特許 7562001 リソグラフィシステムの走査方法及びリソグラフィシステム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-09-26

(45)【発行日】2024-10-04

(54)【発明の名称】リソグラフィシステムの走査方法及びリソグラフィシステム

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20240927BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 501

【請求項の数】 9

(21)【出願番号】P 2023541514

(86)(22)【出願日】2021-09-06

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2024-01-17

(86)【国際出願番号】 CN2021116740

(87)【国際公開番号】W WO2022148037

(87)【国際公開日】2022-07-14

【審査請求日】2023-08-04

(31)【優先権主張番号】202110019610.6

(32)【優先日】2021-01-07

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(31)【優先権主張番号】202120038045.3

(32)【優先日】2021-01-07

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(73)【特許権者】

【識別番号】523256384

【氏名又は名称】江蘇迪盛智能科技有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＧＩＳ ＴＥＣＨ ＩＮＣ．

【住所又は居所原語表記】２ｎｄ Ｆｌｏｏｒ， Ｂｕｉｌｄｉｎｇ Ｎｏ． ２ Ｒｕｉｊｉｎｇ Ｂｕｉｌｄｉｎｇ， ８６８ Ｓｏｕｔｈ Ｊｉｎｓｈａｎ Ｒｏａｄ Ｍｕｄｕ Ｔｏｗｎ， Ｗｕｚｈｏｎｇ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ Ｓｕｚｈｏｕ， Ｊｉａｎｇｓｕ ２１５０００， Ｃｈｉｎａ

(74)【代理人】

【識別番号】110002262

【氏名又は名称】ＴＲＹ国際弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】陳 国軍

(72)【発明者】

【氏名】呉 景舟

(72)【発明者】

【氏名】馬 迪

【審査官】中尾 太郎

(56)【参考文献】

【文献】特開２００４－２３３７１８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００８－１０２２４９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００８－２０３５０６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１－１０７５７０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０２０－５０２５７７（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１０／０２５６８１７（ＵＳ，Ａ１）

【文献】米国特許出願公開第２０２０／００８９１２１（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０３Ｆ ７／２０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

リソグラフィシステムに適用される走査方法であって、前記リソグラフィシステムは、機台と、ステージと、デジタルマイクロミラーデバイスＤＭＤとを含み、前記ＤＭＤは、前記機台上に設置され、前記ステージは、リソグラフィ対象物を設置するためのものであり、前記方法は、
前記ＤＭＤと前記リソグラフィ対象物とに第一方向及び第二方向の相対運動が同時に発生するように、前記ＤＭＤ、前記機台及び前記ステージのうち、少なくとも１つが含まれる運動本体を制御して運動させることを含み、
前記ＤＭＤは、複数のマイクロミラーを含み、各々の前記マイクロミラーの形状は矩形であり、前記マイクロミラーの第一辺の長さをｍと記し、前記マイクロミラーの第二辺の長さをｎと記し、目標長さをｐと記し、前記ＤＭＤと前記リソグラフィ対象物との間の相対運動方向と、前記第一方向とが成す鋭角の夾角をθと記し、
前記方法は、
ｍ、ｎ及びｐに従って、θを確定することを更に含む、リソグラフィシステムの走査方法。

【請求項2】

ｐとθとの間の関係は、
ｐ＝（ｎ×ｔａｎθ＋ｍ）×ｃｏｓθを満たす、請求項１に記載の方法。

【請求項3】

前記ＤＭＤと前記リソグラフィ対象物とは、第一方向の相対速度がＶ_１であり、第二方向の相対速度がＶ_２であり、
前記方法は、
θに従って、Ｖ_１及びＶ_２を確定することを更に含む、請求項１に記載の方法。

【請求項4】

Ｖ_２／Ｖ_１＝ｔａｎθである、請求項３に記載の方法。

【請求項5】

前記ＤＭＤは、前記機台上に固定的に設置され、
前記運動本体を制御して運動させることは、
前記機台を制御して同時に第一方向及び第二方向に運動させるか、又は、
前記ステージを制御して同時に第一方向及び第二方向に運動させるか、又は、
前記機台を制御して第一方向に運動させると同時に、前記ステージを制御して第二方向に運動させるか、又は、
前記機台を制御して第二方向に運動させると同時に、前記ステージを制御して第一方向に運動させることを含む、請求項１に記載の方法。

【請求項6】

前記ＤＭＤは、前記機台上に非固定的に設置され、
前記運動本体を制御して運動させることは、
前記機台を制御して第一方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤを制御して第二方向に運動させるか、又は、
前記機台を制御して第二方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤを制御して第一方向に運動させることを含む、請求項１に記載の方法。

【請求項7】

前記ＤＭＤは、前記機台上に非固定的に設置され、
前記運動本体を制御して運動させることは、
前記ステージを制御して第一方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤを制御して第二方向に運動させるか、又は、
前記ステージを制御して第二方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤを制御して第一方向に運動させることを含む、請求項１に記載の方法。

【請求項8】

リソグラフィシステムに適用される走査方法であって、前記リソグラフィシステムは、機台と、ステージと、デジタルマイクロミラーデバイスＤＭＤとを含み、前記ＤＭＤは、前記機台上に設置され、前記ステージは、リソグラフィ対象物を設置するためのものであり、前記方法は、
前記ＤＭＤと前記リソグラフィ対象物とに第一方向及び第二方向の相対運動が同時に発生するように、前記ＤＭＤ、前記機台及び前記ステージのうち、少なくとも１つが含まれる運動本体を制御して運動させることを含み、
前記ＤＭＤの位置する平面と、前記リソグラフィ対象物の位置する平面との間の角度を所定角度γに設置することを更に含む、リソグラフィシステムの走査方法。

【請求項9】

リソグラフィシステムであって、
デジタルマイクロミラーデバイスＤＭＤと、
前記ＤＭＤを設置するための機台と、
リソグラフィ対象物を設置するためのステージと、
１つ又は複数のプログラム命令を記憶するためのメモリと、
前記１つ又は複数のプログラム命令をロードして実行することで、請求項１～８の何れか一項に記載の方法を実現するプロセッサとを含む、リソグラフィシステム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本願は、２０２１年１月７日に出願された出願番号が２０２１１００１９６１０６、２０２１２００３８０４５３である中国特許出願の優先権を主張し、上記中国特許出願は、全文が援用される形で本願に組み込まれる。
本発明は、リソグラフィ技術の分野に関し、特に、リソグラフィシステムの走査方法及びリソグラフィシステムに関する。

【背景技術】

【0002】

リソグラフィとは、光学的複製方法を利用してパターンを感光性記録材料にプリントし、その後エッチング方法によりパターンをウェハに転写して電子回路を製作する技術を指す。

