して、単一のプロセス回転子ロッド２３２に結合される。試薬回転子ロッド２３０は、試薬回転子ロッド２３０を試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０（下記に説明される、図３６、３７、３９参照）に動作可能に結合および分断するように構成される、試薬回転子ロッドヨーク２３１を備えている。プロセス回転子ロッド２３２は、プロセス回転子ロッド２３２をプロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２（下記に説明される、図３６、３７、３９参照）に動作可能に結合および分断するように構成される、プロセス回転子ロッドヨーク２３３を備えている。
【0123】
図１６は、図１５の線Ｃ－Ｃに沿って得られた、図１５のポンプアセンブリの上面斜視断面図を示す。図１６に示されるように、上部固定子に結合される上側回転子を備えている、試薬ポンプアセンブリは、上側回転子の回転子ポートおよび上部固定子の試薬回転子ポートを介して、組み合わせられた上側回転子および上部固定子を通して流体経路を提供する。例えば、図１６は、上側回転子１５０が上部固定子８０に結合され、その第１の位置に位置付けられると、上側回転子１５０の第１の回転子ポート１５６が、第１の試薬ポンプポート８６（図８参照）を介して第１の試薬ポンプチャンバ８５に接続する、固定子シール１２０の第１の上部固定子流体経路１３０とさらに流体連通する上部固定子８０の第１の試薬回転子ポート８４と流体連通することを示す。図１６はまた、上側回転子１５０が上部固定子８０に結合され、その第１の位置に位置付けられると、上側回転子１５０の第３の回転子ポート１６４が、第２の試薬ポンプポート９０（図８参照）を介して第２の試薬ポンプチャンバ８９に接続する、固定子シール１２０の第２の上部固定子流体経路１３２とさらに流体連通する固定子８０の第２の試薬回転子ポート８８と流体連通することも示す。
【0124】
図１７は、第１の処理ステーション５００、最終処理ステーション５６０、および第１、第２、第３、第４、および第５の中間処理ステーション５１０、５２０、５３０、５４０、および５５０のそれぞれのポンプアセンブリを示す、流体処理カセットの分解上面斜視図である。図１７に示されるように、各処理ステーションは、図１５に示されるポンプアセンブリを備えている。最終処理ステーション５６０では、試薬ポンプアセンブリは、非機能的であり得る。
【0125】
図１８は、基部プレート３０の底部に形成された流体チャネルおよびポートを含む、基部プレート３０の部分底平面図を示す。第１の回転子入力流体チャネル３１０は、第１のポート３１２および第２のポート３１４を接続し、第２の回転子入力流体チャネル３２０は、第１のポート３２２を第２のポート３２４に接続する。第１の回転子出力流体チャネル３３０は、第１のプロセスチャンバ入口３５２を介して、第１のポート３３２を第１のプロセスチャンバ３５０に接続し、第２の回転子出力流体チャネル３４０は、第２のプロセスチャンバ入口３６２を介して、第１のポート３４２を第２のプロセスチャンバ３６０に接続する。第１および第２の回転子入力流体チャネル３１０、３２０および第１および第２の回転子出力流体チャネル３３０、３４０のうちのいずれも、互いに接続されない、または直接流体連通しない。第１の回転子入力流体チャネル３１０、第１の回転子出力流体チャネル３３０、および第１のプロセスチャンバ３５０は全て、同一の流体チャネルに関連付けられる。第２の回転子入力流体チャネル３２０、第２の回転子出力流体チャネル３４０、および第２のプロセスチャンバ３６０は全て、異なる流体チャネルに関連付けられる。基部プレート３０の底部に形成された、これらのチャネル、ポート、入口、およびプロセスチャンバは、基部プレート３０の底部の一部の上に配置される、基部フィルム３２によってシールされる。
【0126】
【0127】
図１９－２２では、下側回転子１７０は、下側回転子１７０が関連付けられた流体チャネルの上流部分に結合される、底部固定子１００によって画定されるプロセスポンプチャンバを流体的に接続する、その第１の位置にある。図１９および２０に示される処理ステーションが、カセット５の第１の処理ステーション５００であるため、関連付けられた流体チャネルの上流部分は、先行する処理ステーションのプロセスチャンバではなく、入力ウェル、具体的に、第１の入力ウェル３０７および第２の入力ウェル３０８を備えている。
【0128】
図１８－２０によって示されるように、第１の入力ウェル３０７は、第１の回転子入力流体チャネル３１０の第１のポート３１２と流体連通し、そのうちの第２のポート３１４は、下側回転子１７０の第２の回転子ポート１７８と流体連通する。したがって、流体は、図２０の実線の流体経路矢印によって示されるように、第１の回転子入力流体チャネル３１０を介して、第１の入力ウェル３０７から下側回転子１７０の第２の回転子ポート１７８まで移動することができる。流体は、次いで、図２０の鎖線の流体経路矢印によって示されるように、下側回転子１７０の第１の回転子経路１７４を介して、第２の回転子ポート１７８から第１の回転子ポート１７６まで移動することができる。図２１の鎖線の流体経路矢印は、流体が、次いで、第１の回転子ポート１７６を通して上に、次いで、底部固定子１００の第１のプロセス回転子ポート１０４を通して、次いで、固定子シール１２０の第１の底部固定子流体経路１３６に沿って、次いで、第１のプロセスポンプポート１０６を通して底部固定子１００の第１のプロセスポンプチャンバ１０５の中に移動し得ることを示す。したがって、下側回転子１７０が、その第１の位置にあるとき、流体は、第１の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリによって、第１の入力ウェル３０７から第１のプロセスポンプチャンバ１０５まで第１の流体チャネルに沿って移動させられることができる。また、下側回転子１７０が、その第１の位置にあるとき、流体（例えば、廃棄物）は、代替として、同一の経路を介するが、第１の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリによって、第１のプロセスポンプチャンバ１０５から第１の入力ウェル３０７まで第１の流体チャネルに沿って逆方向に移動させられることができる。
【0129】
図１８－２０に示されるように、第２の入力ウェル３０８は、第２の回転子入力流体チャネル３２０の第１のポート３２２と流体連通し、そのうちの第２のポート３２４は、下側回転子１７０の第４の回転子ポート１８６と流体連通する。したがって、流体は、図２０の実線の流体経路矢印によって示されるように、第２の回転子入力流体チャネル３２０を介して、第２の入力ウェル３０８から下側回転子１７０の第４の回転子ポート１８６まで移動することができる。流体は、次いで、図２０の鎖線の流体経路矢印によって示されるように、下側回転子１７０の第２の回転子経路１８２を介して、第４の回転子ポート１８６から第３の回転子ポート１８４まで移動することができる。図２２の鎖線の流体経路矢印は、流体が、第３の回転子ポート１８４を通して上に、次いで、底部固定子１００の第２のプロセス回転子ポート１０８を通して、次いで、固定子シール１２０の第２の底部固定子流体経路１３８に沿って、次いで、第２のプロセスポンプポート１１０を通して底部固定子１００の第２のプロセスポンプチャンバ１０９の中に移動し得ることを示す。したがって、下側回転子１７０が、その第１の位置にあるとき、流体は、第２の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリによって、第２の入力ウェル３０８から第２のプロセスポンプチャンバ１０９まで第２の流体チャネルに沿って移動させられることができる。また、下側回転子１７０が、その第１の位置にあるとき、流体（例えば、廃棄物）は、代替として、同一の経路を介するが、第２の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリによって、第２のプロセスポンプチャンバ１０９から第２の入力ウェル３０８まで第２の流体チャネルに沿って逆方向に移動させられることができる。
【0130】
図２３－２６では、下側回転子１７０は、下側回転子１７０が関連付けられた流体チャネルの下流部分、具体的に、第１のプロセスチャンバ３５０および第２のプロセスチャンバ３６０に結合される、底部固定子１００によって画定されるプロセスポンプチャンバを流体的に接続する、その第２の位置にある。
【0131】
