特許 7557329 位置決め装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-09-18

(45)【発行日】2024-09-27

(54)【発明の名称】位置決め装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 9/00 20060101AFI20240919BHJP

   G03F 7/20 20060101ALI20240919BHJP

   H01L 21/68 20060101ALI20240919BHJP

   G05D 3/00 20060101ALI20240919BHJP

【ＦＩ】

G03F9/00 H

G03F7/20 521

H01L21/68 K

H01L21/68 F

G05D3/00 Q

【請求項の数】 22

(21)【出願番号】P 2020170031

(22)【出願日】2020-10-07

(65)【公開番号】P2022061834

(43)【公開日】2022-04-19

【審査請求日】2023-09-26

(73)【特許権者】

【識別番号】000001007

【氏名又は名称】キヤノン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003281

【氏名又は名称】弁理士法人大塚国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】寺尾 勉

【審査官】坂上 大貴

(56)【参考文献】

【文献】特開２００９－０７１１７８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００４－１３４４５６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０３Ｆ ７／００－７／２４

９／００－９／０２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

物体を位置決めする位置決め装置であって、
ビームと、
第１方向に沿って互いに平行に配置され、前記ビームを前記第１方向に移動させるための第１アクチュエータ及び第２アクチュエータと、
前記ビームに内蔵され、前記ビームに対して前記物体を前記第１方向と交差する第２方向に移動させるための第３アクチュエータと、
前記第１アクチュエータ、前記第２アクチュエータ及び前記第３アクチュエータを制御する制御部と、
を有し、
前記ビームは、前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータに跨いで繋がれており、
前記制御部は、前記物体を前記第２方向における第１目標位置に移動させるために前記第３アクチュエータに与える第１操作量から、前記物体の前記第１目標位置への移動によって前記ビームに生じる回転を低減させるために前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのそれぞれに与える互いに異なる第１補正操作量を求め、前記第１操作量を前記第３アクチュエータに与えるとともに、前記互いに異なる第１補正操作量を前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのそれぞれに与えて前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータをフィードフォワード制御することを特徴とする位置決め装置。

【請求項2】

前記互いに異なる第１補正操作量は、前記第１方向において、前記物体を逆方向に移動させる操作量であることを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。

【請求項3】

前記制御部は、
前記第１操作量から、前記回転の主成分に対応する特定の周波数を抽出して出力するバンドパスフィルタを含み、
前記バンドパスフィルタの出力から、前記互いに異なる第１補正操作量を求めることを特徴とする請求項１又は２に記載の位置決め装置。

【請求項4】

前記ビームの回転を計測する計測部を更に有し、
前記制御部は、前記第１操作量を前記第３アクチュエータに与えた後に前記計測部で計測された前記回転から、当該回転を低減させるために前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータに与える互いに異なる第２補正操作量を求め、前記互いに異なる第２補正操作量を前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのそれぞれに与えて前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータをフィードバック制御することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の位置決め装置。

【請求項5】

前記制御部は、前記物体を前記第１方向における第２目標位置に移動させるために前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのそれぞれに与える第２操作量から、前記物体の前記第２目標位置への移動によって前記ビームに生じる回転を低減させるために前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのそれぞれに与える互いに異なる第３補正操作量を求め、前記第２操作量とともに、前記互いに異なる第３補正操作量を前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのそれぞれに与えて前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータをフィードフォワード制御することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の位置決め装置。

【請求項6】

前記ビームに対して、前記ビームに配置されたスライダに設けられたステージを前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿った２つの軸で規定される平面内で回転させるための第４アクチュエータを更に有し、
前記制御部は、前記ステージを前記平面内における目標回転位置に回転させるために前記第４アクチュエータに与える第３操作量から、前記ステージの前記目標回転位置への移動によって前記ビームに生じる回転を低減させるために前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのそれぞれに与える互いに異なる第４補正操作量を求め、前記第３操作量を前記第４アクチュエータに与えるとともに、前記互いに異なる第４補正操作量を前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのそれぞれに与えて前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータをフィードフォワード制御することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の位置決め装置。

【請求項7】

前記制御部は、
前記第１アクチュエータ、前記第２アクチュエータ及び前記第３アクチュエータのそれぞれの推力の変動を補正するための推力補正テーブルを含み、
前記物体を移動させている間、前記推力補正テーブルに基づいて、前記第１アクチュエータ、前記第２アクチュエータ及び前記第３アクチュエータのそれぞれの推力の変動を補正することを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の位置決め装置。

【請求項8】

前記推力補正テーブルは、前記第１アクチュエータ、前記第２アクチュエータ及び前記第３アクチュエータのそれぞれに与える操作量から生成されることを特徴とする請求項７に記載の位置決め装置。

【請求項9】

前記第１アクチュエータ、前記第２アクチュエータ及び前記第３アクチュエータのそれぞれに与える操作量は、前記物体を一定の加速度で移動させたときの等加速期間の操作量及び等減速期間の操作量を含むことを特徴とする請求項８に記載の位置決め装置。

【請求項10】

前記推力補正テーブルは、前記第１アクチュエータ、前記第２アクチュエータ及び前記第３アクチュエータのそれぞれに与える操作量の振幅が小さくなるように調整されていることを特徴とする請求項９に記載の位置決め装置。

【請求項11】

前記第１アクチュエータに対する推力補正テーブルは、前記第１アクチュエータのみで前記物体を前記第１方向に移動させる際に、前記第１アクチュエータに与える操作量から生成されることを特徴とする請求項８に記載の位置決め装置。

【請求項12】

前記第２アクチュエータに対する推力補正テーブルは、前記第２アクチュエータのみで前記物体を前記第１方向に移動させる際に、前記第２アクチュエータに与える操作量から生成されることを特徴とする請求項８に記載の位置決め装置。