【0003】

ＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ Ｄｅｖｉｃｅ、デジタルマイクロミラーデバイス）マスクレスリソグラフィ技術は、従来の投影リソグラフィに比べて、その露光結像方式が基本的に似っており、従来のマスクの代わりにデジタルＤＭＤを使用した点が相違しているため、従来の光学リソグラフィ技術から派生した新しい技術とされており、その主な原理としては、コンピュータを介して必要なリソグラフィパターンをソフトウェアによってＤＭＤチップに入力し、画像内の黒画素及び白画素の分布に応じてＤＭＤチップのマイクロミラーの回転角を変えてコリメート光源でＤＭＤチップ上に照射し、必要なパターンに一致した光画像を形成して基板の表面に投射し、試料台の移動を制御することで大面積の微細構造の作製を実現する。従来のリソグラフィ機器と比較して、ＤＭＤマスクレスリソグラフィ機器は、マスクを必要としないため、節約生産コスト及びサイクルを節約した。

【0004】

しかしながら、既存の態様では、ＤＭＤの走査解像度を増加させるために、通常、ＤＭＤ内の各マイクロミラーをずらして設置するが、この態様では、解像度を変更する必要がある場合、異なるパラメータのＤＭＤを交換せざるを得ないため、コストが高い。

【発明の概要】

【0005】

本発明の目的は、リソグラフィシステムの走査方法及びリソグラフィシステムを提供することで、既存の態様において、解像度の変更が必要となる場合、異なるパラメータのＤＭＤへの交換を必要とし、コストが高いという問題を解決することにある。

【0006】

本発明の目的は、以下の技術態様を採用して実現されている。
第一局面では、リソグラフィシステムに適用される走査方法であって、前記リソグラフィシステムは、機台と、ステージと、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）とを含み、前記ＤＭＤは、前記機台上に設置され、前記ステージは、リソグラフィ対象物を設置するためのものであり、前記方法は、
前記ＤＭＤと前記リソグラフィ対象物とに第一方向及び第二方向の相対運動が同時に発生するように、前記ＤＭＤ、前記機台及び前記ステージのうち、少なくとも１つが含まれる運動本体を制御して運動させることを含む、リソグラフィシステムの走査方法が提供されている。

【0007】

リソグラフィシステムに適用される走査方法であって、前記ＤＭＤと前記リソグラフィ対象物とに第一方向及び第二方向の相対運動が同時に発生するように、前記ＤＭＤ、前記機台及び前記ステージのうち、少なくとも１つが含まれる運動本体を制御して運動させることを含む走査方法を提供することで、つまり、ＤＭＤ及びリソグラフィ対象物の傾斜が実現されるように、運動本体を制御して運動させることで、既存の態様において、解像度の変更が必要となる場合、異なるパラメータのＤＭＤへの交換を必要とし、コストが高いという問題が回避され、運動本体の運動速度を調整することで解像度の調整を簡単かつ迅速に実現できるという効果が奏された。

【0008】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤは、複数のマイクロミラーを含み、各々の前記マイクロミラーの形状は矩形であり、前記マイクロミラーの第一辺の長さをｍと記し、前記マイクロミラーの第二辺の長さをｎと記し、目標長さをｐと記し、前記ＤＭＤと前記リソグラフィ対象物との間の相対運動方向と、前記第一方向とが成す鋭角の夾角をθと記し、前記方法は、ｍ、ｎ及びｐに従って、θを確定することを更に含む。

【0009】

いくつかの実施例において、ｐとθとの間の関係は、ｐ＝（ｎ×ｔａｎθ＋ｍ）×ｃｏｓθを満たす。

【0010】

θを計算し、さらに運動本体を制御して、計算されたθに従って運動させることで、ＤＭＤ走査の解像度を正確に制御できるという効果が奏された。

【0011】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤと前記リソグラフィ対象物とは、第一方向の相対速度がＶ_１であり、第二方向の相対速度がＶ_２であり、前記方法は、θに従って、Ｖ_１及びＶ_２を確定することを更に含む。

【0012】

いくつかの実施例において、Ｖ_２／Ｖ_１＝ｔａｎθである。

【0013】

計算されたθに従って、さらに運動本体の第一方向の相対運動速度及び第二方向の相対運動速度を確定することで、運動本体の運動速度を制御する形でＤＭＤの走査解像度の制御を実現し、さらにＤＭＤの走査解像度の調整時のコストを低減するという効果が奏された。

【0014】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤは、前記機台上に固定的に設置され、前記運動本体を制御して運動させることは、前記機台を制御して同時に第一方向及び第二方向に運動させるか、又は、前記ステージを制御して同時に第一方向及び第二方向に運動させるか、又は、前記機台を制御して第一方向に運動させると同時に、前記ステージを制御して第二方向に運動させるか、又は、前記機台を制御して第二方向に運動させると同時に、前記ステージを制御して第一方向に運動させることを含む。

【0015】

上記のような複数の制御方式で運動本体の運動制御を実現することで、異なる応用シーンに応じて適切に選択でき、実際の走査の柔軟度を向上させ、応用範囲を拡大するという効果が奏された。

【0016】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤは、前記機台上に非固定的に設置され、前記運動本体を制御して運動させることは、前記機台を制御して第一方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤを制御して第二方向に運動させるか、又は、前記機台を制御して第二方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤを制御して第一方向に運動させることを含む。

【0017】

上記のような複数の制御方式で運動本体の運動制御を実現することで、異なる応用シーンに応じて適切に選択でき、実際の走査の柔軟度を向上させ、応用範囲を拡大したという効果が奏された。

【0018】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤは、前記機台上に非固定的に設置され、前記運動本体を制御して運動させることは、前記ステージを制御して第一方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤを制御して第二方向に運動させるか、又は、前記ステージを制御して第二方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤを制御して第一方向に運動させることを含む。

【0019】

上記のような複数の制御方式で運動本体の運動制御を実現することで、異なる応用シーンに応じて適切に選択でき、実際の走査の柔軟度を向上させ、応用範囲を拡大したという効果が奏された。

【0020】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤには、高さ方向に重ね合わせて設置されたｋ個のＤＭＤが含まれ、ｋは、１よりも大きい整数である。

【0021】

ｋ個のＤＭＤを高さ方向に重ね合わせて設置することで、走査中におけるＤＭＤの走査精度が達成された。

【0022】

いくつかの実施例において、前記方法は、少なくとも２つのリソグラフィ構成態様の評価パラメータであって、ハードウェア構成パラメータ、プロセスコスト及び工数のうち、少なくとも１つが含まれる評価パラメータを取得することと、各々のリソグラフィ構成態様の評価パラメータに従って、リソグラフィ構成を推奨することとを更に含む。

