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▶ クオンタム ヴァリー アイデアズ ラボラトリーズの特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-10-04
(45)【発行日】2024-10-15
(54)【発明の名称】キャビティのアレイを有する蒸気セル
(51)【国際特許分類】
G01R 29/08 20060101AFI20241007BHJP
【ＦＩ】
G01R29/08 F
【請求項の数】
29
(21)【出願番号】P 2023562329
(86)(22)【出願日】2022-02-10
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2024-04-19
(86)【国際出願番号】 CA2022050189
(87)【国際公開番号】W WO2022217335
(87)【国際公開日】2022-10-20
【審査請求日】2023-11-27
(31)【優先権主張番号】63/174,289
(32)【優先日】2021-04-13
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(31)【優先権主張番号】17/480,448
(32)【優先日】2021-09-21
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】521266918
【氏名又は名称】クオンタム ヴァリー アイデアズ ラボラトリーズ
(74)【代理人】
【識別番号】100094569
【弁理士】
【氏名又は名称】田中 伸一郎
(74)【代理人】
【識別番号】100103610
【弁理士】
【氏名又は名称】▲吉▼田 和彦
(74)【代理人】
【識別番号】100109070
【弁理士】
【氏名又は名称】須田 洋之
(74)【代理人】
【識別番号】100098475
【弁理士】
【氏名又は名称】倉澤 伊知郎
(74)【代理人】
【識別番号】100130937
【弁理士】
【氏名又は名称】山本 泰史
(74)【代理人】
【識別番号】100144451
【弁理士】
【氏名又は名称】鈴木 博子
(74)【代理人】
【識別番号】100170634
【弁理士】
【氏名又は名称】山本 航介
(72)【発明者】
【氏名】アマルロー ハーディ
(72)【発明者】
【氏名】アースキン ジェニファー アン ジョー
(72)【発明者】
【氏名】ラミレス－セラーノ ジェイミー
(72)【発明者】
【氏名】エム エー ミルゼー ソマエ
(72)【発明者】
【氏名】シェーファー ジェームズ ピー
【審査官】小川 浩史
(56)【参考文献】
【文献】米国特許第１０６０５８４０（ＵＳ，Ｂ１）
【文献】米国特許第１０８５９９８１（ＵＳ，Ｂ１）
【文献】国際公開第２０１２／１２４０３６（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１５／０１９４７１（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１３－７７２０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－３８３８２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－１２５９０７（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１３／０７２９６７（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１５－４６５３５（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許第９０１３３６１（ＵＳ，Ｂ１）
【文献】米国特許出願公開第２０１７／００４３５５０（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特表２０１８－５０３００９（ＪＰ，Ａ）
【文献】英国特許出願公告第４６９３１７（ＧＢ，Ａ）
【文献】特表２０２４－５１７０８０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０２４－５１７０８１（ＪＰ，Ａ）
【文献】PETREMAND, Y.; SCHORI, C.; STRAESSLE, R.; MILETI, G.; de ROOIJ, N.; THOMANN, P. ，“LOW TEMPERATURE INDIUM-BASED SEALING OF MICROFABRICATED ALKALI CELLS FOR CHIP SCALE ATOMIC CLOCKS”，EFTF-2010 24th European frequency and Time Forum，2010年04月13日，DOI: 10.1109/EFTF.2010.6533683
【文献】VECCHIO, Fabrizio; VENKATRAMAN, Vinu; SHEA, Herbert R.; MAEDER, Thomas; RYSER, Peter，“Dispensing and hermetic sealing Rb in a miniature reference cell for integrated atomic clocks”，Sensors and Actuators A: Physical，2011年04月12日，Vol. 172, No. 1，pp. 330-335，DOI: 10.1016/j.sna.2011.03.045
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０１Ｒ ２９／０８－２９／１０
Ｇ０１Ｒ ３３／００－３３／２６
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
蒸気セルであって、互いに結合された層のスタックによって定められた本体を備え、
前記層のスタックがキャビティのアレイを定め、前記キャビティのアレイが前記キャビティの第１のサブセット及び前記キャビティの第２のサブセットを有し、前記キャビティの第１のサブセットは前記層のスタックの中間層を通って延び、前記キャビティの第２のサブセットは前記層のスタックを完全に貫通して延び、
前記蒸気セルは、
前記キャビティの第１のサブセットの各々に配置された蒸気又は前記蒸気の発生源を備え、
前記層のスタックが、
前記本体の第１の端部にある第１の末端層であって、該第１の末端層が光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された、第１の末端層と、
前記本体の反対側の第２の端部にある第２の末端層であって、該第２の末端層が誘電体材料で形成された、第２の末端層と、
前記第１の末端層と前記第２の末端層との間に位置決めされ、誘電体材料で形成された前記中間層と、
を含む、蒸気セル。
【請求項2】
前記キャビティのアレイは、２次元格子によって定められたそれぞれの場所に存在し、前記２次元格子は第１及び第２の格子サイトを含み、
前記キャビティの第１のサブセットは、それぞれの第１の格子サイトを占め、前記キャビティの第２のサブセットは、それぞれの第２の格子サイトを占める、
請求項１に記載の蒸気セル。
【請求項3】
前記第１の格子サイトの全てが、前記第１のサブセットのそれぞれのキャビティによって占められ、前記第２の格子サイトの全てが、前記第２のサブセットのそれぞれのキャビティによって占められる、請求項２に記載の蒸気セル。
【請求項4】
前記第２の末端層は、前記第１の種類の誘電体材料で形成される、請求項１、又は請求項２から請求項３のうちの何れか１項に記載の蒸気セル。
【請求項5】
前記中間層は、前記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
前記第１の種類の誘電体材料とは異なる第２の種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
請求項１、又は請求項２から請求項３のうちの何れか１項に記載の蒸気セル。
【請求項6】
前記層のスタックは、前記第１の種類の誘電体材料と前記第２の種類の誘電体材料とが交互になるように順序付けられる、請求項５に記載の蒸気セル。
【請求項7】
前記第１のサブセットの各キャビティは、前記層のスタックによって形成された側壁によって囲まれ、前記側壁は、前記キャビティを囲む単位セル外周部の少なくとも一部を定める１又は２以上の外面を有し、前記第１のサブセットの１又は２以上のキャビティに関して、少なくとも１つの前記中間層が、前記１又は２以上のキャビティと、前記キャビティのそれぞれの単位セル外周部との間に複数の孔を含む、
請求項１、又は請求項２から請求項３のうちの何れか１項に記載の蒸気セル。
【請求項8】
前記複数の孔は、前記少なくとも１つの中間層を通って延びる、請求項７に記載の蒸気セル。
【請求項9】
前記蒸気セルは、ターゲット放射線を検出するように構成され、前記複数の孔の各々は、前記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
請求項７に記載の蒸気セル。
【請求項10】
前記第１のサブセットの各キャビティは、前記第１の末端層に隣接する第１の開口部を有し、前記第１の末端層は、
前記キャビティの第１のサブセットの前記第１の開口部を覆う内面と、
前記内面の反対にある外面と、
を含み、
前記内面及び前記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
請求項１、又は請求項２から請求項３のうちの何れか１項に記載の蒸気セル。
【請求項11】
前記第１のサブセットの各キャビティは、前記第２の末端層に隣接する第２の開口部を有し、前記第２の末端層は、
前記キャビティの第１のサブセットの前記第２の開口部を覆う内面と、
前記内面の反対にある外面と、
を含み、
前記内面及び前記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
請求項１０に記載の蒸気セル。
【請求項12】
前記層のスタックは、前記本体の外周部の第１の場所で前記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
前記本体の前記外周部の第２の場所で前記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
請求項１、又は請求項２から請求項３のうちの何れか１項に記載の蒸気セル。
【請求項13】
前記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、前記タブの第１のセットは、第２の蒸気セルと連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
前記タブの第２のセットは、第３の蒸気セルと連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
請求項１２に記載の蒸気セル。
【請求項14】
前記中間層は、前記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、前記第１のセットの各タブは、前記層の第１のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延び、
前記第２のセットの各タブは、前記層の第２のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延びる、
請求項１２に記載の蒸気セル。
【請求項15】
請求項１２に記載の前記蒸気セルに各々が対応する複数の蒸気セルであって、前記各蒸気セルの前記タブの第１及び第２のセットが、第１の蒸気セルのタブの第２のセット及び第２の異なる蒸気セルのタブの第１のセットとそれぞれ連結される、複数の蒸気セル。
【請求項16】
蒸気セルを製造する方法であって、互いに結合され且つキャビティのアレイを定める層のスタックを得るステップを含み、
前記キャビティのアレイが、前記キャビティの第１のサブセット及び前記キャビティの第２のサブセットを含み、前記キャビティの第１のサブセットは前記層のスタックの中間層を通って延び、前記キャビティの第２のサブセットは前記層のスタックを完全に貫通して延び、
前記層のスタックが、
光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、
誘電体材料で形成され、先頭の中間層から最後尾の中間層まで順番に延びる前記中間層であって、前記先頭の中間層が前記第１の末端層に結合され、前記キャビティの第１のサブセットの各々が前記最後尾の中間層の表面によって定められた開口部を含む、前記中間層と、
を含み、
前記方法が更に、
蒸気又は蒸気の発生源を前記キャビティの第１のサブセットの各々に配置するステップと、
前記層のスタックの第２の末端層を前記最後尾の中間層に結合して、前記蒸気又は蒸気の発生源を前記キャビティの第１のサブセット内に密封するステップであって、前記第２の末端層が誘電体材料で形成される、ステップと、
を含み、
前記第２のサブセットの各キャビティは、前記第２の末端層を通って延び、
前記層のスタックは、前記結合された第２の末端層を含む時に、前記蒸気セルの本体と、前記本体の第１の端部にある前記第１の末端層と、前記本体の反対側の第２の端部にある前記第２の末端層とを定める、
蒸気セルを製造する方法。
【請求項17】
前記第２の末端層を結合するステップが、前記キャビティの第１のサブセットの各開口部を前記第２の末端層で覆って前記蒸気又は蒸気の発生源を前記キャビティの第１のサブセットに封入するステップを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項18】
前記中間層は、前記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
前記第１の種類の誘電体材料とは異なる第２の種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
請求項１６又は請求項１７に記載の方法。
【請求項19】
前記層のスタックを得るステップが、前記層の第１のサブセットの層と前記層の第２のサブセットの層とを互いに交互に結合して前記中間層を形成するステップと、
前記先頭の中間層を前記第１の末端層に結合するステップと、
を含む、
請求項１８に記載の方法。
【請求項20】
前記層のスタックを得るステップが、前記第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して、前記第１の末端層、前記層の第１のサブセットのうちの１又は２以上、又はその両方を製作するステップと、
前記第２の種類の誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して、前記層の第２のサブセットのうちの１又は２以上を製作するステップと、
を含む、
請求項１８に記載の方法。
【請求項21】
前記第２の末端層が、前記第１の種類の誘電体材料で形成される、請求項１６又は請求項１７に記載の方法。
【請求項22】
前記第２の末端層を結合するステップが、第１の複数のヒドロキシル配位子を含むように前記最後尾の中間層の前記表面を変質させるステップと、
第２の複数のヒドロキシル配位子を含むように前記第２の末端層の表面を変質させるステップと、
前記変質させた表面を接触させて、前記２つの変質させた表面の接触中に前記第１の複数のヒドロキシル配位子を前記第２の複数のヒドロキシル配位子と反応させることによって形成される金属－酸素結合部によって定められた密封部を前記キャビティの第１のサブセットの各開口部の周囲に形成するステップと、
を含む、
請求項１６又は請求項１７に記載の方法。
【請求項23】
前記第２の末端層を結合するステップが、前記最後尾の中間層及び前記第２の末端層の前記表面のうちの片方又は両方を、前記層のそれぞれの表面をプラズマに暴露することによって活性化するステップを含む、
請求項２２に記載の方法。
【請求項24】
前記第１のサブセットの各キャビティは、前記層のスタックによって形成された側壁によって囲まれ、前記側壁は、前記キャビティを囲む単位セル外周部の少なくとも一部を定める１又は２以上の外面を有し、前記第１のサブセットの１又は２以上のキャビティに関して、少なくとも１つの前記中間層が、前記１又は２以上のキャビティと、前記キャビティのそれぞれの単位セル外周部との間に複数の孔を含む、
請求項１６又は請求項１７に記載の方法。
【請求項25】
前記複数の孔は、前記少なくとも１つの中間層を通って延びる、請求項２４に記載の方法。
【請求項26】
前記層のスタックを得るステップが、中間層の片側又は両側に接着層を形成して前記中間層のそれぞれの結合面を定めるステップを含む、
請求項１６又は請求項１７に記載の方法。
【請求項27】
前記層のスタックは、前記層のスタックの外周部の第１の場所で前記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
前記層のスタックの前記外周部の第２の場所で前記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
請求項１６又は請求項１７に記載の方法。
【請求項28】
前記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、前記タブの第１のセットは、第２の蒸気セルと連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
前記タブの第２のセットは、第３の蒸気セルと連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
請求項２７に記載の方法。
【請求項29】
前記中間層は、前記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、前記第１のセットの各タブは、前記層の第１のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延び、
前記第２のセットの各タブは、前記層の第２のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延びる、
請求項２７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
（関連出願に対する相互参照）
「Ｉｎｔｅｒｌｏｃｋａｂｌｅ Ｖａｐｏｒ Ｃｅｌｌｓ（連結可能蒸気セル）」という名称で、２０２１年９月２１日に出願された米国出願第１７／４８０，４４８号及び２０２１年４月１３日に出願された米国仮出願第６３／１７４，２８９号に対する優先権を主張する。この優先権出願の開示の内容は、引用により全体が本明細書に組み込まれる。
「Ｉｎｔｅｒｌｏｃｋａｂｌｅ Ｖａｐｏｒ Ｃｅｌｌｓ（連結可能蒸気セル）」という名称で、２０２１年９月２１日に出願された米国出願第１７／４８０，４４８号及び２０２１年４月１３日に出願された米国仮出願第６３／１７４，２８９号に対する優先権を主張する。この優先権出願の開示の内容は、引用により全体が本明細書に組み込まれる。
【0002】
（技術分野）
以下の記載は、幾つかの構成においてキャビティのアレイを有することができる、蒸気セルに関する。
以下の記載は、幾つかの構成においてキャビティのアレイを有することができる、蒸気セルに関する。
【背景技術】
【0003】
蒸気セルは、蒸気又はガスを閉鎖ボリュームの中に密封することによって製造される。この蒸気又はガスは、外部発生源により発生された電磁放射線と相互作用する媒体として用いることができる。蒸気セルの中を通してレーザーを導くことができ、レーザーに対する応答を用いて、電磁放射線の特性を決定し、電磁放射線のセンサとしての働きをすることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】米国出願第１７／４８０，４４８号公報
【文献】米国仮出願第６３／１７４，２８９号公報
【文献】米国特許第１０，５０９，０６５号公報
【文献】米国特許第１０，８５９，９８１号公報
【図面の簡単な説明】
【0005】
【図1A】例示的な蒸気セル１００の概略斜視図である。
【図4A】複数の孔が各中間層内に存在する蒸気セルの例示的な構成の電磁シミュレーションを示すグラフである。
【図5】穿孔壁を有する蒸気セルの様々な例示的な構成の内側の電場分布の電磁シミュレーションを示すグラフである。
【図6A】中にキャビティのアレイを有する例示的な蒸気セルの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0006】
一般的な態様において、蒸気セルは、複数の層の積層スタック又は結合スタックなど、互いに結合された層のスタックによって定められた本体を含むことができる。この構成は、蒸気セルを大量に厳しい公差で製造することを可能にすることができる。この構成は、アレイを構築するために３次元で構造化すること及び蒸気セルの複数の例証をタイル配列することを可能にすることもできる。動作中には、蒸気セルは、その内部の中心にかなり均一なＲＦ電場を有し、これによって測定をかなり高精度で正確にすることができる。幾つかの例では、蒸気セルの相互作用領域内の平均ＲＦ電場振幅を、所期の相互作用領域にわたって１％よりも小さいばらつきしか伴わずに入射ＲＦ振幅の１％の範囲内とすることができる。衝突広がりが低減又は最小限に抑えられるように、蒸気セル内の背景ガスを、蒸気圧（例えばアルカリ蒸気圧）よりも低いものとすることもできる。幾つかの事例では、蒸気セルは、その幾何学的断面積よりも小さく、幾つかの構成では大幅に小さいレーダー散乱断面積を有する。４０ＧＨｚを超える周波数に合わせてスケール調整することができるセル幾何学構成を用いることで透明度基準を満たすことができる。通過時間広がりを低減させる又は最小限に抑えるために、周波数を算入して蒸気セル相互作用領域をスケール調整することもできる。幾つかの場合には、蒸気セルは、逆伝播、共伝播、又はこれら両方の光伝播幾何学構成で機能するように結合及び構成されたファイバとすることができる。幾つかの構成では、蒸気セルの複数の例証を、機械的接合部によって互いに連結することができる。しかしながら、非連結構成が可能である。
【0007】
図１Ａ～図６Ｂは、蒸気セルに関する例示的な構成の概略図を、幾つかの可能なタイル配列のパターン又は組立体の例示的な配列と併せて提示している。図１Ａ～図６Ｂに示される例示的な蒸気セルは、ガラス及び高抵抗（浮遊）シリコンから構成されたもの等の層の積層体を含む。これらの概略図は、誘電体材料の交互層（例えばシリコンとガラスの交互層）を例示しているが、誘電体材料の他の配列が可能である。積層構成は、個々の層を大きい高品質のウェハ又は基板から２次元で切り出すことができるので、蒸気セルを３次元で構造化すること及び製造要件を容易にすることを可能にする。幾つかの変形形態では、積層構成を形成するために、これらの層は、互いに陽極結合される。最上部及び最下部の窓（又は末端層）は、例えばホウケイ酸塩ガラス又はアルミノケイ酸塩ガラス等の光学的に透明な誘電体材料から作製することができる。各ユニットは、ファイバ結合することができ、窓は、光学ミラーと、これらの上に配置されたフィルタとを有することができる。蒸気セル構成は柔軟性を有し、３次元構造化及び効率的な製造を可能にする。幾つかの変形形態では、蒸気セルは、複数の蒸気セルを互いにタイル配列するために用いることができる機械的接合部（例えば連結タブ）を有する。
【0008】
ここで図１Ａを参照すると、例示的な蒸気セル１００の概略図が提示されている。図１Ｂは、図１Ａに記載の例示的な蒸気セル１００の概略図を示す。例示的な蒸気セル１００は、互いに結合された層のスタック１０４（例えば層のスタック１０４によって定められた積層体）によって定められた本体１０２を含む。層のスタック１０４は、本体１０２の外形（例えば、直方体外形、球体外形、長方形外形、楕円体外形等）を定める１又は２以上の外面を含むことができる。例えば、スタック１０４の各層は、層の当該場所に外形の断面（例えば、正方形断面、円形断面、長方形断面等）を定める外周面を含むことができる。断面は、層のスタックに沿って一定のままである、層のスタック１０４に沿って変化する、又はこれらの幾つかの組み合わせとすることができる。断面を変化させるために、少なくとも２つの隣接する層が、形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの外周面を有することができる。図１Ａ及び図１Ｂは、層のスタックに沿って一定の断面を有する外側直方体形状を有する例示的な蒸気セル１００を描いている。しかしながら、他の形状が可能である（例えば図１Ｃ及び図１Ｅを参照されたい）。
【0009】
多くの実施構成において、層のスタック１０４は、例示的な蒸気セル１００によって測定されるターゲット電磁放射線に対して透明な誘電体材料で形成される。誘電体材料は、ターゲット電磁放射線が本体１０２を通り抜ける時に層のスタック１０４がターゲット電磁放射線のうちの１％を超えない程度を吸収可能にすることができる。誘電体材料はまた、例えばρ＞１０8Ω・ｃｍという高い抵抗率を有する絶縁材料とすることができ、単結晶誘電体材料、多結晶誘電体材料、又は非晶質誘電体材料に相当することができる。
【0010】
幾つかの実施構成では、「透明な」誘電体材料は、本体１０２によるターゲット電磁放射線の吸収及び散乱を最小限に抑えるものである。これらの実施構成では、層のスタック１０４は、ターゲット電磁放射線を本体１０２の後部又は内部に大幅な歪みを伴うことなく伝送することができる。幾つかの変形形態では、層のスタック１０４は、その幾何学的断面積よりも小さいレーダー散乱断面積を有する。層のスタック１０４はまた、ターゲット電磁放射線に関して１％よりも低い吸収率を有することができる。例えば、層のスタック１０４は、全体的又は部分的に浮遊型シリコンで形成することができる。浮遊型シリコンの損失ターゲットは、最大で４００ＧＨｚの周波数に関して１０-3よりも低くすることができる。アンテナ試験等のある特定の用途では、試験環境における反射を最小限に抑え、１つよりも多くの空間平面又は空間表面にわたるパワーの測定を正確にするために高い透明度が必要とされる。幾つかの場合には、層のスタック１０４を形成する誘電体材料は、例示的な蒸気セル１００の内側のターゲット電磁場を蒸気セル１００上への入射時のターゲット電磁場の１％の範囲内にすることを可能にする。
【0011】
例えば、スタック１０４の１又は２以上の層は、単結晶シリコン等のシリコンで形成することができる。別の例では、スタック１０４の１又は２以上の層は、ガラス質シリカ、ホウケイ酸塩ガラス、又はアルミノケイ酸塩ガラス等のシリコン酸化物（ＳｉＯ2、ＳｉＯx等）を含む非晶質材料で形成することができる。更に別の例では、スタック１０４の１又は２以上の層は、酸化マグネシウム（例えばＭｇＯ）、酸化アルミニウム（例えばＡｌ2Ｏ3）、二酸化シリコン（例えばＳｉＯ2）、二酸化チタン（例えばＴｉＯ2）、二酸化ジルコニウム（例えばＺｒＯ2）、酸化イットリウム（例えばＹ2Ｏ3）、酸化ランタン（例えばＬａ2Ｏ3）、及び同様のもの等の酸化物材料で形成することができる。酸化物材料は、不定比のもの（例えばＳｉＯx）とすることができ、更に１又は２以上の二元酸化物（例えば、Ｙ：ＺｒＯ2、ＬａＡｌＯ3、ＢａＬａ2Ｔｉ4Ｏ12等）の組み合わせとすることもできる。酸化物材料は、単結晶材料、多結晶材料、又は非晶質材料とすることもできる。更に別の例では、スタック１０４の１又は２以上の層は、シリコン（Ｓｉ）、ダイヤモンド（Ｃ）、窒化ガリウム（ＧａＮ）、フッ化カルシウム（ＣａＦ）、及び同様のもの等の非酸化物材料で形成することができる。他の誘電体材料が可能である。
【0012】
層のスタック１０４は、本体１０２の第１の端部１０８に配置された第１の末端層１０６を含む。第１の末端層１０６は、光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成される。第１の種類の誘電体材料は、赤外波長（例えば７００～１０００ｎｍ）の電磁放射線、可視波長（例えば４００～７０００ｎｍ）の電磁放射線、紫外波長（例えば１０～４００ｎｍ）の電磁放射線、又はこれらの何れかの組み合わせに対して光学的に透明にすることができる。層のスタック１０４は、本体１０２の反対側の第２の端部１１２に配置された第２の末端層１１０を更に含む。第２の末端層１１０は、例えば層のスタック１０４に関して上記で説明した誘電体材料で形成される。誘電体材料は、第１の末端層１０６を形成する第１の種類の誘電体材料とは異なるものとすることができる。しかしながら、幾つかの変形形態では、第２の末端層１１０は、第１の種類の誘電体材料で形成される。
【0013】