【請求項13】

前記制御部は、前記物体の前記第１目標位置への移動によって前記ビームに生じる回転の計測結果に基づいて、前記互いに異なる第１補正操作量を求めるためのゲイン及び比率を決定することを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。

【請求項14】

前記物体を保持し、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿った２つの軸で規定される平面内で回転可能なステージと、
前記ステージの回転を計測する計測部と、
を更に有し、
前記制御部は、前記ステージが前記ビームに拘束された状態において前記計測部で得られる計測結果に基づいて、前記ゲイン及び前記比率を決定することを特徴とする請求項１３に記載の位置決め装置。

【請求項15】

前記制御部は、前記物体の前記第１目標位置への移動に起因する、前記第１方向における前記物体の位置の制御偏差に基づいて、前記互いに異なる第１補正操作量を求めるためのゲイン及び比率を決定することを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。

【請求項16】

前記第１方向と前記第２方向とは直交していることを特徴とする請求項１乃至１５のうちいずれか１項に記載の位置決め装置。

【請求項17】

前記制御部は、前記第１アクチュエータ、及び前記第２アクチュエータのそれぞれに操作量を与えて前記ビームを目標位置に移動させるように前記第１アクチュエータ、及び前記第２アクチュエータを制御し、前記第３アクチュエータに操作量を与えて前記物体を目標位置に移動させるように前記第３アクチュエータを制御することを特徴とする請求項１乃至１６のうちいずれか１項に記載の位置決め装置。

【請求項18】

物体を位置決めする位置決め装置であって、
ビームと、
前記ビームを第１方向に移動させるための第１アクチュエータと、
前記ビームに内蔵され、前記ビームに対して前記物体を前記第１方向と交差する第２方向に移動させるための第２アクチュエータと、
前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータを制御する制御部と、
を有し、
前記ビームは、前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータに跨いで繋がれており、
前記制御部は、前記物体を前記第２方向における第１目標位置に移動させるために前記第２アクチュエータに与える操作量から、前記物体の前記第１目標位置への移動によって前記ビームに生じる前記第２方向以外の方向の変位を低減させるために前記第１アクチュエータに与える補正操作量を求め、前記操作量を前記第２アクチュエータに与えるとともに、前記補正操作量を前記第１アクチュエータに与えて前記第１アクチュエータをフィードフォワード制御することを特徴とする位置決め装置。

【請求項19】

前記制御部は、前記第１アクチュエータに操作量を与えて前記ビームを目標位置に移動させるように前記第１アクチュエータを制御し、前記第２アクチュエータに操作量を与えて前記物体を目標位置に移動させるように前記第２アクチュエータを制御することを特徴とする請求項１８に記載の位置決め装置。

【請求項20】

基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を物体として位置決めする請求項１乃至１９のうちいずれか１項に記載の位置決め装置を有することを特徴とするリソグラフィ装置。

【請求項21】

原版を介して基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記原版を物体として位置決めする請求項１乃至１９のうちいずれか１項に記載の位置決め装置を有することを特徴とするリソグラフィ装置。

【請求項22】

請求項２０又は２１に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、位置決め装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

近年の半導体素子の急速な高集積度化に伴い、半導体素子の製造に用いられる露光装置などのリソグラフィ装置に要求される位置決め精度も高まりつつある。また、リソグラフィ装置では、スループットを向上させるため、高精度な位置決めをより高速に行わなければならない。

【0003】

このようなリソグラフィ装置に好適な位置決め装置に関する技術が従来から提案されている（特許文献１及び２参照）。特許文献１には、２つの平行するＹアクチュエータに対して、Ｘアクチュエータを内蔵するＸビームを繋いだ（横渡しした）構成のＨ形ステージ装置と呼ばれる位置決め装置が開示されている。かかる位置決め装置では、Ｘ方向の位置に起因する重心まわりの回転変位を計測し、２つのＹアクチュエータの分配率をリアルタイムに計算するフィードバック制御を行うことで、Ｘ方向及びＹ方向の移動に起因するヨーイング振動を抑制している。

【0004】

また、特許文献２には、ステージの位置や姿勢による軸間の干渉や外乱を抑制するために、各軸間の非干渉化指令を位置や速度に応じて切り替えながら与える技術が開示されている。かかる技術によれば、Ｘ方向への移動やＹ方向への移動によって生じるモーメントに対して、ＸＹステージ、及び、ＸＹステージ上のθｚステージ（回転ステージ）の振動が抑制される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【文献】特開平６－１６３３５９号公報

【文献】特開平８－３１４５１７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

物体の移動においては、物体の重心と力点とのずれによって、移動方向とは異なる方向へのモーメントが生じる。従って、高精度な位置決め装置では、物体の重心と力点とを合わせ、物体の移動によって生じるモーメントを抑えるようにしている。しかしながら、軽量化、配置上の制約、製造公差などによって、物体の重心と力点とを厳密な意味で合わせることはできない。このため、移動する主軸だけではなく、移動していない他の軸にも振動が伝達される。

【0007】

このような他軸干渉による振動の抑制に対して、特許文献１及び２に開示された技術は有効である。但し、特許文献１に開示された技術では、センサを用いてＸビームのヨーイング振動を検出し、かかる振動をフィードバック制御によって抑制しているため、応答遅れが生じてしまう。また、特許文献２に開示された技術では、θｚステージの振動を抑えることはできるが、２つのＹアクチュエータを繋いでいるＸビームのヨーイング振動を抑えることはできない。特に、近年では、露光装置などのリソグラフィ装置において、精度とスループットとが向上しているため、Ｘビームのヨーイング振動の影響が装置の性能として顕在化してきている。

