特許 7568567 ワニス滴下装置およびワニス滴下方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-10-07

(45)【発行日】2024-10-16

(54)【発明の名称】ワニス滴下装置およびワニス滴下方法

(51)【国際特許分類】

   H02K 15/12 20060101AFI20241008BHJP

   B05C 5/00 20060101ALI20241008BHJP

   B05C 11/10 20060101ALI20241008BHJP

   B05D 7/26 20060101ALI20241008BHJP

   B05D 1/26 20060101ALI20241008BHJP

   B05D 3/00 20060101ALI20241008BHJP

【ＦＩ】

H02K15/12 D

B05C5/00 101

B05C11/10

B05D7/26

B05D1/26 Z

B05D3/00 B

【請求項の数】 4

(21)【出願番号】P 2021059852

(22)【出願日】2021-03-31

(65)【公開番号】P2022156259

(43)【公開日】2022-10-14

【審査請求日】2023-11-28

(73)【特許権者】

【識別番号】000005326

【氏名又は名称】本田技研工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100106002

【弁理士】

【氏名又は名称】正林 真之

(74)【代理人】

【識別番号】100120891

【弁理士】

【氏名又は名称】林 一好

(74)【代理人】

【識別番号】100160794

【弁理士】

【氏名又は名称】星野 寛明

(72)【発明者】

【氏名】須貝 直史

【審査官】北川 大地

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１３－２３３４９６（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２００２／００６４６０４（ＵＳ，Ａ１）

【文献】韓国公開特許第１０－２００６－００２０１３８（ＫＲ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０２Ｋ １５／１２

Ｂ０５Ｃ ５／００

Ｂ０５Ｃ １１／１０

Ｂ０５Ｄ ７／２６

Ｂ０５Ｄ １／２６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ワニスを供給する供給手段と、
前記供給手段から供給されるワニスをノズルから滴下するディスペンサと、を備え、
前記ディスペンサは、
前記供給手段から供給されるワニスを一時的に蓄えるチャンバーと、
前記チャンバーの中に設けられ、所定の大きさよりも小さい貫通部を有することでワニス中に含まれる気泡の少なくとも一部を除去可能なフィルタと、
前記フィルタの前記貫通部を通過したワニスを前記チャンバーから前記ノズルに導く流路と、を有し、
前記チャンバーは、大径部と、前記流路から前記大径部に向けて拡径する拡径部と、で構成され、
前記フィルタは、前記大径部と前記拡径部との境界部に配置される平板状のフィルタである、ワニス滴下装置。

【請求項2】

前記チャンバーにおける前記フィルタよりも上流の位置に開閉可能に設けられ、ワニスの滴下時に閉口されると共に、開口時に、前記チャンバーの中に残留する気泡を排出する気泡排出手段を備える、請求項１に記載のワニス滴下装置。

【請求項3】

前記フィルタは、ワニスに対して非溶解性の金属で構成される、請求項１又は２に記載のワニス滴下装置。

【請求項4】

請求項１から３のいずれかに記載のワニス滴下装置を用いてワニスを滴下する、ワニス滴下方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ワニス滴下装置およびワニス滴下方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、例えばステータコアにステータコイルが装着されたステータのコイルエンド部等に向けて、ワニスを滴下するワニス滴下装置が開示されている（例えば、特許文献１参照）。この特許文献１のワニス滴下装置では、ディスペンサのノズルからワークに向けてワニスを滴下することにより、ワークに対してワニスを塗布、含浸させる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特許第６２２１５７４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、従来の技術では、ワニスをディスペンサへ供給する際、外乱等にてワニス内に生じる気泡の除去が考慮されていないため、気泡をそのまま含んだ状態のワニスがワークに滴下され、許容範囲を超える大きさの気泡がワークに付着する。そのため、ワークに高品質なワニスを精度良く滴下することができない。

【0005】

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、許容範囲を超える大きさの気泡を排除してからワニスを滴下するワニス滴下装置およびワニス滴下方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

