特許 7560261 ロータリーキルン

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-09-24

(45)【発行日】2024-10-02

(54)【発明の名称】ロータリーキルン

(51)【国際特許分類】

   F27B 7/24 20060101AFI20240925BHJP

   F27D 7/06 20060101ALI20240925BHJP

   F27D 7/02 20060101ALI20240925BHJP

   F27B 5/04 20060101ALI20240925BHJP

【ＦＩ】

F27B7/24

F27D7/06 B

F27D7/02 Z

F27B5/04

【請求項の数】 4

(21)【出願番号】P 2020046102

(22)【出願日】2020-03-17

(65)【公開番号】P2021148328

(43)【公開日】2021-09-27

【審査請求日】2023-02-15

(73)【特許権者】

【識別番号】000004293

【氏名又は名称】ノリタケ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100117606

【弁理士】

【氏名又は名称】安部 誠

(74)【代理人】

【識別番号】100121186

【弁理士】

【氏名又は名称】山根 広昭

(72)【発明者】

【氏名】福島 宏康

【審査官】村岡 一磨

(56)【参考文献】

【文献】実開昭４９－０６００５３（ＪＰ，Ｕ）

【文献】米国特許第０４１９９１５４（ＵＳ，Ａ）

【文献】特開２００６－０７８１４９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１－１１７６３９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１５－１５５７９１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｆ２７Ｂ ７／２４

Ｆ２７Ｄ ７／０６

Ｆ２７Ｄ ７／０２

Ｆ２７Ｂ ５／０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

筒状のキルン本体と、
前記キルン本体の軸方向端部に位置する開口部を覆うと共に、前記キルン本体の円筒状の外周部を回胴可能に保持する固定フードと、
前記キルン本体の前記外周部から外側に円環状に突出し、前記固定フードのうち前記外周部に対向する位置に形成された円環状の溝部に摺動する３つ以上のシール部と、
前記３つ以上のシール部のうち、隣接する２つの前記シール部と前記固定フードによって囲まれた２つ以上のシール空間の各々に、前記キルン本体の内部と外部の間の気体の移動を防止する加圧気体を供給する流路を備えた加圧気体供給部と、
を備えたことを特徴とする、ロータリーキルン。

【請求項2】

請求項１に記載のロータリーキルンであって、
前記２つ以上の前記シール空間のうち、外気に近い側に位置する前記シール空間を外気側シール空間、前記外気側シール空間よりも前記キルン本体の内部の気体に近い側に位置する前記シール空間を内部側シール空間とした場合に、
前記加圧気体供給部は、前記内部側シール空間と前記外気側シール空間に、異なる圧力で前記加圧気体を供給することを特徴とする、ロータリーキルン。

【請求項3】

請求項２に記載のロータリーキルンであって、
前記加圧気体供給部は、前記内部側シール空間に供給する前記加圧気体の圧力を、前記外気側シール空間に供給する前記加圧気体の圧力よりも高くすることを特徴とする、ロータリーキルン。

【請求項4】

請求項１から３のいずれかに記載のロータリーキルンであって、
前記加圧気体供給部は、前記キルン本体の内部に供給する雰囲気ガスを、前記加圧気体として前記シール空間に供給することを特徴とする、ロータリーキルン。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、回転するキルン本体の内部で被処理物を攪拌させながら加熱処理するロータリーキルンに関する。

【背景技術】

【0002】

キルン本体と固定フードを備えたロータリーキルンが知られている。キルン本体は筒状であり、連続して回転することで、内部の被処理物を攪拌させながら搬送する。固定フードは、筒状であるキルン本体の端部（例えば両端部）を覆った状態で、キルン本体を回胴可能に保持する。

【0003】

キルン本体は、固定フードに摺動しながら回転する必要があるので、キルン本体と固定フードが摺動する摺動部を完全に密閉することは困難である。一方で、ロータリーキルンで被処理物を加熱処理する際に、キルン本体の内部と外部の間の気体の移動を制御することが望ましい場合も多い。例えば、空気中の物質（例えば、酸素、二酸化炭素、水蒸気等の少なくともいずれか）と被処理物の反応を避けるために、キルン本体の内部の雰囲気を制御した状態で、被処理物を熱処理する場合がある。また、キルン本体の内部から外部へガスが漏出することが望ましくない場合もある。従って、キルン本体と固定フードの摺動部を介した気体の移動を適切に制御できることが望ましい。