【0008】

本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、高精度な位置決めを実現するのに有利な位置決め装置を提供することを例示的目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての位置決め装置は、物体を位置決めする位置決め装置であって、ビームと、第１方向に沿って互いに平行に配置され、前記ビームを前記第１方向に移動させるための第１アクチュエータ及び第２アクチュエータと、前記ビームに内蔵され、前記ビームに対して前記物体を前記第１方向と交差する第２方向に移動させるための第３アクチュエータと、前記第１アクチュエータ、前記第２アクチュエータ及び前記第３アクチュエータを制御する制御部と、を有し、前記ビームは、前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータに跨いで繋がれており、前記制御部は、前記物体を前記第２方向における第１目標位置に移動させるために前記第３アクチュエータに与える第１操作量から、前記物体の前記第１目標位置への移動によって前記ビームに生じる回転を低減させるために前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのそれぞれに与える互いに異なる第１補正操作量を求め、前記第１操作量を前記第３アクチュエータに与えるとともに、前記互いに異なる第１補正操作量を前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータのそれぞれに与えて前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータをフィードフォワード制御することを特徴とする。

【0010】

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。

【発明の効果】

【0011】

本発明によれば、例えば、高精度な位置決めを実現するのに有利な位置決め装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】本発明の一側面としての位置決め装置の構成を示す概略図である。

【図2】本発明の一側面としての位置決め装置の構成を示す概略図である。

【図3】本実施形態におけるＸビームのヨーイング振動（回転）の低減を説明するための図である。

【図4】本実施形態における各アクチュエータの制御を説明するための図である。

【図5】本実施形態における各アクチュエータの制御を説明するための図である。

【図6】本実施形態における各アクチュエータの制御を説明するための図である。

【図7】推力補正テーブルの一例を示す図である。

【図8】Ｘビームの回転情報の一例を示す図である。

【図9】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。更に、添付図面においては、同一もしくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

【0014】

図１及び図２は、本発明の一側面としての位置決め装置１００の構成を示す概略図である。図１は、位置決め装置１００を構成する第１ステージＳＧ１を説明するための図であって、図２は、位置決め装置１００を構成する第２ステージＳＧ２を説明するための図である。位置決め装置１００は、物体を位置決めする機能を有し、図１に示すように、ＸＹアクチュエータがＨ形に配置されたステージ装置、所謂、Ｈ形ステージ装置として具現化される。位置決め装置１００は、例えば、基板Ｓを露光する露光装置において、かかる基板Ｓを位置決めする位置決め装置として好適である。本実施形態では、Ｘビーム１に平行な方向をＸ方向（第１方向に交差する第２方向）とし、Ｘビーム１に直交する方向をＹ軸としている。

【0015】

ＹＬアクチュエータ３－１（第１アクチュエータ）とＹＲアクチュエータ３－２（第２アクチュエータ）とは、Ｙ方向（第１方向）に沿って互いに平行に配置されている。ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２は、Ｘビーム１をＹ方向に移動させるためのアクチュエータである。

【0016】

Ｘビーム１は、Ｘアクチュエータ１－１（第３アクチュエータ）を内蔵し、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２に跨いで繋がれている（横渡ししている）。換言すれば、Ｘビーム１の両側に、Ｘビーム１に対して垂直に２つのアクチュエータ、即ち、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２が配置されている。また、Ｘビーム１に沿って、Ｘスライダ２（物体）がＸビーム１に対して非接触で移動可能なように、Ｘスライドエアガイド５が設けられている。Ｘアクチュエータ１－１は、Ｘビーム１に対してＸスライダ２をＸ方向（第１方向に交差する第２方向）に移動させるためのアクチュエータである。

【0017】

第１ステージＳＧ１の上には、図２に示すように、基板Ｓを保持する第２ステージＳＧ２（物体）が非接触で搭載されている。第２ステージＳＧ２は、第１ステージＳＧ１の上において、ラジアルエアガイド４のギャップ内で、Ｚ方向、チルト方向、回転方向に移動可能なステージである。これにより、位置決め装置１００は、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向、θｘ方向、θｙ方向、θｚ方向の６軸に移動可能な構成となる。

【0018】

第２ステージＳＧ２には、Ｘバーミラー８－２及びＹバーミラー９－２が設けられている。また、Ｘバーミラー８－２に対してＸレーザ干渉計８－２が設けられ、Ｙバーミラー９－２に対してＹレーザ干渉計９－１及びＹ－Ｙａｗ干渉計１０が設けられている。これにより、第２ステージＳＧ２に関するＸ方向の位置、Ｙ方向の位置及びＺ軸周りの回転θｚを計測することができる。また、Ｘレーザ干渉計８－２に対してＺ方向において異なる位置に配置されたＸピッチレーザ干渉計（不図示）によって、第２ステージＳＧ２に関するＹ軸周りの回転θｙが計測される。同様に、Ｙレーザ干渉計９－１に対してＺ方向において異なる位置に配置されたＹピッチレーザ干渉計（不図示）によって、第２ステージＳＧ２に関するＸ軸周りの回転θｙが計測される。更に、第２ステージＳＧ２から第１ステージＳＧ１に関するＺ方向の位置やチルトを計測する３つのＺエンコーダが設けられている。

【0019】

本実施形態では、第１ステージＳＧ１から、第２ステージＳＧ２に対して、θｚ用モータ６（第４アクチュエータ）を介して、Ｚ軸周りに回転させる（θｚ駆動を行う）。θｚ用モータ６は、Ｘスライダ２に設けられている第２ステージＳＧ２を、Ｙ方向及びＸ方向のそれぞれに沿った２つの軸（Ｙ軸及びＸ軸）で規定される平面内（ＸＹ面内）で回転させるためのアクチュエータである。従って、第２ステージＳＧ２は、ＸＹ面内で回転可能なステージとして機能する。また、３つのＺ用モータ（不図示）が設けられており、Ｚ方向に移動させたり、Ｘ軸周り及びＹ軸周りに回転させたりする（θｘ駆動及びθｙ駆動を行う）ことが可能である。

