特許 7556927出願番号特願 2022-199852
基板処理装置及び方法

出願人ピコサン　オーワイ（識別番号 510275024）

2026年特許公開件数ランキング 2315位 7件（※）

2026年特許取得件数ランキング 8511位 1件（※）

公報発行日　2024年9月26

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7556927　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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概して基板処理装置及び方法に関する。より詳細には、本発明は化学堆積リアクター又はエッチングリアクターに関する。ただしそれに限られない。

以下、添付図面を参照しながら例を用いて本発明を説明する。

【図1】ある実施例に従う基板処理装置の、基板処理段階における略断面図である。

【図2】ある実施例に従う、基板装填段階における図１の基板処理装置を示す。反応室の下側部分が中間位置にある。

【図3】ある実施例に従う、基板装填段階における図１の基板処理装置を示す。反応室の下側部分が最低位置にある。

【図4】ある実施例に従う、図１の装置のためのエレベーター装置の略断面図である。

【図5】ある実施例に従う、ピン及びエレベーター取付ポイントの位置を示す上面図である。

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