【0004】

例えば、特許文献１に記載のロータリーキルンは、固定フードに設けられた円筒状の第１摺動部および第２摺動部と、キルン本体の外周面と、固定フードの内周面とによって囲まれたシール空間に、外気を導入する。これによって、キルン本体から摺動部を介してガスが外部に漏出することの抑制を図っている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【文献】特開２０１３－５０２７４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかしながら、特許文献１で開示された技術を採用した場合でも、例えば、キルン本体の内部と外部の間の圧力差の変動等に起因して、摺動部を介して気体が移動してしまう可能性があった。

【0007】

本開示の典型的な目的は、キルン本体の内部と外部の間で気体が移動することを適切に抑制することが可能なロータリーキルンを提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0008】

ここに開示される一態様のロータリーキルンは、筒状のキルン本体と、上記キルン本体の軸方向端部に位置する開口部を覆うと共に、上記キルン本体の円筒状の外周部を回胴可能に保持する固定フードと、上記キルン本体の上記外周部から外側に円環状に突出し、上記固定フードのうち上記外周部に対向する位置に形成された円環状の溝部に摺動する３つ以上のシール部と、上記３つ以上のシール部のうち、隣接する２つの上記シール部と上記固定フードによって囲まれた２つ以上のシール空間の各々に、上記キルン本体の内部と外部の間の気体の移動を防止する加圧気体を供給する加圧気体供給部と、を備える。

【0009】

本開示に係るロータリーキルンでは、キルン本体と固定フードが摺動する摺動部において、キルン本体の外周部から外側に円環状に突出するシール部が３つ以上形成されている。その結果、隣接する２つのシール部と固定フードによって囲まれるシール空間が、２つ以上形成される。２つ以上のシール空間の各々に、加圧気体が供給される。従って、複数のシール空間の１つを気体が移動した場合でも、他のシール空間によって気体の移動が遮断され易い。よって、キルン本体の内部と外部の間で気体が移動することが、適切に抑制される。

【0010】

２つ以上の前記シール空間のうち、外気に近い側に位置するシール空間を外気側シール空間、外気側シール空間よりもキルン本体の内部の気体に近い側に位置するシール空間を内部側シール空間とする。ここに開示されるロータリーキルンの好適な一態様では、加圧気体供給部は、内部側シール空間と外気側シール空間に、異なる圧力で加圧気体を供給する。この場合、加圧気体は、高い圧力で供給されたシール空間から、低い圧力で供給されたシール空間に向けて流れやすい。従って、複数のシール空間に同じ圧力で加圧気体が供給される場合に比べて、外部からキルン本体の内部に気体が流入する可能性、または、キルン本体の内部から外部へ気体が漏出する可能性が、さらに低下する。

【0011】

ここに開示されるロータリーキルンの好適な一態様では、加圧気体供給部は、内部側シール空間に供給する加圧気体の圧力を、外気側シール空間に供給する加圧気体の圧力よりも高くする。この場合、加圧気体は、内部側シール空間から外気側シール空間に向けて流れやすい。従って、外部からキルン本体の内部に気体が流入する可能性が、適切に低下する。

【0012】

ただし、加圧気体供給部は、外気側シール空間に供給する加圧気体の圧力を、内部側シール空間に供給する加圧気体の圧力よりも高くしてもよい。この場合、キルン本体の内部から外部に気体が漏洩する可能性が、さらに低下する。また、複数のシール空間に同じ圧力で加圧気体が供給されてもよい。この場合でも、シール空間が１つ（つまり、シール部が２つ）のみ設けられている場合に比べて、キルン本体の内部と外部の間で気体が移動する可能性は、適切に低下する。

【0013】

ここに開示されるロータリーキルンの好適な一態様では、加圧気体制御部は、キルン本体の内部に供給する雰囲気ガスを、加圧気体としてシール空間に供給する。この場合、シール空間に供給された雰囲気ガスが、キルン本体の内部に流入しても、被処理物の加熱処理が適切に実行される。例えば、空気中の物質（例えば、酸素、二酸化炭素、水蒸気等の少なくともいずれか）と反応する被処理物を、ロータリーキルンによって加熱処理する場合等であっても、被処理物が適切に加熱処理される。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】ロータリーキルン１の全体構成を示す模式断面図である。