図２３の鎖線の流体経路矢印は、底部固定子１００の第１のプロセスポンプチャンバ１０５内の流体が、第１のプロセスポンプポート１０６を通して、次いで、固定子シール１２０の第１の底部固定子流体経路１３６に沿って、次いで、底部固定子１００の第１のプロセス回転子ポート１０４を通して、次いで、下側回転子１７０の第２の回転子ポート１７８を通して移動し得ることを示す。図２５－２６によって示されるように、流体は、次いで、図２６の鎖線の流体経路矢印によって示されるように、下側回転子１７０の第１の回転子経路１７４を介して、第２の回転子ポート１７８から第１の回転子ポート１７６まで移動することができる。図１８および２５－２６によってさらに示されるように、第１の回転子ポート１７６は、第１の回転子出力流体チャネル３３０の第１のポート３３２と流体連通し、そのうちの第１のプロセスチャンバ入口３５２は、第１のプロセスチャンバ３５０と流体連通する。したがって、流体は、図２６の実線の流体経路矢印によって示されるように、第１の回転子出力流体チャネル３３０を介して、下側回転子１７０の第１の回転子ポート１７６から第１のプロセスチャンバ３５０まで移動することができる。したがって、下側回転子１７０が、その第２の位置にあるとき、流体は、第１の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリによって、第１のプロセスポンプチャンバ１０５から第１のプロセスチャンバ３５０まで第１の流体チャネルに沿って移動させられることができる。また、下側回転子１７０が、その第２の位置にあるとき、流体（例えば、廃棄物）は、代替として、同一の経路を介するが、第１の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリによって、第１のプロセスチャンバ３５０から第１のプロセスポンプチャンバ１０５まで第１の流体チャネルに沿って逆方向に移動させられることができる。
【0132】
図２４の鎖線の流体経路矢印は、底部固定子１００の第２のプロセスポンプチャンバ１０９内の流体が、第２のプロセスポンプポート１１０を通して、次いで、固定子シール１２０の第２の底部固定子流体経路１３８に沿って、次いで、底部固定子１００の第２のプロセス回転子ポート１０８を通して、次いで、下側回転子１７０の第４の回転子ポート１８６を通して移動し得ることを示す。図２５－２６によって示されるように、流体は、次いで、図２６の鎖線の流体経路矢印によって示されるように、下側回転子１７０の第２の回転子経路１８２を介して、第４の回転子ポート１８６から第３の回転子ポート１８４まで移動することができる。図１８および２５－２６によってさらに示されるように、第３の回転子ポート１８４は、第２の回転子出力流体チャネル３４０の第１のポート３４２と流体連通し、そのうちの第２のプロセスチャンバ入口３６２は、第２のプロセスチャンバ３６０と流体連通する。したがって、流体は、図２６の実線の流体経路矢印によって示されるように、第２の回転子出力流体チャネル３４０を介して、下側回転子１７０の第３の回転子ポート１８４から第２のプロセスチャンバ３６０まで移動することができる。したがって、下側回転子１７０が、その第２の位置にあるとき、流体は、第２の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリによって、第２のプロセスポンプチャンバ１０９から第２のプロセスチャンバ３６０まで第２の流体チャネルに沿って移動させられることができる。また、下側回転子１７０が、その第２の位置にあるとき、流体（例えば、廃棄物）は、代替として、同一の経路を介するが、第２の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリによって、第２のプロセスチャンバ３６０から第２のプロセスポンプチャンバ１０９まで第２の流体チャネルに沿って逆方向に移動させられることができる。
【0133】
図２７は、上部プレート１０の上部の上に形成された流体チャネルおよびポートを含む、上部プレート１０の部分上平面図を示す。第１の回転子入力流体チャネル４４０は、第１のポート４４２および第２のポート４４４を接続し、第２の回転子入力流体チャネル４５０は、第１のポート４５２および第２のポート４５４を接続する。第１の回転子出力流体チャネル４６０は、第１のポート４６２を第２のポート４６４に接続し、第２の回転子出力流体チャネル４７０は、第１のポート４７２を第２のポート４７４に接続する。第１および第２の回転子入力流体チャネル４４０、４５０および第１および第２の回転子出力流体チャネル４６０、４７０のうちのいずれも、互いに接続されない、または直接流体連通しない。第１の試薬入力ウェル４００、第１の回転子入力流体チャネル４４０、および第１の回転子出力流体チャネル４６０は全て、同一の流体チャネルに関連付けられる。第２の試薬入力ウェル４２０、第２の回転子入力流体チャネル４５０、および第２の回転子出力流体チャネル４７０は全て、異なる流体チャネルに関連付けられる。上部プレート１０の上部に形成された、これらのチャネルおよびポートは、上部プレート１０の上部の一部の上に配置される、上部フィルム１２によってシールされる。
【0134】
図２８－２９および３４－３５は、図２７に類似し、加えて、上側回転子１５０、具体的に、上部プレート１０の上面の下方に配置される上側回転子１５０の上面、および第１および第２の試薬入力ウェル４００、４２０を含有する上部プレート１０の一部の下方に配置されるガスケット４０３を示す。
【0135】
図２８－３１では、上側回転子１５０は、上側回転子１５０が、関連付けられた流体チャネルの試薬入力ウェル、具体的に、第１の試薬入力ウェル４００および第２の試薬入力ウェル４２０に結合される上部固定子８０によって画定される試薬ポンプチャンバを流体的に接続するその第１の位置にある。
【0136】
図２７－２９によって示されるように、第１の試薬入力ウェル４００は、第１の試薬ウェルポート４０２を介してガスケット４０３の第１のガスケットスロット４０４と流体連通し、第１のガスケットスロット４０４は、第１の試薬・回転子ポート４０６と流体連通する。したがって、流体は、図２９の点線の流体経路矢印によって示されるように、第１のガスケットスロット４０４を介して、第１の試薬入力ウェル４００から第１の試薬・回転子ポート４０６まで移動することができる。流体は、次いで、第１の試薬・回転子ポート４０６を通して第１の回転子入力流体チャネル４４０の第１のポート４４２まで上に移動することができ、そのうちの第２のポート４４４は、上側回転子１５０の第２の回転子ポート１５８と流体連通する。したがって、流体は、図２９の実線の流体経路矢印によって示されるように、第１の回転子入力流体チャネル４４０を介して、第１の試薬・回転子ポート４０６から上側回転子１５０の第２の回転子ポート１５８まで移動することができる。流体は、次いで、図２９の鎖線の流体経路矢印によって示されるように、上側回転子１５０の第１の回転子経路１５４を介して、第２の回転子ポート１５８から第１の回転子ポート１５６まで移動することができる。図３０の鎖線の流体経路矢印は、流体が、次いで、第１の回転子ポート１５６を通して下に、次いで、上部固定子８０の第１の試薬回転子ポート８４を通して、次いで、固定子シール１２０の第１の上部固定子流体経路１３０に沿って、次いで、第１の試薬ポンプポート８６を通して上部固定子８０の第１の試薬ポンプチャンバ８５の中に移動し得ることを示す。したがって、上側回転子１５０が、その第１の位置にあるとき、流体は、第１の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリによって、第１の試薬入力ウェル４００から第１の試薬ポンプチャンバ８５まで第１の流体チャネルに沿って移動させられることができる。
【0137】
図２７－２９によって示されるように、第２の試薬入力ウェル４２０は、第２の試薬ウェルポート４２２を介してガスケット４０３の第２のガスケットスロット４２４と流体連通し、第２のガスケットスロット４２４は、第２の試薬・回転子ポート４２６と流体連通する。したがって、流体は、図２９の点線の流体経路矢印によって示されるように、第２のガスケットスロット４２４を介して、第２の試薬入力ウェル４２０から第２の試薬・回転子ポート４２６まで移動することができる。流体は、次いで、第２の試薬・回転子ポート４２６を通して第２の回転子入力流体チャネル４５０の第１のポート４５２まで上に移動することができ、そのうちの第２のポート４５４は、上側回転子１５０の第４の回転子ポート１６６と流体連通する。したがって、流体は、図２９の実線の流体経路矢印によって示されるように、第２の回転子入力流体チャネル４５０を介して、第２の試薬・回転子ポート４２６から上側回転子１５０の第４の回転子ポート１６６まで移動することができる。流体は、次いで、図２９の鎖線の流体経路矢印によって示されるように、上側回転子１５０の第２の回転子経路１６２を介して、第４の回転子ポート１６６から第３の回転子ポート１６４まで移動することができる。図３１の鎖線の流体経路矢印は、流体が、次いで、第３の回転子ポート１６４を通して下に、次いで、上部固定子８０の第２の試薬回転子ポート８８を通して、次いで、固定子シール１２０の第２の上部固定子流体経路１３２に沿って、次いで、第２の試薬ポンプポート９０を通して上部固定子８０の第２の試薬ポンプチャンバ８９の中に移動し得ることを示す。したがって、上側回転子１５０が、その第１の位置にあるとき、流体は、第２の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリによって、第２の試薬入力ウェル４２０から第２の試薬ポンプチャンバ８９まで第２の流体チャネルに沿って移動させられることができる。
【0138】
図３２－３５では、上側回転子１５０は、上側回転子１５０が同一の処理ステーション内の関連付けられたプロセスチャンバに結合される、上部固定子８０によって画定される試薬ポンプチャンバを流体的に接続する、その第２の位置にある。
【0139】
