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特許7561056極異方性磁石、極異方性磁石を用いた回転子、回転機及び極異方性磁石の製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-09-25
(45)【発行日】2024-10-03
(54)【発明の名称】極異方性磁石、極異方性磁石を用いた回転子、回転機及び極異方性磁石の製造方法
(51)【国際特許分類】
H02K 1/276 20220101AFI20240926BHJP
H01F 7/02 20060101ALI20240926BHJP
H01F 41/02 20060101ALI20240926BHJP
H02K 15/03 20060101ALI20240926BHJP
【ＦＩ】
H02K1/276
H01F7/02 C
H01F7/02 E
H01F41/02 G
H02K15/03 C
【請求項の数】
4
(21)【出願番号】P 2021026007
(22)【出願日】2021-02-22
(65)【公開番号】P2021141801
(43)【公開日】2021-09-16
【審査請求日】2023-07-04
(31)【優先権主張番号】P 2020033529
(32)【優先日】2020-02-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
【前置審査】
(73)【特許権者】
【識別番号】000003713
【氏名又は名称】大同特殊鋼株式会社
(73)【特許権者】
【識別番号】595181210
【氏名又は名称】株式会社ダイドー電子
(74)【代理人】
【識別番号】100137589
【弁理士】
【氏名又は名称】右田 俊介
(74)【代理人】
【識別番号】100160864
【弁理士】
【氏名又は名称】高橋 政治
(72)【発明者】
【氏名】溝口 徹彦
(72)【発明者】
【氏名】長瀬 亮祐
(72)【発明者】
【氏名】藪見 崇生
【審査官】池田 貴俊
(56)【参考文献】
【文献】特許第３９９７４２７（ＪＰ，Ｂ２）
【文献】特開昭６０－２４６６１４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０２０－００５４５２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特許第６１８０５０７（ＪＰ，Ｂ２）
【文献】特開２０１５－１５３７９０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００９－０２２０９６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００６－２１７７４０（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０２Ｋ １／２７
Ｈ０２Ｋ １５／０３
Ｈ０１Ｆ ７／０２
Ｈ０１Ｆ ４１／０２
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で擬円柱形のモールドキャビティに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程と、前記粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程と、
前記配向済みモールドを焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、を備え、
前記モールドキャビティは、その形状が、前記焼結体が円筒形状または円柱形状となるように設計され、その断面形状が、該モールドキャビティ長軸の長さをｂ、短軸の長さをａとした場合、これらの比（ｂ／ａ）が１．２５～１．３７であり、
前記焼結工程において、焼結の際の磁化容易軸方向の収縮量とそれに直交する方向の収縮量の比（焼結の際の磁化容易軸方向の収縮量／それに直交する方向の収縮量）が１．２５～１．３７であり、
前記円筒形状又は円柱形状の周方向の磁極位置における表面磁束密度が４５０ｍＴ以上であり、
前記円筒形状又は円柱形状の軸方向の漏洩磁束量の大きさのバラツキが同軸状の上下を通じた漏洩磁束量の平均値に対してプラスマイナス５％以下である円筒形状または円柱形状の極異方性磁石の製造方法。
【請求項2】
前記配向工程において、極数が自然数Ｎの倍数である２Ｎ極の異方性を有するように配向することができる前記配向装置を使用することを特徴とする、請求項１に記載の極異方性磁石の製造方法。
【請求項3】
前記配向工程が、前記粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく、配向方向に垂直な方向へ印加した後に、前記配向方向へ１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向して前記配向済みモールドを得る工程である、
請求項１又は２に記載の極異方性磁石の製造方法。
【請求項4】
請求項１～３のいずれかに記載の方法で製造した極異方性磁石の表面に重希土類金属（Ｒ）または重希土類金属を含むＲ系合金（ただし、ＲはＤｙ、Ｔｂ、Ｈｏから選択される少なくとも１種の元素）を接触させ、熱処理を行い、磁石内にＲ元素を拡散させることを特徴とする極異方性磁石の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は極異方性磁石、極異方性磁石を用いた回転子、回転機及び極異方性磁石の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、モータや発電機などの回転機に用いられる回転子に極異方性磁石が小型化、軽量化を目的として検討されている。しかし、所望の形状、配向、コスト低減が難しく、現実的な極異方性磁石がほとんど実現できていない。
極異方性磁石の製造に用いる磁場中成形装置として、特許文献１には、磁化方向が磁極位置では法線方向で、隣接する磁極の中間位置では接線方向であるとともに、前記磁極位置とそれに隣接する前記中間位置との間を等角度ピッチの要素に分割した時、隣接する要素の磁化方向がほぼ一定の角度差を有する極異方性リング磁石を製造するのに用いる磁場中成形装置であって、断面円形状の空隙を有する成形型と、リング状のキャビティを形成するために前記成形型の断面円形状の空隙の中心に配置した円柱状のコアロッドと、前記成形型の内面に開口する複数の空隙部と、各空隙部内に配置された複数のコイルとを有し、前記キャビティに沿って複数のコイルが配列しており、各空隙部内で前記キャビティに沿った複数のコイルがなす中心角θ1と、隣接する空隙部内のコイルがなす中心角θ2との比が０．８～１．２であることを特徴とする磁場中成形装置が記載されている。そして、このような磁場中成形装置によれば、表面磁束密度分布の正弦波整合率が安定して高く、モータに組み込まれた時にコギングトルクを実質的に発生させない極異方性リング磁石を製造できると記載されている。
極異方性磁石の製造に用いる磁場中成形装置として、特許文献１には、磁化方向が磁極位置では法線方向で、隣接する磁極の中間位置では接線方向であるとともに、前記磁極位置とそれに隣接する前記中間位置との間を等角度ピッチの要素に分割した時、隣接する要素の磁化方向がほぼ一定の角度差を有する極異方性リング磁石を製造するのに用いる磁場中成形装置であって、断面円形状の空隙を有する成形型と、リング状のキャビティを形成するために前記成形型の断面円形状の空隙の中心に配置した円柱状のコアロッドと、前記成形型の内面に開口する複数の空隙部と、各空隙部内に配置された複数のコイルとを有し、前記キャビティに沿って複数のコイルが配列しており、各空隙部内で前記キャビティに沿った複数のコイルがなす中心角θ1と、隣接する空隙部内のコイルがなす中心角θ2との比が０．８～１．２であることを特徴とする磁場中成形装置が記載されている。そして、このような磁場中成形装置によれば、表面磁束密度分布の正弦波整合率が安定して高く、モータに組み込まれた時にコギングトルクを実質的に発生させない極異方性リング磁石を製造できると記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特許第３９９７４２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、特許文献１に記載のリング状磁石を製造するための磁場中成形装置を用いた製造方法では、コアロッドが必要となるためにコスト高になり、また、着磁器が発生する磁界方向と磁石粉末の配向方向にずれを生じ、結果として十分な極異方性磁石の表面磁束密度を得られないという問題が生じ得る。
【0005】
本発明は、上記実情に鑑みて、以下の技術的課題を解決すべくなされたものである。
本発明の第１の課題は、従来に比べ低コストとしつつ、より大きな表面磁束密度を有する円筒形状または円柱形状の極異方性磁石を提供することである。
また、本発明の第２の課題は、大きな表面磁束密度を有する極異方性磁石を適用し、低コストとしつつ、ステータへ大きな磁束を供給することが可能な回転子を提供することである。
本発明の第３の課題は、大きな表面磁束密度を発生する極異方性磁石を適用し、従来に比べより高性能でかつ高速回転可能なモータや発電機などの回転機を提供することである。
本発明の第１の課題は、従来に比べ低コストとしつつ、より大きな表面磁束密度を有する円筒形状または円柱形状の極異方性磁石を提供することである。
また、本発明の第２の課題は、大きな表面磁束密度を有する極異方性磁石を適用し、低コストとしつつ、ステータへ大きな磁束を供給することが可能な回転子を提供することである。
本発明の第３の課題は、大きな表面磁束密度を発生する極異方性磁石を適用し、従来に比べより高性能でかつ高速回転可能なモータや発電機などの回転機を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明者は鋭意検討することで、焼結による収縮率が磁化容易軸方向とそれに直交する方向とで大きく異なることを考慮した擬円柱形のモールドキャビティに想到し、ここへ特定量の潤滑剤を添加した特定粒子径のネオジム磁石用粉末を、特定の充填密度となるように充填した後に特定範囲内の配向磁界を印加することで、ネオジム磁石用粉末をその磁化容易軸、すなわち該粉末の主相を構成する立方晶相であるＮｄ2Ｆｅ14Ｂ相のｃ軸が磁束流れに沿うように配向させることができ、それをモールドごと焼結することで、表面磁束密度が大きい円筒形状または円柱形状の極異方性磁石を得ることができることを見出し、本発明を完成させた。
【0007】
本発明は以下の（１）～（１４）である。
（１）極数が自然数Ｎの倍数である２Ｎ極である円筒形状または円柱形状の極異方性磁石。
（２）前記円筒形状または円柱形状の周方向の磁極位置における表面磁束密度が４５０ｍＴ以上であることを特徴とする上記（１）記載の極異方性磁石。
（３）前記円筒形状または円柱形状の周方向に漏洩する磁束量が極数に同期した正弦波状に形成され、かつ前記正弦波を１次成分とした場合、該１次成分を除く高調波成分の全体の比率が１０％以下であることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の極異方性磁石。