【図2】シール保持機構３Ａの構成を示す断面模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0015】

以下、本開示における典型的な実施形態の１つについて、図面を参照しつつ詳細に説明する。本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって実施に必要な事柄は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本発明は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。なお、以下の図面においては、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して説明している。また、各図における寸法関係（長さ、幅、厚み等）は実際の寸法関係を反映するものではない。

【0016】

＜全体構成＞
図１を参照して、本実施形態のロータリーキルン１の全体構成について説明する。本実施形態のロータリーキルン１は、空気中の物質（例えば、酸素、二酸化炭素、水蒸気等の少なくともいずれか）と反応する被処理物を、雰囲気制御下で加熱処理する。一例として、本実施形態のロータリーキルン１は、窒素雰囲気中で硫化リチウムを加熱処理する場合に使用される。しかし、硫化リチウム以外の被処理物を雰囲気制御下で加熱処理する場合にも、本実施形態のロータリーキルン１を使用することができる。なお、以下の説明では、図１における左側をロータリーキルン１の基端側、図１における右側をロータリーキルン１の先端側とする。

【0017】

本実施形態のロータリーキルン１は、キルン本体１０、固定フード２０Ａ，２０Ｂ、投入部３０、搬送部４０、雰囲気ガス供給部５０、圧力検出部６０、および制御部７０を備える。

【0018】

キルン本体１０は、筒状（本実施形態では円筒状）である。キルン本体１０は、回胴機構（図示せず）によって回転軸Ｏを中心に回胴することで、内部に供給された被処理物を攪拌しながら、基端側（図１の左側）から先端側（図１の右側）に搬送する。キルン本体１０は、内部の被処理物を加熱する加熱部１１を備える。一例として、本実施形態の加熱部１１は、キルン本体１０の軸方向中央部の外周を覆うヒータであり、加熱部１１に電力が供給されることで、キルン本体１０の内部が加熱される。ただし、加熱部１１の構成を変更することも可能である。例えば、ガスバーナー等によってキルン本体１０の内部が加熱されてもよい。

【0019】

固定フード２０Ａ，２０Ｂは、キルン本体１０の回転軸Ｏの方向の端部に位置する開口部１２Ａ，１２Ｂを覆うことで、開口部１２Ａ，１２Ｂから外部へのガスの漏出を抑制する。また、固定フード２０Ａ，２０Ｂは、キルン本体１０の円筒状の外周部を回胴可能に保持する。本実施形態では、キルン本体１０の基端側の開口部１２Ａを覆い、且つ基端側の外周部を回胴可能に保持する固定フード２０Ａと、キルン本体１０の先端側の開口部１２Ｂを覆い、且つ先端側の外周部を回胴可能に保持する固定フード２０Ｂが設けられている。基端側の固定フード２０Ａには、被処理物をキルン本体１０の内部へ搬送する搬送部４０が接続される。基端側の固定フード２０Ａと、キルン本体１０の基端側の外周部が摺動する摺動部には、摺動部を通じたキルン本体１０の内部と外部の間の気体の移動を抑制した状態でキルン本体１０を回胴可能に保持するシール保持機構３Ａが形成されている。また、先端側の固定フード２０Ｂには、キルン本体１０の内部で加熱処理された被処理物が排出される排出口２１が設けられている。先端側の固定フード２０Ｂと、キルン本体１０の先端側の外周部が摺動する摺動部には、摺動部を通じた気体の移動を抑制した状態でキルン本体１０を回胴可能に保持するシール保持機構３Ｂが形成されている。シール保持機構３Ａ，３Ｂの詳細については、図２を参照して後述する。

【0020】

投入部３０には、加熱処理の対象となる被処理物が投入される。投入部３０は、内部を密閉することが可能なグローブボックス５内に設けられている。作業者は、グローブボックス５内で投入部３０に被処理物を投入する。ただし、ロータリーキルン１は、投入部３０に被処理物を自動的に投入する投入機構を備えていてもよい。投入部３０に投入された被処理物は、投入部３０に接続された搬送部４０に供給される。投入部３０には、投入部３０を通じた気体の移動を遮断する閉鎖部３１が設けられている。一例として、本実施形態の閉鎖部３１は、投入部３０の投入口を開閉する蓋状の部材である。しかし、閉鎖部の構成を変更することも可能である。例えば、投入部３０における被処理物の経路を開閉するシャッター等が、閉鎖部として採用されてもよい。閉鎖部３１によって投入部３０が閉鎖されることで、キルン本体１０の内部から搬送部４０の搬送経路を通じて投入部３０へ移動した気体（本実施形態では、有毒物質を含む反応ガス）が、投入部３０の投入口から外部へ漏出することが抑制される。

