特許 7555281 集塵装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-09-12

(45)【発行日】2024-09-24

(54)【発明の名称】集塵装置

(51)【国際特許分類】

   B01D 46/72 20220101AFI20240913BHJP

   B01D 46/42 20060101ALI20240913BHJP

   F27D 17/00 20060101ALI20240913BHJP

【ＦＩ】

B01D46/72

B01D46/42

F27D17/00 105A

【請求項の数】 8

(21)【出願番号】P 2021013845

(22)【出願日】2021-01-29

(65)【公開番号】P2022117252

(43)【公開日】2022-08-10

【審査請求日】2023-09-12

(73)【特許権者】

【識別番号】000229047

【氏名又は名称】日本スピンドル製造株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100179969

【弁理士】

【氏名又は名称】駒井 慎二

(74)【代理人】

【識別番号】100173532

【弁理士】

【氏名又は名称】井上 彰文

(72)【発明者】

【氏名】三坂 浩司

【審査官】中村 泰三

(56)【参考文献】

【文献】特開昭６３－２８７５２５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－０１０６２１（ＪＰ，Ａ）

【文献】実開昭６１－１３０３１７（ＪＰ，Ｕ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ０１Ｄ ４６／００－９０

Ｆ０１Ｎ ３／０２３

Ｆ２７Ｄ １７／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

異物を含む異物含有ガスが供給される第１室、 前記第１室に設置され、前記異物含有ガスが通過することにより、該異物含有ガス中の前記異物を捕捉するフィルタ、及び、前記フィルタを通過したガスが導入される第２室を備える装置本体と、
前記装置本体に接続され、前記フィルタによって前記異物含有ガスから前記異物が捕捉されて、除去された異物除去ガスが排出される排出流路と、
前記フィルタを清掃するクリーニングガスを前記フィルタに前記第２室側から前記第１室側に向かうように噴射するクリーニングガス噴射部と、
前記フィルタの温度、および、前記異物除去ガスの温度を検出する温度検出部と、
前記温度検出部により検出された前記フィルタの温度、および、前記異物除去ガスの温度に基づいて、前記異物除去ガスと前記クリーニングガスとの温度差が小さくなるように、前記クリーニングガスの温度を調整する温度調整部とを備えることを特徴とする集塵装置。

【請求項2】

前記異物除去ガスの流量を検出する流量検出部を備え、
前記温度調整部は、前記流量検出部の検出結果に基づいて、前記クリーニングガスの温度を調整する請求項１に記載の集塵装置。

【請求項3】

前記異物除去ガスに含まれる水分量を検出する水分量検出部を備え、
前記温度調整部は、前記水分量検出部の検出結果に基づいて、前記クリーニングガスの温度を調整する請求項１または２に記載の集塵装置。

【請求項4】

前記異物除去ガスに含まれる成分量を検出する成分量検出部を備え、
前記温度調整部は、前記成分量検出部の検出結果に基づいて、前記クリーニングガスの温度を調整する請求項１～３のいずれか１項に記載の集塵装置。

【請求項5】

前記温度調整部は、前記クリーニングガスを加熱する加熱部を有する請求項１～４のいずれか１項に記載の集塵装置。

【請求項6】

前記温度調整部は、前記クリーニングガスを一時的に貯留する複数の貯留部を有し、
前記加熱部は、各前記貯留部内の前記クリーニングガスを加熱可能に構成されている請求項５に記載の集塵装置。

【請求項7】

前記装置本体に接続され、前記フィルタによって前記異物含有ガスから前記異物が捕捉されて、除去された異物除去ガスが排出される排出流路を備え、
前記加熱部は、前記異物除去ガスの熱を前記クリーニングガスの加熱に用いる請求項５または６に記載の集塵装置。

【請求項8】

前記排出流路には、加熱された触媒を有し、前記異物除去ガスが接する触媒部が設置されており、
前記触媒部に接した後の前記異物除去ガスの熱を前記クリーニングガスの加熱に用いる請求項７に記載の集塵装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、集塵装置に関する。

