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特許7569314エナンチオ選択的プロセス

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-10-08

(45)【発行日】2024-10-17

(54)【発明の名称】エナンチオ選択的プロセス

(51)【国際特許分類】

C07C 239/20 20060101AFI20241009BHJP

C07F 17/00 20060101ALI20241009BHJP

C07D 231/12 20060101ALI20241009BHJP

C07B 61/00 20060101ALN20241009BHJP

【ＦＩ】

C07C239/20

C07F17/00 CSP

C07D231/12 C

C07B61/00 300

【請求項の数】 18

(21)【出願番号】P 2021524045

(86)(22)【出願日】2019-11-01

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2022-02-07

(86)【国際出願番号】 EP2019079995

(87)【国際公開番号】W WO2020094528

(87)【国際公開日】2020-05-14

【審査請求日】2022-10-27

(31)【優先権主張番号】1818117.2

(32)【優先日】2018-11-06

(33)【優先権主張国・地域又は機関】GB

(73)【特許権者】

【識別番号】520222106

【氏名又は名称】シンジェンタクロッププロテクションアクチェンゲゼルシャフト

(74)【代理人】

【識別番号】100094569

【弁理士】

【氏名又は名称】田中伸一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100103610

【弁理士】

【氏名又は名称】▲吉▼田和彦

(74)【代理人】

【識別番号】100109070

【弁理士】

【氏名又は名称】須田洋之

(74)【代理人】

【識別番号】100119013

【弁理士】

【氏名又は名称】山崎一夫

(74)【代理人】

【識別番号】100123777

【弁理士】

【氏名又は名称】市川さつき

(74)【代理人】

【識別番号】100111796

【弁理士】

【氏名又は名称】服部博信

(74)【代理人】

【識別番号】100136249

【弁理士】

【氏名又は名称】星野貴光

(72)【発明者】

【氏名】スメイカルトーマス

(72)【発明者】

【氏名】クレイマーニコライ

(72)【発明者】

【氏名】マス－ロゼッロジョセップ

【審査官】宮田透

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１５－５０８７９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１６－５２５０８４（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２００７／０１２９５７４（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開２０１８－０８３７９２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１５－０７４６３２（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１３／１５３４０７（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１３／１５３４０８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開昭５８－０１０５７５（ＪＰ，Ａ）

【文献】欧州特許出願公開第０１８６２４４６（ＥＰ，Ａ２）

【文献】Marek P. Krzeminski et al.，Asymmetric reduction of ketoxime derivatives and N-alkylketimines with borane-oxazaborolidine adducts，TETRAHEDRON ASYMMETRY，2003年06月06日，14，pp.1463-1466，DOI: 10.1016/S0957-4166(03)00314-8

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ０７Ｃ、Ｃ０７Ｄ、Ｃ０７Ｆ、Ｃ０７Ｂ

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

式（ＩＩ）のヒドロキシルアミンをもたらす、式(IIIa)又は式(IIIb)のイリジウム触媒及び酸の存在下における式（Ｉ）のオキシムの水素化に係るプロセス：

であって、
ここで、アスタリスクを付した位置は不斉中心であり、及び、式（ＩＩ）のヒドロキシルアミンの１種の立体異性体が過剰量で生成され；
Ｒ¹及びＲ²は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、フェニルスルホニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル、架橋カルボシクリル、ヘテロシクリル又はヘテロアリールであり、ここで、前記シクロアルキル、フェニル、ヘテロシクリル及びヘテロアリール部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、ニトロ、アジド及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～５個の基；又は、ピナコールボラン、フェニルスルホニル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル若しくはフェニルＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個の基で置換されており；
Ｒ³は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、ヘテロシクリルＣ₁～Ｃ₃アルキル又はヘテロビシクリルＣ₁～Ｃ₃アルキルであり、ここで、前記シクロアルキル及びヘテロシクリル部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、アジド、ニトロ及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～５個の基で置換されており；
並びに、ここで、Ｒ¹及びＲ²は同一であることはできず；又は
Ｒ¹及びＲ²は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、４員～９員飽和若しくは部分飽和不斉シクロアルキル又は不斉ヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個、２個又は３個のヘテロ原子を含む非芳香族単環式環であり、ここで、前記ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択され；又は
Ｒ¹及びＲ³は、これらがそれぞれ結合している炭素原子及び酸素原子と一緒になって、５員～８員非芳香族ヘテロシクリル環又は８員～１０員部分飽和ヘテロビシクリルを形成し得；
ここで、式（ＩＩＩａ）及び（ＩＩＩｂ）のイリジウム触媒は：

であり、ここで、

は任意選択により置換されているシクロペンタジエニルリガンドを表し；

は、構造(IVc)又は(IVe) ：

（（構造(IVc)中、Ｒ¹⁸、Ｒ^19A、Ｒ^19B、Ｒ²⁰、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシ又はＣ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニルであり、ここで、各Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されており；
Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びＣ₁～Ｃ₈アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されており；又は
Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員～８員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、前記複素環式部分は、１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、前記ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択される）；および
（構造(IVe)中、Ｒ^19A、Ｒ^19B、Ｒ²⁰、Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は各々独立して、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はＣ₁～Ｃ₈アルコキシであり；
Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びＣ₁～Ｃ₈アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されており；又は
Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員～８員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、前記複素環式部分は、１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、前記ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択され；
Ｒ²²は、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシ又はＣ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニルであり、ここで、各Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されており；
Ｒ²⁶は、以下の構造の誘導体：

（式中、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒ²⁹、Ｒ³⁰及びＲ³¹は各々独立して、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル及びフェニルから選択され、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、ハロゲン及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換され、ここで、Ｒ²⁷及びＲ²⁸は同一でなくてもよく、又は、Ｒ²⁹及びＲ³⁰は同一ではなくてもよく；又は
Ｒ²⁹及びＲ³⁰は、これらが結合している炭素と一緒になって、オキソ（＝Ｏ）基を形成する）
である））の二座キレートリガンドを表し；
Ｘはアニオン基を表し；
Ｙは中性リガンドを表し；並びに
Ｚはアニオン基を表す、プロセス。

【請求項2】

前記イリジウム触媒は、式（ＩＩＩａ－１）若しくは（ＩＩＩｂ－１）又は対応するエナンチオマ式（ＩＩＩａ－１－ｅｎｔ）若しくは（ＩＩＩｂ－１－ｅｎｔ）：

【請求項3】

前記イリジウム触媒は、式（ＩＩＩａ－２）若しくは（ＩＩＩｂ－２）又は対応するエナンチオマ式（ＩＩＩａ－２－ｅｎｔ）若しくは（ＩＩＩｂ－２－ｅｎｔ）：

【請求項4】

Ｘは、式Ｒ¹⁴－ＳＯ₂Ｏ－又はＲ¹⁵－Ｃ（Ｏ）Ｏ－のアニオン基を表し、ここで、
Ｒ¹⁴は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル又はフェニルであり、ここで、前記フェニル部分は、同一であっても異なっていてもよい、Ｒ¹⁶から選択される１個、２個、３個又は４個の置換基により任意選択により置換されており；
Ｒ¹⁶は、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ハロアルキル、ニトロ又はハロゲンであり；
Ｒ¹⁵はＣ₁～Ｃ₆ハロアルキル又はフェニルであり、ここで、前記フェニル部分は、同一であっても異なっていてもよい、Ｒ¹⁷から選択される１個、２個、３個又は４個の置換基により任意選択により置換されており；並びに
Ｒ¹⁷は、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ハロアルキル、ニトロ又はハロゲンである、請求項１～３のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項5】

Ｚは、Ｒ¹⁴－ＳＯ₂Ｏ^-、メシレート、スルフェート、ハイドロジェンスルフェート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、テトラフェニルボレート又はテトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートであり、
ここでＲ ¹⁴ は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ ₁ ～Ｃ ₆ アルキル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₆ アルコキシ、Ｃ ₁ ～Ｃ ₆ ハロアルキル又はフェニルであり、ここで、前記フェニル部分は、同一であっても異なっていてもよい、Ｒ ¹⁶ から選択される１個、２個、３個又は４個の置換基により任意選択により置換されており；
Ｒ ¹⁶ は、Ｃ ₁ ～Ｃ ₄ アルキル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₄ ハロアルキル、ニトロ又はハロゲンである、請求項１～４のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項6】

前記酸は、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、硫酸、トリフルオロ酢酸又はトリフリック酸である、請求項１～５のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項7】

ＹはＨ₂Ｏ又はＭｅＣＮである、請求項１～６のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項8】

前記式（Ｉ）のオキシムはＮ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－イミン（Ｉ－１）である、請求項１～７のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項9】

前記イリジウム触媒は、式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－２）、（ＩＩＩ－３）、（ＩＩＩ－４）、（ＩＩＩ－１５）、（ＩＩＩ－１６）又は（ＩＩＩ－２４）：

の化合物である、請求項１～８のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項10】

前記式（ＩＩ）のヒドロキシルアミンは（２Ｒ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１）である、請求項１～９のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項11】

前記（２Ｒ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１）を３－（ジフルオロメチル）－１－メチル－ピラゾール－４－塩化カルボニル（ＸＩＩ）とさらに反応させて、３－（ジフルオロメチル）－Ｎ－メトキシ－１－メチル－Ｎ－［（１Ｒ）－１－メチル－２－（２，４，６－トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール－３－カルボキサミド（ＸＩＩＩ－１）：

を得る、請求項１０に記載のプロセス。

【請求項12】

前記イリジウム触媒は、式（ＩＩＩ－１－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－２－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－３－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－４－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－１５－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－１６－ｅｎｔ）又は（ＩＩＩ－２４－ｅｎｔ）：

の化合物である、請求項１～８のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項13】

前記式（ＩＩ）のヒドロキシルアミンは（２Ｓ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１－ｅｎｔ）である、請求項１～８のいずれか一項又は請求項１２に記載のプロセス。

【請求項14】

前記（２Ｓ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１－ｅｎｔ）を３－（ジフルオロメチル）－１－メチル－ピラゾール－４－塩化カルボニル（ＸＩＩ）とさらに反応させて、３－（ジフルオロメチル）－Ｎ－メトキシ－１－メチル－Ｎ－［（１Ｓ）－１－メチル－２－（２，４，６－トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール－３－カルボキサミド（ＸＩＩＩ－１－ｅｎｔ）：

を得る、請求項１３に記載のプロセス。

【請求項15】

式（ＩＩＩｃ）、（ＩＩＩｄ）、（ＩＩＩｃ－ｅｎｔ）又は（ＩＩＩｄ－ｅｎｔ）：

（式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立して、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルであり；
Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、水素、ヒドロキシル、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、ナフチル、ベンジル又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、各フェニル、ナフチル又はベンジル部分の芳香族環は、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₆アルコキシから選択される１個～５個の基で任意選択により置換されており；
Ｒ¹⁸、Ｒ^19A、Ｒ^19B、Ｒ²⁰、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニルであり、ここで、各Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ部分は、ヒドロキシル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニル及びフェニルから選択される１個～２個の基により任意選択により置換されており；
Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びＣ₁～Ｃ₈アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されており；又は
Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員～８員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、前記複素環式部分は、１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、前記ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択され；
Ｘは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェンスルフェート、トリフレート又はトリフルオロアセテートであり；
Ｙは、Ｈ₂Ｏ、ＰｈＣＮ又はＭｅＣＮであり；並びに
Ｚは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェンスルフェート、トリフレートテトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、テトラフェニルボレート又はテトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートである）
の化合物。

【請求項16】

式（ＩＩＩｅ）又は（ＩＩＩｆ）：

（式中、Ｘはアニオン基を表し；Ｙは中性リガンドを表し；並びにＺはアニオン基を表し、
各Ｒは独立して、水素又はＣ₁～Ｃ₈アルキルであり；
Ｒ^19A、Ｒ^19B、Ｒ²⁰、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルコキシ又はＣ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニルであり、ここで、各Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されており；
Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びＣ₁～Ｃ₈アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されており；又は
Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員～８員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、前記複素環式部分は、１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、前記ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択され；
Ｒ²⁶は、以下の構造の誘導体：

（式中、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒ²⁹、Ｒ³⁰及びＲ³¹は各々独立して、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル及びフェニルから選択され、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、ハロゲン及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されており；並びに、ここで、Ｒ²⁷及びＲ²⁸は同一でなくてもよく、又は、Ｒ²⁹及びＲ³⁰は同一ではなくてもよい）
である）
の化合物。

【請求項17】

式（ＩＩＩｇ）、（ＩＩＩｈ）、（ＩＩＩｇ－ｅｎｔ）又は（ＩＩＩｈ－ｅｎｔ）：

（式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立して、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルであり；
Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、水素、ヒドロキシル、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、ナフチル、ベンジル又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、各フェニル、ナフチル又はベンジル部分の芳香族環は、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₆アルコキシから選択される１個～５個の基で任意選択により置換されており；
Ｒ¹⁸、Ｒ^19A、Ｒ^19B、Ｒ²⁰、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシ又はＣ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニルであり、ここで、各Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されており；
Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びＣ₁～Ｃ₈アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されており；又は
Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員～８員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、前記複素環式部分は、１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、前記ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択され；
Ｒ³²及びＲ³³は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり；
Ｒ³⁴は、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり；又は
Ｒ³²及びＲ³³、又は、Ｒ³³及びＲ³⁴、又は、Ｒ³⁴及びＲ³⁴は、これらが結合している前記炭素原子と一緒になって、５員～１０員カルボシクリル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、前記複素環式部分は、１個、２個又は３個のヘテロ原子を含む単環式環であり、ここで、前記ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択され；
Ｘは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェンスルフェート、トリフレート又はトリフルオロアセテートであり；
Ｙは、Ｈ₂Ｏ、ＰｈＣＮ又はＭｅＣＮであり；並びに
Ｚは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェンスルフェート、トリフレートテトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、テトラフェニルボレート又はテトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートである）
の化合物。

【請求項18】

式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－２）、（ＩＩＩ－３）、（ＩＩＩ－４）、（ＩＩＩ－１５）、（ＩＩＩ－１６）、（ＩＩＩ－２４）、（ＩＩＩ－１－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－２－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－３－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－４－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－１６－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－２４－ｅｎｔ）又は（ＩＩＩ－１５－ｅｎｔ）：

の化合物。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、オキシムのエナンチオ選択的イリジウム－触媒水素化に係る新規プロセスに関する。

【0002】

より具体的には、本発明は、式（ＩＩ）のヒドロキシルアミン及びその塩をもたらす、イリジウム触媒及び酸の存在下における式（Ｉ）のオキシムの水素化に係る新規プロセス：

【化1】

に関し、ここで、アスタリスクを付した位置は不斉中心であり、及び、式（ＩＩ）のヒドロキシルアミンの１種の立体異性体が過剰量で生成される。

【背景技術】

【0003】

国際公開第１４／２０６８５５号及び国際公開第１５／０５２０７６号から、いく種かの一般式（ＩＩ）のキラルヒドロキシルアミンが、殺有害生物有効性化合物の中間体であることが公知である。

【0004】

均一系金属－触媒イミン水素化を介したキラルアミンの数多くの既存の生成方法（Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２０１１，１１１，１７１３）とは対照的に、オキシム還元を介したキラルヒドロキシルアミンの同様の合成は、実現が困難なままである。

【0005】

オキシムエーテルの不斉還元は、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９７，５３８５、及び、国際公開第１４／２０６８５５号において、キラルアミノアルコールの存在下に還元剤としてボラン錯体を用いるものとして文献に記載されている。水素化と比したボラン還元法の主な欠点は、還元剤の高いコスト、化学量論量の廃棄物の形成をもたらすプロセスに係る低い原子効率である。Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．ＰｅｒｋｉｎＴｒａｎｓ．Ｉ，１９８５，２０３９；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ２００３，１４，１４６３などのさらに多くの事例においては、ボランオキシム還元では、対応する第一級アミンへの過還元が生じてしまう。

【0006】

オキシム及びオキシムエーテルのヒドロキシルアミンへの均一系水素化に係る報告はほとんどない。オキシムの遷移金属－触媒水素化は通例、対応する第一級アミンへの過還元、並びに、低い触媒効率により苦労を伴うものである（コバルト触媒－Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．１９６３，３６，７６３；ルテニウム触媒－Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ１９９２，３，１２８３；ロジウム触媒－Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９９５，１７６７；Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２０１３，１５，４８４；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ２０１６，２７，２６８；イリジウム触媒－Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．２００１，３１，２７６７）。

