特許 7554610 レーザ装置、及びレーザ装置の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-09-11

(45)【発行日】2024-09-20

(54)【発明の名称】レーザ装置、及びレーザ装置の製造方法

(51)【国際特許分類】

   H01S 3/0941 20060101AFI20240912BHJP

   H01S 3/042 20060101ALI20240912BHJP

【ＦＩ】

H01S3/0941

H01S3/042

【請求項の数】 10

(21)【出願番号】P 2020148901

(22)【出願日】2020-09-04

(65)【公開番号】P2022043569

(43)【公開日】2022-03-16

【審査請求日】2023-08-29

(73)【特許権者】

【識別番号】000236436

【氏名又は名称】浜松ホトニクス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100088155

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 芳樹

(74)【代理人】

【識別番号】100113435

【弁理士】

【氏名又は名称】黒木 義樹

(74)【代理人】

【識別番号】100140442

【弁理士】

【氏名又は名称】柴山 健一

(72)【発明者】

【氏名】井口 琢斗

(72)【発明者】

【氏名】加藤 義則

(72)【発明者】

【氏名】森田 宇亮

(72)【発明者】

【氏名】川合 一希

【審査官】大和田 有軌

(56)【参考文献】

【文献】米国特許第０５４１８８０９（ＵＳ，Ａ）

【文献】特開２０００－２７７８３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０７－１１５２３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００１－０６８７６７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００１－０６８７６５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０１－３０４７９０（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許第０５４７５７０２（ＵＳ，Ａ）

【文献】米国特許第０５３１７５９０（ＵＳ，Ａ）

【文献】米国特許第０５２７８８６０（ＵＳ，Ａ）

【文献】米国特許第０５２５３２６０（ＵＳ，Ａ）

【文献】米国特許第０５２５１３６９（ＵＳ，Ａ）

【文献】米国特許第０５０１２４８１（ＵＳ，Ａ）

【文献】米国特許第０３６８３２９６（ＵＳ，Ａ）

【文献】特開２０２２－０４３５７０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｓ ３／００ － ３／３０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１方向に沿って延在するロッド状のレーザ媒質と、
第１ベース、及び前記第１ベースに取り付けられた複数の励起光源を含む第１光源ユニットと、
前記第１方向と交差する第２方向において前記第１光源ユニットと並設され、第２ベース、及び前記第２ベースに取り付けられた複数の励起光源を含む第２光源ユニットと、
前記レーザ媒質、前記第１光源ユニット及び前記第２光源ユニットを支持するホルダと、を備え、
前記第１光源ユニット及び前記第２光源ユニットは、それぞれ、前記ホルダに対して着脱可能であり、
前記第１ベース及び前記ホルダの少なくとも一方は、前記ホルダに対する前記第１ベースの位置を規定する第１規定部を含み、
前記第２ベース及び前記ホルダの少なくとも一方は、前記ホルダに対する前記第２ベースの位置を規定する第２規定部を含み、
前記ホルダは、前記第１方向において並設された第１保持部材及び第２保持部材、並びに、前記第１保持部材及び前記第２保持部材を連結する連結部材を含み、
前記第１光源ユニット及び前記第２光源ユニットは、前記第１保持部材と前記第２保持部材との間に配置されており、
前記連結部材は、前記第２方向に沿ってスライド可能に前記第１ベース及び前記第２ベースを支持する支持面を有する、レーザ装置。

【請求項2】

前記連結部材は、前記第１規定部として、前記第２方向に沿った前記第１ベースの移動を規制する第１ストッパを含み、前記第２規定部として、前記第２方向に沿った前記第２ベースの移動を規制する第２ストッパを含む、請求項１に記載のレーザ装置。

【請求項3】

前記第１ベースは、冷媒が流れる第１流路を含み、
前記第２ベースは、冷媒が流れる第２流路を含み、
前記ホルダは、冷媒が流れる第３流路を含む、請求項１又は２に記載のレーザ装置。

【請求項4】

前記第１流路、前記第２流路及び前記第３流路は、連通している、請求項３に記載のレーザ装置。

【請求項5】

前記ホルダは、前記レーザ媒質が内側に配置された筒体を含み、
前記筒体は、光透過性を有し、
前記第３流路は、前記レーザ媒質と前記筒体との間の流路を含む本流路、前記本流路から分岐する第１分岐流路及び第２分岐流路、並びに、前記本流路に合流する第３分岐流路及び第４分岐流路を含み、
前記第１分岐流路の下流端は、前記第１流路の上流端に接続されており、
前記第２分岐流路の下流端は、前記第２流路の上流端に接続されており、
前記第３分岐流路の上流端は、前記第１流路の下流端に接続されており、
前記第４分岐流路の上流端は、前記第２流路の下流端に接続されている、請求項４に記載のレーザ装置。

【請求項6】

前記複数の励起光源は、前記第１方向から見た場合に、前記レーザ媒質の中心線を中心とする円周に沿って配置されている、請求項１～５のいずれか一項に記載のレーザ装置。

【請求項7】

前記複数の励起光源のそれぞれは、半導体レーザ素子を含む、請求項１～６のいずれか一項に記載のレーザ装置。

【請求項8】

前記半導体レーザ素子は、積層された複数の半導体レーザバーを含む、請求項７に記載のレーザ装置。

【請求項9】

第１方向に沿って延在するロッド状のレーザ媒質と、
第１ベース、及び前記第１ベースに取り付けられた複数の励起光源を含む第１光源ユニットと、
前記第１方向と交差する第２方向において前記第１光源ユニットと並設され、第２ベース、及び前記第２ベースに取り付けられた複数の励起光源を含む第２光源ユニットと、
前記レーザ媒質、前記第１光源ユニット及び前記第２光源ユニットを支持するホルダと、を備え、
前記第１光源ユニット及び前記第２光源ユニットは、それぞれ、前記ホルダに対して着脱可能であり、
前記第１ベース及び前記ホルダの少なくとも一方は、前記ホルダに対する前記第１ベースの位置を規定する第１規定部を含み、
前記第１ベース及び前記第２ベースの少なくとも一方は、前記第１ベースに対する前記第２ベースの位置を規定する第２規定部を含み、
前記ホルダは、前記第１方向において並設された第１保持部材及び第２保持部材、並びに、前記第１保持部材及び前記第２保持部材を連結する連結部材を含み、
前記第１光源ユニット及び前記第２光源ユニットは、前記第１保持部材と前記第２保持部材との間に配置されており、
前記連結部材は、前記第２方向に沿ってスライド可能に前記第１ベース及び前記第２ベースを支持する支持面を有する、レーザ装置。