（４）前記円筒形状または円柱形状の軸方向の漏洩磁束量の大きさのバラツキが同軸状の上下を通じた漏洩磁束量の平均値に対してプラスマイナス５％以下であることを特徴とする上記（１）～（３）のいずれかに記載の極異方性磁石。
（５）上記（１）～（４）のいずれかに記載の極異方性磁石の外表面が保護管によって覆われてなる、回転子。
（６）前記極異方性磁石の両端面の外側にシャフトを有する、上記（５）に記載の回転子。
（７）２０，０００ｒｐｍ以上で回転可能な、上記（５）または（６）に記載の回転子。
（８）上記（５）～（７）のいずれかに記載の回転子と、集中巻または分布巻のステータと、を有する回転機。
（９）移動体に搭載して用いる、上記（８）に記載の回転機。
（１０）平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で擬円柱形のモールドキャビティに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程と、
前記粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程と、
前記配向済みモールドを焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、
を備える、円筒形状または円柱形状の極異方性磁石の製造方法。
（１１）前記モールドキャビティの形状が、前記焼結体が円筒形状または円柱形状となるように設計されたことを特徴とする上記（１０）に記載の極異方性磁石の製造方法。
（１２）前記配向工程において、極数が自然数Ｎの倍数である２Ｎ極の異方性を有するように配向することができる前記配向装置を使用することを特徴とする、上記（１０）または（１１）に記載の極異方性磁石の製造方法。
（１３）前記配向工程が、
前記粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく、配向方向に垂直な方向へ印加した後に、前記配向方向へ１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向して前記配向済みモールドを得る工程である、
上記（１０）～（１２）のいずれかに記載の極異方性磁石の製造方法。
（１４）上記（１０）～（１３）のいずれかに記載の方法で製造した極異方性磁石の表面に重希土類金属（Ｒ）または重希土類金属を含むＲ系合金（ただし、ＲはＤｙ、Ｔｂ、Ｈｏから選択される少なくとも１種の元素）を接触させ、熱処理を行い、磁石内にＲ元素を拡散させることを特徴とする極異方性磁石の製造方法。
（１）極数が自然数Ｎの倍数である２Ｎ極である円筒形状または円柱形状の極異方性磁石。
（２）前記円筒形状または円柱形状の周方向の磁極位置における表面磁束密度が４５０ｍＴ以上であることを特徴とする上記（１）記載の極異方性磁石。
（３）前記円筒形状または円柱形状の周方向に漏洩する磁束量が極数に同期した正弦波状に形成され、かつ前記正弦波を１次成分とした場合、該１次成分を除く高調波成分の全体の比率が１０％以下であることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の極異方性磁石。
（４）前記円筒形状または円柱形状の軸方向の漏洩磁束量の大きさのバラツキが同軸状の上下を通じた漏洩磁束量の平均値に対してプラスマイナス５％以下であることを特徴とする上記（１）～（３）のいずれかに記載の極異方性磁石。
（５）上記（１）～（４）のいずれかに記載の極異方性磁石の外表面が保護管によって覆われてなる、回転子。
（６）前記極異方性磁石の両端面の外側にシャフトを有する、上記（５）に記載の回転子。
（７）２０，０００ｒｐｍ以上で回転可能な、上記（５）または（６）に記載の回転子。
（８）上記（５）～（７）のいずれかに記載の回転子と、集中巻または分布巻のステータと、を有する回転機。
（９）移動体に搭載して用いる、上記（８）に記載の回転機。
（１０）平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で擬円柱形のモールドキャビティに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程と、
前記粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程と、
前記配向済みモールドを焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、
を備える、円筒形状または円柱形状の極異方性磁石の製造方法。
（１１）前記モールドキャビティの形状が、前記焼結体が円筒形状または円柱形状となるように設計されたことを特徴とする上記（１０）に記載の極異方性磁石の製造方法。
（１２）前記配向工程において、極数が自然数Ｎの倍数である２Ｎ極の異方性を有するように配向することができる前記配向装置を使用することを特徴とする、上記（１０）または（１１）に記載の極異方性磁石の製造方法。
（１３）前記配向工程が、
前記粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく、配向方向に垂直な方向へ印加した後に、前記配向方向へ１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向して前記配向済みモールドを得る工程である、
上記（１０）～（１２）のいずれかに記載の極異方性磁石の製造方法。
（１４）上記（１０）～（１３）のいずれかに記載の方法で製造した極異方性磁石の表面に重希土類金属（Ｒ）または重希土類金属を含むＲ系合金（ただし、ＲはＤｙ、Ｔｂ、Ｈｏから選択される少なくとも１種の元素）を接触させ、熱処理を行い、磁石内にＲ元素を拡散させることを特徴とする極異方性磁石の製造方法。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、表面磁束密度が大きい円筒形状または円柱形状の極異方性磁石を低コストで得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】円柱形状の２極の極異方性磁石を得る場合のモールドの概略斜視図である。
【図2】円柱形状の４極の極異方性磁石を得る場合のモールドの概略斜視図である。
【図3】円柱形状の４極の極異方性磁石を得る場合の別のモールドの概略斜視図である。
【図4】円柱形状の２極の極異方性磁石を得る場合のモールドにネオジム磁石用粉末を充填してなる粉末充填済みモールドを配向装置に装填した状態を示す概略上面図である。
【図5】円柱形状の４極の極異方性磁石を得る場合のモールドにネオジム磁石用粉末を充填してなる粉末充填済みモールドを配向装置に装填した状態を示す概略上面図である。
【図6】円柱形状の４極の極異方性磁石を得る場合のモールドにネオジム磁石用粉末を充填してなる別の粉末充填済みモールドを配向装置に装填した状態を示す概略上面図である。
【図7】本発明の製造方法によって得られた２極の極異方性磁石を示す概略斜視図である。
【図8】本発明の製造方法によって得られた４極の極異方性磁石を示す概略斜視図である。
【図9】軸方向の漏洩磁束量の大きさのバラツキの測定方法について説明するための図である。
【図10】本発明の磁石に２つのシャフトを配置し、さらに保護管によって覆った状態を示す概略断面図である。
【図11】モータの概略断面図である。
【図12】実施例１および比較例１、２、４における周方向の表面磁束密度の波形を示すグラフである。
【図13】実施例１における中心軸方向の磁束量の大きさのバラツキを示すグラフである。
【図14】実施例９で得られた磁石を上（軸方向）から見た場合の右上４分の１の部分における、磁石中心点Ｏと、Ｏから平行方向にある磁石端部Ｘと、Ｏから垂直方向にある磁石端部Ｙとの位置関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本発明の製造方法について説明する。
本発明は、平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で擬円柱形のモールドキャビティに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程と、前記粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程と、前記配向済みモールドを焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、を備える、円筒形状または円柱形状の極異方性磁石の製造方法である。
このような円筒形状または円柱形状の極異方性磁石の製造方法を、以下では「本発明の製造方法」ともいう。
本発明は、平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で擬円柱形のモールドキャビティに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程と、前記粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程と、前記配向済みモールドを焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、を備える、円筒形状または円柱形状の極異方性磁石の製造方法である。
このような円筒形状または円柱形状の極異方性磁石の製造方法を、以下では「本発明の製造方法」ともいう。
【0011】
＜充填工程＞
本発明の製造方法における充填工程では、ネオジム磁石用粉末を用意する。
本発明の製造方法における充填工程では、ネオジム磁石用粉末を用意する。
【0012】
ネオジム磁石用粉末は、ネオジム、遷移元素（Ｔ）およびホウ素（Ｂ）を主成分とする粉末である。
ここで「主成分」とは、合計含有率が９０質量％以上であることを意味し、この合計含有率は９５質量％以上であることがより好ましい。
また、遷移元素（Ｔ）としてはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉなどが含まれることが好ましい。特にＮｄ－Ｆｅ－Ｂ系のネオジム磁石用粉末であることが好ましい。
ここで「主成分」とは、合計含有率が９０質量％以上であることを意味し、この合計含有率は９５質量％以上であることがより好ましい。
また、遷移元素（Ｔ）としてはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉなどが含まれることが好ましい。特にＮｄ－Ｆｅ－Ｂ系のネオジム磁石用粉末であることが好ましい。
【0013】
ネオジム磁石用粉末の平均粒子径は１．０～５．０μｍであり、２．５～３．５μｍであることが好ましい。
ネオジム磁石用粉末は、粒界相成分であるＮｄリッチ相と主相であるＮｄ2Ｆｅ14Ｂ相の単結晶粒子とから構成されることが好ましい。主相が単結晶であればその粒子が有する磁化容易軸は１つであるため、その粒子は発生磁束方向に配向しやすくなり、結果として得られる磁石の磁束密度がより高くなるからである。平均粒子径が１．０～５．０μｍであれば、ほぼ全てが単結晶粒子であると考えられる。ここで、平均粒子径は、レーザー式粉末粒度分布測定装置（例えば株式会社日本レーザー社製、ＨＥＬＯＳ＆ＬＯＤＯＳ）により測定した粒度分布の中央値（Ｄ50）とした。
