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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B1)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-10-03
(45)【発行日】2024-10-11
(54)【発明の名称】焼成炉
(51)【国際特許分類】
F27B 9/30 20060101AFI20241004BHJP
F27B 9/22 20060101ALI20241004BHJP
【ＦＩ】
F27B9/30
F27B9/22
【請求項の数】
4
(21)【出願番号】P 2024042831
(22)【出願日】2024-03-18
【審査請求日】2024-03-29
(73)【特許権者】
【識別番号】000004293
【氏名又は名称】ノリタケ株式会社
(73)【特許権者】
【識別番号】000219200
【氏名又は名称】株式会社ノリタケＴＣＦ
(74)【代理人】
【識別番号】100117606
【弁理士】
【氏名又は名称】安部 誠
(74)【代理人】
【識別番号】100121186
【弁理士】
【氏名又は名称】山根 広昭
(72)【発明者】
【氏名】福島 宏康
(72)【発明者】
【氏名】加藤 悦史
【審査官】松田 長親
(56)【参考文献】
【文献】特開２０２３－１４８９０５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１７－６７４３８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－１５１３６９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０００－２９７９８５（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｆ２７Ｂ ９／００－９／４０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
直線に沿ったトンネル状のマッフルと、前記マッフルが載せられる架台と、
前記マッフルの第１端部に設けられ、前記マッフルの長さ方向に沿って、被処理物を押し込むメインプッシャーと、
前記マッフルの前記第１端部において、前記マッフルの長さ方向に交差するように繋がった搬入路と、
前記搬入路を通じて前記マッフル内に前記被処理物を押し込む搬入プッシャーと、
前記マッフルの第２端部において、前記マッフルの長さ方向に交差するように繋がった搬出路と、
前記マッフルの前記第２端部に設けられ、前記搬出路に向けて被処理物を押し出す搬出プッシャーと、
を備え、
前記マッフルの前記第２端部と、前記搬出路と、前記搬出プッシャーは、前記架台に対して固定的に配置されており、
前記マッフルの前記第１端部と、前記搬入路と、前記搬入プッシャーは、前記架台に対して前記マッフルの長さ方向に可動に配置されている、
焼成炉。
【請求項2】
前記マッフルは、搬送レールを備えている、請求項１に記載の焼成炉。
【請求項3】
前記搬入路には、第１置換室が設けられており、前記搬出路には、第２置換室が設けられており、
前記第１置換室は、架台に対して前記マッフルの長さ方向に可動に配置され、
前記第２置換室は、架台に対して固定的に配置されている、請求項１に記載の焼成炉。
【請求項4】
前記第１置換室を載置する架台には、フリーローラが設けられている、請求項３に記載の焼成炉。【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、焼成炉に関する。
【背景技術】
【0002】
国際公開２０１３／０６５５５６号には、窒化ホウ素粉末の連続的製造方法が開示されている。かかる製造方法に用いられる高温連続反応炉として、グラファイト製ヒータとグラファイト製マッフル型トンネルとを有するプッシャー式トンネル炉が開示されている。該プッシャー式トンネル炉は、中心部分が１５５０℃～２４００℃に保たれ、内部は高純度窒素で充満されている。
【0003】
特開２０２３－１４８９０５号公報には、処理物が搬送される搬送空間を隔離するトンネル状のマッフル炉が開示されている。かかるマッフル炉は、プッシャー炉であるため、処理物が押されながら進む。マッフル炉は、搬入部と、搬送部と、搬送用プッシャーと、搬出用プッシャーとを有している。搬送用プッシャーは、マッフル炉内の搬送部の処理物を前方に向けて押し出す。搬出用プッシャーは、マッフル炉内の搬送部の処理物を搬出部に向けて押し出す。また、マッフル炉は、搬送空間を搬送方向に沿って仕切る仕切りを有している。このマッフル炉では、マッフル内の温度を４１０℃から８００℃まで段階的に上昇させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】国際公開２０１３／０６５５５６号
【文献】特開２０２３－１４８９０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
焼成炉では、高温加熱によってマッフルが熱膨張する。熱膨張による影響は、マッフルの長さ方向（すなわち、搬送方向）に特に顕著に表れる。本開示は、マッフルの熱膨張による影響（歪み）を小さく抑えうる焼成炉の新規構造を提案するものである。
【0006】
ここで開示される焼成炉の一態様は、直線に沿ったトンネル状のマッフルと、前記マッフルが載せられる架台とを有している。前記マッフルの第１端部には、前記マッフルの長さ方向に沿って、被処理物を押し込むメインプッシャーと、前記マッフルの前記第１端部において、前記マッフルの長さ方向に交差するようにつながった搬入路と、前記搬入路を通じて前記マッフル内に前記被処理物を押し込む搬入プッシャーとが設けられている。前記マッフルの第２端部には、前記マッフルの長さ方向に交差するように繋がった搬出路と、記マッフルの前記第２端部に設けられ、前記搬出路に向けて被処理物を押し出す搬出プッシャーとを備えている。前記マッフルの前記第２端部と、前記搬出路と、前記搬出プッシャーは、前記架台に対して固定的に配置されており、前記マッフルの前記第１端部と、前記搬入路と、前記搬入プッシャーは、前記架台に対して前記マッフルの長さ方向に可動に配置されている。
【0007】
かかる焼成炉によれば、マッフルの長さ方向における搬出口側が固定されており、搬入口側が可動となっている。かかる結果は、マッフルの熱膨張による影響（歪み）を小さく抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【発明を実施するための形態】