（１） 本発明に係るワニス滴下装置（例えば、後述するワニス滴下装置１）は、ワニス（例えば、後述するワニスＶ）を供給する供給手段（例えば、後述する供給部１０）と、前記供給手段から供給されるワニスをノズル（例えば、後述するノズル２０ａ）から滴下するディスペンサ（例えば、後述するディスペンサ２０）と、を備え、前記ディスペンサは、前記供給手段から供給されるワニスを一時的に蓄えるチャンバー（例えば、後述するチャンバー４１）と、前記チャンバーの中に設けられ、所定の大きさよりも小さい貫通部（例えば、後述する網目４２ａ）を有することでワニス中に含まれる気泡の少なくとも一部を除去可能なフィルタ（例えば、後述するフィルタ４２）と、前記フィルタの前記貫通部を通過したワニスを前記チャンバーから前記ノズルに導く流路（例えば、後述する小径貫通部４３）と、を有する。

【0007】

（１）のワニス滴下装置によれば、所定の大きさよりも小さい貫通部を有することでワニス中に含まれる気泡の少なくとも一部を除去可能なフィルタを備え、該フィルタの貫通部を通過したワニスをディスペンサのノズルに導くので、許容範囲を超える大きさの気泡を排除してからワニスを滴下することができる。これにより、高品質なワニスを滴下することができ、ひいては、ワニスを滴下する作業の効率を向上させることができる。

【0008】

（２） （１）のワニス滴下装置において、前記チャンバーにおける前記フィルタよりも上流の位置に開閉可能に設けられ、ワニスの滴下時に閉口されると共に、開口時に、前記チャンバーの中に残留する気泡（例えば、後述する気泡Ｂ）を排出する気泡排出手段（例えば、後述する気泡排出部４４）を備えてよい。

【0009】

（２）のワニス滴下装置によれば、気泡排出手段を開口することで、フィルタを通過できずにチャンバーの中に残留する気泡を排出することができ、チャンバーの中に気泡が残留することに起因するワニスの滴下不良を防止することができる。

【0010】

（３） （１）又は（２）のワニス滴下装置において、前記フィルタは、ワニスに対して非溶解性の金属で構成されることが好ましい。

【0011】

（３）のワニス滴下装置によれば、フィルタが、ワニスに対して非溶解性の金属で構成されるので、経年でフィルタの機能が損なわれてしまうことを防止できる。

【0012】

（４） また本発明は、（１）から（３）いずれかのワニス滴下装置を用いてワニスを滴下する、ワニス滴下方法を提供する。

【0013】

（４）のワニス滴下方法によれば、所定の大きさよりも小さい貫通部を有することでワニス中に含まれる気泡の少なくとも一部を除去可能なフィルタを備え、該フィルタの貫通部を通過したワニスをディスペンサのノズルに導くので、許容範囲を超える大きさの気泡を排除してからワニスを滴下することができる。これにより、高品質なワニスを滴下することができ、ひいては、ワニスを滴下する作業の効率を向上させることができる。

【発明の効果】

【0014】

本発明によれば、許容範囲を超える大きさの気泡を排除してからワニスを滴下することができ、高品質なワニスを滴下することができる。ひいては、ワニスを滴下する作業の効率を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】本発明の実施形態に係るワニス滴下装置の概略図である。

【図2】ワニス滴下装置におけるアダプタの周辺を示す図である。

【図3】許容範囲を超える大きさの気泡とフィルタの網目の大きさとを比較する図である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

以下、本発明に係る実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。

【0017】

まず、図１および図２を用いて、本発明の実施形態に係るワニス滴下装置１の構成について説明する。図１は、本発明の実施形態に係るワニス滴下装置１の概略図である。図２は、ワニス滴下装置１におけるアダプタ４０の周辺を示す図である。

【0018】

本実施形態に係るワニス滴下装置１は、ワークに対してワニスＶを滴下することにより、該ワークにワニスＶを塗布するものである。ワークとしては特に限定されないが、例えば、ステータコアにステータコイルが装着されたステータが挙げられ、該ステータのコイルエンド部等に向けて、ワニスＶを滴下するものである。

【0019】

図１～図３に示すように、ワニス滴下装置１は、ワーク等（図示省略）に対してワニスＶを滴下する装置である。具体的に、ワニス滴下装置１は、供給部１０と、ディスペンサ２０と、を備える。