【背景技術】

【0002】

可燃性廃棄物の焼却や溶融の各種工程からは、ばいじん等が含まれる排ガスが生じる。排ガスは、ろ布を備えるバグフィルタ装置によって処理されて、装置外に排出される（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に記載のバグフィルタ装置では、排ガスがろ布を通過することにより、排ガスからばいじんが除去される。

【0003】

特許文献１に記載のバグフィルタ装置では、パルスジェット気体をろ布に向けて噴射することにより、ろ布を清掃することができる。
また、特許文献１に記載のバグフィルタ装置では、パルスジェット気体をろ布の耐熱温度以下に加熱することができる。加熱されたパルスジェット気体をろ布に噴射することにより、ろ布の目詰まりの原因となる、反応生成物の潮解、固着の進行を回避することができる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２００４－８１９５８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

特許文献１に記載のバグフィルタ装置では、ろ布は、排ガスとパルスジェット気体との双方に接することとなるが、これら双方の温度差の程度によっては、それが起因となって、劣化し易くなるという問題がある。

【0006】

本発明の目的は、異物含有ガスとクリーニングガスとの温度差によるフィルタの劣化を防止することができる集塵装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の集塵装置の一つの態様は、異物を含む異物含有ガスが供給される装置本体と、
前記装置本体に設置され、前記異物含有ガスが通過することにより、該異物含有ガス中の前記異物を捕捉するフィルタと、
前記フィルタを清掃するクリーニングガスを前記フィルタに噴射するクリーニングガス噴射部と、
前記フィルタの温度、および、該フィルタの温度に関連する温度のうちの少なくとも一方を検出する温度検出部と、
前記温度検出部の検出結果に基づいて、前記クリーニングガスの温度を調整する温度調整部とを備えることを特徴とする。

【発明の効果】

【0008】

本発明によれば、異物含有ガスの温度に応じて、クリーニングガスの温度を温度調整部で調整することができる。これにより、異物含有ガスとクリーニングガスとの温度差、すなわち、双方の温度の乖離をできる限り解消することができる。これにより、異物含有ガスとクリーニングガスとに接するフィルタが、双方のガスの温度差を起因として劣化するのを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】図１は、本発明の集塵装置（通常使用状態）の第１実施形態を示す垂直断面図である。

【図2】図２は、本発明の集塵装置（クリーニング状態）の第１実施形態を示す垂直断面である。

【図3】図３は、本発明の集塵装置の主要部のブロック図である。

【図4】図４は、本発明の集塵装置（通常使用状態）の第２実施形態を示す垂直断面である。

【図5】図５は、本発明の集塵装置（通常使用状態）の第３実施形態を示す垂直断面である。

【図6】図６は、本発明の集塵装置（通常使用状態）の第４実施形態を示す垂直断面である。

【図7】図７は、本発明の集塵装置（通常使用状態）の第５実施形態を示す垂直断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、本発明の集塵装置を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。なお、以下では、説明の都合上、図１、図２および図４～図７中の上側を「上（または上方）」、下側を「下（または下方）」と言う。
＜第１実施形態＞
図１～図３を参照して、本発明の集塵装置の第１実施形態について説明する。

【0011】

図１に示す集塵装置１は、例えば、産業廃棄物や家庭ゴミ等を処理する処理施設の他、製鉄、製鋼施設等の産業施設に設置され、焼却炉や破砕設備等（以下「焼却炉」を代表とする）から排出される異物含有ガス（含塵空気）ＡＲ１を浄化するのに用いられる。そして、浄化された異物含有ガスＡＲ１は、異物除去ガス（浄化空気）ＡＲ２として、例えば、大気中に排出される。