ネオジム磁石用粉末は、粒界相成分であるＮｄリッチ相と主相であるＮｄ2Ｆｅ14Ｂ相の単結晶粒子とから構成されることが好ましい。主相が単結晶であればその粒子が有する磁化容易軸は１つであるため、その粒子は発生磁束方向に配向しやすくなり、結果として得られる磁石の磁束密度がより高くなるからである。平均粒子径が１．０～５．０μｍであれば、ほぼ全てが単結晶粒子であると考えられる。ここで、平均粒子径は、レーザー式粉末粒度分布測定装置（例えば株式会社日本レーザー社製、ＨＥＬＯＳ＆ＬＯＤＯＳ）により測定した粒度分布の中央値（Ｄ50）とした。
【0014】
ネオジム磁石用粉末の調製方法は特に限定されない。例えば、溶解した母合金を回転ロール上に噴射し、急冷することにより微細な結晶組織を持つ薄帯を得た後、この薄帯を平均粒子径１．０～５．０μｍに粉砕することで、ネオジム磁石用粉末を得る方法が挙げられる。
【0015】
このようなネオジム磁石用粉末は、潤滑剤を１．０質量％以下の含有率で含む。ネオジム磁石用粉末が含む潤滑剤の含有率は０．０１質量％以上であることが好ましく、０．０５～１．０質量％であることがより好ましい。
【0016】
潤滑剤としては、カプリル酸メチル、ラウリル酸メチル、ステアリン酸亜鉛などを用いることができる。
【0017】
上記のような潤滑剤を前記ネオジム磁石用粉末へ添加し、十分に混合した後、これを擬円柱形のモールドキャビティに充填する。
【0018】
ここでネオジム磁石用粉末をモールドキャビティに充填する際の充填密度は３．４～４．０ｇ／ｃｍ3とする。この充填密度は３．５～３．９ｇ／ｃｍ3とすることが好ましい。
【0019】
本発明の製造方法では、充填工程においてモールドキャビティにネオジム磁石用粉末を特定の充填密度となるように充填してネオジム磁石用粉末の成形体を得た後、それを配向し、焼結することで円筒形状または円柱形状の極異方性磁石を得るが、充填工程において円筒形状または円柱形状のネオジム磁石用粉末の成形体を成形すると、これを配向し、焼結して得られる極異方性磁石の形状は、円筒形状または円柱形状とはならない。
これは前記成形体を焼結した場合、磁化容易軸方向とそれに直交する方向との収縮率が大きく異なるためである。
そこで、本発明者は、本発明の製造方法によって得られる極異方性磁石の形状が円筒形状または円柱形状となるためのネオジム磁石用粉末の成形体の形状、すなわち、モールドキャビティの形状について、以下のように鋭意検討を行った。
これは前記成形体を焼結した場合、磁化容易軸方向とそれに直交する方向との収縮率が大きく異なるためである。
そこで、本発明者は、本発明の製造方法によって得られる極異方性磁石の形状が円筒形状または円柱形状となるためのネオジム磁石用粉末の成形体の形状、すなわち、モールドキャビティの形状について、以下のように鋭意検討を行った。
【0020】
初めに、本発明者は、平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で円柱形状のモールドキャビティに充填した後、ネオジム磁石用粉末が充填されているモールドを本発明の製造方法における配向工程および焼結工程に供し、極異方性磁石を得た。
その結果、得られた極異方性磁石の形状は、円柱形状ではなく、角に丸みを帯びた正方形に近い形状の２つの端面を有する角柱に類似したものであった。
これより、前記ネオジム磁石用粉末の成形体を焼結した場合、磁化容易軸方向に対して、それに直交する方向は、収縮し難いことが原因と考えられた。
その結果、得られた極異方性磁石の形状は、円柱形状ではなく、角に丸みを帯びた正方形に近い形状の２つの端面を有する角柱に類似したものであった。
これより、前記ネオジム磁石用粉末の成形体を焼結した場合、磁化容易軸方向に対して、それに直交する方向は、収縮し難いことが原因と考えられた。
【0021】
そこで、本発明者は実験を繰り返し、焼結の際の磁化容易軸方向の収縮量と、それに直交する方向の収縮量との関係について検討した。
ここで、焼結することによる収縮量は、磁石粉末の組成、粒子径、潤滑剤の量および種類、充填密度など、様々な要因に影響を受ける。そこで、本発明者は鋭意検討し、平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で充填してなる成形体を本発明の製造方法における配向工程および焼結工程に供する場合、焼結の際の磁化容易軸方向の収縮量（ｂ）は、それに直交する方向の収縮量（ａ）に対して大きく、その比（ｂ／ａ）は１．２５～１．３７、好ましくは１．２８～１．３４、より好ましくは１．３０～１．３２、さらに好ましくは１．３１程度であることを見出した。
なお、上記の通り、焼結することによる収縮量はさまざま要因によって変わるため、この比（ｂ／ａ）は、得られる極異方性磁石の形状の端面が真円となるように、何回かの予備実験を行って求めるべきである。ただし、この比（ｂ／ａ）の概ねの範囲は、本発明の製造方法の場合、上記の通りになることを本発明者は見出した。
ここで、焼結することによる収縮量は、磁石粉末の組成、粒子径、潤滑剤の量および種類、充填密度など、様々な要因に影響を受ける。そこで、本発明者は鋭意検討し、平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で充填してなる成形体を本発明の製造方法における配向工程および焼結工程に供する場合、焼結の際の磁化容易軸方向の収縮量（ｂ）は、それに直交する方向の収縮量（ａ）に対して大きく、その比（ｂ／ａ）は１．２５～１．３７、好ましくは１．２８～１．３４、より好ましくは１．３０～１．３２、さらに好ましくは１．３１程度であることを見出した。
なお、上記の通り、焼結することによる収縮量はさまざま要因によって変わるため、この比（ｂ／ａ）は、得られる極異方性磁石の形状の端面が真円となるように、何回かの予備実験を行って求めるべきである。ただし、この比（ｂ／ａ）の概ねの範囲は、本発明の製造方法の場合、上記の通りになることを本発明者は見出した。
【0022】
次に、上記の比（ｂ／ａ）の測定結果の知見に基づき、本発明者はモールドキャビティの形状について検討した。
なお、モールドキャビティは、ネオジム磁石用粉末を収容するモールドの内面によって構成される空間部分である。
なお、モールドキャビティは、ネオジム磁石用粉末を収容するモールドの内面によって構成される空間部分である。
【0023】
図１は、円柱形状の２極の極異方性磁石を得る場合に用いるモールド１０を示している。モールド１０は、２つの端面１２、１４と、側面１６と、内面１８とを有する。内面１８が構成する部分がモールドキャビティ１９に相当し、ここへネオジム磁石用粉末を充填する。モールドキャビティ１９の断面および端面は、図１に示すように楕円形である。
図１に示すように、２つの端面１２、１４におけるモールドキャビティ１９の長軸の長さをｂ、短軸の長さをａとし、これらの比（ｂ／ａ）が１．２５～１．３７（好ましくは１．３１程度）となるようにする。
なお、円柱形状ではなく円筒形状の極異方性磁石を製造する場合には、例えば、図１に示す形状のモールドキャビティの中心（長さｂを測定する方向と長さａを測定する方向との交点）に細長状の円柱、楕円柱、角柱等をあらかじめ設けておいたり、コアロッドを配置したりすることにより実施できる。
図１に示すように、２つの端面１２、１４におけるモールドキャビティ１９の長軸の長さをｂ、短軸の長さをａとし、これらの比（ｂ／ａ）が１．２５～１．３７（好ましくは１．３１程度）となるようにする。
なお、円柱形状ではなく円筒形状の極異方性磁石を製造する場合には、例えば、図１に示す形状のモールドキャビティの中心（長さｂを測定する方向と長さａを測定する方向との交点）に細長状の円柱、楕円柱、角柱等をあらかじめ設けておいたり、コアロッドを配置したりすることにより実施できる。
【0024】
図２は、円柱形状の４極の極異方性磁石を得る場合に用いるモールド２０を示している。モールド２０は、２つの端面２２、２４と、側面２６と、内面２８とを有する。内面２８が構成する部分がモールドキャビティ２９であり、ここへネオジム磁石用粉末を充填する。端面２２、２４においてモールドキャビティ２９の断面および端面は、図２に示すように２つの楕円を直交させた形状を備える。
図２に示すように、モールドキャビティ２９は２つの端面２２、２４の各々において、外周上における最も距離が離れた２点間の長さをｂとし、長さｂを測定する２方向のいずれに対しても４５度をなす方向の長さａとし、これらの比（ｂ／ａ）が１．２５～１．３７（好ましくは１．３１程度）となるようにする。
なお、円柱形状ではなく円筒形状の極異方性磁石を製造する場合には、例えば、図２に示す形状のモールドキャビティの中心（長さｂを測定する方向と長さａを測定する方向との交点）に細長状の円柱、楕円柱、角柱等をあらかじめ設けておいたり、コアロッドを配置したりすることにより実施できる。
図２に示すように、モールドキャビティ２９は２つの端面２２、２４の各々において、外周上における最も距離が離れた２点間の長さをｂとし、長さｂを測定する２方向のいずれに対しても４５度をなす方向の長さａとし、これらの比（ｂ／ａ）が１．２５～１．３７（好ましくは１．３１程度）となるようにする。
なお、円柱形状ではなく円筒形状の極異方性磁石を製造する場合には、例えば、図２に示す形状のモールドキャビティの中心（長さｂを測定する方向と長さａを測定する方向との交点）に細長状の円柱、楕円柱、角柱等をあらかじめ設けておいたり、コアロッドを配置したりすることにより実施できる。
【0025】
図３は、円柱形状の４極の極異方性磁石を得る場合に用いるモールド３０を示している。
図３に示したモールド３０は、図２に示したモールド２０とやや形状が異なるが、いずれも円柱形状の４極の極異方性磁石を得るために用いるモールドである。
モールド３０は、２つの端面３２、３４と、側面３６と、内面３８とを有する。内面３８が構成する部分がモールドキャビティ３９であり、ここへネオジム磁石用粉末を充填する。端面３２、３４においてモールドキャビティ３９の断面および端面は、図３に示すように、角に丸みを帯びた正方形の形状を備える。
図２に示したモールドキャビティ２９と図３に示したモールドキャビティ３９とを比較すると、図２に示したモールドキャビティ２９は、図３に示したモールドキャビティ３９よりも内側に凹んだ（または突出した）部位が存在していることが分かる。この部位の形状と、後述する配向工程において印加する磁界の強さとを制御することによって、意図する極異方の配向を得ることができる。
図３に示すように、モールドキャビティ３９は２つの端面３２、３４の各々において、外周上における最も距離が離れた２点間の長さをｂとし、長さｂを測定する２方向のいずれに対しても４５度をなす方向の長さａとし、これらの比（ｂ／ａ）が１．２５～１．３７（好ましくは１．３１程度）となるようにする。
なお、円柱形状ではなく円筒形状の極異方性磁石を製造する場合には、例えば、図３に示す形状のモールドキャビティの中心（長さｂを測定する方向と長さａを測定する方向との交点）に細長状の円柱、楕円柱、角柱等をあらかじめ設けておいたり、コアロッドを配置したりすることにより実施できる。
図３に示したモールド３０は、図２に示したモールド２０とやや形状が異なるが、いずれも円柱形状の４極の極異方性磁石を得るために用いるモールドである。
モールド３０は、２つの端面３２、３４と、側面３６と、内面３８とを有する。内面３８が構成する部分がモールドキャビティ３９であり、ここへネオジム磁石用粉末を充填する。端面３２、３４においてモールドキャビティ３９の断面および端面は、図３に示すように、角に丸みを帯びた正方形の形状を備える。