【0009】
＜用語の定義＞
以下、本開示における実施形態の１つについて、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の図面において、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して説明している。また、各図における寸法関係（長さ、幅、厚み等）は実際の寸法関係を反映するものではない。上、下、左、右、前、後の向きは、図中の、Ｕ、Ｄ、Ｌ、Ｒ、Ｆ、Ｒｒの矢印でそれぞれ表されている。ここで、上、下、左、右、前、後の向きは、説明の便宜上、定められているに過ぎず、特に言及されない限りにおいて本願発明を限定しない。
以下、本開示における実施形態の１つについて、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の図面において、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して説明している。また、各図における寸法関係（長さ、幅、厚み等）は実際の寸法関係を反映するものではない。上、下、左、右、前、後の向きは、図中の、Ｕ、Ｄ、Ｌ、Ｒ、Ｆ、Ｒｒの矢印でそれぞれ表されている。ここで、上、下、左、右、前、後の向きは、説明の便宜上、定められているに過ぎず、特に言及されない限りにおいて本願発明を限定しない。
【0010】
図１は、焼成炉１の模式的な平面図である。図２は、マッフル１０の縦断側面図である。図１では、ここで開示される一態様の焼成炉１の大まかな構成が分かるように、マッフル１０の内部を露出させた状態で、焼成炉１を上から見た模式的な平面図が図示されている。図２では、マッフル１０内の被処理物Ａの搬送状態が分かるように、マッフル１０の搬送方向Ｙに沿って縦断したＩＩ－ＩＩ断面図（図１参照）が模式的に図示されている。図１及び図２では、シール部材以外のハッチングは適宜省略されている。
【0011】
＜焼成炉１＞
焼成炉１は、図１に示されているように、マッフル１０と、メインプッシャー２０と、搬入路３０と、搬出路４０と、搬出プッシャー４５とを有している。ここでは、焼成炉１の搬送方向Ｙ（長さ方向）に沿って前後が規定されている。すなわち、焼成炉１に対して、被処理物が搬送される方向に沿って、上流側を後（Ｒｒ）、下流側を前（Ｆ）とし、前後が規定されている。また、かかる被処理物が搬送される方向に沿って前方に向かって左右（Ｌ、Ｒ）が規定されている。
焼成炉１は、図１に示されているように、マッフル１０と、メインプッシャー２０と、搬入路３０と、搬出路４０と、搬出プッシャー４５とを有している。ここでは、焼成炉１の搬送方向Ｙ（長さ方向）に沿って前後が規定されている。すなわち、焼成炉１に対して、被処理物が搬送される方向に沿って、上流側を後（Ｒｒ）、下流側を前（Ｆ）とし、前後が規定されている。また、かかる被処理物が搬送される方向に沿って前方に向かって左右（Ｌ、Ｒ）が規定されている。
【0012】
この実施形態では、焼成炉１は、搬入プッシャーも有している。搬入プッシャーは、被処理物を搬入方向Ｘに沿って押し出す。図１では、搬入方向Ｘの上流側が右（Ｒ）、下流側が左（Ｌ）と規定される。搬入プッシャーは、搬入路３０の延長線上に取り付けられている。
【0013】
焼成炉１は、加熱容器Ｂに載せられた被処理物（以下、被処理物Ａとも称する）を搬送方向Ｙに沿って搬送しつつ、連続的に加熱処理する。この実施形態では、焼成炉１は、被処理物Ａを搬送方向Ｙ（ＲｒからＦ）に搬送しつつ加熱する。被処理物Ａは、搬送レール１７上をメインプッシャー２０で順次押されることによって搬送される。焼成炉１は、マッフル炉であり、プッシャー炉である。
【0014】
被処理物Ａは、マッフル１０を介してヒータ（図示せず）により間接的に加熱処理させる。被処理物Ａは、例えば、放熱材料である窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム等の窒化物系セラミックス粉体や、リチウムイオン電池の負極材料である炭素系やケイ素系の粉体が加熱処理に用いられうる。しかし、被処理物Ａは、これらに限定されるものではない。この実施形態では、被処理物Ａは、加熱容器Ｂに収容された状態で焼成炉１内を搬送される。加熱容器Ｂは、例えば、耐熱性に優れる材料から構成されている。加熱容器Ｂの材質及び形状は、加熱温度や被処理物の種類等に応じて適宜選択されうる。加熱容器Ｂの材料は、例えば、カーボンやセラミックである。この実施形態では、加熱容器Ｂの形状は、底が平で周りが側壁で囲まれた略矩形である。なお、加熱容器Ｂは「サヤ」とも称される。加熱容器Ｂには蓋Ｂ１が取り付けられていてもよい。蓋Ｂ１は、加熱容器Ｂと同じ材料であってもよい。
【0015】
＜マッフル１０＞
マッフル１０は、被処理物Ａが搬送方向に沿って搬送される搬送空間１０ａを囲むように直線に沿ったトンネル状（又は筒状）に形成されている。マッフル１０の材料は、金属、セラミック、又はカーボンを用いることができる。この実施形態では、金属製のマッフル１０を使用している。金属製のマッフル１０は、セラミックやカーボンに比べて加工がしやすい。また、マッフル１０の材料に金属を用いることで、マッフル内の雰囲気ガスの漏洩を低減することができる。また、マッフル１０は、ヒータ（図示せず）と断熱材（図示せず）を介して炉体（外壁、図示せず）により搬送方向Ｙの周囲を覆われている。ヒータは加熱装置である。ヒータの種類、材料及び形状等は、特に限定されず、目的とする加熱温度や加熱雰囲気等の加熱条件に応じて適宜選択されうる。ヒータの種類は、例えば、遠赤外線や電気である。ヒータの材料は、例えば、セラミック、カーボン、又は金属等である。ヒータの形状は、円筒形状であってもよく、板状のパネルヒータであってもよい。また、マッフル１０内には温度センサが取り付けられていてもよい。その場合、温度センサによって検出される温度に基づいて温度条件を調整することが可能となる。