【0012】

図１、図２に示すように、集塵装置１は、装置本体である筐体２と、異物含有ガスＡＲ１に含まれる塵（埃も含む）等の異物ＥＭを捕捉する複数のフィルタ３と、クリーニングガス（空気）ＡＲ３を噴射するクリーニングガス噴射部４と、浄化空気ＡＲ２を排出する排出部５と、フィルタ３の温度に関連する温度を検出する温度検出部６１と、クリーニングガスＡＲ３の温度を調整する温度調整部７とを備える。また、図３に示すように、集塵装置１は、クリーニングガス噴射部４、温度検出部６１および温度調整部７と電気的に接続された制御部８も備える。以下、各部の構成について説明する。

【0013】

筐体２は、例えば本実施形態では円錐台形状をなし、その中心軸Ｏ２が鉛直方向に沿った姿勢で支持されている。この筐体２は、内部が隔壁部２３によって上下に２つの空間に区画されている。下側の空間は、異物含有ガスＡＲ１が通過する第１室２１である。上側の空間は、異物含有ガスＡＲ１から塵等の異物ＥＭが除去されて、浄化された異物除去ガスＡＲ２が通過する第２室２２である。
隔壁部２３は、筐体２の内部を上下に２つの空間に区画することの他に、各フィルタ３を支持する支持部としても機能する。各フィルタ３は、水平方向に沿って間隔を置いて配置されている。なお、フィルタ３の配置数については、特に限定されない。

【0014】

また、筐体２の底部２４は、テーパ状をなす。これにより、異物ＥＭが、後述するように落下してきた際、その異物ＥＭを底部２４の中央部に集中して集めることができる。そして、底部２４の中央部に集められた異物ＥＭは、筐体２から排出される。これにより、筐体２に異物ＥＭが残留するのを防止することができる。

【0015】

各フィルタ３は、第１室２１と第２室２２との間に配置されたろ過材である。各フィルタ３は、セラミックで構成されている。なお、フィルタ３の構成材料としては、セラミックの他に、例えば、金属、アルミナ、シリカ、ガラス等の耐熱材料（高温素材）を用いることができる。
各フィルタ３は、鉛直方向に沿った円筒状または角筒状をなし、上端部は第２室２２に開口し、下端部は閉塞している。そして、異物含有ガスＡＲ１がフィルタ３を外側から内側に向かって通過することにより、図１に示すように、異物含有ガスＡＲ１に含まれる異物ＥＭがフィルタ３に捕捉される。これにより、異物含有ガスＡＲ１から異物ＥＭを除去することができ、よって、異物除去ガスＡＲ２が生成される。このような状態（動作）を「通常使用状態（集塵状態）」と言う。

【0016】

また、筐体２には、筐体２の第１室２１に異物含有ガスＡＲ１を導入する導入管（導入流路）２８と、筐体２の第２室２２から異物除去ガスＡＲ２を排出する排出管（排出流路）５２とが接続されている。
導入管２８は、第１室２１に連通している。また、導入管２８は、筐体２と反対側で、焼却炉に接続されている。これにより、焼却炉で生じた異物含有ガスＡＲ１を、導入管２８を介して、筐体２の第１室２１内に供給することができる。

【0017】

排出管５２は、排出部５の一部であり、第２室２２に連通している。排出部５は、排出管５２の途中に設けられたポンプまたはファン（排風機）（図示せず）を有する。また、排出管５２は、その下流側で煙突（排気塔）５３と接続されている。
そして、ポンプまたはファン（排風機）が作動することにより、第２室２２内の異物除去ガスＡＲ２を、排出管５２、煙突５３を順に介して、迅速に排出することできる。

【0018】

図１に示すように、各フィルタ３は、異物ＥＭを捕捉した際、当該異物ＥＭがそのまま付着する場合がある。この場合、異物ＥＭの付着の程度によっては、フィルタ３に目詰まりが生じるおそれがある。集塵装置１では、クリーニングガス噴出部４により、フィルタ３の目詰まりを解消することができる。このような状態（動作）を「クリーニング状態（払落し状態）」と言う。クリーニングガス噴出部４は、フィルタ３を清掃するクリーニングガスＡＲ３を筐体２内に導入する導入管４２を有する。
導入管４２は、筐体２の第２室２２内に挿入されている。導入管４２は、筐体２と反対側で、クリーニングガス供給管４３と接続されている。これにより、クリーニングガスＡＲ３は、圧縮空気として、導入管４２を通過することができる。