【0023】

複数のリソグラフィ構成態様の評価パラメータを計算し、さらに計算された評価パラメータに従ってリソグラフィ構成態様を推奨することで、ユーザにアドバイスを与え、ユーザが自身の使用ニーズに適した態様を選択するのを助けるという効果が奏された。

【0024】

いくつかの実施例において、前記少なくとも２つのリソグラフィ構成態様の評価パラメータを取得することは、前記少なくとも２つのリソグラフィ構成態様のうち、各々のリソグラフィ構成態様について、前記リソグラフィ構成態様の構成パラメータを目標ニューラルネットワークに入力して、前記目標ニューラルネットワークの出力を前記リソグラフィ構成態様の評価パラメータとすることを含み、前記目標ニューラルネットワークは、サンプルリソグラフィ構成態様の構成パラメータと、各々のサンプルリソグラフィ構成態様の評価パラメータとに従って事前訓練されたネットワークである。

【0025】

訓練済の目標ニューラルネットワークを使用して評価パラメータを取得することで、評価パラメータの取得の正確率及び効率を向上できるという効果が奏された。

【0026】

いくつかの実施例において、前記方法は、前記ＤＭＤの位置する平面と、前記リソグラフィ対象物の位置する平面との間の角度を所定角度γに設置することを更に含む。

【0027】

ＤＭＤの位置する平面と、リソグラフィ対象物の位置する平面との間の角度を所定角度に設置することで、既存の態様において、解像度の変更が必要となる場合、異なるパラメータのＤＭＤへの交換を必要とし、コストが高いという問題が回避され、ＤＭＤの位置する平面と、リソグラフィ対象物の位置する平面との間の角度を調整することで解像度の調整を簡単かつ迅速に実現できるという効果が奏された。

【0028】

第二局面では、リソグラフィシステムであって、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）と、前記ＤＭＤを設置するための機台と、リソグラフィ対象物を設置するためのステージと、１つ又は複数のプログラム命令を記憶するためのメモリと、前記１つ又は複数のプログラム命令を読取可能なプロセッサとを含み、前記プロセッサは、前記１つ又は複数のプログラム命令をロードして実行することで、上記のいずれかの方法を実現する、リソグラフィシステムが提供されている。

【0029】

第三局面では、リソグラフィシステムであって、機台と、ステージと、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）とを含み、前記ＤＭＤは、前記機台上に設置され、前記ステージは、リソグラフィ対象物を設置するためのものであり、前記ＤＭＤの位置する平面と、前記リソグラフィ対象物の位置する平面との間の角度は、所定角度γである、リソグラフィシステムが提供されている。

【0030】

ＤＭＤの位置する平面と、リソグラフィ対象物の位置する平面との間の角度を所定角度に設置することで、既存の態様において、解像度の変更が必要となる場合、異なるパラメータのＤＭＤへの交換を必要とし、コストが高いという問題が回避され、ＤＭＤの位置する平面と、リソグラフィ対象物の位置する平面との間の角度を調整することで解像度の調整を簡単かつ迅速に実現できるという効果が奏された。

【0031】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤは、複数のマイクロミラーを含み、各々の前記マイクロミラーの形状は矩形であり、前記マイクロミラーの第一辺の長さをｍと記し、前記マイクロミラーの第二辺の長さをｎと記し、目標長さをｐと記し、前記所定角度γは、前記ｍ、前記ｎ及び前記ｐによって確定される。

【0032】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤには、高さ方向に重ね合わせて設置されたｋ個のＤＭＤが含まれ、ｋは、１よりも大きい整数である。

【0033】

ｋ個のＤＭＤを高さ方向に重ね合わせて設置することで、走査中におけるＤＭＤの走査精度が達成された。

【0034】

いくつかの実施例において、ｋ＝２である。

【0035】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤと前記リソグラフィ対象物とは、第一方向及び第二方向に相対運動する。

【0036】

ＤＭＤとリソグラフィ対象物とが第一方向及び第二方向に相対運動するように制御することで、既存の態様において、解像度の変更が必要となる場合、異なるパラメータのＤＭＤへの交換を必要とし、コストが高いという問題が回避され、運動本体の運動速度を調整することで解像度の調整を簡単かつ迅速に実現できるという効果が奏された。

【0037】

いくつかの実施例において、ＤＭＤは、前記機台上に固定的に設置され、前記機台は、同時に前記第一方向及び前記第二方向に運動するか、又は、前記ステージは、同時に前記第一方向及び前記第二方向に運動するか、又は、前記機台は、前記第一方向に運動すると同時に、前記ステージは、前記第二方向に運動するか、又は、前記機台は、前記第二方向に運動すると同時に、前記ステージは、前記第一方向に運動する。

【0038】

上記のような複数の制御方式で、ＤＭＤとリソグラフィ対象物との第一方向及び第二方向の相対運動を実現することで、異なる応用シーンに応じて適切に選択でき、実際の走査の柔軟度を向上させ、応用範囲を拡大したという効果が奏された。

【0039】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤは、前記機台上に非固定的に設置され、前記機台は、前記第一方向に運動すると同時に、前記ＤＭＤは前記第二方向に運動するか、又は、前記機台は、前記第二方向に運動すると同時に、前記ＤＭＤは、前記第一方向に運動する。

【0040】

上記のような複数の制御方式で、ＤＭＤとリソグラフィ対象物との第一方向及び第二方向の相対運動を実現することで、異なる応用シーンに応じて適切に選択でき、実際の走査の柔軟度を向上させ、応用範囲を拡大したという効果が奏された。

【0041】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤは、前記機台上に非固定的に設置され、前記ステージは、前記第一方向に運動すると同時に、前記ＤＭＤは、前記第二方向に運動するか、又は、前記ステージは、前記第二方向に運動すると同時に、前記ＤＭＤは、前記第一方向に運動する。

【0042】

上記のような複数の制御方式で、ＤＭＤとリソグラフィ対象物との第一方向及び第二方向の相対運動を実現することで、異なる応用シーンに応じて適切に選択でき、実際の走査の柔軟度を向上させ、応用範囲を拡大したという効果が奏された。

【0043】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤは、複数のマイクロミラーを含み、各々の前記マイクロミラーの形状は矩形であり、前記マイクロミラーの第一辺の長さをｍと記し、前記マイクロミラーの第二辺の長さをｎと記し、目標長さをｐと記し、前記ＤＭＤと前記リソグラフィ対象物との間の相対運動方向と、前記第一方向とが成す鋭角の夾角θは、前記ｍ、前記ｎ、前記ｐ及び前記γによって確定される。