図２に示したモールドキャビティ２９と図３に示したモールドキャビティ３９とを比較すると、図２に示したモールドキャビティ２９は、図３に示したモールドキャビティ３９よりも内側に凹んだ（または突出した）部位が存在していることが分かる。この部位の形状と、後述する配向工程において印加する磁界の強さとを制御することによって、意図する極異方の配向を得ることができる。
図３に示すように、モールドキャビティ３９は２つの端面３２、３４の各々において、外周上における最も距離が離れた２点間の長さをｂとし、長さｂを測定する２方向のいずれに対しても４５度をなす方向の長さａとし、これらの比（ｂ／ａ）が１．２５～１．３７（好ましくは１．３１程度）となるようにする。
なお、円柱形状ではなく円筒形状の極異方性磁石を製造する場合には、例えば、図３に示す形状のモールドキャビティの中心（長さｂを測定する方向と長さａを測定する方向との交点）に細長状の円柱、楕円柱、角柱等をあらかじめ設けておいたり、コアロッドを配置したりすることにより実施できる。
【0026】
なお、図１では２極の極異方性磁石を得る場合のモールド、図２および図３では４極の極異方性磁石を得る場合のモールドを例示したが、６極以上の極異方性磁石を得る場合のモールドについても同様の考え方によって設計することができる。
【0027】
図１、図２および図３に例示されるようなモールドキャビティの形状を、本発明の製造方法では擬円柱形と定義する。すなわち、円柱状ではないが円柱状に近い形状であって、本発明の製造方法によって得られる極異方性磁石の形状が円筒形状または円柱形状となるモールドキャビティの形状を擬円柱形と定義する。
【0028】
なお、モールドは非磁性体からなるものであることが好ましい。非磁性体として、例えばグラファイトカーボンが例示できる。
【0029】
【0030】
本発明の製造方法では、上記のように、後述する焼結工程によって得られる焼結体が円筒形状または円柱形状となるようにモールドキャビティの形状が設計されることが好ましい。焼結体を加工せずにそのまま回転子として使用できるからである。
【0031】
本発明の製造方法における充填工程では、このような擬円柱形のモールドキャビティに前記ネオジム磁石用粉末を上記の充填密度となるように充填する。
このようにして得られた前記ネオジム磁石用粉末が充填されたモールドを、粉末充填済みモールドとする。
また、前記ネオジム磁石用粉末を充填した後の図１に示したモールド１０を、粉末充填済みモールド４０とする。また、前記ネオジム磁石用粉末を充填した後の図２に示したモールド２０を、粉末充填済みモールド５０とする。さらに、前記ネオジム磁石用粉末を充填した後の図３に示したモールド３０を、粉末充填済みモールド６０とする。
このようにして得られた前記ネオジム磁石用粉末が充填されたモールドを、粉末充填済みモールドとする。
また、前記ネオジム磁石用粉末を充填した後の図１に示したモールド１０を、粉末充填済みモールド４０とする。また、前記ネオジム磁石用粉末を充填した後の図２に示したモールド２０を、粉末充填済みモールド５０とする。さらに、前記ネオジム磁石用粉末を充填した後の図３に示したモールド３０を、粉末充填済みモールド６０とする。
【0032】
＜配向工程＞
本発明の製造方法における配向工程では、粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、配向磁界を印加する。
配向工程では、極数が自然数Ｎの倍数である２Ｎ極の異方性を有するように配向することができる配向装置を用いることができる。
本発明の製造方法における配向工程では、粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、配向磁界を印加する。
配向工程では、極数が自然数Ｎの倍数である２Ｎ極の異方性を有するように配向することができる配向装置を用いることができる。
【0033】
例えば、本発明の製造方法によって２極の極異方性磁石を得る場合、図４に示すように粉末充填済みモールド４０を配向装置に装填する。
図４は、図１に例示したモールド１０におけるモールドキャビティ１９へ前記ネオジム磁石用粉末を充填して得られる粉末充填済みモールド４０を配向装置に装填した状態を上側から見た図（概略図）である。
図４に示すように、粉末充填済みモールド４０を、その短軸方向から挟み込む位置に、２つのコイル４２が配置されている。コイル４２によって、図４に極性および点線で示す磁場を発生することができる。
図４に示した状態において、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで、前記ネオジム磁石用粉末の磁化容易軸が図４に示した点線に平行となるように配向することができる。つまり、点線が配向方向である。このようにして、配向方向が、円周方向における磁極位置では法線方向で、隣接する磁極の中間位置では接線方向で、これらの中間位置では曲線を描くような極異方性磁石を得ることができる。
図４は、図１に例示したモールド１０におけるモールドキャビティ１９へ前記ネオジム磁石用粉末を充填して得られる粉末充填済みモールド４０を配向装置に装填した状態を上側から見た図（概略図）である。
図４に示すように、粉末充填済みモールド４０を、その短軸方向から挟み込む位置に、２つのコイル４２が配置されている。コイル４２によって、図４に極性および点線で示す磁場を発生することができる。
図４に示した状態において、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで、前記ネオジム磁石用粉末の磁化容易軸が図４に示した点線に平行となるように配向することができる。つまり、点線が配向方向である。このようにして、配向方向が、円周方向における磁極位置では法線方向で、隣接する磁極の中間位置では接線方向で、これらの中間位置では曲線を描くような極異方性磁石を得ることができる。
【0034】
また、例えば、本発明の製造方法によって４極の極異方性磁石を得る場合、図５に示すように粉末充填済みモールド５０を配向装置に装填する。
図５は、図２に例示したモールド２０におけるモールドキャビティ２９へ前記ネオジム磁石用粉末を充填して得られる粉末充填済みモールド５０を配向装置に装填した状態を上側から見た図（概略図）である。
図５に示すように、粉末充填済みモールド５０をその２つの短径方向（長さａを測定する方向）の各々から挟み込む位置に、合計で４つのコイル５２が配置されている。コイル５２によって図５に極性および点線で示す磁場を発生することができる。
図５に示した状態において、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで、前記ネオジム磁石用粉末の磁化容易軸が図５に示した点線に平行となるように配向することができる。つまり、点線が配向方向である。
図５は、図２に例示したモールド２０におけるモールドキャビティ２９へ前記ネオジム磁石用粉末を充填して得られる粉末充填済みモールド５０を配向装置に装填した状態を上側から見た図（概略図）である。
図５に示すように、粉末充填済みモールド５０をその２つの短径方向（長さａを測定する方向）の各々から挟み込む位置に、合計で４つのコイル５２が配置されている。コイル５２によって図５に極性および点線で示す磁場を発生することができる。
図５に示した状態において、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで、前記ネオジム磁石用粉末の磁化容易軸が図５に示した点線に平行となるように配向することができる。つまり、点線が配向方向である。
【0035】
また、例えば、本発明の製造方法によって４極の極異方性磁石を得る場合、図６に示すように粉末充填済みモールド６０を配向装置に装填する。
図６は、図３に例示したモールド３０におけるモールドキャビティ３９へ前記ネオジム磁石用粉末を充填して得られる粉末充填済みモールド６０を配向装置に装填した状態を上側から見た図（概略図）である。
図６に示すように、粉末充填済みモールド６０を図５の場合と同様の位置に、合計で４つのコイル６２が配置されている。コイル６２によって図６に極性および点線で示す磁場を発生することができる。
図６に示した状態において、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで、前記ネオジム磁石用粉末の磁化容易軸が図６に示した点線に平行となるように配向することができる。つまり、点線が配向方向である。
図６は、図３に例示したモールド３０におけるモールドキャビティ３９へ前記ネオジム磁石用粉末を充填して得られる粉末充填済みモールド６０を配向装置に装填した状態を上側から見た図（概略図）である。
図６に示すように、粉末充填済みモールド６０を図５の場合と同様の位置に、合計で４つのコイル６２が配置されている。コイル６２によって図６に極性および点線で示す磁場を発生することができる。
図６に示した状態において、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで、前記ネオジム磁石用粉末の磁化容易軸が図６に示した点線に平行となるように配向することができる。つまり、点線が配向方向である。
【0036】
なお、図４では本発明の製造方法によって２極の極異方性磁石を得る場合の配向装置、図５および図６では本発明の製造方法によって４極の極異方性磁石を得る場合の配向装置を例示したが、６極以上の極異方性磁石を得る場合の配向装置についても同様の考え方によって設計することができる。
【0037】
配向工程において前記ネオジム磁石用粉末に印加する配向磁界は１．０～５．０Ｔであるが、この配向磁界は１．５～３．０Ｔとすることが好ましく、２．０～２．５Ｔ程度とすることがより好ましい。
【0038】
配向工程では、上記のようにして配向方向に配向するが、その前に配向方向に対して垂直方向に磁界を印加した後に、上記のように配向方向に配向磁界を印加して配向することが好ましい。
すなわち、配向工程が、前記粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく、配向方向に垂直な方向へ印加した後に、前記配向方向へ１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向して前記配向済みモールドを得る工程であることが好ましい。
この場合、よりひび割れが少ない極異方性磁石を本発明の製造方法によって得ることができることを、本発明者は見出した。
すなわち、配向工程が、前記粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく、配向方向に垂直な方向へ印加した後に、前記配向方向へ１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向して前記配向済みモールドを得る工程であることが好ましい。
この場合、よりひび割れが少ない極異方性磁石を本発明の製造方法によって得ることができることを、本発明者は見出した。
【0039】
ここで配向方向に垂直な方向とは、通常、モールドキャビティにおける深さ方向と一致する。また、得られる円筒形状または円柱形状の極異方性磁石における中心軸と平行な方向と通常は一致する。
【0040】