幾つかの変形形態では、第１の種類の誘電体材料は、石英、ガラス質シリカ、又はホウケイ酸塩ガラスの中に見られるもの等のシリコン酸化物（例えば、ＳｉＯ2、ＳｉＯx等）を含む。幾つかの変形形態では、第１の種類の誘電体材料は、サファイア又はアルミノケイ酸塩ガラスの中に見られるもの等のアルミニウム酸化物（例えば、Ａｌ2Ｏ3、ＡｌxＯy等）を含む。幾つかの変形形態では、第１の種類の誘電体材料は、酸化マグネシウム（例えばＭｇＯ）、酸化アルミニウム（例えばＡｌ2Ｏ3）、二酸化シリコン（例えばＳｉＯ2）、二酸化チタン（例えばＴｉＯ2）、二酸化ジルコニウム（例えばＺｒＯ2）、酸化イットリウム（例えばＹ2Ｏ3）、酸化ランタン（例えばＬａ2Ｏ3）、及び同様のもの等の酸化物材料である。酸化物材料は、不定比のもの（例えばＳｉＯx）とすることができ、更に１又は２以上の二元酸化物（例えば、Ｙ：ＺｒＯ2、ＬａＡｌＯ3、ＢａＬａ2Ｔｉ4Ｏ12等）の組み合わせとすることもできる。酸化物材料は、単結晶酸化物材料、多結晶酸化物材料、又は非晶質酸化物材料とすることもできる。他の変化語形では、第１の種類の誘電体材料は、ダイヤモンド（Ｃ）、フッ化カルシウム（ＣａＦ）、及び同様のもの等の非酸化物材料である。他の誘電体材料が可能である。
【0014】
層のスタック１０４は、第１の末端層１０６と第２の末端層１１０との間に中間層１１４を更に含む。中間層１１４は、例えば層のスタック１０４に関して上記で説明したもの等の誘電体材料で形成することができる。中間層１１４は、第１の末端層１０６と第２の末端層１１０との間で本体１０２を通って延びる内部キャビティ１１６を定める。内部キャビティ１１６は、層のスタック１０４に対して垂直な軸に沿って延びることができるが、他の向き（例えば傾いた軸）が可能である。更に、図１Ａ及び図１Ｂは、内部キャビティ１１６は、円柱形状を有するものとして描いているが、他の形状（例えば、長方形、六角形、楕円体、球体等）が可能である。例えば、図１Ｃは、例示的な蒸気セル１００であるが、球体形状を有し、更に球体形状の内部キャビティ１１６を有する例示的な蒸気セル１００の概略斜視図を提示している。図１Ｄは、図１Ｃに記載の例示的な蒸気セル１００の半部分の概略斜視図を提示している。
【0015】
幾つかの実施構成では、各中間層１１４は、その中を貫く内部キャビティ１１６の一部分を定める貫通孔を含む。これらの実施構成では、貫通孔は、中間層１１４がスタックされた時に内部キャビティ１１６に対するターゲット３次元ボリューム（例えば、球体、錐台、傾斜平行六面体等）を定めるように選択的に構成することができる。貫通孔は、形状と、サイズと、場所との何れかの組み合わせで構成することができる。他の特性が可能である。幾つかの変形形態では、各貫通孔は、形状及びサイズが等しい。これらの変形形態では、内部キャビティ１１６は、複数の中間層１１４を通して一定の断面を有することができる。図１Ａ及び図１Ｂは、貫通孔が円形であり、共通のサイズを共有し、層のスタック１０４に対して垂直な方向に整列された例を示している。従って、貫通孔は、内部キャビティ１１６に関して円筒形のボリュームを定める。幾つかの変形形態では、少なくとも２つの隣接する中間層１１４が、形状及びサイズのうちの片方又は両方に関して互いに異なるそれぞれの貫通孔を有する。これらの変形形態では、内部キャビティ１１６は、複数の中間層１１４を通して少なくとも部分的に変化する断面を有することができる。図１Ｃ及び図１Ｄは、貫通孔が円形であるがサイズが異なる変形形態を示している。貫通孔は、層のスタック１０４に対して垂直な方向に整列されて内部キャビティ１１６に対して球体のボリュームを定めている。
【0016】
中間層１１４の他の特徴を用いてターゲット３次元ボリュームを定めることができる。例えば、２又は３以上の中間層１１４（例えば隣接する中間層）が異なる厚みを有する。別の例として、中間層の貫通孔は、内周面を含む中間層の内周が定義することができる。内周面は、ターゲット３次元ボリュームを定めるのを助けるために、角度付け、面取り、又は丸みを付けることができる。
【0017】
ターゲット３次元ボリュームは、電磁放射線が例示的な蒸気セル１００上に入射する時に内部キャビティ１１６内で形成される電磁放射線のプロファイルを成形するように選択することができる。例えば、ターゲット３次元ボリュームは、入射電磁放射線を内部キャビティ１１６の中心に集中させるように選択することができる。かかる成形は、入射電磁放射線の振幅（例えば電場又は磁場の振幅）を内部キャビティ１１６内で増大させて例示的な蒸気セル１００を入射電磁放射線に対してより高感度にすることができる。ターゲット３次元ボリュームは、内部キャビティ１１６の中の所望の領域等にわたって入射電磁放射線のプロファイルをより均一にするように選択することもできる。均一性を増すことによって、入射電磁放射線と相互作用する蒸気の量を増加させ、これによって内部キャビティ１１６の中の感知領域を拡大することができる。更に、ターゲット３次元ボリュームは、内部キャビティ１１６を囲む壁の厚みを低減させ、これによって例示的な蒸気セル１００の本体１０２が入射電磁放射線に対してより透明になることを可能にするように選択することができる。他の利点が可能である。
【0018】
ターゲット３次元ボリュームは、本体１０２の外形と併せて選択することもできる。ある特定のボリュームと外形との組み合わせは、ターゲット用途に対する例示的な蒸気セル１００の性能を改善することができる。例えば、内部キャビティ１１６は、球体ボリュームを有することができ、本体１０２は、球体外形（例えば図１Ｃ～図１Ｄに示されるような）を有することができる。この組み合わせは、例示的な蒸気セル１００の内外の電磁場プロファイルのより容易なモデル化を可能にすることができる。かかるモデル化のしやすさを用いて計測又はその他の用途における例示的な蒸気セル１００の性能を改善することができる。
【0019】
ヘリウム透過を軽減又は防止するもの等の幾つかの実施構成では、層のスタック１０４は、アルミノケイ酸塩ガラス又はホウケイ酸塩ガラス（例えばＰｙｒｅｘ（登録商標））で形成された層を含む。層のスタック１０４は、低いヘリウム透過を示す材料でコーティングすることができる。レーザーの準備及び信号に対して用いられる光学信号に対する高反射器及びフィルタとしての役割を果たすように、様々な光学コーティング（例えばブラッグミラー）を第１及び第２の末端層１０６、１１０上に堆積させることができる。偏光を偏光維持ファイバと併せて制御するために波長板を用いることができる。例えば、例示的な蒸気セル１００は、その末端層（例えば第１の末端層１０６又は第２の末端層１１０）上に中心が定められたＧＲＩＮ（勾配屈折率）レンズを用いて光学的に結合されたファイバとすることができる。
【0020】
例示的な蒸気セル１００は、中間層１１４によって定められた内部キャビティ１１６内に配置された蒸気（図示していない）を更に含む。蒸気は、アルカリ金属原子のガス、貴ガス、二原子ハロゲン分子のガス、有機分子のガス、又はこれらの何れかの組み合わせ等の成分を含むことができる。例えば、蒸気は、アルカリ金属原子（例えば、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ等）のガス、貴ガス（例えば、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ等）、又はこれら両方を含むことができる。別の例では、蒸気は、二原子ハロゲン分子（例えば、Ｆ2、Ｃｌ2、Ｂｒ2等）のガス、貴ガス、又はこれら両方を含むことができる。更に別の例では、蒸気は、有機分子（例えばアセチレン）のガス、貴ガス、又はこれら両方を含むことができる。蒸気に対して他の成分を含む他の組み合わせが可能である。
【0021】
追加的又は代替的に、例示的な蒸気セル１００は、中間層１１４によって定められた内部キャビティ１１６内に配置された蒸気発生源を含むことができる。蒸気発生源は、熱、照射、及び同様のもの等のエネルギー刺激に応じて蒸気を発生させることができる。例えば、蒸気は、アルカリ金属原子のガスに対応するものとすることができ、蒸気発生源は、内部キャビティ１１６の中に配置される時に固体又は液体であるように十分に冷却されたアルカリ金属塊に対応するものとすることができる。幾つかの変形形態では、蒸気発生源は、内部キャビティ１１６内に存在し、加熱された時にアルカリ金属原子のガスを発生させるように構成された液体又は固体のアルカリ金属原子発生源を含む。幾つかの変形形態では、蒸気発生源は、部分的にゲッターとして機能することができる。
【0022】
幾つかの実施構成では、中間層１１４の全てが、同じ種類の誘電体材料（例えば上記で解説した第１の種類の誘電体材料）で形成される。幾つかの実施構成では、蒸気セルは、複数の異なる種類の中間層１１４（例えば、様々な材料、様々な厚み、様々な構造的特徴等の層）を含むことができる。幾つかの場合には、中間層１１４は、その配列を定める１又は２以上の層サブセットを含むことができる。これらの場合には、各サブセット内の層は、共通の特性を共有することができる。例えば、中間層１１４は、図１Ａ及び図１Ｂに示されるもの等の層の第１のサブセット１１４ａと層の第２のサブセット１１４ｂとを含むことができる。層の第１のサブセット１１４ａは、第１の種類の誘電体材料（例えばシリコン酸化物を含むもの）で形成することができ、層の第２のサブセット１１４ｂは、第２の異なる種類の誘電体材料（例えばシリコン）で形成することができる。別の例では、中間層１１４は、層の第２のサブセットと異なる厚みを有する層の第１のサブセットを含むことができる。層サブセットに関して共有される他の共通の特性（例えば、貫通孔形状、貫通孔サイズ、追加のキャビティの存在、機械的接合部用のタブ等）が可能である。
【0023】
図１Ａ及び図１Ｂに示されるもの等の幾つかの実施構成では、第２の末端層１１０は、第１の種類の誘電体材料で形成され、層１０４は、スタック内で第１の種類の誘電体材料と第２の種類の誘電体材料との間で交互するように順序付けられる。例えば、第１及び第２の末端層１０６、１１０は、第１の種類の誘電体材料で形成することができ、第１及び層の第２のサブセット１１４ａ、１１４ｂは、中間層１１４の中で順番に交互することができる。この構成では、層の第１のサブセット１１４ａは、第１の種類の誘電体材料で形成することができ、層の第２のサブセット１１４ｂは、第２の種類の誘電体材料で形成することができる。更に、層の第１のサブセット１１４ａは、外側中間層（例えば順番の最初及び最後の中間層）を含むことができる。かかる交互構成は、層のスタック１０４の相互結合をより容易にすることを可能にすることができる。交互構成は、本体１０２の有効誘電定数を低減させることもできる。他の利点が可能である。
【0024】
幾つかの実施構成では、層のスタック１０４は、本体１０２の１又は２以上の外側部１２０から外向きに延びるタブのセット１１８を含む。各タブセット１１８は、例示的な蒸気セル１００が別の蒸気セルと結合する（例えば連結する）ことを可能にする機械的接合部を定めることができる。幾つかの変形形態では、タブセット１１８は、層の一体部分である１又は２以上のタブを含む。例えば、中間層１１４は、外周面の中に配置された内周面を有することができる。内周面は、中間層１１４の貫通孔を定めることができ、外周面は、中間層１１４の外側部から外向きに延びるタブを定めることができる。別の例では、第１の末端層１０６は、その外側部から外向きに延びるタブを定める外周面を有することができる。
【0025】
幾つかの実施構成では、例示的な蒸気セル１００には、機械的接合部が無い（例えばタブが無い）。図１Ｅは、図１Ａに記載のものであるが、八角形形状を有し、機械的接合部が無い例示的な蒸気セル１００の概略図を提示している。同様に、図１Ｆは、図１Ａに記載のものであるが、正方形形状を有し、機械的接合部が無い例示的な蒸気セル１００の概略図を提示している。図１Ｅ及び図１Ｆに記載の例示的な蒸気セル１００は、内部キャビティ１１６と本体１０２の外面との間に複数の孔１２８を含む。複数の孔１２８は、ターゲット放射線を検出する（又はかかる検出を改善する）ように例示的な蒸気セル１００を構成するように形状、サイズ、及び個数を選択することができる。複数の孔１２８は、例示的な蒸気セル１００のレーダー断面積を低減させることもできる。複数の孔１２８の特徴については、図４Ａ～図５に関連して更に詳しく説明する。
【0026】
図１Ａ及び図１Ｂは、層のスタック１０４を本体１０２の各外側部１２０から外向きに延びるタブセット１１８を有するものとして例示している。更に、タブセット１１８は、各外側部１２０上で中心に位置決めされた単一の列を定めるものとして例示している。しかしながら、他の構成が可能である。例えば、層のスタック１０４は、本体１０２の単一の外側部１２０のみから外向きに延びるタブセット１１８を含むことができると考えられる。別の例として、層のスタック１０４は、単一の外側部１２０から外向きに延びる単一のタブによって定められたタブセット１１８を有することができると考えられる。単一のタブは、単一の外側部１２０上で非中心に位置決めすることができると考えられる。更に別の例では、層のスタック１０４は、外側部１２０上で第１の寸法に沿って互いに整列されたタブセット１１８を含むことができると考えられる。第１の寸法に沿う隣接タブ対は、間隙によって分離することができる。幾つかの場合には、間隙は、単一の中間層１１４の厚みに対応するものとすることができる（例えば、タブ１１８は、１つ置きの中間層１１４から外向きに延びる）。しかしながら、間隙は、他の厚み（例えば２つの中間層１１４）に対応するものとすることができる。更に、間隙は、各隣接タブ対に関して同じである必要はない。
【0027】
中間層１１４が層の第１のサブセット１１４ａと層の第２のサブセット１１４ｂとを含む実施構成では、層のスタック１０４は、タブの第１のセット１１８ａとタブの第２のセット１１８ｂとを含むことができる。タブの第１のセット１１８ａは、本体１０２の第１の外側部１２０ａ上の層の第１のサブセット１１４ａから外向きに延びる。タブの第２のセット１１８ｂは、本体１０２の第２の外側部１２０ｂ上の層の第２のサブセット１１４ｂから外向きに延びる。幾つかの実施構成では、タブの第１のセット１１８ａは、本体１０２の第１の外側部１２０ａの中心から延び、タブの第２のセット１１８ｂは、本体１０２の第２の外側部１２０ｂの中心から延びる。この場合、各サブセット１１８ａ、１１８ｂの中にあるタブは、そのそれぞれの外側部上で第１の寸法（例えば第１の末端層１０６から第２の末端層１１０までの）に沿って互いに整列され、各々が、それぞれの外側部上で第１の寸法に対して垂直な第２の寸法に沿う中心に置かれる。幾つかの実施構成では、第１のセット１１８ａ内の各タブは、層の第１のサブセット１１４ａ内のそれぞれの層の一体部分であり、第２のセット１１８ｂ内の各タブは、層の第２のサブセット１１４ｂ内のそれぞれの層の一体部分である。
【0028】
図１Ａ及び図１Ｂに示されるもの等の幾つかの実施構成では、本体１０２は、その正方形断面を定める４つの外側部１２０を有する。これら４つの外側部１２０は、第１及び第２の外側部１２０ａ、１２０ｂを含む。第１の外側部１２０ａと第２の外側部１２０ｂとは、互いに隣接するか、又は代替的に互いに対向することができる。幾つかの変形形態では、４つの外側部１２０は、第３及び第４の外側部１２０ｃ、１２０ｄを含む。これらの変形形態では、層のスタック１０４は、本体１０２の第３の外側部１２０ｃ上で層の第１のサブセット１１４ａから外向きに延びるタブの第３のセット１１８ｃを含む。本体１０２は、その第４の外側部１２０ｄ上で層の第２のサブセット１１４ｂから外向きに延びるタブの第４のセット１１８ｄを更に含む。タブの第１、第２、第３、及び第４のセット１１８ａ、１１８ｂ、１１８ｃ、１１８ｄは、第１、第２、第３、及び第４の外側部１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃ、１２０ｄのそれぞれの中心と整列させることができる。
【0029】
例示的な蒸気セル１００の動作中には、１又は２以上の光学信号（例えばレーザー光）が、内部キャビティ１１６内の蒸気と相互作用することができる。例えば、光学信号は、第１の末端層１０６を通って内部キャビティ１１６に入り、続いて第２の末端層１１０を通って内部キャビティ１１６から出ることができる。別の例では、光学信号は、第１の末端層１０６を通って内部キャビティ１１６に入り、第２の末端層１１０の内面から反射し、続いて第２の末端層１１０を通って内部キャビティ１１６から出ることができる。２又は３以上の光学信号が用いられる場合には、共伝播又は逆伝播の動作モードを確立することができる。共伝播モードでは、各光学信号は、内部キャビティ１１６を同じ方向に沿って通過する。逆伝播モードでは、各光学信号は、内部キャビティ１１６を反対方向に沿って通過する。蒸気セルに関する伝播モードの例が、「Ｉｍａｇｉｎｇ ｏｆ Ｅｌｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ Ｆｉｅｌｄｓ（電磁場の撮像）」という名称の米国特許第１０，５０９，０６５号に説明されている。
【0030】
内部キャビティ１１６を通って伝播する光学信号を補助するために、第１及び第２の末端層１０６、１１０は、１又は２以上の光学コーティングを含むことができる。かかる光学コーティングの例は、反射コーティング、反射防止コーティング、フィルタコーティング、偏光コーティング、及び同様のものを含む。幾つかの実施構成では、第１の末端層１０６は、これに隣接する内部キャビティ１１６の第１の開口部１２２を覆う内面を含む。更に第１の末端層１０６は、内面の反対に外面を含む。これらの実施構成では、内面及び外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有することができる。内面及び外面の各々に対して複数の光学コーティングの組み合わせが可能である。幾つかの実施構成では、第２の末端層１１０は、これに隣接する内部キャビティ１１６の第２の開口部１２４を覆う内面を含む。更に第２の末端層１１０は、内面の反対に外面を含む。これらの実施構成では、内面及び外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する。内面及び外面の各々に対して複数の光学コーティングの組み合わせが可能である。
【0031】
層のスタック１０４は、スタックの隣接層間に接合部１２６を含むことができる。幾つかの実施構成では、スタック１０４内の隣接層の少なくとも１つのペアの間の接合部１２６は、当該ペアの間の直接結合を含む。幾つかの実施構成では、層のスタック１０４内の少なくとも１つのペアの隣接層間の接合部１２６は、接着層を含む。接着層は、隣接層同士を互いに結合するのを補助することができる。幾つかの変形形態では、接着層はシリコン酸化物を含む。例えば、層のスタック１０４は、シリコンで形成された層とホウケイ酸塩ガラスで形成された層との間で交互することができる。製造中に層のスタック１０４の層同士の互いへの結合を容易にするために、シリコン酸化物（例えば、ＳｉＯ2、ＳｉＯx等）の接着層は、１又は２以上の接合部１２６に存在させることができる。接着層は、陽極結合プロセス又は接触結合プロセス等によってホウケイ酸塩ガラス層とシロキサン結合部を形成することができる結合面を定めるために各シリコン層の片方又は両方の側に形成することができる。
【0032】
層のスタック１０４は、例えば、陽極結合プロセス、接触結合プロセス、ガラスフリット結合プロセス、又は何れか他の種類の結合プロセスを用いて互いに結合することができる。結合プロセスの組み合わせも可能である。幾つかの変形形態では、接触結合プロセスは、層同士を結合する上で用いられる最終結合プロセスである。例えば、第１の末端層１０６と中間層１１４とを陽極結合プロセスを用いて互いに結合することができる。続いて接触結合プロセスを用いて第２の末端層１１０を中間層１１４に結合し、これによって蒸気又は蒸気の発生源を内部キャビティ１１６内に気密に密封することができる。接触結合プロセスの一部として、内部キャビティ１１６が蒸気で充填された後又は蒸気発生源を収容した後にキャビティ１１６の開口部を覆うように第２の末端層１１０を位置決めすることができる。多くの事例において、内部キャビティ１１６は、蒸気又は蒸気の発生源を受け入れる前に排気される。
【0033】
接触結合プロセスは、第１の層（例えば最後尾の中間層）の第１の結合面と第２の層（例えば第２の末端層１１０）の第２の結合面とを化学的に変質させるプロセスを含むことができる。変質の前に、第１及び第２の結合面のうちの片方又は両方が、閾値表面粗度を超えない表面粗度Ｒaを有することができる。例えば、閾値表面粗度は１ｎｍとすることができる。幾つかの事例では、第１及び第２の結合面は平面表面である。接触結合プロセスは、第１及び第２の結合面は、それぞれが第１の複数のヒドロキシル配位子と第２の複数のヒドロキシル配位子とを含むように変質させるステップを含む。続いて、変質した表面同士が互いに接触され、第１の層と第２の層との間に結合（例えば密封部）を発生させる金属－酸素結合部（例えばシロキサン結合部）を形成する。金属－酸素結合部は、接触中に第１の複数のヒドロキシル配位子が第２の複数のヒドロキシル配位子と反応した時に形成することができる。
【0034】
幾つかの実施構成では、第１及び第２の結合面を変質させるステップは、第１及び第２の結合面のうちの片方又は両方は、そのそれぞれの表面をプラズマに暴露することによって活性化するステップを含む。かかる暴露は、第１及び第２の結合面の表面エネルギーを高め、後続の接触結合に向けて第１及び第２の表面を化学的に前処理することができる。活性化の後に、第１及び第２の結合面のうちの片方又は両方を水（例えば脱イオン水）中又は塩基性水溶液中で洗浄することによって更なる化学的前処理を行うことができる。水又は塩基性水溶液との接触は、第１及び第２の結合面上にある金属原子にヒドロキシル配位子を配位させることができる。
【0035】
幾つかの実施構成では、接触結合は、層のスタック１０４内で隣接する層間の金属－酸素結合を用いて形成することができる。例えば、中間層１１４は、先頭の中間層から最後尾の中間層まで順番に延びることができる。先頭の中間層は、第１の末端層１０６に結合することができ、第２の末端層１１０は、最後尾の中間層に隣接するように位置決めすることができる。幾つかの変形形態では、接触結合は、第２の末端層１１０と最後尾の中間層との間でシロキサン結合（すなわちＳｉ－Ｏ－Ｓｉ）を用いて形成することができる。接触結合形成プロセスの反応は、式（１）によって表すことができる。
この反応は、例えば、第２の末端層１１０がシリコン酸化物で形成され、最後尾の中間層がシリコンで形成される場合に可能にすることができる。しかしながら、他のシリコン含有材料が可能である。この反応は可逆であり、従って幾つかの事例では、この反応から発生した水分子を除去するのが望ましい。さもなければ、新しく形成されたシロキサン結合部が、加水分解されてシラノール結合部（すなわちＳｉ－ＯＨ）に戻るリスクに曝される。
【0036】
接触結合によって発生した水分子は、生成物が室温で固体である反応によって除去することができる。幾つかの実施構成では、水分子は、例示的な蒸気セル１００内の蒸気と反応される。例えば、蒸気は、セシウム原子のガスとすることができ、水分子は、このガスの一部分と反応させてＣｓ2Ｏ（Ｔmelt≒３４０℃）、ＣｓＯＨ（Ｔmelt≒２７２℃）、又はＣｓＨ（Ｔmelt≒１７０℃）等の固体を形成することができる。幾つかの実施構成では、水分子は、内部キャビティ１１６内に存在する（例えば、コーティング、点在する塊等として）乾燥剤材料と反応される。乾燥剤材料は、蒸気セル内の蒸気に対して不活性のものとすることができる。例えば、蒸気は、二原子ハロゲン分子のガス（例えば塩素ガス）とすることができ、水分子を無水塩化物塩（例えばＬａＣｌ3）と反応させて水和塩又はオキシ水酸化化合物（例えば、ＬａＣｌ3・xＨ2Ｏ、ＬａＯＣｌ等）を形成することができる。
【0037】
上記の形成反応は、シリコンを関与する金属原子とする状況で提示したが、他の金属原子が可能である。例えば、第１の層がアルミニウム酸化物（例えば単結晶サファイア）で形成され、第２の隣接層もアルミニウム酸化物（例えばＡｌ2Ｏ3多結晶セラミック）で形成される場合には、接触結合部形成プロセスは、金属原子としてアルミニウムを利用してオキソ－アルミニウム結合部（例えばＡｌ－Ｏ－Ａｌ）を形成することができる。金属混合物も可能である。例えば、第１の層がジルコニウム酸化物で形成され、第２の隣接層がマグネシウム酸化物で形成される場合には、接触結合プロセスは、ジルコニウム及びマグネシウムを金属原子として利用してジルコニウム－オキソ－マグネシウム結合部を形成することができる。
【0038】
一般的に、第１の金属Ｍ1を含む第１の層と、第２の金属Ｍ2を含む第２の隣接層とでは、接触結合部形成プロセスの反応は、式（２）によって表すことができる。
この場合、ヒドロキシル配位子（すなわちＯＨ）が金属Ｍ1及びＭ2の各々に配位され、金属－酸素結合部（すなわちＭ1－Ｏ－Ｍ2）の形成中にオキソ配位子（Ｏ）の中に凝縮する。この凝縮プロセスの副生成物として水分子が遊離する。この反応は、金属原子毎に１つのヒドロキシル配位子を示唆しているが、他の個数のヒドロキシル配位子を金属原子Ｍ1及びＭ2の各々に配位させることができる。
【0039】
多くの変形形態において、ヒドロキシル配位子の凝縮は、室温で第１及び第２の隣接層（又はその合わせ面）同士の接触時に発生する。しかしながら、幾つかの変形形態では、接触結合部の形成を開始及び／又は完了するために熱を印加することができる。熱は、接触結合を強化することもできる。例えば、第１及び第２の隣接層のうちの片方又は両方に熱を印加してこれらの層のそれぞれの温度を処理温度まで上昇させることができる。処理温度は、接触結合部の形成を促進することができる。幾つかの変形形態では、処理温度は、２５０℃を超えない。幾つかの変形形態では、処理温度は、１２０℃を超えない。幾つかの変形形態では、処理温度は、７５℃を超えない。接触結合プロセスは、「Ｖａｐｏｒ Ｃｅｌｌｓ Ｈａｖｉｎｇ Ｏｎｅ ｏｒ Ｍｏｒｅ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｗｉｎｄｏｗｓ Ｂｏｎｄｅｄ ｔｏ ａ Ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｂｏｄｙ（誘電体に結合された１又は２以上の光学窓を有する蒸気セル）」という名称の米国特許第１０，８５９，９８１号により詳しく説明されている。
【0040】
幾つかの実施構成では、接触結合プロセスは、例えば、内部キャビティ１１６内の蒸気の純度に左右される用途において陽極結合プロセスに優るある特定の利点をもたらすことができる。陽極結合部を形成するプロセスは、幾つかの事例では１又は２以上の揮発性化学種を発生させること等によって望ましくないガスを内部キャビティ１１６の中に導入する恐れがある。これらのガスは、蒸気に対して有害な効果を有する（例えば、蒸気中の原子又は分子のリュードベリ遷移を広げる）恐れがある背景蒸気圧を生じる可能性がある。接触結合部を形成するプロセスは、陽極結合では一般的な大きい電場及び高い温度を拠り所とせず、これによって内部キャビティ１１６の中への望ましくないガスの導入を軽減する（又は完全に排除する）。接触結合プロセスから背景蒸気圧が生じない場合には、この背景蒸気圧は、内部キャビティ１１６内の所望の蒸気の圧力よりも著しく低く、変わらずに高純度の蒸気を見込むことができる。
【0041】
幾つかの実施構成では、例示的な蒸気セル１００は、他の蒸気セルと機械的に接続（例えば連結）することができる第１の蒸気セルである。蒸気セル間の機械的接続部は、それぞれの蒸気セルの相補的な機械的接合部を合わせることによって形成することができる。例えば、タブの第１のセット１１８ａは、第２の蒸気セルの機械的接合部と連結するように構成された第１の機械的接合部を定めることができる。同様に、タブの第２のセット１１８ｂは、第３の蒸気セルの機械的接合部と連結するように構成された第２の機械的接合部を定めることができる。幾つかの実施構成では、例示的な蒸気セル１００は、複数のかかるセルの一部である。これらの実施構成では、各蒸気セルの第１及び第２のタブサブセット１１８ａ、１１８ｂは、それぞれ第１の蒸気セルの第２のタブサブセット１１８ｂ及び第２の異なる蒸気セルの第１のタブサブセット１１８ａと連結される。
【0042】