【0007】

欧州特許第１８６２４４６号明細書は、水素、ビス（１，５－シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート又はビス（１，５－シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート、及び、（Ｒ）－１－［（Ｓ）－２－ジフェニルホスフィノフェロセニル］エチルジ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィンの組み合わせを用いる３－メトキシイミノエステルの均一系エナンチオ選択的水素化を開示する。しかしながら、実際においては、この方法は、３－ケトエステルのオキシムに範囲が限定されてしまうものである。このような基材は２，３－不飽和エステルに互変異性化し得、従って、記載のオキシム水素化反応は、実際には炭素－炭素二重結合還元である。

【発明の概要】

【課題を解決するための手段】

【0008】

意外なことに、鏡像異性体的に富化された式（ＩＩ）の化合物は、式（ＩＩＩａ）又は式（ＩＩＩｂ）のキラルイリジウム触媒及び酸の存在下におけるオキシムと水素との反応：

【化2】

を介して調製可能であることがここに見出され、ここで、アスタリスクを付した位置は不斉中心であり、及び、式（ＩＩ）のヒドロキシルアミンの１種の立体異性体が過剰量で生成され；
Ｒ¹及びＲ²は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、フェニルスルホニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル、架橋カルボシクリル、ヘテロシクリル又はヘテロアリールであり、ここで、シクロアルキル、フェニル、ヘテロシクリル及びヘテロアリール部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、ニトロ、アジド及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～５個の基；又は、ピナコールボラン、フェニルスルホニル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル若しくはフェニルＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個の基で置換されており；
Ｒ³は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、ヘテロシクリルＣ₁～Ｃ₃アルキル又はヘテロビシクリルＣ₁～Ｃ₃アルキルであり、ここで、シクロアルキル及びヘテロシクリル部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、アジド、ニトロ及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～５個の基で置換されており；
並びに、ここで、Ｒ¹及びＲ²は同一であることはできず；又は
Ｒ¹及びＲ²は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、４員～９員飽和若しくは部分飽和不斉シクロアルキル又は不斉ヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個、２個又は３個のヘテロ原子を含む非芳香族単環式環であり、ここで、ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択され；又は
Ｒ¹及びＲ³は、これらがそれぞれ結合している炭素原子及び酸素原子と一緒になって、５員～８員非芳香族ヘテロシクリル環又は８員～１０員部分飽和ヘテロビシクリル環を形成し得る。

【0009】

ここで、式（ＩＩＩａ）及び（ＩＩＩｂ）のイリジウム触媒は：

【化3】

であり、ここで、

【化4】

は、任意選択により置換されているシクロペンタジエニルリガンドを表し；

【化5】

は、イリジウムに配位する少なくとも１個の炭素原子及びイリジウムに配位する少なくとも１個の窒素原子を含む二座キレートリガンドを表し；
Ｘはアニオン基を表し；
Ｙは中性リガンドを表し；並びに
Ｚはアニオン基を表す。

【0010】

ここで、置換基は「任意選択により置換されている」と表記されており、これは、これらが、１個以上の同等又は異なる置換基を有していてもいなくてもよいことを意味する。例えば、１個、２個又は３個のハロゲンによって置換されているＣ₁～Ｃ₈アルキルは、特に限定されないが、－ＣＨ₂Ｃｌ、－ＣＨＣｌ₂、－ＣＣｌ₃、－ＣＨ₂Ｆ、－ＣＨＦ₂、－ＣＦ₃、－ＣＨ₂ＣＦ₃又は－ＣＦ₂ＣＨ₃基を含み得る。他の例として、１個、２個又は３個のハロゲンによって置換されているＣ₁～Ｃ₆アルコキシは、特にこれらに限定されないが、ＣＨ₂ＣｌＯ－、ＣＨＣｌ₂Ｏ－、ＣＣｌ₃Ｏ－、ＣＨ₂ＦＯ－、ＣＨＦ₂Ｏ－、ＣＦ₃Ｏ－、ＣＦ₃ＣＨ₂Ｏ－又はＣＨ₃ＣＦ₂Ｏ－基を含み得る。

【発明を実施するための形態】

【0011】

本明細書において用いられるところ、用語「ハロゲン」又は「ハロ」は、フッ素（フルオロ）、塩素（クロロ）、臭素（ブロモ）又はヨウ素（ヨード）、好ましくはフッ素、塩素又は臭素を指す。最も好ましくは、ハロゲンは塩素である。

【0012】

本明細書において用いられるところ、シアノは－ＣＮ基を意味する。

【0013】

本明細書において用いられるところ、「ヒドロキシル」又は「ヒドロキシ」という用語は、－ＯＨ基を意味する。

【0014】

本明細書において用いられるところ、アミノは－ＮＨ₂基を意味する。

【0015】

本明細書において用いられるところ、アミドは－（Ｃ＝Ｏ）ＮＲ_aＲ_a基を意味し、ここで、Ｒ_aは、以下に一般的に定義されているとおり、Ｃ₁～Ｃ₄アルキルラジカルである。

【0016】

本明細書において用いられるところ、ニトロは－ＮＯ₂基を意味する。

【0017】

本明細書において用いられるところ、アジドは－Ｎ₃基を意味する。

【0018】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈アルキル」という用語は、単に炭素及び水素原子からなり、不飽和を含有せず、１個～８個の炭素原子を有し、並びに、単結合によって分子の残部に結合している直鎖又は分岐鎖炭化水素鎖ラジカルを指す。Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₂アルキルは相応に解釈されるべきである。Ｃ_1-8アルキルの例としては、これらに限定されないが、メチル、エチル、ｎ－プロピル、１－メチルエチル（イソプロピル）、ｎ－ブチル及び１－ジメチルエチル（ｔ－ブチル）が挙げられる。「Ｃ₁～Ｃ₂アルキレン」基は、Ｃ₁～Ｃ₂アルキルの対応する定義を参照するが、ただし、このようなラジカルが２つの単結合によって分子の残部に結合することを除く。Ｃ₁～Ｃ₂アルキレンの例は、－ＣＨ₂－及び－ＣＨ₂ＣＨ₂－である。

【0019】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₂～Ｃ₆アルケニル」という用語は、単に炭素及び水素原子からなり、（Ｅ）－又は（Ｚ）－立体配置のいずれかであることが可能である少なくとも１つの二重結合を含有し、２個～６個の炭素原子を有し、単結合によって分子の残部に結合している直鎖又は分岐鎖炭化水素鎖ラジカル基を指す。Ｃ₂～Ｃ₆アルケニルの例としては、これらに限定されないが、エテニル（ビニル）、プロプ－１－エニル、プロプ－２－エニル（アリル）及びブタ－１－エニルが挙げられる。

【0020】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ」という用語は、Ｒ_aがＣ_1-8アルキルラジカルである、上記に一般的に定義されている式－ＯＲ_aのラジカルを指す。Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ及びＣ₁～Ｃ₂アルコキシという用語は、相応に解釈されるべきである。Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシの例としては、これらに限定されないが、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ及びｔ－ブトキシが挙げられる。

【0021】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈ヒドロキシアルキル」という用語は、１個以上のヒドロキシ基により置換されている、上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキルラジカルを指す。Ｃ₁～Ｃ₈ヒドロキシアルキルの例としては、これらに限定されないが、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル及びヒドロキシブチルが挙げられる。

【0022】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈シアノアルキル」という用語は、１個以上のシアノ基により置換されている、上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキルラジカルを指す。Ｃ₁～Ｃ₈シアノアルキルの例としては、これらに限定されないが、シアノメチル、シアノエチル及びシアノブチルが挙げられる。

【0023】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルキル」という用語は、式Ｒ_aＯＲ_b－のラジカル（式中、Ｒ_aは、上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₆アルキルラジカルであり、及び、Ｒ_bは、上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキレンラジカルである）を指す。Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルキルの例としては、これらに限定されないが、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシブチル、エトキシメチル及びエトキシエチルが挙げられる。

【0024】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシ」という用語は、上記に定義されているとおり、同一又は異なる１個以上のハロゲン原子により置換されている－ＯＲ_aラジカルを指す。Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシの例としては、これらに限定されないが、フルオロメトキシ、フルオロエトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、２，２，２－トリフルオロエトキシ及び３，３，３－トリフルオロプロポキシが挙げられる。

【0025】

本明細書において用いられるところ、「（ヒドロキシ）－Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ」という用語は、上記に定義されている、１個以上のヒドロキシ基で置換されている－ＯＲ_aラジカルを指す。（ヒドロキシ）－Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシの例としては、これらに限定されないが、２－ヒドロキシエトキシが挙げられる。

【0026】

本明細書において用いられるところ、「（Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ」という用語は、－ＯＲ_aラジカルを指し、ここで、Ｒ_aは、上記に定義されている１個のＣ₁～Ｃ₈アルコキシ基で置換されている、上記に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキルラジカルである。（Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシの例としては、これらに限定されないが、２－メトキシエトキシが挙げられる。

【0027】

本明細書において用いられるところ、「（Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ」という用語は、式（Ｒ_aＯＲ_bＯ）Ｒ_cＯ－ラジカルのラジカルを指し、ここで、Ｒ_a、Ｒ_b及びＲ_cは各々独立して、上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキルラジカルである。（Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシの例としては、これらに限定されないが、２－（２－メトキシエトキシ）エトキシが挙げられる。

【0028】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシ（Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシＣ₁～Ｃ₄アルキル）－Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシ」という用語は、式Ｒ_aＯ（Ｒ_bＯＲ_c）Ｒ_dＯ－のラジカルを指し、ここで、Ｒ_a、Ｒ_b、Ｒ_c及びＲ_dは各々独立して、上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₄アルキルラジカルである。Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシ（Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシＣ₁～Ｃ₄アルキル）－Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシの例としては、これらに限定されないが、［２－メトキシ－１－（メトキシメチル）エトキシ］が挙げられる。

【0029】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル」という用語は、同一又は異なる１個以上のハロゲン原子により置換されている、上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキルラジカルを指す。Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキルの例としては、これらに限定されないが、フルオロメチル、フルオロエチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２－トリフルオロエチル及び３，３，３－トリフルオロプロピルが挙げられる。

【0030】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル」という用語は、Ｒ_aが上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₆アルキルラジカルである、式Ｒ_aＯＣ（Ｏ）－のラジカルを指す。

【0031】

本明細書において用いられるところ、「（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ」という用語は、式（Ｒ_aＯＣ（Ｏ））Ｒ_bＯ－のラジカル（ここで、Ｒ_a及びＲ_bは各々独立して、上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₃アルキルラジカルである）を指す。（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシの例としては、これらに限定されないが、２－メトキシ－２－オキソ－エトキシが挙げられる。

【0032】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル」という用語は、飽和若しくは部分飽和であり、及び、３個～８個の炭素原子を含有する単環式環ラジカルを指す。Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル及びＣ₃～Ｃ₅シクロアルキルは、相応に解釈されるべきである。Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキルの例としては、これらに限定されないが、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロペンタン－１－イル、シクロペンタン－３－イル及びシクロヘキセン－３－イルが挙げられる。

【0033】

本明細書において用いられるところ、「カルボビシクリル」という用語は、２つの環を含み、及び、５個～９個の炭素原子を含有する部分飽和環系を指す。カルボビシクリルの例としては、これらに限定されないが、インダニルが挙げられる。

【0034】

本明細書において用いられるところ、「架橋カルボシクリル」という用語は、７～１０個の炭素原子を含有し、例えば３つの環といった２つ以上の環を含み、及び、少なくとも１つの架橋、すなわち、２個の橋頭原子を接続する１個の原子又は原子の未分岐鎖をさらに含む飽和系を指す。架橋カルボシクリルの例としては、これらに限定されないが、ノルボルニル、二環式［２．２．２］オクタニル及びアダマンチルが挙げられる。

【0035】

本明細書において用いられるところ、「フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル」という用語は、上記に定義されているＣ₁～Ｃ₃アルキレンラジカにより分子の残部に結合しているフェニル環を指す。フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキルの例としては、これらに限定されないが、ベンジルが挙げられる。

【0036】

本明細書において用いられるところ、「フェニルスルホニル」という用語は、Ｓ（Ｏ）₂－ラジカルにより分子の残部に結合しているフェニル環を指す。

【0037】

本明細書において用いられるところ、「フェニルスルホニルＣ₁～Ｃ₃アルキル」という用語は、上記に定義されているＣ₁～Ｃ₃アルキレンラジカルにより分子の残部に結合している上記に定義されているフェニルスルホニルを指す。フェニルスルホニルＣ₁～Ｃ₃アルキルの例としては、これらに限定されないが、フェニルスルホニルメチルが挙げられる。

【0038】

本明細書において用いられるところ、「ヘテロシクリル」という用語は、１個、２個又は３個のヘテロ原子を含む安定な４－、５－又は６員非芳香族単環式環を指し、ここで、ヘテロ原子は、Ｎ、Ｏ、及びＳから個々に選択される。ヘテロシクリルラジカルは、炭素原子又はヘテロ原子を介して分子の残部に結合し得る。ヘテロシクリルの例としては、これらに限定されないが、アジリジニル、アゼチジニル、オキセタニル、チエタニル、テトラヒドロフリル、ジヒドロピラニル、ピロリジニル、ピラゾリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、ジオキソラニル、ジチオラニル及びチアゾリジニルが挙げられる。

【0039】

本明細書において用いられるところ、「ヘテロシクリルＣ₁～Ｃ₃アルキル」という用語は、上記に定義されているＣ₁～Ｃ₃アルキレンリンカーにより分子の残部に結合している上記に定義されているヘテロシクリル環を指す。

【0040】

本明細書において用いられるところ、「ヘテロビシクリル」という用語は、２つの環を含み、及び、４個～１０個の炭素原子を含有する部分飽和環系を指す。ヘテロビシクリルの例としては、これらに限定されないが、３，４－ジヒドロ－１Ｈ－２，３－ベンゾキサジンが挙げられる。

【0041】

本明細書において用いられるところ、「ヘテロビシクリルＣ₁～Ｃ₃アルキル」という用語は、上記に定義されているＣ₁～Ｃ₃アルキレンリンカーにより分子の残部に結合している上記に定義されているヘテロ二環系を指す。

【0042】

本明細書において用いられるところ、「ヘテロアリール」という用語は、一般に、窒素、酸素及び硫黄から個々に選択される１個又は２個のヘテロ原子を含む５員又は６員単環式芳香族環ラジカルを指す。ヘテロアリールラジカルは、炭素原子又はヘテロ原子を介して分子の残部に結合していてもよい。ヘテロアリールの例としては、これらに限定されないが、フラニル、ピロリル、チエニル、ピラゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピラジニル、ピリダジニル、ピリミジル及びピリジルが挙げられる。

【0043】

本明細書において用いられるところ、＝Ｏは、例えば、カルボニル（－Ｃ（＝Ｏ）－）基において見出されるものといったオキソ基を意味する。

【0044】

本明細書において用いられるところ、Ｏ－メシル又はメシレートは、式－ＯＳ（Ｏ）₂ＣＨ₃のラジカルを指す。

【0045】

本明細書において用いられるところ、Ｏ－トシル又はトシレートは、式－ＯＳ（Ｏ）₂Ｃ₆Ｈ₄－ｐ－ＣＨ₃のラジカルを指す。

【0046】

本明細書において用いられるところ、Ｏ－ノシル又はノシレートは、式－ＯＳ（Ｏ）₂Ｃ₆Ｈ₄－ｐ－ＮＯ₂のラジカルを指す。

【0047】

本明細書において用いられるところ、Ｏ－トリフリル又はトリフレートは、式－ＯＳ（Ｏ）₂ＣＦ₃のラジカルを指す。

【0048】

本明細書において用いられるところ、Ｏ－トリフルオロアセチル又はトリフルオロ酢酸塩は、式－ＯＣ（Ｏ）ＣＦ₃のラジカルを指す。

【0049】

本明細書において用いられるところ、テトラフルオロボレートは、式ＢＦ₄ ^-のラジカルを指す。

【0050】

本明細書において用いられるところ、テトラフェニルボレートは、式Ｂ（Ｃ₆Ｈ₅）₄ ^-のラジカルを指す。

【0051】

本明細書において用いられるところ、テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボリルは、式Ｂ（３，５－（ＣＦ₃）₂Ｃ₆Ｈ₃）₄ ^-のラジカルを指す。

【0052】

本明細書において用いられるところ、ヘキサフルオロリン酸は、式ＰＦ₆ ^-のラジカルを指す。

【0053】

本明細書において用いられるところ、スルフェートは、式ＳＯ₄ ^2-のラジカルを指す。

【0054】

本明細書において用いられるところ、ハイドロジェンスルフェートは、式ＨＳＯ₄ ^-のラジカルを指す。

【0055】

本明細書において用いられるところ、「芳香族」又は「アリール」という用語は、単に炭素及び水素原子からなり、単環式、二環式又は三環式であり得る芳香族環系を指す。このような環系の例としては、フェニル、ナフタレニル、アントラセニル、インデニル又はフェナントレニルが挙げられる。