また、配向方向に垂直な方向へ印加する磁界は、前述の配向方向へ印加する磁界（配向磁界）と同程度であってよい。すなわち、配向方向に垂直な方向へ印加する磁界は１．０～５．０Ｔであってよく、１．５～３．０Ｔとすることが好ましく、２．０～２．５Ｔ程度とすることがより好ましい。
【0041】
このような配向工程によって、配向された前記ネオジム磁石用粉末がモールドキャビティ内に充填されているモールドを得ることができる。このようなモールドを、配向済みモールドとする。
【0042】
＜焼結工程＞
本発明の製造方法における焼結工程では、配向工程によって得られた配向済みモールドを焼結炉へ装入して、モールドごと焼結する。
本発明の製造方法における焼結工程では、配向工程によって得られた配向済みモールドを焼結炉へ装入して、モールドごと焼結する。
【0043】
焼結方法は特に限定されない。例えば従来公知の焼結炉に前記配向済みモールドを装入して焼結することができる。
焼結は真空中で行うことが好ましい。
焼結は真空中で行うことが好ましい。
【0044】
磁石の成分により焼結温度は最適温度を選択する必要がある。焼結温度は９００～１１００℃とすることが好ましい。
【0045】
焼結時間は１～２０時間とすることが好ましく、２～１５時間とすることがより好ましく、４～１０時間程度とすることがさらに好ましい。
【0046】
このように前記配向済みモールドを焼結炉へ装入してモールドごと焼結することで、焼結体を得ることができる。
焼結体は、円筒形状または円柱形状である。
例えば図１に示したモールド１０を用い、前述のように、ここへ前記ネオジム磁石用粉末を充填した後、図４に示した配向装置によって配向した後に焼結し、その後、結晶粒の配向方向に沿った磁界を印加することによって、配向方向に着磁された図７に示す円柱形状の２極の極異方性磁石を得ることができる。
また、例えば図２および図３に示したモールド２０およびモールド３０を用い、前述のように、ここへ前記ネオジム磁石用粉末を充填した後、図５および図６に示した配向装置によって配向した後に焼結し、その後、結晶粒の配向方向に沿った磁界を印加することによって、配向方向に着磁された図８に示す円柱形状の４極の極異方性磁石を得ることができる。
焼結体は、円筒形状または円柱形状である。
例えば図１に示したモールド１０を用い、前述のように、ここへ前記ネオジム磁石用粉末を充填した後、図４に示した配向装置によって配向した後に焼結し、その後、結晶粒の配向方向に沿った磁界を印加することによって、配向方向に着磁された図７に示す円柱形状の２極の極異方性磁石を得ることができる。
また、例えば図２および図３に示したモールド２０およびモールド３０を用い、前述のように、ここへ前記ネオジム磁石用粉末を充填した後、図５および図６に示した配向装置によって配向した後に焼結し、その後、結晶粒の配向方向に沿った磁界を印加することによって、配向方向に着磁された図８に示す円柱形状の４極の極異方性磁石を得ることができる。
【0047】
得られた極異方性磁石の大きさは特に限定されない。回転機中のロータ形状で要求される形状を製造すればよい。必要に応じて、これら焼結体表面から重希土類を焼結体内部に拡散させる工程を行うことにより、焼結体の保磁力、ひいては磁石としての耐熱性を上昇させることができる。具体的な粒界拡散工程としてはどのような工程でも採用できるが、例えば、特許第６１８０５０７号公報に記載の方法を採用すると、磁石内部まで重希土類が効率よく導入され磁石特性を向上させることができる。
【0048】
＜周方向の表面磁束密度分布について＞
このような本発明の製造方法によって得られる極異方性磁石（以下では「本発明の磁石」ともいう）は、磁化方向が磁路と一致するため、磁石の磁化ポテンシャルを高い効率で、外部に磁束を漏洩できる。よって、回転機、例えばモータ性能に影響するステータ／ロータとのキャップで、発生する磁束密度が高い。また、円周形状または円柱形状の周方向に漏洩する磁束量が極数に同期した正弦波状に形成される。つまり、周方向の表面磁束密度分布が正弦波を構成する。
ここで周方向に漏洩する磁束密度は、磁気測定装置（例えば、日本電磁測器株式会社製、ＵＨＳ－１ＤＳ）を用いて測定する。具体的には、磁気測定装置の磁界センサプローブを本発明の磁石の表面と０．５ｍｍ程度の間隔をあけてセットし、中心軸に対して垂直な円周に沿って一周、表面磁束を測定した後、磁界センサプローブを中心軸にそって下方向に１ｍｍ下げ、同様に一周、表面磁束密度を測定する。
このような本発明の製造方法によって得られる極異方性磁石（以下では「本発明の磁石」ともいう）は、磁化方向が磁路と一致するため、磁石の磁化ポテンシャルを高い効率で、外部に磁束を漏洩できる。よって、回転機、例えばモータ性能に影響するステータ／ロータとのキャップで、発生する磁束密度が高い。また、円周形状または円柱形状の周方向に漏洩する磁束量が極数に同期した正弦波状に形成される。つまり、周方向の表面磁束密度分布が正弦波を構成する。
ここで周方向に漏洩する磁束密度は、磁気測定装置（例えば、日本電磁測器株式会社製、ＵＨＳ－１ＤＳ）を用いて測定する。具体的には、磁気測定装置の磁界センサプローブを本発明の磁石の表面と０．５ｍｍ程度の間隔をあけてセットし、中心軸に対して垂直な円周に沿って一周、表面磁束を測定した後、磁界センサプローブを中心軸にそって下方向に１ｍｍ下げ、同様に一周、表面磁束密度を測定する。
【0049】
このようにして得られた周方向の表面磁束密度の波形について周波数分析（高速フーリエ変換＝ＦＦＴ（Fast Fourier Transform））することで高調波含有率を求めると、本発明の磁石の場合、１０％以下となり得る。
周方向の表面磁束密度の波形について周波数分析では、正弦波を１次波とされ、それ以外の高調波が非正弦波とされる。したがって、高調波含有率が０％の場合、周方向の表面磁束密度は完全正弦波と考えられる。本発明の磁石は、このように、前記円筒形状または円柱形状の周方向に漏洩する磁束量が極数に同期した正弦波状に形成され、かつ前記正弦波を１次成分とした場合、該１次成分を除く高調波成分の全体の比率が１０％以下であるものであることが好ましい。
この正弦波の振幅は高ければ高いほどよいが、回転機としての十分な出力特性を得る観点から、４５０ｍＴ以上、より好ましくは６００ｍＴ以上、さらに好ましくは７００ｍＴ以上が好ましい。本発明の磁石は、このように、前記円筒形状または円柱形状の周方向の磁極位置における表面磁束密度が４５０ｍＴ以上であるものであることが好ましい。
本発明の磁石における周方向の表面磁束密度の波形を周波数分析（フーリエ変換）して求められる高調波含有率が１０％以下（好ましくは５％以下、より好ましくは４％以下、さらに好ましくは３％以下）であると、当該表面磁束密度の波形がおおむね正弦波であるといえるため、周方向に漏洩する磁束が正弦波状に形成されると言ってよい。
周方向の表面磁束密度の波形について周波数分析では、正弦波を１次波とされ、それ以外の高調波が非正弦波とされる。したがって、高調波含有率が０％の場合、周方向の表面磁束密度は完全正弦波と考えられる。本発明の磁石は、このように、前記円筒形状または円柱形状の周方向に漏洩する磁束量が極数に同期した正弦波状に形成され、かつ前記正弦波を１次成分とした場合、該１次成分を除く高調波成分の全体の比率が１０％以下であるものであることが好ましい。
この正弦波の振幅は高ければ高いほどよいが、回転機としての十分な出力特性を得る観点から、４５０ｍＴ以上、より好ましくは６００ｍＴ以上、さらに好ましくは７００ｍＴ以上が好ましい。本発明の磁石は、このように、前記円筒形状または円柱形状の周方向の磁極位置における表面磁束密度が４５０ｍＴ以上であるものであることが好ましい。
本発明の磁石における周方向の表面磁束密度の波形を周波数分析（フーリエ変換）して求められる高調波含有率が１０％以下（好ましくは５％以下、より好ましくは４％以下、さらに好ましくは３％以下）であると、当該表面磁束密度の波形がおおむね正弦波であるといえるため、周方向に漏洩する磁束が正弦波状に形成されると言ってよい。
【0050】
なお、本発明の磁石の磁束密度の大きさは、正弦波の振幅を意味するものとする。
【0051】
＜軸方向の漏洩磁束量の大きさのバラツキについて＞
本発明の磁石は、中心軸方向の漏洩磁束量の大きさのバラツキが、円筒形状または円柱形状の同軸上における上下を通じた漏洩磁束量の平均値に対してプラスマイナス１０％以下であることが好ましい。
本発明の磁石は、中心軸方向の漏洩磁束量の大きさのバラツキが、円筒形状または円柱形状の同軸上における上下を通じた漏洩磁束量の平均値に対してプラスマイナス１０％以下であることが好ましい。
【0052】
このバラツキの測定方法について、図９を用いて説明する。
図９では円柱形状の本発明の磁石を例示しているが、円筒形状の場合であっても同様に考えることができる。
初めに、図９に示すように、本発明の磁石６８を軸Ｘ（２つの端面の法線方向）に平行方向において１０箇所、均等に区切る。そして、各々の箇所において周方向の表面磁束密度を測定する。この場合、前述のように、その波形はおおむね正弦波となる。そして、その正弦波の振幅を、その箇所での磁束密度の大きさとする。
このような操作によって１０箇所全ての磁束密度を求め、単純平均値を求める。
そして、その単純平均値に対する、全ての箇所の磁束密度の値の比（百分率）を求める。ここで求められた各々の比が、プラスマイナス５％以下（すなわち、９５～１０５％）であることが好ましく、プラスマイナス３％以下（すなわち、９７～１０３％）であることがより好ましい。
図９では円柱形状の本発明の磁石を例示しているが、円筒形状の場合であっても同様に考えることができる。
初めに、図９に示すように、本発明の磁石６８を軸Ｘ（２つの端面の法線方向）に平行方向において１０箇所、均等に区切る。そして、各々の箇所において周方向の表面磁束密度を測定する。この場合、前述のように、その波形はおおむね正弦波となる。そして、その正弦波の振幅を、その箇所での磁束密度の大きさとする。
このような操作によって１０箇所全ての磁束密度を求め、単純平均値を求める。
そして、その単純平均値に対する、全ての箇所の磁束密度の値の比（百分率）を求める。ここで求められた各々の比が、プラスマイナス５％以下（すなわち、９５～１０５％）であることが好ましく、プラスマイナス３％以下（すなわち、９７～１０３％）であることがより好ましい。
【0053】
＜貫通孔等について＞
本発明の磁石は、中心軸（例えば図９の軸Ｘ）に沿った貫通孔を有してもよい。この場合、回転軸を貫通孔に貫通させることで、本発明の磁石に回転軸を装着することができる。
本発明の磁石は、中心軸（例えば図９の軸Ｘ）に沿った貫通孔を有してもよい。この場合、回転軸を貫通孔に貫通させることで、本発明の磁石に回転軸を装着することができる。
【0054】
＜回転子＞
また、本発明の磁石は貫通孔を有さなくてもよい。
この場合、例えば図１０に示すように用いてもよい。
図１０は、本発明の磁石の両端面の外側に２つのシャフトを配置し、さらに保護管によって覆ってなる回転子を示す断面斜視図である。
図１０に示す回転子において本発明の磁石７０は、その両端面が２つのシャフト７２に接している。
シャフト７２はその断面が円形で、その断面直径は本発明の磁石７０と同一となるように形成されている。
そして、本発明の磁石７０が完全に覆われるように、保護管７４によって覆われている。保護管７４の内径は、本発明の磁石７０およびシャフト７２の外径とほぼ同一となるように構成されている。