マッフル１０は、被処理物Ａが搬送方向に沿って搬送される搬送空間１０ａを囲むように直線に沿ったトンネル状（又は筒状）に形成されている。マッフル１０の材料は、金属、セラミック、又はカーボンを用いることができる。この実施形態では、金属製のマッフル１０を使用している。金属製のマッフル１０は、セラミックやカーボンに比べて加工がしやすい。また、マッフル１０の材料に金属を用いることで、マッフル内の雰囲気ガスの漏洩を低減することができる。また、マッフル１０は、ヒータ（図示せず）と断熱材（図示せず）を介して炉体（外壁、図示せず）により搬送方向Ｙの周囲を覆われている。ヒータは加熱装置である。ヒータの種類、材料及び形状等は、特に限定されず、目的とする加熱温度や加熱雰囲気等の加熱条件に応じて適宜選択されうる。ヒータの種類は、例えば、遠赤外線や電気である。ヒータの材料は、例えば、セラミック、カーボン、又は金属等である。ヒータの形状は、円筒形状であってもよく、板状のパネルヒータであってもよい。また、マッフル１０内には温度センサが取り付けられていてもよい。その場合、温度センサによって検出される温度に基づいて温度条件を調整することが可能となる。
【0016】
マッフル１０は、図１及び図２に示すように、底壁１０ｄと、底壁１０ｄに対向する上壁１０ｂと、搬送空間１０ａを挟んで一対の側壁１０ｃ１、１０ｃ２とを有している。また、図２では、焼成炉１の高さ方向に沿って上下（Ｕ、Ｄ）が規定されている。この実施形態では、マッフル１０の底壁１０ｄには、搬送方向Ｙに沿って搬送レール１７が設けられている。
【0017】
図１及び図２に示すように、マッフル１０の搬送方向Ｙの後方Ｒｒの端部（第１端部１０ｅ）には、メインプッシャー２０が備えられている。また、マッフル１０の第１端部１０ｅ側の側壁１０ｃ２には、第１開口部１１が設けられている。マッフル１０の搬送方向Ｙの前方Ｆの端部（第２端部１０ｆ）側には、搬出プッシャー４５が備えられている。この実施形態では、マッフル１０の第１端部１１と、第２端部１３は搬送方向Ｙにおいて搬送空間１０ａを挟んで対向している。マッフル１０の第２端部１０ｆ側の側壁１０ｃ１には、第２開口部１２が設けられている。マッフル１０の第２端部１０ｆ側の側壁１０ｃ２には、第３開口部１３が設けられている。
【0018】
マッフル１０の第１開口部１１は、被処理物Ａを搬入路３０から搬送空間１０ａに導入するための開口部である。また、第１開口部１１は、マッフル１０と搬入路３０とを接続する接続部でもある。この実施形態では、図１に示すように、マッフル１０の第１開口部１１は、マッフル１０の第１端部１０ｅ側における一方の側壁１０ｃ１に設けられている。マッフル１０の第１開口部１１は、搬入路３０から被処理物Ａが導入されるため、少なくとも被処理物Ａ（若しくは加熱容器Ｂ）よりも大きな内径を有していればよい。
【0019】
マッフル１０の第２開口部１２は、搬出プッシャー４５により被処理物Ａを搬出方向に押し出すための開口部である。マッフル１０の第３開口部１３は、被処理物Ａを搬送空間１０ａから搬出路４０に導入するための開口部である。図１に示すように、搬出路１０は、第２開口部１２と第３開口部１３を介して、マッフル１０の第２端部１０ｆ側において、マッフル１０と交差するように繋がっている。この実施形態では、マッフル１０の第２開口部１２は、マッフル１０の第２端部１０ｆ側における一方の側壁１０ｃ１に設けられている。また、マッフル１０の第３開口部１３は、マッフル１０の第２開口部１２と対向するように、もう一方のマッフル１０の側壁１０ｃ２に設けられている。マッフル１０の第２開口部１２と第３開口部１３は、搬送空間１０ａを挟んで対向するように設けられている。
【0020】
＜メインプッシャー＞
メインプッシャー２０は、所定時間毎に、マッフルの長さ方向（搬送方向Ｙ（ＲｒからＦ））に沿って、被処理物Ａを所定距離だけ押し込む装置である。メインプッシャー２０は、図１及び図２に示すように、マッフル１０の第１端部１０ｅに設けられている。メインプッシャー２０は、搬入路３０からマッフル１０の搬送空間１０ａに供給された被処理物Ａを搬送方向Ｙに押し出すことができる。この実施形態では、メインプッシャー２０は、プッシャーヘッド２０ａと、プッシャーロッド２０ｂと、シール部２０ｃと、アクチュエータ２０ｄとを備えている。プッシャーロッド２０ｂは、マッフル１０の第１端部１０ｅから搬送空間１０ａに挿入されている。第１端部１０ｅにはシール部２０ｃが設けられている。シール部２０ｃは、マッフル１０内の気密性を確保しつつ、プッシャーロッド２０ｂの摺動を支持している。プッシャーヘッド２０ａは、搬送空間１０ａ内部に延びたプッシャーロッド２０ｂの先端に取り付けられている。
メインプッシャー２０は、所定時間毎に、マッフルの長さ方向（搬送方向Ｙ（ＲｒからＦ））に沿って、被処理物Ａを所定距離だけ押し込む装置である。メインプッシャー２０は、図１及び図２に示すように、マッフル１０の第１端部１０ｅに設けられている。メインプッシャー２０は、搬入路３０からマッフル１０の搬送空間１０ａに供給された被処理物Ａを搬送方向Ｙに押し出すことができる。この実施形態では、メインプッシャー２０は、プッシャーヘッド２０ａと、プッシャーロッド２０ｂと、シール部２０ｃと、アクチュエータ２０ｄとを備えている。プッシャーロッド２０ｂは、マッフル１０の第１端部１０ｅから搬送空間１０ａに挿入されている。第１端部１０ｅにはシール部２０ｃが設けられている。シール部２０ｃは、マッフル１０内の気密性を確保しつつ、プッシャーロッド２０ｂの摺動を支持している。プッシャーヘッド２０ａは、搬送空間１０ａ内部に延びたプッシャーロッド２０ｂの先端に取り付けられている。
【0021】
メインプッシャー２０は、アクチュエータ２０ｄが操作されることでプッシャーロッド２０ｂが前方に動き、搬送空間１０ａの被処理物Ａを前方Ｆ方向に向けて押し出す。メインプッシャー２０は、被処理物Ａを押し出した後、プッシャーヘッド２０ａとプッシャーロッド２０ｂを後方に待機させる。これにより、搬入路３０から搬送空間１０ａに新たに被処理物Ａが供給されるスペースが確保される。この実施形態では、アクチュエータ２０ｄとして、サーボモータが用いられている。しかし、これに限らず、アクチュエータ２０ｄは、シリンダ機構であってもよい。アクチュエータ２０ｄは、マッフル１０の外側に設けられているため、マッフル１０内の温度の影響をほとんど受けることなく、プッシャーロッド２０ｂを動かすことができる。
【0022】
＜搬入路３０＞
搬入路３０は、図１に示すように、マッフル１０の第１端部１０ｅ側において、マッフル１０の長さ方向に交差するように繋がっている。搬入路３０は、搬入口３１から搬入された被処理物Ａをマッフル１０内に導入するための搬入空間３０ａを有するトンネル状（又は筒状）の経路である。図３は、搬入路３０の縦断側面図である。図３では、搬入路３０の内部が分かるように、搬入路３０の搬入方向Ｘに沿って縦断したＩＩＩ－ＩＩＩ断面（図１参照）を模式的に示した図である。図１及び図３に示すように、搬入路３０は、底壁３０ｄと、底壁３０ｄに対向する上壁３０ｂと、搬入空間３０ａを挟んで一対の側壁３０ｃ１、３０ｃ２とを有している。この実施形態では、搬入路３０の底壁３０ｄには、搬送方向Ｙと交差する搬送レール１７が設けられている。搬入路３０の材料は、マッフル１０と同じ材料であってもよい。搬入路３０は、マッフル１０と同様に、ヒータ（図示せず）と断熱材（図示せず）を介して炉体（外壁、図示せず）により搬送方向Ｙの周囲を覆われていてもよい。