図１Ｇは、図１Ａに記載の例示的な蒸気セル１００の３つの例証１００ａ、１００ｂ、１００ｃの概略斜視図であって、２つの例証１００ａ、１００ｂが互いに結合された図を提示している。第１の例証１００ａは、層の第１のサブセット１１４ａではなく層の第２のサブセット１１４ｂから外向きに延びるタブセット１５０を含む。第１及び層の第２のサブセット１１４ａ、１１４ｂは順番に交互し、従って第３の例証１００ｃ等の別の例証からのタブを受け入れることができる間隙（例えば隣接タブ間の間隙）をタブセット１５０内に作り出す。これらの間隙は、これらのタブとの滑合等の摺動嵌合を可能にするように寸法決定することができる。第３の例証１００ｃは、第１の例証１００ａとは逆に層の第２のサブセット１１４ｂではなく層の第１のサブセット１１４ａから外向きに延びるタブセット１５２を含む。この逆配列は、タブセット１５２が係合中にタブセット１５０と連結することを可能にする。従って、タブセット１５０、１５２は、第１及び第３の例証１００ａ、１００ｃ用のそれぞれの連結可能な機械的接合部を定める。矢印１５４が、タブセット１５２を第１の例証１００ａからのタブセット１５０と係合又は係脱し、これによって２つの例証１００ａ、１００ｃを結合又は分離する第３の例証１００ｃの動きを示している。幾つかの変形形態では、タブセット１５０、１５２は、連結した後に、例えば、陽極結合プロセス、接触結合プロセス、ガラスフリット結合プロセス、又は何れか他の種類の結合プロセス（例えば、誘電体材料で形成されたねじ又はピン等の機械的結合）を用いることによって互いに結合することができる。
【0043】
例示的な蒸気セル１００の複数の例証を互いに連結して多次元アレイ又はタイル配列パターンを形成することができる。幾つかの変形形態では、例示的な蒸気セル１００の複数の例証を互いに連結してパターン付き部分組立体が形成される。例えば、図２Ａは、互いに連結されて「Ｔ字形」部分組立体を形成する図１Ａに記載の例示的な蒸気セル１００の５つの例証の概略斜視図を提示している。別の例として、図２Ｂは、互いに連結されて八角形部分組立体を形成する図１Ａに記載の例示的な蒸気セル１００の８つの例証の概略斜視図を提示している。パターン付き部分組立体に関する他の配列が可能である。更なる変形形態では、パターン付き部分組立体は、大きめの組立体又はタイル配列パターン（例えばモザイク）に適する繰り返し可能な模様を定める。例えば、図３Ａは、互いに連結されて円弧形組立体を形成する図２Ａに記載の「Ｔ字形」部分組立体の５つの例証の概略斜視図を提示している。別の例として、図３Ｂは、互いに連結されてタイル配列パターンを形成する図２Ｂに記載の八角形部分組立体の５つの例証の略上面図を提示している。他の大きい組立体又はタイル配列パターンが可能である。例えば、組立体の連結された蒸気セル同士を接続して２つ又は３つの空間次元の様々な空間配列（例えば規則正しい又は乱雑なアレイ）を形成することができる。
【0044】
連結された蒸気セルのタイル配列のパターン又はアレイは、特に撮像用途に関して幾つかの利点を有することができる。動作中に、連結された蒸気セルは、連結された蒸気セルによって占有されたボリュームを通過するターゲット電磁場を測定することができる。この測定の一部として、レーザーが、１又は２以上の連結された蒸気セルの内部キャビティ内で蒸気と相互作用する光学信号を発生させることができる。かかる相互作用は、ターゲット電磁場を１又は２以上の連結された蒸気セルによって読み出すことを可能にする。一方、タイル配列のパターン又はアレイで配列された時には、ターゲット電磁場を読み出すのにレーザーによって用いられるパワーは、各個々の蒸気セルに効率的に分散させることができる（例えば光ファイバケーブル又はかかるケーブルの群を通して）。この分散は、読み出し中にターゲット電磁場の必要なサンプリングしかしないことを可能にする。更に、蒸気と相互作用した後に、光学信号を個々の光学検出器（例えばフォトダイオード）を用いて検出することができる。続いてこれらの光学検出器は、ＳｏＣ又はＦＰＧＡを用いて処理することができるそれぞれの検出器信号（例えば電気信号）を生成することができる。幾つかの場合には、各連結された蒸気セル（又はチャネル）に関して高い信号対ノイズ比を達成するために変調技法を実装することができる。
【0045】
連結された蒸気セルは、タイル配列のパターン又はアレイで配列された時に、ターゲット電磁場に対してより少ない量の材料しか示さず、これによって連結された蒸気セルの群としての透明度を最大限に高めることもできる。更に、大きい単一の蒸気セルを拠り所とする実施構成とは異なり、タイル配列のパターン又はアレイは、例えば、１又は２以上の個々の連結された蒸気セルを交換することによってきめ細かいレベルで修復することができる。この能力は、タイル配列のパターン又はアレイの動作性能が機能障害部分に起因して損なわれることになった場合に全体のタイル配列のパターン又はアレイを交換する必要を回避する。更に、タイル配列のパターン又はアレイの動作中に発生する検出器信号を均等化して、ある特定の方向からの干渉を完全に除去することができる。これらの信号を均等化することによって、所望の信号のより確実な検出を得ることができる。更に、信号を均等化するステップが、タイル配列のパターン又はアレイが、ターゲット電磁場を測定する方向を選択することを可能にすることができる。かかる選択又は「誘導操作」は、多要素ビーム形成金属アンテナの誘導操作と同様である。タイル配列のパターン又はアレイは、そのきめ細かい構成に起因して、タイル配列のパターン又はアレイにおける機能障害セル又は停止セルを補償することもできることを察知されよう。例えば、アレイ配列又はタイル配列による配列は、様々な方向から到着する信号をオーバーサンプリングし、従って経時劣化に対して堅固なままに留まることができる。他の利点も可能である。
【0046】
幾つかの実施構成では、中間層１１４のうちの少なくとも１つが、内部キャビティ１１６と当該中間層１１４の外周部との間に複数の孔１２８を含む（例えば図１Ｅ及び図１Ｆに示されるように）。複数の孔１２８は、中間層を部分的又は完全に貫通して延びることができる。これらの実施構成では、例示的な蒸気セル１００は、ターゲット放射線を検出するように構成することができ、複数の孔１２８の各々が、ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有することができる。例えば、ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有することができ、複数の孔１２８の各々は、０．３ｍｍを超えない最大寸法を有することができる。幾つかの実施構成では、複数の孔１２８のうちの１又は２以上が、その中に蒸気発生源を含むことができる。これらの実施形態では、中間層１１４は、１又は２以上の孔１２８を内部キャビティ１１６に流体的に結合するチャネル（又はその一部）を定めることができる。
【0047】
図４Ａ及び図４Ｂは、蒸気セルの２つの例示的な構成の吸収効果を含む電磁シミュレーションを提示している。図４Ａ及び図４Ｂに表している例示的な蒸気セルは、図１Ａに記載の例示的な蒸気セル１００と同様の特徴を含むことができる。図４Ａ及び図４Ｂに表している例示的なシミュレーションでは、１Ｖｍ-1の振幅を有する入射電場をシミュレーションしたものである。図４Ａに記載の例示的な構成は、各中間層内（例えば、内部キャビティと当該中間層の外周部との間）に複数の孔が存在する蒸気セルに対応する。比較すると、図４Ｂに記載の例示的な構成は、複数の孔が不在の（例えば本体が中実壁を有する）蒸気セルに対応する。これらの例示的な構成では、外側幾何学構成は、正方形断面を有する。しかしながら、他の形状（例えば円形断面）が可能である。外寸は、１ｃｍの辺を有する正方形である。円筒形である内部キャビティの直径は７ｍｍである。図４Ａでは、中間層内に穿孔（例えば、孔、キャビティ等）を作り出すために中間層から材料が除去されている。かかる穿孔は、内部キャビティの内側のＲＦ電場に適するように蒸気セルを加工することを可能にすることができる。感知に向けてターゲット放射線に整合させる等の目的で層の厚み及び各層に対して用いられる孔パターンを必要に応じて変更することができる。穿孔構成における電場分布は、非穿孔構成よりも均一で摂動のないものである。これに加えて、穿孔構成では、この構造の第１の双極子共鳴が、非穿孔構成よりも高い周波数にピークを有する。
【0048】
図４Ａ及び図４Ｂの蒸気セルの各々は、波長λを有するターゲット放射線を検出するように構成することができる。各蒸気セルは２ＧＨｚで約λ／１５の寸法を有するが、蒸気セルボリュームの内側の電場分布、例えば電場均一性における差が見受けられる場合がある。これらの差は、大きい周波数で増幅される場合がある。例えば、蒸気セルの第１の双極子共鳴は、非穿孔壁を有する構成ではλ／１５の寸法が維持されない限り顕著になり始めることになり、これによって蒸気セルは脆弱になり、それと同時に感知ボリュームが縮小する。幾つかの場合には、穿孔壁は、大きめの蒸気セル内で高い性能を可能にすることができ、これによって信号対ノイズ比が高まり（例えばより小さい蒸気によって）、蒸気セルアレイを構築するのが容易になる。大きめのサイズの蒸気セルは、ある特定の仕様に即した蒸気セルを大量に製造するのに役立つこともできる。高めの（例えば４０ｈｇｚよりも高い）周波数では、蒸気セルは、ガラスとシリコンとの単一のウェハから同じ原理で製作することもできる。幾つかの例では、正方形のセルに関するレーダー断面積は、２ＧＨｚで８×１０-7ｍ2（幾何学的断面の約０．００８倍）であり、これに対して穿孔構成に関するレーダー断面積は、２ＧＨｚで４×１０-7ｍ2（幾何学的断面の約０．００４倍）である。
【0049】
図５は、穿孔壁を有する蒸気セルの様々な例示的な構成の内側の電場分布の電磁シミュレーションを提示している。例えば区分（２）～（４）内の孔パターンの様々な構成は、例えば区分（１）の壁内に穿孔を有さない立方体セルのものと比較する。図５に表している例示的なシミュレーションでは、入射電場は単位振幅を有する。図示しているように、穿孔壁を有する蒸気セルは、非穿孔対照蒸気セルよりも狭い電場振幅分布を有する。区分（２）及び（４）内に例示している平均電場は、図示している相互作用領域（各断面の中心にあるハッチング表示領域）内で蒸気セルの端から端までに１％よりも小さいばらつきしか有さない。これらの蒸気セルは、波長λを有するターゲット放射線を検出するように構成され、寸法（例えば辺長）が約λ／３～λ／４である周波数に関してシミュレーションしたものである。
【0050】
幾つかの実施構成では、例示的な蒸気セル１００を製造するステップが、陽極結合、接触結合、ガラスフリット結合、又は何れか他の種類の結合等によって互いに結合された層のスタック１０４を得るステップを含む。結合プロセスの組み合わせも可能である。層のスタック１０４は、第１の末端層１０６と、先頭の中間層から最後尾の中間層まで順番に延びる中間層１１４とを含む。第１の末端層１０６は、光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成され、先頭の中間層は、第１の末端層１０６に結合される。中間層１１４は、層の第１のサブセット１１４ａと層の第２のサブセット１１４ｂとを含む。層の第１のサブセット１１４ａは、第１の種類の誘電体材料で形成され、層の第２のサブセット１１４ｂは、第２の異なる種類の誘電体材料で形成される。中間層１１４を通って内部キャビティ１１６が延び、最後尾の中間層の表面によって定められた開口部１２２を含む。
【0051】
製造プロセスは、蒸気又は蒸気の発生源を内部キャビティ１１６の中に配置するステップと、層のスタック１０４の第２の末端層１１０を最後尾の中間層に結合して蒸気又は蒸気の発生源を内部キャビティ１１６内に密封するステップとを含むこともできる。第２の末端層１１０は、幾つかの変形形態では第１の種類の誘電体材料である誘電体材料で形成される。層のスタック１０４は、結合された第２の末端層１１０を含む時に例示的な蒸気セル１００の本体１０２を定める。更に、第１の末端層１０６は、本体１０２の第１の端部に存在し、第２の末端層１１０は、本体１０２の反対側の第２の端部に存在する。
【0052】
幾つかの実施構成では、層のスタック１０４を得るステップが、第１及び層の第２のサブセット１１４ａ、１１４ｂの層を交互に互いに結合して中間層１１４を形成するステップを含む。層のスタック１０４を得るステップが、陽極結合、接触結合、ガラスフリット結合、又は何れか他の種類の結合等によって先頭の中間層を第１の末端層１０６に結合するステップを含むこともできる。更なる実施構成では、層のスタック１０４を得るステップが、第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して第１の末端層、層の第１のサブセットのうちの１又は２以上、又はその両方を製作するステップを含む。層のスタック１０４を得るステップが、第２の種類の誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して層の第２のサブセットのうちの１又は２以上を製作するステップを含むこともできる。材料を除去するステップが、レーザー、ウェハからの材料エッチング、又はその両方を用いてウェハから材料を切削加工するステップを含むことができる。エッチングプロセスは、乾式又は湿式の片方又は両方のエッチングプロセスを含むことができる。材料を除去するための他の種類のサブトラクティブプロセス（例えば、アブレーション、研削、研磨等）が可能である。
【0053】
幾つかの実施構成では、第２の末端層１１０を結合するステップが、最後尾の中間層の表面を変質させて第１の複数のヒドロキシル配位子を含めるステップを含む。第２の末端層１１０を結合するステップが、第２の末端層の表面を変質させて第２の複数のヒドロキシル配位子を含めるステップを更に含む。これらの実施構成では、変質させた表面同士を互いに接触させて内部キャビティの開口部の周囲に密封部を形成することができる。密封部は、２つの変質させた表面同士の接触中に式（１）及び（２）に関連して上記で説明したように第１の複数のヒドロキシル配位子を第２の複数のヒドロキシル配位子と反応させることによって形成された金属－酸素結合によって定められた。
【0054】
図１Ａ～図５は、例示的な蒸気セル１００を単一の内部キャビティ１１６の状況で例示している。しかしながら、他の個数及び種類のキャビティが可能である。幾つかの実施構成では、層のスタック１０４は、各々が蒸気部分セル（又は単位セル）に対応する複数の内部キャビティ１１６を定める。幾つかの実施構成では、層のスタック１０４は、その中を通り抜ける１又は２以上の孔（例えば貫通孔）を定めることができる。１又は２以上の孔は、第１及び第２の末端層１０６、１１０の外面によって定められた１つのペアの開口部の間で延びることができる。幾つかの実施構成では、層のスタック１０４は、複数の内部キャビティ１１６と１又は２以上の孔との両方を定める。複数の内部キャビティ１１６及び１又は２以上の孔は、図２Ａ～図２Ｂ及び図３Ａ～図３Ｂに示されるもの等のパターン又はアレイに従って配列することができる。複数のキャビティ及び１又は２以上の孔のうちの片方又は両方を有する実施構成では、層のスタック１０４は、タブの第１及び第２のセット１１８ａ、１１８ｂを有さないように構成することができる。
【0055】
幾つかの実施構成では、複数のキャビティ１１６及び１又は２以上の孔は、２次元格子（例えば、正方形格子、長方形格子、六角形格子、菱面格子、中心格子、斜方格子等）に従って配列することができる。これらの実施構成では、２次元格子は、複数のキャビティ１１６に対する第１の格子サイトを含むことができる。第１の格子サイトは、その各々を内部キャビティ１１６が占有することができる。しかしながら、幾つかの変形形態では、第１の格子サイトの一部分しか占有されない。２次元格子は、１又は２以上の孔に対する第２の格子サイトを更に含むことができる。第２の格子サイトは、各々を孔が占有することができる。しかしながら、幾つかの変形形態では、第２の格子サイトの一部分しか占有されない。内部キャビティ１１６及び孔を所望のパターン又はアレイで配列することを可能にするように第１及び第２の格子サイトの占有（又は欠如）を選択することができることを察知されよう。かかる選択は、層のスタック１０４が本体１０２に対する所望の形状を定めることを可能にすることもできる。
【0056】
図６Ａは、キャビティのアレイ６１２を有する例示的な蒸気セル６００の概略図を提示している。この概略図は、例示的な蒸気セル６００は、単位セル６０２の状況で蒸気セルのタイル配列パターン６０４の一部として例示している。更にこの概略図は、例示的な蒸気セル６００の断面６０６も例示している。例示的な蒸気セル６００は、互いに結合された層のスタック６１０によって定められた本体６０８を含む。層のスタック６１０は、キャビティの第１のサブセット６１２ａとキャビティの第２のサブセット６１２ｂとを含むキャビティのアレイ６１２を定める。キャビティの第１のサブセット６１２ａは、層のスタック６１０の複数の中間層６１４を通って延び、キャビティの第２のサブセット６１２ｂは、層のスタック６１０を完全に貫通して延びる。キャビティの第１のサブセット６１２ａは、図１Ａ～図５に関連して説明した内部キャビティ１１６と同様とすることができ、キャビティの第２のサブセット６１２ｂは、各々が貫通孔に対応するものとすることができる。キャビティの第１のサブセット６１２ａの各々内に蒸気又は蒸気の発生源が配置される。
【0057】
キャビティの第１及び第２のサブセット６１２ａ、６１２ｂは、各々が、図６Ａに示されるように共通の形状を共有することができる。しかしながら、幾つかの場合には、キャビティの第１のサブセット６１２ａのうちの１又は２以上が異なる形状を有することができる。幾つかの場合には、キャビティの第２のサブセット６１２ｂのうちの１又は２以上も異なる形状を有することができる。多くの変形形態において、キャビティの第１及び第２のサブセット６１２ａ、６１２ｂは、層のスタック６１０に対して垂直なそれぞれの軸に沿って延びるが、他の向き（例えば傾いた軸）が可能である。更に、図６Ａは、キャビティの第１のサブセット６１２ａは、円筒形形状を有するものとして描示し、キャビティの第２のサブセット６１２ｂは、正方形管形状を有するものとして描いているが、他の形状（例えば、六角形、楕円体、球体等）が可能である。例えば、各中間層６１４は、そこを貫くキャビティの一部分を定める貫通孔を含むことができる。この場合、１又は２以上の中間層６１４が積層された時にキャビティに対するターゲット３次元ボリューム（例えば、球体、錐台、傾斜平行六面体等）を定めるように選択的に構成することができる。幾つかの変形形態では、少なくとも２つの隣接する中間層６１４が、互いに形状及びサイズのうちの片方又は両方が異なるそれぞれの貫通孔を有する。幾つかの変形形態では、２又は３以上の中間層６１４（例えば隣接する中間層）が異なる厚みを有する。他の構成可能な特徴（例えば、中間層の貫通孔を囲む内周面に関する角度）が可能である。
【0058】
層のスタック６１０は、本体６０８の第１の端部６１８に第１の末端層６１６を含む。第１の末端層６１６は、光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成される。層のスタック６１０は、本体６０８の反対側の第２の端部６２２に第２の末端層６２０を更に含む。第２の末端層６２０は誘電体材料で形成される。層のスタック６１０の中間層６１４は第１の末端層６１６と第２の末端層６２０との間に位置決めされ、第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセット６１４ａと、第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセット６１４ｂとを含む。図６Ａは、第１及び層の第２のサブセット６１４ａ、６１４ｂは、各々が１枚のみの層であるものとして描いている。しかしながら、第１及び層の第２のサブセット６１４ａ、６１４ｂのうちの片方又は両方に対して他の枚数の層が可能である。
【0059】
図６Ａに示されるもの等の幾つかの変形形態では、層のスタック６１０は、本体６０８の外周部６２８の第１の場所６２６ａで層の第１のサブセット６１４ａから外向きに延びるタブの第１のセット６２４ａを含む。層のスタック６１０は、本体６０８の外周部６２８の第２の場所６２６ｂで層の第２のサブセット６１４ｂから外向きに延びるタブの第２のセット６２４ｂを更に含むことができる。タブの第１及び第２のセット６２４ａ、６２４ｂは、同様に構成された別の蒸気セル（例えば例示的な蒸気セル６００の第２の例証）と連結するための第１及び第２の機械的接合部としてそれぞれ機能することができる。しかしながら、幾つかの変形形態では、第１及び第２の層セット６１４ａ、６１４ｂは、そこから延びるタブを有さない。図６Ｂは、図６Ａの例示的な蒸気セルであるが、その中間層（第１及び第２の層セット６１４ａ、６１４ｂ）に、そこから外向きに延びるタブが無い蒸気セルの概略図を提示している。
【0060】
ある特定の事例では、キャビティの第１のサブセット６１２ａの各々は、層のスタック６１０によって形成された側壁６３０によって囲まれる。側壁６３０は、外周部６２８の一部を定める角部を含む。かかる事例では、第１の場所６２６ａは、外周部６２８の第１の角部であり、第２の場所６２６ｂは、外周部６２８の第２の異なる角部である。しかしながら、第１及び第２の場所６２６ａ、６２６ｂは、外周部６２８上の他の場所とすることができる。例えば、側壁６３０は、外周部６２８の一部（例えば外側部の中心）を定める平坦面を含むことができる。この場合、第１の場所６２６ａは、外周部６２８の第１の平坦面とすることができ、第２の場所６２６ｂは、外周部６２８の第２の異なる平坦面である。
【0061】
キャビティのアレイ６１２は、２次元格子に従って配列することができる。幾つかの場合、２次元格子は、キャビティの第１及び第２のサブセット６１２ａ、６１２ｂそれぞれに対する第１及び第２の格子サイトを含む。例えば、２次元格子は、行方向と列方向とに順番に交互する第１の格子サイトと第２の格子サイトとを有する正方形格子とすることができる。この配列では、アレイのキャビティ６１２は、正方形格子のそれぞれの場所に配置され、キャビティの第１のサブセット６１２ａとキャビティの第２のサブセット６１２ｂとは、正方形格子の行及び列に沿って順番に交互する。幾つかの場合には、第１及び第２の格子サイトは、キャビティの第１及び第２のサブセット６１２ａ、６１２ｂによって部分的に占有される。例えば、図６に示されるように、第１の格子サイトのうちの４つは、第１のサブセット６１２ａのそれぞれのキャビティが占有することができ、１つの第２の格子サイトは、第２のサブセット６１２ｂのそれぞれのキャビティが占有することができる。この構成は、例示的な蒸気セル６００の本体６０８がプラス（＋）形状をとることを可能にすることができる。しかしながら、他の配列が可能である。例えば、図６Ｂの例示的な蒸気セル６００内のキャビティのアレイ６１２は、本体６０８に対して蝶状の形状を定めるように配列される。
【0062】
幾つかの変形形態では、側壁６３０は、その正方形断面を定める４つの外面を有する。これらの変形形態では、キャビティの第２のサブセット６１２ｂの各々は、正方形断面を有する。幾つかの変形形態では、側壁６３０は、キャビティの単位セル外周部６３２を定める１又は２以上の外面を有する。図６Ａ及び図６Ｂでは、明瞭化の目的で、１つの単位セル外周部６３２のみを破線で表している。第１のサブセット６１２ａの１又は２以上のキャビティに関して、少なくとも１つの中間層６１４が、１又は２以上のキャビティと、上記キャビティのそれぞれの単位セル外周部６３２との間に複数の孔を含む。複数の孔は、図１Ａ～図１Ｂ及び図４Ａ～図５に関連して説明したものと同様とすることができる。例えば、複数の孔は、少なくとも１つの中間層６１４を通って延びることができる。別の例として、例示的な蒸気セル６００は、ターゲット放射線を検出するように構成することができ、複数の孔の各々は、ターゲット放射線の波長（例えば少なくとも０．３ｍｍの波長）を超えない最大寸法を有する。ある特定の場合に、１又は２以上のキャビティに隣接する複数の孔のうちの１又は２以上が、その中に蒸気発生源を含むことができる。これらの実施形態では、少なくとも１つの中間層６１４が、１又は２以上の孔を１又は２以上のキャビティに流体的に結合するチャネル（又はその一部）を定めることができる。
【0063】
記載される内容の幾つかの態様では、蒸気セルについて以下に続く実施例によって説明することができる。
実施例１．
蒸気セルであって、
互いに結合された層のスタックによって定められた本体であって、上記層のスタックが、上記本体の第１の端部にあり、光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、上記本体の反対側の第２の端部にあり、誘電体材料で形成された第２の末端層と、上記第１の末端層と上記第２の末端層との間にあり、誘電体材料で形成された中間層であって、上記第１の末端層と上記第２の末端層との間で上記本体を通って延びる内部キャビティを定める中間層と、を含む本体と、
上記内部キャビティに配置された蒸気又は蒸気の発生源と、
を備える蒸気セル。
実施例２．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例１に記載の蒸気セル。
実施例３．
上記中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、実施例１又は実施例２に記載の蒸気セル。
実施例４．
上記層は、上記スタック内で上記第１の種類の誘電体材料と上記第２の種類の誘電体材料との間で交互するように順序付けられる、実施例３に記載の蒸気セル。
実施例５．
上記第２の種類の誘電体材料は、シリコンである、実施例３又は実施例４に記載の蒸気セル。
実施例６．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例１又は実施例２から実施例５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例７．
上記層のスタックは、
上記本体の第１の外側部（又は場所）で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記本体の第２の外側部（又は場所）で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例１又は実施例２から実施例６のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例８．
上記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、
上記タブの第１のセットは、第２の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第２の例証）と連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
上記タブの第２のセットは、第３の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第３の例証）と連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
実施例７に記載の蒸気セル。
実施例９．
上記第１のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第２のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例７又は実施例８に記載の蒸気セル。
実施例１０．
上記タブの第１及び第２のセットは、上記第１及び第２の外側部のそれぞれの中心と整列される、実施例７、又は実施例８から実施例９のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１１．
上記中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第１のセットの各タブは、上記層の第１のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延び、
上記第２のセットの各タブは、上記層の第２のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例７又は実施例８から実施例１０のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１２．
実施例７又は実施例８から実施例１１のうちの何れか１つに記載の蒸気セルに各々が対応する複数の蒸気セルであって、上記各蒸気セルのタブの第１及び第２のセットが、第１の蒸気セルのタブの第２のセット及び第２の異なる蒸気セルのタブの第１のセットとそれぞれ連結される、複数の蒸気セル。
実施例１３．
上記本体は、本体の正方形断面を定め且つ第１及び第２の外側部を含む４つの外側部を有し、
上記層のスタックは、
上記本体の上記第１の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記本体の上記第２の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例１又は実施例２から実施例１２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１４．