【請求項10】

第１ベース、及び前記第１ベースに取り付けられた複数の励起光源を含む第１光源ユニットと、第２ベース、及び前記第２ベースに取り付けられた複数の励起光源を含む第２光源ユニットと、第１方向に沿って延在するロッド状のレーザ媒質を支持した状態にあるホルダであって、前記第１方向において並設された第１保持部材及び第２保持部材、並びに、前記第１保持部材及び前記第２保持部材を連結する連結部材を含む前記ホルダと、を準備するステップと、
前記連結部材が有する支持面に対して、前記第１方向と交差する第２方向における一方の側から前記第１ベースをスライドさせて、前記第１保持部材と前記第２保持部材との間に前記第１光源ユニットを配置し、前記支持面に対して、前記第２方向における他方の側から前記第２ベースをスライドさせて、前記第１保持部材と前記第２保持部材との間に前記第２光源ユニットを配置することで、前記第２方向において前記第１光源ユニット及び前記第２光源ユニットを並設するステップと、を備える、レーザ装置の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、レーザ装置、及びレーザ装置の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

ロッド状のレーザ媒質と、当該レーザ媒質を励起するための励起光を出射する複数の励起光源と、を備えるレーザ装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２００５－２８５８０７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上述したようなレーザ装置は、当該レーザ装置がレーザシステムに搭載された状態で各励起光源がレーザ装置に対して着脱可能に構成されている場合がある。そのような構成では、各励起光源を交換する場合に、レーザ媒質における励起分布が所望の状態となるように、レーザ媒質に対する各励起光源の位置や向きをシビアに調整する必要がある。その一方で、上述したようなレーザ装置は、当該レーザ装置の全体がレーザシステムに対して着脱可能に構成されている場合がある。そのような構成では、各励起光源を交換する場合に、レーザシステムの光軸に対してレーザ媒質の光軸が一致するように、レーザシステムにおけるレーザ装置の位置や向きをシビアに調整する必要がある。

【0005】

本発明は、複数の励起光源の着脱の容易化及び複数の励起光源の位置決めの容易化を図ることができるレーザ装置、及びそのようなレーザ装置の製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明のレーザ装置は、第１方向に沿って延在するロッド状のレーザ媒質と、第１ベース、及び第１ベースに取り付けられた複数の励起光源を含む第１光源ユニットと、第１方向と交差する第２方向において第１光源ユニットと並設され、第２ベース、及び第２ベースに取り付けられた複数の励起光源を含む第２光源ユニットと、レーザ媒質、第１光源ユニット及び第２光源ユニットを支持するホルダと、を備え、第１ベース及びホルダの少なくとも一方は、ホルダに対する第１ベースの位置を規定する第１規定部を含み、第２ベース及びホルダの少なくとも一方は、ホルダに対する第２ベースの位置を規定する第２規定部を含む。

【0007】

このレーザ装置では、第１ベース及び複数の励起光源が第１光源ユニットとしてユニット化されていると共に、第２ベース及び複数の励起光源が第２光源ユニットとしてユニット化されており、第１光源ユニット及び第２光源ユニットが、第２方向において並設された状態で、ホルダによって支持されている。これにより、ホルダに対して第１ベース及び第２ベースのそれぞれを着脱するだけで、ホルダに対して複数の励起光源を容易に着脱することができる。更に、レーザ媒質を支持するホルダに第１ベース及び第２ベースのそれぞれを取り付ける際に、ホルダに対する第１ベースの位置が第１規定部によって規定されると共に、ホルダに対する第２ベースの位置が第２規定部によって規定される。これにより、レーザ媒質を支持するホルダに第１ベース及び第２ベースのそれぞれを取り付けるだけで、レーザ媒質に対して複数の励起光源を容易に位置決めすることができる。以上により、このレーザ装置によれば、複数の励起光源の着脱の容易化及び複数の励起光源の位置決めの容易化を図ることができる。

【0008】

本発明のレーザ装置では、ホルダは、第１方向において並設された第１保持部材及び第２保持部材、並びに、第１保持部材及び第２保持部材を連結する連結部材を含み、第１光源ユニット及び第２光源ユニットは、第１保持部材と第２保持部材との間に配置されていてもよい。これによれば、レーザ装置の小型化及び構造の単純化を図ることができる。

【0009】

本発明のレーザ装置では、連結部材は、第２方向に沿ってスライド可能に第１ベース及び第２ベースを支持する支持面を有してもよい。これによれば、連結部材の支持面において第１ベース及び第２ベースのそれぞれをスライドさせることで、ホルダに対して複数の励起光源を容易に着脱することができる。

【0010】

本発明のレーザ装置では、連結部材は、第１規定部として、第２方向に沿った第１ベースの移動を規制する第１ストッパを含み、第２規定部として、第２方向に沿った第２ベースの移動を規制する第２ストッパを含んでもよい。これによれば、連結部材の第１ストッパ及び第２ストッパのそれぞれに第１ベース及び第２ベースのそれぞれを当接させることで、レーザ媒質に対して複数の励起光源を容易に且つ確実に位置決めすることができる。

【0011】

本発明のレーザ装置では、第１ベースは、冷媒が流れる第１流路を含み、第２ベースは、冷媒が流れる第２流路を含み、ホルダは、冷媒が流れる第３流路を含んでもよい。これによれば、レーザ媒質及び複数の励起光源を冷却することができる。

【0012】

本発明のレーザ装置では、第１流路、第２流路及び第３流路は、連通していてもよい。これによれば、レーザ媒質及び複数の励起光源を効率良く冷却することができる。

【0013】

本発明のレーザ装置では、ホルダは、レーザ媒質が内側に配置された筒体を含み、筒体は、光透過性を有し、第３流路は、レーザ媒質と筒体との間の流路を含む本流路、本流路から分岐する第１分岐流路及び第２分岐流路、並びに、本流路に合流する第３分岐流路及び第４分岐流路を含み、第１分岐流路の下流端は、第１流路の上流端に接続されており、第２分岐流路の下流端は、第２流路の上流端に接続されており、第３分岐流路の上流端は、第１流路の下流端に接続されており、第４分岐流路の上流端は、第２流路の下流端に接続されていてもよい。これによれば、簡易な流路構成で、レーザ媒質及び複数の励起光源を効率良く冷却することができる。

【0014】

本発明のレーザ装置では、複数の励起光源は、第１方向から見た場合に、レーザ媒質の中心線を中心とする円周に沿って配置されていてもよい。これによれば、レーザ媒質における励起分布の均一化を図ることができる。