図３２の鎖線の流体経路矢印は、上部固定子８０の第１の試薬ポンプチャンバ８５内の流体が、第１の試薬ポンプポート８６を通して、次いで、固定子シール１２０の第１の上部固定子流体経路１３０に沿って、次いで上部固定子８０の第１の試薬回転子ポート８４を通して、次いで、上側回転子１５０の第２の回転子ポート１５８を通して移動し得ることを示す。図３４－３５によって示されるように、流体は、次いで、図３５の鎖線の流体経路矢印によって示されるように、上側回転子１５０の第１の回転子経路１５４を介して、第２の回転子ポート１５８から第１の回転子ポート１５６まで移動することができる。図２７および３４－３５によってさらに示されるように、第１の回転子ポート１５６は、第１の回転子出力流体チャネル４６０の第１のポート４６２と流体連通し、そのうちの第２のポート４６４は、第１の試薬・プロセスチャンバ上部プレートポート４１０と流体連通する。したがって、流体は、図３５の実線の流体経路矢印によって示されるように、上側回転子１５０の第１の回転子ポート１５６から第１の試薬・プロセスチャンバ上部プレートポート４１０まで移動することができる。さらに、第１の試薬・プロセスチャンバ上部プレートポート４１０は、試薬・プロセスチャンバガスケットポート６６および試薬・プロセスチャンバ基部プレートポート４２（図７参照）を介して、第１の流体チャネルのプロセスチャンバ３８に接続される。したがって、上側回転子１５０が、その第２の位置にあるとき、流体は、第１の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリによって、第１の試薬ポンプチャンバ８５から関連付けられたプロセスチャンバまで第１の流体チャネルに沿って移動させられることができる。
【0140】
図３３の鎖線の流体経路矢印は、上部固定子８０の第２の試薬ポンプチャンバ８９内の流体が、第２の試薬ポンプポート９０を通して、次いで、固定子シール１２０の第２の上部固定子流体経路１３２に沿って、次いで、上部固定子８０の第２の試薬回転子ポート８８を通して、次いで、上側回転子１５０の第４の回転子ポート１６６を通して移動し得ることを示す。図３４－３５によって示されるように、流体は、次いで、図３５の鎖線の流体経路矢印によって示されるように、上側回転子１５０の第２の回転子経路１６２を介して、第４の回転子ポート１６６から第３の回転子ポート１６４まで移動することができる。図２７および３４－３５によってさらに示されるように、第３の回転子ポート１６４は、第２の回転子出力流体チャネル４７０の第１のポート４７２と流体連通し、そのうちの第２のポート４７４は、第２の試薬・プロセスチャンバ上部プレートポート４３０と流体連通する。したがって、流体は、図３５の実線の流体経路矢印によって示されるように、上側回転子１５０の第３の回転子ポート１６４から第２の試薬・プロセスチャンバ上部プレートポート４３０まで移動することができる。さらに、第２の試薬・プロセスチャンバ上部プレートポート４３０は、試薬・プロセスチャンバガスケットポート６６および試薬・プロセスチャンバ基部プレートポート４２（図７参照）を介して、第２の流体チャネルのプロセスチャンバ３８に接続される。したがって、上側回転子１５０が、その第２の位置にあるとき、流体は、第２の流体チャネルに関連付けられたプロセスポンプアセンブリによって、第２の試薬ポンプチャンバ８９から関連付けられたプロセスチャンバまで第２の流体チャネルに沿って移動させられることができる。
【0141】
図３６は、（上記に議論される）カセット５の構成要素を作動させるように構成される、アクチュエータデバイス２５０の上面斜視図である。カセットトレイ２６４は、カセット５の基部プレート３０を受け取り、保持するように定寸および構成される。試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０は、第１の線形レール２５２に結合され、試薬回転子ロッド２３０（図１５参照）を作動させるように構成される。試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０は、一度に単一の試薬回転子ロッド２３０を作動させるように構成され、第１の線形レールアクチュエータ２５４は、試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０が、カセット５の異なる処理ステーション（例えば、第１の処理ステーション５００、次いで、第１、第２、第３、第４、および第５の中間処理ステーション５１０、５２０、５３０、５４０、５５０のそれぞれ、次いで、最終処理ステーション５６０、図１参照）の試薬回転子ロッド２３０を作動させるために再配置され得るように、第１の線形レール２５２に沿って試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０を移動させるように構成される。プロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２は、第１の線形レール２５２に結合され、プロセス回転子ロッド２３２（図１５参照）を作動させるように構成される。プロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２は、一度に単一のプロセス回転子ロッド２３２を作動させるように構成され、第１の線形レールアクチュエータ２５４は、プロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２が、カセット５の異なる処理ステーション（例えば、第１の処理ステーション５００、次いで、第１、第２、第３、第４、および第５の中間処理ステーション５１０、５２０、５３０、５４０、５５０のそれぞれ、次いで、最終処理ステーション５６０、図１参照）のプロセス回転子ロッド２３２を作動させるために再配置され得るように、第１の線形レール２５２に沿ってプロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２を移動させるように構成される。
【0142】
ある実施形態では、第１の線形レールアクチュエータ２５４は、アクチュエータデバイス２５０の基部に搭載される第１のアクチュエータトラック２５５に摺動可能に結合される、第１のレールアクチュエータキャリッジ２５３に取り付けられる回転モータを備えてもよい。第１の線形レール２５２は、第１の線形レールアクチュエータ２５４に動作可能に取り付けられ、第１のレールアクチュエータキャリッジ２５３に螺合可能に結合される、ねじ山付きロッド（送りねじ）を備えてもよい。試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０およびプロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２は、第１のレールアクチュエータキャリッジ２５３に取り付けられる。第１の線形レールアクチュエータ２５４の動作は、第１の線形レール２５２を回転させ、第１の線形レール２５２とレールアクチュエータキャリッジ２５３との間のねじ山付き結合は、第１のアクチュエータトラック２５５を横断して第１のレールアクチュエータキャリッジ２５３の線形平行移動を引き起こし、それによって、試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０およびプロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２を移動させる。代替として、第１のレールアクチュエータキャリッジ２５３の平行移動は、第１の線形レール２５２が固定されたままである間に、キャリッジ内のねじ山付きナットを回転させることによってもたらされることができる。
【0143】
図３６にも示されるように、試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０は、第２の線形レール２５６に結合され、第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２（図１１参照）を作動させるように構成される。試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０は、一度に第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２の単一の組を作動させるように構成され、第２の線形レールアクチュエータ２５８は、試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０が、カセット５の異なる処理ステーション（例えば、第１の処理ステーション５００、次いで、第１、第２、第３、第４、および第５の中間処理ステーション５１０、５２０、５３０、５４０、５５０のそれぞれ、次いで、最終処理ステーション５６０、図１参照）の第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２の組を作動させるために再配置され得るように、第２の線形レール２５６に沿って試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０を移動させるように構成される。プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２は、第２の線形レール２５６に結合され、第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６（図１１参照）を作動させるように構成される。プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２は、一度に第１および第２の試薬プランジャロッド２０４、２０６の単一の組を作動させるように構成され、第２の線形レールアクチュエータ２５８は、プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２が、カセット５の異なる処理ステーション（例えば、第１の処理ステーション５００、次いで、第１、第２、第３、第４、および第５の中間処理ステーション５１０、５２０、５３０、５４０、５５０のそれぞれ、次いで、最終処理ステーション５６０、図１参照）の第１および第２の試薬プランジャロッド２０４、２０６の組を作動させるために再配置され得るように、第２の線形レール２５６に沿ってプロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２を移動させるように構成される。
