特許7564547IP Force 特許公報全文掲載

ホーム > 特許ランキング > 独立行政法人日本原子力研究開発機構 > 特許7564547

技術分野

加速器から発せられる荷電粒子ビームのビームプロファイル（ビーム強度の時空間分布）を計測するビームプロファイルモニタ

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

このように、横方向、縦方向のどちらにおいても導電性のプローブが用いられるため、原理的には、図９のプローブ８０と図１０のプローブ１８０を共通とすることも可能であり、この場合には、共通のプローブ（測定機器）を用いて、荷電粒子ビームの３次元（横方向及び縦方向）ビームプロファイルを測定することができる。このため、ビームからの相互作用による熱負荷が低い場合には、前記のようにＷ製のプローブを図９のプローブ８０及び図１０のプローブ１８０として用いることができた。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、課題を解決すべく、以下に掲げる構成とした。 本発明のビームプロファイルモニタは、荷電粒子ビームの進行方向と交差する方向に延伸し、前記荷電粒子ビームに照射された際の特性によって前記荷電粒子ビームのビームプロファイルを測定するために用いられる導電性のプローブが用いられるビームプロファイルモニタであって、前記プローブが、モザイクスプレッド値が１０°以下である高配向性グラファイトで・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は以上のように構成されているので、荷電粒子ビームとの間の相互作用によるプローブの熱負荷が大きな場合であっても、荷電粒子ビームのビームプロファイルを安定して測定することができる。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)

この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本発明の実施の形態に係るビームプロファイルモニタの構成を示す図である。
【図2】 本発明の実施の形態に係るビームプロファイルモニタにおいて用いられるプローブの微細構造の典型的な２例を示す。
【図3】 高配向性グラファイトで構成されたプローブ（実施例）とＣＮＴで構成されたワイヤ状プローブ（比較例）を真空中に設置した場合における圧力（ａ）、リーク電流（ｂ）の印加電圧依存性を実測した結果である。
【図4】 実施例によって横方向（ａ）、縦方向（ｂ）のビームプロファイルを実測した結果である。
【図5】 荷電粒子ビームの横方向のビームプロファイルを、プローブの誘起電流で測定した結果と、二次電子で測定した結果を比較した例である。
【図6】 従来の手法で測定した荷電粒子ビームの電流値と、本発明の実施の形態に係るビームプロファイルモニタを用いて測定した電流値とを比較した結果である。
【図7】 本発明の実施の形態に係るビームプロファイルモニタを用いて荷電粒子ビームの空間形状を測定した結果である。
【図8】 測定対象となる荷電粒子ビームが加速器から発せられる際の態様を模式的に示す図である。
【図9】 荷電粒子ビームの横方向のビームプロファイルをプローブを用いて測定する原理を示す図である。
【図10】 荷電粒子ビームの縦方向のビームプロファイルをプローブを用いて測定する際の構成を示す図である。

代表図 図1本件の代表的な図

１ ビームプロファイルモニタ １０Ａ、１０Ｂ プローブ ２０ ダクト ３０、５０、１２０、１４０ コリメータ ４０、１３０ ＲＦデフレクタ電極 ６０、１５０ 電子検出器 ７０、１６０ 偏向電磁石 ８０、１８０ プローブ（ワイヤ） ９０ 電流測定系 Ｂ バンチ Ｇ 単層グラフェンシート Ｓ 二次電子

全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録

［広告欄］

ログインすれば広告は減ります

ログインすれば広告は減ります

Copyright © Science Impact Inc. All Rights Reserved.