上記第１の外側部と上記第２の外側部が互いに隣接する、実施例１３に記載の蒸気セル。
実施例１５．
上記第１の外側部と上記第２の外側部は互いに対向する、実施例１３に記載の蒸気セル。
実施例１６．
上記４つの外側部は、第３及び第４の外側部を含み、
上記層のスタックは、
上記本体の上記第３の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第３のセットと、
上記本体の上記第４の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第４のセットと、
を含む、
実施例１３又は実施例１４から実施例１５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７．
上記第３のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第４のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例１６に記載の蒸気セル。
実施例１８．
上記タブの第１、第２、第３、及び第４のセットは、上記第１、第２、第３、及び第４の外側部のそれぞれの中心と整列される、
実施例１６又は実施例１７に記載の蒸気セル。
実施例１９．
上記中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第１及び第３のセットの各タブは、上記層の第１のサブセット内のそれぞれの層から外向きに延び、
上記第２及び第４のセットの各タブは、上記層の第２のサブセット内のそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例１６又は実施例１７から実施例１８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例２０．
上記第１の末端層は、
上記第１の末端層に隣接する上記内部キャビティの第１の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例１又は実施例２から実施例１９のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例２１．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例２０に記載の蒸気セル。
実施例２２．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例２０又は実施例２１に記載の蒸気セル。
実施例２３．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例２０又は実施例２１から実施例２２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例２４．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例２０又は実施例２１から実施例２３のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例２５．
上記第２の末端層は、
上記第２の末端層に隣接する上記内部キャビティの第２の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例１又は実施例２から実施例２４のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例２６．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例２５に記載の蒸気セル。
実施例２７．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例２５又は実施例２６に記載の蒸気セル。
実施例２８．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例２５又は実施例２６から実施例２７のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例２９．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例２５又は実施例２６から実施例２８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例３０．
上記中間層のうちの少なくとも１つは、上記内部キャビティと当該中間層の外周部との間に複数の孔を含む、実施例１又は実施例２から実施例２９のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例３１．
上記複数の孔は、上記中間層を通って延びる、実施例３０に記載の蒸気セル。
実施例３２．
上記蒸気セルは、ターゲット放射線を検出するように構成され、
上記複数の孔の各々は、上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例３０又は実施例３１に記載の蒸気セル。
実施例３３．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例３２に記載の蒸気セル。
実施例３４．
上記層のスタック内の少なくとも１つのペアの隣接層間の接合部が、接着層を含む、実施例１又は実施例２から実施例３３のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例３５．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例３４に記載の蒸気セル。
実施例３６．
各中間層は、当該中間層を通る上記内部キャビティの一部分を定める貫通孔を含み、
少なくとも２つの隣接する中間層が、形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの貫通孔を有する、
実施例１又は実施例２から実施例３５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１．
蒸気セルであって、
互いに結合された層のスタックによって定められた本体であって、上記層のスタックが、上記本体の第１の端部にあり、光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、上記本体の反対側の第２の端部にあり、誘電体材料で形成された第２の末端層と、上記第１の末端層と上記第２の末端層との間にあり、誘電体材料で形成された中間層であって、上記第１の末端層と上記第２の末端層との間で上記本体を通って延びる内部キャビティを定める中間層と、を含む本体と、
上記内部キャビティに配置された蒸気又は蒸気の発生源と、
を備える蒸気セル。
実施例２．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例１に記載の蒸気セル。
実施例３．
上記中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、実施例１又は実施例２に記載の蒸気セル。
実施例４．
上記層は、上記スタック内で上記第１の種類の誘電体材料と上記第２の種類の誘電体材料との間で交互するように順序付けられる、実施例３に記載の蒸気セル。
実施例５．
上記第２の種類の誘電体材料は、シリコンである、実施例３又は実施例４に記載の蒸気セル。
実施例６．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例１又は実施例２から実施例５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例７．
上記層のスタックは、
上記本体の第１の外側部（又は場所）で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記本体の第２の外側部（又は場所）で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例１又は実施例２から実施例６のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例８．
上記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、
上記タブの第１のセットは、第２の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第２の例証）と連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
上記タブの第２のセットは、第３の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第３の例証）と連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
実施例７に記載の蒸気セル。
実施例９．
上記第１のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第２のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例７又は実施例８に記載の蒸気セル。
実施例１０．
上記タブの第１及び第２のセットは、上記第１及び第２の外側部のそれぞれの中心と整列される、実施例７、又は実施例８から実施例９のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１１．
上記中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第１のセットの各タブは、上記層の第１のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延び、
上記第２のセットの各タブは、上記層の第２のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例７又は実施例８から実施例１０のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１２．
実施例７又は実施例８から実施例１１のうちの何れか１つに記載の蒸気セルに各々が対応する複数の蒸気セルであって、上記各蒸気セルのタブの第１及び第２のセットが、第１の蒸気セルのタブの第２のセット及び第２の異なる蒸気セルのタブの第１のセットとそれぞれ連結される、複数の蒸気セル。
実施例１３．
上記本体は、本体の正方形断面を定め且つ第１及び第２の外側部を含む４つの外側部を有し、
上記層のスタックは、
上記本体の上記第１の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記本体の上記第２の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例１又は実施例２から実施例１２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１４．
上記第１の外側部と上記第２の外側部が互いに隣接する、実施例１３に記載の蒸気セル。
実施例１５．
上記第１の外側部と上記第２の外側部は互いに対向する、実施例１３に記載の蒸気セル。
実施例１６．
上記４つの外側部は、第３及び第４の外側部を含み、
上記層のスタックは、
上記本体の上記第３の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第３のセットと、
上記本体の上記第４の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第４のセットと、
を含む、
実施例１３又は実施例１４から実施例１５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７．
上記第３のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第４のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例１６に記載の蒸気セル。
実施例１８．
上記タブの第１、第２、第３、及び第４のセットは、上記第１、第２、第３、及び第４の外側部のそれぞれの中心と整列される、
実施例１６又は実施例１７に記載の蒸気セル。
実施例１９．
上記中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第１及び第３のセットの各タブは、上記層の第１のサブセット内のそれぞれの層から外向きに延び、
上記第２及び第４のセットの各タブは、上記層の第２のサブセット内のそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例１６又は実施例１７から実施例１８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例２０．
上記第１の末端層は、
上記第１の末端層に隣接する上記内部キャビティの第１の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例１又は実施例２から実施例１９のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例２１．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例２０に記載の蒸気セル。
実施例２２．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例２０又は実施例２１に記載の蒸気セル。
実施例２３．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例２０又は実施例２１から実施例２２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例２４．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例２０又は実施例２１から実施例２３のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例２５．
上記第２の末端層は、
上記第２の末端層に隣接する上記内部キャビティの第２の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例１又は実施例２から実施例２４のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例２６．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例２５に記載の蒸気セル。
実施例２７．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例２５又は実施例２６に記載の蒸気セル。
実施例２８．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例２５又は実施例２６から実施例２７のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例２９．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例２５又は実施例２６から実施例２８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例３０．
上記中間層のうちの少なくとも１つは、上記内部キャビティと当該中間層の外周部との間に複数の孔を含む、実施例１又は実施例２から実施例２９のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例３１．
上記複数の孔は、上記中間層を通って延びる、実施例３０に記載の蒸気セル。
実施例３２．
上記蒸気セルは、ターゲット放射線を検出するように構成され、
上記複数の孔の各々は、上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例３０又は実施例３１に記載の蒸気セル。
実施例３３．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例３２に記載の蒸気セル。
実施例３４．
上記層のスタック内の少なくとも１つのペアの隣接層間の接合部が、接着層を含む、実施例１又は実施例２から実施例３３のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例３５．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例３４に記載の蒸気セル。
実施例３６．
各中間層は、当該中間層を通る上記内部キャビティの一部分を定める貫通孔を含み、
少なくとも２つの隣接する中間層が、形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの貫通孔を有する、
実施例１又は実施例２から実施例３５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
【0064】
記載される内容の幾つかの態様では、蒸気セルを製造する方法は、以下の例によって説明することができる。
実施例３７．
蒸気セルを製造する方法であって、
互いに結合された層のスタックを得るステップを含み、
上記層のスタックが、
光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、
誘電体材料で形成され、先頭の中間層から最後尾の中間層まで順番に延びる中間層であって、上記先頭の中間層が上記第１の末端層に結合され、上記中間層を通って内部キャビティが延び、上記内部キャビティが上記最後尾の中間層の表面によって定められた開口部を含む、中間層と、
を含み、
上記方法が更に、
蒸気又は蒸気の発生源を上記内部キャビティに配置するステップと、
上記層のスタックの第２の末端層を上記最後尾の中間層に結合して、上記蒸気又は蒸気の発生源を上記キャビティの第１のサブセット内に密封するステップであって、上記第２の末端層が誘電体材料で形成される、ステップと、
を含み、
上記層のスタックは、結合された上記第２の末端層を含む時に、上記蒸気セルの本体と、上記本体の第１の端部にある上記第１の末端層と、上記本体の反対側の第２の端部にある上記第２の末端層とを定める、
蒸気セルを製造する方法。
実施例３８．
上記第２の末端層を結合するステップが、上記内部キャビティの開口部を上記第２の末端層で覆って上記蒸気又は蒸気の発生源を上記内部キャビティ内に封入するステップを含む、実施例３７に記載の方法。
実施例３９．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例３７又は実施例３８に記載の方法。
実施例４０．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例３７又は実施例３８から実施例３９のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例４１．
上記層のスタックを得るステップが、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して、上記第１の末端層、上記第２の末端層（実施例３９と組み合わせた時）、又はその両方を製作するステップと、
誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して、上記中間層を製作するステップと、
を含む、
実施例３７又は実施例３８から実施例４０のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例４２．
上記中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
実施例３７又は実施例３８から実施例４０のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例４３．
上記層のスタックを得るステップが、
上記層の第１のサブセットの層と上記層の第２のサブセットの層とを互いに交互に結合して上記中間層を形成するステップと、
上記先頭の中間層を上記第１の末端層に結合するステップと、
を含む、
実施例４２に記載の方法。
実施例４４．
上記層のスタックを得るステップが、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して、上記第１の末端層、上記層の第１のサブセットのうちの１又は２以上、上記第２の末端層（実施例３９と組み合わせた時）、又はその何れかの組み合わせを製作するステップと、
上記第２の種類の誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して、上記層の第２のサブセットのうちの１又は２以上を製作するステップと、
を含む、
実施例４２又は実施例４３に記載の方法。
実施例４５．
上記第２の種類の誘電体材料は、シリコンである、実施例４２又は実施例４３から実施例４４のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例４６．
上記第２の末端層を結合するステップが、
第１の複数のヒドロキシル配位子を含むように上記最後尾の中間層の上記表面を変質させるステップと、
第２の複数のヒドロキシル配位子を含むように上記第２の末端層の表面を変質させるステップと、
上記変質させた表面を接触させて、上記２つの上記変質させた表面の接触中に上記第１の複数のヒドロキシル配位子を上記第２の複数のヒドロキシル配位子と反応させることによって形成される金属－酸素結合部によって定められた密封部を上記内部キャビティの上記開口部の周囲に形成するステップと、
を含む、
実施例３７又は実施例３８から実施例４５のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例４７．
上記第２の末端層を結合するステップが、
上記最後尾の中間層及び上記第２の末端層の上記表面のうちの片方又は両方を、上記層のそれぞれの表面をプラズマに暴露することによって活性化するステップを含む、
実施例４６に記載の方法。
実施例４８．
上記中間層のうちの少なくとも１つは、上記内部キャビティと当該中間層の外周部との間に複数の孔を含む、実施例３７又は実施例３８から実施例４７のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例４９．
上記複数の孔は、上記中間層を通って延びる、実施例４８に記載の方法。
実施例５０．
上記蒸気セルは、製造時に、ターゲット放射線を検出するように構成され、
上記複数の孔の各々は、上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例４８又は実施例４９に記載の方法。
実施例５１．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例５０に記載の方法。
実施例５２．
上記層のスタックを得るステップが、
中間層の片側又は両側に接着層を形成して上記中間層のそれぞれの結合面を定めるステップを含む、
実施例３７又は実施例３８から実施例５１のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例５３．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例５２に記載の方法。
実施例５４．
上記層のスタックは、
上記層のスタック（又は上記蒸気セルの本体）の第１の外側部（又は場所）で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記層のスタック（又は上記蒸気セルの本体）の第２の外側部（又は場所）で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例３７又は実施例３８から実施例５３のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例５５．
上記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、
上記タブの第１のセットは、第２の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第２の例証）と連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
上記タブの第２のセットは、第３の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第３の例証）と連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
実施例５４に記載の蒸気方法。
実施例３７．
蒸気セルを製造する方法であって、
互いに結合された層のスタックを得るステップを含み、
上記層のスタックが、
光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、
誘電体材料で形成され、先頭の中間層から最後尾の中間層まで順番に延びる中間層であって、上記先頭の中間層が上記第１の末端層に結合され、上記中間層を通って内部キャビティが延び、上記内部キャビティが上記最後尾の中間層の表面によって定められた開口部を含む、中間層と、
を含み、
上記方法が更に、
蒸気又は蒸気の発生源を上記内部キャビティに配置するステップと、
上記層のスタックの第２の末端層を上記最後尾の中間層に結合して、上記蒸気又は蒸気の発生源を上記キャビティの第１のサブセット内に密封するステップであって、上記第２の末端層が誘電体材料で形成される、ステップと、
を含み、
上記層のスタックは、結合された上記第２の末端層を含む時に、上記蒸気セルの本体と、上記本体の第１の端部にある上記第１の末端層と、上記本体の反対側の第２の端部にある上記第２の末端層とを定める、
蒸気セルを製造する方法。
実施例３８．
上記第２の末端層を結合するステップが、上記内部キャビティの開口部を上記第２の末端層で覆って上記蒸気又は蒸気の発生源を上記内部キャビティ内に封入するステップを含む、実施例３７に記載の方法。
実施例３９．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例３７又は実施例３８に記載の方法。
実施例４０．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例３７又は実施例３８から実施例３９のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例４１．
上記層のスタックを得るステップが、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して、上記第１の末端層、上記第２の末端層（実施例３９と組み合わせた時）、又はその両方を製作するステップと、
誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して、上記中間層を製作するステップと、
を含む、
実施例３７又は実施例３８から実施例４０のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例４２．
上記中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
実施例３７又は実施例３８から実施例４０のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例４３．
上記層のスタックを得るステップが、
上記層の第１のサブセットの層と上記層の第２のサブセットの層とを互いに交互に結合して上記中間層を形成するステップと、
上記先頭の中間層を上記第１の末端層に結合するステップと、
を含む、
実施例４２に記載の方法。
実施例４４．
上記層のスタックを得るステップが、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して、上記第１の末端層、上記層の第１のサブセットのうちの１又は２以上、上記第２の末端層（実施例３９と組み合わせた時）、又はその何れかの組み合わせを製作するステップと、
上記第２の種類の誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して、上記層の第２のサブセットのうちの１又は２以上を製作するステップと、
を含む、
実施例４２又は実施例４３に記載の方法。
実施例４５．