【0021】

搬送部４０は、投入部３０から投入された被処理物を、投入部３０からキルン本体１０の内部へ延びる搬送経路を通じて搬送する。一例として、本実施形態では、搬送部４０としてスクリューフィーダが採用されている。本実施形態の搬送部４０は、搬送経路に設けられた搬送機構（搬送スクリュー）４１を、搬送用モータ４２によって回転させることで、被処理物をキルン本体１０の内部へ搬送する。ただし、搬送部の構成を変更することも可能である。例えば、搬送部は、搬送ベルト等によって被処理物を搬送してもよい。

【0022】

雰囲気ガス供給部５０は、ロータリーキルン１の内部に雰囲気ガスを供給する。一例として、本実施形態で使用される雰囲気ガスは、被処理物である硫化リチウムの反応に寄与しない窒素ガスである。しかし、雰囲気ガスは、被処理物の種類等に応じて適宜選択されればよい。詳細は後述するが、本実施形態の雰囲気ガス供給部５０は、シール保持機構３Ａ，３Ｂの内部側シール空間６Ａ（図２参照）に、加圧気体（加圧した雰囲気ガス）ＳＧ１を供給し、且つ、外気側シール空間６Ｂ（図２参照）に加圧気体（加圧した雰囲気ガス）ＳＧ２を供給する。

【0023】

雰囲気ガス供給部５０は、キルン本体１０の内部に雰囲気ガスＳＧ３を供給する。本実施形態では、先端側の固定フード２０Ｂを介して、キルン本体１０の内部に雰囲気ガスＳＧ３が供給される。また、基端側の固定フード２０Ａを介して、キルン本体１０の内部から排ガスＥＧ３が排出される。ただし、雰囲気ガスＳＧ３の供給位置、および、排ガスＥＧ３の排出位置を変更することも可能である。また、雰囲気ガス供給部５０は、グローブボックス５の内部に雰囲気ガスＳＧ４を供給する。グローブボックス５内から排ガスＥＧ４が排出される。排ガスＥＧ３，ＥＧ４は、湿式スクラバ等を備えた浄化装置（図示せず）に導かれる。

【0024】

圧力検出部６０は、キルン本体１０の内部の気体の圧力を検出する。一例として、本実施形態の圧力検出部６０は、キルン本体１０の内部空間に接続された、基端側の固定フード２０Ａの内部空間の気体の圧力を検出することで、キルン本体１０の内部の気体の圧力を検出する。ただし、圧力検出部６０の設置位置は適宜変更できる。

【0025】

制御部７０は、ロータリーキルン１の各種制御を司るコントローラを備える。制御部７０は、加熱部１１、搬送用モータ４２、第１加圧気体供給部５１（図２参照）、第２加圧気体供給部５２（図２参照）、および圧力検出部６０等に接続されており、各部の動作制御を実行する。

【0026】

＜シール保持機構＞
図２を参照して、シール保持機構３Ａ，３Ｂの構成について詳細に説明する。前述したように、本実施形態のロータリーキルン１では、キルン本体１０の基端側の外周部をシールしつつ回胴可能に保持するシール保持機構３Ａと、キルン本体１０の先端側の外周部をシールしつつ回胴可能に保持するシール保持機構３Ｂが設けられている。本実施形態における２つのシール保持機構３Ａ，３Ｂの構成は、回転軸Ｏの方向に関して対称となっている。従って、以下では、説明を簡略化するために、基端側のシール保持機構３Ａについて詳細に説明する。

【0027】

図２に示すように、基端側のシール保持機構３Ａでは、キルン本体１０の外周部１３に、３つのシール部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃが設けられている。３つのシール部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃの各々は、キルン本体１０の外周部１３から、キルン本体１０の回転軸Ｏ（図１参照）から遠ざかる方向に（つまり、外周部１３から外側に向けて）円環状に突出している。円環状であるシール部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃの中心は、キルン本体１０の回転軸Ｏと一致している。円環状であるシール部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃの各々は、回転軸Ｏに垂直な平面上に位置する。