【0015】

本発明のレーザ装置では、複数の励起光源のそれぞれは、半導体レーザ素子を含んでもよい。これによれば、励起光源の長寿命化を図ることができる。また、複数の励起光源が第１光源ユニット又は第２光源ユニットとしてユニット化されているため、半導体レーザ素子単品での取り扱いに求められる繊細さが不要となる。

【0016】

本発明のレーザ装置では、半導体レーザ素子は、積層された複数の半導体レーザバーを含んでもよい。これによれば、レーザ媒質を効率良く且つ十分に励起することができる。

【0017】

本発明のレーザ装置は、第１方向に沿って延在するロッド状のレーザ媒質と、第１ベース、及び第１ベースに取り付けられた複数の励起光源を含む第１光源ユニットと、第１方向と交差する第２方向において第１光源ユニットと並設され、第２ベース、及び第２ベースに取り付けられた複数の励起光源を含む第２光源ユニットと、レーザ媒質、第１光源ユニット及び第２光源ユニットを支持するホルダと、を備え、第１ベース及びホルダの少なくとも一方は、ホルダに対する第１ベースの位置を規定する第１規定部を含み、第１ベース及び第２ベースの少なくとも一方は、第１ベースに対する第２ベースの位置を規定する第２規定部を含む。

【0018】

このレーザ装置では、第１ベース及び複数の励起光源が第１光源ユニットとしてユニット化されていると共に、第２ベース及び複数の励起光源が第２光源ユニットとしてユニット化されており、第１光源ユニット及び第２光源ユニットが、第２方向において並設された状態で、ホルダによって支持されている。これにより、ホルダに対して第１ベース及び第２ベースのそれぞれを着脱するだけで、ホルダに対して複数の励起光源を容易に着脱することができる。更に、レーザ媒質を支持するホルダに第１ベース及び第２ベースのそれぞれを取り付ける際に、ホルダに対する第１ベースの位置が第１規定部によって規定されると共に、第１ベースに対する第２ベースの位置が第２規定部によって規定される。これにより、レーザ媒質を支持するホルダに第１ベース及び第２ベースのそれぞれを取り付けるだけで、レーザ媒質に対して複数の励起光源を容易に位置決めすることができる。以上により、このレーザ装置によれば、複数の励起光源の着脱の容易化及び複数の励起光源の位置決めの容易化を図ることができる。

【0019】

本発明のレーザ装置の製造方法は、第１ベース、及び第１ベースに取り付けられた複数の励起光源を含む第１光源ユニットと、第２ベース、及び第２ベースに取り付けられた複数の励起光源を含む第２光源ユニットと、を準備するステップと、第１方向に沿って延在するロッド状のレーザ媒質を支持した状態にあるホルダに、第１方向と交差する第２方向における一方の側から第１ベースを配置し、ホルダに、第２方向における他方の側から第２ベースを配置することで、第２方向において第１光源ユニット及び第２光源ユニットを並設するステップと、を備える。

【0020】

このレーザ装置の製造方法では、ロッド状のレーザ媒質が延在する第１方向と交差する第２方向における一方の側から第１ベースをホルダに配置し、当該第２方向における他方の側から第２ベースをホルダに配置するだけで、レーザ媒質に対して複数の励起光源を容易に位置決めすることができる。よって、このレーザ装置の製造方法によれば、レーザ媒質に対して複数の励起光源が位置決めされたレーザ装置を容易に得ることができる。

【発明の効果】

【0021】

本発明によれば、複数の励起光源の着脱の容易化及び複数の励起光源の位置決めの容易化を図ることができるレーザ装置、及びそのようなレーザ装置の製造方法を提供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0022】

【図1】一実施形態のレーザ装置の断面図である。

【図2】図１に示されるII－II線に沿ってのレーザ装置の断面図である。

【図3】図１に示されるIII－III線に沿ってのレーザ装置の断面図である。

【図4】図３に示されるIV－IV線に沿ってのレーザ装置の断面図である。

【図5】図３に示されるV－V線に沿ってのレーザ装置の断面図である。

【図6】図３に示されるVI－VI線に沿ってのレーザ装置の断面図である。

【図7】一実施形態のレーザ装置の製造方法を説明するためのレーザ装置の断面図である。

【図8】図７に示されるVIII－VIIIに沿ってのレーザ装置の断面図である。

【図9】変形例の第１光源ユニット及び第２光源ユニットの正面図である。

【図10】変形例の第１光源ユニットの斜視図である。

【図11】変形例の第１光源ユニット及び第２光源ユニットによるレーザ媒質の励起分布を示す模式図である。

【図12】変形例の第１光源ユニット及び第２光源ユニットの正面図である。

【発明を実施するための形態】

【0023】

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。

【0024】

図１及び図２に示されるように、レーザ装置１は、レーザ媒質２０と、第１光源ユニット３０と、第２光源ユニット４０と、ホルダ５０と、を備えている。レーザ媒質２０、第１光源ユニット３０及び第２光源ユニット４０は、ホルダ５０によって支持されている。一例として、レーザ装置１は、レーザシステムにおいて、レーザ光Ｌを増幅するレーザ増幅器して用いられる。以下、レーザ装置１にレーザ光Ｌが入射する方向をＸ方向といい、Ｘ方向に垂直な一方向をＹ方向といい、Ｘ方向及びＹ方向の両方向に垂直な方向をＺ方向という。

【0025】

レーザ媒質２０は、Ｘ方向（第１方向）に沿って延在するロッド状の固体レーザ媒質である。レーザ媒質２０は、Ｘ方向に平行な中心線ＣＬを有している。レーザ媒質２０の形状は、例えば、１０ｍｍ程度の直径及び２００ｍｍ程度の長さを有する円柱形状である。レーザ媒質２０の材料は、例えば、Ｎｄ：ＹＡＧである。

【0026】

第１光源ユニット３０及び第２光源ユニット４０は、Ｙ方向（第１方向と交差する第２方向）において並設されている。第１光源ユニット３０は、中心線ＣＬに対して、Ｙ方向における一方の側に配置されている。第２光源ユニット４０は、中心線ＣＬに対して、Ｙ方向における他方の側に配置されている。第１光源ユニット３０は、第１ベース３１と、複数の励起光源３２と、を含んでいる。複数の励起光源３２は、第１ベース３１に取り付けられている。第２光源ユニット４０は、第２ベース４１と、複数の励起光源４２と、を含んでいる。複数の励起光源４２は、第２ベース４１に取り付けられている。