搬入路３０は、図１に示すように、マッフル１０の第１端部１０ｅ側において、マッフル１０の長さ方向に交差するように繋がっている。搬入路３０は、搬入口３１から搬入された被処理物Ａをマッフル１０内に導入するための搬入空間３０ａを有するトンネル状（又は筒状）の経路である。図３は、搬入路３０の縦断側面図である。図３では、搬入路３０の内部が分かるように、搬入路３０の搬入方向Ｘに沿って縦断したＩＩＩ－ＩＩＩ断面（図１参照）を模式的に示した図である。図１及び図３に示すように、搬入路３０は、底壁３０ｄと、底壁３０ｄに対向する上壁３０ｂと、搬入空間３０ａを挟んで一対の側壁３０ｃ１、３０ｃ２とを有している。この実施形態では、搬入路３０の底壁３０ｄには、搬送方向Ｙと交差する搬送レール１７が設けられている。搬入路３０の材料は、マッフル１０と同じ材料であってもよい。搬入路３０は、マッフル１０と同様に、ヒータ（図示せず）と断熱材（図示せず）を介して炉体（外壁、図示せず）により搬送方向Ｙの周囲を覆われていてもよい。
【0023】
搬入路３０は、図１及び図３に示すように、搬入口３１と、シャッター６１とを備えている。また、搬入路３０は、図１及び図３には示さない搬入プッシャーも備えている。搬入口３１は、被処理物Ａを搬入空間３０ａに搬入するための開口部である。搬入口３１は、マッフル１０の第１開口部１１と搬入空間３０ａを挟んで対向して設けられている。シャッター６１は、焼成炉１内を密閉空間とするための開閉機能である。シャッター６１は、蓋であってもよい。また、シャッター６１は、後述する置換室６０に由来するものであってもよい。シャッター等の開閉機能を有することで、焼成炉１内と外部の雰囲気を分断することができる。
【0024】
＜搬入プッシャー＞
搬入プッシャーは、所定時間毎に、マッフル１０の搬入方向Ｘ（ＲからＬ）に沿って、被処理物Ａを所定距離だけ押し込む装置である。搬入プッシャーは、搬入路３０の搬入口３１側に備えられている。搬入プッシャーは、被処理物Ａを搬入方向Ｘに順次押し出すことで、被処理物Ａをマッフル１０の搬送空間１０ａに供給する。搬入プッシャーは、搬入路３０を通じてマッフル１０内に被処理物Ａを押し込むことができる。搬入プッシャーは、メインプッシャー２０と同様に、プッシャーヘッドと、プッシャーロッドと、シール部と、アクチュエータとを備えていてもよい。
搬入プッシャーは、所定時間毎に、マッフル１０の搬入方向Ｘ（ＲからＬ）に沿って、被処理物Ａを所定距離だけ押し込む装置である。搬入プッシャーは、搬入路３０の搬入口３１側に備えられている。搬入プッシャーは、被処理物Ａを搬入方向Ｘに順次押し出すことで、被処理物Ａをマッフル１０の搬送空間１０ａに供給する。搬入プッシャーは、搬入路３０を通じてマッフル１０内に被処理物Ａを押し込むことができる。搬入プッシャーは、メインプッシャー２０と同様に、プッシャーヘッドと、プッシャーロッドと、シール部と、アクチュエータとを備えていてもよい。
【0025】
＜搬出路４０＞
搬出路４０は、図１に示すように、マッフル１０の第２開口部１２と第３開口部１３を貫通して設けられている。搬出路４０は、マッフル１０の第２端部１０ｆ側において、マッフルの長さ方向に交差するように繋がっている。搬入路３０は、搬送空間３０ａの被処理物Ａを焼成炉１の外へ搬出するための搬出空間４０ａを有するトンネル状（又は筒状）の経路である。図４は、搬出路４０の縦断断面図である。図４では、搬出路４０の内部が分かるように、搬入路３０の搬出方向Ｚに沿って縦断したＩＶ－ＩＶ断面（図１参照）を模式的に示した図である。図１及び図４に示すように、搬出路４０は、底壁４０ｄと、底壁４０ｄに対向する上壁４０ｂと、搬出空間４０ａを挟んで一対の側壁４０ｃ１、４０ｃ２とを有している。この実施形態では、搬出路４０の底壁４０ｄには、搬送方向Ｙと交差する搬送レール１７が設けられている。搬出路４０の材料は、マッフル１０と同じ材料であってもよい。搬出路４０は、マッフル１０と同様に、ヒータ（図示せず）と断熱材（図示せず）を介して炉体（外壁、図示せず）により搬送方向Ｙの周囲を覆われていてもよい。
搬出路４０は、図１に示すように、マッフル１０の第２開口部１２と第３開口部１３を貫通して設けられている。搬出路４０は、マッフル１０の第２端部１０ｆ側において、マッフルの長さ方向に交差するように繋がっている。搬入路３０は、搬送空間３０ａの被処理物Ａを焼成炉１の外へ搬出するための搬出空間４０ａを有するトンネル状（又は筒状）の経路である。図４は、搬出路４０の縦断断面図である。図４では、搬出路４０の内部が分かるように、搬入路３０の搬出方向Ｚに沿って縦断したＩＶ－ＩＶ断面（図１参照）を模式的に示した図である。図１及び図４に示すように、搬出路４０は、底壁４０ｄと、底壁４０ｄに対向する上壁４０ｂと、搬出空間４０ａを挟んで一対の側壁４０ｃ１、４０ｃ２とを有している。この実施形態では、搬出路４０の底壁４０ｄには、搬送方向Ｙと交差する搬送レール１７が設けられている。搬出路４０の材料は、マッフル１０と同じ材料であってもよい。搬出路４０は、マッフル１０と同様に、ヒータ（図示せず）と断熱材（図示せず）を介して炉体（外壁、図示せず）により搬送方向Ｙの周囲を覆われていてもよい。
【0026】
搬出路４０は、図１及び図４に示すように、搬出口４１、搬出プッシャー４５と、シャッター６１とを備えている。搬出口４１は、被処理物Ａを焼成炉１の外側に排出するための開口部である。搬出口４１は、マッフル１０の第３開口部１３と搬出空間４０ａを挟んで対向して設けられている。搬出プッシャー４５は、搬出路４０における搬出口４２とは対向する端部４０ｅに備えられている。シャッター６１は、焼成炉１内を密閉空間とするための開閉機能である。シャッター６１は、蓋であってもよい。また、シャッター６１は、後述する置換室６０に由来するものであってもよい。シャッター等の開閉機能を有することで、焼成炉１内と外部の雰囲気を分断することができる。
【0027】
搬出路４０は、焼成炉１内を密閉空間とするため、開閉機能を有している。ここでは、搬出路４０は、開閉機能として、シャッター６１を有している。しかし、開閉機能は、特に限定されない。開閉機能は、例えば、蓋やシャッター等である。また、開閉機能は、後述する置換室６０に由来するものであってもよい。