【0056】

以下のリストは、本明細書において開示されている化合物を参照した、置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ¹⁸、Ｒ^19A、Ｒ^19B、Ｒ²⁰、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒ²⁹、Ｒ³⁰、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴、Ｘ、Ｙ及びＺに係る好ましい定義を含む定義を提供する。これらの置換基のいずれか１つについて、以下に記載されている定義のいずれかが、本明細書中以下又は他の個所に記載されているいずれかの他の置換基のいずれかの定義と組み合わされてもよい。

【0057】

Ｒ¹及びＲ²は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、フェニルスルホニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル、架橋カルボシクリル、ヘテロシクリル又はヘテロアリールであり、ここで、シクロアルキル、フェニル、ヘテロシクリル及びヘテロアリール部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、ニトロ、アジド及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～５個の基；又は、ピナコールボラン、フェニルスルホニル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル及びフェニルＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個の基で置換されている。

【0058】

一実施形態において、Ｒ¹は、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₄シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシＣ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₆アルケニル、Ｃ₅～Ｃ₈シクロアルキル、フェニル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、フェニルスルホニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₂アルコキシカルボニル、架橋Ｃ₇～Ｃ₁₀カルボシクリル、ヘテロシクリル又はヘテロアリールであり、ここで、シクロアルキル、フェニル、ヘテロシクリル及びヘテロアリール部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、ニトロ、アジド及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～３個の基；又は、ピナコールボラン、フェニルスルホニル、フェニルＣ₁～Ｃ₂アルキル及びフェニルＣ₁～Ｃ₂アルコキシから選択される１個の基で置換されている。

【0059】

好ましくは、Ｒ¹は、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシＣ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₂～Ｃ₄アルケニル、Ｃ₅～Ｃ₆シクロアルキル、フェニル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₂アルコキシカルボニル、架橋Ｃ₈～Ｃ₁₀カルボシクリル、ヘテロシクリル又はヘテロアリールであり、ここで、シクロアルキル、フェニル、ヘテロシクリル及びヘテロアリール部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、アシルアミノ、アミド、シアノ、ニトロ、アジド及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～３個の基；又は、ピナコールボラン、フェニルスルホニル、フェニルＣ₁～Ｃ₂アルキル及びフェニルＣ₁～Ｃ₂アルコキシから選択される１個の基で置換されている。

【0060】

より好ましくは、Ｒ¹は、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、シクロヘキシル、フェニル、フェニルＣ₁～Ｃ₂アルキル、アダマンチル又はヘテロアリールであり、ここで、フェニル及びヘテロアリール部分は各々、任意選択により、ハロゲン、ヒドロキシル、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、ニトロ、アジド及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～３個の基；又は、ピナコールボラン、フェニルスルホニル及びフェニルＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個の基で置換されている。

【0061】

さらにより好ましくは、Ｒ¹は、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジル、アダマンチル又はヘテロアリールであり、ここで、フェニル及びヘテロアリール部分は各々、任意選択により、ハロゲン、ヒドロキシル、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、ニトロ、アジド及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～３個の基；又は、ピナコールボラン及びフェニルスルホニルから選択される１個の基で置換されている。

【0062】

さらにより好ましくは、Ｒ¹は、イソプロピル、ｔ－ブチル、シクロヘキシル、アダマンチル、フェニル、２－メトキシフェニル、２－ニトロフェニル、４－メトキシフェニル、４－トリフルオロフェニル、４－アジドフェニル、４－ビニルフェニル、２－ナフチルメトキシフェニル、［４－（４，４，５，５－テトラメチル－１，２，３－ジオキサボロラン－２－イル）フェニル］、１－ヒドロキシベンジル、２－ブロモベンジル、４－メトキシベンジル、１，１－ジフェニルメチル、１，１－ジメチルベンジル、２，４，６－トリメチルベンジル、２，４，６－トリクロロベンジル、２－チエニル又は１－（ベンゼンスルホニル）ピロール－３－イルである。

【0063】

一実施形態において、Ｒ²は、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、ヒドロキシＣ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシＣ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₄アルケニル、Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、フェニルスルホニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、ヘテロシクリル又はヘテロアリールであり、ここで、シクロアルキル、フェニル、ヘテロシクリル及びヘテロアリール部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、ニトロ、アジド及びＣ₂～Ｃ₄アルケニルから選択される１個～３個の基で置換されている。

【0064】

好ましくは、Ｒ²は、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、ヒドロキシＣ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシＣ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₃アルケニル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル、Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル、フェニルスルホニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、ヘテロシクリル又はヘテロアリールであり、ここで、シクロアルキル、フェニル、ヘテロシクリル及びヘテロアリール部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ及びＣ₁～Ｃ₂アルコキシカルボニルから選択される１個～３個の基で置換されている。

【0065】

より好ましくは、Ｒ²は、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、ヒドロキシＣ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシＣ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル、Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル、フェニルスルホニルＣ₁～Ｃ₃アルキル又はヘテロシクリルであり、ここで、フェニル部分は、ヒドロキシル、ハロゲン、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、メトキシカルボニル及びエトキシカルボニルから選択される１個又は２個の基で任意選択により置換されている。

【0066】

さらにより好ましくはＲ²は、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、メトキシブチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、Ｃ₅～Ｃ₆シクロアルキル、フェニルスルホニルＣ₁～Ｃ₂アルキル又はヘテロシクリルであり、ここで、フェニル部分は、ハロゲン、メチル、トリフルオロメチル及びメトキシから選択される１個の基で任意選択により置換されている。

【0067】

さらにより好ましくは、Ｒ²は、メチル、イソプロピル、ｔ－ブチル、ヒドロキシメチル、メトキシブチル、エトキシカルボニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、テトラヒドロピラニル又はｐ－トルエンスルホニルメチルである。

【0068】

一実施形態において、Ｒ¹及びＲ²は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、４員～９員飽和若しくは部分飽和不斉シクロアルキル、不斉ビシクリル又は不斉ヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個、２個又は３個のヘテロ原子を含む非芳香族単環式環であり、ここで、ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択され、ここで、シクロアルキル、ビシクリル及びヘテロシクリル環系は各々、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₃～Ｃ₄シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル、シアノ及びニトロから選択される１個～３個の基で任意選択により置換され得る。

【0069】

好ましくは、Ｒ¹及びＲ²は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、４員～９員飽和若しくは部分飽和不斉シクロアルキル、不斉ビシクリル又は不斉ヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族単環式環であり、ここで、ヘテロ原子はＮ及びＯから個々に選択され、並びに、ここで、シクロアルキル、ビシクリル及びヘテロシクリル環系は各々、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₃～Ｃ₄シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル、シアノ及びニトロから選択される１個～３個の基で任意選択により置換され得る。

【0070】

より好ましくは、Ｒ¹及びＲ²は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、４員～９員飽和若しくは部分飽和不斉シクロアルキル又は不斉カルボビシクリルを形成し得、ここで、シクロアルキル及びビシクリル環系は各々、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₃～Ｃ₄シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル、シアノ及びニトロから選択される１個～３個の基で任意選択により置換され得る。

【0071】

さらにより好ましくは、Ｒ¹及びＲ²は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、８員～９員飽和若しくは部分飽和不斉カルボビシクリルを形成し得、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₃～Ｃ₄シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル、シアノ及びニトロから選択される１個～３個の基で任意選択により置換される。

【0072】

さらにより好ましくは、Ｒ¹及びＲ²は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₃～Ｃ₄シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル、シアノ及びニトロから選択される１個～３個の基で任意選択により置換されている不斉インダニル部分を形成し得る。実施形態の特に好ましい組において、Ｒ¹及びＲ²は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、ヒドロキシル、ハロゲン、メチル、エチル、シクロプロピル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ及びメトキシカルボニルから選択される１個の基で任意選択により置換されている不斉インダニル部分を形成し得る。実施形態のさらに特に好ましい組において、Ｒ¹及びＲ²は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、不斉２－メチルインダン－１－イル又は不斉２－メトキシカルボニルインダン－１－イルを形成し得る。

【0073】

実施形態の１つの組において、Ｒ³は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、ヘテロシクリルＣ₁～Ｃ₃アルキル又はヘテロビシクリルＣ₁～Ｃ₃アルキルであり、ここで、シクロアルキル及びヘテロシクリル部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、アジド、ニトロ、オキソ及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～５個の基で置換されている。

【0074】

好ましくは、Ｒ³は、水素、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₄シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₂アルコキシＣ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₄アルケニル、Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル、ヘテロシクリルＣ₁～Ｃ₃アルキル又はヘテロビシクリルＣ₁～Ｃ₃アルキルであり、ここで、シクロアルキル及びヘテロシクリル部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル、シアノ、ニトロ、オキソ及びＣ₂～Ｃ₄アルケニルから選択される１個～３個の基で置換されている。

【0075】

より好ましくは、Ｒ³は、水素、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、フェニルＣ₁～Ｃ₂アルキル、ヘテロシクリルＣ₁～Ｃ₂アルキル又はヘテロビシクリルＣ₁～Ｃ₂アルキルであり、ここで、ヘテロシクリル部分は各々、任意選択により、ハロゲン、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、シアノ、ニトロ、オキソ及びＣ₂～Ｃ₄アルケニルから選択される１個又は２個の基で置換されている。

【0076】

さらにより好ましくは、Ｒ³は、水素、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、ベンジル、２－メチル－１，３－ジオキソラニル又はイソインドリン－１，３－ジオン－Ｎ－エチルである。より好ましくは、Ｒ³は、水素、メチル、ｔ－ブチル、ベンジル、２－メチル－１，３－ジオキソラニル又はイソインドリン－１，３－ジオン－Ｎ－エチルである。

【0077】

実施形態の１つの組において、Ｒ¹及びＲ³は、これらがそれぞれ結合している炭素原子及び酸素原子と一緒になって、酸素及び窒素から選択される２個～３個のヘテロ原子を含む部分飽和１０員ヘテロ二環式基を形成し得る。好ましくは、Ｒ¹及びＲ³は、これらがそれぞれ結合している炭素原子及び酸素原子と一緒になって、３，４－ジヒドロ－１Ｈ－２，３－ベンゾキサジン環を形成し得る。

【0078】

実施形態のさらなる組において、Ｒ¹及びＲ²は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル又はヘテロアリールであり、ここで、シクロアルキル及びフェニル部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、ニトロ及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～５個の基で置換されており；
Ｒ³は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル及びヘテロアリールであり、ここで、シクロアルキル及びフェニル部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、ニトロ及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～５個の基で置換されており；
並びに、ここで、Ｒ¹及びＲ²は同一であることはできず；又は
Ｒ¹及びＲ²は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、４員～８員不斉飽和シクロアルキル又は不斉ヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個、２個又は３個のヘテロ原子を含む非芳香族単環式環であり、ここで、ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択される。

【0079】

実施形態の他の組において、Ｒ¹はフェニル又はベンジルであり、ここで、各フェニル又はベンジル部分の芳香族環は、クロロ、メチル、メトキシ、メトキシカルボニル及びニトロから独立して選択される１個、２個又は３個の基で任意選択により置換されており；
Ｒ²はメチル又はイソプロピルを表し；及び
Ｒ³は、水素、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ－ブチル、アリル又はベンジルを表し、好ましくは、水素、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ－ブチル又はベンジルを表す。

【0080】

好ましくは、式（Ｉ）のオキシムは、Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－イミン（すなわち、式Ｉ－１の化合物）；

【化6】

である。

【0081】

好ましくは、式（ＩＩ）のヒドロキシルアミンは、（２Ｒ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（すなわち、式ＩＩ－１の化合物）又は（２Ｓ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（すなわち、式ＩＩ－１－ｅｎｔの化合物）であり、最も好ましくは、（２Ｓ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（すなわち、式ＩＩ－１－ｅｎｔの化合物）：

【化7】

である。

【0082】

式（ＩＩＩａ）又は式（ＩＩＩｂ）のキラルイリジウム触媒において、シクロペンタジエニルリガンド

【化8】

は、キラルシクロペンタジエニルリガンドであり；又は
二座キレートリガンド

【化9】

は、キラル二座キレートリガンドであり；又は
シクロペンタジエニルリガンド及び二座キレートリガンドは共にキラルである。

【0083】

一実施形態において、シクロペンタジエニルリガンドはキラルシクロペンタジエニルリガンドであり、このようなリガンドは、例えばＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１８，５７，５４５９；Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２０１６，１３８，５２４２；Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２０１６，１３８，３９３５；Ａｃｃ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．２０１５，４８，１３０８；Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２０１５，１３７，１２４７８；Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１５，５４，１２１４９；Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ２０１９，３８，３９３９；及び、Ｓｙｎｌｅｔｔ２０１５，２６，１４９０において記載されている。当業者は、キラルシクロペンタジエニルリガンドの両方の鏡像異性体は、実質的に同一の調製方法を用いるが、出発材料の反対の鏡像異性体から出発することで調製され得ることを認識するであろう。

【0084】

好ましくは、イリジウム触媒は、式（ＩＩＩａ－１）（ＩＩＩｂ－１）又は対応するエナンチオマ式（ＩＩＩａ－１－ｅｎｔ）若しくは（ＩＩＩｂ－１－ｅｎｔ）：

【化10】

のものであり、ここで、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立して、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルである。好ましくは、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立して、水素、メチル又はイソプロピルであり、より好ましくは、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々、水素を表す。

【0085】

Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、水素、ヒドロキシル、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、ナフチル、ベンジル又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、各フェニル、ナフチル又はベンジル部分の芳香族環は、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₆アルコキシから選択される１個～５個の基で任意選択により置換されている。

【0086】

好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ナフチル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。より好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。さらにより好ましくは、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ及びフェニルであって、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。さらにより好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、メトキシ、イソ－プロポキシ、フェニル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシである。なおさらにより好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、メトキシ、イソ－プロポキシ又はフェニルである。

【0087】

実施形態の１つの組において、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、メトキシ、イソ－プロポキシ、フェニル、４－メトキシフェニル又はナフチルである。

【0088】

ここで、

【化11】

、Ｘ、Ｙ及びＺは上記に定義されているとおりである。

【0089】

シクロペンタジエニルリガンドの特に好ましい例は、以下に示されている式（ＩＸ－１）、（ＩＸ－２）、（ＩＸ－３）、（ＩＸ－４）、（ＩＸ－５）、（Ｘ－１）又は（Ｘ－２）：

【化12】

のＣ₂－対称キラルシクロペンタジエニルリガンド及び、その反対の鏡像異性体（ＩＸ－１－ｅｎｔ）、（ＩＸ－２－ｅｎｔ）、（ＩＸ－３－ｅｎｔ）、（ＩＸ－４－ｅｎｔ）、（ＩＸ－５－ｅｎｔ）、（Ｘ－１－ｅｎｔ）又は（Ｘ－２－ｅｎｔ）：

【化13】

である。

【0090】

本発明のさらなる実施形態においては、式（ＩＩＩａ－２）及び（ＩＩＩｂ－２）のイリジウム触媒及び対応するエナンチオマ式（ＩＩＩａ－２－ｅｎｔ）又は（ＩＩＩｂ－２－ｅｎｔ）：

【化14】

もまた提供されており、ここで、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立して、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルである。好ましくは、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立して、水素、メチル又はイソプロピルであり、より好ましくは、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々水素を表す。

【0091】

【0092】

好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ナフチル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。より好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。さらにより好ましくは、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ及びフェニルであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。さらにより好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、メトキシ、イソ－プロポキシ、フェニル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシである。さらにより好ましくは、メトキシ、イソ－プロポキシ又はフェニルである。

【0093】

【0094】

Ｒ³²及びＲ³³は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルコキシ又はフェニルである。好ましくは、Ｒ³²及びＲ³³は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、より好ましくは、Ｒ³²及びＲ³³は各々独立して、水素、メチル又はメトキシである。最も好ましくは、Ｒ³²及びＲ³³は共に水素である。

【0095】

Ｒ³⁴は、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルコキシ又はフェニルである。好ましくは、Ｒ³⁴は、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、より好ましくは、Ｒ³⁴はメチル又はメトキシであり、最も好ましくはメトキシである。

【0096】

或いは、Ｒ³²及びＲ³³、又は、Ｒ³³及びＲ³⁴、又は、Ｒ³²及びＲ³⁴は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、５員～１０員カルボシクリル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個、２個又は３個のヘテロ原子を含む単環式環であり、ここで、ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択される。