【0044】

θを計算し、さらに運動本体を制御して、計算されたθに従って運動させることで、ＤＭＤ走査の解像度を正確に制御できるという効果が奏された。

【図面の簡単な説明】

【0045】

以下、図面及び実施例と併せて本発明を更に説明する。

【図1】本発明の実施例によるリソグラフィシステムのシステム模式図である。

【図2】本発明の実施例によるＤＭＤの構造模式図である。

【図3】本発明の実施例によるリソグラフィシステムの別の可能な構造模式図である。

【図4】本発明の実施例によるリソグラフィシステムの走査方法の方法フローチャートである。

【図5】本発明の実施例によるリソグラフィシステムの走査中の走査模式図である。

【図6】本発明の実施例によるリソグラフィシステムの走査中の別の走査模式図である。

【図7】本発明の実施例による別のリソグラフィシステムのシステム模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0046】

以下、図面及び具体的な実施形態と併せて本発明を更に説明するが、以下に説明される各実施例の間又は各技術的特徴の間は、矛盾しないことを前提として、任意に組み合わせて新しい実施例を形成可能であることを留意されたい。

【0047】

説明を容易にするために、最初に本願に係る実施環境について簡単に紹介しておく。

【0048】

図１又は図７を参照して、本願によるリソグラフィシステムは、機台１１と、ステージ１２と、ＤＭＤ１３とを含み、前記ＤＭＤ１３は、前記機台１１上に設置され、前記ステージ１２は、リソグラフィ対象物１００を設置するためのものである。機台１１及びステージ１２は、何れもロボットアームによる制御で運動を実現可能である。そして、機台１１を制御して運動させることで、機台１１に伴うＤＭＤ１３の運動を実現可能であり、同様に、ステージ１２を制御して運動させることで、それに応じたリソグラフィ対象物１００の運動を実現可能である。上記では、機台１１及びステージ１２を制御して運動させる例だけを挙げて説明したが、実際の実現の際、機台１１におけるＤＭＤ１３は、ロボットアームによって直接制御されることで運動を実現してもよく、同様に、リソグラフィ対象物１００についても、ロボットアームに直接接続されて、さらにロボットアームを制御して運動させることでリソグラフィ対象物１００の運動を実現してもよい。

【0049】

いくつかの実施例において、図１又は図７に示すように、前記リソグラフィシステムには、例えばＤＭＤコントローラ１４、ステージコントローラ１５、画像生成器１６のような他のデバイスが更に含まれてもよい。そのうち、光源から発された光は、ＤＭＤ１３によって処理された後にリソグラフィ対象物１００に送られ、ＤＭＤコントローラ１４は、ＤＭＤ１３を制御するためのものであり、そして、ここでいうＤＭＤ１３を制御するとは、ＤＭＤ１３の置かれる機台１１を制御するか、又は、ＤＭＤ１３が運動可能な場合、ＤＭＤコントローラ１４がＤＭＤ１３の置かれる機台１１及びＤＭＤ１３の両方の制御に使用されることを含み、同様に、ステージコントローラ１５は、ステージ１２を制御するためのものである。画像生成器１６は、ＤＭＤ１３の走査に従って画像を生成するためのものであり、そして、画像を生成した後、処理のために他の機器に送信してもよいが、ここで繰り返して述べない。

【0050】

ＤＭＤ１３は、複数のマイクロミラー１３１を含み、各々のマイクロミラー１３１の形状は矩形であり、複数のマイクロミラー１３１からなるＤＭＤ１３は、より大きな寸法の矩形となり、例えば、図２を参照して、同図には、ＤＭＤ１３の１つの可能な構造模式図が示されている。実際の実現の際、ＤＭＤ１３におけるマイクロミラー１３１の個数は、実際のニーズに応じて設置可能であり、例えば、３×５のマイクロミラーマトリックス、又は、５×８のマイクロミラーマトリックス等とされることが可能であるが、本実施例は、これについて限定しない。

【0051】

機台１１を制御するロボットアームがドラッグチェーン１７である例を挙げて説明し、図３を参照して、同図には、１つの可能なリソグラフィシステムの構造模式図が示されている。

【0052】

図４を参照して、同図には、本願の一実施例によるリソグラフィシステムの走査方法の方法フローチャートが示されており、前記方法は、図１に示すリソグラフィシステムに適用されるものであり、図４に示すように、前記方法は、以下のステップ４０１を含む。

【0053】

ステップ４０１は、前記ＤＭＤ１３と前記リソグラフィ対象物１００とに第一方向及び第二方向の相対運動が同時に発生するように、前記ＤＭＤ１３、前記機台１１及び前記ステージ１２のうち、少なくとも１つが含まれる運動本体を制御して運動させることである。

【0054】

実際の実現の際、ＤＭＤ１３のリソグラフィ走査中において、ＤＭＤ１３が第一方向に沿って１ストライプを走査し、その後、ＤＭＤ１３が、第二方向に沿って１つのＤＭＤの寸法分だけステッピングし、続いて、第一方向の逆方向に沿って１ストライプを走査し、次に、第二方向の逆方向に沿って１つのＤＭＤの寸法分だけステッピングした後に走査を続けるといったように、全ての走査が完了するまで繰り返していく。つまり、本実施例において、第一方向は、ＤＭＤ１３の走査の主走査方向であり、第二方向は、ＤＭＤ１３の走査の副走査方向であり、副走査方向は、ＤＭＤ１３のステッピング方向であってもよい。以下、特に断りのない限り、第一方向が主走査方向、第二方向が副走査方向である例を挙げて説明する。

【0055】

いくつかの実施例において、運動本体の運動を正確に制御可能にするために、本ステップの前に、ＤＭＤ１３とリソグラフィ対象物１００との間の相対運動方向と、第一方向とが成す夾角θを確定しておき、θは鋭角であり、図５を参照して、同図には、１つの可能な模式図が示されている。そのうち、夾角θを確定するステップは、
ｍ、ｎ及びｐに従って、θを確定することを含む。ここで、ｍは、ＤＭＤ１３におけるマイクロミラー１３１の第一辺の長さであり、ｎは、ＤＭＤ１３におけるマイクロミラー１３１の第二辺の長さであり、ｐは、目標長さである。

【0056】

いくつかの実施例において、ｐとθとの間の関係は、ｐ＝（ｎ×ｔａｎθ＋ｍ）×ｃｏｓθを満たす。

【0057】

θが確定されると、θに従って、運動本体について、その第一方向の運動速度Ｖ_１及び第二方向の相対運動の運動速度Ｖ_２を確定することが可能となる。確定されたＶ_１、Ｖ_２については、Ｖ_２／Ｖ_１＝ｔａｎθである。