【0028】
＜搬出プッシャー４５＞
搬出プッシャー４５は、所定時間毎に、被処理物Ａをマッフル１０の搬出方向Ｚ（ＬからＲ）に沿って所定距離だけ押し出す装置である。搬出プッシャー４５は、搬送空間１０ａの被処理物Ａを搬出方向Ｚに順次押し出すことで、被処理物Ａを焼成炉１外に排出する。搬出プッシャー４５は、図１に示すように、マッフル１０の第２端部１０ｆ側に設けられている。この実施形態では、搬出プッシャー４５は、プッシャーヘッド４５ａと、プッシャーロッド４５ｂと、シール部４５ｃと、アクチュエータ４５ｄとを備えている。プッシャーロッド４５ｂは、搬出路４０の端部４０ｅから搬出空間４０ａに挿入されている。端部４０ｅにはシール部４５ｃが設けられている。シール部４５ｃは、マッフル１０内の気密性を確保しつつ、プッシャーロッド４５ｂの摺動を支持している。プッシャーヘッド４５ａは、搬出空間４０ａ内部に延びたプッシャーロッド４５ｂの先端に取り付けられている。
搬出プッシャー４５は、所定時間毎に、被処理物Ａをマッフル１０の搬出方向Ｚ（ＬからＲ）に沿って所定距離だけ押し出す装置である。搬出プッシャー４５は、搬送空間１０ａの被処理物Ａを搬出方向Ｚに順次押し出すことで、被処理物Ａを焼成炉１外に排出する。搬出プッシャー４５は、図１に示すように、マッフル１０の第２端部１０ｆ側に設けられている。この実施形態では、搬出プッシャー４５は、プッシャーヘッド４５ａと、プッシャーロッド４５ｂと、シール部４５ｃと、アクチュエータ４５ｄとを備えている。プッシャーロッド４５ｂは、搬出路４０の端部４０ｅから搬出空間４０ａに挿入されている。端部４０ｅにはシール部４５ｃが設けられている。シール部４５ｃは、マッフル１０内の気密性を確保しつつ、プッシャーロッド４５ｂの摺動を支持している。プッシャーヘッド４５ａは、搬出空間４０ａ内部に延びたプッシャーロッド４５ｂの先端に取り付けられている。
【0029】
＜架台５０＞
図５は、焼成炉１を載置する架台５０の構成を模式的に示した図である。図５に示すように、架台５０は、焼成炉１（マッフル１０、メインプッシャー２０、搬出プッシャー４５、搬入路３０、及び搬出路４０）の底面をそれぞれ支持する。架台５０には、マッフル１０の第２端部１０ｆ側が固定されている。ここでは、マッフル１０の第２端部１０ｆと、搬出路４０と、搬出プッシャー４５とが、架台に対して固定的に配置されている。固定方法は、特に限られない。固定方法は、例えば、金具、ベルト、接着、又は溶接等により固定される。固定に使用する金具としては、例えば、ボルト又はリベット等である。この実施形態では、第２端部１０ｆと、搬出路４０と、搬出プッシャー４５とが、ブラケット５１とボルト５２により、架台５０に固定されている。
図５は、焼成炉１を載置する架台５０の構成を模式的に示した図である。図５に示すように、架台５０は、焼成炉１（マッフル１０、メインプッシャー２０、搬出プッシャー４５、搬入路３０、及び搬出路４０）の底面をそれぞれ支持する。架台５０には、マッフル１０の第２端部１０ｆ側が固定されている。ここでは、マッフル１０の第２端部１０ｆと、搬出路４０と、搬出プッシャー４５とが、架台に対して固定的に配置されている。固定方法は、特に限られない。固定方法は、例えば、金具、ベルト、接着、又は溶接等により固定される。固定に使用する金具としては、例えば、ボルト又はリベット等である。この実施形態では、第２端部１０ｆと、搬出路４０と、搬出プッシャー４５とが、ブラケット５１とボルト５２により、架台５０に固定されている。
【0030】
また、架台５０には、マッフル１０の第１端部１０ｅ側がマッフル１０の長さ方向に可動に配置されている。ここでは、マッフル１０の第１端部１０ｅと、搬入路３０と、搬入プッシャー３５とが、架台５０に対して固定されていない。マッフル１０の第１端部１０ｅと、搬入路３０と、搬入プッシャーとが、架台５０に対してマッフル１０の長さ方向に可動に配置されている。
【0031】
焼成炉は、被処理物を高温で加熱する装置である。高温加熱によって、焼成炉に用いられるマッフルが熱膨張する。ところで、長時間焼成する用途において、生産性を向上させるため、マッフルの全長を長くする場合がある。この場合、マッフル全体として、大凡４ｍ以上の長さになる場合もある。また、被処理物によっては、より高温での加熱が求められる場合がある。例えば、セラミックス材料の脱バインダ工程では、マッフル内の温度は、５００℃～６００℃程度にもなる。そのような長いマッフルが用いられ、かつ高温にさらされる場合にマッフルの長さが全体として２ｃｍ以上も伸びる。発明者らは、上記のような熱膨張によるマッフルの伸びにより、マッフルに歪が生じるおそれがあると考えた。かかる歪みにより、マッフルの気密性や被処理物の搬送に影響が生じるおそれがあると考えた。
【0032】
上記のように、ここで開示される焼成炉１は、マッフル１０と、メインプッシャー２０と、搬入路３０と、搬入プッシャーと、搬出路４０と、搬出プッシャー４５と、架台５０とを有している。また、マッフルの第２端部１０ｆと、搬出路４０と、搬出プッシャー４５は、架台５０に対して固定的に配置されている。しかし、マッフルの第１端部１０ｅと、搬入路３０と、搬入プッシャーは、架台５０に対してマッフル１０の長さ方向（ここでは、ＲｒからＦ）に可動に配置されている。これにより、熱膨張によるマッフル１０の伸びを一方向（ここでは、Ｒｒ方向）に規制することができる。すなわち、マッフル１０の第１端部１０ｅが、マッフル１０が熱膨張した分マッフル１０の長さ方向にスライドすることができる。その結果、マッフル１０内部の歪みを小さくすることができる。例えば、マッフル１０と搬入路３０又は搬出路４０の連結部（第１開口部１１又は第３開口部１３）における歪みを低減させることができる。
【0033】
なお、マッフル１０の第１端部１０ｅ側を架台５０に対して固定し、マッフル１０の第２端部１０ｆ側を架台５０に対して可動とすることもできる。しかし、本実施形態のように、マッフル１０の第２端部１０ｆ側を架台に対して固定することが好ましい。マッフル１０が熱膨張した際、非固定的（可動）に配置しているマッフルの端部に伸びが集中しやすい。本実施形態では、マッフル１０の第１端部１０ｅ側が、第２端部１０ｆ側に比べ、加熱容器Ｂ（被処理物Ａ）の間隔に余裕ができやすい。その場合であっても、メインプッシャー２０により、加熱容器Ｂ（被処理物Ａ）を搬送方向Ｙに押し込むことができる。加熱容器Ｂ（被処理物Ａ）の間隔を少なくすることができるため、搬出プッシャー４５による押出をより安定させることができる。