上記第２の種類の誘電体材料は、シリコンである、実施例４２又は実施例４３から実施例４４のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例４６．
上記第２の末端層を結合するステップが、
第１の複数のヒドロキシル配位子を含むように上記最後尾の中間層の上記表面を変質させるステップと、
第２の複数のヒドロキシル配位子を含むように上記第２の末端層の表面を変質させるステップと、
上記変質させた表面を接触させて、上記２つの上記変質させた表面の接触中に上記第１の複数のヒドロキシル配位子を上記第２の複数のヒドロキシル配位子と反応させることによって形成される金属－酸素結合部によって定められた密封部を上記内部キャビティの上記開口部の周囲に形成するステップと、
を含む、
実施例３７又は実施例３８から実施例４５のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例４７．
上記第２の末端層を結合するステップが、
上記最後尾の中間層及び上記第２の末端層の上記表面のうちの片方又は両方を、上記層のそれぞれの表面をプラズマに暴露することによって活性化するステップを含む、
実施例４６に記載の方法。
実施例４８．
上記中間層のうちの少なくとも１つは、上記内部キャビティと当該中間層の外周部との間に複数の孔を含む、実施例３７又は実施例３８から実施例４７のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例４９．
上記複数の孔は、上記中間層を通って延びる、実施例４８に記載の方法。
実施例５０．
上記蒸気セルは、製造時に、ターゲット放射線を検出するように構成され、
上記複数の孔の各々は、上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例４８又は実施例４９に記載の方法。
実施例５１．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例５０に記載の方法。
実施例５２．
上記層のスタックを得るステップが、
中間層の片側又は両側に接着層を形成して上記中間層のそれぞれの結合面を定めるステップを含む、
実施例３７又は実施例３８から実施例５１のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例５３．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例５２に記載の方法。
実施例５４．
上記層のスタックは、
上記層のスタック（又は上記蒸気セルの本体）の第１の外側部（又は場所）で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記層のスタック（又は上記蒸気セルの本体）の第２の外側部（又は場所）で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例３７又は実施例３８から実施例５３のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例５５．
上記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、
上記タブの第１のセットは、第２の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第２の例証）と連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
上記タブの第２のセットは、第３の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第３の例証）と連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
実施例５４に記載の蒸気方法。
【0065】
記載される内容の幾つかの態様では、蒸気セルシステムは、以下の例によって説明することができる。
実施例５６．
蒸気セルシステムであって、
連結された蒸気セルのアレイを備え、
上記連結された蒸気セルの各々が、
互いに結合され、上記連結された蒸気セルの本体を定める層のスタックを含み、
上記層のスタックが、
上記本体の第１の端部にあり、光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、上記本体の反対側の第２の端部にあり、誘電体材料で形成された第２の末端層と、上記第１の末端層と上記第２の末端層との間にあり、誘電体材料で形成された１又は２以上の中間層であって、上記第１の末端層と上記第２の末端層との間で上記層のスタックを通って延びる内部キャビティを定める中間層と、
を含み、
上記連結された蒸気セルの各々が更に、
上記本体の第１の外側部上にある第１の機械的接合部と、
上記本体の第２の外側部上にある第２の機械的接合部と、
上記内部キャビティに配置された蒸気又は蒸気の発生源と、
を含み、
少なくとも１つの連結された蒸気セルの上記第１の機械的接合部が、別の連結された蒸気セルの第２の機械的接合部と連結され、
上記少なくとも１つの連結された蒸気セルの上記第２の機械的接合部が、別の異なる連結された蒸気セルの第１の機械的接合部と連結される、
蒸気セルシステム。
実施例５７．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例５６に記載の蒸気セルシステム。
実施例５８．
上記１又は２以上の中間層は、第２の異なる種類の誘電体材料で形成された少なくとも１つの層を含む、実施例５６又は実施例５７に記載の蒸気セルシステム。
実施例５９．
上記１又は２以上の中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
実施例５６又は実施例５７に記載の蒸気セルシステム。
実施例６０．
上記層は、上記スタック内で上記第１の種類の誘電体材料と上記第２の種類の誘電体材料との間で交互するように順序付けられる、実施例５９に記載の蒸気セルシステム。
実施例６１．
上記第２の種類の誘電体材料は、シリコンである、実施例５８又は実施例５９から実施例６０のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例６２．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例５６又は実施例５７から実施例６１のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例６３．
上記第１の機械的接合部は、上記本体の上記第１の外側部（又は場所）で上記１又は２以上の中間層から外向きに延びるタブの第１のセットを含み、
上記第２の機械的接合部は、上記本体の上記第２の外側部（又は場所）で上記１又は２以上の中間層から外向きに延びるタブの第２のセットを含む、
実施例５６又は実施例５７から実施例６２のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例６４．
上記第１のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第２のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例６３に記載の蒸気セルシステム。
実施例６５．
上記タブの第１及び第２のセットは、上記第１及び第２の外側部のそれぞれの中心と整列される、実施例６３又は実施例６４に記載の蒸気セルシステム。
実施例６６．
上記１又は２以上の中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第１のセットの各タブは、上記層の第１のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延び、
上記第２のセットの各タブは、上記層の第２のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例６３又は実施例６４から実施例６５のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例６７．
上記連結された蒸気セルの上記本体は、本体の正方形断面を定める４つの外側部を有し、上記４つの外側部は、上記第１及び第２の外側部を含む、実施例５６又は実施例５７から実施例６６のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例６８．
上記第１の外側部と上記第２の外側部とは、互いに隣接する、実施例６７に記載の蒸気セルシステム。
実施例６９．
上記第１の外側部と上記第２の外側部とは、互いに対向する、実施例６７に記載の蒸気セルシステム。
実施例７０．
上記４つの外側部は、第３及び第４の外側部を含み、
各連結された蒸気セルは、
上記本体の上記第３の外側部上にある第３の機械的接合部と、
上記本体の上記第４の外側部上にある第４の機械的接合部と、
を含む、
実施例６７又は実施例６８から実施例６９のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例７１．
上記第３の機械的接合部は、上記本体の上記第３の外側部で上記１又は２以上の中間層から外向きに延びるタブの第３のセットを含み、
上記第４の機械的接合部は、上記本体の上記第４の外側部で上記１又は２以上の中間層から外向きに延びるタブの第４のセットを含む、
実施例７０に記載の蒸気セルシステム。
実施例７２．
上記第３のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第４のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例７１に記載の蒸気セルシステム。
実施例７３．
上記タブの第３及び第４のセットは、上記第３及び第４の外側部のそれぞれの中心と整列される、実施例７１又は実施例７２に記載の蒸気セルシステム。
実施例７４．
上記１又は２以上の中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第３のセットの各タブは、上記層の第１のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延び、
上記第４のセットの各タブは、上記層の第２のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例７１又は実施例７２から実施例７３のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例７５．
上記第１の末端層は、
上記第１の末端層に隣接する上記内部キャビティの第１の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例５６又は実施例５７から実施例７４のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例７６．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例７５に記載の蒸気セルシステム。
実施例７７．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例７５又は実施例７６に記載の蒸気セルシステム。
実施例７８．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例７５又は実施例７６から実施例７７のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例７９．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例７５又は実施例７６から実施例７８のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例８０．
上記第２の末端層は、
上記第２の末端層に隣接する上記内部キャビティの第２の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例５６又は実施例５７から実施例７９のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例８１．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例８０に記載の蒸気セルシステム。
実施例８２．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例８０又は実施例８１に記載の蒸気セルシステム。
実施例８３．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例８０又は実施例８１から実施例８２のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例８４．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例８０又は実施例８１から実施例８３のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例８５．
上記１又は２以上の中間層は、上記内部キャビティと当該中間層の外周部との間に複数の孔を有する少なくとも１つの層を含む、実施例５６又は実施例５７から実施例８４のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例８６．
上記複数の孔は、上記中間層を通って延びる、実施例８５に記載の蒸気セルシステム。
実施例８７．
各連結された蒸気セルは、それぞれのターゲット放射線を検出するように構成され、
連結された蒸気セルに付属の上記複数の孔は各々、上記連結された蒸気セルの上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例８５又は実施例８６に記載の蒸気セルシステム。
実施例８８．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例８７に記載の蒸気セルシステム。
実施例８９．
上記層のスタック内の少なくとも１つのペアの隣接層間の接合部が、接着層を含む、実施例５６又は実施例５７から実施例８８のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例９０．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例８９に記載の蒸気セルシステム。
実施例９１．
各中間層は、当該中間層を通る上記内部キャビティの一部分を定める貫通孔を含み、
少なくとも２つの隣接する中間層が、形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの貫通孔を有する、
実施例５６又は実施例５７から実施例９０のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例５６．
蒸気セルシステムであって、
連結された蒸気セルのアレイを備え、
上記連結された蒸気セルの各々が、
互いに結合され、上記連結された蒸気セルの本体を定める層のスタックを含み、
上記層のスタックが、
上記本体の第１の端部にあり、光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、上記本体の反対側の第２の端部にあり、誘電体材料で形成された第２の末端層と、上記第１の末端層と上記第２の末端層との間にあり、誘電体材料で形成された１又は２以上の中間層であって、上記第１の末端層と上記第２の末端層との間で上記層のスタックを通って延びる内部キャビティを定める中間層と、
を含み、
上記連結された蒸気セルの各々が更に、
上記本体の第１の外側部上にある第１の機械的接合部と、
上記本体の第２の外側部上にある第２の機械的接合部と、
上記内部キャビティに配置された蒸気又は蒸気の発生源と、
を含み、
少なくとも１つの連結された蒸気セルの上記第１の機械的接合部が、別の連結された蒸気セルの第２の機械的接合部と連結され、
上記少なくとも１つの連結された蒸気セルの上記第２の機械的接合部が、別の異なる連結された蒸気セルの第１の機械的接合部と連結される、
蒸気セルシステム。
実施例５７．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例５６に記載の蒸気セルシステム。
実施例５８．
上記１又は２以上の中間層は、第２の異なる種類の誘電体材料で形成された少なくとも１つの層を含む、実施例５６又は実施例５７に記載の蒸気セルシステム。
実施例５９．
上記１又は２以上の中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
実施例５６又は実施例５７に記載の蒸気セルシステム。
実施例６０．
上記層は、上記スタック内で上記第１の種類の誘電体材料と上記第２の種類の誘電体材料との間で交互するように順序付けられる、実施例５９に記載の蒸気セルシステム。
実施例６１．
上記第２の種類の誘電体材料は、シリコンである、実施例５８又は実施例５９から実施例６０のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例６２．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例５６又は実施例５７から実施例６１のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例６３．
上記第１の機械的接合部は、上記本体の上記第１の外側部（又は場所）で上記１又は２以上の中間層から外向きに延びるタブの第１のセットを含み、
上記第２の機械的接合部は、上記本体の上記第２の外側部（又は場所）で上記１又は２以上の中間層から外向きに延びるタブの第２のセットを含む、
実施例５６又は実施例５７から実施例６２のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例６４．
上記第１のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第２のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例６３に記載の蒸気セルシステム。
実施例６５．
上記タブの第１及び第２のセットは、上記第１及び第２の外側部のそれぞれの中心と整列される、実施例６３又は実施例６４に記載の蒸気セルシステム。
実施例６６．
上記１又は２以上の中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第１のセットの各タブは、上記層の第１のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延び、
上記第２のセットの各タブは、上記層の第２のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例６３又は実施例６４から実施例６５のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例６７．
上記連結された蒸気セルの上記本体は、本体の正方形断面を定める４つの外側部を有し、上記４つの外側部は、上記第１及び第２の外側部を含む、実施例５６又は実施例５７から実施例６６のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例６８．
上記第１の外側部と上記第２の外側部とは、互いに隣接する、実施例６７に記載の蒸気セルシステム。
実施例６９．
上記第１の外側部と上記第２の外側部とは、互いに対向する、実施例６７に記載の蒸気セルシステム。
実施例７０．
上記４つの外側部は、第３及び第４の外側部を含み、
各連結された蒸気セルは、
上記本体の上記第３の外側部上にある第３の機械的接合部と、
上記本体の上記第４の外側部上にある第４の機械的接合部と、
を含む、
実施例６７又は実施例６８から実施例６９のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例７１．
上記第３の機械的接合部は、上記本体の上記第３の外側部で上記１又は２以上の中間層から外向きに延びるタブの第３のセットを含み、
上記第４の機械的接合部は、上記本体の上記第４の外側部で上記１又は２以上の中間層から外向きに延びるタブの第４のセットを含む、
実施例７０に記載の蒸気セルシステム。
実施例７２．
上記第３のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第４のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例７１に記載の蒸気セルシステム。
実施例７３．
上記タブの第３及び第４のセットは、上記第３及び第４の外側部のそれぞれの中心と整列される、実施例７１又は実施例７２に記載の蒸気セルシステム。
実施例７４．
上記１又は２以上の中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第３のセットの各タブは、上記層の第１のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延び、
上記第４のセットの各タブは、上記層の第２のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例７１又は実施例７２から実施例７３のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例７５．
上記第１の末端層は、
上記第１の末端層に隣接する上記内部キャビティの第１の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例５６又は実施例５７から実施例７４のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例７６．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例７５に記載の蒸気セルシステム。
実施例７７．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例７５又は実施例７６に記載の蒸気セルシステム。
実施例７８．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例７５又は実施例７６から実施例７７のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例７９．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例７５又は実施例７６から実施例７８のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例８０．
上記第２の末端層は、
上記第２の末端層に隣接する上記内部キャビティの第２の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例５６又は実施例５７から実施例７９のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例８１．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例８０に記載の蒸気セルシステム。
実施例８２．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例８０又は実施例８１に記載の蒸気セルシステム。
実施例８３．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例８０又は実施例８１から実施例８２のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例８４．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例８０又は実施例８１から実施例８３のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例８５．
上記１又は２以上の中間層は、上記内部キャビティと当該中間層の外周部との間に複数の孔を有する少なくとも１つの層を含む、実施例５６又は実施例５７から実施例８４のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例８６．
上記複数の孔は、上記中間層を通って延びる、実施例８５に記載の蒸気セルシステム。
実施例８７．
各連結された蒸気セルは、それぞれのターゲット放射線を検出するように構成され、
連結された蒸気セルに付属の上記複数の孔は各々、上記連結された蒸気セルの上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例８５又は実施例８６に記載の蒸気セルシステム。
実施例８８．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例８７に記載の蒸気セルシステム。
実施例８９．
上記層のスタック内の少なくとも１つのペアの隣接層間の接合部が、接着層を含む、実施例５６又は実施例５７から実施例８８のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
実施例９０．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例８９に記載の蒸気セルシステム。
実施例９１．
各中間層は、当該中間層を通る上記内部キャビティの一部分を定める貫通孔を含み、
少なくとも２つの隣接する中間層が、形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの貫通孔を有する、
実施例５６又は実施例５７から実施例９０のうちの何れか１つに記載の蒸気セルシステム。
【0066】
記載される内容の幾つかの態様では、蒸気セルは、以下の例によって説明することができる。
実施例９２．
互いに結合された層のスタックによって定められた本体であって、上記層のスタックがキャビティのアレイを定め、上記キャビティのアレイが、上記層のスタックの中間層を通って延びるキャビティの第１のサブセットと、上記層のスタックを完全に貫通して延びるキャビティの第２のサブセットとを含む、本体と、
上記キャビティの第１のサブセットの各々に配置された蒸気又は蒸気の発生源と、
を備え、
上記層のスタックが、
上記本体の第１の端部にあり、光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、
上記本体の反対側の第２の端部にあり、誘電体材料で形成された第２の末端層と、
上記第１の末端層と上記第２の末端層との間に位置決めされて誘電体材料で形成された上記中間層と、
を含む、蒸気セル。
実施例９３．
上記キャビティのアレイは、第１及び第２の格子サイトを含む２次元格子によって定められたそれぞれの場所に存在し、
上記キャビティの第１のサブセットは、それぞれの第１の格子サイトを占有し、上記キャビティの第２のサブセットは、それぞれの第２の格子サイトを占有する、
実施例９２に記載の蒸気セル。
実施例９４．
上記第１の格子サイトの全てが、上記第１のサブセットのそれぞれのキャビティによって占有され、上記第２の格子サイトの全てが、上記第２のサブセットのそれぞれのキャビティによって占有される、実施例９３に記載の蒸気セル。
実施例９５．
上記２次元格子は正方形格子であり、上記第１の格子サイトと上記第２の格子サイトは、上記正方形格子の行及び列に沿って順番に交互する、実施例９３又は実施例９４に記載の蒸気セル。
実施例９６．
上記アレイのキャビティは、正方形格子のそれぞれの場所に存在し、上記キャビティの第１のサブセットと上記キャビティの第２のサブセットは、上記正方形格子の行及び列に沿って順番に交互する、実施例９２に記載の蒸気セル。
実施例９７．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記層のスタックによって形成された側壁によって囲まれ、上記側壁は、側壁の正方形断面を定める４つの外面を有し、
上記第２のサブセットの各キャビティは、正方形断面を有する、
実施例９２又は実施例９３から実施例９５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例９８．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例９２又は実施例９３から実施例９７のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例９９．