【0019】

導入管４２は、各フィルタ３に臨むノズル４２１を有する。図２に示すように、各ノズル４２１は、導入管４２を通過してきたクリーニングガスＡＲ３を、当該ノズル４２１に対向するフィルタ３の内側に向けて噴出することができる。これにより、フィルタ３に付着した異物ＥＭを、フィルタ３の外側に吹き飛ばして離脱させることができ、よって、フィルタ３の目詰まりを解消することができる。
なお、フィルタ３から離脱した異物ＥＭは、筐体２の第１室２１内を落下していき、筐体２の底部２４に到達する。その後、異物ＥＭは、底部２４の中央部に集められて、筐体２から排出される。

【0020】

このように、集塵装置１では、フィルタ３に異物ＥＭが付着して、フィルタ３に目詰まりが生じた際、フィルタ３に対して、第２室２２側から第１室２１側に向かうクリーニングガスＡＲ３を噴出することができる。これにより、クリーニング状態となって、フィルタ３の目詰まりを解消することができ、よって、その後の通常使用状態を安定して継続することができる。

【0021】

図３に示すように、制御部８は、クリーニングガス噴射部４、温度検出部６１および温度調整部７と電気的に接続されており、これらの作動を制御する。制御部８は、ＣＰＵ８１と、記憶部８２とを有する。ＣＰＵ８１は、例えば、記憶部８２に予め記憶されている制御プログラムを実行することができる。制御プログラムには、例えば、集塵装置１が通常使用状態となるためのプログラムや集塵装置１がクリーニング状態となるためのプログラム等が含まれる。

【0022】

前述したように、通常使用状態では、異物含有ガスＡＲ１は、各フィルタ３を外側から内側に向かって通過する。このときの異物含有ガスＡＲ１は、一般的に約１７０度以上の高温状態となっている。従って、各フィルタ３は、異物含有ガスＡＲ１が通過する際に、異物含有ガスＡＲ１に接するため、この高温状態の異物含有ガスＡＲ１で加熱されることとなる。

【0023】

また、クリーニング状態では、各フィルタ３は、クリーニングガスＡＲ３が吹き付けられる。従って、通常使用状態で加熱されていた各フィルタ３は、クリーニング状態でクリーニングガスＡＲ３に接する。そのため、各フィルタ３は、クリーニングガスＡＲ３による温度変化が伴う。
例えばクリーニングガスＡＲ３が常温である場合、温度変化が著しくなり、それが起因となって、各フィルタ３は、劣化し易くなるおそれがある。

【0024】

そこで、集塵装置１では、このような不具合を解消可能に構成されている。以下、この構成および作用について説明する。
図１、図２に示すように、集塵装置１は、温度検出部６１と、温度調整部７とを備える。

【0025】

温度検出部６１は、フィルタ３の温度に関連する温度を検出する温度センサ（サーミスタ）である。
温度検出部６１は、本実施形態では、例えば排出管５２のできる限り筐体２に近い部分に配置、固定されている。これにより、温度検出部６１は、フィルタ３の温度に関連する温度として、排出管５２を通過する異物除去ガスＡＲ２の温度を検出することができる。

【0026】

異物除去ガスＡＲ２は、異物含有ガスＡＲ１が各フィルタ３を通過して、異物含有ガスＡＲ１から異物ＥＭが除去された状態のガスであり、フィルタ３の温度に影響を与える異物含有ガスＡＲ１の一部を構成している。従って、異物除去ガスＡＲ２の温度は、フィルタ３の温度に関連する温度として、十分に採用することができる。

【0027】

温度調整部７は、温度検出部６１の検出結果に基づいて、クリーニングガスＡＲ３の温度を調整する装置である。温度調整部７は、クリーニングガスＡＲ３を一時的に貯留する第１貯留部７１および第２貯留部７２と、クリーニングガスＡＲ３を加熱する加熱部７３とを有する。