このような保護管７４を有すると、図１０に示す回転子が回転した場合、磁石の破損回避など、耐遠心力を備えることができる。そして、図１０に示す回転子は、例えば２０，０００ｒｐｍ以上での回転が可能となり得る。
また、本発明の磁石は貫通孔を有さなくてもよい。
この場合、例えば図１０に示すように用いてもよい。
図１０は、本発明の磁石の両端面の外側に２つのシャフトを配置し、さらに保護管によって覆ってなる回転子を示す断面斜視図である。
図１０に示す回転子において本発明の磁石７０は、その両端面が２つのシャフト７２に接している。
シャフト７２はその断面が円形で、その断面直径は本発明の磁石７０と同一となるように形成されている。
そして、本発明の磁石７０が完全に覆われるように、保護管７４によって覆われている。保護管７４の内径は、本発明の磁石７０およびシャフト７２の外径とほぼ同一となるように構成されている。
このような保護管７４を有すると、図１０に示す回転子が回転した場合、磁石の破損回避など、耐遠心力を備えることができる。そして、図１０に示す回転子は、例えば２０，０００ｒｐｍ以上での回転が可能となり得る。
【0055】
＜モータ＞
本発明の磁石の貫通孔に回転軸を取り付けたものや、図１０に示した態様の本発明の磁石７０を用いて、例えば図１１に示すモータを形成することができる。
図１１は、図１０に例示した本発明の磁石７０を回転子として用いたモータ８０を示している。図１１は、モータ８０の回転軸に垂直方向での断面図である。
モータ８０は、円筒形のステータ８２の内側に、周方向一定の間隔でコイル８４を有しており、中心に本発明の磁石７０を有する。そして、本発明の磁石７０とコイル８４との間には、一定のギャップ８６が形成されている。
なお、図１１に示したモータは集中巻ステータを有しているが、分布巻ステータを採用することもできる。
本発明の磁石の貫通孔に回転軸を取り付けたものや、図１０に示した態様の本発明の磁石７０を用いて、例えば図１１に示すモータを形成することができる。
図１１は、図１０に例示した本発明の磁石７０を回転子として用いたモータ８０を示している。図１１は、モータ８０の回転軸に垂直方向での断面図である。
モータ８０は、円筒形のステータ８２の内側に、周方向一定の間隔でコイル８４を有しており、中心に本発明の磁石７０を有する。そして、本発明の磁石７０とコイル８４との間には、一定のギャップ８６が形成されている。
なお、図１１に示したモータは集中巻ステータを有しているが、分布巻ステータを採用することもできる。
【0056】
本発明の磁石７０は発生する磁束密度が大きいためギャップ８６を比較的大きくすることができる。逆に言えば、ギャップ８６を大きくしてもコイル８４に十分な磁束を発生させることができる。磁石材料の電気導電率は高く、高周波の磁束変化が磁石材料へ印加した場合、大きな渦電流が発生しモータ効率が低下する。この渦電流を抑制するには、磁石を分割し、渦電流経路の相殺による方法が良く取られる。しかし、この場合、磁石加工／磁石組立／ロータへの磁石挿入など、莫大なコスト上昇が発生する。別の方法は、高周波の磁束変化の大きさを減らすことであるが、限られたロータ面積で大きな磁束（従来対比、１．５～３．０倍）を発生する磁石は存在せず、実現することは、困難であった。磁石７０が回転子として回転した場合、ステータコイルへ流れる電流は、高調波を含む電圧／電流を制御するインバータで駆動する。この高周波電流が、コイルで高周波磁束変化を起こし、その高周波磁束変化が磁石へ印加され、渦電流が発生する。本発明の場合、渦電流が発生したとしても、ステータからの距離を大きく取れるため、その影響は、極めて軽微となる。仮に、一般的な小型モータのギャップを０．５ｍｍとすると、１．５ｍｍまで広げることが可能となる。これにより高周波磁束の大きさが１／１０となると仮定すると、渦電流損は１／１００となる。よって、従来は、渦電流が発生することで大きな熱損失等が生じ、エネルギー損失は熱による障害を招いていたため、とくに、高速回転モータは、磁石を使用した設計が、実現していなかった。しかし、本発明の磁石を用いたモータは、従来では実現できなかった同じ出力で、小型／軽量化したモータを高速回転化などで実現することができる。
【0057】
＜２極の極異方円柱磁石を用いたモータ＞
図７に示したような２極の極異方性磁石は極異方配向をしているため、パラレル配向と比較すると、モータ組込時、誘起電圧の波形が正弦波に近くなる（方形波から正弦波に近づくことで、高調波含有率が３０％以上低減）。モータのマグネットトルクはコイルが発生する磁束とギャップで発生する磁束との積に比例する。ここで、インバータ制御では、コイルへの電流は、通常、正弦波で投入するため、磁石発生磁束も正弦波に近いほど、同じ磁石材質とした場合、他配向マグネットと比較して、マグネットトルクが１．２倍から１．８倍程度向上する。
さらに、高速モータへ適用した場合、高速モータでは回転遠心力が問題となる。また、ロータ径が小さいほど、遠心力影響は低減する。まず、遠心力対策として、ロータ外径に、強度部材となる保護管を構成する。さらに、高速モータでは、インバータ駆動を想定すると、高速に応じて、駆動制御周波数が３００から５０００Ｈｚ程度の高速となる。制御周波数の高速化により、ステータからロータへ、トルクに寄与しない高周波の磁束変化が印加され、保護管／ロータへ渦電流が発生する。極異方円柱磁石を用いた場合、上記の理由により、大きなマグネットトルクを発生できる。よって上記より、ロータとステータとの間隔を広く確保することが可能となる。本発明に係る磁石を適用すれば、ロータとステータの間隔を従来の０．５ｍｍから１．５ｍｍまで広げることが可能である。また、ロータとステータの間隔を広くすると、ロータに発生する高周波磁束量が低減し、渦電流を低減する。仮にロータに発生する高周波磁束密度が１０分の１に低減すると、渦電流は１００分の１程度まで低減することが可能である。結果として、高速回転モータを実現できる。
また、仮に１０，０００ｒｐｍのモータを２０，０００ｒｐｍとし、同等の出力を確保できたとすると、ロータ径は４分の１にできる可能性があり、モータの小型化も可能となる。
図７に示したような２極の極異方性磁石は極異方配向をしているため、パラレル配向と比較すると、モータ組込時、誘起電圧の波形が正弦波に近くなる（方形波から正弦波に近づくことで、高調波含有率が３０％以上低減）。モータのマグネットトルクはコイルが発生する磁束とギャップで発生する磁束との積に比例する。ここで、インバータ制御では、コイルへの電流は、通常、正弦波で投入するため、磁石発生磁束も正弦波に近いほど、同じ磁石材質とした場合、他配向マグネットと比較して、マグネットトルクが１．２倍から１．８倍程度向上する。
さらに、高速モータへ適用した場合、高速モータでは回転遠心力が問題となる。また、ロータ径が小さいほど、遠心力影響は低減する。まず、遠心力対策として、ロータ外径に、強度部材となる保護管を構成する。さらに、高速モータでは、インバータ駆動を想定すると、高速に応じて、駆動制御周波数が３００から５０００Ｈｚ程度の高速となる。制御周波数の高速化により、ステータからロータへ、トルクに寄与しない高周波の磁束変化が印加され、保護管／ロータへ渦電流が発生する。極異方円柱磁石を用いた場合、上記の理由により、大きなマグネットトルクを発生できる。よって上記より、ロータとステータとの間隔を広く確保することが可能となる。本発明に係る磁石を適用すれば、ロータとステータの間隔を従来の０．５ｍｍから１．５ｍｍまで広げることが可能である。また、ロータとステータの間隔を広くすると、ロータに発生する高周波磁束量が低減し、渦電流を低減する。仮にロータに発生する高周波磁束密度が１０分の１に低減すると、渦電流は１００分の１程度まで低減することが可能である。結果として、高速回転モータを実現できる。
また、仮に１０，０００ｒｐｍのモータを２０，０００ｒｐｍとし、同等の出力を確保できたとすると、ロータ径は４分の１にできる可能性があり、モータの小型化も可能となる。
【0058】
＜４極以上の極異方円柱磁石を用いたモータ＞
図８に示したような４極の極異方性磁石または４極以上の極異方性磁石は、ラジアル／パラレル配向の円筒／セグメント磁石ロータと比較して、磁化路長さを長くすることができる。
２極の極異方性磁石の場合と同様、モータ組込時、誘起電圧の波形が、正弦波に近くなる（高調波含有率が下がる）。
２極ロータを４極ロータとした場合、ロータ回転数を半分程度としてもほぼ同等の誘起電圧を発生できる。したがって、回転数を下げても、モータ必要性能を確保できる。
さらに、高速モータは、高速とすることで、モータ出力［発生トルクと回転する積に比例］の向上を目的とする場合が多い。しかし、高速モータでは遠心力により磁石などへ応力が加わり、実現性が問題となる。４極以上の極異方円柱磁石を用いた場合、従来磁石と比較して、マグネットトルク向上／ロータ回転数低減の２手法を適用できる。これにより、ロータに発生する渦電流を低減し、従来にない出力で、高速回転における小型／軽量モータを実現できる。
図８に示したような４極の極異方性磁石または４極以上の極異方性磁石は、ラジアル／パラレル配向の円筒／セグメント磁石ロータと比較して、磁化路長さを長くすることができる。
２極の極異方性磁石の場合と同様、モータ組込時、誘起電圧の波形が、正弦波に近くなる（高調波含有率が下がる）。
２極ロータを４極ロータとした場合、ロータ回転数を半分程度としてもほぼ同等の誘起電圧を発生できる。したがって、回転数を下げても、モータ必要性能を確保できる。
さらに、高速モータは、高速とすることで、モータ出力［発生トルクと回転する積に比例］の向上を目的とする場合が多い。しかし、高速モータでは遠心力により磁石などへ応力が加わり、実現性が問題となる。４極以上の極異方円柱磁石を用いた場合、従来磁石と比較して、マグネットトルク向上／ロータ回転数低減の２手法を適用できる。これにより、ロータに発生する渦電流を低減し、従来にない出力で、高速回転における小型／軽量モータを実現できる。
【0059】
このような本発明の磁石を用いたモータは、車や航空機等の移動体に搭載して用いることができる。
【0060】
航空用途では、１００，０００ｒｐｍを超えるタービンをエネルギー源とした発電機が期待されているが、航空用途では出力／重量比が高いことが重要である。
本発明の磁石は大きな磁束を発生させることができるため、小型化／軽量化／高効率化が実現でき、例えば航空用途の高出力な発電機を形成することもできる。
本発明の磁石は大きな磁束を発生させることができるため、小型化／軽量化／高効率化が実現でき、例えば航空用途の高出力な発電機を形成することもできる。
【0061】
＜発電機＞
本発明の磁石は、コンプレッサの駆動源、タービンを動力源とする発電機にも適用することができる。
本発明の磁石は、コンプレッサの駆動源、タービンを動力源とする発電機にも適用することができる。
【実施例】
【0062】
＜実施例１＞
表１の組成［１］に示す組成を備え、平均粒子径が３．２μｍのネオジム磁石用粉末を用意した。そして、ここへ潤滑剤としてカプリル酸メチルを０．０７質量％となるように加え、十分に混合した。その後、潤滑剤が添加されたネオジム磁石用粉末を、３．６ｇ／ｃｍ3の充填密度で図２に示したカーボン製の擬円柱形のモールドキャビティに充填し、粉末充填済みモールドを得た。
