特許7563645IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

円盤状基板の製造方法及び円盤状基板の製造装置

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】研磨後の円盤状基板を上定盤から剥離し易い、円盤状基板の製造方法及び円盤状基板の製造装置を提供する。
【解決手段】円盤状基板の製造方法は、円盤状基板50を収納するキャリア52を下定盤12と上定盤14との間に配置する工程と、下定盤12と上定盤14とで円盤状基板50を挟持して下定盤12と上定盤14との間に処理液を供給しつつ円盤状基板50を研磨処理する工程と、上定盤14と円盤状基板50との間に、円盤状基板50を上定盤14から剥離する第一剥離流体を、第一供給系41を用いて供給する工程と、上定盤14とキャリア52との間に、キャリア52を上定盤14から剥離する第二剥離流体を、第一供給系から独立する第二供給系42を用いて供給する工程と、を含む。
【選択図】図2

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

ここで、通常、円盤状基板の周囲に位置するキャリアの厚みは、円盤状基板の厚みより薄い。このため、円盤状基板を収納したキャリアが下定盤の上に配置されると、円盤状基板の高さは、キャリアの高さより高くなる。すなわち、下定盤と上定盤との間では、キャリアの上側の部分におけるキャリアの単位面積あたりの空間体積の方が、円盤状基板の上側の部分における円盤状基板の単位面積あたりの空間体積より大きい。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

の課題を達成するための具体的手段は、以下の通りである。 <1> 円盤状基板を収納するキャリアを下定盤と上定盤との間に配置する工程と、前記下定盤と前記上定盤とで前記円盤状基板を挟持して前記下定盤と前記上定盤との間に処理液を供給しつつ前記円盤状基板を研削処理又は研磨処理する工程と、前記上定盤と前記円盤状基板との間に、前記円盤状基板を前記上定盤から剥離する第一剥離流体を、第一供給系・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示によれば、研磨後の円盤状基板を上定盤から剥離し易い、円盤状基板の製造方法及び円盤状基板の製造装置を提供できる。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本開示の円盤状基板の製造装置を説明する平面図である。
【図2】 図1中の2-2線断面図である。
【図3】 本円盤状基板の製造方法を説明する断面図である(その1)。
【図4】 本円盤状基板の製造方法を説明する断面図である(その2)。
【図5】 比較例に係る円盤状基板の製造方法を説明する断面図である。

代表図 図2本件の代表的な図

10,10Z 円盤状基板の製造装置 12 下定盤 12A 下ベース 12B 下研磨パッド 14 上定盤 14A 上ベース 14B 上研磨パッド 16 太陽歯車 18 外歯歯車 21 第一ノズル孔 22 第二ノズル孔 30 研磨液供給部 30A 研磨液槽 30B 研磨液用配管 41 第一供給系 41A 第一供給源 41B 第一配管 42 第二供給系 42A 第二供給源 42B 第二配管 43 共通供給系 43A 共通供給源 43B 共通配管 44 制御装置 50 円盤状基板 52 キャリア 52A 収納孔 60 研磨液 71 第一剥離流体 72 第二剥離流体 73 剥離流体 D 排出路 G 隙間

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