【0058】

Ｖ_１及びＶ_２が確定されると、運動本体を制御して運動させることが可能となり、いくつかの実施例において、本ステップ（即ち、運動本体を制御して運動させること）は、次の可能な実現方式を含み得る。
第一の実現方式として、ＤＭＤ１３が機台１１上に固定的に設置される場合、本ステップは、
前記機台１１を制御して同時に第一方向及び第二方向に運動させるか、又は、
前記ステージ１２を制御して同時に第一方向及び第二方向に運動させるか、又は、
前記機台１１を制御して第一方向に運動させると同時に、前記ステージ１２を制御して第二方向に運動させるか、又は、
前記機台１１を制御して第二方向に運動させると同時に、前記ステージ１２を制御して第一方向に運動させることを含む。

【0059】

第二の実現方式として、前記ＤＭＤ１３が前記機台１１上に非固定的に設置される場合、本ステップは、
前記機台１１を制御して第一方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤ１３を制御して第二方向に運動させるか、又は、
前記機台１１を制御して第二方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤ１３を制御して第一方向に運動させることを含む。

【0060】

第三の実現方式として、前記ＤＭＤ１３が前記機台１１上に非固定的に設置される場合、本ステップは、
前記ステージ１２を制御して第一方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤ１３を制御して第二方向に運動させるか、又は、
前記ステージ１２を制御第二方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤ１３を制御して第一方向に運動させることを含む。

【0061】

以上では、上記の制御方式で運動本体を制御して運動させる例だけを挙げて説明したが、実際の実現の際、より多くの実現方式が更に含まれ得る。要するに、Ｖ_２／Ｖ_１＝ｔａｎθを満たせばよく、本実施例は、その具体的な運動方式について限定しない。

【0062】

図６を参照して、同図には、運動本体が運動した後におけるＤＭＤ１３のリソグラフィ走査の走査模式図が示されている。

【0063】

上記走査方法では、走査の解像度の調整が必要となる場合、θ角を調整することで、つまり、Ｖ_２とＶ_１との比の値を調整することで実現可能であり、本実施例は、ここでこれ以上述べない。

【0064】

表１を参照して、同表には、ｍ＝１０．８ミクロン、ｎ＝６ミクロンの場合、θの変化に伴って、ｐの値及び（ｐ－ｍ）の値が変化する様子が示されている。

【0065】

【0066】

表２を参照して、同表には、ｍ＝１０．８ミクロン、ｎ＝１ミクロンの場合、θの変化に伴って、ｐの値及び（ｐ－ｍ）の値が変化する様子が示されている。

【0067】

【0068】

これで分かるように、ｍ、ｎ、θの値が異なると、ｐとｍとの間の大小関係が変化し、ｐがｍよりも大きい場合があれば、ｐがｍ以下となる場合もあり得る。即ち、本実施例による方法を採用する場合、その目標長さは、マイクロミラー１３１の第一辺の長さよりも小さくてもよい。

【0069】

上記をまとめ、リソグラフィシステムに適用される走査方法であって、前記ＤＭＤ１３と前記リソグラフィ対象物１００とに第一方向及び第二方向の相対運動が同時に発生するように、前記ＤＭＤ１３、前記機台１１及び前記ステージ１２のうち、少なくとも１つが含まれる運動本体を制御して運動させることを含む走査方法を提供することで、つまり、ＤＭＤ１３及びリソグラフィ対象物１００の傾斜が実現されるように、運動本体を制御して運動させることで、既存の態様において、解像度の変更が必要となる場合、異なるパラメータのＤＭＤ１３への交換を必要とし、コストが高いという問題が回避され、運動本体の運動速度を調整することで解像度の調整を簡単かつ迅速に実現できるという効果が奏された。

【0070】

上記のような複数の制御方式で運動本体の運動制御を実現することで、異なる応用シーンに応じて適切に選択でき、実際の走査の柔軟度を向上させ、応用範囲を拡大したという効果が奏された。

【0071】

上記実施例において、ＤＭＤ１３が１つとされてもよいし、高さ方向に重ね合わせて設置されたｋ個のＤＭＤ１３が含まれてもよく、ｋは、１よりも大きい整数である。高さ方向とは、リソグラフィ対象物１００及びＤＭＤ１３の設置方向であり、つまり、ＤＭＤ１３は、リソグラフィ対象物１００の上方にあり、ＤＭＤ１３がｋ個含まれる場合、ｋ個のＤＭＤ１３は、同じ方向で重ね合わせられてもよい。通常の場合、ｋは２であり、且つ２個のＤＭＤ１３の重ね合わせ後の重なり部分の幅は、各々のＤＭＤ１３の幅と、リソグラフィ対象物１００の幅とに応じて決定され、そして、異なる応用シーンによっては、重ね合わせられる幅も異なるが、本実施例は、これについて限定しない。

【0072】

ｋ個のＤＭＤ１３を重ね合わせ、さらに重ね合わせ後のＤＭＤ１３によって走査することで、ＤＭＤ１３の走査精度が向上された。

【0073】

また、実際の使用の際、同様なリソグラフィ効果を実現するために、リソグラフィシステムは、様々な構成とされてもよく、本実施例において、上記方法は、以下の２つのステップを更に含んでもよい。
第一のステップとしては、少なくとも２つのリソグラフィ構成態様の評価パラメータであって、ハードウェア構成パラメータ、プロセスコスト及び工数のうち、少なくとも１つが含まれる評価パラメータを取得することであり、
いくつかの実施例において、リソグラフィ構成態様には、複数の構成パラメータが含まれてもよく、構成パラメータと評価パラメータとの間の対応関係に従って、各々のリソグラフィ構成態様の評価パラメータを確定してもよい。そのうち、構成パラメータと評価パラメータとの間の対応関係は、ビッグデータに基づいて事前設置された対応関係であってもよい。

【0074】

別の可能な実現方式として、ニューラルネットワークを介して各々のリソグラフィ構成態様の評価パラメータを取得してもよく、この場合、本ステップは、
前記少なくとも２つのリソグラフィ構成態様のうち、各々のリソグラフィ構成態様について、前記リソグラフィ構成態様の構成パラメータを目標ニューラルネットワークに入力して、前記目標ニューラルネットワークの出力を前記リソグラフィ構成態様の評価パラメータとすることを含んでもよく、前記目標ニューラルネットワークは、サンプルリソグラフィ構成態様の構成パラメータと、各々のサンプルリソグラフィ構成態様の評価パラメータとに従って事前訓練されたネットワークである。