上記中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
実施例９２又は実施例９３から実施例９８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１００．
上記層は、上記スタック内で上記第１の種類の誘電体材料と上記第２の種類の誘電体材料との間で交互するように順序付けられる、実施例９９に記載の蒸気セル。
実施例１０１．
上記第２の種類の誘電体材料は、シリコンである、実施例９９又は実施例１００に記載の蒸気セル。
実施例１０２．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例９２又は実施例９３から実施例１０１のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１０３．
上記層のスタックは、
上記本体の外周部の第１の場所で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記本体の上記外周部の第２の場所で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例９２又は実施例９３から実施例１０２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１０４．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記層のスタックによって形成された側壁によって囲まれ、上記側壁は、上記本体の上記外周部の一部を定める角部を含み、
上記第１の場所は、上記本体の上記外周部の第１の角部であり、上記第２の場所は、上記本体の上記外周部の第２の異なる角部である、
実施例１０３に記載の蒸気セル。
実施例１０５．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記層のスタックによって形成された側壁によって囲まれ、上記側壁は、上記本体の上記外周部の一部を定める平坦面を含み、
上記第１の場所は、上記本体の上記外周部の第１の平坦面であり、上記第２の場所は、上記本体の上記外周部の第２の異なる平坦面である、
実施例１０３に記載の蒸気セル。
実施例１０６．
上記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、
上記タブの第１のセットは、第２の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第２の例証）と連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
上記タブの第２のセットは、第３の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第３の例証）と連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
実施例１０３又は実施例１０４から実施例１０５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１０７．
上記第１のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第２のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例１０３又は実施例１０４から実施例１０６のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１０８．
上記中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第１のセットの各タブは、上記層の第１のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延び、
上記第２のセットの各タブは、上記層の第２のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例１０３又は実施例１０４から実施例１０７のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１０９．
実施例１０３又は実施例１０４から実施例１０８のうちの何れか１つに記載の蒸気セルに各々が対応する複数の蒸気セルであって、各蒸気セルの上記タブの第１及び第２のセットが、第１の蒸気セルの上記タブの第２のセット及び第２の異なる蒸気セルの上記タブの第１のセットとそれぞれ連結される複数の蒸気セル。
実施例１１０．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記第１の末端層に隣接する第１の開口部を有し、
上記第１の末端層は、
上記キャビティの第１のサブセットの上記第１の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例９２又は実施例９３から実施例１０９のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１１１．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１１０に記載の蒸気セル。
実施例１１２．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１１０又は実施例１１１に記載の蒸気セル。
実施例１１３．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１１０又は実施例１１１から実施例１１２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１１４．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１１０又は実施例１１１から実施例１１３のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１１５．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記第２の末端層に隣接する第２の開口部を有し、
上記第２の末端層は、
上記キャビティの第１のサブセットの上記第２の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例９２又は実施例９３から実施例１１２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１１６．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１１５に記載の蒸気セル。
実施例１１７．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１１５又は実施例１１６に記載の蒸気セル。
実施例１１８．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１１５又は実施例１１６から実施例１１７のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１１９．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１１５又は実施例１１６から実施例１１８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１２０．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記層のスタックによって形成された側壁によって囲まれ、上記側壁は、当該キャビティを囲む単位セル外周部の少なくとも一部を定める１又は２以上の外面を有し、
上記第１のサブセットの１又は２以上のキャビティに関して、少なくとも１つの上記中間層が、上記１又は２以上のキャビティと上記キャビティのそれぞれの単位セル外周部との間に複数の孔を含む、
実施例９２又は実施例９３から実施例１１９のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１２１．
上記複数の孔は、上記少なくとも１つの中間層を通って延びる、実施例１２０に記載の蒸気セル。
実施例１２２．
上記蒸気セルは、ターゲット放射線を検出するように構成され、
上記複数の孔の各々は、上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例１２０又は実施例１２１に記載の蒸気セル。
実施例１２３．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例１２２に記載の蒸気セル。
実施例１２４．
上記層のスタック内の少なくとも１つのペアの隣接層間の接合部が、接着層を含む、実施例９２又は実施例９３から実施例１２３のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１２５．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例１２４に記載の蒸気セル。
実施例１２６．
各中間層は、当該中間層を通る上記第１のサブセットのキャビティの一部分を定める貫通孔を含み、
少なくとも２つの隣接する中間層が、上記第１のサブセットの上記キャビティに対して形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの貫通孔を有する、
実施例９２又は実施例９３から実施例１２５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１２７．
各中間層は、当該中間層を通る上記第２のサブセットのキャビティの一部分を定める貫通孔を含み、
少なくとも２つの隣接する中間層が、上記第２のサブセットの上記キャビティに対して形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの貫通孔を有する、
実施例９２又は実施例９３から実施例１２６のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例９２．
互いに結合された層のスタックによって定められた本体であって、上記層のスタックがキャビティのアレイを定め、上記キャビティのアレイが、上記層のスタックの中間層を通って延びるキャビティの第１のサブセットと、上記層のスタックを完全に貫通して延びるキャビティの第２のサブセットとを含む、本体と、
上記キャビティの第１のサブセットの各々に配置された蒸気又は蒸気の発生源と、
を備え、
上記層のスタックが、
上記本体の第１の端部にあり、光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、
上記本体の反対側の第２の端部にあり、誘電体材料で形成された第２の末端層と、
上記第１の末端層と上記第２の末端層との間に位置決めされて誘電体材料で形成された上記中間層と、
を含む、蒸気セル。
実施例９３．
上記キャビティのアレイは、第１及び第２の格子サイトを含む２次元格子によって定められたそれぞれの場所に存在し、
上記キャビティの第１のサブセットは、それぞれの第１の格子サイトを占有し、上記キャビティの第２のサブセットは、それぞれの第２の格子サイトを占有する、
実施例９２に記載の蒸気セル。
実施例９４．
上記第１の格子サイトの全てが、上記第１のサブセットのそれぞれのキャビティによって占有され、上記第２の格子サイトの全てが、上記第２のサブセットのそれぞれのキャビティによって占有される、実施例９３に記載の蒸気セル。
実施例９５．
上記２次元格子は正方形格子であり、上記第１の格子サイトと上記第２の格子サイトは、上記正方形格子の行及び列に沿って順番に交互する、実施例９３又は実施例９４に記載の蒸気セル。
実施例９６．
上記アレイのキャビティは、正方形格子のそれぞれの場所に存在し、上記キャビティの第１のサブセットと上記キャビティの第２のサブセットは、上記正方形格子の行及び列に沿って順番に交互する、実施例９２に記載の蒸気セル。
実施例９７．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記層のスタックによって形成された側壁によって囲まれ、上記側壁は、側壁の正方形断面を定める４つの外面を有し、
上記第２のサブセットの各キャビティは、正方形断面を有する、
実施例９２又は実施例９３から実施例９５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例９８．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例９２又は実施例９３から実施例９７のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例９９．
上記中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
実施例９２又は実施例９３から実施例９８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１００．
上記層は、上記スタック内で上記第１の種類の誘電体材料と上記第２の種類の誘電体材料との間で交互するように順序付けられる、実施例９９に記載の蒸気セル。
実施例１０１．
上記第２の種類の誘電体材料は、シリコンである、実施例９９又は実施例１００に記載の蒸気セル。
実施例１０２．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例９２又は実施例９３から実施例１０１のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１０３．
上記層のスタックは、
上記本体の外周部の第１の場所で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記本体の上記外周部の第２の場所で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例９２又は実施例９３から実施例１０２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１０４．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記層のスタックによって形成された側壁によって囲まれ、上記側壁は、上記本体の上記外周部の一部を定める角部を含み、
上記第１の場所は、上記本体の上記外周部の第１の角部であり、上記第２の場所は、上記本体の上記外周部の第２の異なる角部である、
実施例１０３に記載の蒸気セル。
実施例１０５．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記層のスタックによって形成された側壁によって囲まれ、上記側壁は、上記本体の上記外周部の一部を定める平坦面を含み、
上記第１の場所は、上記本体の上記外周部の第１の平坦面であり、上記第２の場所は、上記本体の上記外周部の第２の異なる平坦面である、
実施例１０３に記載の蒸気セル。
実施例１０６．
上記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、
上記タブの第１のセットは、第２の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第２の例証）と連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
上記タブの第２のセットは、第３の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第３の例証）と連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
実施例１０３又は実施例１０４から実施例１０５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１０７．
上記第１のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第２のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例１０３又は実施例１０４から実施例１０６のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１０８．
上記中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第１のセットの各タブは、上記層の第１のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延び、
上記第２のセットの各タブは、上記層の第２のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例１０３又は実施例１０４から実施例１０７のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１０９．
実施例１０３又は実施例１０４から実施例１０８のうちの何れか１つに記載の蒸気セルに各々が対応する複数の蒸気セルであって、各蒸気セルの上記タブの第１及び第２のセットが、第１の蒸気セルの上記タブの第２のセット及び第２の異なる蒸気セルの上記タブの第１のセットとそれぞれ連結される複数の蒸気セル。
実施例１１０．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記第１の末端層に隣接する第１の開口部を有し、
上記第１の末端層は、
上記キャビティの第１のサブセットの上記第１の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例９２又は実施例９３から実施例１０９のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１１１．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１１０に記載の蒸気セル。
実施例１１２．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１１０又は実施例１１１に記載の蒸気セル。
実施例１１３．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１１０又は実施例１１１から実施例１１２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１１４．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１１０又は実施例１１１から実施例１１３のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１１５．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記第２の末端層に隣接する第２の開口部を有し、
上記第２の末端層は、
上記キャビティの第１のサブセットの上記第２の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例９２又は実施例９３から実施例１１２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１１６．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１１５に記載の蒸気セル。
実施例１１７．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１１５又は実施例１１６に記載の蒸気セル。
実施例１１８．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１１５又は実施例１１６から実施例１１７のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１１９．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１１５又は実施例１１６から実施例１１８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１２０．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記層のスタックによって形成された側壁によって囲まれ、上記側壁は、当該キャビティを囲む単位セル外周部の少なくとも一部を定める１又は２以上の外面を有し、
上記第１のサブセットの１又は２以上のキャビティに関して、少なくとも１つの上記中間層が、上記１又は２以上のキャビティと上記キャビティのそれぞれの単位セル外周部との間に複数の孔を含む、
実施例９２又は実施例９３から実施例１１９のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１２１．
上記複数の孔は、上記少なくとも１つの中間層を通って延びる、実施例１２０に記載の蒸気セル。
実施例１２２．
上記蒸気セルは、ターゲット放射線を検出するように構成され、
上記複数の孔の各々は、上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例１２０又は実施例１２１に記載の蒸気セル。
実施例１２３．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例１２２に記載の蒸気セル。
実施例１２４．
上記層のスタック内の少なくとも１つのペアの隣接層間の接合部が、接着層を含む、実施例９２又は実施例９３から実施例１２３のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１２５．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例１２４に記載の蒸気セル。
実施例１２６．
各中間層は、当該中間層を通る上記第１のサブセットのキャビティの一部分を定める貫通孔を含み、
少なくとも２つの隣接する中間層が、上記第１のサブセットの上記キャビティに対して形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの貫通孔を有する、
実施例９２又は実施例９３から実施例１２５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１２７．
各中間層は、当該中間層を通る上記第２のサブセットのキャビティの一部分を定める貫通孔を含み、
少なくとも２つの隣接する中間層が、上記第２のサブセットの上記キャビティに対して形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの貫通孔を有する、
実施例９２又は実施例９３から実施例１２６のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
【0067】
記載される内容の幾つかの態様では、蒸気セルを製造する方法は、以下の例によって説明することができる。
実施例１２８．
蒸気セルを製造する方法であって、
互いに結合された且つキャビティのアレイを定める層のスタックを得るステップを含み、
上記キャビティのアレイが、上記層のスタックの中間層を通って延びるキャビティの第１のサブセットと、上記層のスタックを完全に貫通して延びるキャビティの第２のサブセットとを含み、
上記層のスタックが、
光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、
誘電体材料で形成され、先頭の中間層から最後尾の中間層まで順番に延びる上記中間層であって、上記先頭の中間層が上記第１の末端層に結合され、上記キャビティの第１のサブセットの各々が上記最後尾の中間層の表面によって定められた開口部を含む、中間層と、
を含み、
上記方法が更に、
蒸気又は蒸気の発生源を上記キャビティの第１のサブセットの各々に配置するステップと、
上記層のスタックの第２の末端層を、上記最後尾の中間層に結合して上記蒸気又は蒸気の発生源を上記キャビティの第１のサブセット内に密封するステップであって、上記第２の末端層が誘電体材料で形成される、ステップと、
を含み、
上記第２のサブセットの各キャビティは、上記第２の末端層を通って延び、
上記層のスタックは、結合された上記第２の末端層を含む時に、上記蒸気セルの本体と、上記本体の第１の端部にある上記第１の末端層と、上記本体の反対側の第２の端部にある上記第２の末端層とを定める、
蒸気セルを製造する方法。
実施例１２９．
上記第２の末端層を結合するステップが、上記キャビティの第１のサブセットの各開口部を上記第２の末端層で覆って上記蒸気又は蒸気の発生源を上記キャビティの第１のサブセットに封入するステップを含む、実施例１２８に記載の方法。
実施例１３０．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例１２８又は実施例１２９に記載の方法。
実施例１３１．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例１２８又は実施例１２９から実施例１３０のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１３２．
上記層のスタックを得るステップが、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して、上記第１の末端層、上記第２の末端層（実施例１３０と組み合わせた時）、又はその両方を製作するステップと、
誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して、上記中間層を製作するステップと、
を含む、
実施例１２８又は実施例１２９から実施例１３１のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１３３．
上記中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
実施例１２８又は実施例１２９から実施例１３１のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１３４．
上記層のスタックを得るステップが、
上記層の第１のサブセットの層と上記層の第２のサブセットの層とを互いに交互に結合して上記中間層を形成するステップと、
上記先頭の中間層を上記第１の末端層に結合するステップと、
を含む、
実施例１３３に記載の方法。
実施例１３５．
上記層のスタックを得るステップが、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して、上記第１の末端層、上記層の第１のサブセットのうちの１又は２以上、上記第２の末端層（実施例１３０と組み合わせた時）、又はこれらの何れかの組み合わせを製作するステップと、
上記第２の種類の誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して、上記層の第２のサブセットのうちの１又は２以上を製作するステップと、
を含む、
実施例１３３又は実施例１３４に記載の方法。
実施例１３６．
上記第２の種類の誘電体材料がシリコンである、実施例１３３又は実施例１３４から実施例１３５のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１３７．
上記第２の末端層を結合するステップが、
第１の複数のヒドロキシル配位子を含むように上記最後尾の中間層の上記表面を変質させるステップと、
第２の複数のヒドロキシル配位子を含むように上記第２の末端層の表面を変質させるステップと、
上記変質させた表面を接触させて、上記２つの上記変質させた表面の接触中に上記第１の複数のヒドロキシル配位子を上記第２の複数のヒドロキシル配位子と反応させることによって形成される金属－酸素結合部によって定められた密封部を上記キャビティの第１のサブセットの各開口部の周囲に形成するステップと、
を含む、
実施例１２８又は実施例１２９から実施例１３６のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１３８．
上記第２の末端層を結合するステップが、
上記最後尾の中間層及び上記第２の末端層の上記表面のうちの片方又は両方を、上記層のそれぞれの表面をプラズマに暴露することによって活性化するステップを含む、
実施例１３７に記載の方法。
実施例１３９．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記層のスタックによって形成された側壁によって囲まれ、上記側壁は、当該キャビティを囲む単位セル外周部の少なくとも一部を定める１又は２以上の外面を有し、