【0028】

第１貯留部７１と第２貯留部７２とは、クリーニングガスＡＲ３をそれぞれ独立して貯留するタンクである。第１貯留部７１は、その上流側で接続管７４１を介して、クリーニングガスＡＲ３の供給源４４と接続されており、第２貯留部７２は、その上流側で接続管７４２を介して、供給源４４と接続されている。これにより、第１貯留部７１および第２貯留部７２にクリーニングガスＡＲ３を供給して、一時的に貯留することができる。

【0029】

また、第１貯留部７１は、その下流側で接続管７４３を介して、クリーニングガス供給管４３と接続されており、第２貯留部７２は、その下流側で接続管７４４を介して、クリーニングガス供給管４３と接続されている。クリーニングガス供給管４３により、図２に示すように、第１貯留部７１および第２貯留部７２に貯留されたクリーニングガスＡＲ３を、導入管４２に送り出すことができる。

【0030】

接続管７４３の途中には、第１切換弁７７１が設けられ、接続管７４４の途中には、第２切換弁７７２が設けられている。
第１切換弁７７１と第２切換弁７６２とは、いずれも、クリーニングガスＡＲ３の通過と遮断と切り換える電磁弁である。これにより、クリーニングガスＡＲ３を第１貯留部７１から得るのか、または、第２貯留部７２から得るのかを選択することができる。

【0031】

加熱部７３は、第１貯留部７１の外周部に螺旋状に巻回された第１螺旋管７３１と、第１貯留部７１内に設けられた第１電熱体７３２と、第２貯留部７２の外周部に螺旋状に巻回された第２螺旋管７３３と、第２貯留部７２内に設けられた第２電熱体７３４とを有する。
第１螺旋管７３１と第２螺旋管７３３とは、それぞれ、上流側で接続管７５１を介して、排出管５２と接続されており、下流側で接続管７５２を介して、排出管５２と接続されている。

【0032】

これにより、図１に示すように、接続管７５１を介して、異物除去ガスＡＲ２を第１螺旋管７３１と第２螺旋管７３３とに供給することができる。前述したように、異物除去ガスＡＲ２は、高温状態にある。これにより、異物除去ガスＡＲ２は、第１螺旋管７３１を通過する過程で、第１貯留部７１ごとクリーニングガスＡＲ３を加熱することができる。同様に、異物除去ガスＡＲ２は、第２螺旋管７３３を通過する過程で、第２貯留部７２ごとクリーニングガスＡＲ３を加熱することができる。

【0033】

そして、加熱に供された異物除去ガスＡＲ２は、接続管７５２を介して、排出管５２に戻される。
このように、加熱部７３は、第１貯留部７１および第２貯留部７２内のクリーニングガスＡＲ３を加熱可能に構成されている。そして、その加熱に、異物除去ガスＡＲ２の熱を用いることができる。これにより、異物除去ガスＡＲ２の熱を無駄なく有効に利用することできる。

【0034】

また、第１螺旋管７３１と接続管７５１との間には、第１切換弁７６１が設けられ、第２螺旋管７３３と接続管７５１との間には、第２切換弁７６２が設けられている。
第１切換弁７６１は、異物除去ガスＡＲ２の通過と遮断と切り換える電磁弁（絞り弁）であり、第１螺旋管７３１への異物除去ガスＡＲ２の供給量を調整することができる。
同様に、第２切換弁７６２も、異物除去ガスＡＲ２の通過と遮断と切り換える電磁弁（絞り弁）であり、第２螺旋管７３３への異物除去ガスＡＲ２の供給量を調整することができる。

【0035】

第１電熱体７３２は、通電により発熱するヒータであり、第１貯留部７１内のクリーニングガスＡＲ３を加熱することができる。
同様に、第２電熱体７３４も通電により発熱するヒータであり、第２貯留部７２内のクリーニングガスＡＲ３を加熱することができる。