【0097】

シクロペンタジエニルリガンドの特に好ましい例は、式（ＩＸ－６）、（ＩＸ－７）、（Ｘ－３）又は（Ｘ－４）：

【化15】

のＣ₂－対称キラルシクロペンタジエニルリガンド及び、その反対の鏡像異性体（ＩＸ－６－ｅｎｔ）、（ＩＸ－７－ｅｎｔ）、（Ｘ－３－ｅｎｔ）又は（Ｘ－４－ｅｎｔ）：

【化16】

である。

【0098】

特定の鏡像異性体（ＩＩ又はＩＩ－ｅｎｔ）に富化された式（ＩＩ）の化合物が触媒（ＩＩＩ）の特定の鏡像異性体を用いて得られる場合、式（ＩＩ）の化合物の反対の鏡像異性体は、触媒（ＩＩＩ－ｅｎｔ）の反対の鏡像異性体を用いることで得られることが、エナンチオ選択的触媒の分野において一般的であると共に、当業者に公知である。本発明は、キラル異性体のいずれか一方が富化している式（ＩＩ）の化合物及びその塩のエナンチオ選択的調製に係るプロセスに関する。対応するキラル異性体（ＩＩ）：（ＩＩ－ｅｎｔ）の比は、例えば１：１００～１００：１、最も特定的には、６０：４０、７０：３０、８０：２０、９０：１０、９５：５、９９：１であり得、又は、対応するキラル異性体（ＩＩ）：（ＩＩ－ｅｎｔ）の比は、例えば４０：６０、３０：７０、２０：８０、１０：９０、５：９５、１：９９であり得る。

【0099】

【化17】

は、イリジウムに配位する少なくとも１個の炭素原子及びイリジウムに配位する少なくとも１個の窒素原子を含む二座キレートリガンドを表す。多くの金属－キレートリガンドが当業者に公知であり、本発明における使用に好適であろう。特に好適な二座キレートリガンドは、配位している窒素及び炭素原子において１，４－関係を有するもの、好ましくは、配位している炭素原子が芳香族環の一部を形成し、ここで、前記芳香族環がオルト位で置換されているものである。

【0100】

好適な二座キレートリガンドの例は、構造（ＩＶ）、（ＩＶａ）又は（ＩＶｂ）：

【化18】

の誘導体である。

【0101】

好ましい二座キレートＣ，Ｎリガンドは、構造（ＩＶｃ）：

【化19】

のリガンドであり、ここで、Ｒ¹⁸、Ｒ^19A、Ｒ^19B、Ｒ²⁰、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシ又はＣ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニルであり、ここで、各Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されており、好ましくは、各Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されている。

【0102】

好ましくは、Ｒ¹⁸、Ｒ^19A、Ｒ^19B、Ｒ²⁰、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルコキシ又はＣ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニルであり、ここで、各Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換され、好ましくは、各Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されている。

【0103】

好ましくは、Ｒ¹⁸は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、（ヒドロキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、（Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシ（Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシＣ₁～Ｃ₄アルキル）－Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシ、又は（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、より好ましくは、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、（ヒドロキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ又は（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシである。さらにより好ましくは、Ｒ¹⁸は、水素、メトキシ、エトキシ、２－ヒドロキシエトキシ、２－メトキシエトキシ、［２－メトキシ－１－（メトキシメチル）エトキシ］、２－（２－メトキシエトキシ）エトキシ、２－メトキシ－２－オキソ－エトキシ又は（２－イソ－プロポキシ－２－オキソ－メトキシ）である。さらにより好ましくは、Ｒ¹⁸は、水素、メトキシ、エトキシ、２－ヒドロキシエトキシ、２－メトキシエトキシ、［２－メトキシ－１－（メトキシメチル）エトキシ］又は２－（２－メトキシエトキシ）エトキシである。

【0104】

好ましくは、Ｒ^19Aは、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、（ヒドロキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ又は（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシである。より好ましくは、Ｒ^19Aは、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシ、さらにより好ましくは、水素又はメトキシである。

【0105】

好ましくは、Ｒ^19Bは、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、（ヒドロキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ又は（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシである。より好ましくは、Ｒ^19Bは、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、さらにより好ましくは、水素又はメトキシである。

【0106】

好ましくは、Ｒ²⁰は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシである。より好ましくは、Ｒ²⁰は、水素、メチル、エチル、メトキシ又はエトキシである。さらにより好ましくは、Ｒ²⁰は、水素、メチル又はメトキシである。さらにより好ましくは、Ｒ²⁰は水素である。

【0107】

Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びＣ₁～Ｃ₈アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されている。好ましくは、Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基により任意選択により置換されている。より好ましくは、Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はフェニルであり、さらにより好ましくは、Ｃ₁～Ｃ₃アルキルである。さらにより好ましくは、Ｒ²¹はメチルである。

【0108】

好ましくは、Ｒ²²は、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルであり、より好ましくは、Ｒ²²は水素である。

【0109】

好ましくは、Ｒ²³は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、より好ましくは、水素、メチル、エチル、メトキシ又はエトキシである。さらにより好ましくは、Ｒ²³は、水素又はメチルである。さらにより好ましくは、Ｒ²³はメチルである。

【0110】

好ましくは、Ｒ²⁴は、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシであり、より好ましくは、メトキシである。

【0111】

好ましくは、Ｒ²⁵は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシである。より好ましくは、Ｒ²⁵は、水素、メチル、エチル、メトキシ又はエトキシである。さらにより好ましくは、Ｒ²⁵は、水素又はメチルであり、さらにより好ましくは、メチルである。

【0112】

一実施形態において、Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員～８員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択される。好ましくは、Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員若しくは７員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は１個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、ヘテロ原子はＯ及びＳから選択される。さらにより好ましくは、Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員若しくは７員部分飽和シクロアルキル環又は６員部分飽和ジヒドロピラニル環を形成し得る。

【0113】

一実施形態において、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員不飽和環を形成し得る。

【0114】

構造（ＩＶｃ）に係る二座キレートリガンドにおいて、好ましくは：
Ｒ¹⁸は、水素、メトキシ、２－メトキシエトキシ、［２－メトキシ－１－（メトキシメチル）エトキシ］、２－（２－メトキシエトキシ）エトキシ、２－ヒドロキシエトキシ、２－メトキシ－２－オキソ－エトキシ又は（２－イソ－プロポキシ－２－オキソ－メトキシ）であり；
Ｒ^19A及びＲ^19Bは各々独立して、水素及びメトキシから選択され；
Ｒ²⁰は、水素、メチル又はメトキシであり；
Ｒ²¹はメチルであり；又は
Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、１個の酸素を含む、６若しくは７員部分飽和シクロアルキル環又は非芳香族ヘテロシクリル環を形成し得；
Ｒ²²は水素であり；
Ｒ²³は水素又はメチルであり；
Ｒ²⁴はメトキシであり；並びに
Ｒ²⁵は水素又はメチルである。

【0115】

より好ましくは、Ｒ¹⁸は、水素、メトキシ、２－メトキシエトキシ、［２－メトキシ－１－（メトキシメチル）エトキシ］又は２－（２－メトキシエトキシ）エトキシであり；
Ｒ^19A及びＲ^19Bは各々独立して、水素及びメトキシから選択され；
Ｒ²⁰は、水素、メチル又はメトキシであり；
Ｒ²⁰は水素であり；
Ｒ²¹はメチルであり；又は
Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６又は７員部分飽和シクロアルキル環を形成し得；
Ｒ²²は水素であり；
Ｒ²³は水素又はメチルであり；
Ｒ²⁴はメトキシであり；並びに
Ｒ²⁵は水素又はメチルである。

【0116】

実施形態の１つの組において、Ｒ¹⁸は、水素、メトキシ、メトキシエトキシ、２（２－メトキシエトキシ）エトキシ、［２－メトキシ－１－（メトキシメチル）エトキシ］、２－ヒドロキシエトキシ又は２－メトキシ－２－オキソ－エトキシであり；
Ｒ^19A及びＲ^19Bは各々独立して、水素及びメトキシから選択され；
Ｒ²⁰は水素であり；
Ｒ²¹はメチルであり；又は
Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６又は７員部分飽和シクロアルキル又は６員部分飽和ジヒドロピラニル環を形成し；
Ｒ²²は水素であり；
Ｒ²³及びＲ²⁵は各々独立して、水素及びメチルから選択され；並びに
Ｒ²⁴はメトキシであり；又は
Ｒ²⁴及びＲ²⁵は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員不飽和環を形成する。

【0117】

二座キレートリガンドの好ましい例は、以下に示すとおり、式（ＩＶ－１）、（ＩＶ－２）、（ＩＶ－３）、（ＩＶ－４）、（ＩＶ－５）、（ＩＶ－６）、（ＩＶ－７）、（ＩＶ－８）、（ＩＶ－９）、（ＩＶ－１０）、（ＩＶ－１３）、（ＩＶ－１４）、（ＩＶ－１５）、（ＩＶ－１６）、（ＩＶ－１７）又は（ＩＶ－１８）：

【化20】

の化合物、特に、式（ＩＶ－１）、（ＩＶ－２）、（ＩＶ－３）、（ＩＶ－４）、（ＩＶ－５）、（ＩＶ－６）、（ＩＶ－７）、（ＩＶ－８）、（ＩＶ－９）、（ＩＶ－１０）、（ＩＶ－１３）及び（ＩＶ－１４）の化合物である。

【0118】

本発明によれば、Ｘはアニオン基、すなわち、正味で負の電荷を有する基を表し、ここで、Ｘはハロゲンではない。Ｘがハロゲンである（ＩＩＩａ）の錯体においては、アニオン基が金属に対して過度に強固に結合しており、このような錯体は、酸性水素化条件下において、触媒的に活性な水素化物中間体を十分な量で提供しないことを本発明者らは見出した。好適なアニオン基Ｘの例としては、式Ｒ¹⁴－ＳＯ₂Ｏ^-又はＲ¹⁵－Ｃ（Ｏ）Ｏ^-のアニオン性リガンドが挙げられる。

【0119】

Ｒ¹⁴は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル又はフェニルであり、ここで、フェニル部分は、同一であっても異なっていてもよい、Ｒ¹⁶から選択される１個、２個、３個又は４個の置換基により任意選択により置換されている。

【0120】

Ｒ¹⁶は、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ハロアルキル、ニトロ又はハロゲンであり、好ましくはメチル、エチル、トリフルオロメチル、ニトロ又はハロゲンであり、より好ましくはメチル又はハロゲンであり、さらにより好ましくはメチル、クロロ又はフルオロである。

【0121】

好ましくは、Ｒ¹⁴は、ヒドロキシ、メチル、トリフルオロメチル、フェニル又はトリルである。

【0122】

Ｒ¹⁵はＣ₁～Ｃ₆ハロアルキル又はフェニルであり、ここで、フェニル部分は、同一であっても異なっていてもよい、Ｒ¹⁷から選択される１個、２個、３個又は４個の置換基により任意選択により置換されている。

【0123】

Ｒ¹⁷は、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ハロアルキル、ニトロ又はハロゲンである。

【0124】

好ましくは、Ｒ¹⁵はトリフルオロメチルである。

【0125】

一実施形態において、Ｘは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェンスルフェート、トリフレート又はトリフルオロ酢酸塩である。

【0126】

Ｙは、中性リガンド、すなわち、全体で無電荷であるリガンドを表す。中性リガンドの例としては、Ｈ₂Ｏ、アルコール、エーテル、ケトン、エステル、アミド及びニトリルが挙げられる。好ましくは、Ｙは、Ｈ₂Ｏ、ＰｈＣＮ又はＭｅＣＮであり、より好ましくはＨ₂Ｏ又はＭｅＣＮであり、最も好ましくは、ＹはＨ₂Ｏである。

【0127】

Ｚは、アニオン基、すなわち、正味で負の電荷を有する基を表し、ここで、Ｚはハロゲン又はアセテートではない。アニオン基の例としては、式Ｒ¹⁴－ＳＯ₂Ｏ^-（ここで、Ｒ¹⁴は上記に記載されている）のリガンド、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロリン酸、過塩素酸、テトラフェニルボレート、テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレート、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フッ素化アルコキシアルミネート、メシレート、トリフレート、トシレート、ニトレート、ハイドロジェンスルフェート又はスルフェート、及び、他の弱く配位するアニオン基が挙げられる。好ましくは、Ｚは、式Ｒ¹⁴－ＳＯ₂Ｏ^-（ここで、Ｒ¹⁴は上記に記載されている）のもの、メシレート、スルフェート、ハイドロジェンスルフェート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロリン酸、テトラフェニルボレート又はテトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレート、より好ましくは、メシレート又はテトラフルオロボレートである。

【0128】

キラルイリジウム触媒が式（ＩＩＩａ）又は式（ＩＩＩｂ）の化合物である他の実施形態において、二座キレートリガンドはキラル二座キレートリガンドである。シクロペンタジエニルリガンドはキラルシクロペンタジエニルリガンド（上記に記載のとおり）又はキラルシクロペンタジエニルリガンドであり、このようなキラルシクロペンタジエニルリガンドは、例えばＨａｒｔｗｉｇ，Ｊ．ＯｒｇａｎｏｔｒａｎｓｉｔｉｏｎＭｅｔａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙ：ＦｒｏｍＢｏｎｄｉｎｇｔｏＣａｔａｌｙｓｉｓ；ＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙＳｃｉｅｎｃｅＢｏｏｋｓ：Ｓａｕｓａｌｉｔｏ，ＣＡ，２０１０；Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｒｅｖ．２０１２，４１，４４８４－４５１０；Ｃｏｏｒｄ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２０１５，２９６，４５－９０に記載されている。好適なキラルシクロペンタジエニルリガンドの例は、シクロペンタジエン（Ｃｐ）及び１，２，３，４，５－ペンタメチルシクロペンタジエン（Ｃｐ＊）及びその誘導体である。

【化21】

【0129】

好適なキラル二座キレートリガンド

【化22】

の例は、構造（Ｉｖｅ）：

【化23】

の誘導体であり、式中、Ｒ^19A、Ｒ^19B、Ｒ²⁰、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシ又はＣ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニルであり、ここで、各Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されており、好ましくは、各Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されている。

【0130】

好ましくは、Ｒ^19A、Ｒ^19B、Ｒ²⁰、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルコキシ又はＣ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニルであり、ここで、各Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換され、好ましくは、各Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されている。

【0131】

実施形態の１つの組において、Ｒ^19A、Ｒ^19B、Ｒ²⁰、Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は各々独立して、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はＣ₁～Ｃ₈アルコキシである。

【0132】

好ましくは、Ｒ^19Aは、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、（ヒドロキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ又は（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシである。より好ましくは、Ｒ^19Aは、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、さらにより好ましくは、水素又はメトキシである。

【0133】

【0134】

【0135】

【0136】

好ましくは、Ｒ²²は、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルであり、より好ましくは、Ｒ²²は水素である。

【0137】

好ましくは、Ｒ²³は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、より好ましくは、水素、メチル、エチル、メトキシ又はエトキシである。さらにより好ましくは、Ｒ²³は水素又はメチルである。さらにより好ましくは、Ｒ²³はメチルである。

【0138】

好ましくは、Ｒ²⁴はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、より好ましくは、メトキシである。

【0139】

【0140】

【0141】

一実施形態において、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員不飽和環を形成し得る。

【0142】

Ｒ²⁶は、キラルＣ₁～Ｃ₂₀アルキル置換基である。特に、Ｒ²⁶は以下の構造：

【化24】

の誘導体であり、ここで、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒ²⁹、Ｒ³⁰及びＲ³¹は各々独立して、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル及びフェニルから選択され、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、ハロゲン及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換され、ここで、Ｒ²⁷及びＲ²⁸は同一でなくてもよく、又は、Ｒ²⁹及びＲ³⁰は同一ではなくてもよい。好ましくは、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒ²⁹、Ｒ³⁰及びＲ³¹は各々独立して、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル及びフェニルから選択され、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、ハロゲン及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されている。

【0143】

より好ましくは、Ｒ²⁷は、メチル、クロロ、フルオロ及びメトキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されたフェニルである。Ｒ²⁸、Ｒ²⁹及びＲ³⁰は各々独立して、水素及びメチルから選択され、好ましくは水素である。Ｒ³¹は、好ましくはＣ₁～Ｃ₃アルキルであり、より好ましくはメチルである。

【0144】

或いは、Ｒ²⁷及びＲ²⁹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、３員～８員飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択される。好ましくは、Ｒ²⁷及びＲ²⁹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、３員～６員飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、Ｎ及びＯから選択される１個のヘテロ原子を含む非芳香族環である。さらにより好ましくは、Ｒ²⁷及びＲ²⁹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、５又は６員炭素環を形成し得る。