【0144】
ある実施形態では、第２の線形レールアクチュエータ２５８は、アクチュエータデバイス２５０の基部に搭載される第２のアクチュエータトラック２５９に摺動可能に結合される、第２のレールアクチュエータキャリッジ２５７に取り付けられる回転モータを備えてもよい。第２の線形レール２５６は、第２の線形レールアクチュエータ２５８に動作可能に取り付けられ、第２のレールアクチュエータキャリッジ２５７に螺合可能に結合される、ねじ山付きロッド（送りねじ）を備えてもよい。試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０およびプロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２、および磁石リフトアクチュエータ２６０（図４１参照）は、第２のレールアクチュエータキャリッジ２５７に取り付けられる。第２の線形レールアクチュエータ２５８の動作は、第２の線形レール２５６を回転させ、第２の線形レール２５６とレールアクチュエータキャリッジ２５７との間のねじ山付き結合は、第２のアクチュエータトラック２５９を横断して第１のレールアクチュエータキャリッジ２５７の線形平行移動を引き起こし、それによって、試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０、プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２、および磁石リフトアクチュエータ２６０（図４１参照）を移動させる。代替として、第２のレールアクチュエータキャリッジ２５７の平行移動は、第２の線形レール２５６が固定されたままである間に、キャリッジ内のねじ山付きナットを回転させることによってもたらされることができる。
【0145】
図３６に示されるように、アクチュエータデバイス２５０は、実質的に類似し、アクチュエータデバイス２５０の全てのフレックス回路加熱器の例示である第１のフレックス回路加熱器２７０および第２のフレックス回路加熱器２７４等の複数のフレックス回路加熱器を備えている。プロセスチャンバ３８（図３参照）を備えている、カセット５の各処理ステーションは、別個のフレックス回路加熱器に関連付けられ、例えば、第１の処理ステーション５００および第１の中間処理ステーション５１０（図１参照）は、カセット５がアクチュエータデバイス２５０のカセットトレイ２６４内に配設されるときに、それぞれ、第１および第２のフレックス回路加熱器２７０、２７４に関連付けられる。第１のフレックス回路加熱器２７０は、８つの抵抗加熱器２７２を備え、アクチュエータデバイス２５０の他のフレックス回路加熱器の各々は、同様に８つの抵抗加熱器２７２を備えている。各フレックス回路加熱器の８つの抵抗加熱器２７２は、フレックス回路加熱器に関連付けられる処理ステーションの８つのプロセスチャンバ３８に対応し、それらに関連付けられる。例えば、第１のフレックス回路加熱器２７０の８つの抵抗加熱器２７２の各々は、第１のフレックス回路加熱器２７０に関連付けられた第１の処理ステーション５００の８つのプロセスチャンバ３８のうちの１つに対応する。カセット５のプロセスチャンバ３８、具体的に、基部フィルム３２（図３、７参照）の一部によって形成されるプロセスチャンバ３８の底面は、カセット５がアクチュエータデバイス２５０のカセットトレイ２６４内に配設されるときに、複数のフレックス回路加熱器（例えば、第１および第２のフレックス回路加熱器２７０、２７４）の抵抗加熱器２７２と物理的に接触する。各抵抗加熱器２７２は、アクチュエータデバイス２５０が、カセット５の各処理ステーションの各プロセスチャンバ３８内で独立して同一または異なる温度を維持し得るように、独立して制御されることができる。アクチュエータデバイス２５０はさらに、フレックス回路加熱器（例えば、第１および第２のフレックス回路加熱器２７０、２７４）の底部を横断して、カセットトレイ２６４の下の導管またはプレナムを通して空気（例えば、周囲の空気）を引き込み、所与の処理ステーションの８つのプロセスチャンバ３８内の温度を同時に下げるように構成される、冷却ファン２６６を備えてもよい。第１および第２のフレックス回路加熱器２７０、２７４および冷却ファン２６６等の温度制御構成要素は、固定された高温を達成および維持する、または所与の処理ステーションのプロセスチャンバ３８内で（例えば、ＰＣＲ目的のために）熱サイクリングを実施することができる。
【0146】
図３７は、アクチュエータデバイス２５０の試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０およびプロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２の斜視図である。試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０は、試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０が、それぞれ、試薬回転子ロッド２３０に（ｉ）結合または（ｉｉ）分断されるときに、試薬回転子ロッド２３０の試薬回転子ロッドヨーク２３１（図１５参照）によって（ｉ）受容および保持される、または（ｉｉ）解放される、試薬回転子ロッドアクチュエータフィンガ２４４を備えている。試薬回転子ロッドアクチュエータフィンガ２４４は、上部プレート回転子制御ポート２３６（図３、４０参照）を通して延び、試薬回転子ロッド２３０にアクセスし、それに結合し、それを作動させる。プロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２は、プロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２が、それぞれ、プロセス回転子ロッド２３２に（ｉ）結合または（ｉｉ）分断されるときに、プロセス回転子ロッド２３２のプロセス回転子ロッドヨーク２３３（図１５参照）によって（ｉ）受容および保持される、または（ｉｉ）解放される、プロセス回転子ロッドアクチュエータフィンガ２４６を備えている。プロセス回転子ロッドアクチュエータフィンガ２４６は、基部プレート回転子制御ポート２３８（図３、４０参照）を通して延び、プロセス回転子ロッド２３２にアクセスし、それに結合し、それを作動させる。
【0147】
図３７に示されるように、プロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２のプロセス回転子ロッドアクチュエータフィンガ２４６は、線形に延在され、試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０の試薬回転子ロッドアクチュエータフィンガ２４４は、延在されない（すなわち、比較的に後退される）。試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０は、（１）試薬回転子ロッド２３０に結合する、および／または試薬回転子ロッド２３０を第１の位置まで移動させるように、試薬回転子ロッドアクチュエータフィンガ２４４を完全に延在させること、（２）試薬回転子ロッド２３０を第２の位置まで移動させるように、試薬回転子ロッドアクチュエータフィンガ２４４を部分的に延在／後退させること、または（３）カセット５内で保持された試薬回転子ロッド２３０から分断するように、試薬回転子ロッドアクチュエータフィンガ２４４を完全に後退させることによって、試薬回転子ロッド２３０（図１５参照）を作動させることができる。プロセス回転子ロッドアクチュエータ２４０は、（１）プロセス回転子ロッド２３２に結合する、および／またはプロセス回転子ロッド２３２を第１の位置まで移動させるように、プロセス回転子ロッドアクチュエータフィンガ２４６を完全に延在させること、（２）プロセス回転子ロッド２３２を第２の位置まで移動させるように、プロセス回転子ロッドアクチュエータフィンガ２４６を部分的に延在／後退させること、または（３）カセット５内で保持されたプロセス回転子ロッド２３２から分断するように、プロセス回転子ロッドアクチュエータフィンガ２４６を完全に後退させることによって、プロセス回転子ロッド２３２（図１５参照）を作動させることができる。
【0148】