【0036】

以上のような構成の加熱部７３では、第１螺旋管７３１への異物除去ガスＡＲ２の供給量と、第１電熱体７３２の発熱量との組み合わせにより、第１貯留部７１内のクリーニングガスＡＲ３を第１温度範囲内で加熱することができる。また、第２螺旋管７３２への異物除去ガスＡＲ２の供給量と、第２電熱体７３４の発熱量との組み合わせにより、第２貯留部７２内のクリーニングガスＡＲ３を、第１温度範囲と異なる第２温度範囲内で加熱することができる。本実施形態では、一例として、「（第１温度範囲）＜（第２温度範囲）」なる関係を満足することとする。

【0037】

異物含有ガスＡＲ１は、一般的に約１７０度の高温状態で筐体２内に流入してくるが、その温度は常に一定に維持されておらず、約±１０度の範囲で変化している。従って、異物除去ガスＡＲ２も温度が変化する。
制御部８は、温度検出部６１で検出された異物除去ガスＡＲ２の温度を得、その温度が閾値（例えば１７０度以上とする）よりも低い第１温度か、または、閾値以上の第２温度であるか否かを判断する。

【0038】

そして、例えば異物除去ガスＡＲ２の温度が第１温度の場合にクリーニング状態とする際には、前記第１温度範囲内で加熱されたクリーニングガスＡＲ３を導入管４２から各フィルタ３に噴射する。
また、異物除去ガスＡＲ２の温度が第２温度の場合にクリーニング状態とする際には、前記第２温度範囲内で加熱されたクリーニングガスＡＲ３を導入管４２から各フィルタ３に噴射する。

【0039】

このように集塵装置１では、異物含有ガスＡＲ１の温度に応じて、クリーニングガスＡＲ３の温度を調整することができる。これにより、異物含有ガスＡＲ１とクリーニングガスＡＲ３との温度差、すなわち、双方の温度の乖離をできる限り解消することができる。
これにより、異物含有ガスＡＲ１とクリーニングガスＡＲ３とに接する各フィルタ３が、双方のガスの温度差を起因として劣化するのを防止することができる。
なお、上記は一例である。例えば加熱部７３は、第１貯留部７１のみで構成され、クリーニングガスＡＲ３を加熱可能に構成されていてもよい。この場合、クリーニングガス供給管４３から導入管４２に至る経路の途中で別の加熱部や別の冷却部を備えることで、異物含有ガスＡＲ１の温度に応じてクリーニングガスＡＲ３の温度を調整してもよい。

【0040】

＜第２実施形態＞
以下、図４を参照して本発明の集塵装置の第２実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。

【0041】

図４に示すように、本実施形態では、集塵装置１は、流量検出部６２に代えて、異物除去ガスＡＲ２に含まれる水分量を検出する水分量検出部６３を備える。水分量検出部６３は、例えば赤外線水分計で構成され、制御部８と電気的に接続されている。
ここで、単に温度検出部６１の検出結果に基づいて、クリーニングガスＡＲ３の温度を調整した場合を考えてみる。この場合、クリーニングガスＡＲ３をフィルタ３に噴射すると、フィルタ３が露点に達して、異物含有ガスＡＲ１（異物除去ガスＡＲ２）に含まれる水分がフィルタ３上で結露するおそれがある。

【0042】

そこで、温度調整部７は、温度検出部６１の検出結果と、水分量検出部６３の検出結果とに基づいて、クリーニングガスＡＲ３の温度を調整する。すなわち、温度調整部７は、水分量検出部６３の検出結果によって、水分量が多い場合は結露が発生し易いために温度調整部７によってクリーニングガスＡＲ３の温度を上げる。これとは反対に、水分量が少ない場合は、結露が発生しにくいために、温度調整部７による温度を一定あるいは低めることで結露の発生を抑制することができる。これにより、フィルタ３上での結露の発生を防止することができる。
なお、水分量検出部６３としては、図４に示すものに限定されず、例えば、煙突５３に予め設置されているものを用いることもできる。