【0034】
マッフル１０の熱膨張による伸長は、使用される温度帯やマッフルの全長によって変化する。炉内の温度が上昇するほど熱膨張率は大きくなる。なお、炉内温度は目的とする被処理物によって決定される。この実施形態では、マッフル１０の全長Ｗは、長さ方向（第１端部１０ｅから第２端部１０ｆ）に約４．４ｍである。また、マッフル１０内部は、大凡５００℃～６００℃に加熱される。この場合、マッフル１０は、熱膨張により長さ方向に最大で２４ｍｍ伸長する。ここで開示される技術は、全長が長く、高温で使用される焼成炉に特に有効である。マッフル１０の全長は、２ｍ以上が好ましく、３ｍ以上がより好ましく、４ｍ以上がさらに好ましい。
【0035】
架台５０は、図５に示すように、長尺の第１フレーム５０ａと、第２フレーム５０ｂと、支持部材５０ｃとを備える。第１フレーム５０ａは、焼成炉１を載置するための架台５０の上側に設けられている。第２フレーム５０ｂは、架台５０の下側に位置するように複数の支持部材５０ｃを連結している。第２フレーム５０ｂにより、架台５０を補強することができる。この実施形態では、第２フレーム５０ｂには、調整ボルト５３と、アンカーボルト５４とが設けられている。調整ボルト５３は、架台の高さを調整することができる。アンカーボルト５４は、床面と架台５０とを固定することができる。
【0036】
架台５０の第１フレーム５０ａには、フリーローラが設けられていてもよい。フリーローラの軸は、マッフル１０の長さ方向と直交するように設けられる。こうすることで、マッフル１０の第１端部１０ｅを長さ方向に容易に可動させることができる。
【0037】
架台５０の材料及び形状は、特に限定されない。ただし、載置する焼成炉１の荷重及び焼成炉１からの熱貫流に耐えうるものが好ましい。架台５０の材料は、例えば、金属やセラミック等である。本実施形態では、ステンレス製の架台５０に焼成炉１を載置している。架台５０は、焼成炉１の全長を支持してもよい。また、複数の架台５０により、マッフル１０の第１端部１０ｅ付近及び第２端部１０ｆ付近等の特定の箇所を個別に支持してもよい。
【0038】
＜搬送レール１７＞
マッフル１０、搬入路３０及び搬出路４０には、適宜、搬送レール１７が配置されていてもよい。搬送レール１７を設置することで、被処理物Ａ（若しくは加熱容器Ｂ又は台板Ｂ２）の搬送を規制することができる。搬送レール１７は、マッフル１０、搬入路３０及び搬出路４０の底壁または床に配置される。搬送レール１７が配置されることで、マッフル１０が熱膨張した場合であっても、被処理物Ａをより確実に搬送することができる。この実施形態では、搬送レール１７は、図１に示されるように、搬入路３０、マッフル１０及び搬出路４０に沿って配置された略Ｃ字状のレールである。搬送レール１７の材料は、特に制限されない。搬送レールの材料は、熱膨張が少ない方が好ましい。搬送レールの材料は、例えば、カーボンやセラミック等が好ましい。
マッフル１０、搬入路３０及び搬出路４０には、適宜、搬送レール１７が配置されていてもよい。搬送レール１７を設置することで、被処理物Ａ（若しくは加熱容器Ｂ又は台板Ｂ２）の搬送を規制することができる。搬送レール１７は、マッフル１０、搬入路３０及び搬出路４０の底壁または床に配置される。搬送レール１７が配置されることで、マッフル１０が熱膨張した場合であっても、被処理物Ａをより確実に搬送することができる。この実施形態では、搬送レール１７は、図１に示されるように、搬入路３０、マッフル１０及び搬出路４０に沿って配置された略Ｃ字状のレールである。搬送レール１７の材料は、特に制限されない。搬送レールの材料は、熱膨張が少ない方が好ましい。搬送レールの材料は、例えば、カーボンやセラミック等が好ましい。
【0039】
搬送レール１７上には、被処理物Ａ（若しくは加熱容器Ｂ又は台板Ｂ２）がほぼ隙間なく載置される。この状態で、最も手前にある被処理物Ａ（若しくは加熱容器Ｂ又は台板Ｂ２）が、プッシャーにより１個分押されると、搬送レール１７上の被処理物Ａ（若しくは加熱容器Ｂ又は台板Ｂ２）が順次押されて搬送される。この実施形態では、図１及び図２に示されているように、マッフル１０の底壁１０ｄに着脱可能なカーボン製の搬送レール１７が設けられている。搬送レール１７は、図１及び図３に示すように、凹部１７ａと両端に基部１７ｂとを有している。ここでは、搬送レール１７に載せられる台板Ｂ２に加熱容器Ｂが載置されている。台板Ｂ２は、搬送レール１７に形成された凹部１７ａによって位置決めされることで、搬送レール１７上を搬送される。図１及び図２に示すように、搬送レール１７上には、加熱容器Ｂがほぼ隙間なく載置される。この状態で、搬送空間１０ａの最も前方Ｆ側にある加熱容器Ｂが、メインプッシャー２０により１個分押されると、搬送レール１７上の加熱容器Ｂが順次押されて搬送される。この搬入処理を繰り返すことによって、搬送レール１７に沿って加熱容器Ｂを順次搬送することができる。なお、上述したように、マッフル１０内の加熱容器Ｂは順次搬送されるため、加熱容器Ｂの搬入と搬出は、同じタイミングで行われる。そのため、搬入口３１と搬出口４１の開閉は同じタイミングで行われる。
【0040】
＜ガス排気管１６＞
図２に示すように、マッフル１０には、ガス供給管（図示せず）又はガス排気管１６等の配管が設けられていてもよい。ガス排気管１６は、マッフル１０内から雰囲気ガス（例えば、窒素やアルゴン等）又は被処理物Ａの焼成により生じる反応ガスを給気するための配管である。ガス排気管には、排気ポンプ等の排気装置が接続されうる。ガス供給管は、マッフル１０内に雰囲気ガスを供給するための配管である。カス供給管は、ガス供給源（図示せず）と接続されている。ガス排気管１６及びガス供給管の配置や数は、本開示の技術を著しく損なわない限りにおいて、特に制限されない。この実施形態では、マッフル１０の上壁１０ｂに設けられた複数のガス排気孔１６ａにガス排気管１６が設けられている。しかし、ガス排気孔１６ａはマッフル１０の側壁１０ｃ１、１０ｃ２等に設けられていてもよい。なお、これらの配管は、フレキシブルホースに接続することで、搬送方向に可動させることができる。これにより、マッフル１０が熱膨張によって搬送方向Ｙに伸長した際、マッフルと配管との位置ズレ（歪み）の影響を小さくすることができる。