【0020】

制御部ＣＵは、ＣＰＵやメモリなどを含む情報処理装置（コンピュータ）で構成され、記憶部に記憶されたプログラムに従って、位置決め装置１００の全体を制御する。制御部ＣＵは、本実施形態では、ＹＬアクチュエータ３－１、ＹＲアクチュエータ３－２、Ｘアクチュエータ１－１などを制御する。以下、制御部ＣＵによるＹＬアクチュエータ３－１、ＹＲアクチュエータ３－２及びＸアクチュエータ１－１の制御について具体的に説明する。

【0021】

位置決め装置１００において、矢印ＡＲ１に示すように、Ｘスライダ２をＸ方向、具体的には、Ｘ軸プラス方向に移動させる場合を考える。また、第２ステージＳＧ２を含めたＸＹ可動部の重心１０１と、Ｘアクチュエータ１－１の力点からの反力１０２との間に、重心ずれ１０３が生じているものとする。

【0022】

この場合、Ｘスライダ２をＸ軸プラス方向に移動させることに起因して、図１に示すように、時計回りのモーメント１０４がＸビーム１に対して生じる。また、Ｘビーム１に生じたモーメント１０４によって、Ｘビーム１は、図３（ａ）に示すように、時計回りに回転する。このようなＸビーム１の回転、所謂、ヨーイング振動は、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２の可動子の外側から挟み込むようにＹスライダエアガイド１２でＸビーム１が拘束されているため、時間とともにガイドの中立点に戻る。但し、Ｙスライダエアガイド１２による拘束では減衰率が低く、ヨーイング振動が収まるまでに長時間を要するため、ヨーイング振動がＸ、Ｙ、θｚへの外乱として働き、Ｘビーム１の整定に影響を与えてしまう。

【0023】

位置決め装置１００では、高精度な位置決めを実現するために、ＸＹ可動部の重心１０１とＸアクチュエータ１－１の力点（反力１０２）とを合わせ、移動によって生じるモーメント１０４を極力抑えるようにしている。但し、軽量化、配置上の制約、製造公差などによって、ＸＹ可動部の重心１０１とＸアクチュエータ１－１の力点（反力１０２）とを厳密な意味で合わせることはできない。このため、Ｘ方向に移動する際には、少なからず、Ｘビーム１のヨーイング振動が誘発される。

【0024】

そこで、本実施形態では、Ｘビーム１のヨーイング振動を低減させるために、図３（ｂ）に示すように、Ｘ方向に移動する際に生じるモーメント１０４を相殺するように、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２に補正操作量１０５を与える。具体的には、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２のそれぞれに対して、モーメント１０４の回転方向と逆方向のモーメントが生じるように、互いに異なる補正操作量１０５を与える。これにより、Ｘ方向に移動する際に生じるモーメント１０４によるＸビーム１の回転（ヨーイング振動）を抑制することができる。

【0025】

モーメント１０４は、Ｘアクチュエータ１－１の反力によって発生する。図１では、重心ずれ１０１がＹ軸プラス方向に生じているため、Ｘスライダ２をＸ軸プラス方向に移動させると、Ｘビーム１に働くモーメント１０４は、時計回りの方向に作用する。従って、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２において反時計回りの方向の力を発生させることで、Ｘビーム１に働くモーメント１０４を相殺することができる。具体的には、Ｙ座標に対して、ＹＬアクチュエータ３－１にはマイナス方向に力を与え、ＹＲアクチュエータ３－２にはプラス方向に力を与えることで、モーメント１０４が相殺される。

【0026】

一方、Ｘスライダ２をＸ軸マイナス方向に移動させる場合には、Ｘビーム１に働くモーメントは、反時計回りの方向に作用する。従って、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２において時計回りの方向の力を発生させることで、Ｘビーム１に働く反時計回りのモーメントを相殺することができる。具体的には、Ｙ座標に対して、ＹＬアクチュエータ３－１にはプラス方向に力を与え、ＹＲアクチュエータ３－２にはマイナス方向に力を与えることで、モーメント１０４が相殺される。

【0027】

Ｘビーム１のモーメント１０４は、Ｘ方向の力に対して比例の関係にある。従って、Ｘ方向の力に対して、比例定数のゲインをかけた補正操作量１０５を、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２のそれぞれに上述した符号で与えることで、Ｘビーム１のヨーイング振動を低減することができる。

【0028】

図４は、制御部ＣＵによるＹＬアクチュエータ３－１、ＹＲアクチュエータ３－２及びＸアクチュエータ１－１の制御を説明するための図である。図４において、上側のブロックがＸ軸（Ｘアクチュエータ１－１）に関する制御ブロックを示し、下側のブロックがＹ軸（ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２）に関する制御ブロックを示している。図４において、本実施形態の特徴となる制御、具体的には、Ｘ操作量からＸビーム１のヨーイング振動を抑制する制御は、ＸｔｏＢｅａｍＹＬ及びＸｔｏＢｅａｍＹＲの制御パスである。

【0029】

ＸｔｏＢｅａｍＹＬ及びＸｔｏＢｅａｍＹＲの制御パスの入力は、Ｘ操作量である。Ｘ操作量は、Ｘ方向における目標値（Ｘ目標位置）を複数回時間微分した値のフィードフォワード制御（ＡｃｃＦＦ、ＪｅｒｋＦＦ、ＳｎａｐＰＰ）の加算値と、ＰＩＤコントローラの出力との加算値であるＸ操作量である。ＸｔｏＢｅａｍＹＬ及びＸｔｏＢｅａｍＹＲの制御パスの入力をＤｅｃｏｕｐｌｅ Ｍａｔｒｉｘの前段から抽出している理由は、Ｘ方向の移動（Ｘ軸の駆動）に必要な力のみを抽出するためである。例えば、Ｄｅｃｏｕｐｌｅ Ｍａｔｒｉｘの後段から操作量を抽出すると、ＸｔｏＸに関する移動のための力だけでなく、ＹｔｏＸ、ＺｔｏＸ、ＱｘｔｏＸ、ＱｙｔｏＸ、ＱｚｔｏＸなどの他軸干渉の抑制力がＸ操作量に含まれてしまう。