【0043】

＜第３実施形態＞
以下、図５を参照して本発明の集塵装置の第３実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。

【0044】

図５に示すように、本実施形態では、集塵装置１は、異物除去ガスＡＲ２に含まれる成分量を検出する成分量検出部６４を備える。成分量検出部６４は、例えば分光分析により成分量を検出するよう構成され、制御部８と電気的に接続されている。なお、異物除去ガスＡＲ２に含まれる成分としては、例えば、硫黄成分、塩素成分等がある。
成分量検出部６４は、本実施形態では、排出管５２の途中から分岐する分岐管５４の端部に配置、固定されている。

【0045】

ここで、単に温度検出部６１の検出結果に基づいて、クリーニングガスＡＲ３の温度を調整した場合を考えてみる。この場合、クリーニングガスＡＲ３をフィルタ３に噴射すると、フィルタ３が酸露点に達して、硫酸や塩酸が発生し、筐体２等を腐食させるおそれがある。

【0046】

そこで、温度調整部７は、温度検出部６１の検出結果と、成分量検出部６４の検出結果とに基づいて、クリーニングガスＡＲ３の温度を調整する。すなわち、温度調整部７は、成分量検出部６４の検出結果によって、成分量が多い場合は、温度調整部７によってクリーニングガスＡＲ３の温度を上げる。これによって、フィルタ３が酸露点に達しにくくなり、硫酸や塩酸が発生することを抑制できる。これにより、筐体２等の腐食を防止することができる。
なお、成分量検出部６４としては、図５に示すものに限定されず、例えば、筐体２の第１室２１内に設置されていてもよい。

【0047】

＜第４実施形態＞
以下、図６を参照して本発明の集塵装置の第４実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。

【0048】

図６に示すように、本実施形態では、集塵装置１は、異物除去ガスＡＲ２の流量を検出する流量検出部６２を備える。流量検出部６２は、例えば超音波式流量計または電磁式流量計で構成され、制御部８と電気的に接続されている。
流量検出部６２は、本実施形態では、例えば温度検出部６１に対向して（隣り合って）配置、固定されている。これにより、温度検出部６１と同条件で、異物除去ガスＡＲ２の流量を検出することができる。

【0049】

例えば、温度検出部６１の温度が所定の温度（例えば１７０℃）である場合に、異物除去ガスＡＲ２の流量が少なすぎて熱量低下となり、集塵装置１の筐体２からの放熱で、図６で示す左右のフィルタ３の温度（筐体２の壁に近い方のフィルタ３）が中央のフィルタ３に比べて温度低下を受ける。
このような状態になると、クリーニングエアＡＲ３で異物ＥＭを除去しようとしても、フィルタ３および異物ＥＭ自体が冷えているので、異物ＥＭが落とされにくくなる可能性がある。
そこで、異物除去ガスＡＲ２の流量が少ないと流量検出部６２で検出された場合は、温度調整部７の温度を高めることでフィルタ３の異物を落とし易くする。これにより、フィルタ３の温度そのものを高めることができ、筐体２に近い左右のフィルタ３がクリーニングエアＡＲ３で異物ＥＭを除去する機能を損なうことを抑制する。
これにより、異物除去ガスＡＲ２の流量の多少に関わらず（影響を受けずに）、クリーニングガスＡＲ３の温度を正確に調整することができる。

【0050】

＜第５実施形態＞
以下、図７を参照して本発明の集塵装置の第５実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。

【0051】

図７に示すように、本実施形態では、集塵装置１は、触媒を有する触媒部９１と、触媒部９１（触媒）を加熱する加熱部９２とを備える。
触媒部９１は、排出管５２の温度検出部６１と接続管７５１との間に設置されたフィルタであり、異物除去ガスＡＲ２が通過することができる。