【0028】

また、固定フード２０Ａのうち、キルン本体１０の外周部１３に対向する位置（つまり、固定フード２０のうち、キルン本体１０を保持する筒状の部位の内側の位置）には、３つのシール部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃの各々が嵌合する円環状の溝部２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃが形成されている。円環状である溝部２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃの中心は、キルン本体１０の回転軸Ｏ（図１参照）と一致している。円環状である溝部２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃの各々は、回転軸Ｏに垂直な平面上に位置する。従って、キルン本体１０は、シール部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃと溝部２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃを摺動させながら、回転軸Ｏを中心に回胴する。なお、本実施形態の溝部２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃは、いずれも、シール部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃの各々を基端側（図２の左側）および先端側（図２の右側）の両方から挟み込む。その結果、気体のシール性が向上している。しかし、複数の溝部の少なくともいずれかは、シール部の基端側および先端側の一方のみを覆ってもよい。

【0029】

以上説明したように、本実施形態のシール保持機構３Ａでは、３つ以上（本実施形態では３つ）のシール部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃが用いられる。従って、２つのシール部が用いられる場合に比べて、キルン本体１０と固定フード２０Ａの摺動部を通じて気体が移動する可能性が低下する。

【0030】

しかしながら、シール部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃと溝部２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃが摺動する摺動部では、周方向の全体で隙間が完全に存在しなくなるように厳密に各部材を形成することは困難である。従って、３つ以上のシール部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃを用いる場合でもなお、摺動部を通じて気体が移動する場合があり得る。よって、本実施形態のロータリーキルン１は、シール保持機構３Ａに加圧気体を適切に供給することで、摺動部を通じた気体の移動をさらに抑制する。

【0031】

図２に示すように、シール保持機構３Ａ（つまり、キルン本体１０と固定フード２０Ａが摺動する摺動部）の隙間を気体が通過する場合の気体の流路のうち、外気に近い側（図２の右側）を外気側、キルン本体１０の内部の気体に近い側（図２の左側）を内部側とする。３つのシール部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃのうち、最も内部側に位置する第１シール部１５Ａと、第１シール部１５Ａに隣接する第２シール部１５Ｂと、固定フード２０Ａ（詳細には、固定フード２０Ａのうち、２つの溝部２５Ａ，２５Ｂの間の部位）とによって囲まれた空間を、内部側シール空間６Ａとする。また、３つのシール部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃのうち、最も外気側に位置する第３シール部１５Ｃと、第３シール部１５Ｃに隣接する第２シール部１５Ｂと、固定フード２０Ａ（詳細には、２つの溝部２５Ｂ，２５Ｃの間の部位）とによって囲まれた空間を、外気側シール空間６Ｂとする。内部側シール空間６Ａは、外気側シール空間６Ｂよりも内部側に位置する。

【0032】

ロータリーキルン１は、複数（本実施形態では２つ）のシール空間６Ａ，６Ｂの各々に加圧気体を供給する加圧気体供給部５１を備える。従って、複数のシール空間６Ａ，６Ｂの１つを気体が移動した場合でも、他のシール空間によって気体の移動が遮断され易い。よって、シール保持機構３Ａを通じて気体が移動することが、適切に抑制される。加圧気体供給部５１は、気体を加圧してシール空間６Ａ，６Ｂに供給するためのポンプ等を備えていてもよい。

【0033】

本実施形態の加圧気体供給部５１は、内部側シール空間６Ａと、外気側シール空間６Ｂの各々に、異なる圧力で加圧気体を供給する。詳細には、第１加圧気体供給部５１Ａは、固定フード２０Ａに形成された第１流路２７Ａを通じて、内部側シール空間６Ａに加圧気体ＳＧ１を供給する。第２加圧気体供給部５１Ｂは、固定フード２０Ａに形成された第２流路２７Ｂを通じて、加圧気体ＳＧ１とは異なる圧力で、加圧気体ＳＧ２を外気側シール空間６Ｂに供給する。この場合、複数のシール空間６Ａ，６Ｂの各々に供給された加圧気体は、高い圧力で供給されたシール空間から、低い圧力で供給されたシール空間に向けて流れやすい。従って、複数のシール空間６Ａ，６Ｂの各々に同じ圧力で加圧気体が供給される場合に比べて、シール保持機構３Ａにおいて気体が流れる方向が制御され易い。よって、望ましくない気体の移動が生じる可能性が、さらに低下する。