【0020】

供給部１０は、コンプレッサ（図示省略）から供給される空気の圧力によって、ディスペンサ２０にワニスＶを供給する。具体的に、供給部１０は、タンク１１と、加圧計１２と、チューブ１３と、ストレーナ１４と、継手１５と、圧力センサ１６と、を有する。

【0021】

タンク１１は、ワニスＶを収容している。このタンク１１は、コンプレッサ（図示省略）から空気の供給を受けて、チューブ１３を介してディスペンサ２０にワニスＶを供給する。加圧計１２は、タンク１１内の圧力を計測してその計測結果を表示する。チューブ１３は、タンク１１が収容しているワニスＶをディスペンサ２０に導く管である。

【0022】

ストレーナ１４は、チューブ１３の途中に設けられ、チューブ１３を流れるワニスＶに混入する異物を除去する。継手１５は、チューブ１３とディスペンサ２０を接続する。圧力センサ１６は、継手１５内の圧力を検出して、その検出結果を信号にして出力する。

【0023】

ディスペンサ２０は、供給部１０から供給されるワニスＶをノズル２０ａから滴下する。具体的に、ディスペンサ２０は、ディスペンサ本体３０と、アダプタ４０と、を有する。

【0024】

ディスペンサ本体３０は、ディスペンサ２０の動力部分である。具体的に、ディスペンサ本体３０は、筐体３１と、スクリュー３２と、モータ３３と、減速機３４と、を有する。

【0025】

筐体３１は、スクリュー３２を収容していると共に、供給部１０から供給されるワニスＶを受け入れる。スクリュー３２は、回転することで、供給部１０から筐体３１が受け入れたワニスＶをアダプタ４０に送り出す。モータ３３は、圧力センサ１６，４５の検出結果等に基づいて駆動することで、スクリュー３２を回転させる。減速機３４は、モータ３３の回転速度を減速してスクリュー３２に出力する。

【0026】

アダプタ４０は、ワニス滴下装置１の特徴部分であり、ディスペンサ本体３０に取り付けられて使用される。具体的に、アダプタ４０は、チャンバー４１と、フィルタ４２と、小径貫通部４３と、気泡排出部４４と、圧力センサ４５と、等を有する。

【0027】

チャンバー４１は、供給部１０から供給され、ディスペンサ本体３０から送り出されたワニスＶを一時的に蓄える。チャンバー４１は、後述の小径貫通部４３と比べて大径の筒状である大径部４１ａと、後述の小径貫通部４３から該大径部に向けて拡径する筒状の拡径部４１ｂと、を含んで構成される。

【0028】

フィルタ４２は、チャンバー４１の中に設けられる。より具体的に、フィルタ４２は、チャンバー４１を構成する大径部４１ａと拡径部４１ｂとの境界部に配置される。フィルタ４２は、所定の大きさよりも小さい貫通部としての網目４２ａを有することで、ワニスＶ中に含まれる気泡の少なくとも一部を除去可能なフィルタである。なお、本実施形態では網目状のフィルタ４２を用いたが、これに限定されず、例えば多孔質状のフィルタ等を用いることも可能である。

【0029】

フィルタ４２の貫通部の大きさは、ワニスＶ中に含まれる気泡の少なくとも一部を除去可能な大きさである。具体的には、例えば０．２ｍｍよりも小さい径（例えば平均径）の貫通部や、各辺の長さが０．２ｍｍより小さい貫通部である。０．２ｍｍ以上の気泡が含まれた状態のワニスＶがワークに滴下されると、仕損になってしまうことが実験により判明しているところ、フィルタ４２の貫通部の大きさが０．２ｍｍよりも小さいことにより、仕損の原因となる０．２ｍｍ以上の気泡を除去することができ、仕損の原因を取り除くことが可能となっている。

【0030】

ここで、図３は、許容範囲を超える大きさの気泡Ｂとフィルタ４２の網目４２ａの大きさとを比較する図である。上述したように、許容範囲を超える気泡の大きさは、０．２ｍｍ以上である。図３に示されるように、フィルタ４２の網目４２ａの大きさ（四角形の各辺の長さ）は０．２ｍｍよりも小さいため、許容範囲を超える０．２ｍｍ以上の径の気泡は、フィルタ４２の網目４２ａを通過することができず、チャンバー４１内に残存する。