図３８は、アクチュエータデバイス２５０の試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０およびプロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２の斜視図である。試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０は、試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０が、それぞれ、第１の試薬プランジャロッド２００に（ｉ）結合または（ｉｉ）分断されるときに、第１の試薬プランジャロッド２００の第１の試薬プランジャロッドヨーク２０１（図１１参照）によって（ｉ）受容および保持される、または（ｉｉ）解放される、第１の試薬プランジャロッドアクチュエータフィンガ２２４を備えている。試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０は、試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０が、それぞれ、第２の試薬プランジャロッド２０２に（ｉ）結合または（ｉｉ）分断されるときに、第２の試薬プランジャロッド２０２の第２の試薬プランジャロッドヨーク２０３（図１１参照）によって（ｉ）受容および保持される、または（ｉｉ）解放される、第２の試薬プランジャロッドアクチュエータフィンガ２２５を備えている。第１および第２の試薬プランジャロッドアクチュエータフィンガ２２４、２２５は、上部プレートポンプ制御ポート２１２（図２、３９参照）を通して延び、第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２にアクセスし、それに結合し、それを作動させる。プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２は、プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２が、それぞれ、第１のプロセスプランジャロッド２０４に（ｉ）結合または（ｉｉ）分断されるときに、第１のプロセスプランジャロッド２０４の第１のプロセスプランジャロッドヨーク２０５（図１１参照）によって（ｉ）受容および保持される、または（ｉｉ）解放される、第１のプロセスプランジャロッドアクチュエータフィンガ２２６を備えている。プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２は、プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２が、それぞれ、第２のプロセスプランジャロッド２０６に（ｉ）結合または（ｉｉ）分断されるときに、第２のプロセスプランジャロッド２０６の第２のプロセスプランジャロッドヨーク２０７（図１１参照）によって（ｉ）受容および保持される、または（ｉｉ）解放される、第２のプロセスプランジャロッドアクチュエータフィンガ２２７を備えている。第１および第２のプロセスプランジャロッドアクチュエータフィンガ２２６、２２７は、基部プレートポンプ制御ポート２１４（図２、３９参照）を通して延び、第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６にアクセスし、それに結合し、それを作動させる。
【0149】
図３８に示されるように、第１および第２の試薬プランジャロッドアクチュエータフィンガ２２４、２２５は、線形に延在され、第１および第２のプロセスプランジャロッドアクチュエータフィンガ２２６、２２７は、延在されない（すなわち、比較的に後退される）。試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０は、（１）第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２に結合する、および／または第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２を第１の位置まで移動させるように、第１および第２の試薬プランジャロッドアクチュエータフィンガ２２４、２２５を完全に延在させること、（２）第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２を第２の位置まで移動させるように、第１および第２の試薬プランジャロッドアクチュエータフィンガ２２４、２２５を部分的に延在／後退させること、または（３）それぞれ、カセット５内で保持された第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２から分断するように、第１および第２の試薬プランジャロッドアクチュエータフィンガ２２４、２２５を完全に後退させることによって、第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２（図１１参照）を作動させることができる。プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２は、（１）第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６に結合する、および／または第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６を第１の位置まで移動させるように、第１および第２のプロセスプランジャロッドアクチュエータフィンガ２２６、２２７を完全に延在させること、（２）第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６を第２の位置まで移動させるように、第１および第２のプロセスプランジャロッドアクチュエータフィンガ２２６、２２７を部分的に延在／後退させること、または（３）それぞれ、カセット５内で保持された第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６から分断するように、第１および第２のプロセスプランジャロッドアクチュエータフィンガ２２６、２２７を完全に後退させることによって、第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６（図１１参照）を作動させることができる。
【0150】
図３９は、アクチュエータデバイス２５０の試薬およびプロセス回転子ロッドアクチュエータ２４０、２４２、試薬およびプロセスプランジャロッドアクチュエータ２２０、２２２、および第１および第２の線形レール２５２、２５６が、カセット５の内部構成要素を作動させるために位置付けられるように、アクチュエータデバイス２５０のこれらの構成要素に対して位置付けられる、カセット５の上面斜視図である。アクチュエータデバイス２５０のカセットトレイ２６４は、図３９に示されていない（図３６参照）。試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０は、一対の上部プレートポンプ制御ポート２１２を介して、カセット５の第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２の組（図１１参照）を作動させ、第２の線形レールアクチュエータ２５８は、試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０が、異なる対の上部プレートポンプ制御ポート２１２を介して、第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２の異なるセットを作動させ得るように、試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０とともに第２のレールアクチュエータキャリッジ２５７を第２の線形レール２５６に沿って異なる位置まで移動させる。プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２は、一対の基部プレートポンプ制御ポート２１４を介して、カセット５の第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６の組（図１１参照）を作動させ、第２の線形レールアクチュエータ２５８は、プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２が、異なる対の基部プレートポンプ制御ポート２１４を介して、第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６の異なるセットを作動させ得るように、プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２とともに第２のレールアクチュエータキャリッジ２５７を第２の線形レール２５６に沿って異なる位置まで移動させる。図３９に示されるように、試薬およびプロセスプランジャロッドアクチュエータ２２０、２２２は、試薬およびプロセスプランジャロッドアクチュエータ２２０、２２２が、それぞれ、カセット５の第１の処理ステーション５００（図１参照）の第１および第２の試薬プランジャロッド２００、２０２および第１および第２のプロセスプランジャロッド２０４、２０６（図１１参照）を作動させることを可能にするように、カセット５に対して第２の線形レール２５６上の位置に位置する。
【0151】