【0145】

或いは、Ｒ²⁹及びＲ³⁰は、これらが結合している炭素と一緒になって、オキソ（＝Ｏ）基を形成する。

【0146】

本発明に係る構造（Ｉｖｅ）のキラル二座キレートリガンドにおいて、好ましくは：
Ｒ^19A及びＲ^19Bは水素であり；
Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員～８員部分飽和シクロアルキル環を形成し得；
Ｒ²²、Ｒ²³及びＲ²⁵は各々独立して、水素又はメチルであり；
Ｒ²⁴はメトキシであり；
Ｒ²⁶は

【化25】

であり、
ここで、Ｒ²⁷はフェニルであり；
Ｒ²⁸、Ｒ²⁹及びＲ³⁰は各々独立して、水素であり；並びに
Ｒ³¹はメチル又は水素であり、特にＲ³¹はメチルである。

【0147】

二座キレートリガンドの特に好ましい例は、以下に示されている式（ＩＶ－１１）、（ＩＶ－１１－ｅｎｔ）、（ＩＶ－１２）又は（ＩＶ－１２－ｅｎｔ）：

【化26】

の化合物である。

【0148】

上記のプロセスによってもたらされる（２Ｓ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１－ｅｎｔ）を３－（ジフルオロメチル）－１－メチル－ピラゾール－４－塩化カルボニル（ＸＩＩ）とさらに反応させて、３－（ジフルオロメチル）－Ｎ－メトキシ－１－メチル－Ｎ－［（１Ｓ）－１－メチル－２－（２，４，６－トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール－３－カルボキサミド（ＸＩＩＩ－１－ｅｎｔ）を得るプロセス：

【化27】

がさらに提供される。

【0149】

上記のプロセスによってもたらされる（２Ｒ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１）を３－（ジフルオロメチル）－１－メチル－ピラゾール－４－塩化カルボニル（ＸＩＩ）とさらに反応させて、３－（ジフルオロメチル）－Ｎ－メトキシ－１－メチル－Ｎ－［（１Ｒ）－１－メチル－２－（２，４，６－トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール－３－カルボキサミド（ＸＩＩＩ－１）を得るプロセス：

【化28】

もまた提供される。

【0150】

本発明の一実施形態において、イリジウム触媒は、式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－２）、（ＩＩＩ－３）、（ＩＩＩ－４）、（ＩＩＩ－１５）、（ＩＩＩ－１６）又は（ＩＩＩ－２４）の化合物；

【化29】

特に、式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－２）、（ＩＩＩ－３）又は（ＩＩＩ－１５）の化合物であり；式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－２）、（ＩＩＩ－３）、（ＩＩＩ－４）、（ＩＩＩ－１５）、（ＩＩＩ－１６）又は（ＩＩＩ－２４）の化合物、特に、式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－２）、（ＩＩＩ－３）又は（ＩＩＩ－１５）の化合物もまた提供される。

【0151】

本発明の他の実施形態において、イリジウム触媒は、式（ＩＩＩ－１－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－２－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－３－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－４－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－１５－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－１６－ｅｎｔ）又は（ＩＩＩ－２４－ｅｎｔ）の化合物：

【化30】

特に、式（ＩＩＩ－１－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－２－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－３－ｅｎｔ）又は（ＩＩＩ－１５－ｅｎｔ）の化合物であり；式（ＩＩＩ－１－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－２－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－３－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－４－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－１５－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－１６－ｅｎｔ）又は（ＩＩＩ－２４－ｅｎｔ）の化合物、特に、式（ＩＩＩ－１－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－２－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－３－ｅｎｔ）又は（ＩＩＩ－１５－ｅｎｔ）の化合物もまた提供される。

【0152】

本発明の他の実施形態において、式（ＩＩＩｃ）又は（ＩＩＩｄ）：

【化31】

の化合物が提供されており、ここで、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立して、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルである。好ましくは、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立して、水素、メチル又はイソプロピルであり、より好ましくは、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々水素を表す。

【0153】

【0154】

好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ナフチル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。より好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。さらにより好ましくは、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ及びフェニルであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。さらにより好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、メトキシ、イソ－プロポキシ、フェニル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシである。さらにより好ましくは、メトキシ、イソ－プロポキシ又はフェニルである。

【0155】

【0156】

Ｒ¹⁸、Ｒ^19A、Ｒ^19B、Ｒ²⁰、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシ又はＣ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニルであり、ここで、各Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されており、好ましくは、各Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されている。

【0157】

【0158】

好ましくは、Ｒ¹⁸は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、（ヒドロキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、（Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシ（Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシＣ₁～Ｃ₄アルキル）－Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシ又は（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、より好ましくは、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、（ヒドロキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ又は（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシである。さらにより好ましくは、Ｒ¹⁸は、水素、メトキシ、エトキシ、２－ヒドロキシエトキシ、２－メトキシエトキシ、［２－メトキシ－１－（メトキシメチル）エトキシ］、２－（２－メトキシエトキシ）エトキシ、２－メトキシ－２－オキソ－エトキシ又は（２－イソ－プロポキシ－２－オキソ－メトキシ）である。さらにより好ましくは、Ｒ¹⁸は、水素、メトキシ、エトキシ、２－ヒドロキシエトキシ、２－メトキシエトキシ、［２－メトキシ－１－（メトキシメチル）エトキシ］又は２－（２－メトキシエトキシ）エトキシである。

【0159】

好ましくは、Ｒ^19Aは、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、（ヒドロキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ又は（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシである。より好ましくは、Ｒ^19Aは、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシ、及び、さらにより好ましくは、水素又はメトキシである。

【0160】

好ましくは、Ｒ^19Bは、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、（ヒドロキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ又は（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ）－Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシである。より好ましくは、Ｒ^19Bは、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシ、及び、さらにより好ましくは、水素又はメトキシである。

【0161】

【0162】

【0163】

好ましくは、Ｒ²²は、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルであり、より好ましくは、Ｒ²²は水素である。

【0164】

【0165】

好ましくは、Ｒ²⁴はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、より好ましくは、メトキシである。

【0166】

【0167】

【0168】

一実施形態において、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員不飽和環を形成し得る。

【0169】

Ｘは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェンスルフェート、トリフレート又はトリフルオロ酢酸塩であり；
Ｙは、Ｈ₂Ｏ、ＰｈＣＮ又はＭｅＣＮであり；及び
Ｚは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェンスルフェート、トリフレートテトラフルオロボレート、ヘキサフルオロリン酸、テトラフェニルボレート又はテトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートである。

【0170】

本発明のさらなる実施形態において、式（ＩＩＩｃ－ｅｎｔ）又は（ＩＩＩｄ－ｅｎｔ）：

【化32】

【0171】

【0172】

好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ナフチル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。より好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。さらにより好ましくは、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ及びフェニルであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。さらにより好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、メトキシ、イソ－プロポキシ、フェニル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシである。さらにより好ましくは、メトキシ、イソ－プロポキシ又はフェニルである。

【0173】

【0174】

【0175】

【0176】

【0177】

【0178】

【0179】

【0180】

Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びＣ₁～Ｃ₈アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されている。好ましくは、Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されている。より好ましくは、Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はフェニルであり、さらにより好ましくは、Ｃ₁～Ｃ₃アルキルである。さらにより好ましくは、Ｒ²¹はメチルである。

【0181】

好ましくは、Ｒ²²は、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルであり、より好ましくは、Ｒ²²は水素である。

【0182】

【0183】

好ましくは、Ｒ²⁴はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、より好ましくは、メトキシである。

【0184】

【0185】

【0186】

一実施形態において、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員不飽和環を形成し得る。

【0187】

【0188】

本発明の他の実施形態において、式（ＩＩＩｅ）又は（ＩＩＩｆ）：

【化33】

の化合物が提供されており、ここで、各Ｒは独立して、水素又はＣ₁～Ｃ₈アルキルであり、好ましくは水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルであり、より好ましくは水素又はメチルである。

【0189】

Ｒ^19A、Ｒ^19B、Ｒ²⁰、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシ又はＣ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニルであり、ここで、各Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されており、好ましくは、各Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ部分は、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びフェニルから選択される１個又は２個の基により任意選択により置換されている。

【0190】

【0191】

【0192】

【0193】

【0194】

Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びＣ₁～Ｃ₈アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されている。好ましくは、Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されている。より好ましくは、Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はフェニルであり、さらにより好ましくは、Ｃ₁～Ｃ₃アルキルである。さらにより好ましくは、Ｒ²¹はメチルである。

【0195】

好ましくは、Ｒ²²は、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルであり、より好ましくは、Ｒ²²は水素である。

【0196】

【0197】

好ましくは、Ｒ²⁴はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、より好ましくは、メトキシである。

【0198】

【0199】

【0200】

一実施形態において、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員不飽和環を形成し得る。

【0201】

Ｒ²⁶は、キラルＣ₁～Ｃ₂₀アルキル置換基である。特に、Ｒ²⁶は、以下の構造の誘導体：

【化34】

であり、ここで、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒ²⁹、Ｒ³⁰及びＲ³¹は各々独立して、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル及びフェニルから選択され、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、ハロゲン及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換され、ここで、Ｒ²⁷及びＲ²⁸は同一でなくてもよく、又は、Ｒ²⁹及びＲ³⁰は同一ではなくてもよい。好ましくは、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒ²⁹、Ｒ³⁰及びＲ³¹は各々独立して、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル及びフェニルから選択され、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、ハロゲン及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されている。

【0202】

【0203】

【0204】

本発明の一実施形態において、式（ＩＩＩｇ）又は（ＩＩＩｈ）：

【化35】

【0205】

【0206】

好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ナフチル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。より好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。さらにより好ましくは、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ及びフェニルであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。さらにより好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、メトキシ、イソ－プロポキシ、フェニル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシである。さらにより好ましくは、メトキシ、イソ－プロポキシ又はフェニルである。

【0207】

【0208】

【0209】

【0210】

【0211】

【0212】

【0213】

【0214】

Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びＣ₁～Ｃ₈アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されている。好ましくは、Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されている。より好ましくは、Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はフェニルであり、さらにより好ましくは、Ｃ₁～Ｃ₃アルキルである。さらにより好ましくは、Ｒ²¹はメチルである。

【0215】

好ましくは、Ｒ²²は、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルであり、より好ましくは、Ｒ²²は水素である。

【0216】

【0217】

好ましくは、Ｒ²⁴はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、より好ましくは、メトキシである。

【0218】

【0219】

【0220】

一実施形態において、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員不飽和環を形成し得る。

【0221】

【0222】

Ｒ³⁴は、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルコキシ又はフェニルである。好ましくは、Ｒ³⁴はハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、より好ましくはＲ³⁴は各々、メチル又はメトキシを表し；又は
Ｒ³²及びＲ³³、又は、Ｒ³³及びＲ³⁴、又は、Ｒ³⁴及びＲ³⁴は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、５員～１０員カルボシクリル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個、２個又は３個のヘテロ原子を含む単環式環であり、ここで、ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択される。

【0223】

【0224】

本発明の他の実施形態において、式（ＩＩＩｇ－ｅｎｔ）又は（ＩＩＩｈ－ｅｎｔ）：

【化36】

【0225】

【0226】

好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ナフチル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。より好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。さらにより好ましくは、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ及びフェニルであり、ここで、フェニル部分は各々、任意選択により、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基で置換されている。さらにより好ましくは、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々独立して、メトキシ、イソ－プロポキシ、フェニル、フェノキシ又はｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルオキシである。さらにより好ましくは、メトキシ、イソ－プロポキシ又はフェニルである。

【0227】

【0228】

【0229】

【0230】

【0231】

【0232】

【0233】

【0234】

Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びＣ₁～Ｃ₈アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されている。好ましくは、Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されている。より好ましくは、Ｒ²¹は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はフェニルであり、さらにより好ましくは、Ｃ₁～Ｃ₃アルキルである。さらにより好ましくは、Ｒ²¹はメチルである。

【0235】

好ましくは、Ｒ²²は、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルであり、より好ましくは、Ｒ²²は水素である。

【0236】

【0237】

好ましくは、Ｒ²⁴はＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、より好ましくは、メトキシである。

【0238】

【0239】

一実施形態において、Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員～８員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択される。好ましくは、Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６若しくは７員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は１個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、ヘテロ原子はＯ及びＳから選択される。さらにより好ましくは、Ｒ²⁰及びＲ²¹は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員若しくは７員部分飽和シクロアルキル環又は６員部分飽和ジヒドロピラニル環を形成し得る。

【0240】

一実施形態において、Ｒ²⁴及びＲ²⁵は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員不飽和環を形成し得る。

【0241】

【0242】

【0243】

【0244】

【0245】

一実施形態において、式（ＩＩ）のヒドロキシルアミンは、（２Ｓ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１－ｅｎｔ）であると共に、イリジウム触媒が式（ＩＩＩ－１－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－２－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－３－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－４－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－１６－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－１８－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－１９－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－２２－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－２３－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－２４－ｅｎｔ）又は（ＩＩＩ－１５－ｅｎｔ）の化合物であり、特に、イリジウム触媒が式（ＩＩＩ－１－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－２－ｅｎｔ）、（ＩＩＩ－３－ｅｎｔ）又は（ＩＩＩ－１５－ｅｎｔ）の化合物であるプロセスによってもたらされる。

【0246】

他の実施形態において、式（ＩＩ）のヒドロキシルアミンは、（２Ｒ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１）であると共に、イリジウム触媒が式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－２）、（ＩＩＩ－３）、（ＩＩＩ－４）、（ＩＩＩ－１６）、（ＩＩＩ－１８）、（ＩＩＩ－１９）、（ＩＩＩ－２２）、（ＩＩＩ－２３）、（ＩＩＩ－２４）又は（ＩＩＩ－１５）の化合物であり、特に、イリジウム触媒が式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－２）、（ＩＩＩ－３）又は（ＩＩＩ－１５）の化合物であるプロセスによってもたらされる。

【0247】

国際公開第１４／２０６８５５号及び国際公開第１５／０５２０７６号に記載されているとおり、一般式（ＩＩ）のいく種かのキラルヒドロキシルアミン及びキラルヒドロキシルアミン塩が、殺有害生物有効性化合物の中間体であることが公知である。

【0248】

好適なＣ，Ｎリガンド（ここで、Ｃ，Ｎリガンドは、式（ＩＶ）、（ＩＶｃ）及び（ＩＶｅ）の化合物において定義されている）は、対応するケトン又はアルデヒド（ＩＶ－ケト）及びアニリン（ＩＶ－アニリン）から、縮合反応を介して調製され得る。この縮合反応は、出発材料を加熱することにより熱的に実施されるか、又は、脱水剤を用いることにより実施され得る。反応温度は通常－８０℃～２００℃であり、任意選択により、溶剤の存在下、及び、触媒の存在下に実施され得る。好適な脱水剤としては、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、四塩化チタン及び分子ふるいが挙げられる。好適な触媒としては、硫酸及びパラ－トルエンスルホン酸が挙げられる。好適な溶剤はトルエン及びジクロロメタンである。縮合反応に係るさらなる試薬及び反応条件は、例えば国際公開第２０１３／１５３４０７号において報告されている。

【化37】

【0249】

式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｃ）、（ＩＩＩｅ）及び（ＩＩＩｇ）のイリジウム触媒は、公知のイリジウム錯体（ＶＩ）（ここで、Ｈａｌは、ハロゲン（ヨージド、ブロミド、クロリド又はフッ化物）であり、好ましくはヨージド、ブロミド又はクロリドである）から開始して調製され得る。このような錯体は、例えばＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１５，５４，１２１４９に記載されている。ステップ（ａ）において、イリジウム錯体（ＶＩ）は、好適なＣ，Ｎリガンド（ここで、Ｃ，Ｎリガンドは、式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｃ）、（ＩＩＩｅ）及び（ＩＩＩｇ）の化合物において定義されている）を伴うシクロメタル化反応を介して反応に供される。好ましくは、シクロメタル化反応は、例えば酢酸ナトリウム又は酢酸銀といった塩基、及び、例えばジクロロメタンといった溶剤の存在下で実施される。反応温度は通常、－２０℃～１５０℃、好ましくは０℃～１２０℃、より好ましくは２０℃～１００℃である。シクロメタル化反応に係るさらに好適な塩基、溶剤及び反応条件は、例えばＤａｌｔｏｎＴｒａｎｓ．２００３，４１３２；Ｏｒｇ．Ｂｉｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．２０１３，１１，６９３４；国際公開第２０１３／１５３４０７号；及び、Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｒｅｖ．２０１４，４３，２７９９において報告されている。ステップ（ｂ）において、イリジウム錯体（ＶＩＩ）は、銀メシレート、硫酸銀、銀ｐ－トシレート、ナトリウムテトラフルオロボレート又はナトリウムメシレートなどの好適な金属塩（Ｘ－Ｍ、ここで、Ｘは（ＩＩＩａ－１）において定義されており、及び、Ｍは金属を表す）を用いるハロゲン引き抜き（リガンド交換）反応において反応に供される。このような反応は、好ましくは、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン又はテトラヒドロフランなどの非配位性又は弱配位性溶剤中において実施される。反応温度は通常、－２０℃～１５０℃、好ましくは０℃～１００℃、より好ましくは０℃～８０℃である。