【0027】

第１ベース３１及び第２ベース４１は、それぞれ、Ｘ方向を厚さ方向とする板状の部材である。第１ベース３１及び第２ベース４１のセットは、レーザ媒質２０と対向する複数の内面を有する開口を画定している。各励起光源３２は、当該複数の内面のうち第１ベース３１が有する複数の載置面３１ａのそれぞれに配置されている。各励起光源４２は、当該複数の内面のうち第２ベース４１が有する複数の載置面４１ａのそれぞれに配置されている。第１ベース３１及び第２ベース４１のセットの形状は、例えば、矩形板状である。第１ベース３１及び第２ベース４１のそれぞれの材料は、例えば、アルミニウムである。第１ベース３１及び第２ベース４１のそれぞれの厚さは、後述する第１保持部材５１及び第２保持部材５２のそれぞれの厚さよりも大きい。これにより、複数の励起光源３２，４２を確実に保持することができる。

【0028】

複数の励起光源３２，４２は、それぞれ、レーザ媒質２０を励起するための励起光ＥＬを出射する。複数の励起光源３２，４２は、Ｘ方向から見た場合に、レーザ媒質２０の中心線ＣＬを中心とする円周に沿って配置されている。本実施形態では、第１ベース３１及び第２ベース４１のセットが、複数の内面として６つの載置面３１ａ，４１ａを有する正六角形状の開口を画定しており、６つの励起光源３２，４２が、中心線ＣＬを中心とする円周に沿って６０°ピッチで配置されている。このように、複数の励起光源３２，４２が第１ベース３１及び第２ベース４１に対して内側（レーザ媒質２０側）に配置されているため、外部からレーザ装置１に衝撃が加わったとしても、複数の励起光源３２，４２を確実に保護することができる。

【0029】

各励起光源３２は、半導体レーザ素子３３と、レンズ３４と、を含んでいる。半導体レーザ素子３３は、レーザ媒質２０に向けて励起光ＥＬを出射する。レンズ３４は、半導体レーザ素子３３に対してレーザ媒質２０側に配置されている。レンズ３４は、半導体レーザ素子３３から出射された励起光ＥＬをレーザ媒質２０に収束させる。半導体レーザ素子３３は、複数の半導体レーザバー３３ａと、ヒートシンク３３ｂと、を含んでいる。複数の半導体レーザバー３３ａは、半導体レーザ素子３３とレーザ媒質２０とが対向する方向に垂直な面内において各半導体レーザバー３３ａの出射端面が二次元に配列されるように、積層されている。ヒートシンク３３ｂは、複数の半導体レーザバー３３ａを支持した状態で、載置面３１ａに配置されている。ヒートシンク３３ｂは、複数の半導体レーザバー３３ａで発生した熱を吸収し、当該熱を第１ベース３１側に逃がす。なお、各励起光源３２は、レンズ３４を含んでいなくてもよい。

【0030】

各励起光源４２は、半導体レーザ素子４３と、レンズ４４と、を含んでいる。半導体レーザ素子４３は、レーザ媒質２０に向けて励起光ＥＬを出射する。レンズ４４は、半導体レーザ素子４３に対してレーザ媒質２０側に配置されている。レンズ４４は、半導体レーザ素子４３から出射された励起光ＥＬをレーザ媒質２０に収束させる。半導体レーザ素子４３は、複数の半導体レーザバー４３ａと、ヒートシンク４３ｂと、を含んでいる。複数の半導体レーザバー４３ａは、半導体レーザ素子４３とレーザ媒質２０とが対向する方向に垂直な面内において各半導体レーザバー４３ａの出射端面が二次元に配列されるように、積層されている。ヒートシンク４３ｂは、複数の半導体レーザバー４３ａを支持した状態で、載置面４１ａに配置されている。ヒートシンク４３ｂは、複数の半導体レーザバー４３ａで発生した熱を吸収し、当該熱を第２ベース４１側に逃がす。なお、各励起光源４２は、レンズ４４を含んでいなくてもよい。

【0031】

ホルダ５０は、第１保持部材５１と、第２保持部材５２と、連結部材５３と、一対の脚部材５４と、筒体５５と、を含んでいる。一例として、ホルダ５０は、レーザシステムの設置部Ｓに取り付けられている。

【0032】

第１保持部材５１及び第２保持部材５２は、それぞれ、Ｘ方向を厚さ方向とする板状の部材である。第１保持部材５１及び第２保持部材５２は、所定の間隔をとってＸ方向において並設されている。第１保持部材５１は、Ｘ方向におけるレーザ媒質２０の一端面２０ａを露出させた状態で、Ｘ方向におけるレーザ媒質２０の一端部を保持している。第２保持部材５２は、Ｘ方向におけるレーザ媒質２０の他端面２０ｂを露出させた状態で、Ｘ方向におけるレーザ媒質２０の他端部を保持している。第１光源ユニット３０及び第２光源ユニット４０は、第１保持部材５１と第２保持部材５２との間に配置されている。第１保持部材５１及び第２保持部材５２のそれぞれの形状は、例えば、矩形板状である。第１保持部材５１及び第２保持部材５２のそれぞれの材料は、例えば、アルミニウムである。第１光源ユニット３０及び第２光源ユニット４０は、Ｘ方向から見た場合に、第１保持部材５１及び第２保持部材５２のそれぞれの外縁よりも内側に位置している（つまり、当該外縁から外側に突出していない）。これにより、Ｘ方向からレーザ装置１に衝撃が加わったとしても、第１光源ユニット３０及び第２光源ユニット４０を確実に保護することができる。

【0033】

連結部材５３は、Ｚ方向を厚さ方向とする板状の部材である。連結部材５３は、第１保持部材５１及び第２保持部材５２を連結している。本実施形態では、連結部材５３は、第１保持部材５１における設置部Ｓ側の端部と第２保持部材５２における設置部Ｓ側の端部との間に掛け渡されている。連結部材５３の形状は、例えば、矩形板状である。連結部材５３の材料は、例えば、アルミニウムである。

【0034】

一対の脚部材５４は、それぞれ、第１保持部材５１における設置部Ｓ側の端部及び第２保持部材５２における設置部Ｓ側の端部に取り付けられている。各脚部材５４は、Ｙ方向を長手方向とする複数の長穴５４ａを有している。一例として、ホルダ５０は、複数のボルト（図示省略）が複数の長穴５４ａを介して設置部Ｓに締結されることで、設置部Ｓに固定されている。

【0035】

筒体５５は、Ｘ方向に沿って延在する筒状の部材である。筒体５５は、筒体５５の内側にレーザ媒質２０が配置された状態で、第１保持部材５１と第２保持部材５２との間に掛け渡されている。筒体５５は、光透過性（各励起光源３２，４２から出射される励起光ＥＬに対する透過性）を有している。筒体５５の形状は、例えば、円筒形状である。筒体５５の材料は、例えば、合成石英である。