【0030】

本実施形態では、Ｘ操作量に対して、ＸｔｏＢｅａｍＹＬ及びＸｔｏＢｅａｍＹＲのゲインと分配比とをかけたものを、符号を逆にして、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２のそれぞれに与える（加算又は減算する）補正操作量とする。かかる補正操作量（出力）は、Ｘ位置に応じて、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２のそれぞれに推力分配（Ｔｈｒｕｓｔ ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）している後段に加算されている。Ｘアクチュエータ１－１の力点に対して重心ずれ１０１がＹ軸プラス方向に生じている場合には、上述したように、Ｘスライダ２をＸ軸プラス方向に移動させると、Ｘビーム１に働くモーメント１０４は、時計回りの方向に作用する。従って、Ｘビーム１の回転を抑制するためには、反時計回りの方向の力を発生させればよいため、ＹＬアクチュエータ３－１に与える補正操作量の符号をマイナスとし、ＹＲアクチュエータ３－２に与える補正操作量の符号をプラスとする。一方、Ｘアクチュエータ１－１の力点に対して重心ずれ１０１がＹ軸マイナス方向に生じている場合には、補正操作量の符号を逆にして入力する必要があるが、ＸｔｏＢｅａｍＹＬ及びＸｔｏＢｅａｍＹＲのゲインをマイナスとし入力することで最適に制御される。ＸｔｏＢｅａｍＹＬ及びＸｔｏＢｅａｍＹＲのゲインは、重心ずれ１０１の比例定数を示している。かかる比例定数の値を適正に設定することで、Ｘ方向への移動中に発生する力に対してＸビーム１に生じるモーメント１０４を相殺する力（補正操作量）を、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２に出力することが可能となる。

【0031】

このように、本実施形態では、制御部ＣＵは、Ｘ操作量である第１操作量から、Ｘビーム１に生じる回転を低減させるためにＹＬアクチュエータ３－１及びＹＬアクチュエータ３－２のそれぞれに与える互いに異なる第１補正操作量を求める。なお、第１操作量とは、Ｘスライダ２をＸ方向における第１目標位置に移動させるためにＸアクチュエータ１－１に与える第１操作量である。そして、制御部ＣＵは、互いに異なる第１補正操作量をＹＲアクチュエータ３－１及びＹＬアクチュエータ３－２のそれぞれに与える。この際、制御部ＣＵは、第１操作量をＸアクチュエータ１－１に与えているため、ＹＲアクチュエータ３－１及びＹＬアクチュエータ３－２をフィードフォワード制御していることになる。

【0032】

本実施形態において、位置決め装置１００は、Ｘビーム１の回転（ヨーイング振動）を計測する計測部を必要としていない。但し、ＸｔｏＢｅａｍＹＬやＸｔｏＢｅａｍＹＲの制御パスと併せて、Ｘビーム１の回転を計測する計測部を設けて、かかる計測部の計測結果に基づいて、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２をフィードバック制御してもよい。例えば、第１操作量（Ｘ操作量）をＸアクチュエータ１－１に与えた後に計測部で計測されたＸビーム１の回転から、かかる回転を低減させるためにＹＲアクチュエータ３－１及びＹＬアクチュエータ３－２に与える互いに異なる第２補正操作量を求める。そして、互いに異なる第２補正操作量をＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２のそれぞれに与えてＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２をフィードバック制御する。これにより、Ｘビーム１のヨーイング振動抑制の応答を早めることが可能となるため、単純なフィードバック制御に比べて高い効果を得ることができる。

【0033】

また、本実施形態では、Ｘ操作量から、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２のそれぞれに与える補正操作量を求める場合について説明したが、軸間の干渉は、Ｘだけではなく、Ｙ、θｚでも発生する。例えば、Ｘ方向に重心ずれが生じている場合には、Ｙ操作量から、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２のそれぞれに与える補正操作量を求めることで、Ｘビーム１の回転（ヨーイング振動）を抑えることができる。また、第２ステージＳＧ２をＺ軸周りに回転させる場合（θｚ）には、ＸＹ可動部の重心とＸアクチュエータ１－１の力点とが必ず異なるため、その反力をＸビーム１が受けることになる。この場合、θｚ操作量から、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２のそれぞれに与える補正操作量を求めることで、Ｘビーム１の回転（ヨーイング振動）を抑えることができる。

【0034】

また、図４を参照するに、Ｄｅｃｏｕｐｌｅ Ｍａｔｒｉｘは、特許文献２に開示されている軸間の非干渉制御である。第１ステージＳＧ１のＸ、Ｙと併せ、第２ステージＳＧ２のＺ、チルト、回転の非干渉制御（不図示）は、ＸｔｏＢｅａｍＹＬやＸｔｏＢｅａｍＹＲの制御パスが適用されることで過補正となる。従って、Ｄｅｃｏｕｐｌｅ Ｍａｔｒｉｘの各パラメータ（ＸｔｏＸ、ＹｔｏＸ、ＺｔｏＸ、ＱｘｔｏＸ、ＱｙｔｏＸ、ＱｚｔｏＸ）を再調整することでより高い効果が得られる。なお、図４では、Ｄｅｃｏｕｐｌｅ Ｍａｔｒｉｘの各パラメータの入力を省略して図示している。