【0031】

特にワニス滴下装置は、システムを構築するうえで、タンク、チューブ、継手等の結合部を多く有することから、これら結合部からエアが侵入するおそれがある。また、ディスペンサのワニス垂れ防止として通常行われるサックバックにより、ワニスを引き込む際にエアが混入する可能性が高い。これに対して本実施形態に係るワニス滴下装置１によれば、上述のフィルタ４２を備えることで、ワニスＶ中に含まれる気泡を効果的に除去可能となっている。

【0032】

フィルタ４２は、ワニスに対して非溶解性の金属で構成されることが好ましい。例えば、ＳＵＳやアルミ等の金属により構成されることが好ましい。これらの非溶解性の金属で構成されたフィルタを用いることにより、フィルタの経年劣化が抑制される。

【0033】

小径貫通部４３は、フィルタ４２を通過したワニスＶを、チャンバー４１からディスペンサ２０のノズル２０ａに導く流路である。

【0034】

気泡排出部４４は、チャンバー４１におけるフィルタ４２よりも上流の位置に開閉可能に設けられ、ワニスＶの滴下時にボルト４４ａで閉口されると共に、開口時に、供給部１０からワニスＶを空打ちすることで、チャンバー４１の中に残留する気泡を排出する。圧力センサ４５は、チャンバー４１内の圧力を検出してその検出結果を信号にして出力する。

【0035】

以上の構成を備える本実施形態に係るワニス滴下装置１を用いることにより、本発明のワニス滴下方法の実行が可能である。即ち、本実施形態に係るワニス滴下装置１を用いることにより、供給部１０から供給されるワニスＶを、フィルタ４２の網目４２ａを通過させてから、ディスペンサ２０のノズル２０ａから滴下することで、ワークに対してワニスを塗布可能である。

【0036】

本実施形態によれば、以下の効果が奏される。

【0037】

本実施形態に係るワニス滴下装置１によれば、所定の大きさよりも小さい貫通部を有することでワニス中に含まれる気泡の少なくとも一部を除去可能な貫通部としての網目４２ａを有するフィルタ４２を備え、該フィルタ４２の網目４２ａを通過したワニスＶをディスペンサ２０のノズル２０ａに導くので、許容範囲を超える大きさの気泡を排除してからワニスＶを滴下することができる。これにより、高品質なワニスＶを滴下することができ、ひいては、ワニスＶを滴下する作業の効率を向上させることができる。

【0038】

また、本実施形態に係るワニス滴下装置１によれば、気泡排出部４４を開口することで、チャンバー４１の中に残留する気泡Ｂを排出することができ、チャンバー４１の中に気泡Ｂが残留することに起因するワニスＶの滴下不良を防止することができる。

【0039】

また、本実施形態に係るワニス滴下装置１によれば、フィルタ４２が、ワニスＶに対して非溶解性の金属で構成されるので、経年で劣化してフィルタ４２の機能が損なわれてしまうことを防止できる。

【0040】

さらには、本実施形態に係るワニス滴下装置１を用いてワニスを滴下するワニス滴下方法によれば、同様に、許容範囲を超える大きさの気泡を排除してからワニスＶを滴下することができる。これにより、高品質なワニスＶを滴下することができ、ひいては、ワニスＶを滴下する作業の効率を向上させることができる。

【0041】

なお、本発明は、上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。

【符号の説明】

【0042】

１ ワニス滴下装置
１０ 供給部（供給手段）
１１ タンク
１２ 加圧計
１３ チューブ
１４ ストレーナ
１５ 継手
１６ 圧力センサ
２０ ディスペンサ
２０ａ ノズル
３０ ディスペンサ本体
３１ 筐体
３２ スクリュー
３３ モータ
３４ 減速機
４０ アダプタ
４１ チャンバー
４２ フィルタ
４２ａ 網目（貫通部）
４３ 小径貫通部（流路）
４４ 気泡排出部（気泡排出手段）
４４ａ ボルト
４５ 圧力センサ
Ｖ ワニス
Ｂ 気泡

【図1】

【図2】

【図3】