【0036】

連結部材５３は、Ｙ方向に沿って延在する溝５３ａを有している。Ｙ方向における溝５３ａの両端は、Ｙ方向における一方の側及び他方の側に開放されている。溝５３ａの底面は、Ｙ方向に沿ってスライド可能に第１ベース３１及び第２ベース４１を支持する支持面５６である。連結部材５３は、第１ストッパ（第１規定部）５７と、第２ストッパ（第２規定部）５８と、を含んでいる。第１ストッパ５７は、Ｙ方向に沿った第１ベース３１の移動を規制する。より具体的には、第１ストッパ５７は、Ｙ方向においてレーザ媒質２０に近付く側への第１ベース３１の移動を規制する。第２ストッパ５８は、Ｙ方向に沿った第２ベース４１の移動を規制する。より具体的には、第２ストッパ５８は、Ｙ方向においてレーザ媒質２０に近付く側への第２ベース４１の移動を規制する。

【0037】

第１ベース３１が連結部材５３の溝５３ａに嵌められることで、ホルダ５０に対して（延いては、レーザ媒質２０に対して）、Ｘ方向及びＺ方向における第１ベース３１の位置が規定される。第１ベース３１が第１ストッパ５７に当接させられることで、ホルダ５０に対して（延いては、レーザ媒質２０に対して）、Ｙ方向における第１ベース３１の位置が規定される。この状態で、第１ベース３１は、第１保持部材５１及び第２保持部材５２のそれぞれにボルト（図示省略）等によって固定されている。

【0038】

第２ベース４１が連結部材５３の溝５３ａに嵌められることで、ホルダ５０に対して（延いては、レーザ媒質２０に対して）、Ｘ方向及びＺ方向における第２ベース４１の位置が規定される。第２ベース４１が第２ストッパ５８に当接させられることで、ホルダ５０に対して（延いては、レーザ媒質２０に対して）、Ｙ方向における第２ベース４１の位置が規定される。この状態で、第２ベース４１は、第１保持部材５１及び第２保持部材５２のそれぞれにボルト（図示省略）等によって固定されている。

【0039】

図３及び図４に示されるように、ホルダ５０は、第３流路９０を含んでいる。図５に示されるように、第１ベース３１は、第１流路７０を含んでいる。図６に示されるように、第２ベース４１は、第２流路８０を含んでいる。第１流路７０、第２流路８０及び第３流路９０には、冷媒が流れる。冷媒は、例えば、水である。第１流路７０、第２流路８０及び第３流路９０は、連通している。つまり、第１流路７０、第２流路８０及び第３流路９０は、共通の供給源（図示省略）から供給された冷媒が流れるように接続されている。

【0040】

図３及び図４に示されるように、第３流路９０は、本流路９１を含んでいる。本流路９１は、複数の流路部分９１ａ，９１ｂ，９１ｃ，９１ｄ，９１ｅを含んでいる。流路部分９１ｂは、レーザ媒質２０と筒体５５との間の流路である。流路部分９１ｄは、第１保持部材５１と第２保持部材５２との間に掛け渡された配管５９内の流路である。

【0041】

流路部分９１ａは、第１保持部材５１内に形成されている。流路部分９１ａの上流端は、第１保持部材５１の側面５１ａに位置している。流路部分９１ａの上流端は、冷媒の供給口である。流路部分９１ａの下流端は、流路部分９１ｂの上流端に接続されている。流路部分９１ｃは、第２保持部材５２内に形成されている。流路部分９１ｃの上流端は、流路部分９１ｂの下流端に接続されている。流路部分９１ｃの下流端は、流路部分９１ｄの上流端に接続されている。流路部分９１ｅは、第１保持部材５１内に形成されている。流路部分９１ｅの上流端は、流路部分９１ｄの下流端に接続されている。流路部分９１ｅの下流端は、第１保持部材５１の側面５１ａに位置している。流路部分９１ｅの下流端は、冷媒の排出口である。なお、冷媒の供給口である流路部分９１ａの上流端、及び冷媒の排出口である流路部分９１ｅの下流端が、第１保持部材５１の側面５１ａに位置しているため、外部の配管の取り回しが容易となっている。

【0042】

以上のように構成された本流路９１では、流路部分９１ａの上流端から冷媒が供給され、流路部分９１ａ，９１ｂ，９１ｃ，９１ｄ，９１ｅの順に冷媒が流れて、流路部分９１ｅの下流端から冷媒が排出される。これにより、レーザ媒質２０が冷却される。

【0043】

図３、図５及び図６に示されるように、第３流路９０は、第１分岐流路９３と、第２分岐流路９４と、を更に含んでいる。第１分岐流路９３及び第２分岐流路９４は、第１保持部材５１内に形成されている。第１分岐流路９３は、本流路９１から分岐している。第１分岐流路９３の上流端９３ａは、本流路９１の流路部分９１ａの途中（本流路９１のうち、流路部分９１ｂよりも上流側の部分）に接続されている。第１分岐流路９３の下流端９３ｂは、第１保持部材５１における第２保持部材５２側の表面５１ｂに位置している。第２分岐流路９４は、本流路９１から分岐している。第２分岐流路９４の上流端９４ａは、本流路９１の流路部分９１ａの途中に接続されている。第２分岐流路９４の下流端９４ｂは、第１保持部材５１の表面５１ｂに位置している。

【0044】

第３流路９０は、第３分岐流路９５と、第４分岐流路９６と、を更に含んでいる。第３分岐流路９５及び第４分岐流路９６は、第１保持部材５１内に形成されている。第３分岐流路９５は、本流路９１に合流している。第３分岐流路９５の上流端９５ａは、第１保持部材５１の表面５１ｂに位置している。第３分岐流路９５の下流端９５ｂは、本流路９１の流路部分９１ｅの途中（本流路９１のうち、流路部分９１ｂよりも下流側の部分）に接続されている。第４分岐流路９６は、本流路９１に合流している。第４分岐流路９６の上流端９６ａは、第１保持部材５１の表面５１ｂに位置している。第４分岐流路９６の下流端９６ｂは、本流路９１の流路部分９１ｅの途中に接続されている。

【0045】

図５に示されるように、第１流路７０は、Ｘ方向から見た場合にＺ方向に沿って直線状に延在するように、第１ベース３１内に形成されている。第１流路７０の上流端７０ａ及び下流端７０ｂは、第１ベース３１における第１保持部材５１側の表面３１ｂに位置している。第１ベース３１の表面３１ｂは、第１保持部材５１の表面５１ｂに接触している。この状態で、第１分岐流路９３の下流端９３ｂは、第１流路７０の上流端７０ａに接続されており、第３分岐流路９５の上流端９５ａは、第１流路７０の下流端７０ｂに接続されている。なお、下流端９３ｂと上流端７０ａとの接続、及び、上流端９５ａと下流端７０ｂとの接続には、例えば、Ｏリングが用いられており、冷媒の漏れが防止されている。