試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０は、上部プレート回転子制御ポート２３６（図４０参照）を介して、カセット５の試薬回転子ロッド２３０（図１５参照）を作動させ、第１の線形レールアクチュエータ２５４は、試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０が、異なる上部プレート回転子制御ポート２３６を介して、異なる試薬回転子ロッド２３０を作動させ得るように、試薬回転子ロッドアクチュエータ２４０とともに第１のレールアクチュエータキャリッジ２５３を第１の線形レール２５２に沿って異なる位置まで移動させる。プロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２は、基部プレート回転子制御ポート２３８（図４０参照）を介して、カセット５のプロセス回転子ロッド２３２（図１５参照）を作動させ、第１の線形レールアクチュエータ２５４は、プロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２が、異なる基部プレート回転子制御ポート２３８を介して、異なるプロセス回転子ロッド２３２を作動させ得るように、プロセス回転子ロッドアクチュエータ２４２とともに第１のレールアクチュエータキャリッジ２５３を第１の線形レール２５２に沿って異なる位置まで移動させる。図３９に示されるように、試薬およびプロセス回転子ロッドアクチュエータ２４０、２４２は、試薬およびプロセス回転子ロッドアクチュエータ２４０、２４２が、それぞれ、カセット５の第１の処理ステーション５００（図１参照）の試薬回転子ロッド２３０およびプロセス回転子ロッド２３２（図１５参照）を作動させることを可能にするように、カセット５に対して第１の線形レール２５２上の位置に位置する。
【0152】
図４０は、アクチュエータデバイス２５０の第１および第２のフレックス回路加熱器２７０、２７４、第１および第２の磁石（磁石アレイ）２８０、２９０、および第１および第２の磁石リフタ２８２、２９２が、カセット５の第１の処理ステーション５００および第１の中間処理ステーション５１０（図１参照）のプロセスチャンバ３８内で温度制御および／または磁石制御を実施するために位置付けられるように、アクチュエータデバイス２５０のこれらの構成要素に対して位置付けられる、カセット５の底面斜視図である。アクチュエータデバイス２５０のカセットトレイ２６４は、図４０に示されていない（図３６参照）。上記に説明されるように、カセット５が、アクチュエータデバイス２５０内に配設されるとき、第１の処理ステーション５００および第１の中間処理ステーション５１０は、第１の処理ステーション５００の８つのプロセスチャンバ３８の各々が、第１のフレックス回路加熱器２７０の８つの抵抗加熱器２７２のうちの１つ（図３６参照）に対応し、それと近接するように、かつ第１の中間処理ステーション５１０の８つのプロセスチャンバ３８の各々が、第２のフレックス回路加熱器２７４の８つの抵抗加熱器２７２のうちの１つ（図３６参照）に対応し、それと近接するように、第１および第２のフレックス回路加熱器２７０、２７４に関連付けられる。本事例では、「近接する」は、第１の処理ステーション５００および第１の中間処理ステーション５１０の各プロセスチャンバ３８の底面を形成する、（図４０で半透明として示される）基部フィルム３２の一部が、関連付けられた第１および第２のフレックス回路加熱器２７０、２７４の対応する抵抗加熱器２７２と物理的に接触する、または加熱器に関連付けられたプロセスチャンバとの間の効率的な熱転写を許容するために、少なくとも十分に物理的に近接していることを意味する。上記に説明されるように、第１および第２のフレックス回路加熱器２７０、２７４は、それぞれ、第１の処理ステーション５００および第１の中間処理ステーション５１０内でプロセスチャンバ３８の温度制御を実施することができる。
【0153】
図４０に示されるように、カセット５が、アクチュエータデバイス２５０内に配設されるとき、第１の処理ステーション５００（図１参照）の８つのプロセスチャンバ３８の各々は、アクチュエータデバイス２５０の８つの第１の磁石２８０のうちの１つに対応し、第１の中間処理ステーション５１０（図１参照）の８つのプロセスチャンバ３８の各々は、アクチュエータデバイス２５０の８つの第２の磁石２９０のうちの１つに対応する。第１の磁石２８０は、第１の磁石リフタ２８２が、第１の磁石２８０を第１の位置まで持ち上げる、または第１の磁石２８０を第２の位置まで下げるために作動され得るように、第１の磁石リフタ２８２と動作可能に関連付けられる。持ち上げられた第１の位置（図４０に示されるような）では、第１の磁石２８０は、第１のフレックス回路加熱器２７０に対して押圧し、第１の磁石２８０が、第１のフレックス回路加熱器２７０を通して磁場をそれらのプロセスチャンバ３８に印加するように、第１の処理ステーション５００のプロセスチャンバ３８に近接する。下げられた第２の位置では、第１の磁石２８０は、第１の磁石２８０が、磁場をそれらのプロセスチャンバ３８に印加しない（またはより弱い磁場を印加する）ように、比較的にそれらのプロセスチャンバ３８にあまり近接していない。第２の磁石２９０は、第２の磁石リフタ２９２が、第２の磁石２９０を第１の位置まで持ち上げる、または第２の磁石２９０を第２の位置まで下げるために作動され得るように、第２の磁石リフタ２９２と動作可能に関連付けられる。持ち上げられた第１の位置では、第２の磁石２９０は、第２のフレックス回路加熱器２７４に対して押圧し、第２の磁石２９０が、第２のフレックス回路加熱器２７４を通して磁場をそれらのプロセスチャンバ３８に印加するように、第１の中間処理ステーション５１０のプロセスチャンバ３８に近接する。下げられた第２の位置（図４０に示されるような）では、第２の磁石２９０は、第２の磁石２９０が、磁場をそれらのプロセスチャンバ３８に印加しない（またはより弱い磁場を印加する）ように、比較的にそれらのプロセスチャンバ３８にあまり近接していない。
【0154】
図４０では、第１の磁石２８０は、第１のまたは上昇した位置に示され、第２の磁石２９０は、第２のまたは下げられた位置に示される。ある実施形態では、下げられた位置で関連付けられた磁石を付勢するために、第１のコイルばね２８１が、各個々の第１の磁石２８０に関連付けられてもよく、第２のコイルばね２９１が、各個々の第２の磁石２９０に関連付けられてもよく、それによって、磁石リフタ２８２または２９２は、付勢ばね力を克服し、磁石を第１のまたは上昇した位置まで押動する。
【0155】
図４０に示されるように、カセット５が、アクチュエータデバイス２５０内に配設されるときに、第１の処理ステーション５００のプロセスチャンバ３８および第１の中間処理ステーション５１０のプロセスチャンバ３８が、それぞれ、温度制御、磁石制御、または温度および磁石制御の両方を受け得るように、第１のフレックス回路加熱器２７０および第１の磁石２８０は、スタックされ、第２のフレックス回路加熱器２７４および第２の磁石２９０は、アクチュエータデバイス２５０内でスタックされる。図４０に示されていないが、アクチュエータデバイス２５０は、フレックス回路加熱器（第１のフレックス回路加熱器２７０等）と、プロセスチャンバ３８を備えている、カセット５の各処理ステーション（例えば、第１の処理ステーション５００）に関連付けられる、磁石および磁石リフタの組（第１の磁石２８０および第１の磁石リフタ２８２等）とを備えている。すなわち、アクチュエータデバイス２５０は、フレックス回路加熱器と、第１の処理ステーション５００および第１、第２、第３、第４、および第５の中間処理ステーション５１０、５２０、５３０、５４０、５５０（図１参照）のそれぞれの中で温度および／または磁石制御を別個に実施するための磁石および磁石リフタの組とを備えている。
【0156】
図４１は、アクチュエータデバイス２５０の第２の線形レール２５６の斜視図である。第２のレールアクチュエータキャリッジ２５７を介して第２の線形レール２５６に結合されるものは、アクチュエータデバイス２５０の試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０、プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２、および磁石リフトアクチュエータ２６０である。第２の線形レールアクチュエータ２５８は、試薬プランジャロッドアクチュエータ２２０、プロセスプランジャロッドアクチュエータ２２２、および磁石リフトアクチュエータ２６０とともに第２のレールアクチュエータキャリッジ２５７を第２の線形レール２５６に沿って異なる位置まで移動させるように構成される。磁石リフトアクチュエータ２６０は、磁石リフタを作動させ、それによって、磁石リフタに関連付けられた磁石の組を持ち上げる、または下げるように構成される、例えば、磁石リフタ２８２を作動させ、第１の磁石２８０（図４０、４２参照）を持ち上げる、または下げるように構成される。例えば、磁石リフトアクチュエータ２６０は、線形に下向きに磁石リフトアクチュエータアーム２６２を延在させ、第１の磁石リフタペダル２８４（図４２参照）に係合し、それを下向きに回転させ、これは、第１の磁石リフタ２８２を回転させ、それによって、第１の磁石２８０を持ち上げる。磁石リフトアクチュエータ２６０は、線形に上向きに磁石リフトアクチュエータアーム２６２を後退させ、第１の磁石リフタペダル２８４の上向き回転を可能にし、これは、第１の磁石リフタ２８２を回転させ、それによって、例えば、第１の磁石２８０に関連付けられた第１のコイルばね２８１（図４０参照）の付勢力の下で第１の磁石２８０を下げる。第２の線形レールアクチュエータ２５８は、磁石リフトアクチュエータ２６０が、カセット５の異なる処理ステーション（例えば、第１の処理ステーション５００、次いで、第１、第２、第３、第４、および第５の中間処理ステーション５１０、５２０、５３０、５４０、５５０のそれぞれ、図１参照）の磁石リフタ（例えば、第１の磁石リフタ２８２）を作動させるために再配置され得るように、第２の線形レール２５６に沿って磁石リフトアクチュエータ２６０を移動させるように構成される。