上記第１のサブセットの１又は２以上のキャビティに関して、少なくとも１つの上記中間層が、上記１又は２以上のキャビティと、上記キャビティのそれぞれの単位セル外周部との間に複数の孔を含む、
実施例１２８又は実施例１２９から実施例１３８のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１４０．
上記複数の孔は、上記少なくとも１つの中間層を通って延びる、実施例１３９に記載の方法。
実施例１４１．
上記蒸気セルは、製造時に、ターゲット放射線を検出するように構成され、
上記複数の孔の各々は、上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例１３９又は実施例１４０に記載の方法。
実施例１４２．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例１４１に記載の方法。
実施例１４３．
上記層のスタックを得るステップが、
中間層の片側又は両側に接着層を形成して上記中間層のそれぞれの結合面を定めるステップを含む、
実施例１２８又は実施例１２９から実施例１４２のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１４４．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例１４３に記載の方法。
実施例１４５．
上記層のスタックは、
上記層のスタック（又は上記蒸気セルの本体）の外周部の第１の場所で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記層のスタック（又は上記蒸気セルの本体）の上記外周部の第２の場所で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例１２８又は実施例１２９から実施例１４４のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１４６．
上記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、
上記タブの第１のセットは、第２の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第２の例証）と連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
上記タブの第２のセットは、第３の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第３の例証）と連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
実施例１４５に記載の方法。
実施例１２８．
蒸気セルを製造する方法であって、
互いに結合された且つキャビティのアレイを定める層のスタックを得るステップを含み、
上記キャビティのアレイが、上記層のスタックの中間層を通って延びるキャビティの第１のサブセットと、上記層のスタックを完全に貫通して延びるキャビティの第２のサブセットとを含み、
上記層のスタックが、
光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、
誘電体材料で形成され、先頭の中間層から最後尾の中間層まで順番に延びる上記中間層であって、上記先頭の中間層が上記第１の末端層に結合され、上記キャビティの第１のサブセットの各々が上記最後尾の中間層の表面によって定められた開口部を含む、中間層と、
を含み、
上記方法が更に、
蒸気又は蒸気の発生源を上記キャビティの第１のサブセットの各々に配置するステップと、
上記層のスタックの第２の末端層を、上記最後尾の中間層に結合して上記蒸気又は蒸気の発生源を上記キャビティの第１のサブセット内に密封するステップであって、上記第２の末端層が誘電体材料で形成される、ステップと、
を含み、
上記第２のサブセットの各キャビティは、上記第２の末端層を通って延び、
上記層のスタックは、結合された上記第２の末端層を含む時に、上記蒸気セルの本体と、上記本体の第１の端部にある上記第１の末端層と、上記本体の反対側の第２の端部にある上記第２の末端層とを定める、
蒸気セルを製造する方法。
実施例１２９．
上記第２の末端層を結合するステップが、上記キャビティの第１のサブセットの各開口部を上記第２の末端層で覆って上記蒸気又は蒸気の発生源を上記キャビティの第１のサブセットに封入するステップを含む、実施例１２８に記載の方法。
実施例１３０．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例１２８又は実施例１２９に記載の方法。
実施例１３１．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例１２８又は実施例１２９から実施例１３０のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１３２．
上記層のスタックを得るステップが、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して、上記第１の末端層、上記第２の末端層（実施例１３０と組み合わせた時）、又はその両方を製作するステップと、
誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して、上記中間層を製作するステップと、
を含む、
実施例１２８又は実施例１２９から実施例１３１のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１３３．
上記中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
実施例１２８又は実施例１２９から実施例１３１のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１３４．
上記層のスタックを得るステップが、
上記層の第１のサブセットの層と上記層の第２のサブセットの層とを互いに交互に結合して上記中間層を形成するステップと、
上記先頭の中間層を上記第１の末端層に結合するステップと、
を含む、
実施例１３３に記載の方法。
実施例１３５．
上記層のスタックを得るステップが、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して、上記第１の末端層、上記層の第１のサブセットのうちの１又は２以上、上記第２の末端層（実施例１３０と組み合わせた時）、又はこれらの何れかの組み合わせを製作するステップと、
上記第２の種類の誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して、上記層の第２のサブセットのうちの１又は２以上を製作するステップと、
を含む、
実施例１３３又は実施例１３４に記載の方法。
実施例１３６．
上記第２の種類の誘電体材料がシリコンである、実施例１３３又は実施例１３４から実施例１３５のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１３７．
上記第２の末端層を結合するステップが、
第１の複数のヒドロキシル配位子を含むように上記最後尾の中間層の上記表面を変質させるステップと、
第２の複数のヒドロキシル配位子を含むように上記第２の末端層の表面を変質させるステップと、
上記変質させた表面を接触させて、上記２つの上記変質させた表面の接触中に上記第１の複数のヒドロキシル配位子を上記第２の複数のヒドロキシル配位子と反応させることによって形成される金属－酸素結合部によって定められた密封部を上記キャビティの第１のサブセットの各開口部の周囲に形成するステップと、
を含む、
実施例１２８又は実施例１２９から実施例１３６のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１３８．
上記第２の末端層を結合するステップが、
上記最後尾の中間層及び上記第２の末端層の上記表面のうちの片方又は両方を、上記層のそれぞれの表面をプラズマに暴露することによって活性化するステップを含む、
実施例１３７に記載の方法。
実施例１３９．
上記第１のサブセットの各キャビティは、上記層のスタックによって形成された側壁によって囲まれ、上記側壁は、当該キャビティを囲む単位セル外周部の少なくとも一部を定める１又は２以上の外面を有し、
上記第１のサブセットの１又は２以上のキャビティに関して、少なくとも１つの上記中間層が、上記１又は２以上のキャビティと、上記キャビティのそれぞれの単位セル外周部との間に複数の孔を含む、
実施例１２８又は実施例１２９から実施例１３８のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１４０．
上記複数の孔は、上記少なくとも１つの中間層を通って延びる、実施例１３９に記載の方法。
実施例１４１．
上記蒸気セルは、製造時に、ターゲット放射線を検出するように構成され、
上記複数の孔の各々は、上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例１３９又は実施例１４０に記載の方法。
実施例１４２．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例１４１に記載の方法。
実施例１４３．
上記層のスタックを得るステップが、
中間層の片側又は両側に接着層を形成して上記中間層のそれぞれの結合面を定めるステップを含む、
実施例１２８又は実施例１２９から実施例１４２のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１４４．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例１４３に記載の方法。
実施例１４５．
上記層のスタックは、
上記層のスタック（又は上記蒸気セルの本体）の外周部の第１の場所で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記層のスタック（又は上記蒸気セルの本体）の上記外周部の第２の場所で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例１２８又は実施例１２９から実施例１４４のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１４６．
上記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、
上記タブの第１のセットは、第２の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第２の例証）と連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
上記タブの第２のセットは、第３の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第３の例証）と連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
実施例１４５に記載の方法。
【0068】
記載される内容の幾つかの態様では、蒸気セルを以下の例によって説明することができる。
実施例１４７．
蒸気セルであって、
互いに結合された層のスタックによって定められた本体であって、上記層のスタックが、上記本体の第１の端部にあり、光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、上記本体の反対側の第２の端部にあり、誘電体材料で形成された第２の末端層と、上記第１の末端層と上記第２の末端層との間にあり、誘電体材料で形成された中間層であって、上記第１の末端層と上記第２の末端層との間で上記本体を通って延びる内部キャビティを定め、上記各中間層が、当該中間層を通る上記内部キャビティの一部分を定める貫通孔を含む、中間層と、を含む本体と、
上記内部キャビティに配置された蒸気又は蒸気の発生源と、
を備える蒸気セル。
実施例１４８．
各貫通孔は、形状及びサイズが等しい、実施例１４７に記載の蒸気セル。
実施例１４９．
少なくとも２つの隣接する中間層が、形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの貫通孔を有する、実施例１４７に記載の蒸気セル。
実施例１５０．
上記貫通孔は円形であり、上記層のスタックに対して垂直な方向に沿って整列され、
上記貫通孔は、サイズが変化して上記内部キャビティに対して球体ボリュームを定める、
実施例１４７に記載の蒸気セル。
実施例１５１．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例１４７又は実施例１４８から実施例１５０のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１５２．
上記中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
実施例１４７又は実施例１４８から実施例１５１のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１５３．
上記層は、上記スタック内で上記第１の種類の誘電体材料と上記第２の種類の誘電体材料との間で交互するように順序付けられる、実施例１５２に記載の蒸気セル。
実施例１５４．
上記第２の種類の誘電体材料は、シリコンである、実施例１５２又は実施例１５３に記載の蒸気セル。
実施例１５５．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例１４７又は実施例１４８から実施例１５４のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１５６．
上記層のスタックは、
上記本体の第１の外側部（又は場所）で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記本体の第２の外側部（又は場所）で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例１４７又は実施例１４８から実施例１５５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１５７．
上記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、
上記タブの第１のセットは、第２の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第２の例証）と連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
上記タブの第２のセットは、第３の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第３の例証）と連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
実施例１５６に記載の蒸気セル。
実施例１５８．
上記第１のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第２のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例１５６又は実施例１５７に記載の蒸気セル。
実施例１５９．
上記タブの第１及び第２のセットは、上記第１及び第２の外側部のそれぞれの中心と整列される、実施例１５６又は実施例１５７から実施例１５８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１６０．
上記中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第１のセットの各タブは、上記層の第１のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延び、
上記第２のセットの各タブは、上記層の第２のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例１５６又は実施例１５７から実施例１５９のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１６１．
実施例１５６又は実施例１５７から実施例１６０のうちの何れか１つに記載の蒸気セルに各々が対応する複数の蒸気セルであって、上記各蒸気セルのタブの第１及び第２のセットが、第１の蒸気セルの上記タブの第２のセット及び第２の異なる蒸気セルの上記タブの第１のセットとそれぞれ連結される、複数の蒸気セル。
実施例１６２．
上記本体は、その正方形断面を定めて第１及び第２の外側部を含む４つの外側部を有し、
上記層のスタックは、
上記本体の上記第１の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記本体の上記第２の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例１４７又は実施例１４８から実施例１６１のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１６３．
上記第１の外側部と上記第２の外側部とは、互いに隣接する、実施例１６２に記載の蒸気セル。
実施例１６４．
上記第１の外側部と上記第２の外側部とは、互いに対向する、実施例１６２に記載の蒸気セル。
実施例１６５．
上記４つの外側部は、第３及び第４の外側部を含み、
上記層のスタックは、
上記本体の上記第３の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第３のセットと、
上記本体の上記第４の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第４のセットと、
を含む、
実施例１６２又は実施例１６３から実施例１６４のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１６６．
上記第３のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第４のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例１６５に記載の蒸気セル。
実施例１６７．
上記タブの第１、第２、第３、及び第４のセットは、上記第１、第２、第３、及び第４の外側部のそれぞれの中心と整列される、実施例１６５又は実施例１６６に記載の蒸気セル。
実施例１６８．
上記中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第１及び第３のセットの各タブは、上記層の第１のサブセット内のそれぞれの層から外向きに延び、
上記第２及び第４のセットの各タブは、上記層の第２のサブセット内のそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例１６５又は実施例１６６から実施例１６７のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１６９．
上記第１の末端層は、
上記第１の末端層に隣接する上記内部キャビティの第１の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例１４７又は実施例１４８から実施例１６８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７０．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１６９に記載の蒸気セル。
実施例１７１．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１６９又は実施例１７０に記載の蒸気セル。
実施例１７２．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１６９又は実施例１７０から実施例１７１のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７３．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１６９又は実施例１７０から実施例１７２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７４．
上記第２の末端層は、
上記第２の末端層に隣接する上記内部キャビティの第２の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例１４７又は実施例１４８から実施例１７３のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７５．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１７４に記載の蒸気セル。
実施例１７６．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１７４又は実施例１７５に記載の蒸気セル。
実施例１７７．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１７４又は実施例１７５から実施例１７６のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７８．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１７４又は実施例１７５から実施例１７７のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７９．
上記中間層のうちの少なくとも１つは、上記内部キャビティと当該中間層の外周部との間に複数の孔を含む、実施例１４７又は実施例１４８から実施例１７８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１８０．
上記複数の孔は、上記中間層を通って延びる、実施例１７９に記載の蒸気セル。
実施例１８１．
上記蒸気セルは、ターゲット放射線を検出するように構成され、
上記複数の孔の各々は、上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例１７９又は実施例１８０に記載の蒸気セル。
実施例１８２．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例１８１に記載の蒸気セル。
実施例１８３．
上記層のスタック内の少なくとも１つのペアの隣接層間の接合部が、接着層を含む、実施例１４７又は実施例１４８から実施例１８２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１８４．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例１８３に記載の蒸気セル。
実施例１８５．
上記本体は外形を含み、
上記層のスタック内の各層は、上記層の場所に外形の断面を定める外周面を含む、
実施例１４７又は実施例１４８から実施例１８４のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１８６．
上記外形の断面は、上記層のスタックに沿って一定である、実施例１８５に記載の蒸気セル。
実施例１８７．
少なくとも２つの隣接する中間層が、形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの外周面を有する、実施例１８５に記載の蒸気セル。
実施例１８８．
上記断面は、形状が円形であり且つサイズが上記層のスタックに沿って変化して上記本体に対して球体外形を定める、実施例１８５に記載の（但し、実施例１６２～実施例１６８に記載の特徴を除く）蒸気セル。
実施例１４７．
蒸気セルであって、
互いに結合された層のスタックによって定められた本体であって、上記層のスタックが、上記本体の第１の端部にあり、光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、上記本体の反対側の第２の端部にあり、誘電体材料で形成された第２の末端層と、上記第１の末端層と上記第２の末端層との間にあり、誘電体材料で形成された中間層であって、上記第１の末端層と上記第２の末端層との間で上記本体を通って延びる内部キャビティを定め、上記各中間層が、当該中間層を通る上記内部キャビティの一部分を定める貫通孔を含む、中間層と、を含む本体と、
上記内部キャビティに配置された蒸気又は蒸気の発生源と、
を備える蒸気セル。
実施例１４８．
各貫通孔は、形状及びサイズが等しい、実施例１４７に記載の蒸気セル。
実施例１４９．
少なくとも２つの隣接する中間層が、形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの貫通孔を有する、実施例１４７に記載の蒸気セル。
実施例１５０．
上記貫通孔は円形であり、上記層のスタックに対して垂直な方向に沿って整列され、
上記貫通孔は、サイズが変化して上記内部キャビティに対して球体ボリュームを定める、
実施例１４７に記載の蒸気セル。
実施例１５１．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例１４７又は実施例１４８から実施例１５０のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１５２．
上記中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
実施例１４７又は実施例１４８から実施例１５１のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１５３．
上記層は、上記スタック内で上記第１の種類の誘電体材料と上記第２の種類の誘電体材料との間で交互するように順序付けられる、実施例１５２に記載の蒸気セル。
実施例１５４．
上記第２の種類の誘電体材料は、シリコンである、実施例１５２又は実施例１５３に記載の蒸気セル。
実施例１５５．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例１４７又は実施例１４８から実施例１５４のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１５６．
上記層のスタックは、
上記本体の第１の外側部（又は場所）で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記本体の第２の外側部（又は場所）で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例１４７又は実施例１４８から実施例１５５のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１５７．
上記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、
上記タブの第１のセットは、第２の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第２の例証）と連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
上記タブの第２のセットは、第３の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第３の例証）と連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
実施例１５６に記載の蒸気セル。
実施例１５８．
上記第１のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第２のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例１５６又は実施例１５７に記載の蒸気セル。
実施例１５９．
上記タブの第１及び第２のセットは、上記第１及び第２の外側部のそれぞれの中心と整列される、実施例１５６又は実施例１５７から実施例１５８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１６０．
上記中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第１のセットの各タブは、上記層の第１のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延び、