【0046】

以上のように構成された第１分岐流路９３、第１流路７０及び第３分岐流路９５では、第１分岐流路９３の上流端９３ａにおいて本流路９１から冷媒が供給され、第１分岐流路９３、第１流路７０、第３分岐流路９５の順に冷媒が流れて、第３分岐流路９５の下流端９５ｂにおいて冷媒が本流路９１に合流する。これにより、第１ベース３１が冷却される。各励起光源３２の半導体レーザ素子３３では、第１ベース３１が冷却されることで、ヒートシンク３３ｂを介して複数の半導体レーザバー３３ａが冷却される。

【0047】

図６に示されるように、第２流路８０は、Ｘ方向から見た場合にＺ方向に沿って直線状に延在するように、第２ベース４１内に形成されている。第２流路８０の上流端８０ａ及び下流端８０ｂは、第２ベース４１における第１保持部材５１側の表面４１ｂに位置している。第２ベース４１の表面４１ｂは、第１保持部材５１の表面５１ｂに接触している。この状態で、第２分岐流路９４の下流端９４ｂは、第２流路８０の上流端８０ａに接続されており、第４分岐流路９６の上流端９６ａは、第２流路８０の下流端８０ｂに接続されている。なお、下流端９４ｂと上流端８０ａとの接続、及び、上流端９６ａと下流端８０ｂとの接続には、例えば、Ｏリングが用いられており、冷媒の漏れが防止されている。

【0048】

以上のように構成された第２分岐流路９４、第２流路８０及び第４分岐流路９６では、第２分岐流路９４の上流端９４ａにおいて本流路９１から冷媒が供給され、第２分岐流路９４、第２流路８０、第４分岐流路９６の順に冷媒が流れて、第４分岐流路９６の下流端９６ｂにおいて冷媒が本流路９１に合流する。これにより、第２ベース４１が冷却される。各励起光源４２の半導体レーザ素子４３では、第２ベース４１が冷却されることで、ヒートシンク４３ｂを介して複数の半導体レーザバー４３ａが冷却される。

【0049】

レーザ装置１の製造方法について説明する。本実施形態では、図７に示されるように、レーザ媒質２０を支持した状態にあるホルダ５０が、レーザシステムの設置部Ｓに取り付けられているものとする。まず、図８に示されるように、第１光源ユニット３０及び第２光源ユニット４０を準備する（準備するステップ）。続いて、レーザ媒質２０を支持した状態にあるホルダ５０に、Ｙ方向における一方の側から第１ベース３１を配置し、当該ホルダ５０に、Ｙ方向における他方の側から第２ベース４１を配置することで、Ｙ方向において第１光源ユニット３０及び第２光源ユニット４０を並設する（並設するステップ）。この状態で、第１保持部材５１及び第２保持部材５２のそれぞれに第１ベース３１をボルト（図示省略）等によって固定し、第１保持部材５１及び第２保持部材５２のそれぞれに第２ベース４１をボルト（図示省略）等によって固定する。

【0050】

ホルダ５０に第１ベース３１を取り付ける際には、第１ベース３１を連結部材５３の溝５３ａに嵌めることで、ホルダ５０に対して（延いては、レーザ媒質２０に対して）、Ｘ方向及びＺ方向における第１ベース３１の位置が規定される。また、第１ベース３１を連結部材５３の支持面５６においてスライドさせて第１ストッパ５７に当接させることで、ホルダ５０に対して（延いては、レーザ媒質２０に対して）、Ｙ方向における第１ベース３１の位置が規定される。このとき、第１ベース３１が筒体５５に接触して筒体５５が破損するような事態が防止される。

【0051】

ホルダ５０に第２ベース４１を取り付ける際には、第２ベース４１を連結部材５３の溝５３ａに嵌めることで、ホルダ５０に対して（延いては、レーザ媒質２０に対して）、Ｘ方向及びＺ方向における第２ベース４１の位置が規定される。また、第２ベース４１を連結部材５３の支持面５６においてスライドさせて第２ストッパ５８に当接させることで、ホルダ５０に対して（延いては、レーザ媒質２０に対して）、Ｙ方向における第２ベース４１の位置が規定される。このとき、第２ベース４１が筒体５５に接触して筒体５５が破損するような事態が防止される。

【0052】

以上説明したように、レーザ装置１では、第１ベース３１及び複数の励起光源３２が第１光源ユニット３０としてユニット化されていると共に、第２ベース４１及び複数の励起光源４２が第２光源ユニット４０としてユニット化されており、第１光源ユニット３０及び第２光源ユニット４０が、Ｙ方向において並設された状態で、ホルダ５０によって支持されている。これにより、ホルダ５０に対して第１ベース３１及び第２ベース４１のそれぞれを着脱するだけで、ホルダ５０に対して複数の励起光源３２，４２を容易に着脱することができる。更に、レーザ媒質２０を支持するホルダ５０に第１ベース３１及び第２ベース４１のそれぞれを取り付ける際に、ホルダ５０に対する第１ベース３１の位置が第１ストッパ５７によって規定されると共に、ホルダ５０に対する第２ベース４１の位置が第２ストッパ５８によって規定される。これにより、レーザ媒質２０を支持するホルダ５０に第１ベース３１及び第２ベース４１のそれぞれを取り付けるだけで、レーザ媒質２０に対して複数の励起光源３２，４２を容易に位置決めすることができる。以上により、レーザ装置１によれば、複数の励起光源３２，４２の着脱の容易化及び複数の励起光源３２，４２の位置決めの容易化を図ることができる。

【0053】

レーザ装置１では、ホルダ５０が、Ｘ方向において並設された第１保持部材５１及び第２保持部材５２、並びに、第１保持部材５１及び第２保持部材５２を連結する連結部材５３を含んでおり、第１光源ユニット３０及び第２光源ユニット４０が、第１保持部材５１と第２保持部材５２との間に配置されている。これにより、レーザ装置１の小型化及び構造の単純化を図ることできる。

【0054】

レーザ装置１では、連結部材５３が、Ｙ方向に沿ってスライド可能に第１ベース３１及び第２ベース４１を支持する支持面５６を有している。これにより、連結部材５３の支持面５６において第１ベース３１及び第２ベース４１のそれぞれをスライドさせることで、ホルダ５０に対して複数の励起光源３２，４２を容易に着脱することができる。