図２に示すように、マッフル１０には、ガス供給管（図示せず）又はガス排気管１６等の配管が設けられていてもよい。ガス排気管１６は、マッフル１０内から雰囲気ガス（例えば、窒素やアルゴン等）又は被処理物Ａの焼成により生じる反応ガスを給気するための配管である。ガス排気管には、排気ポンプ等の排気装置が接続されうる。ガス供給管は、マッフル１０内に雰囲気ガスを供給するための配管である。カス供給管は、ガス供給源（図示せず）と接続されている。ガス排気管１６及びガス供給管の配置や数は、本開示の技術を著しく損なわない限りにおいて、特に制限されない。この実施形態では、マッフル１０の上壁１０ｂに設けられた複数のガス排気孔１６ａにガス排気管１６が設けられている。しかし、ガス排気孔１６ａはマッフル１０の側壁１０ｃ１、１０ｃ２等に設けられていてもよい。なお、これらの配管は、フレキシブルホースに接続することで、搬送方向に可動させることができる。これにより、マッフル１０が熱膨張によって搬送方向Ｙに伸長した際、マッフルと配管との位置ズレ（歪み）の影響を小さくすることができる。
【0041】
＜置換室６０＞
搬入路３０及び／又は搬出路４０には置換室６０が設けられていてもよい。置換室６０は、焼成炉１内と焼成炉１外の雰囲気を仕切ることができる空間である。置換室６０は、焼成炉１内の雰囲気を調整する機能を有している。被処理物Ａは、置換室６０に供給された際、置換室６０内の雰囲気が焼成炉１内とほぼ同等となるように調整されてから搬入される。置換室６０により、連続運転中であっても、マッフル１０内の雰囲気を一定に保つことができるため、被処理物Ａを安定して加熱することができる。本実施形態では、焼成炉１には、搬入路３０に設けられた第１置換室６０ａと、搬出路４０に設けられた第２置換室６０ｂと、が設けられている。第１置換室６０ａは、搬入路３０の搬入口３１に取り付けられている。また、第２置換室６０ｂは、搬出路４０の搬出口４１に取り付けられている。
搬入路３０及び／又は搬出路４０には置換室６０が設けられていてもよい。置換室６０は、焼成炉１内と焼成炉１外の雰囲気を仕切ることができる空間である。置換室６０は、焼成炉１内の雰囲気を調整する機能を有している。被処理物Ａは、置換室６０に供給された際、置換室６０内の雰囲気が焼成炉１内とほぼ同等となるように調整されてから搬入される。置換室６０により、連続運転中であっても、マッフル１０内の雰囲気を一定に保つことができるため、被処理物Ａを安定して加熱することができる。本実施形態では、焼成炉１には、搬入路３０に設けられた第１置換室６０ａと、搬出路４０に設けられた第２置換室６０ｂと、が設けられている。第１置換室６０ａは、搬入路３０の搬入口３１に取り付けられている。また、第２置換室６０ｂは、搬出路４０の搬出口４１に取り付けられている。
【0042】
置換室６０は、置換室６０と焼成炉１とを仕切る炉体側シャッター６１と、置換室６０と外部とを仕切る外部シャッター６２と、が設けられている。炉体側シャッター６１は、置換室６０と焼成炉１の内部とを区画している。また、外部シャッター６２は、置換室６０と焼成炉１の外部とを区画している。置換室６０は、被処理物Ａを搬送するためのガイドレール６３を備えていてもよい。
【0043】
図６は、第１置換室６０ａの模式図である。また、図７は、第１置換室６０ａの模式的な平面図である。図７は、第１置換室６０ａの内部が分かるように、第１置換室６０ａの内部を上から見た平面図である。図７に示すように、第１置換室６０ａは、炉体側シャッター６１ａと、外部シャッター６２ａと、ガイドレール６３とを備える。なお、上述した搬入プッシャーは、第１置換室６０ａに設けられていてもよい。
【0044】
第１置換室６０ａは、焼成炉１内に被処理物Ａを搬入するための機構を備えている。この実施形態では、まずシャッター６２ａが閉じられた状態で、シャッター６１ａが開かれる。次に、台板Ｂ２に載置された加熱容器Ｂが、第１置換室６０ａに導入される。第１置換室６０ａに加熱容器Ｂが導入されるとシャッター６２ａが閉じられる。そして、第１置換室６０ａ内の雰囲気が調整される。第１置換室６０ａ内の雰囲気が調整された後、シャッター６１ａが開かれる。第１置換室６０ａに設けられた搬入プッシャーが加熱容器Ｂを押し出すことにより、加熱容器Ｂが焼成炉１内に搬入される。こうすることで、焼成炉１の内部と外部との雰囲気を分けることができ、マッフル１０内の被処理物Ａへの外気による影響を抑制することができる。
【0045】
第１置換室６０ａは、架台５０に載置されている。また、第１置換室６０ａは、架台５０に対してマッフルの長さ方向に可動に配置されている。こうすることで、マッフル１０が、熱膨張により第１端部１０ｅ側に伸長した際、長さ方向（ここでは、後方Ｒｒ）にスライドさせることができる。第１置換室６０ａ又は第１置換室６０ａが載置される架台５０には、フリーローラ５５が設けられててもよい。フリーローラ５５により、マッフル１０の第１端部１０ｅを長さ方向に容易に可動させることができる。この実施形態では、図６に示されているように、第１置換室６０ａが載置される架台５０には、フリーローラ５５が設けられている。フリーローラ５５の軸は、マッフル１０の搬送方向Ｙと直交するように設けられている。
【0046】
第２置換室６０ｂは、焼成炉１外に被処理物Ａを搬出するための機構を備えている。この実施形態では、まずシャッター６２ｂが閉じられた状態で、シャッター６１ｂが開かれる。次に、加熱処理された被処理物Ａが、搬出路４０から第２置換室６０ｂに導入される。第２置換室６０ｂに被処理物Ａが導入されるとシャッター６１ｂが閉じられる。そして、第２置換室６０ｂ内の雰囲気が調整される。第２置換室６０ｂ内の雰囲気が調整された後、シャッター６２ｂが開かれ、被処理物Ａが搬出される。こうすることで、焼成炉１の内部と外部との雰囲気を分けることができる。
【0047】
第２置換室６０ｂは、架台５０に載置されている。第２置換室６０ｂは、架台５０に載置されている。また、第２置換室６０ｂは、架台５０に対して固定的に配置されていてもよい。本実施形態では、マッフル１０の第２端部１０ｆが固定されている。そのため、第２置換室６０ｂを架台５０に対して固定的に配置することで、熱膨張による伸長方向を一方向により規制することができる。この実施形態では、図８に示されるように、第２置換室６０ｂは、ブラケット５１とボルト５２により、架台５０に固定されている。
【0048】
以上、ここで開示される発明の詳細な説明を行ったが、これらは例示にすぎず、請求の
範囲を限定するものではない。また、ここでの開示は、種々変更でき、特段の問題が生じ
ない限りにおいて、各構成要素やここで言及された各処理は適宜に省略され、または、適
宜に組み合わされうる。
範囲を限定するものではない。また、ここでの開示は、種々変更でき、特段の問題が生じ