【化38】

【0250】

触媒合成を例えばアセトニトリル又は水といった配位性溶剤（ステップｂ－２）の存在下で行う場合、構造（ＩＩＩｂ）、（ＩＩＩｄ）、（ＩＩＩｆ）及び（ＩＩＩｈ）の錯体が代わりに単離され得る。ハロゲン引き抜き反応に係るさらに好適な試薬及び条件は、例えばＣｈｅｍ．Ｒｅｖ．１９８８，８８，１４０５；Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．１９９３，９３，９２７；Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２００４，４３，２０６６；及び、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ２０１７，３６，８０１において報告されている。ここに記載のものと同一の条件が、錯体（ＶＩ）の反対の鏡像異性体から、及び／又は、Ｃ，Ｎリガンドの反対の鏡像異性体から開始される、触媒（ＩＩＩａ－ｅｎｔ）、（ＩＩＩｂ－ｅｎｔ）、（ＩＩＩｃ－ｅｎｔ）、（ＩＩＩｄ－ｅｎｔ）、（ＩＩＩｅ－ｅｎｔ）、（ＩＩＩｆ－ｅｎｔ）、（ＩＩＩｇ－ｅｎｔ）、（ＩＩＩｈ－ｅｎｔ）の反対の鏡像異性体の調製に好適である。

【0251】

化合物（ＶＩＩ）は単離されてもよく、又は、形成され、及び、インサイツで用いられてもよく、これは、ステップ（ａ）及び（ｂ）の両方が単離を伴わずに行われることを意味する。ステップ（ａ）及び（ｂ）の順番は入れ替えられてもよく、ここでは、ステップ（ｂ）又は（ｂ－２）がステップ（ａ）の前に行われる。

【0252】

本発明のプロセスによれば、イリジウム触媒の量は通常、オキシム基材のモル数を基準として、０．００１ｍｏｌ％～５ｍｏｌ％、好ましくは０．０１ｍｏｌ％～１ｍｏｌ％である。

【0253】

本発明のプロセスによれば、水素圧は通常、１～１００ｂａｒ、好ましくは５～８０ｂａｒ、より好ましくは７～６０ｂａｒ、最も好ましくは１０～５０ｂａｒである。

【0254】

本発明のプロセスによれば、反応温度は通常、－２０℃～１２０℃、好ましくは０℃～１００℃、より好ましくは０℃～８０℃、さらにより好ましくは１０℃～６０℃である。

【0255】

好ましくは、オキシム水素化は少なくとも化学量論量の酸の存在下で行われる。従って、酸のモル量は、還元されるオキシム基材の量以上であるべきであり、例えば少なくとも１～３モル当量、好ましくは１～２モル当量、及び、特に１、１．１又は２モル当量である。

【0256】

酸のｐＫａは、オキシム基材及びヒドロキシルアミン生成物を少なくとも部分的にプロトン化することが可能であるようなものでなければならない。従って、酸のｐＫａは、生成物であるヒドロキシルアミン塩（ＩＩ）のｐＫａよりも低いことが好ましい。ほとんどのオキシム基材に好適な酸としては、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、硫酸、トリフリック酸、トリフルオロ酢酸及びテトラフルオロ硼酸が挙げられる。好ましくは、酸は、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、硫酸、トリフルオロ酢酸及びトリフリック酸から選択される。より好ましくは、酸は、メタンスルホン酸、カンファースルホン酸及び硫酸から選択される。

【0257】

典型的には、オキシム水素化反応は溶剤の存在下で行われ、好ましい溶剤は、アルコール、エステル、エーテル又は炭化水素などの有機溶剤である。最も好ましい溶剤は、メタノール、エタノール、トリフルオロエタノール、イソプロパノール、２－ブタノール、２－メチル－２－ブタノールなどのアルコール、並びに、テトラヒドロフラン及びメチルテトラヒドロフランなどのエーテルである。好ましくは、溶剤は、イソプロパノール、２－メチル－２－ブタノール、エタノール及びメタノールである。

【0258】

一実施形態において、式（ＩＩ）のヒドロキシルアミンの主立体異性体は、６０％の鏡像異性体過剰率で、より好ましくは、８０％の鏡像異性体過剰率、及び、さらにより好ましくは、９０％の鏡像異性体過剰率で得られる。

【実施例】

【0259】

以下の実施例は本発明を例示するためのものである。

【0260】

以下の略語が用いられている：ｓ＝一重項；ｂｓ＝幅広の一重項；ｄ＝二重項；ｂｒｄ＝幅広の二重項、ｄｄ＝二重の二重項、ｄｔ＝二重の三重項、ｔ＝三重項、ｔｔ＝三重の三重項、ｑ＝四重項、ｈｅｐｔ＝七重項、ｍ＝多重項、ｄｄｄ＝二重項の二重項の二重項、ｄｔｄ＝二重項の三重項の二重項、ｄｄｄｔ＝三重項の二重項の二重項の二重項、ＲＴ＝室温、Ｒ_t＝保持時間、ＭＨ⁺＝分子カチオン＋プロトンの質量。

【0261】

¹Ｈ、¹³Ｃ及び¹⁹ＦＮＭＲスペクトルを、ＢｒｕｋｅｒＡｖａｎｃｅＩＩＩ４００分光計（４００ＭＨｚ）及びＢｒｕｋｅｒＤＲＸ６００（６００ＭＨｚ）分光計で記録した。

【0262】

融点をＢｕｅｃｈｉ融点装置、モデルＢ－５４０で計測したが、補正はされていない。

【0263】

赤外分光を、Αｌｐｈａ－ＰＢｒｕｋｅｒＦＴ－ＩＲ分光計で記録した。強く及び関連する吸収のみが報告されている。

【0264】

旋光性を、０．５ｃｍセルとＮａ５８９ｎｍフィルタを用いて、ＰｏｌａｒｔｒｏｎｉｃＭ旋光計で計測した。

【0265】

ＨＲＭＳ計測値をＡｇｉｌｅｎｔＬＣ－ＭＳＴＯＦ質量分光計（ＥＳＩ）で記録した。高分解能での質量は、ｍ／ｚで示し、分子イオン［Ｍ－Ｉ］＋、［Ｍ－ＯＭｓ］＋、［Ｍ＋Ｈ］＋及び［Ｍ＋Ｎａ］＋のみを報告した。

【0266】

特段の記載がない限り、キラル分析は、ＷａｔｅｒｓＵＰＬＣ－ＨＣｌａｓｓ、ＷａｔｅｒｓＳＦＣＡｃｑｕｉｔｙＵＰＣ²／ＱＤａ、ＡｇｉｌｅｎｔＨＰＬＣ及びＳｈｉｍａｄｚｕＵＰＬＣシステムで実施した。

【0267】

キラルシクロペンタジエニルイリジウムヨージドダイマー錯体（ＶＩ）は、以下の文献の手順：Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１５，５４，１２１４９；Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１８，５７，５４５９；Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ（ＤＯＩ：１０．１０２１／ａｃｓ．ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．９ｂ００３６５）に従って調製した。（ＶＩ－ｅｎｔ）の反対の鏡像異性体は、同等の手順に従い、出発材料の反対の鏡像異性体から出発することにより調製した。メタンスルホン酸は、ＳｉｇｍａＡｌｄｒｉｃｈから＞９９％エクストラピュアグレードとして購入し、デシケータに保管した。

【0268】

実施例１：基本手順１：キラルシクロペンタジエニルイリジウムヨージドダイマー錯体（ＶＩ－１－ｅｎｔ）の調製

【化39】

キラルシクロペンタジエニルリガンド（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２０１５，１３７，１２４７８に従って調製した；二重結合異性体の混合物、３５０ｍｇ、０．６２９ｍｍｏｌ、１．００当量）をベンゼン（４．０ｍＬ、凍結脱気により脱気、３サイクル）中に溶解し、タリウムエトキシド（２２０ｍｇ、０．８８０ｍｍｏｌ、１．４０当量）を、ベンゼン（２．０ｍＬ、脱気）中の溶液として、窒素雰囲気下、暗中に、室温で添加した。混合物を、シールしたチューブ中において、２時間、８０℃に加熱した。平行して、［Ｉｒ（ｃｏｅ）₂Ｃｌ］₂（３９４ｍｇ、０．４４０ｍｍｏｌ、０．７０当量）のＴＨＦ（６．０ｍＬ）中の懸濁液に、０℃で、清透な黄色の溶液が得られるまで、エチレンガスを通気させた。「インサイツ」で生成された［Ｉｒ（エチレン）₂Ｃｌ］₂のこの溶液を上記で調製した反応混合物に、室温、窒素雰囲気下で添加し、１８時間撹拌した。得られた赤色のエマルジョンをフラッシュカラムクロマトグラフィ（ＳｉＯ２；ｎＨｅｘ：トルエン７０：３０から０：１００）により精製して、対応する［Ｃｐ^xＩｒ（エチレン）₂］錯体（４０９ｍｇ）を薄い黄色のガム／固体として得た。［Ｃｐ^xＩｒ（エチレン）₂］錯体（４０９ｍｇ、０．４９１ｍｍｏｌ、１．００当量）をトルエン（３．０ｍＬ）中に溶解し、ヨウ素（１３７ｍｇ、０．５４０ｍｍｏｌ、１．１当量）のトルエン（２．００ｍＬ）中の溶液を、０℃、窒素雰囲気下で添加した。得られた茶色の溶液を３０分間、０℃で撹拌した。ｎ－ヘキサン（１５ｍＬ）を添加し、濃色の沈殿物をろ出し、ペンタンで洗浄し（３×５ｍＬ）、再度ジクロロメタン中に溶解させた。溶剤を除去した後、キラルシクロペンタジエニルイリジウムヨージドダイマー錯体（ＶＩ－１－ｅｎｔ）を、明るい焦げ茶色の固体（４８９ｍｇ、７８％収率）として得た。¹ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ_H＝８．０８（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ），７．９４－７．８８（ｍ，２Ｈ），７．８７（ｄ，Ｊ＝０．８Ｈｚ，２Ｈ），７．８３（ｓ，２Ｈ），７．４９（ｄｄｄｄ，Ｊ＝１７．５，８．１，６．８，１．２Ｈｚ，４Ｈ），７．３６－７．２７（ｍ，８Ｈ），７．１４－７．１０（ｍ，２Ｈ），７．１０－７．０３（ｍ，８Ｈ），７．０２－６．９６（ｍ，２Ｈ），６．７６（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，４Ｈ），５．１７－５．１２（ｍ，２Ｈ），４．７３（ｔ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，２Ｈ），４．５９（ｔ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，２Ｈ），３．９６（ｓ，６Ｈ），３．８４（ｓ，６Ｈ），３．７９（ｄ，Ｊ＝１４．１Ｈｚ，２Ｈ），３．７３（ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ，２Ｈ），３．５９（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，２Ｈ），３．１６（ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈｚ，２Ｈ）；¹³ＣＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ_C＝１５９．４１，１５８．７９，１４０．９３，１３９．４９，１３８．１７，１３６．４１，１３３．８６，１３２．７５，１３２．６８，１３２．６０，１３２．５１，１３２．００，１３１．６９，１３１．５３，１３１．００，１３０．７３，１２９．９５，１２９．５６，１２８．１７，１２８．０２，１２６．７７，１２６．６３，１２６．５８，１２６．５５，１１４．３０，１１４．２３，９５．７９，９０．７６，８４．０２，８０．６５，６８．０４，５５．７５，５５．６４，３０．２２，２７．７３；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ⁺）：Ｃ₈₂Ｈ₆₂Ｉ₃Ｉｒ₂Ｏ₄［Ｍ－Ｉ］⁺のｍ／ｚ計算値１８７７．１０４１、実測値１８７７．１０４８。

【0269】

【表1】

【0270】

実施例２：基本手順２Ａ、式（ＩＶ）のリガンドの合成

【化40】

凝縮器を備える丸底フラスコに、アニリン（ＩＶ－アニリン）（１当量）、ケトン（ＩＶ－ケト）（１当量）、分子ふるい４Å及び乾燥トルエンを仕込んだ。反応混合物を撹拌し、２０時間還流した。室温に冷却した後、混合物を細いセライトパッドを通してろ過した。得られたろ液を減圧下で濃縮して粗イミンを得、これをヘキサン：Ｅｔ₂Ｏ中における倍散により、又は、フラッシュカラムクロマトグラフィにより精製して、所望のイミン生成物（ＩＶ）を得た。

【0271】

実施例２：基本手順２Ｂ、式（ＩＶ）のリガンドの代替的合成
火炎で乾燥させた丸底フラスコに、アニリン（ＩＶ－アニリン）（１当量）、ケトン（ＩＶ－ケトン）（１当量）、トリエチルアミン（２．５当量）及び乾燥ジクロロメタンを、窒素雰囲気下で仕込んだ。－７８℃に冷却した後、四塩化チタン（０．５当量）のジクロロメタン中の溶液を滴下し、反応混合物を室温に温め、２時間撹拌した。反応混合物を、飽和Ｎａ₂ＣＯ₃水溶液を添加することにより失活させた。ジクロロメタンで希釈した後、固形分をろ出し、相を分離した。水性層をジクロロメタンで２回抽出した。有機層を組み合わせ、乾燥させ、ろ過し、蒸発させて粗イミンを得、これをヘキサン：Ｅｔ₂Ｏ中における倍散により、又は、フラッシュカラムクロマトグラフィにより精製して、所望のイミン生成物（ＩＶ）を得た。

【0272】

実施例３：（Ｅ）－４－メトキシ－Ｎ－（７－（２－メトキシエトキシ）－３，４－ジヒドロナフタレン－１（２Ｈ）－イリデン）－３，５－ジメチルアニリン（ＩＶ－８）の調製

【化41】

ステップ１：火炎で乾燥させたシールしたチューブに、７－ヒドロキシ－１－テトラロン（１００ｍｇ、０．６１７ｍｍｏｌ）及び乾燥炭酸カリウム（２５６ｍｇ、１．８５０ｍｍｏｌ）を仕込んだ。ＤＭＦ（１．２ｍＬ）を添加し、混合物を１０分間、室温で撹拌した。１－ブロモ－２－メトキシエタンブロミド（０．１２ｍＬ、１．２３３ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を１６時間、６５℃で撹拌した。反応混合物を水とジエチルエーテルとの間に分割した。水性相をジエチルエーテルで３回抽出し、組み合わせた有機層を水、次いで、塩水で２回洗浄し、無水Ｎａ₂ＳＯ₄で乾燥させ、ろ過し、減圧下で濃縮して、粗生成物（ＩＶ－８－ケト）（１３９ｍｇ）を茶色の油として得た。Ｒｆ０．１５（ＳｉＯ₂；ｎＨｅｘ：ＥｔＯＡｃ９０：１０）；¹ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ＝７．５１（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１１（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．８Ｈｚ，１Ｈ），４．１７－４．１４（ｍ，２Ｈ），３．７７－３．７３（ｍ，２Ｈ），３．４５（ｓ，３Ｈ），２．８９（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），２．６３（ｄｄ，Ｊ＝７．２，５．８Ｈｚ，２Ｈ），２．１１（ｐ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ）．

【0273】

ステップ２：基本手順２Ａに従って、４－メトキシ－３，５－ジメチルアニリン（３０．０ｍｇ、０．１９８ｍｍｏｌ）を、７－（２－メトキシエトキシ）－３，４－ジヒドロナフタレン－１（２Ｈ）－オン（ＩＶ－８－ケト）（４３．７ｍｇ、０．１９８ｍｍｏｌ）及び分子ふるい（４Å）と、乾燥トルエン（２．０ｍＬ）中において、撹拌しながら、還流下に２０時間反応させた。粗イミン生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィ（ＳｉＯ₂；ｎＨｅｘ：Ｅｔ₂Ｏ：Ｅｔ₃Ｎ８０：２０：１から６０：４０：１）により精製して、表題の化合物（５０ｍｇ、７１％＞９５：５Ｅ：Ｚ）を薄い黄色の固体として得た。Ｒｆ０．４（ｎＨｅｘ：Ｅｔ₂Ｏ：Ｅｔ₃Ｎ６０：４０：１）；融点＝８６～８８℃；ＩＲ（原液、ｃｍ－１）：ν_max＝２９２７、１６２７、１６００、１４９２、１４８０、１２１９；¹ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ＝７．８１（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．００（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．８Ｈｚ，１Ｈ），６．４４（ｓ，２Ｈ），４．２１－４．１６（ｍ，２Ｈ），３．７７－３．７３（ｍ，２Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），３．４４（ｓ，３Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），２．５５－２．４９（ｍ，２Ｈ），２．２７（ｓ，６Ｈ），１．８８（ｐ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ）；¹³ＣＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ＝１６５．４４，１５７．４３，１５２．９７，１４７．２２，１３４．８７，１３４．１６，１３１．３２，１２９．９３，１１９．７６，１１９．６５，１０９．１９，７１．１９，６７．４７，５９．９９，５９．２７，２９．８８，２９．３０，２３．３６，１６．３０；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ＋）：Ｃ₂₂Ｈ₂₈ＮＯ₃［Ｍ＋Ｈ］＋のｍ／ｚ計算値３５４．２０６４、実測値３５４．２０６０。