【0055】

レーザ装置１では、連結部材５３が、Ｙ方向に沿った第１ベース３１の移動を規制する第１ストッパ５７、及びＹ方向に沿った第２ベース４１の移動を規制する第２ストッパ５８を含んでいる。これにより、連結部材５３の第１ストッパ５７及び第２ストッパ５８のそれぞれに第１ベース３１及び第２ベース４１のそれぞれを当接させることで、レーザ媒質２０に対して複数の励起光源３２，４２を容易に且つ確実に位置決めすることができる。

【0056】

レーザ装置１では、第１ベース３１が、冷媒が流れる第１流路７０を含んでおり、第２ベース４１が、冷媒が流れる第２流路８０を含んでおり、ホルダ５０が、冷媒が流れる第３流路９０を含んでいる。これにより、レーザ媒質２０及び複数の励起光源３２，４２を冷却することができる。

【0057】

レーザ装置１では、第１流路７０、第２流路８０及び第３流路９０が連通している。これにより、レーザ媒質２０及び複数の励起光源３２，４２を効率良く冷却することができる。

【0058】

レーザ装置１では、第３流路９０が、レーザ媒質２０と筒体５５との間の流路部分９１ｂを含む本流路９１、本流路９１から分岐する第１分岐流路９３及び第２分岐流路９４、並びに、本流路９１に合流する第３分岐流路９５及び第４分岐流路９６を含んでいる。レーザ装置１では、第１分岐流路９３の下流端９３ｂが、第１流路７０の上流端７０ａに接続されており、第２分岐流路９４の下流端９４ｂが、第２流路８０の上流端８０ａに接続されており、第３分岐流路９５の上流端９５ａが、第１流路７０の下流端７０ｂに接続されており、第４分岐流路９６の上流端９６ａが、第２流路８０の下流端８０ｂに接続されている。これにより、簡易な流路構成で、レーザ媒質２０及び複数の励起光源３２，４２を効率良く冷却することができる。

【0059】

レーザ装置１では、複数の励起光源３２，４２は、Ｘ方向から見た場合に、レーザ媒質２０の中心線ＣＬを中心とする円周に沿って配置されている。これによれば、レーザ媒質２０における励起分布の均一化を図ることができる。

【0060】

レーザ装置１では、各励起光源３２が半導体レーザ素子３３を含んでおり、各励起光源４２が半導体レーザ素子４３を含んでいる。これにより、各励起光源３２，４２の長寿命化を図ることができる。また、複数の励起光源３２が第１光源ユニット３０としてユニット化されており、複数の励起光源４２が第２光源ユニット４０としてユニット化されているため、半導体レーザ素子単品での取り扱いに求められる繊細さが不要となる。

【0061】

レーザ装置１では、半導体レーザ素子３３は、積層された複数の半導体レーザバー３３ａを含んでおり、半導体レーザ素子４３は、積層された複数の半導体レーザバー４３ａを含んでいる。これにより、レーザ媒質２０を効率良く且つ十分に励起することができる。

【0062】

レーザ装置１の製造方法では、ロッド状のレーザ媒質２０が延在するＸ方向と交差するＹ方向における一方の側から第１ベース３１をホルダ５０に配置し、当該Ｙ方向における他方の側から第２ベース４１をホルダ５０に配置するだけで、レーザ媒質２０に対して複数の励起光源３２，４２を容易に位置決めすることができる。よって、レーザ装置１の製造方法によれば、レーザ媒質２０に対して複数の励起光源３２，４２が位置決めされたレーザ装置１を容易に得ることができる。

【0063】

本発明は、上記実施形態に限定されない。例えば、上記実施形態では、第１光源ユニット３０が３つの励起光源３２を含んでいたが、第１光源ユニット３０は、複数の励起光源３２を含んでいればよい。同様に、上記実施形態では、第２光源ユニット４０が３つの励起光源４２を含んでいたが、第２光源ユニット４０は、複数の励起光源４２を含んでいればよい。一例として、図９の（ａ）に示されるように、第１光源ユニット３０が４つの励起光源３２を含んでおり、第２光源ユニット４０が４つの励起光源４２を含んでいてもよい。図９の（ｂ）に示されるように、第１光源ユニット３０が２つの励起光源３２を含んでおり、第２光源ユニット４０が２つの励起光源４２を含んでいてもよい。いずれの場合にも、複数の励起光源３２，４２が、中心線ＣＬを中心とする円周に沿って等角度ピッチで配置されている。

【0064】

図１０の（ａ）に示されるように、第１光源ユニット３０は、中心線ＣＬを中心とする円周に沿って１列に配置された複数の励起光源３２ａと、当該円周からＸ方向にずれた円周に沿って１列に配置された複数の励起光源３２ｂと、を含んでいてもよい。図１０の（ａ）に示される第１光源ユニット３０では、Ｘ方向において１つの励起光源３２ａ及び１つの励起光源３２ｂが並設されている。当該第１光源ユニット３０と組み合わせられる第２光源ユニット４０も、当該第１光源ユニット３０と同様の構成を有している。

【0065】

図１０の（ｂ）に示されるように、第１光源ユニット３０は、中心線ＣＬを中心とする円周に沿って配置された少なくとも１つの励起光源３２ａと、当該円周からＸ方向にずれた円周に沿って他の１列に配置された複数の励起光源３２ｂと、を含んでいてもよい。図１０の（ｂ）に示される第１光源ユニット３０では、Ｘ方向から見た場合に１つの励起光源３２ａが２つの励起光源３２ｂの間に位置するように、３つの励起光源３２ａ、３２ｂが、中心線ＣＬを中心とする円周に沿って６０°ピッチで配置されている。当該第１光源ユニット３０と組み合わせられる第２光源ユニット４０も、当該第１光源ユニット３０と同様の構成を有している。

【0066】

その場合、１つの励起光源３２ａ及び２つの励起光源４２ａは、図１１の（ａ）に示されるように、中心線ＣＬを中心とする円周に沿って１２０°ピッチで配置されることになる。２つの励起光源３２ｂ及び１つの励起光源４２ｂは、図１１の（ｂ）に示されるように、中心線ＣＬを中心とする別の円周に沿って１２０°ピッチで配置されることになる。結果として、６つの励起光源３２ａ，３２ｂ，４２ａ，４２ｂは、図１１の（ｃ）に示されるように、中心線ＣＬに平行な方向から見た場合に、中心線ＣＬを中心とする円周に沿って６０°ピッチで配置されることになる。これにより、各励起光源３２ａ，３２ｂ，４２ａ，４２ｂから出射される励起光ＥＬによってレーザ媒質２０に均一な励起分布が与えられる。