【0075】

リソグラフィ構成態様の構成パラメータには、ＤＭＤ１３の個数、ＤＭＤ１３の精度、ＤＭＤ１３の寸法のうち、少なくとも１つが含まれてもよい。

【0076】

第二のステップとしては、各々のリソグラフィ構成態様の評価パラメータに従って、リソグラフィ構成を推奨することである。

【0077】

各々の態様の評価パラメータが取得されると、評価パラメータに従ってリソグラフィ構成を推奨することが可能となる。いくつかの実施例において、ユーザは、リソグラフィシステムを使用する前に、自分の使用ニーズを設置し、リソグラフィシステムは、設置された使用ニーズに応じて推奨するようにされてもよい。例えば、ユーザが最も高い解像度を必要とする場合、各態様の評価パラメータに従って、最も解像度の高いリソグラフィ構成態様を推奨することが可能であり、更に例えば、最も低いコストを必要とする場合、各態様の評価パラメータに従って、最もコストの低いリソグラフィ構成態様を推奨することが可能であるが、ここで繰り返して述べない。

【0078】

図７を参照して、いくつかの実施例において、前記方法は、前記ＤＭＤ１３の位置する平面と、前記リソグラフィ対象物１００の位置する平面との間の角度を所定角度γに設置することを更に含んでもよい。

【0079】

ＤＭＤ１３の位置する平面と、リソグラフィ対象物１００の位置する平面との間の角度を所定角度に設置することで、既存の態様において、解像度の変更が必要となる場合、異なるパラメータのＤＭＤ１３への交換を必要とし、コストが高いという問題が回避され、ＤＭＤ１３の位置する平面と、リソグラフィ対象物１００の位置する平面との間の角度を調整することで、解像度の調整を簡単かつ迅速に実現できるという効果が達成された。

【0080】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤ１３は、複数のマイクロミラー１３１を含んでもよく、各々の前記マイクロミラー１３１の形状は矩形であり、前記マイクロミラー１３１の第一辺の長さをｍと記し、前記マイクロミラー１３１の第二辺の長さをｎと記し、目標長さをｐと記し、前記所定角度γは、前記ｍ、前記ｎ及び前記ｐによって確定される。

【0081】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤ１３には、高さ方向に重ね合わせて設置されたｋ個のＤＭＤ１３が含まれてもよく、ｋは、１よりも大きい整数である。

【0082】

いくつかの実施例において、ｋ＝２である。

【0083】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤ１３と前記リソグラフィ対象物１００とは、第一方向及び第二方向に相対運動してもよい。

【0084】

いくつかの実施例において、ＤＭＤ１３は、前記機台１１上に固定的に設置されてもよく、前記機台１１は、同時に前記第一方向及び前記第二方向に運動するか、又は、前記ステージ１２は、同時に前記第一方向及び前記第二方向に運動するか、又は、前記機台１１は、前記第一方向に運動すると同時に、前記ステージ１２は、前記第二方向に運動するか、又は、前記機台１１は、前記第二方向に運動すると同時に、前記ステージ１２は、前記第一方向に運動する。

【0085】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤ１３は、前記機台１１上に非固定的に設置されてもよく、前記機台１１は、前記第一方向に運動と同時に、前記ＤＭＤ１３は、前記第二方向に運動するか、又は、前記機台１１は、前記第二方向に運動すると同時に、前記ＤＭＤ１３は、前記第一方向に運動する。

【0086】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤ１３は、前記機台１１上に非固定的に設置されてもよく、前記ステージ１２は、前記第一方向に運動すると同時に、前記ＤＭＤ１３は、前記第二方向に運動するか、又は、前記ステージ１２は、前記第二方向に運動すると同時に、前記ＤＭＤ１３は、前記第一方向に運動する。

【0087】

図１又は図７を参照して、本願では、リソグラフィシステムであって、デジタルマイクロミラー１３１デバイスＤＭＤ１３と、前記ＤＭＤ１３を設置するための機台１１と、リソグラフィ対象物１００を設置するためのステージ１２と、１つ又は複数のプログラム命令を記憶するためのメモリと、前記１つ又は複数のプログラム命令を読取可能なプロセッサとを含み、前記プロセッサは、前記１つ又は複数のプログラム命令をロードして実行することで、上記のいずれかの方法を実現する、リソグラフィシステムが提供されている。

【0088】

いくつかの実施例において、前記プロセッサは、前記ＤＭＤ１３と前記リソグラフィ対象物１００とに第一方向及び第二方向の相対運動が同時に発生するように、前記ＤＭＤ１３、前記機台１１及び前記ステージ１２のうち、少なくとも１つが含まれる運動本体を制御して運動させるように構成されている。

【0089】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤ１３は、複数のマイクロミラー１３１を含み、各々の前記マイクロミラー１３１の形状は矩形であり、前記マイクロミラー１３１の第一辺の長さをｍと記し、前記マイクロミラー１３１の第二辺の長さをｎと記し、目標長さをｐと記し、前記ＤＭＤ１３と前記リソグラフィ対象物１００との間の相対運動方向と、前記第一方向とが成す鋭角の夾角をθと記し、前記プロセッサは、ｍ、ｎ及びｐに従って、θを確定するように更に構成されている。

【0090】

いくつかの実施例において、ｐとθとの間の関係は、ｐ＝（ｎ×ｔａｎθ＋ｍ）×ｃｏｓθを満たす。

【0091】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤ１３と前記リソグラフィ対象物１００とは、第一方向の相対速度がＶ_１であり、第二方向の相対速度がＶ_２であり、前記プロセッサは、θに従って、Ｖ_１及びＶ_２を確定するように更に構成されている。

【0092】

いくつかの実施例において、Ｖ_２／Ｖ_１＝ｔａｎθである。

【0093】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤ１３は、前記機台１１上に固定的に設置され、前記プロセッサは、前記機台１１を制御して同時に第一方向及び第二方向に運動させるか、又は、前記ステージ１２を制御して同時に第一方向及び第二方向に運動させるか、又は、前記機台１１を制御して第一方向に運動させると同時に、前記ステージ１２を制御して第二方向に運動させるか、又は、前記機台１１を制御して第二方向に運動させると同時に、前記ステージ１２を制御して第一方向に運動させるように更に構成されている。

【0094】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤ１３は、前記機台１１上に非固定的に設置され、前記プロセッサは、前記機台１１を制御して第一方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤ１３を制御して第二方向に運動させるか、又は、前記機台１１を制御して第二方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤ１３を制御して第一方向に運動させるように更に構成されている。