次に、粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく、図５に示すように２．０Ｔの配向磁界を印加して、配向済みモールドを得た。
次に、配向済みモールドを焼結炉へ装入して、１０００℃で４時間、真空中にてモールドごと焼結し、焼結体を得た。さらに、得られた焼結体について、８００℃で３０分、５２０℃で１時間、時効処理を行った。
これに配向方向に沿った磁界を印加して図８に示した円柱形状の４極の極異方性磁石を得た。
そして、得られた極異方性磁石について前述の方法にて表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
また、実施例１の場合の周方向の表面磁束密度の波形を図１２に示す。
さらに、実施例１の場合の中心軸方向の磁束量の大きさのバラツキを図１３に示す。
表１の組成［１］に示す組成を備え、平均粒子径が３．２μｍのネオジム磁石用粉末を用意した。そして、ここへ潤滑剤としてカプリル酸メチルを０．０７質量％となるように加え、十分に混合した。その後、潤滑剤が添加されたネオジム磁石用粉末を、３．６ｇ／ｃｍ3の充填密度で図２に示したカーボン製の擬円柱形のモールドキャビティに充填し、粉末充填済みモールドを得た。
次に、粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく、図５に示すように２．０Ｔの配向磁界を印加して、配向済みモールドを得た。
次に、配向済みモールドを焼結炉へ装入して、１０００℃で４時間、真空中にてモールドごと焼結し、焼結体を得た。さらに、得られた焼結体について、８００℃で３０分、５２０℃で１時間、時効処理を行った。
これに配向方向に沿った磁界を印加して図８に示した円柱形状の４極の極異方性磁石を得た。
そして、得られた極異方性磁石について前述の方法にて表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
また、実施例１の場合の周方向の表面磁束密度の波形を図１２に示す。
さらに、実施例１の場合の中心軸方向の磁束量の大きさのバラツキを図１３に示す。
【0063】
＜実施例２＞
実施例１では潤滑剤としてカプリル酸メチルをネオジム磁石用粉末へ加えたが、実施例２ではカプリル酸メチルに代わりにラウリン酸メチルを潤滑剤として用い、これをネオジム磁石粉末へ加えた。
また、実施例１では配向済みモールドを焼結炉へ装入して、１０００℃で焼結したが、実施例２では１０２０℃で焼結した。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
実施例１では潤滑剤としてカプリル酸メチルをネオジム磁石用粉末へ加えたが、実施例２ではカプリル酸メチルに代わりにラウリン酸メチルを潤滑剤として用い、これをネオジム磁石粉末へ加えた。
また、実施例１では配向済みモールドを焼結炉へ装入して、１０００℃で焼結したが、実施例２では１０２０℃で焼結した。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
【0064】
＜実施例３＞
実施例１では表１に示す組成［１］の組成を有し、平均粒子径が３．２μｍのネオジム磁石用粉末を用いたが、実施例３では表１に示す組成［２］の組成を有し、平均粒子径が４．９μｍのネオジム磁石用粉末を用いた。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
なお、実施例３にて用いたネオジム磁石用粉末はＤｙを含む。この点が実施例１の場合に得られる極異方性磁石とは異なる性能を有するものになった主要因と推定される。
実施例１では表１に示す組成［１］の組成を有し、平均粒子径が３．２μｍのネオジム磁石用粉末を用いたが、実施例３では表１に示す組成［２］の組成を有し、平均粒子径が４．９μｍのネオジム磁石用粉末を用いた。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
なお、実施例３にて用いたネオジム磁石用粉末はＤｙを含む。この点が実施例１の場合に得られる極異方性磁石とは異なる性能を有するものになった主要因と推定される。
【0065】
＜実施例４＞
実施例１では、粉末充填済みモールドを配向装置へ装填して２．０Ｔの配向磁界を印加したが、実施例４では粉末充填済みモールドを配向装置へ装填して１．０Ｔの配向磁界を印加した。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
なお、実施例４は実施例１の場合とは配向磁界が異なる。この点が実施例１の場合に得られる極異方性磁石とは異なる性能を有するものになった主要因と推定される。
実施例１では、粉末充填済みモールドを配向装置へ装填して２．０Ｔの配向磁界を印加したが、実施例４では粉末充填済みモールドを配向装置へ装填して１．０Ｔの配向磁界を印加した。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
なお、実施例４は実施例１の場合とは配向磁界が異なる。この点が実施例１の場合に得られる極異方性磁石とは異なる性能を有するものになった主要因と推定される。
【0066】
＜実施例５＞
実施例１では、粉末充填済みモールドを配向装置へ装填して２．０Ｔの配向磁界を印加したが、実施例５では粉末充填済みモールドを配向装置へ装填して３．０Ｔの配向磁界を印加した。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
なお、実施例５は実施例１の場合とは配向磁界が異なる。この点が実施例１の場合に得られる極異方性磁石とは異なる性能を有するものになった主要因と推定される。
実施例１では、粉末充填済みモールドを配向装置へ装填して２．０Ｔの配向磁界を印加したが、実施例５では粉末充填済みモールドを配向装置へ装填して３．０Ｔの配向磁界を印加した。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
なお、実施例５は実施例１の場合とは配向磁界が異なる。この点が実施例１の場合に得られる極異方性磁石とは異なる性能を有するものになった主要因と推定される。
【0067】
＜実施例６＞
実施例１では、図２に示したカーボン製の擬円柱形のモールドキャビティを用い、図５に示すように配向磁界を印加して、図８に示した円柱形状の４極の極異方性磁石を得たが、実施例６では、図１に示したカーボン製の擬円柱形のモールドキャビティを用い、図４に示すように配向磁界を印加して、図７に示した円柱形状の２極の極異方性磁石を得た。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
なお、実施例６は実施例１の場合とは極異方性磁石の極数が異なる。
実施例１では、図２に示したカーボン製の擬円柱形のモールドキャビティを用い、図５に示すように配向磁界を印加して、図８に示した円柱形状の４極の極異方性磁石を得たが、実施例６では、図１に示したカーボン製の擬円柱形のモールドキャビティを用い、図４に示すように配向磁界を印加して、図７に示した円柱形状の２極の極異方性磁石を得た。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
なお、実施例６は実施例１の場合とは極異方性磁石の極数が異なる。
【0068】
＜実施例７＞
実施例１において得られた極異方性磁石について、さらにＧＢＤを施した。ＧＢＤとは、極異方性磁石の表面にＴｂＮｉＡｌ合金付着（Ｔｂ付着量１ｗｔ％／ｍｍ2）させた後、Ａｒ雰囲気で９００℃、１５ｈｒｓの熱処理を行うことで磁石内にＴｂ元素を拡散させる処理である。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
実施例１において得られた極異方性磁石について、さらにＧＢＤを施した。ＧＢＤとは、極異方性磁石の表面にＴｂＮｉＡｌ合金付着（Ｔｂ付着量１ｗｔ％／ｍｍ2）させた後、Ａｒ雰囲気で９００℃、１５ｈｒｓの熱処理を行うことで磁石内にＴｂ元素を拡散させる処理である。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
【0069】
＜実施例８＞
表１の組成［１］に示す組成を備え、平均粒子径が３．２μｍのネオジム磁石用粉末を用意した。そして、ここへ潤滑剤としてカプリル酸メチルを０．０７質量％となるように加え、十分に混合した。その後、潤滑剤が添加されたネオジム磁石用粉末を、３．６ｇ／ｃｍ3の充填密度で図３に示したカーボン製の擬円柱形のモールドキャビティに充填し、粉末充填済みモールドを得た。
次に、粉末充填モールドを配向装置へ装填し、充填粉末に圧力を加えることなく、図６に示すように２．０Ｔの配向磁界を印加して、配向済みモールドを得た。
次に、配向済みモールドを焼結炉へ装入して、１０００℃で４時間、真空中にてモールドごと焼結し、焼結体を得た。さらに、得られた焼結体について、８００℃で３０分、５２０℃で１時間、時効処理を行った。
これに配向方向に沿った磁界を印加して図８に示した円柱形状の４極の極異方性磁石を得た。
なお、図６では、図５に示したように内側に尖った部分が形成されていないが、この部分の形状と印加する磁界の強さを制御することにより、意図する極異方の配向を得ることができる。
そして、得られた極異方性磁石について前述の方法にて表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
表１の組成［１］に示す組成を備え、平均粒子径が３．２μｍのネオジム磁石用粉末を用意した。そして、ここへ潤滑剤としてカプリル酸メチルを０．０７質量％となるように加え、十分に混合した。その後、潤滑剤が添加されたネオジム磁石用粉末を、３．６ｇ／ｃｍ3の充填密度で図３に示したカーボン製の擬円柱形のモールドキャビティに充填し、粉末充填済みモールドを得た。
次に、粉末充填モールドを配向装置へ装填し、充填粉末に圧力を加えることなく、図６に示すように２．０Ｔの配向磁界を印加して、配向済みモールドを得た。
次に、配向済みモールドを焼結炉へ装入して、１０００℃で４時間、真空中にてモールドごと焼結し、焼結体を得た。さらに、得られた焼結体について、８００℃で３０分、５２０℃で１時間、時効処理を行った。
これに配向方向に沿った磁界を印加して図８に示した円柱形状の４極の極異方性磁石を得た。
なお、図６では、図５に示したように内側に尖った部分が形成されていないが、この部分の形状と印加する磁界の強さを制御することにより、意図する極異方の配向を得ることができる。
そして、得られた極異方性磁石について前述の方法にて表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は高く（４５０ｍＴ以上）、高調波成分比率（％）が低く（１０％以下）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％以下となり、いずれも良好な性能であることを確認できた。
【0070】
＜実施例９＞
実施例８では潤滑剤としてカプリル酸メチルをネオジム磁石用粉末へ加えたが、実施例９ではカプリル酸メチルに代わりラウリン酸メチルを潤滑剤として用い、これをネオジム磁石粉末へ加えた。
また、実施例８では配向済みモールドを焼結炉へ装入して、１０００℃で焼結したが、実施例９では１０２０℃で焼結した。