【0035】

また、図５に示すように、ＸｔｏＢｅａｍＹＬやＸｔｏＢｅａｍＹＲの制御パスにフィルタを追加してもよい。かかるフィルタは、Ｘ方向への移動中のＸビーム１の回転（ヨーイング振動）の主成分に対応する特定の周波数のみを抽出して出力するバンドパスフィルタである。但し、位置決め装置によっては、ＤＣ成分のみをカットするハイパスフィルタやＡＣ成分のみをカットするローパスフィルタを、ＸｔｏＢｅａｍＹＬやＸｔｏＢｅａｍＹＲの制御パスに追加してもよい。このようなフィルタによって、ノイズの影響を低減してゲインを上げることが可能となるため、特定の周波数に対する振動抑制効果を向上させることができる。

【0036】

また、図６に示すように、図５に示す制御部ＣＵの構成（制御ブロック）に対して、各アクチュエータの推力むらを補正するための推力補正テーブルとして、ＹＬリップル、ＹＲリップル及びＸリップルを追加してもよい。本実施形態では、上述したように、Ｘビーム１の回転を計測してＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２をフィードバック制御する必要はなく、Ｘビーム１の回転を計測しないオープン制御でもよい。但し、Ｘビーム１の回転を計測しない場合には、ＹＬアクチュエータ３－１とＹＲアクチュエータ３－２との間で力のバランスがとれていることが好ましい。

【0037】

アクチュエータの代表として一般的に用いられるリニアモータは、磁石やコイルの磁束のばらつきに起因して、固定子に対する可動子の位置に応じて、磁石やコイルのピッチに相当する周期的な推力むら（推力の変動）が発生する。そこで、図６に示すように、Ｘ方向の位置によって発生する推力むらをＸリップルによって補正する。また、Ｙ方向の位置によって発生する推力むらをＹＬリップル及びＹＲリップルによって補正する。これらのリップルは、位置に対する推力むらのテーブルパラメータであり、位置に応じて補正値を切り替えている。従って、任意の位置において、操作量に対するアクチュエータの実際の力をＸ方向で一律に与えることが可能となり、ＹＬアクチュエータ３－１とＹＲアクチュエータ３－２とを正確に等しい推力として制御することができる。これにより、Ｘ方向への移動の操作量に対するＸビーム１のヨーイング振動の抑制が、Ｘビーム１の回転を計測しないオープン制御でも安定して効果を発揮する。

【0038】

一方、上述したような各リップルを用いた補正を行わない場合には、位置に応じて、各アクチュエータで推力ばらつきが発生する。例えば、Ｘアクチュエータ１－１では、Ｘ操作量に対して発生するモーメント（力）がばらつくことになる。また、ＹＬアクチュエータ３－１とＹＲアクチュエータ３－２では、位置によって、ＹＬアクチュエータ３－１とＹＲアクチュエータ３－２との間で推力のバランスにばらつきが生じる。従って、各アクチュエータの推力むらを補正することは、Ｘビーム１のヨーイング振動の抑制効果の安定に寄与する。

【0039】

ここで、ＹＬリップル、ＹＲリップル及びＸリップルなどの推力補正テーブルの求め方について説明する。リニアモータの推力は、逆起電力に比例する。従って、推力補正テーブルを求める場合には、一定の加速度で移動中に発生する逆起電力か推力補正テーブルを求めることが一般的である。但し、逆起電力が計測できない場合には、フィードバック制御の制御量で代用することができる。例えば、任意の一定の加速度で移動させたときの等加速期間（又は等減速期間）の操作量を抽出する。かかる操作量は、図６では、ＦＦゲインの加算値とＰＩＤコントローラの出力の加算値に相当する。このような操作量の抽出を、位置を微小に変更しながら行うことで、図７（ａ）乃至図７（ｃ）に示すような操作量のグラフが得られ、各位置における推力補正テーブルを生成することが可能となる。図７（ａ）乃至図７（ｃ）において、横軸は、制御対象の各軸の位置を示し、縦軸は、任意の加速度に対応する操作量を示している。詳細には、同一の位置での同一の加速度と減速度のそれぞれの操作量の絶対値の平均である。加速と減速との平均とすることで、実装反力などの方向差の影響を小さくすることができる。図７（ａ）乃至図７（ｃ）を参照するに、細線は、補正前（ｂｅｆｏｒｅ）の操作量を示し、太線は、補正後の操作量を示しており、細線で示される値をテーブルとして、その振幅（強弱）に応じて操作量にテーブルの値の比率のゲインをかけ算で与える。比率が正しい場合や推力むらを正確に再現できている場合には、補正後の操作量は、太線で示すように、一定の値を示す。補正後の操作量の振幅が小さくなるようにテーブルを調整することで、操作量に対して、アクチュエータの実際の推力が正しく出力されるようになる。

【0040】

図７（ａ）は、Ｘ軸（Ｘアクチュエータ１－１）の推力補正テーブルである。Ｘ軸に関しては、Ｘアクチュエータ１－１の１つのアクチュエータで制御されているため、単純にＸ軸を制御している操作量を取得すればよい。一方、Ｙ軸に関しては、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２の２つのアクチュエータで制御されている。従って、単純にＹ軸を制御している操作量を取得すると、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２に対して同一の推力補正テーブルが生成され、合算値となってしまう。ＹＬアクチュエータ３－１とＹＲアクチュエータ３－２とでは、アクチュエータが異なるため、推力補正テーブルに関しても異なるテーブルを生成する必要がある。

【0041】

そこで、本実施形態では、ＹＬアクチュエータ３－１とＹＲアクチュエータ３－２とで異なる推力むらを得るようにする。具体的には、ＹＬアクチュエータ３－１のみでＹ軸を制御して、任意の加速度で移動させたときの等加速期間の操作量を抽出することで、図７（ｂ）に示す細線に相当する補正前の操作量が得られる。同様に、ＹＲアクチュエータ３－２のみでＹ軸を制御して、任意の加速度で移動させたときの等加速期間の操作量を抽出することで、図７（ｃ）に示す細線に相当する補正前の操作量が得られる。これにより、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２のそれぞれに対して、異なる推力補正テーブルを生成することができる。Ｙ軸の制御に関しては、ＹＬアクチュエータ３－１とＹＲアクチュエータ３－２との間で推力のバランスを合わせる必要があるため、太線で示される補正後の操作量が同一の操作量となるように、推力補正テーブルを調整している。これにより、Ｙ軸の制御に関して、ＹＬアクチュエータ３－１とＹＲアクチュエータ３－２との間で推力のバランスを確保している。