【0095】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤ１３は、前記機台１１上に非固定的に設置され、前記プロセッサは、前記ステージ１２を制御して第一方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤ１３を制御して第二方向に運動させるか、又は、前記ステージ１２を制御第二方向に運動させると同時に、前記ＤＭＤ１３を制御して第一方向に運動させるように更に構成されている。

【0096】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤ１３には、高さ方向に重ね合わせて設置されたｋ個のＤＭＤ１３が含まれ、ｋは、１よりも大きい整数である。

【0097】

いくつかの実施例において、前記プロセッサは、少なくとも２つのリソグラフィ構成態様の評価パラメータであって、ハードウェア構成パラメータ、プロセスコスト及び工数のうち、少なくとも１つが含まれる評価パラメータを取得し、各々のリソグラフィ構成態様の評価パラメータに従って、リソグラフィ構成を推奨するように更に構成されている。

【0098】

いくつかの実施例において、前記プロセッサは、前記少なくとも２つのリソグラフィ構成態様のうち、各々のリソグラフィ構成態様について、前記リソグラフィ構成態様の構成パラメータを目標ニューラルネットワークに入力して、前記目標ニューラルネットワークの出力を前記リソグラフィ構成態様の評価パラメータとするように更に構成されており、前記目標ニューラルネットワークは、サンプルリソグラフィ構成態様の構成パラメータと、各々のサンプルリソグラフィ構成態様の評価パラメータとに従って事前訓練されたネットワークである。

【0099】

いくつかの実施例において、前記プロセッサは、前記ＤＭＤ１３の位置する平面と、前記リソグラフィ対象物１００の位置する平面との間の角度を所定角度γに設置するように更に構成されている。

【0100】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤ１３は、複数のマイクロミラー１３１を含み、各々の前記マイクロミラー１３１の形状は矩形であり、前記マイクロミラー１３１の第一辺の長さをｍと記し、前記マイクロミラー１３１の第二辺の長さをｎと記し、目標長さをｐと記し、前記所定角度γは、前記ｍ、前記ｎ及び前記ｐによって確定される。

【0101】

いくつかの実施例において、前記ＤＭＤ１３は、複数のマイクロミラー１３１を含み、各々の前記マイクロミラー１３１の形状は矩形であり、前記マイクロミラー１３１の第一辺の長さをｍと記し、前記マイクロミラー１３１の第二辺の長さをｎと記し、目標長さをｐと記し、前記ＤＭＤ１３と前記リソグラフィ対象物１００との間の相対運動方向と、前記第一方向とが成す鋭角の夾角θは、前記ｍ、前記ｎ、前記ｐ及び前記γによって確定される。

【0102】

図７を参照して、本願の実施例では、リソグラフィシステムであって、機台１１と、ステージ１２と、デジタルマイクロミラーデバイスＤＭＤ１３とを含み、前記ＤＭＤ１３は、前記機台１１上に設置され、前記ステージ１２は、リソグラフィ対象物１００を設置するためのものであり、前記ＤＭＤ１３の位置する平面と、前記リソグラフィ対象物１００の位置する平面との間の角度は、所定角度γである、リソグラフィシステムが更に提供されている。

【0103】

機台１１を制御するロボットアームがドラッグチェーン１７である例を挙げて説明し、図３を参照して、同図には、１つの可能なリソグラフィシステムの構造模式図が示されている。

【0104】

上記リソグラフィシステムにおいて、ＤＭＤ１３の位置する平面と、リソグラフィ対象物１００の位置する平面との間の角度は、所定角度γである。γは、事前設定された角度であり、そして、γは、実際のニーズに応じて、異なる値に設置可能であるが、ここで繰り返して述べない。

【0105】

ＤＭＤ１３は、複数のマイクロミラー１３１を含み、各々のマイクロミラー１３１の形状は矩形であり、複数のマイクロミラー１３１からなるＤＭＤ１３は、より大きな寸法の矩形となり、例えば、図２を参照して、同図には、ＤＭＤ１３の１つの可能な構造模式図が示されている。実際の実現の際、ＤＭＤ１３におけるマイクロミラー１３１の個数は、実際のニーズに応じて設置可能であり、例えば、３×５のマイクロミラーマトリックス、又は、５×８のマイクロミラーマトリックス等とされることが可能であるが、本実施例は、これについて限定しない。

【0106】

前記マイクロミラー１３１の第一辺の長さをｍと記し、前記マイクロミラー１３１の第二辺の長さをｎと記し、目標長さをｐと記し、前記所定角度γは、前記ｍ、前記ｎ及び前記ｐによって確定されるが、その具体的な対応関係について、本願は限定しない。

【0107】

ＤＭＤ１３の位置する平面と、リソグラフィ対象物１００の位置する平面との間の角度を所定角度に設置した後、実際の応用ニーズに応じて光源の角度及び位置を調整してもよいが、本実施例は、ここで限定しない。

【0108】

上記実施例において、ＤＭＤ１３が１つとされてもよいし、高さ方向に重ね合わせて設置されたｋ個のＤＭＤ１３が含まれてもよく、ｋは、１よりも大きい整数である。高さ方向とは、リソグラフィ対象物１００及びＤＭＤ１３の設置方向であり、つまり、ＤＭＤ１３は、リソグラフィ対象物１００の上方にあり、ＤＭＤ１３がｋ個含まれる場合、ｋ個のＤＭＤ１３は、同じ方向で重ね合わせられてもよい。通常の場合、ｋは２であり、且つ２個のＤＭＤ１３の重ね合わせ後の重なり部分の幅は、各々のＤＭＤ１３の幅と、リソグラフィ対象物１００の幅とに応じて決定され、そして、異なる応用シーンによっては、重ね合わせられる幅も異なるが、本実施例は、これについて限定しない。

【0109】

ｋ個のＤＭＤ１３を重ね合わせ、さらに重ね合わせ後のＤＭＤ１３によって走査することで、ＤＭＤ１３の走査精度が向上された。

【0110】

実際の実現の際、ＤＭＤ１３のリソグラフィ走査中において、ＤＭＤ１３が第一方向に沿って１ストライプを走査し、その後、ＤＭＤ１３が第二方向に沿って１つのＤＭＤ１３の寸法分だけステッピングし、続いて、第一方向の逆方向に沿って１ストライプを走査し、次に、第二方向の逆方向に沿って１つのＤＭＤ１３の寸法分だけステッピングした後に走査を続けるといったように、全ての走査が完了するまで繰り返していく。つまり、本実施例において、第一方向は、ＤＭＤ１３の走査の主走査方向であり、第二方向は、ＤＭＤ１３の走査の副走査方向であり、副走査方向は、ＤＭＤ１３のステッピング方向であってもよい。以下、特に断りのない限り、第一方向が主走査方向であり、第二方向が副走査方向である例を挙げて説明する。