【0052】

加熱部９２は、例えば通電により発熱するヒータで構成され、制御部８と電気的に接続されている。なお、加熱部９２としては、ヒータの他に、例えば、スチーム機等のように、高温ガスの熱を交換する熱交換機等を用いることができる。
異物除去ガスＡＲ２は、触媒部９１を通過する際に、加熱部９２で加熱された触媒に接することにより、さらに浄化される。
また、異物除去ガスＡＲ２は、触媒部９１を通過過程で加熱され、温度がさらに上昇する。そして、この異物除去ガスＡＲ２の一部は、接続管７５１に流入して、クリーニングガスＡＲ３の加熱に用いられる。

【0053】

このように、本実施形態では、触媒部９１に接した後の異物除去ガスＡＲ２の熱をクリーニングガスＡＲ３の加熱に用いることができる。これにより、異物除去ガスＡＲ２の熱を無駄なく有効に利用して、クリーニングガスＡＲ３を安価に、また、さらに高温に加熱することができる。

【0054】

以上、本発明の集塵装置を図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、集塵装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。
また、本発明の集塵装置は、前記各実施形態のうちの、任意の２以上の構成（特徴）を組み合わせたものであってもよい。

【0055】

温度検出部６１は、前記各実施形態では、フィルタ３の温度に関連する温度を検出するよう構成されているが、これに限定されない。例えば、温度検出部６１は、フィルタ３自体の温度を検出するよう構成されていてもよいし、フィルタ３の温度、および、フィルタ３の温度に関連する温度の双方を検出するよう構成されていてもよい。

【0056】

温度検出部６１がフィルタ３自体の温度を検出する場合には、その温度検出部６１として、例えば、サーモグラフィを用いることができる。
また、温度検出部６１がフィルタ３の温度、および、フィルタ３の温度に関連する温度の双方を検出する場合には、温度検出部６１の検出結果として、これらの平均温度、または、これらの温度のうちの高い方の温度を採用することができる。そして、温度調整部７は、この温度検出部６１の検出結果に基づいて、クリーニングガスＡＲ３の温度を調整することとなる。

【0057】

また、温度検出部６１は、フィルタ３の骨部にあたるリテーナに直接設置されていてもよい。
また、温度検出部６１は、導入管２８と導入管２８とに設置されていてもよい。この場合、導入管２８に設けた温度検出部６１と、排出管５２に設けられた温度検出部６１との値に基づいて、フィルタ３の温度を予測することができる。
また、フィルタ３の温度に関連する温度としては、導入管２８の温度を用いてもよいし、筐体２内部の温度を用いてもよい。

【0058】

また、温度調整部７は、前記各実施形態では、クリーニングガスＡＲ３を一時的に貯留する貯留部を２つ有するが、貯留部の設置数は、２つに限定されず、例えば、１つまたは３つ以上であってもよい。

【符号の説明】

【0059】

１ 集塵装置
２ 筐体
２１ 第１室
２２ 第２室
２３ 隔壁部
２４ 底部
２８ 導入管（導入流路）
３ フィルタ
４ クリーニングガス噴射部
４２ 導入管
４３ クリーニングガス供給管
４４ 供給源
５ 排出部
５２ 排出管（排出流路）
５３ 煙突（排気塔）
５４ 分岐管
６１ 温度検出部
６２ 流量検出部
６３ 水分量検出部
６４ 成分量検出部
７ 温度調整部
７１ 第１貯留部
７２ 第２貯留部
７３ 加熱部
７３１ 第１螺旋管
７３２ 第１電熱体
７３３ 第２螺旋管
７３４ 第２電熱体
７４１ 接続管
７４２ 接続管
７４３ 接続管
７４４ 接続管
７５１ 接続管
７５２ 接続管
７６１ 第１切換弁
７６２ 第２切換弁
７７１ 第１切換弁
７７２ 第２切換弁
８ 制御部
８１ ＣＰＵ
８２ 記憶部
９１ 触媒部
９２ 加熱部
ＡＲ１ 異物含有ガス（含塵空気）
ＡＲ２ 異物除去ガス（浄化空気）
ＡＲ３ クリーニングガス（空気）
ＥＭ 異物
Ｏ２ 中心軸

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】