【0274】

実施例４：（Ｓ，Ｅ）－４－メトキシ－Ｎ－（７－（２－メトキシ－１－フェニルエトキシ）－３，４－ジヒドロ－ナフタレン－１（２Ｈ）－イリデン）－３，５－ジメチルアニリン（ＩＶ－１２）の調製

【化42】

ステップ１：火炎で乾燥させた丸底フラスコ中において、（Ｒ）－２－メトキシ－１－フェニルエタノール（６０ｍｇ、０．３９４ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（６６μＬ、０．４７３ｍｍｏｌ）の無水ジクロロメタン（２．０ｍＬ）中の溶液に、０℃で、メタンスルホニルクロリド（３７μＬ、０．４７３ｍｍｏｌ）を滴下した。反応混合物を０℃で２時間撹拌した。反応混合物を、Ｈ₂ＯとＣＨ₂Ｃｌ₂との間に分割した。水性相をさらに、ＣＨ₂Ｃｌ₂で２回抽出した。組み合わせた有機層をＮａ₂ＳＯ₄で乾燥し、ろ過し、溶剤を減圧下で除去して粗生成物（Ｒ）－２－メトキシ－１－フェニルエチルメタンスルホン酸（８５ｍｇ）を得、これをさらに精製することなく次のステップにおいて用いた。

【0275】

ステップ２：火炎で乾燥させたシールしたチューブに、７－ヒドロキシ－１－テトラロン（４０ｍｇ、０．２４７ｍｍｏｌ）及び乾燥セシウムカーボネート（１２１ｍｇ、０．３７０ｍｍｏｌ）を仕込んだ。無水１，４－ジオキサン（１．０ｍＬ）を添加し、混合物を１０分間、室温で撹拌した。（Ｒ）－２－メトキシ－１－フェニルエチルメタンスルホン酸（８５ｍｇ）の１，４－ジオキサン（０．５ｍＬ）中の溶液を添加し、反応混合物を２４時間、１００℃で撹拌した。溶剤を減圧下で除去した。残った残渣を水とジエチルエーテルとの間に分割した。水性相をジエチルエーテルで３回抽出し、組み合わせた有機層を水、次いで、塩水で２回洗浄し、無水Ｎａ₂ＳＯ₄で乾燥させ、ろ過し、減圧下で濃縮した。粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィ（ＳｉＯ₂；ｎＨｅｘ：ＥｔＯＡｃ９０：０５から８０：２０）により精製して、ケトン（ＩＶ－１２）－ケト（２０ｍｇ、２ステップで２８％）を無色の油として得た。Ｒ_f ０．３５（ＳｉＯ₂；ｎＨｅｘ：ＥｔＯＡｃ８０：２０）；¹ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ ７．５３－７．４８（ｍ，１Ｈ），７．４２－７．３７（ｍ，２Ｈ），７．３６－７．３０（ｍ，２Ｈ），７．２９－７．２２（ｍ，１Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，２Ｈ），５．４１（ｄｄ，Ｊ＝７．８，３．５Ｈｚ，１Ｈ），３．８１（ｄｄ，Ｊ＝１０．８，７．８Ｈｚ，１Ｈ），３．６３（ｄｄ，Ｊ＝１０．９，３．５Ｈｚ，１Ｈ），３．４４（ｓ，３Ｈ），２．８３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），２．５９－２．５２（ｍ，２Ｈ），２．１０－１．９９（ｍ，２Ｈ）．¹³ＣＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ １９８．１６，１５６．６９，１３８．１５，１３７．３６，１３３．４１，１２９．９７，１２８．７８，１２８．２３，１２６．６４，１２２．７４，１１２．７０，７９．５６，５９．５３，３９．０８，２８．９８，２３．５１．キラルＨＰＬＣ：ＣｈｉｒａｌｐａｋＩＡカラム、４．６×２５０ｍｍ；ｎＨｅｘ：ｉＰｒＯＨ９０：１０、流量＝１．０ｍＬ／分間；Ｔ＝２５℃；λ＝２５４ｎｍ。ｔ_R,A＝９．１分間（副）、ｔ_R,B＝１９．４分間（主）；９４：６鏡像体比。

【0276】

ステップ３：基本手順２Ａに従って、４－メトキシ－３，５－ジメチルアニリン（１０．２ｍｇ、０．０６７ｍｍｏｌ）を、（Ｓ）－７－（２－メトキシ－１－フェニルエトキシ）－３，４－ジヒドロナフタレン－１（２Ｈ）－オン（ＩＶ－１２－ケト）（２０．０ｍｇ、０．０６７ｍｍｏｌ）及び分子ふるい（４Å）と、乾燥トルエン（０．７ｍＬ）中において、撹拌しながら、還流で２０時間反応させた。粗イミン生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィ（ＳｉＯ₂；ｎＨｅｘ：Ｅｔ₂Ｏ：Ｅｔ₃Ｎ８０：２０：１から６０：４０：１）により精製して、表題の化合物（ＩＶ－１２）（９ｍｇ、３１％＞９５：５Ｅ：Ｚ）を薄い黄色の油として得た。Ｒ_f ０．５（ｎＨｅｘ：Ｅｔ₂Ｏ：Ｅｔ₃Ｎ６０：４０：１）；¹ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ ７．８７（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４５－７．３９（ｍ，２Ｈ），７．３６－７．３０（ｍ，２Ｈ），７．２９－７．２２（ｍ，２Ｈ），７．００（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．９２（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．７Ｈｚ，１Ｈ），６．４０（ｓ，２Ｈ），５．４４（ｄｄ，Ｊ＝７．６，３．７Ｈｚ，１Ｈ），３．８０（ｄｄ，Ｊ＝１０．８，７．６Ｈｚ，１Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），３．６４（ｄｄ，Ｊ＝１０．８，３．７Ｈｚ，１Ｈ），３．４３（ｓ，３Ｈ），２．７５（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），２．５４－２．３９（ｍ，２Ｈ），２．２７（ｓ，６Ｈ），１．８３（ｐ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ）．

【0277】

【表2-1】

【表2-2】

【表2-3】

【0278】

実施例５：基本手順３、式（ＩＩＩ）のキラル触媒の合成

【化43】

ステップ（１）－方法Ａ：火炎で乾燥させたシールしたチューブに、イリジウム錯体（ＶＩ）（１．０当量ダイマー）、酢酸ナトリウム（２０当量）及び対応するイミンリガンド（ＩＶ）（２．２当量）を仕込んだ。１，２－ＤＣＥ（０．０１５～０．１００Ｍ）を窒素雰囲気下で添加し、反応混合物を５０～８０℃に、２０時間、撹拌しながら加熱した。室温に冷却した後、混合物を、フラッシュカラムクロマトグラフィにより直接精製して、対応するＣｐ＊Ｉｒ（ＩＩＩ）－ヨージド錯体（ＶＩＩ）（典型的には、ジアステレオ異性体の混合物）を得た。

【0279】

ステップ（１）－方法Ｂ：火炎で乾燥させたシールしたマイクロ波チューブに、イリジウム錯体（ＶＩ）（１．０当量のダイマー）、酢酸ナトリウム（１０当量）、酢酸銀（２．０当量）及び対応するイミンリガンド（ＩＶ）（３．０当量）を仕込んだ。１，２－ＤＣＥ（０．０１５～０．１００Ｍ）を窒素雰囲気下で添加し、反応混合物を、マイクロ波反応器中において、３時間撹拌しながら１００℃に加熱した。室温に冷却した後、混合物を、フラッシュカラムクロマトグラフィにより直接精製して、対応するＣｐ＊Ｉｒ（ＩＩＩ）－ヨージド錯体（ＶＩＩ）（典型的には、ジアステレオ異性体の混合物）を得た。

【0280】

ステップ（２）：アルミニウム箔で包んだ、火炎で乾燥させたシールしたチューブに、イリジウム－ヨージド錯体（ＶＩＩ）（１．０当量）及びＡｇＯＭｓ（１．０～２．０当量）を仕込んだ。クロロホルム（０．０１５～０．１００Ｍ）を窒素雰囲気下に添加し、反応混合物を室温で、２０時間撹拌した。混合物を、Ｃｅｌｉｔｅ（登録商標）のパッドを通してろ過した。ろ液を減圧下で濃縮して、対応するＣｐＩｒ（ＩＩＩ）－ＯＭｓ錯体（ＩＩＩ）（典型的には、１つの種として、又は、メシレート錯体（ＩＩＩａ）と水性錯体（ＩＩＩｂ、また、水性－ＩＩＩ）との混合物として）を得、これを、さらに精製することなくオキシム還元において触媒として用いた。

【0281】

実施例６：［（Ｒ）－ＢＩＮＯＬ－ｄｉＰｈ］ＣｐＩｒ［（Ｅ）－４－メトキシ－Ｎ－（７－（２－メトキシエトキシ）－３，４－ジヒドロナフタレン－１（２Ｈ）－イリデン）－３，５－ジメチルアニリン］メタンスルホン酸（ＩＩＩ－３）の調製

【化44】

基本手順３（ステップ１－方法Ｂ）に従って、対応するキラルシクロペンタジエニルイリジウムヨージドダイマー［（Ｒ）－ＢＩＮＯＬ－ｄｉＰｈ］ＣｐＩｒＩ₂］₂（２００ｍｇ、０．１０６ｍｍｏｌ；Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１５，５４，１２１４９）を、ＮａＯＡｃ（８７ｍｇ、１．０６２ｍｍｏｌ）、ＡｇＯＡｃ（３６ｍｇ、０．２１２ｍｍｏｌ）及び（Ｅ）－４－メトキシ－Ｎ－（７－（２－メトキシエトキシ）－３，４－ジヒドロナフタレン－１（２Ｈ）－イリデン）－３，５－ジメチルアニリン（１１３ｍｇ、０．３１９ｍｍｏｌ）と、１，２－ＤＣＥ（２．１ｍＬ）中において、１００℃で、撹拌しながら、３時間、反応させた。室温に冷却した後、混合物をフラッシュカラムクロマトグラフィ（ＳｉＯ₂；ｎＨｅｘ：Ｅｔ₂Ｏ８０：２０から６５：３５）により直接精製して、対応するイリジウム－ヨージド錯体（ＶＩＩ－３）（２００ｍｇ、８１％、８５：１５ｄｒ）をオレンジ色の固体として得た。Ｒ_f ０．３５（ＳｉＯ₂；ｎＨｅｘ：Ｅｔ₂Ｏ６０：４０）；

【数1】

＝＋１５１．６（ｃ＝０．１、ＣＨＣｌ₃）；ＩＲ（原液、ｃｍ^-1）：ν_max＝２９２５、１５８８、１５６６、１４８０、１４４７、１４０２、１２２８、１２１１、７０４；¹ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）（０．８５：０．１５の比のジアステレオ異性体の混合物；別段の定めがある場合を除き、主ジアステレオ異性体に対応する）：δ＝７．９９（ｓ，１Ｈ），７．９７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．８２（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７９（ｓ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），７．５６－７．４４（ｍ，４Ｈ），７．３８－７．２９（ｍ，３Ｈ），７．１７（ｄｄｄ，Ｊ＝８．３，６．８，１．３Ｈｚ，１Ｈ），７．０９（ｄｄｔ，Ｊ＝８．７，７．５，２．５Ｈｚ，４Ｈ），６．８１（ｄｄ，Ｊ＝８．３，３．２Ｈｚ，２Ｈ），６．７３（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），６．６０－６．４８（ｍ，３Ｈ），６．００（ｓ，０．１５Ｈ，副ジアステレオ異性体），５．７９（ｔ，Ｊ＝１．７，１．３Ｈｚ，１Ｈ），５．６０（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ），４．８６（ｔ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，０．１５Ｈ，副ジアステレオ異性体），４．７９（ｔ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），４．２１（ｔ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），４．０７（ｄｄ，Ｊ＝７．１，２．９Ｈｚ，２Ｈ），３．６７－３．６１（ｍ，２Ｈ），３．３１（ｓ，３Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．２４（ｓ，０．４５Ｈ，副ジアステレオ異性体），３．２０（ｓ，０．４５Ｈ，副ジアステレオ異性体），２．９３－２．７８（ｍ，２Ｈ），２．７８－２．６７（ｍ，３Ｈ），２．６５－２．５２（ｍ，１Ｈ），２．１６（ｓ，３Ｈ），２．１４（ｓ，０．３Ｈ），２．０５（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，１Ｈ），１．８０－１．６２（ｍ，２Ｈ），１．０２（ｓ，０．４５Ｈ，副ジアステレオ異性体），１．００（ｓ，３Ｈ）；³ＣＮＭＲ（１５１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）（０．８５：０．１５の比のジアステレオ異性体の混合物；別段の定めがある場合を除き、主ジアステレオ異性体に対応するピーク；副ジアステレオ異性体に対応するいくつかのピークは、強度が低いために失われている）δ_C＝１８３．５０，１６０．８２，１６０．０２（副ジアステレオ異性体），１５５．０６，１５２．１０，１５１．６４（副ジアステレオ異性体），１４６．８８（副ジアステレオ異性体），１４６．３２，１４５．７０，１４５．３８（副ジアステレオ異性体），１４１．７４，１４０．８７，１４０．５７，１３９．８５，１３８．０６，１３７．９９，１３５．２８，１３３．３２，１３２．５８，１３２．１９，１３２．１７，１３１．９５，１３１．８３，１３１．２５，１３０．４２，１２９．８３，１２９．７７，１２９．７４，１２９．４７，１２８．５１，１２８．０７，１２８．０５，１２８．０１，１２７．２３，１２６．７７，１２６．５１，１２６．４１，１２６．３０，１２６．２７，１２６．１７，１２５．９８，１２５．６７（副ジアステレオ異性体），１２２．５８，１２２．１９，１１５．７０（副ジアステレオ異性体），１１５．２７，１０７．１６（副ジアステレオ異性体），１０６．３６，９０．６７（副ジアステレオ異性体），９０．１６，８６．７３，８１．４５，７１．８８，７１．７１（副ジアステレオ異性体），６８．１６，６４．１４，５９．７０，５８．９１，３４．４０（副ジアステレオ異性体），３２．１１（副ジアステレオ異性体），３１．４９，３０．６０，３０．４６，２８．８８，２５．６４，２４．１０，２２．８５（副ジアステレオ異性体），２１．３７（副ジアステレオ異性体），１５．８６，１５．３０，１４．２９（副ジアステレオ異性体）；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ＋）：Ｃ₆₁Ｈ₅₃ＩｒＮＯ₃［Ｍ－Ｉ］⁺のｍ／ｚ計算値１０４０．３６５５、実測値１０４０．３６５４。