【0042】

このように、逆起電力を計測できない場合であっても、各軸の操作量から推力補正テーブルを生成することができる。
かかる推力補正テーブルに基づいて、位置に応じて補正値を切り替えることで、例えば、ＹＬアクチュエータ３－１とＹＲアクチュエータ３－２との間で推力のバランスが維持される。従って、Ｘビーム１の回転を計測しないオープン制御であっても、Ｘビーム１のヨーイング振動の抑制が安定し、高い効果を得ることができる。これにより、Ｘビーム１の回転を計測する計測部が不要となり、Ｘビーム１のヨーイング振動の抑制をより安価に実現することができる。

【0043】

次に、ＸｔｏＢｅａｍＹＬ及びＸｔｏＢｅａｍＹＲのパラメータ（制御パラメータ）の求め方について説明する。Ｘビーム１の回転を計測することができる場合には、Ｘ方向への移動中のＸビーム１の回転を計測しながら、かかる回転が小さくなるようにＸｔｏＢｅａｍＹＬ及びＸｔｏＢｅａｍＹＲのパラメータを決定すればよい。但し、Ｘビーム１の回転が計測できない場合、上述した手法ではＸｔｏＢｅａｍＹＬ及びＸｔｏＢｅａｍＹＲのパラメータを決定することができない。

【0044】

そこで、本実施形態では、まず、ラジアルエアガイド４の駆動を停止して、第２ステージＳＧ２を第１ステージＳＧ１に着座させ、その後、第２ステージＳＧ２のＺ、θｘ、θｙ、θｚに関するサーボ制御を停止（オフ）する。これにより、第２ステージＳＧ２は、第１ステージＳＧ１に拘束された状態となるため、第２ステージＳＧ２の回転θｚに関する情報（回転情報）は、Ｘビーム１の回転に関する情報（回転情報）と一致する。かかる状態でＸ方向に移動させて、第２ステージＳＧ２の回転θｚに関する回転情報を一定周期で取得すると、図８（ａ）に示すような回転情報が得られる。図８（ａ）は、Ｘ方向への移動中におけるＸビーム１の回転情報を示し、横軸が時間を示し、縦軸が回転情報を示している。図８（ａ）において、細線は、本実施形態によるＸビーム１のヨーイング振動を低減する前の回転情報（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、太線は、本実施形態によるＸビーム１のヨーイング振動を低減した後の回転情報（ａｆｔｅｒ）を示している。図８（ａ）に示す回転情報をフーリエ変換し、横軸を周波数とすると、図８（ｂ）が得られる。図８（ｂ）において、細線は、本実施形態によるＸビーム１のヨーイング振動を低減する前の回転情報（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、太線は、本実施形態によるＸビーム１のヨーイング振動を低減した後の回転情報（ａｆｔｅｒ）を示している。図８（ｂ）を参照するに、Ｘビーム１のヨーイング振動を低減する前では、周波数１００Ｈｚの近傍に減衰の低いヨーイング振動が存在していることがわかる。このときのＸ操作量を図８（ｃ）に示す。図８（ｃ）に示すＸ操作量には、Ｘビーム１のヨーイング振動の影響が含まれている。かかるＸ操作量を、減衰の低い１００Ｈｚを中心とするバンドパスフィルタを介して、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２の操作量に加えることによって、Ｘビーム１の整定中のヨーイング振動を抑えることができる。そして、減衰効果が最も高いＸｔｏＢｅａｍＹＬ及びＸｔｏＢｅａｍＹＲとなるように、ゲインと比率を変更しながらＸビーム１を確認することで最適なゲインが求められる（トライアンドエラー）。このように、最適なバンドパスフィルタとパラメータが設定されることで、Ｘビーム１のヨーイング振動の振幅を小さくし、減衰を早めることが可能となる。

【0045】

なお、上述した方法では、第１ステージＳＧ１に対して、実際には非接触となる第２ステージＳＧ２を接触させているため、高い加速度で移動させることができない。従って、上述した方法は、Ｘビーム１のヨーイング振動の周波数の特定と粗調整に用いて、その後、精密調整を行うとよい。

【0046】

具体的には、全軸をサーボ制御している状態において、実際（例えば、露光時）の動作と同じプロファイルを用いて、Ｘ方向への移動後のＹ方向の制御偏差が最も小さくなるように、ＸｔｏＢｅａｍＹＬ及びＹｔｏＢｅａｍＹＲを調整する。この調整では、Ｙバーミラー９－２に対してＹレーザ干渉計９－１からの光（光軸）が照射されるＸ座標と、Ｘビーム１の回転（θｚ）の中心のＸ座標とが最も離れた状態において、Ｘビーム１のヨーイング振動によるＹ軸への外乱が最も大きくなる。従って、Ｘ軸に関して外側の位置で、上述した調整を行うことが効果的である。

【0047】

また、実際の動作、例えば、露光中の動作と同じ動作を行った際の露光中における偏差を評価値として調整してもよい。Ｙ方向の制御偏差には、絶対値と、異なるＸ方向の位置での偏差のばらつきとの２つの指標がある。全ての露光座標のＹ方向の制御偏差の平均値を評価指標としてゲインを調整することで、絶対値を下げることができる。一方、全ての露光座標のＹ方向の制御偏差の標準偏差を評価指標としてゲインを調整することで、ばらつきを抑えることが可能となる。絶対値を下げる場合には、バンドパスフィルタの周波数を下げることが効果的である。一方、標準偏差を抑えるためには、バンドパスフィルタの周波数を上げ、ゲインを高くする必要がある。このように、平均値と標準偏差には、トレードオフの関係がある。バランスを考慮する場合には、平均値と標準偏差との和を評価値として調整すればよい。位置決め装置に求められる性能によって、最適な調整状態は異なるため、それに応じて評価値を選択して調整する必要がある。