【0067】

図１２に示されるように、第１光源ユニット３０において、複数の励起光源３２が、第１ベース３１における外側の表面に配置されており、各励起光源３２からレーザ媒質２０に向けて出射された励起光ＥＬが通る貫通孔３１ｃが、第１ベース３１に形成されていてもよい。同様に、第２光源ユニット４０において、複数の励起光源４２が、第２ベース４１における外側の表面に配置されており、各励起光源４２からレーザ媒質２０に向けて出射された励起光ＥＬが通る貫通孔４１ｃが、第２ベース４１に形成されていてもよい。

【0068】

第１流路７０は、屈曲した状態（例えば、各励起光源３２に近付くように屈曲した状態）で第１ベース３１内に形成されていてもよい。同様に、第２流路８０は、屈曲した状態（例えば、各励起光源４２に近付くように屈曲した状態）で第２ベース４１内に形成されていてもよい。ただし、第１流路７０及び第２流路８０がそれぞれ第１ベース３１内及び第２ベース４１内に直線状に形成されていると、それらの形成が容易となる。

【0069】

第１流路７０は、複数の励起光源３２が取り付けられた第１ベース３１の本体部とは別に設けられた配管を含んでいてもよい。同様に、第２流路８０は、複数の励起光源４２が取り付けられた第２ベース４１の本体部とは別に設けられた配管を含んでいてもよい。

【0070】

半導体レーザ素子３３のヒートシンク３３ｂは、第１流路７０から冷媒を導入させて第１流路７０に冷媒を導出させ流路を含むものであってもよい。同様に、半導体レーザ素子４３のヒートシンク４３ｂは、第２流路８０から冷媒を導入させて第２流路８０に冷媒を導出させ流路を含むものであってもよい。

【0071】

第１ベース３１及び第２ベース４１は、それぞれ、第１流路７０及び第２流路８０を含んでいなくてもよい。その場合には、第１ベース３１及び第２ベース４１のそれぞれに放熱フィンが設けられていてもよい。空冷又は自然放熱によって第１ベース３１及び第２ベース４１が冷却されることで、各半導体レーザ素子３３，４３が冷却される。

【0072】

各励起光源３２が、半導体レーザ素子３３を冷却するための電子冷却素子を含んでいてもよい。同様に、各励起光源４２が、半導体レーザ素子４３を冷却するための電子冷却素子を含んでいてもよい。

【0073】

上記実施形態では、ホルダ５０が、ホルダ５０に対する第１ベース３１の位置を規定する第１規定部として第１ストッパ５７を含んでいたが、第１ベース３１が当該第１規定部を含んでいてもよいし、第１ベース３１及びホルダ５０の両方が当該第１規定部を含んでいてもよい。つまり、第１ベース３１及びホルダ５０の少なくとも一方が、ホルダ５０に対する第１ベース３１の位置を規定する第１規定部を含んでいればよい。第１規定部は、位置決めピン及び位置決め穴、位置決めボルト及び位置決めねじ穴（その場合には、ホルダ５０に対する第１ベース３１の固定も兼ねる）等であってもよい。

【0074】

上記実施形態では、ホルダ５０が、ホルダ５０に対する第２ベース４１の位置を規定する第２規定部として第２ストッパ５８を含んでいたが、第２ベース４１が当該第２規定部を含んでいてもよいし、第２ベース４１及びホルダ５０の両方が当該第２規定部を含んでいてもよい。つまり、第２ベース４１及びホルダ５０の少なくとも一方が、ホルダ５０に対する第２ベース４１の位置を規定する第２規定部を含んでいればよい。第２規定部は、位置決めピン及び位置決め穴、位置決めボルト及び位置決めねじ穴（その場合には、ホルダ５０に対する第２ベース４１の固定も兼ねる）等であってもよい。

【0075】

上記実施形態では、ホルダ５０が、ホルダ５０に対する第１ベース３１の位置を規定する第１規定部として第１ストッパ５７を含み、且つ、ホルダ５０が、ホルダ５０に対する第２ベース４１の位置を規定する第２規定部として第２ストッパ５８を含んでいたが、第１ベース３１及びホルダ５０の少なくとも一方が、ホルダ５０に対する第１ベース３１の位置を規定する第１規定部を含み、且つ、第１ベース３１及び第２ベース４１の少なくとも一方が、第１ベース３１に対する第２ベース４１の位置を規定する第２規定部を含んでいてもよい。その場合にも、ホルダ５０に対して第１ベース３１及び第２ベース４１のそれぞれを着脱するだけで、ホルダ５０に対して複数の励起光源３２，４２を容易に着脱することができる。更に、レーザ媒質２０を支持するホルダ５０に第１ベース３１及び第２ベース４１のそれぞれを取り付けるだけで、レーザ媒質２０に対して複数の励起光源３２，４２を容易に位置決めすることができる。

【0076】

ホルダ５０は、レーザ媒質２０、第１光源ユニット３０及び第２光源ユニット４０を支持するように構成されていれば、例えば、連結部材５３を含んでいなくてもよいし、連結部材５３を含むか否かにかかわらず第１保持部材５１又は第２保持部材のいずれか一方を含んでいなくてもよい。なお、レーザ媒質２０、第１光源ユニット３０及び第２光源ユニット４０を支持するようにホルダ５０が構成されていることは、レーザ媒質２０、第１光源ユニット３０及び第２光源ユニット４０のそれぞれがホルダ５０に接触していることを必須としない。例えば、第１光源ユニット３０がホルダ５０に接触した状態で第１光源ユニット３０がホルダ５０によって支持されており、第２光源ユニット４０が第１光源ユニット３０に接触し且つホルダ５０から離間した状態で第２光源ユニット４０がホルダ５０によって支持されている場合もある。

【符号の説明】

【0077】

１…レーザ装置、２０…レーザ媒質、３０…第１光源ユニット、３１…第１ベース、３２…励起光源、３３…半導体レーザ素子、３３ａ…半導体レーザバー、４０…第２光源ユニット、４１…第２ベース、４２…励起光源、４３…半導体レーザ素子、４３ａ…半導体レーザバー、５０…ホルダ、５１…第１保持部材、５２…第２保持部材、５３…連結部材、５５…筒体、５６…支持面、５７…第１ストッパ（第１規定部）、５８…第２ストッパ（第２規定部）、７０…第１流路、７０ａ…上流端、７０ｂ…下流端、８０…第２流路、８０ａ…上流端、８０ｂ…下流端、９０…第３流路、９１…本流路、９１ｂ…流路部分（流路）、９３…第１分岐流路、９３ｂ…下流端、９４…第２分岐流路、９４ｂ…下流端、９５…第３分岐流路、９５ａ…上流端、９６…第４分岐流路、９６ａ…上流端。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】