【0111】

上記実施例において、ＤＭＤ１３とリソグラフィ対象物１００とは、第一方向及び第二方向に相対運動し、その相対運動方式は、次のいくつかの可能な実現方式を含み得る。
第一の実現方式として、ＤＭＤ１３が機台１１上に固定的に設置される場合、かかる運動方式は、
前記機台１１が、同時に前記第一方向及び前記第二方向に運動するか、又は、
前記ステージ１２が、同時に前記第一方向及び前記第二方向に運動するか、又は、
前記機台１１が、前記第一方向に運動すると同時に、前記ステージ１２が、前記第二方向に運動するか、又は、
前記機台１１が、前記第二方向に運動すると同時に、前記ステージ１２が、前記第一方向に運動することを含む。

【0112】

第二の実現方式として、前記ＤＭＤ１３が前記機台１１上に非固定的に設置される場合、かかる相対運動方式は、
前記機台１１が、前記第一方向に運動と同時に、前記ＤＭＤ１３が、前記第二方向に運動するか、又は、
前記機台１１が、前記第二方向に運動すると同時に、前記ＤＭＤ１３が、前記第一方向に運動することを含む。

【0113】

第三の実現方式として、前記ＤＭＤ１３が前記機台１１上に非固定的に設置される場合、かかる相対運動方式は、
前記ステージ１２が、前記第一方向に運動すると同時に、前記ＤＭＤ１３が、前記第二方向に運動するか、又は、
前記ステージ１２が、前記第二方向に運動すると同時に、前記ＤＭＤ１３が、前記第一方向に運動することを含む。

【0114】

以上では、上記の制御方式で運動本体を制御して運動させる例だけを挙げて説明したが、実際の実現の際、より多くの実現方式が更に含まれ得る。本実施例は、その具体的な運動方式について限定しない。

【0115】

１つの可能の実施形態において、ＤＭＤ１３と前記リソグラフィ対象物１００との間の相対運動方向と、前記第一方向とが成す鋭角の夾角θは、前記ｍ、前記ｎ、前記ｐ及び前記γによって確定される。そして、θが確定されると、確定に従って、運動本体について、その第一方向の運動速度Ｖ_１及び第二方向の相対運動の運動速度Ｖ_２を確定することが可能となり、図５を参照して、同図には、１つの可能なリソグラフィ走査方式が示されている。確定されたＶ_１、Ｖ_２については、Ｖ_２／Ｖ_１＝ｔａｎθである。

【0116】

また、図６を参照して、同図には、ＤＭＤ１３とリソグラフィ対象物１００との相対運動が発生した後におけるＤＭＤ１３のリソグラフィ走査の走査模式図が示されている。

【0117】

上記をまとめ、リソグラフィシステムであって、機台１１と、ステージ１２と、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）１３とを含み、前記ＤＭＤ１３は、前記機台１１上に設置され、前記ステージ１２は、リソグラフィ対象物１００を設置するためのものであり、前記ＤＭＤ１３の位置する平面と、前記リソグラフィ対象物１００の位置する平面との間の角度は、所定角度γであるリソグラフィシステムを提供することで、既存の態様において、解像度の変更が必要となる場合、異なるパラメータのＤＭＤ１３への交換を必要とし、コストが高いという問題が回避され、ＤＭＤ１３の位置する平面と、リソグラフィ対象物１００の位置する平面との間の角度を調整することで、解像度の調整を簡単かつ迅速に実現できるという効果が達成された。

【0118】

また、実際の使用の際、同様のリソグラフィ効果を実現するために、リソグラフィシステムは、様々な構成とされてもよく、本実施例において、上記リソグラフィシステムは、次の機能を更に実現してもよい。
第一の機能として、少なくとも２つのリソグラフィ構成態様の評価パラメータであって、ハードウェア構成パラメータ、プロセスコスト及び工数のうち、少なくとも１つが含まれる評価パラメータを取得することであり、
選択的に、リソグラフィ構成態様には、複数の構成パラメータが含まれてもよく、構成パラメータと評価パラメータとの間の対応関係に従って、各々のリソグラフィ構成態様の評価パラメータを確定してもよい。そのうち、構成パラメータと評価パラメータとの間の対応関係は、ビッグデータに基づいて事前設置された対応関係であってもよい。

【0119】

別の可能な実現方式として、ニューラルネットワークを介して各々のリソグラフィ構成態様の評価パラメータを取得してもよく、この場合、本ステップは、
前記少なくとも２つのリソグラフィ構成態様のうち、各々のリソグラフィ構成態様について、前記リソグラフィ構成態様の構成パラメータを目標ニューラルネットワークに入力して、前記目標ニューラルネットワークの出力を前記リソグラフィ構成態様の評価パラメータとすることを含んでもよく、前記目標ニューラルネットワークは、サンプルリソグラフィ構成態様の構成パラメータと、各々のサンプルリソグラフィ構成態様の評価パラメータとに従って事前訓練されたネットワークである。

【0120】

リソグラフィ構成態様の構成パラメータには、ＤＭＤ１３の個数、ＤＭＤ１３の精度、ＤＭＤ１３の寸法のうち、少なくとも１つが含まれてもよい。

【0121】

第二の機能として、各々のリソグラフィ構成態様の評価パラメータに従って、リソグラフィ構成を推奨することである。

【0122】

各々の態様の評価パラメータが取得されると、評価パラメータに従ってリソグラフィ構成を推奨することが可能となる。選択的に、ユーザは、リソグラフィシステムを使用する前に、自分の使用ニーズを設置し、リソグラフィシステムは、設置された使用ニーズに応じて推奨するようにされてもよい。例えば、ユーザが最も高い解像度を必要とする場合、各態様の評価パラメータに従って、最も解像度の高いリソグラフィ構成態様を推奨することが可能であり、更に例えば、最も低いコストを必要とする場合、各態様の評価パラメータに従って、最もコストの低いリソグラフィ構成態様を推奨することが可能であるが、ここで繰り返して述べない。

【0123】

本発明は、使用目的、効果、進歩性、新規性等の観点から説明されており、それに持たせている実用的な進歩性は、特許法が重視する機能向上及び使用要件を満たしており、本発明の上記の説明及図面は、あくまでも本発明の好ましい実施例に過ぎず、これによって本発明を制限するものではないため、本発明の構造、装置、特徴等と類似や同一なもの、即ち本発明の特許請求の範囲に準拠してなされた同等の置換や修正等、全て本発明の特許請求の範囲内に含まれるものとする。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】