【0157】
図４２は、第１の処理ステーション５００（図１参照）のプロセスチャンバ３８を露出する、図２の線Ａ－Ａに沿って得られたカセット５の部分斜視断面図に対して位置付けられる、アクチュエータデバイス２５０の第１のフレックス回路加熱器２７０、第１の磁石２８０、および第１の磁石リフタ２８２の分解上面斜視図を示す。上記に議論されるように、カセット５が、アクチュエータデバイス２５０内に配設されるとき、第１の処理ステーション５００の各プロセスチャンバ３８は、第１のフレックス回路加熱器２７０の別個の抵抗加熱器２７２に対応し、各抵抗加熱器２７２は、プロセスチャンバ３８内の温度を独立して制御し、プロセスチャンバ３８の底面を形成する基部フィルム３２の一部と物理的に接触する。物理的接触は、カセット５、具体的に、プロセスチャンバ３８を加圧することによって向上され、これは、その第１のフレックス回路加熱器２７０および抵抗加熱器２７２の上面に対して、プロセスチャンバ３８の底面を形成する基部フィルム３２の一部を押圧する。また、上記に議論されるように、カセット５が、アクチュエータデバイス２５０内に配設されるとき、第１の処理ステーション５００の各プロセスチャンバ３８は、第１の磁石２８０に対応し、それによって、下向きまたは上向きに第１の磁石リフタペダル２８４を回転させることは、第１の磁石リフタ２８２を回転させ、これは、それぞれ、第１の磁石２８０を持ち上げ、または下げ、プロセスチャンバ３８の磁石制御を実施する。第１の磁石２８０が、磁場をプロセスチャンバ３８に印加するように持ち上げられるとき、第１の磁石２８０は、第１のフレックス回路加熱器２７０の底面に対して押圧する。図４２に示されるような第１の処理ステーション５００、および関連付けられた第１のフレックス回路加熱器２７０、第１の磁石２８０、および第１の磁石リフタ２８２のこれらの側面はまた、カセット５の他の処理ステーションのそれぞれ（例えば、第１、第２、第３、第４、および第５の中間処理ステーション５１０、５２０、５３０、５４０、５５０、図１参照）にも適用される。
【0158】
図４３は、上記に説明される流体処理カセットの単一の流体チャネルの動作の一般的概観を図示する概略図である。図４３に示されるように、入力ウェル３４において提供されるサンプルは、処理ステーション５００、５１０、５２０、５３０、５４０、５５０のそれぞれを通して、次いで、出力ウェル３６まで進行する。図４３は、例示的であり、カセットは、６つを上回る、または６つ未満の処理ステーションを含み得る。加えて、図４３は、単一の流体チャネルのみを示す。図４３に図示される各処理ステーションおよび各プロセスは、上記に説明されるように、１つ以上の追加の流体チャネル内で同時に生じ得る。
【0159】
各処理ステーションでは、試薬が、サンプルに添加され、サンプル／試薬混合を伴うプロセスまたは反応が、プロセスステーション内で生じる。第１の処理ステーション５００では、試薬「Ａ」が、サンプルに添加され、プロセスまたは反応「Ａ」が、第１の処理ステーション５００内で生じる。第１の処理ステーション５００内で生じるプロセスまたは反応「Ａ」に関連して、熱制御、磁気制御、または両方が、反応（例えば、増幅またはハイブリダイゼーション）を助長すること、または磁気分離手技を実施すること等のプロセスの一側面を生じさせるように、サンプル／試薬混合物に適用される。熱または温度制御は、（例えば、ポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ）の目的のために）高反応温度または熱サイクリングを制御するために実装されることができる。磁気制御は、例えば、流体チャネル内の永久磁石と流体との間の距離を変化させることによって、永久磁石を使用して実施されることができる。
【0160】
プロセスまたは反応「Ａ」に続いて、結果として生じる混合物は、第１の処理ステーション５００から第１の中間処理ステーション５１０まで移動させられる。第１の中間処理ステーション５１０では、試薬「Ｂ」が、サンプルに添加され、プロセスまたは反応「Ｂ」が、第１の中間処理ステーション５１０内で生じる。第１の中間処理ステーション５１０内で生じるプロセスまたは反応「Ｂ」に関連して、熱制御、磁気制御、または両方が、反応（例えば、増幅またはハイブリダイゼーション）を助長すること、または磁気分離手技を実施すること等のプロセスの一側面を生じさせるように、サンプル／試薬混合物に適用される。
【0161】
混合物は、中間処理ステーション５２０、５３０、５４０、５５０まで連続して移動させられる。各中間処理ステーション５２０、５３０、５４０、５５０では、試薬「Ｃ」、「Ｄ」、「Ｅ」、および「Ｆ」が、それぞれ、サンプルに添加され、プロセスまたは反応「Ｃ」、「Ｄ」、「Ｅ」、および「Ｆ」が、それぞれ、中間処理ステーション５２０、５３０、５４０、５５０内で生じる。中間処理ステーション５２０、５３０、５４０、５５０内で生じるプロセスまたは反応「Ｃ」、「Ｄ」、「Ｅ」、および「Ｆ」に関連して、熱制御、磁気制御、または両方が、反応（例えば、増幅またはハイブリダイゼーション）を助長すること、または磁気分離手技を実施すること等のプロセスの一側面を生じさせるように、サンプル／試薬混合物に適用される。
【0162】
図１に示される最終処理ステーション５６０は、図４３に表されていない。最終処理ステーション５６０は、サンプル混合物への試薬の添加、または最終プロセスステーション５６０において生じるプロセスまたは反応、または関連付けられる熱および／または磁気制御を伴わないが、代わりに、最後の中間処理ステーション５５０から出力ウェル３６までの混合物の移動のみを伴う。
【0163】
図４４は、上記に説明される流体処理カセット内の単一の流体チャネルの種々の処理ステーションの動作を図示する概略図である。
【0164】
図４４の図式的に表される流体処理カセットは、第１の処理ステーション５００の第１のポンプアセンブリカラム５０１（カラムＡ）および第１の中間プロセスステーション５１０の第１の中間ポンプアセンブリカラム５１１（カラムＢ）を示す。
【0165】
第１のポンプアセンブリカラム５０１（カラムＡ）は、第１の弁ＶＡ１（例えば、上記に説明される下側回転子弁１７０の例示である下側回転子弁１７０Ａ）と、プロセスポンプチャンバＰＡ１（例えば、上記に説明される第１のプロセスポンプチャンバ１０５の例示であるプロセスポンプチャンバ１０５Ａ）と、試薬ポンプチャンバＰＡ２（例えば、上記に説明される第１の試薬ポンプチャンバ８５の例示である試薬ポンプチャンバ８５Ａ）と、第２の弁ＶＡ２（例えば、上記に説明される上側回転子弁１５０の例示である上側回転子弁１５０Ａ）と、試薬入力ウェルＲＧＴＡ（例えば、上記に説明される試薬ウェル１４の例示である試薬入力ウェル１４Ａ）と、反応チャンバＲＡ（例えば、上記に説明されるプロセスチャンバ３８の例示であるプロセスチャンバ３８Ａ）とを含む。
【0166】
第１の中間ポンプアセンブリカラム５１１（カラムＢ）は、第１の弁ＶＢ１（例えば、上記に説明される下側回転子弁１７０の例示である下側回転子弁１７０Ｂ）と、プロセスポンプチャンバＰＢ１（例えば、上記に説明される第１のプロセスポンプチャンバ１０５の例示であるプロセスポンプチャンバ１０５Ｂ）と、試薬ポンプチャンバＰＢ２（例えば、上記に説明される第１の試薬ポンプチャンバ８５の例示である試薬ポンプチャンバ８５Ｂ）と、第２の弁ＶＢ２（例えば、上記に説明される上側回転子弁１５０の例示である上側回転子弁１５０Ｂ）と、試薬入力ウェルＲＧＴＢ（例えば、上記に説明される試薬ウェル１４の例示である試薬入力ウェル１４Ｂ）と、反応チャンバＲＢ（例えば、上記に説明されるプロセスチャンバ３８の例示であるプロセスチャンバ３８Ｂ）とを含む。
【0167】
残りの中間プロセス処理ステーション５２０、５３０、５４０、５５０（カラムＣからＦ）の各々は、第１の中間処理ステーション５１０の第１の中間ポンプアセンブリカラム５１１と実質的に同一の様式で構成され、図４４では詳細に示されない。
【0168】
図４４は、単一の流体処理チャネルのみのための処理ステーションおよび関連付けられるポンプアセンブリカラムを示す。図４４に図示される処理ステーションおよび関連付けられるポンプアセンブリカラムの各々が、提供されることができ、関連付けられる機能が、上記に説明されるような１つ以上の追加の流体チャネルにおいて同時に実施されることができる。
【0169】
サンプル材料が、サンプル入力ウェル３４内に設置される。カラムＡの第１の弁ＶＡ１は、入力ウェル３４をカラムＡのプロセスポンプチャンバＰＡ１に接続するように構成される。プロセスポンプチャンバＰＡ１内で動作可能なプロセスポンプが、入力ウェル３４と第１の弁ＶＡ１との間の矢印「Ｓ」によって表されるように、ある量のサンプル材料を入力ウェル３４からプロセスポンプチャンバＰＡ１まで移動させるようにアクティブ化される。第１の弁ＶＡ１は、次に、プロセスポンプチャンバＰＡ１を第１の処理ステーション５００の反応チャンバＲＡに接続するように構成され、プロセスポンプは、第１の弁ＶＡ１と反応チャンバＲＡとの間の矢印「Ｓ」によって表されるように、サンプル材料をプロセスポンプチャンバＰＡ１から反応チャンバＲＡまで移動させるようにアクティブ化される。