【0282】

次いで、基本手順３（ステップ２）に従って、イリジウム－ヨージド錯体（ＶＩＩ－３）（１８０ｍｇ、０．１５４ｍｍｏｌ）を、ＣＤＣｌ₃（３．１ｍＬ）中のＡｇＯＭｓ（３２ｍｇ、０．１５４ｍｍｏｌ）と、撹拌しながら、室温で、２０時間反応させた。混合物をＣｅｌｉｔｅ（登録商標）の細いパッドを通してろ過した。ろ液を減圧下で濃縮して、対応するイリジウム－メタンスルホン酸錯体（ＩＩＩ－３）（１６８ｍｇ、９６％、（ＩＩＩ－３）：（水性－ＩＩＩ－３）の９０：１０ＮＭＲ混合物）を明るい茶色の固体として得た。¹ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）（別段の定めがある場合を除き、（ＩＩＩ－３）に対応するピーク）：δ＝７．９７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．８１（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．７９（ｓ，１Ｈ），７．５５－７．４４（ｍ，４Ｈ），７．３８－７．２８（ｍ，３Ｈ），７．２４－７．１５（ｍ，３Ｈ），７．０８（ｄｄｄｄ，Ｊ＝８．４，６．９，３．３，１．４Ｈｚ，２Ｈ），６．９３（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，０．１５Ｈ，（水性－ＩＩＩ－３）），６．７８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７３（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），６．６３－６．４７（ｍ，３Ｈ），６．１０（ｔ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，０．８５Ｈ），６．００（ｓ，０．１０Ｈ，（水性－ＩＩＩ－３）），５．５９（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ），５．４４（ｔ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，０．８５Ｈ），４．８５（ｔ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，０．１０Ｈ，（水性－ＩＩＩ－３）），４．５４（ｓ，１Ｈ），４．１８－４．０９（ｍ，１Ｈ），３．９９－３．９１（ｍ，１Ｈ），３．７４－３．６２（ｍ，２Ｈ），３．３３（ｓ，２．５Ｈ），３．３１（ｓ，３Ｈ），３．３０（ｓ，０．３Ｈ，（水性－ＩＩＩ－３）），２．９０（ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ，１Ｈ），２．８６（ｄ，Ｊ＝１３．９Ｈｚ，１Ｈ），２．７９－２．６８（ｍ，２Ｈ），２．６６－２．４３（ｍ，２Ｈ），２．１７－２．１１（ｍ，４Ｈ），２．０８（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，１Ｈ），２．０１（ｓ，２．５Ｈ），１．９８（ｓ，０．３Ｈ，（水性－ＩＩＩ－３）），１．８４－１．６６（ｍ，２Ｈ），１．０２（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，３Ｈ）；¹³ＣＮＭＲ（１５１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）（種（ＩＩＩ－３）及び（水性－ＩＩＩ－３）の両方に対応するピーク；（水性－ＩＩＩ－３）錯体のいくつかのピークは、低い強度のために失われている可能性がある）δ＝１８５．８７（水性－ＩＩＩ－３）），１８３．６０（ＩＩＩ－３），１６０．１３，１６０．０１，１５５．１５，１５４．９０，１５３．９０，１４８．１８，１４６．８４，１４５．３６，１４４．４３，１４１．７２，１４１．５０，１４０．８６，１４０．５６，１４０．５３，１３９．９４，１３９．９１，１３８．０７，１３８．０４，１３７．９４，１３７．５５，１３５．２５，１３５．２２，１３３．２８，１３２．８５，１３２．５７，１３２．２３，１３２．１８，１３２．１１，１３１．８９，１３１．８４，１３１．５７，１３１．５０，１３０．６３，１３０．５３，１３０．１８，１２９．８７，１２９．７８，１２９．７５，１２９．６２，１２９．４３，１２８．６０，１２８．５２，１２８．５０，１２８．３４，１２８．０６，１２８．００，１２７．９１，１２７．２２，１２７．１９，１２６．７７，１２６．７５，１２６．５０，１２６．４４，１２６．４０，１２６．３７，１２６．２９，１２６．２４，１２６．０３，１２５．９６，１２５．６７，１２４．４８，１２４．４４，１２４．０３，１２３．００，１２２．１９，１２２．１０，１１５．５９，１１４．３３，１０７．６３，１０７．１３，９０．６９，８３．２１，８２．８９，８２．７８，７３．８６，７１．７５，７１．６８，７１．０８，６８．１０，６７．５８，６７．２３，６６．０８，６４．０１，５９．７１，５９．０５，５８．８９，３１．１７，３０．４５，３０．０８，２９．７２，２８．８０，２８．６９，２５．８１，２４．０４，２３．９０，２２．８２，２２．７８，１５．９３，１５．８２，１５．３０，１５．２７，１４．２９；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ＋）：Ｃ₆₁Ｈ₅₃ＩｒＮＯ₃［Ｍ－ＯＭｓ］⁺のｍ／ｚ計算値１０４０．３６５５、実測値１０４０．３６６２。

【0283】

【表3-1】

【表3-2】

【表3-3】

【表3-4】

【表3-5】

【表3-6】

【表3-7】

【0284】

実施例７：基本手順４：オキシムエーテル基材（Ｉ）の合成

【化45】

Ｔｅｆｌｏｎ製の蓋をしたシールしたチューブにおいて、アルコキシル塩化アンモニウム（Ｈ）（１．２～３．０当量）を、ケトン（Ｋ）（１．０当量）のＥｔＯＨ（０．３Ｍ）中の溶液に添加した。水（０．３３ｖ／ｖ）を添加し、混合物を室温で５分間撹拌した。酢酸ナトリウム（１．５～４．０当量）を数回に分けて添加し、反応混合物を７０℃で１６時間撹拌した。室温に冷却した後、反応混合物を、ＣＨ₂Ｃｌ₂と水との間に分割した。水性相をＣＨ₂Ｃｌ₂で２回抽出した。組み合わせた有機相を塩水で洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄で乾燥し、ろ過し、溶剤を減圧下で除去した。粗生成物（典型的には、Ｅ／Ｚジアステレオ異性体の混合物）をフラッシュカラムクロマトグラフィにより精製して、所望のＥ又はＺオキシムエーテル生成物を得た。

【0285】

実施例８：基本手順５：Ｎ－（ベンジルオキシ）カルボキサミド（ＸＶ－３１）及び（ＸＶ－３２）の脱水環化を介した４－置換－１Ｈ－２，３－ベンゾキサジン（Ｉ－３１）及び（Ｉ－３２）の合成

【化46】

ステップ１：丸底フラスコ中において、対応する塩化アシル［Ａ］（１．１当量）を、Ｏ－ベンジル塩酸ヒドロキシルアミン［Ｈ］（１．０当量）及びトリメチルアミン（２．２当量）のジクロロメタン（０．２Ｍ）中の溶液に、０℃で滴下した。反応混合物を１時間、室温で撹拌した。反応混合物をＨ₂Ｏで洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄で乾燥し、ろ過し、溶剤を減圧下で除去して粗生成物を得た。ペンテン（ｐｅｎｔ）：ＥｔＯＡｃ５０：５０で溶出する細いシリカプラグを通したろ過で、純粋なＮ－（ベンジルオキシ）カルボキサミド生成物（ＸＶ）を定量的収率で得た（ＸＶ－３１；Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．２００５，７３１）（ＸＶ－３２；Ｂｉｏｏｒｇ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．２０１５，４９３３）。

【0286】

ステップ２：火炎で乾燥させたシュレンクチューブ中において、窒素雰囲気下で、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（１．１当量）を、対応するＮ－（ベンジルオキシ）カルボキサミド（ＸＶ）（１．０当量）及び２－クロロピリジン（１．２当量）のジクロロメタン（０．２５Ｍ）中の撹拌混合物に、－７８℃で滴下した。５分後、反応混合物を氷水浴中に入れ、０℃に温めた。１５分後、反応混合物を室温でさらに２時間撹拌した。反応をＮａＨＣＯ₃（飽和、水性）で失活させた。水性相をＣＨ₂Ｃｌ₂中において２回抽出し、組み合わせた有機層をＮａ₂ＳＯ₄で乾燥し、ろ過し、溶剤を減圧下で除去して、粗生成物を得た。フラッシュカラムクロマトグラフィ（ＳｉＯ₂、ペンテン（ｐｅｎｔ）：ＥｔＯＡｃ９９：１から９０：１０）による精製で、純粋な生成物を得た（Ｉ－３１、６０％収率；Ｉ－３２、６５％収率）。化合物（Ｉ－３１）及び（Ｉ－３２）の実験データは表４に含まれている。

【0287】

【表4-1】

【表4-2】

【表4-3】

【表4-4】

【表4-5】

【表4-6】

【表4-7】

【表4-8】

【表4-9】

【表4-10】

【0288】

実施例９：不斉オキシム水素化を介したエナンチオ富化（２Ｒ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１）の合成

【化47】

ガラス製のインレットを有する５０ｍＬのハステロイ反応器に、（Ｅ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－イミン（Ｉ－１）（２６７ｍｇ）、触媒（ＩＩＩ－１）（９．５ｍｇ）、ｉＰｒＯＨ（５ｍＬ、無水、アルゴンで脱気）及びメタンスルホン酸（１４４ｍｇ）を、アルゴン雰囲気下で仕込んだ。反応器を水素でパージし（３×５ｂａｒ）、Ｈ₂で５０ｂａｒに加圧し、１６時間、２３℃で撹拌した。水素を放出し、反応器をアルゴンでパージした。粗反応混合物のＧＣ及びＮＭＲ分析は完全な転換を示していた。反応混合物を飽和ＮａＨＣＯ₃溶液（１５ｍＬ）及び水（１０ｍＬ）にゆっくりと添加し、ジクロロメタンで抽出した（２×１５ｍＬ）。組み合わせた有機層を乾燥させ（Ｎａ₂ＳＯ₄）、ろ過し、蒸発させた。粗生成物をカラムクロマトグラフィ（シリカ、酢酸エチル－シクロヘキサン勾配）によりさらに精製して、２５０ｍｇの所望の生成物（ＩＩ－１）を得た。無色の油；¹ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ＝７．３２（ｓ，２Ｈ），５．４７（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），３．５５（ｓ，３Ｈ），３．４４（ｄｐ，Ｊ＝８．０，６．４Ｈｚ，１Ｈ），３．１６（ｄｄ，Ｊ＝１３．４，５．９Ｈｚ，１Ｈ），２．９１（ｄｄ，Ｊ＝１３．４，８．０Ｈｚ，１Ｈ），１．０８（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，３Ｈ）．キラルＳＦＣ分析：カラム＝ＤａｉｃｅｌＣｈｉｒａｌｐａｋＩＡ３×１００ｍｍ、粒径＝３μ、λ＝２２０ｎｍ、ＣＯ₂：ｉＰｒＯＨ８５：１５、流量＝２．０ｍｌ／分間、Ｔ＝４０℃；ｔ_R,A＝０．４５分間（副鏡像異性体、３４％）、ｔ_R,B＝０．５１分間（主鏡像異性体、６６％）。

【0289】

表５：オキシムエーテル（Ｉ－１）の不斉水素化を介したエナンチオ富化Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１）の合成；触媒（ＩＩＩ）のスクリーニング：

【化48】

標準条件：基本手順４に従い、Ｅ－オキシム（Ｅ－Ｉ－１）を、１．５当量のメタンスルホン酸、ｉＰｒＯＨ溶剤（０．５ｍｏｌオキシム／１Ｌ溶剤）、１ｍｏｌ％触媒（ＩＩＩ）、５０ｂａｒＨ₂と、別段の定めがある場合を除き、室温、２０時間で反応させた。すべての反応において、所望の生成物に対する高い選択性（＞９５％）が観察された。

【0290】

【表5】

【0291】

表６：エナンチオ富化アルコキシルアミン（ＩＩ－１）及び（ＩＩ－７）を得るためのＥ又はＺ－オキシムエーテル（Ｉ－１）及び（Ｉ－７）の立体特異性不斉水素化；溶剤及び酸の変更：
条件：基本手順４に従い、Ｅ又はＺオキシム（Ｉ－１）を、酸、溶剤（０．５ｍｏｌオキシム／１Ｌ溶剤）、１ｍｏｌ％（ＩＩＩ－３－ｅｎｔ）、５０ｂａｒＨ₂と、別段の定めがある場合を除き、室温、２０時間で反応させた。すべての反応において、所望の生成物に対する高い選択性（＞９５％）が観察された。

【0292】

【表6】

【0293】

実施例１０：４－（ジフルオロメチル）－Ｎ－メトキシ－１－メチル－Ｎ－［（１Ｒ）－１－メチル－２－（２，４，６－トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール－３－カルボキサミド（ＸＩＩＩ－１）の合成

【化49】

反応バイアルに、Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１）（実施例１０に従って調製；２５ｍｇ、６６：３４Ｒ：Ｓ）及びジクロロメタン（０．４ｍＬ）を仕込んだ。トリエチルアミン（０．０２７ｍＬ）、続いて、ジクロロメタン（０．２ｍＬ）中に溶解した３－（ジフルオロメチル）－１－メチル－ピラゾール－４－塩化カルボニル（ＸＩＩ）（２０ｍｇ）を、室温で滴下した。反応混合物を室温で１．５時間撹拌した。反応混合物をジクロロメタンで希釈し、水性ＨＣｌ（１Ｍ）、水性ＮａＨＣＯ₃、塩水で抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で蒸発させた。生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィ（ＳｉＯ₂；酢酸エチル－シクロヘキサン勾配）により単離して、２０ｍｇの所望の生成物（ＸＩＩＩ－１）を得た。分析データは、国際公開第１４／２０６８５５号において報告されていたものと対応する。キラルＳＦＣ分析：ＤａｉｃｅｌＳＦＣＣｈｉｒａｌｐａｋＩＣカラム３×１００ｍｍ、波長：２２０ｎｍ、溶剤：Ａ＝ＣＯ₂、Ｂ＝ＥｔＯＨ、勾配：１．８分間で５０％Ｂ、注入体積：１μｌ、流量：２．０ｍｌ／分間、保持時間＝０．９０分間（副（Ｓ）－鏡像異性体、３３．３％）、１．４１分間（主（Ｒ）－鏡像異性体、６６．７％）。

【0294】

実施例１１：基本手順６：本発明の触媒を用いて、エナンチオ富化Ｎ－アルコキシルアミンを得るオキシムエーテルの不斉水素化

【化50】

磁気撹拌棒及びセプタムシールを備える火炎で乾燥させた試験管に、対応する触媒（１ｍｏｌ％）及びオキシム基材（１当量）を仕込んだ。乾燥ＲＯＨ溶剤（０．５Ｍ；Ｒ＝ｔ－アミル、ｉ－プロピル、エチル、メチル）を添加し、続いて、トリフルオロ酢酸又はメタンスルホン酸（１．０～５．０当量）のいずれかを滴下した。セプタムに針を挿入し、試験管を高圧反応器に入れた。反応器を水素でパージし（３×５ｂａｒ）、Ｈ₂で５０ｂａｒに加圧し、反応混合物を２５℃で１６時間撹拌した。水素を放出し、反応混合物をＮａＨＣＯ₃（水性、飽和）にゆっくりと添加し、ＣＨ₂Ｃｌ₂で３回抽出した。組み合わせた有機層をＮａ₂ＳＯ₄で乾燥し、ろ過し、溶剤を減圧下で除去して、粗Ｎ－アルコキシルアミン生成物を得た（典型的には、＞９５％ＮＭＲ純度で）。フラッシュカラムクロマトグラフィによる精製で、純粋な生成物を得た。生成物の鏡像異性体過剰率を、キラル固定相ＨＰＬＣにより測定した。

【0295】

実施例１２：基本手順７：塩化ベンゾイルを伴うＮ－アシル化によるＮ－アルコキシアミン生成物誘導体化

【化51】

試験管中において、トリエチルアミン（２．０当量）及び塩化ベンゾイル（１．２当量）をＮ－アルコキシアミン（ＩＩ）のＣＨ₂Ｃｌ₂中の溶液に、室温で添加した。反応混合物を１～１６時間、室温で撹拌した。反応混合物を、フラッシュカラムクロマトグラフィにより直接精製して、対応するＮ－ベンゾイル－Ｎ－アルコキシアミン生成物（ＩＩ－Ｂｚ）を得た。生成物の鏡像異性体過剰率をキラル固定相ＨＰＬＣにより測定した。

【0296】

表７：触媒（ＩＩＩ－３－ｅｎｔ）を用いるオキシム（Ｉ）の不斉水素化を介したヒドロキシルアミン（ＩＩ）の合成、基材範囲：

【化52】

反応条件：別段の定めがある場合を除き、基本手順４に従って、１当量のオキシム（Ｉ）、１．０～５．０当量のＭｓＯＨ又はＴＦＡ酸、ＲＯＨ溶剤（０．５ｍｏｌオキシム／１Ｌ溶剤；Ｒ＝ｔ－アミル、ｉ－プロピル、エチル、メチル）、１ｍｏｌ％触媒（ＩＩＩ－３－ｅｎｔ）、５０ｂａｒＨ₂、室温、１６時間。すべての反応において、所望の生成物に対する高い選択性（＞９５％）が観察された。

【0297】

【表7-1】

【表7-2】

【表7-3】

【表7-4】

【表7-5】

【表7-6】

【表7-7】

【表7-8】

【表7-9】

【表7-10】

【表7-11】

【表7-12】

【表7-13】

【表7-14】

【表7-15】

【0298】

比較例１：表８：
２種の溶剤（ＴＨＦ／ＴＦＡ及びＭｅＯＨ）中、Ｔ＝６０℃、及び、Ｈ₂＝５０ｂａｒの圧力、２％の触媒充填量における、９６種の多様な均一系触媒－金属前駆体（Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｒｕ、中性／カチオン性）／リガンド分類（単座／二座、ホスフィン、亜リン酸塩等）のスクリーニング。所望の生成物（ＩＩ－１、以下の表において「生成物」とラベルを付した）に向かう転換をＧＣにより測定したところ、これは面積割合に基づいている。

【0299】

【表8-1】