上記第２のセットの各タブは、上記層の第２のサブセットにおけるそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例１５６又は実施例１５７から実施例１５９のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１６１．
実施例１５６又は実施例１５７から実施例１６０のうちの何れか１つに記載の蒸気セルに各々が対応する複数の蒸気セルであって、上記各蒸気セルのタブの第１及び第２のセットが、第１の蒸気セルの上記タブの第２のセット及び第２の異なる蒸気セルの上記タブの第１のセットとそれぞれ連結される、複数の蒸気セル。
実施例１６２．
上記本体は、その正方形断面を定めて第１及び第２の外側部を含む４つの外側部を有し、
上記層のスタックは、
上記本体の上記第１の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記本体の上記第２の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例１４７又は実施例１４８から実施例１６１のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１６３．
上記第１の外側部と上記第２の外側部とは、互いに隣接する、実施例１６２に記載の蒸気セル。
実施例１６４．
上記第１の外側部と上記第２の外側部とは、互いに対向する、実施例１６２に記載の蒸気セル。
実施例１６５．
上記４つの外側部は、第３及び第４の外側部を含み、
上記層のスタックは、
上記本体の上記第３の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第３のセットと、
上記本体の上記第４の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第４のセットと、
を含む、
実施例１６２又は実施例１６３から実施例１６４のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１６６．
上記第３のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分であり、
上記第４のセットの各タブは、上記タブがそこから延びる上記中間層の一体部分である、
実施例１６５に記載の蒸気セル。
実施例１６７．
上記タブの第１、第２、第３、及び第４のセットは、上記第１、第２、第３、及び第４の外側部のそれぞれの中心と整列される、実施例１６５又は実施例１６６に記載の蒸気セル。
実施例１６８．
上記中間層は、上記層のスタックに沿って順番に交互する層の第１のサブセットと層の第２のサブセットとを含み、
上記第１及び第３のセットの各タブは、上記層の第１のサブセット内のそれぞれの層から外向きに延び、
上記第２及び第４のセットの各タブは、上記層の第２のサブセット内のそれぞれの層から外向きに延びる、
実施例１６５又は実施例１６６から実施例１６７のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１６９．
上記第１の末端層は、
上記第１の末端層に隣接する上記内部キャビティの第１の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例１４７又は実施例１４８から実施例１６８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７０．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１６９に記載の蒸気セル。
実施例１７１．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１６９又は実施例１７０に記載の蒸気セル。
実施例１７２．
上記第１の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１６９又は実施例１７０から実施例１７１のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７３．
上記第１の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１６９又は実施例１７０から実施例１７２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７４．
上記第２の末端層は、
上記第２の末端層に隣接する上記内部キャビティの第２の開口部を覆う内面と、
上記内面の反対にある外面と、
を含み、
上記内面及び上記外面のうちの片方又は両方が、その上に配置された光学コーティングを有する、
実施例１４７又は実施例１４８から実施例１７３のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７５．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１７４に記載の蒸気セル。
実施例１７６．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射コーティングを含む、実施例１７４又は実施例１７５に記載の蒸気セル。
実施例１７７．
上記第２の末端層の上記内面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１７４又は実施例１７５から実施例１７６のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７８．
上記第２の末端層の上記外面は、その上に配置された反射防止コーティングを含む、実施例１７４又は実施例１７５から実施例１７７のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１７９．
上記中間層のうちの少なくとも１つは、上記内部キャビティと当該中間層の外周部との間に複数の孔を含む、実施例１４７又は実施例１４８から実施例１７８のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１８０．
上記複数の孔は、上記中間層を通って延びる、実施例１７９に記載の蒸気セル。
実施例１８１．
上記蒸気セルは、ターゲット放射線を検出するように構成され、
上記複数の孔の各々は、上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例１７９又は実施例１８０に記載の蒸気セル。
実施例１８２．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例１８１に記載の蒸気セル。
実施例１８３．
上記層のスタック内の少なくとも１つのペアの隣接層間の接合部が、接着層を含む、実施例１４７又は実施例１４８から実施例１８２のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１８４．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例１８３に記載の蒸気セル。
実施例１８５．
上記本体は外形を含み、
上記層のスタック内の各層は、上記層の場所に外形の断面を定める外周面を含む、
実施例１４７又は実施例１４８から実施例１８４のうちの何れか１つに記載の蒸気セル。
実施例１８６．
上記外形の断面は、上記層のスタックに沿って一定である、実施例１８５に記載の蒸気セル。
実施例１８７．
少なくとも２つの隣接する中間層が、形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの外周面を有する、実施例１８５に記載の蒸気セル。
実施例１８８．
上記断面は、形状が円形であり且つサイズが上記層のスタックに沿って変化して上記本体に対して球体外形を定める、実施例１８５に記載の（但し、実施例１６２～実施例１６８に記載の特徴を除く）蒸気セル。
【0069】
記載される内容の幾つかの態様では、蒸気セルを製造する方法は、以下の例によって説明することができる。
実施例１８９．
蒸気セルを製造する方法であって、
互いに結合された層のスタックを得るステップを含み、
上記層のスタックが、
光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、
誘電体材料で形成され、先頭の中間層から最後尾の中間層まで順番に延びる中間層であって、上記先頭の中間層が上記第１の末端層に結合され、上記中間層を通って内部キャビティが延び、上記内部キャビティが上記最後尾の中間層の表面によって定められた開口部を含み、各中間層が、当該中間層を通る上記内部キャビティの一部分を定める貫通孔を含む、中間層と、
を含み、
上記方法が更に、
蒸気又は蒸気の発生源を上記内部キャビティに配置するステップと、
上記層のスタックの第２の末端層を上記最後尾の中間層に結合して、上記蒸気又は蒸気の発生源を上記キャビティの第１のサブセット内に密封するステップであって、上記第２の末端層が誘電体材料で形成される、ステップと、
を含み、
上記層のスタックは、結合された上記第２の末端層を含む時に、上記蒸気セルの本体と、上記本体の第１の端部にある上記第１の末端層と、上記本体の反対側の第２の端部にある上記第２の末端層とを定める、
蒸気セルを製造する方法。
実施例１９０．
各貫通孔は、形状及びサイズが等しい、実施例１８９に記載の方法。
実施例１９１．
少なくとも２つの隣接する中間層が、形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの貫通孔を有する、実施例１８９に記載の方法。
実施例１９２．
上記貫通孔は円形であり、上記層のスタックに対して垂直な方向に沿って整列され、
上記貫通孔は、サイズが変化して上記内部キャビティに対して球体ボリュームを定める、
実施例１９１に記載の方法。
実施例１９３．
上記第２の末端層を結合するステップが、上記内部キャビティの開口部を上記第２の末端層で覆って上記蒸気又は蒸気の発生源を上記内部キャビティ内に封入するステップを含む、実施例１８９又は実施例１９０から実施例１９２のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１９４．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例１８９又は実施例１９０から実施例１９３のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１９５．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例１８９又は実施例１９０から実施例１９４のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１９６．
上記層のスタックを得るステップが、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して、上記第１の末端層、上記第２の末端層（実施例１９４と組み合わせた時）、又はその両方を製作するステップと、
誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して、上記中間層を製作するステップと、
を含む、
実施例１８９又は実施例１９０から実施例１９５のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１９７．
上記中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
実施例１８９又は実施例１９０から実施例１９５のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１９８．
上記層のスタックを得るステップが、
上記層の第１のサブセットの層と上記層の第２のサブセットの層とを互いに交互に結合して上記中間層を形成するステップと、
上記先頭の中間層を上記第１の末端層に結合するステップと、
を含む、
実施例１９７に記載の方法。
実施例１９９．
上記層のスタックを得るステップが、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して、上記第１の末端層、上記層の第１のサブセットのうちの１又は２以上、上記第２の末端層（実施例１９４と組み合わせた時）、又はその何れかの組み合わせを製作するステップと、
上記第２の種類の誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して、上記層の第２のサブセットのうちの１又は２以上を製作するステップと、
を含む、
実施例１９７又は実施例１９８に記載の方法。
実施例２００．
上記第２の種類の誘電体材料は、シリコンである、実施例１９７又は実施例１９８から実施例１９９のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例２０１．
上記第２の末端層を結合するステップが、
第１の複数のヒドロキシル配位子を含むように上記最後尾の中間層の上記表面を変質させるステップと、
第２の複数のヒドロキシル配位子を含むように上記第２の末端層の表面を変質させるステップと、
上記変質させた表面を接触させて、上記２つの上記変質させた表面の接触中に上記第１の複数のヒドロキシル配位子を上記第２の複数のヒドロキシル配位子と反応させることによって形成される金属－酸素結合部によって定められた密封部を上記内部キャビティの上記開口部の周囲に形成するステップと、
を含む、
実施例１８９又は実施例１９０から実施例２００のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例２０２．
上記第２の末端層を結合するステップが、
上記最後尾の中間層及び上記第２の末端層の上記表面のうちの片方又は両方を、上記層のそれぞれの表面をプラズマに暴露することによって活性化するステップ、
を含む、
実施例２０１に記載の方法。
実施例２０３．
上記中間層のうちの少なくとも１つは、上記内部キャビティと当該中間層の外周部との間に複数の孔を含む、実施例１８９又は実施例１９０から実施例２０２のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例２０４．
上記複数の孔は、上記中間層を通って延びる、実施例２０３に記載の方法。
実施例２０５．
上記蒸気セルは、製造時に、ターゲット放射線を検出するように構成され、
上記複数の孔の各々は、上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例２０３又は実施例２０４に記載の方法。
実施例２０６．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例２０５に記載の方法。
実施例２０７．
上記層のスタックを得るステップが、
中間層の片側又は両側に接着層を形成して上記中間層のそれぞれの結合面を定めるステップ、
を含む、
実施例１８９又は実施例１９０から実施例２０６のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例２０８．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例２０７に記載の方法。
実施例２０９．
上記層のスタックは、
上記層のスタック（又は上記蒸気セルの本体）の第１の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記層のスタック（又は上記蒸気セルの本体）の第２の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例１８９又は実施例１９０から実施例２０８のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例２１０．
上記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、
上記タブの第１のセットは、第２の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第２の例証）と連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
上記タブの第２のセットは、第３の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第３の例証）と連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
実施例２０９に記載の方法。
実施例２１１．
上記本体は外形を含み、
上記層のスタック内の各層は、当該層の場所に外形の断面を定める外周面を含む、
実施例１８９又は実施例１９０から実施例２１０のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例２１２．
上記外形の上記断面は、上記層のスタックに沿って一定である、実施例２１１に記載の方法。
実施例２１３．
少なくとも２つの隣接する中間層が、形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの外周面を有する、実施例２１１に記載の方法。
実施例２１４．
上記断面は、形状が円形であり且つサイズが上記層のスタックに沿って変化して上記本体に対して球体外形を定める、実施例２１１に記載の方法。
実施例１８９．
蒸気セルを製造する方法であって、
互いに結合された層のスタックを得るステップを含み、
上記層のスタックが、
光学的に透明な第１の種類の誘電体材料で形成された第１の末端層と、
誘電体材料で形成され、先頭の中間層から最後尾の中間層まで順番に延びる中間層であって、上記先頭の中間層が上記第１の末端層に結合され、上記中間層を通って内部キャビティが延び、上記内部キャビティが上記最後尾の中間層の表面によって定められた開口部を含み、各中間層が、当該中間層を通る上記内部キャビティの一部分を定める貫通孔を含む、中間層と、
を含み、
上記方法が更に、
蒸気又は蒸気の発生源を上記内部キャビティに配置するステップと、
上記層のスタックの第２の末端層を上記最後尾の中間層に結合して、上記蒸気又は蒸気の発生源を上記キャビティの第１のサブセット内に密封するステップであって、上記第２の末端層が誘電体材料で形成される、ステップと、
を含み、
上記層のスタックは、結合された上記第２の末端層を含む時に、上記蒸気セルの本体と、上記本体の第１の端部にある上記第１の末端層と、上記本体の反対側の第２の端部にある上記第２の末端層とを定める、
蒸気セルを製造する方法。
実施例１９０．
各貫通孔は、形状及びサイズが等しい、実施例１８９に記載の方法。
実施例１９１．
少なくとも２つの隣接する中間層が、形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの貫通孔を有する、実施例１８９に記載の方法。
実施例１９２．
上記貫通孔は円形であり、上記層のスタックに対して垂直な方向に沿って整列され、
上記貫通孔は、サイズが変化して上記内部キャビティに対して球体ボリュームを定める、
実施例１９１に記載の方法。
実施例１９３．
上記第２の末端層を結合するステップが、上記内部キャビティの開口部を上記第２の末端層で覆って上記蒸気又は蒸気の発生源を上記内部キャビティ内に封入するステップを含む、実施例１８９又は実施例１９０から実施例１９２のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１９４．
上記第２の末端層は、上記第１の種類の誘電体材料で形成される、実施例１８９又は実施例１９０から実施例１９３のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１９５．
上記第１の種類の誘電体材料は、シリコン酸化物を含む、実施例１８９又は実施例１９０から実施例１９４のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１９６．
上記層のスタックを得るステップが、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して、上記第１の末端層、上記第２の末端層（実施例１９４と組み合わせた時）、又はその両方を製作するステップと、
誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して、上記中間層を製作するステップと、
を含む、
実施例１８９又は実施例１９０から実施例１９５のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１９７．
上記中間層は、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された層の第１のサブセットと、
第２の異なる種類の誘電体材料で形成された層の第２のサブセットと、
を含む、
実施例１８９又は実施例１９０から実施例１９５のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例１９８．
上記層のスタックを得るステップが、
上記層の第１のサブセットの層と上記層の第２のサブセットの層とを互いに交互に結合して上記中間層を形成するステップと、
上記先頭の中間層を上記第１の末端層に結合するステップと、
を含む、
実施例１９７に記載の方法。
実施例１９９．
上記層のスタックを得るステップが、
上記第１の種類の誘電体材料で形成された第１のウェハから材料を除去して、上記第１の末端層、上記層の第１のサブセットのうちの１又は２以上、上記第２の末端層（実施例１９４と組み合わせた時）、又はその何れかの組み合わせを製作するステップと、
上記第２の種類の誘電体材料で形成された第２のウェハから材料を除去して、上記層の第２のサブセットのうちの１又は２以上を製作するステップと、
を含む、
実施例１９７又は実施例１９８に記載の方法。
実施例２００．
上記第２の種類の誘電体材料は、シリコンである、実施例１９７又は実施例１９８から実施例１９９のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例２０１．
上記第２の末端層を結合するステップが、
第１の複数のヒドロキシル配位子を含むように上記最後尾の中間層の上記表面を変質させるステップと、
第２の複数のヒドロキシル配位子を含むように上記第２の末端層の表面を変質させるステップと、
上記変質させた表面を接触させて、上記２つの上記変質させた表面の接触中に上記第１の複数のヒドロキシル配位子を上記第２の複数のヒドロキシル配位子と反応させることによって形成される金属－酸素結合部によって定められた密封部を上記内部キャビティの上記開口部の周囲に形成するステップと、
を含む、
実施例１８９又は実施例１９０から実施例２００のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例２０２．
上記第２の末端層を結合するステップが、
上記最後尾の中間層及び上記第２の末端層の上記表面のうちの片方又は両方を、上記層のそれぞれの表面をプラズマに暴露することによって活性化するステップ、
を含む、
実施例２０１に記載の方法。
実施例２０３．
上記中間層のうちの少なくとも１つは、上記内部キャビティと当該中間層の外周部との間に複数の孔を含む、実施例１８９又は実施例１９０から実施例２０２のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例２０４．
上記複数の孔は、上記中間層を通って延びる、実施例２０３に記載の方法。
実施例２０５．
上記蒸気セルは、製造時に、ターゲット放射線を検出するように構成され、
上記複数の孔の各々は、上記ターゲット放射線の波長を超えない最大寸法を有する、
実施例２０３又は実施例２０４に記載の方法。
実施例２０６．
上記ターゲット放射線は、少なくとも０．３ｍｍの波長を有する、実施例２０５に記載の方法。
実施例２０７．
上記層のスタックを得るステップが、
中間層の片側又は両側に接着層を形成して上記中間層のそれぞれの結合面を定めるステップ、
を含む、
実施例１８９又は実施例１９０から実施例２０６のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例２０８．
上記接着層は、シリコン酸化物を含む、実施例２０７に記載の方法。
実施例２０９．
上記層のスタックは、
上記層のスタック（又は上記蒸気セルの本体）の第１の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第１のセットと、
上記層のスタック（又は上記蒸気セルの本体）の第２の外側部で上記中間層から外向きに延びるタブの第２のセットと、
を含む、
実施例１８９又は実施例１９０から実施例２０８のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例２１０．
上記蒸気セルは第１の蒸気セルであり、
上記タブの第１のセットは、第２の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第２の例証）と連結するように構成された第１の機械的接合部を定め、
上記タブの第２のセットは、第３の蒸気セル（例えば上記第１の蒸気セルの第３の例証）と連結するように構成された第２の機械的接合部を定める、
実施例２０９に記載の方法。
実施例２１１．
上記本体は外形を含み、
上記層のスタック内の各層は、当該層の場所に外形の断面を定める外周面を含む、
実施例１８９又は実施例１９０から実施例２１０のうちの何れか１つに記載の方法。
実施例２１２．
上記外形の上記断面は、上記層のスタックに沿って一定である、実施例２１１に記載の方法。
実施例２１３．
少なくとも２つの隣接する中間層が、形状及びサイズのうちの片方又は両方において互いに異なるそれぞれの外周面を有する、実施例２１１に記載の方法。
実施例２１４．
上記断面は、形状が円形であり且つサイズが上記層のスタックに沿って変化して上記本体に対して球体外形を定める、実施例２１１に記載の方法。
【0070】
本明細書は多くの詳細内容を含むが、これらは、請求項に記載することができる範囲の限定と理解すべきではなく、むしろ、特定の実施例に特有の特徴の記載として理解されたい。別個の実施構成の状況において本明細書に記載され又は図面に示された特定の特徴同士は、組み合わせることもできる。逆に、単一の実施構成の状況で記載され又は図面に示された様々な更な特徴は、複数の実施形態において別個に又は何れかの適切な部分的組み合わせで実装することもできる。
【0071】
同様に、図面では動作を特定の順序で描いているが、このことは、望ましい結果を達成する上で、図示された特定の順序又は順番でかかる動作を実施すること、或いは例示された全ての動作を実施することが必要であると理解すべきではない。特定の状況では、多重タスク処理及び並列処理が有益とすることができる。更に、上記で説明した実施構成における様々なシステム構成要素の分離は、全ての実施構成においてかかる分離を必要とするものと理解すべきではなく、記載されたプログラム構成要素及びシステムを全体として単一の製品に統合すること、又は複数の製品にパッケージ化できることを理解されたい。
【0072】
複数の実施形態について説明してきた。それにも関わらず、様々な改変を加えることができることは理解されるであろう。従って、他の実施形態は、添付の特許請求の範囲内にある。
【符号の説明】
【0073】
６００ 例示的な蒸気セル
６０８ 本体
６１０ 層のスタック
６１２ａ キャビティの第１のサブセット
６１２ｂ キャビティの第２のサブセット
６１４ 中間層
６１４ａ 層の第１のサブセット
６１４ｂ 層の第２のサブセット
６１６ 第１の末端層
６１８ 第１の端部
６２０ 第２の末端層
６２２ 第２の端部
６２４ａ タブの第１のセット
６２４ｂ タブの第２のセット
６２６ａ 第１の場所
６２６ｂ 第２の場所
６２８ 本体の外周部
６３０ 側壁
６３２ キャビティの単位セル外周部
６０８ 本体
６１０ 層のスタック
６１２ａ キャビティの第１のサブセット
６１２ｂ キャビティの第２のサブセット
６１４ 中間層
６１４ａ 層の第１のサブセット
６１４ｂ 層の第２のサブセット
６１６ 第１の末端層
６１８ 第１の端部
６２０ 第２の末端層
６２２ 第２の端部
６２４ａ タブの第１のセット
６２４ｂ タブの第２のセット
６２６ａ 第１の場所
６２６ｂ 第２の場所
６２８ 本体の外周部
６３０ 側壁
６３２ キャビティの単位セル外周部
【図1A】
【図1B】
【図1C】
【図1D】
【図1E】
【図1F】
【図1G】
【図2A】
【図2B】
【図3A】
【図3B】
【図4A】
【図4B】
【図5】
【図6A】
【図6B】