【0034】

本実施形態の加圧気体供給部５１（第１加圧気体供給部５１Ａおよび第２加圧気体供給部５１Ｂ）は、内部側シール空間６Ａに供給する加圧気体ＳＧ１の圧力を、外気側シール空間６Ｂに供給する加圧気体ＳＧ２の圧力よりも高くする。この場合、複数のシール空間６Ａ，６Ｂの各々に供給された加圧気体は、内部側シール空間６Ａから外気側シール空間６Ｂに向けて流れやすい。従って、外部からシール保持機構３Ａを通じてキルン本体１０の内部に気体（例えば空気）が流入する可能性が、さらに低下する。特に、本実施形態のように、空気中の物質と反応する被処理物を、雰囲気制御下で加熱処理する場合等には、空気がキルン本体１０の内部に流入し難くなるので、より有用である。

【0035】

本実施形態の加圧気体供給部５１は、キルン本体１０の内部に供給する雰囲気ガス（一例として、本実施形態では窒素ガス）を、加圧気体ＳＧ１，ＳＧ２としてシール空間６Ａ，６Ｂに供給する。つまり、加圧気体供給部５１は、雰囲気ガス供給部５０（図１参照）から供給される雰囲気ガスを加圧して、シール空間６Ａ，６Ｂに供給する。従って、シール空間６Ａ，６Ｂに供給された雰囲気ガスが、キルン本体１０の内部に流入しても、被処理物の加熱処理が雰囲気制御下で適切に実行される。

【0036】

上記実施形態で開示された技術は一例に過ぎない。従って、上記実施形態で例示された技術を変更することも可能である。例えば、上記実施形態のロータリーキルン１では、キルン本体１０の基端側の外周部をシールするシール保持機構３Ａと、キルン本体１０の先端側の外周部をシールするシール保持機構３Ｂの各々に３つ以上のシール部が形成されており、２つ以上のシール空間に加圧気体が供給される。従って、先端側および基端側の一方にのみ前述したシール保持機構を採用する場合に比べて、望ましくない気体の移動がより適切に抑制される。しかし、先端側および基端側の一方にのみ前述したシール保持機構を採用する場合でも、気体が移動する可能性は従来に比べて低下する。

【0037】

上記実施形態では、複数のシール空間６Ａ，６Ｂの各々に、異なる圧力で加圧気体ＳＧ１，ＳＧ２が供給される。その結果、シール保持機構３Ａ，３Ｂにおいて気体が流れる方向が制御され易くなる。しかし、複数のシール空間の各々に、同じ圧力で加圧気体が供給される場合でも、シール空間が１つだけ設けられている場合に比べて、望ましくない気体の移動は適切に抑制される。

【0038】

上記実施形態では、１つのシール保持機構３Ａに、３つのシール部１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃと、２つのシール空間６Ａ，６Ｂが形成される。しかし、１つのシール保持機構に、４つ以上のシール部が形成されてもよい。また、１つのシール保持機構に、３つ以上のシール空間が形成されてもよい。３つ以上のシール空間の各々に、異なる圧力で加圧気体を供給する場合でも、上記実施形態と同様に、内部側シール空間に供給する加圧気体の圧力と、外部側シール空間に供給する加圧気体の圧力を適宜調整することで、シール保持機構において気体が流れる方向は適切に制御される。

【0039】

本開示で例示する技術の少なくとも一部を、雰囲気制御下で処理する必要が無い被処理物を加熱処理するロータリーキルンに採用することも可能である。例えば、キルン本体の内部に空気が流入しても問題が生じず、且つ、キルン本体の内部から外部に気体が漏洩することを防止したい場合には、外気側シール空間６Ｂに供給する加圧気体の圧力を、内部側シール空間６Ａに供給する加圧気体の圧力よりも高くしてもよい。この場合、シール保持機構３Ａでは、外気側から内部側へ気体が流れやすくなる。よって、キルン本体の内部の気体が外部に漏洩する可能性が、適切に低下する。

【0040】

以上、具体的な実施形態を挙げて詳細な説明を行ったが、これらは例示にすぎず、請求の範囲を限定するものではない。請求の範囲に記載の技術には、以上に記載した実施形態を様々に変形、変更したものが含まれる。

【符号の説明】

【0041】

１ ロータリーキルン
３Ａ，３Ｂ シール保持機構
６Ａ，６Ｂ シール空間
１０ キルン本体
１２Ａ，１２Ｂ 開口部
１３ 外周部
１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ シール部
２０Ａ，２０Ｂ 固定フード
２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃ 溝部
５１ 加圧気体供給部
７０ 制御部

【図1】

【図2】