【0170】
第１の試薬、すなわち、試薬「Ａ」が、第１の処理ステーション５００の試薬入力ウェルＲＧＴＡ内に設置または含まれる。カラムＡの第２の弁ＶＡ２は、試薬入力ウェルＲＧＴＡをカラムＡの試薬ポンプチャンバＰＡ２に接続するように構成される。試薬ポンプチャンバＰＡ２内で動作可能な試薬ポンプが、ある量の試薬「Ａ」を試薬入力ウェルＲＧＴＡから試薬ポンプチャンバＰＡ２まで移動させるようにアクティブ化される。第２の弁ＶＡ２は、次に、試薬ポンプチャンバＰＡ２を反応チャンバＲＡに接続するように構成され、試薬ポンプは、試薬「Ａ」を試薬ポンプチャンバＰＡ２から反応チャンバＲＡまで移動させ、それによって、反応チャンバＲＡ内でサンプルおよび試薬「Ａ」の混合物を形成するようにアクティブ化される。
【0171】
代替実施形態では、サンプルおよび試薬を反応チャンバＲＡに添加する順序は、逆転され得る。
【0172】
プロセスまたは反応「Ａ」は、（矢印「ＴまたはＭ」によって表されるような）熱制御、磁気制御、または両方が、反応（例えば、増幅またはハイブリダイゼーション）を助長すること、または磁気分離手技を実施すること等のプロセスの一側面を生じさせるように、反応混合物ＲＡ内のサンプル／試薬混合物に適用されるにつれて、第１の処理ステーション５００内の反応チャンバＲＡ内で生じる。熱または温度制御は、（例えば、ポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ）の目的のために）高反応温度または熱サイクリングを制御するように、例えば、上記に説明される第１のフレックス回路加熱器２７０の抵抗加熱器２７２および／または冷却ファン２６６（図３６参照）によって実装されることができる。磁気制御は、例えば、上記に説明されるような第１の磁石２８０を持ち上げる第１の磁石リフタ２８２（図４０、４２参照）によって、例えば、流体チャネル内の永久磁石と流体との間の距離を変化させることによって、永久磁石を使用して実施されることができる。
【0173】
反応チャンバＲＡに含まれる混合物に磁気洗浄手技を生じさせるために、第１の弁ＶＡ１は、反応チャンバＲＡをプロセスポンプチャンバＰＡ１に接続するように構成され、プロセスポンプは、磁場が、反応チャンバＲＡと第１の弁ＶＡ１との間の矢印「Ｗ」によって表されるように、磁場によって不動化されていない材料を反応チャンバＲＡからプロセスポンプチャンバＰＡ１まで移動させるように、（例えば、第１の磁石２８０を持ち上げる第１の磁石リフタ２８２によって）反応チャンバＲＡの内容物に印加されている間に、アクティブ化される。第１の弁ＶＡ１は、次いで、プロセスポンプチャンバＰＡ１を入力ウェル３４に接続するように構成されることができ、プロセスポンプは、第１の弁ＶＡ１と入力ウェル３４との間の矢印「Ｗ」によって表されるように、材料をプロセスポンプチャンバＰＡ１から入力ウェル３４まで移動させ、それによって、入力ウェル３４内の廃棄物材料を隔離するように、アクティブ化されることができる。
【0174】
次に、反応チャンバＲＡ内の材料は、第１の処理ステーション５００から第１の中間処理ステーション５１０まで移動させられる。カラムＢの第１の弁ＶＢ１は、第１の処理ステーション５００の反応チャンバＲＡをカラムＢのプロセスポンプチャンバＰＢ１に接続するように構成される。プロセスポンプチャンバＰＢ１内で動作可能なプロセスポンプが、反応チャンバＲＡと第１の弁ＶＢ１との間の矢印「Ｓ」によって表されるように、ある量のサンプル混合物を反応チャンバＲＡからプロセスポンプチャンバＰＢ１まで移動させるようにアクティブ化される。第１の弁ＶＢ１は、次に、プロセスポンプチャンバＰＢ１を第１の中間処理ステーション５１０の反応チャンバＲＡに接続するように構成され、プロセスポンプは、第１の弁ＶＢ１と反応チャンバＲＢとの間の矢印「Ｓ」によって表されるように、材料をプロセスポンプチャンバＰＢ１から反応チャンバＲＢまで移動させるようにアクティブ化される。
【0175】
第２の試薬、すなわち、試薬「Ｂ」が、第１の中間処理ステーション５１０の試薬入力ウェルＲＧＴＢ内に設置または含まれる。カラムＢの第２の弁ＶＢ２は、試薬入力ウェルＲＧＴＢをカラムＢの試薬ポンプチャンバＰＢ２に接続するように構成される。試薬ポンプチャンバＰＢ２内で動作可能な試薬ポンプが、ある量の試薬「Ｂ」を試薬入力ウェルＲＧＴＢから試薬ポンプチャンバＰＢ２まで移動させるようにアクティブ化される。第２の弁ＶＢ２は、次に、試薬ポンプチャンバＰＢ２を反応チャンバＲＢに接続するように構成され、試薬ポンプは、試薬「Ｂ」を試薬ポンプチャンバＰＢ２から反応チャンバＲＢまで移動させ、それによって、反応チャンバＲＢ内でサンプルおよび試薬「Ｂ」の混合物を形成するようにアクティブ化される。
【0176】
代替実施形態では、サンプル混合物および試薬を反応チャンバＲＢに添加する順序は、逆転され得る。
【0177】
プロセスまたは反応「Ｂ」は、（矢印「ＴまたはＭ」によって表されるような）熱制御、磁気制御、または両方が、反応（例えば、増幅またはハイブリダイゼーション）を助長すること、または磁気分離手技を実施すること等のプロセスの一側面を生じさせるように、反応チャンバＲＢ内のサンプル／試薬混合物に適用されるにつれて、第１の中間処理ステーション５１０内の反応チャンバＲＢ内で生じる。熱または温度制御は、（例えば、ポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ）の目的のために）高反応温度または熱サイクリングを制御するように、例えば、上記に説明される第２のフレックス回路加熱器２７４の抵抗加熱器２７２（図３６参照）によって実装されることができる。磁気制御は、例えば、上記に説明されるような第２の磁石２９０を持ち上げる第２の磁石リフタ２９２（図４０、４２参照）によって、例えば、流体チャネル内の永久磁石と流体との間の距離を変化させることによって、永久磁石を使用して実施されることができる。
【0178】
反応チャンバＲＢに含まれる混合物に磁気洗浄手技を生じさせるために、第１の弁ＶＢ１は、反応チャンバＲＢをプロセスポンプチャンバＰＢ１に接続するように構成され、プロセスポンプは、磁場が、反応チャンバＲＢと第１の弁ＶＢ１との間の矢印「Ｗ」によって表されるように、磁場によって不動化されていない材料を反応チャンバＲＢからプロセスポンプチャンバＰＢ１まで移動させるように、（例えば、第２の磁石２９０を持ち上げる第２の磁石リフタ２９２によって）反応チャンバＲＢの内容物に印加されている間に、アクティブ化される。第１の弁ＶＢ１は、次いで、プロセスポンプチャンバＰＢ１を第１の処理ステーション５００の反応チャンバＲＡに接続するように構成されることができ、プロセスポンプは、第１の弁ＶＢ１と反応チャンバＲＡとの間の矢印「Ｗ」によって表されるように、材料をプロセスポンプチャンバＰＢ１から反応チャンバＲＡまで移動させ、反応チャンバＲＡ内の廃棄物材料を隔離するように、アクティブ化されることができる。
【0179】
上記に説明されるプロセスのうちの１つ以上のものが、中間処理ステーション５２０、５３０、５４０、５５０（カラムＣからＦ）のそれぞれにおいて実施されることができる。
【0180】
最終的に処理された混合物（例えば、精製サンプル）を最後から２番目の処理ステーションから出力ウェル３６まで移動させるために、最終処理ステーション５６０（図１参照）の第１の弁は、最後から２番目の処理ステーションの反応チャンバを最終処理ステーション５６０のプロセスポンプチャンバに接続するように構成される。プロセスポンプチャンバ内で動作可能なプロセスポンプが、ある量のサンプル混合物を最後から２番目の処理ステーションの反応チャンバから最終処理ステーション５６０のプロセスポンプチャンバまで移動させるようにアクティブ化される。最終処理ステーション５６０の第１の弁は、次に、最終処理ステーション５６０のプロセスポンプチャンバを出力ウェル３６に接続するように構成され、プロセスポンプは、サンプル混合物をプロセスポンプチャンバから出力ウェル３６まで移動させるようにアクティブ化される。
【0181】
前述の概念および下記にさらに詳細に議論される追加の概念の全ての組み合わせは（そのような概念が相互に矛盾しないことを前提として）、本明細書に開示される主題の一部であるものとして検討されることを理解されたい。特に、本開示の終わりに表出する、請求される主題の全ての組み合わせが、本明細書に開示される主題の一部であるものとして検討される。また、参照することによって組み込まれる任意の開示にも表出し得る本明細書で明示的に採用される用語は、本明細書に開示される特定の概念と最も一致する意味を与えられるべきであることも理解されたい。
【0182】
本開示の主題が、特徴の種々の組み合わせおよび副次的組み合わせを含む、ある例証的例を参照して、著しく詳細に説明され、示されているが、当業者は、本開示の範囲内に包含されるものとして、他の例およびその変形例および修正を容易に理解するであろう。さらに、そのような例、組み合わせ、および副次的組み合わせの説明は、請求される主題が、請求項に明示的に記載されるもの以外の特徴または特徴の組み合わせを要求することを伝えることを意図していない。故に、本開示の範囲は、以下の添付の請求項の精神および範囲内に包含される、全ての修正および変形例を含むことを意図している。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図38】
【図39】
【図40】
【図41】
【図42】
【図43】
【図44】