そして、実施例８では、図５に示すように、図５の紙面に対し平行方向に磁界を印加したが、実施例９では、磁石の配向方向に垂直な方向（磁石の軸方向）に２．０Ｔの磁界を印加して配向した後、磁石の配向方向にも４．８Ｔの配向磁界を印加した。その結果、前述の実施例８では、磁石表面に数か所若干のひび割れが確認されたが、実施例９では、同様のひび割れが全く確認されなかった。この結果から、磁石の軸方向に磁界を印加することにより、磁石の強度をより強固なもの（外観をきれいなもの）とすることができる。これは、予め磁石の軸方向に磁界を印加することにより粉末密度が増すこと、予め磁場をかけて粉末を磁力が帯びた状態にすることでより配向しやすくなったことが主な要因と考えられる。
実施例８では潤滑剤としてカプリル酸メチルをネオジム磁石用粉末へ加えたが、実施例９ではカプリル酸メチルに代わりラウリン酸メチルを潤滑剤として用い、これをネオジム磁石粉末へ加えた。
また、実施例８では配向済みモールドを焼結炉へ装入して、１０００℃で焼結したが、実施例９では１０２０℃で焼結した。
そして、実施例８では、図５に示すように、図５の紙面に対し平行方向に磁界を印加したが、実施例９では、磁石の配向方向に垂直な方向（磁石の軸方向）に２．０Ｔの磁界を印加して配向した後、磁石の配向方向にも４．８Ｔの配向磁界を印加した。その結果、前述の実施例８では、磁石表面に数か所若干のひび割れが確認されたが、実施例９では、同様のひび割れが全く確認されなかった。この結果から、磁石の軸方向に磁界を印加することにより、磁石の強度をより強固なもの（外観をきれいなもの）とすることができる。これは、予め磁石の軸方向に磁界を印加することにより粉末密度が増すこと、予め磁場をかけて粉末を磁力が帯びた状態にすることでより配向しやすくなったことが主な要因と考えられる。
【0071】
また、実施例９の場合の磁石表面における各測定点の配向角度および配向度を測定した。図１４は、実施例９で得られた磁石を上（軸方向）から見た場合の右上４分の１の部分における、磁石中心点Ｏと、Ｏから平行方向にある磁石端部Ｘと、Ｏから垂直方向にある磁石端部Ｙとの位置関係を示す図である。表３は、位置関係（距離及び角度）の実測値と配向角度および配向度を示したものである。
表３のＸは磁石中心点からのＸ方向の距離、Ｙは磁石中心点からのＹ方向の距離、Ｒは、磁石中心点から各測定点までの距離、θは、直線Ｏ－Ｘを０°とした場合の直線Ｏ－Ｘと直線Ｏ－各測定点がなす角度を示している。また、表３の配向角度はＸＲＤ（Ｘ線回析）によって算出した角度を示している。また、表３の配向度はＸＲＤによって測定したものとＸＲＤの結果から換算したＢｒ／Ｊｓの結果を示している。ＸＲＤでは、磁石中の結晶の向きが意図した方向に向いているかの程度（結晶学的配向度）を測定している。Ｂｒ／Ｊｓの結果は、同じ構成からなる磁石について、予備実験を行い、ＸＲＤの値を求めておき、ＸＲＤとＢｒ／Ｊｓの相関関係（両者の検量線の対比）から算出した。表３に示すように、実施例９は高い割合で図８に示すような配向を示す。具体的には、各測定点において、ＸＲＤ、Ｂｒ／Ｊｓの結果は、いずれも８０％以上となっている。
表３のＸは磁石中心点からのＸ方向の距離、Ｙは磁石中心点からのＹ方向の距離、Ｒは、磁石中心点から各測定点までの距離、θは、直線Ｏ－Ｘを０°とした場合の直線Ｏ－Ｘと直線Ｏ－各測定点がなす角度を示している。また、表３の配向角度はＸＲＤ（Ｘ線回析）によって算出した角度を示している。また、表３の配向度はＸＲＤによって測定したものとＸＲＤの結果から換算したＢｒ／Ｊｓの結果を示している。ＸＲＤでは、磁石中の結晶の向きが意図した方向に向いているかの程度（結晶学的配向度）を測定している。Ｂｒ／Ｊｓの結果は、同じ構成からなる磁石について、予備実験を行い、ＸＲＤの値を求めておき、ＸＲＤとＢｒ／Ｊｓの相関関係（両者の検量線の対比）から算出した。表３に示すように、実施例９は高い割合で図８に示すような配向を示す。具体的には、各測定点において、ＸＲＤ、Ｂｒ／Ｊｓの結果は、いずれも８０％以上となっている。
【0072】
＜比較例１＞
実施例１では表１の組成［１］に示す組成を備え、平均粒子径が３．２μｍのネオジム磁石用粉末を用いたが、比較例１では同様の組成を備えるが、平均粒子径が０．８μｍのネオジム磁石用粉末を用いた。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は悪化（４５０ｍＴ未満）し、高調波成分比率（％）が悪化し（１０％超）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％超と悪化した。これはネオジム磁石用粉末の粒径が小さいため、表面積が大きくなり充填不良となり、その結果、得られた極異方性磁石の内部に欠陥が生じたためと推定される。
また、比較例１の場合の周方向の表面磁束密度の波形を図１２に示す。
実施例１では表１の組成［１］に示す組成を備え、平均粒子径が３．２μｍのネオジム磁石用粉末を用いたが、比較例１では同様の組成を備えるが、平均粒子径が０．８μｍのネオジム磁石用粉末を用いた。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は悪化（４５０ｍＴ未満）し、高調波成分比率（％）が悪化し（１０％超）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％超と悪化した。これはネオジム磁石用粉末の粒径が小さいため、表面積が大きくなり充填不良となり、その結果、得られた極異方性磁石の内部に欠陥が生じたためと推定される。
また、比較例１の場合の周方向の表面磁束密度の波形を図１２に示す。
【0073】
＜比較例２＞
実施例１では表１の組成［１］に示す組成を備え、平均粒子径が３．２μｍのネオジム磁石用粉末を用いたが、比較例２では同様の組成を備えるが、平均粒子径が８．２μｍのネオジム磁石用粉末を用いた。
また、実施例１では潤滑剤としてカプリル酸メチルをネオジム磁石用粉末へ加えたが、比較例２ではカプリル酸メチルに代わりにラウリン酸メチルを潤滑剤として用い、これをネオジム磁石粉末へ加えた。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は悪化（４５０ｍＴ未満）し、高調波成分比率（％）が悪化し（１０％超）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％超と悪化した。これはネオジム磁石用粉末の粒径が大きいため、非単結晶粒が多く含まれ、その結果、配向が不良となったためと推定される。
また、比較例２の場合の周方向の表面磁束密度の波形を図１２に示す。
実施例１では表１の組成［１］に示す組成を備え、平均粒子径が３．２μｍのネオジム磁石用粉末を用いたが、比較例２では同様の組成を備えるが、平均粒子径が８．２μｍのネオジム磁石用粉末を用いた。
また、実施例１では潤滑剤としてカプリル酸メチルをネオジム磁石用粉末へ加えたが、比較例２ではカプリル酸メチルに代わりにラウリン酸メチルを潤滑剤として用い、これをネオジム磁石粉末へ加えた。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は悪化（４５０ｍＴ未満）し、高調波成分比率（％）が悪化し（１０％超）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％超と悪化した。これはネオジム磁石用粉末の粒径が大きいため、非単結晶粒が多く含まれ、その結果、配向が不良となったためと推定される。
また、比較例２の場合の周方向の表面磁束密度の波形を図１２に示す。
【0074】
＜比較例３＞
実施例１では潤滑剤が添加されたネオジム磁石用粉末を３．６ｇ／ｃｍ3の充填密度でモールドキャビティに充填したが、比較例３では３．２ｇ／ｃｍ3の充填密度でモールドキャビティに充填した。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）は、いずれも測定できなかった。これは充填密度が不足していたため、まともな中実円筒形状の作製ができなかった。
実施例１では潤滑剤が添加されたネオジム磁石用粉末を３．６ｇ／ｃｍ3の充填密度でモールドキャビティに充填したが、比較例３では３．２ｇ／ｃｍ3の充填密度でモールドキャビティに充填した。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）は、いずれも測定できなかった。これは充填密度が不足していたため、まともな中実円筒形状の作製ができなかった。
【0075】
＜比較例４＞
実施例１では潤滑剤が添加されたネオジム磁石用粉末を３．６ｇ／ｃｍ3の充填密度でモールドキャビティに充填したが、比較例４では４．２ｇ／ｃｍ3の充填密度でモールドキャビティに充填した。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は悪化（４５０ｍＴ未満）し、高調波成分比率（％）が悪化し（１０％超）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％超と悪化した。これは充填密度が高かったため、配向し難くなったことが要因と推定される。
また、比較例４の場合の周方向の表面磁束密度の波形を図１２に示す。
実施例１では潤滑剤が添加されたネオジム磁石用粉末を３．６ｇ／ｃｍ3の充填密度でモールドキャビティに充填したが、比較例４では４．２ｇ／ｃｍ3の充填密度でモールドキャビティに充填した。
そして、それ以外は実施例１と同様の操作を行い、得られた極異方性磁石について、実施例１の場合と同様に、表面磁束密度（ｍＴ）、高調波成分比率（％）および軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）を測定した。
結果を測定条件等と共に表２に示す。
表２に示すように、表面磁束密度（ｍＴ）は悪化（４５０ｍＴ未満）し、高調波成分比率（％）が悪化し（１０％超）、軸方向の表面磁束密度のバラツキ（％）も５％超と悪化した。これは充填密度が高かったため、配向し難くなったことが要因と推定される。
また、比較例４の場合の周方向の表面磁束密度の波形を図１２に示す。
【0076】
【表1】
【0077】
【表2】
【0078】
【表3】
【符号の説明】
【0079】
１０ モールド
１２、１４ 端面
１６ 側面
１８ 内面
１９ モールドキャビティ
２０ モールド
２２、２４ 端面
２６ 側面
２８ 内面
２９ モールドキャビティ
３０ モールド
３２、３４ 端面
３６ 側面
３８ 内面
３９ モールドキャビティ
４０ 粉末充填済みモールド
４２ コイル
５０ 粉末充填済みモールド
５２ コイル
６０ 粉末充填済みモールド
６２ コイル
６８、７０ 本発明の磁石
７２ シャフト
７４ 保護管
８０ モータ
８２ ステータ
８４ コイル
８６ ギャップ
１２、１４ 端面
１６ 側面
１８ 内面
１９ モールドキャビティ
２０ モールド
２２、２４ 端面
２６ 側面
２８ 内面
２９ モールドキャビティ
３０ モールド
３２、３４ 端面
３６ 側面
３８ 内面
３９ モールドキャビティ
４０ 粉末充填済みモールド
４２ コイル
５０ 粉末充填済みモールド
５２ コイル
６０ 粉末充填済みモールド
６２ コイル
６８、７０ 本発明の磁石
７２ シャフト
７４ 保護管
８０ モータ
８２ ステータ
８４ コイル
８６ ギャップ
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