ない限りにおいて、各構成要素やここで言及された各処理は適宜に省略され、または、適
宜に組み合わされうる。
【0049】
なお、本明細書は以下の項１～４を含んでいる。以下の項１～４は、上記した実施形態には限定されない。
【0050】
項１：直線に沿ったトンネル状のマッフルと、前記マッフルが載せられる架台と、前記マッフルの第１端部に設けられ、前記マッフルの長さ方向に沿って、被処理物を押し込むメインプッシャーと、前記マッフルの前記第１端部において、前記マッフルの長さ方向に交差するように繋がった搬入路と、前記搬入路を通じて前記マッフル内に前記被処理物を押し込む搬入プッシャーと、前記マッフルの第２端部において、前記マッフルの長さ方向に交差するように繋がった搬出路と、前記マッフルの前記第２端部に設けられ、前記搬出路に向けて被処理物を押し出す搬出プッシャーと、を備え、前記マッフルの前記第２端部と、前記搬出路と、前記搬出プッシャーは、前記架台に対して固定的に配置されており、前記マッフルの前記第１端部と、前記搬入路と、前記搬入プッシャーは、前記架台に対して前記マッフルの長さ方向に可動に配置されている、焼成炉。
【0051】
項２：前記マッフルは、搬送レールを備えている、項１に記載の焼成炉。
【0052】
項３：前記搬入路には、第１置換室が設けられており、前記搬出路には、第２置換室が設けられており、前記第１置換室は、架台に対して前記マッフルの長さ方向に可動に配置され、前記第２置換室は、架台に対して固定的に配置されている、項１又は項２に記載の焼成炉。
【0053】
項４：前記第１置換室を載置する架台には、フリーローラが設けられている、項１～３のいずれか１項に記載の焼成炉。
【符号の説明】
【0054】
１ 焼成炉
１０ マッフル
１０ａ 搬送空間
１０ｂ マッフルの上壁
１０ｃ１ マッフルの側壁
１０ｃ２ マッフルの側壁
１０ｄ マッフルの底壁
１０ｅ マッフルの第１端部
１０ｆ マッフルの第２端部
１１ マッフルの第１開口部
１２ マッフルの第２開口部
１３ マッフルの第３開口部
１６ ガス排気孔
１６ａ ガス排気管
１７ 搬送レール
１８ 搬送レールの凹部
２０ メインプッシャー
２０ａ プッシャーヘッド
２０ｂ プッシャーロッド
２０ｃ シール部
２０ｄ アクチュエータ
３０ 搬入路
３０ａ 搬入空間
３０ｂ 搬入路の上壁
３０ｃ１ 搬入路の側壁
３０ｃ２ 搬入路の側壁
３０ｄ 搬入路の底壁
３１ 搬入口
４０ 搬出路
４０ａ 搬出空間
４０ｂ 搬出路の上壁
４０ｃ１ 搬出路の側壁
４０ｃ２ 搬出路の側壁
４０ｄ 搬出路の底壁
４０ｅ 搬出路の端部
４１ 搬出口
４５ 搬出プッシャー
４５ａ プッシャーヘッド
４５ｂ プッシャーロッド
４５ｃ シール部
４５ｄ アクチュエータ
５０ 架台
５０ａ 第１フレーム
５０ｂ 第２フレーム
５０ｃ 支持部材
５１ ブラケット
５２ ボルト
５３ アンカーボルト
５４ 調整ボルト
５５ フリーローラ
６０ 置換室
６０ａ 第１置換室
６０ｂ 第２置換室
６１ 炉体側シャッター
６１ａ 第１置換室の炉体側シャッター
６１ｂ 第２置換室の炉体側シャッター
６２ 外部シャッター
６２ａ 第１置換室の外部シャッター
６２ｂ 第２置換室の外部シャッター
６３ ガイドレール
Ａ 被処理物
Ｂ 加熱容器
Ｂ１ 蓋
Ｂ２ 台板
W マッフルの長さ方向の全長
Ｘ 搬入方向
Ｙ 搬送方向
Ｚ 搬出方向
１０ マッフル
１０ａ 搬送空間
１０ｂ マッフルの上壁
１０ｃ１ マッフルの側壁
１０ｃ２ マッフルの側壁
１０ｄ マッフルの底壁
１０ｅ マッフルの第１端部
１０ｆ マッフルの第２端部
１１ マッフルの第１開口部
１２ マッフルの第２開口部
１３ マッフルの第３開口部
１６ ガス排気孔
１６ａ ガス排気管
１７ 搬送レール
１８ 搬送レールの凹部
２０ メインプッシャー
２０ａ プッシャーヘッド
２０ｂ プッシャーロッド
２０ｃ シール部
２０ｄ アクチュエータ
３０ 搬入路
３０ａ 搬入空間
３０ｂ 搬入路の上壁
３０ｃ１ 搬入路の側壁
３０ｃ２ 搬入路の側壁
３０ｄ 搬入路の底壁
３１ 搬入口
４０ 搬出路
４０ａ 搬出空間
４０ｂ 搬出路の上壁
４０ｃ１ 搬出路の側壁
４０ｃ２ 搬出路の側壁
４０ｄ 搬出路の底壁
４０ｅ 搬出路の端部
４１ 搬出口
４５ 搬出プッシャー
４５ａ プッシャーヘッド
４５ｂ プッシャーロッド
４５ｃ シール部
４５ｄ アクチュエータ
５０ 架台
５０ａ 第１フレーム
５０ｂ 第２フレーム
５０ｃ 支持部材
５１ ブラケット
５２ ボルト
５３ アンカーボルト
５４ 調整ボルト
５５ フリーローラ
６０ 置換室
６０ａ 第１置換室
６０ｂ 第２置換室
６１ 炉体側シャッター
６１ａ 第１置換室の炉体側シャッター
６１ｂ 第２置換室の炉体側シャッター
６２ 外部シャッター
６２ａ 第１置換室の外部シャッター
６２ｂ 第２置換室の外部シャッター
６３ ガイドレール
Ａ 被処理物
Ｂ 加熱容器
Ｂ１ 蓋
Ｂ２ 台板
W マッフルの長さ方向の全長
Ｘ 搬入方向
Ｙ 搬送方向
Ｚ 搬出方向
【要約】
【課題】焼成炉の内部の変形、破損を防止する。
【解決手段】ここで開示される焼成炉１は、マッフル１０と、搬入路３０と、搬出路４０と、メインプッシャー２０と、搬出プッシャー４５とを有している。焼成炉１は、架台５０に載置されている。搬入路３０は、マッフルの第１端部１０ｅ側に設けられている。搬出路４０は、マッフルの第２端部１０ｆ側に設けられている。この焼成炉１は、マッフルの第２端部１０ｆと、搬出路４０と、搬出プッシャー４５とが、架台５０に対して固定的に配置されている。これに対し、マッフルの第１端部１０ｅと、搬入路３０と、搬入プッシャーとが、架台５０に対してマッフル１０の長さ方向に可動に配置されている。
【選択図】図１
【解決手段】ここで開示される焼成炉１は、マッフル１０と、搬入路３０と、搬出路４０と、メインプッシャー２０と、搬出プッシャー４５とを有している。焼成炉１は、架台５０に載置されている。搬入路３０は、マッフルの第１端部１０ｅ側に設けられている。搬出路４０は、マッフルの第２端部１０ｆ側に設けられている。この焼成炉１は、マッフルの第２端部１０ｆと、搬出路４０と、搬出プッシャー４５とが、架台５０に対して固定的に配置されている。これに対し、マッフルの第１端部１０ｅと、搬入路３０と、搬入プッシャーとが、架台５０に対してマッフル１０の長さ方向に可動に配置されている。
【選択図】図１
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