【0048】

なお、本実施形態では、位置決め装置１００としてＨ形ステージ装置を例に説明したが、これに限定されるものではない。例えば、位置決め装置１００におけるＸビーム１と第２ステージＳＧ２のように、θ方向の自由度を有する構造体が複数構成されている構造のステージ装置であっても、本実施形態と同様の手法を適用することができる。

【0049】

例えば、第２ステージＳＧ２をＸＹ面内における目標回転位置に回転させる場合を考える。この場合、θｚ用モータ６に与える操作量から、Ｘビーム１に生じる回転を低減させるためにＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２のそれぞれに与える互いに異なる補正操作量を求める。そして、θｚ用モータ６に操作量を与えるとともに、求めた互いに異なる補正操作量をＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２のそれぞれに与えてＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２をフィードフォワード制御する。

【0050】

また、Ｘスライダ２をＹ方向における第２目標位置に移動させる場合にも適用することができる。この場合、ＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２に与える操作量から、Ｘビーム１に生じる回転を低減させるためにＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２のそれぞれに与える互いに異なる補正操作量を求める。そして、第２目標位置に移動させるための操作量とともに、求めた互いに異なる補正操作量をＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２のそれぞれに与えてＹＬアクチュエータ３－１及びＹＲアクチュエータ３－２をフィードフォワード制御する。

【0051】

更に、本実施形態は、ビームを第１方向に移動させるための第１アクチュエータと、ビームに内蔵され、ビームに対して物体を第１方向と交差する第２方向に移動させるための第２アクチュエータとを有する位置決め装置にも適用することが可能である。この場合、物体を第２方向における第１目標位置に移動させるために第２アクチュエータに与える操作量から、ビームに生じる第２方向以外の方向の変位を低減させるために第１アクチュエータに与える補正操作量を求める。そして、第１目標位置に移動させるための操作量を第２アクチュエータに与えるとともに、求めた補正操作量を第１アクチュエータに与えて第１アクチュエータをフィードフォワード制御することを特徴とする。

【0052】

図９は、本発明の一側面としての露光装置ＥＸの構成を示す概略図である。露光装置ＥＸは、例えば、半導体素子や液晶表示素子のデバイスの製造工程であるリソグラフィ工程に採用され、原版を用いて基板にパターンを形成するリソグラフィ装置である。露光装置ＥＸは、原版であるマスク（レチクル）Ｍを介して基板Ｓを露光して、マスクＭのパターンを基板Ｓに転写する露光処理を行う。露光装置ＥＸは、本実施形態では、ステップ・アンド・スキャン方式を採用する。但し、露光装置ＥＸには、ステップ・アンド・リピート方式やその他の露光方式を採用することもできる。なお、図９では、基板Ｓの表面に平行な面をＸＹ面とするＸＹＺ座標系で方向を示す。

【0053】

露光装置ＥＸは、図９に示すように、ステージ定盤ＳＰと、位置決め装置１００と、鏡筒定盤ＬＰと、ダンパＤＰと、投影光学系ＰＳと、照明光学系ＩＳと、マスク定盤ＭＰと、マスクステージＭＳとを有する。

【0054】

ステージ定盤ＳＰは、マウント（不図示）を介して、床ＦＬに支持されている。ステージ定盤ＳＰの上には、位置決め装置１００が設けられている。鏡筒定盤ＬＰは、ダンパＤＰを介して、床ＦＬに支持されている。鏡筒定盤ＬＰには、投影光学系ＰＳ及びマスク定盤ＭＰが設けられている。マスク定盤ＭＰの上には、マスクステージＭＳが移動可能（滑動自在）に設けられている。マスクステージＭＳの上方には、照明光学系ＩＳが設けられている。

【0055】

露光において、光源（不図示）から発せられた光は、照明光学系ＩＳによりマスクＭを照明する。マスクＭのパターンは、投影光学系ＰＳにより基板Ｓに投影（結像）される。この際、マスクステージＭＳ及び位置決め装置１００のそれぞれは、マスクＭと基板Ｓとを走査方向に相対的に走査する。露光装置ＥＸが用いる位置決め装置１００は、上述したように、高精度な位置決め精度を実現することができる。従って、露光装置ＥＸは、高いスループットで経済性よく高品位なデバイス（半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子などのデバイス）を提供することができる。

【0056】

本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス（半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など）などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置ＥＸを用いて、基板にパターンを形成する工程と、パターンが形成された基板を処理する工程と、処理された基板から物品を製造する工程とを含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

【0057】

なお、本発明は、リソグラフィ装置を露光装置に限定するものではなく、例えば、インプリント装置にも適用することができる。インプリント装置は、基板上に供給（配置）されたインプリント材と型（原版）とを接触させ、インプリント材に硬化用のエネルギーを与えることにより、型のパターンが転写された硬化物のパターンを形成する。

【0058】

また、本実施形態では、露光装置ＥＸにおいて、位置決め装置１００を基板Ｓの位置決め装置に適用しているが、Ｈ形ステージ装置であれば、マスクＭの位置決め装置、即ち、マスクステージＭＳなどの如何なる位置決め装置にも適用可能である。

【0059】

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

【符号の説明】

【0060】

１００：位置決め装置 １：Ｘビーム １－１：Ｘアクチュエータ ２：Ｘスライダ ３－１：ＹＬアクチュエータ ３－２：ＹＲアクチュエータ ＣＵ：制御部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】