(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-10-09
(45)【発行日】2024-10-18
(54)【発明の名称】硬化性組成物、硬化物、及び、硬化性組成物の使用方法
(51)【国際特許分類】
C08L 83/04 20060101AFI20241010BHJP
C08K 5/5419 20060101ALI20241010BHJP
H01L 21/52 20060101ALI20241010BHJP
H01L 23/29 20060101ALI20241010BHJP
H01L 23/31 20060101ALI20241010BHJP
【ＦＩ】
C08L83/04
C08K5/5419
H01L21/52 E
H01L23/30 F
【請求項の数】
10
(21)【出願番号】P 2021548481
(86)(22)【出願日】2020-09-28
(86)【国際出願番号】 JP2020036722
(87)【国際公開番号】W WO2021060562
(87)【国際公開日】2021-04-01
【審査請求日】2023-06-30
(31)【優先権主張番号】P 2019177171
(32)【優先日】2019-09-27
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000102980
【氏名又は名称】リンテック株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100108419
【弁理士】
【氏名又は名称】大石 治仁
(72)【発明者】
【氏名】森 瑶子
(72)【発明者】
【氏名】宮脇 学
【審査官】尾立 信広
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１９－１１９８０４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－０８７２１５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－０３４４１４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１２－１５５２００（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０８Ｌ １／００－１０１／１４
Ｃ０８Ｋ ３／００－１３／０８
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記（Ａ）成分、及び、（Ｃ）成分を含有する硬化性組成物。（Ａ）成分：下記式（ａ－１）
【化1】
で示される繰り返し単位〔繰り返し単位（１）〕、及び、下記式（ａ－２）
【化2】
で示される繰り返し単位〔繰り返し単位（２）〕を有し、（Ａ）成分中の繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の合計量が、（Ａ）成分の全繰り返し単位中９０～１００ｍｏｌ％であるポリシルセスキオキサン化合物であって、下記要件１及び要件２を満たすことを特徴とするポリシルセスキオキサン化合物
〔要件１〕
繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の合計量に対して、繰り返し単位（１）の量が４０ｍｏｌ％以上、８０ｍｏｌ％未満である。
〔要件２〕
下記式（ａ－３）で示されるＴサイト（Ｔ１サイト）、下記式（ａ－４）で示されるＴサイト（Ｔ２サイト）、及び下記式（ａ－５）で示されるＴサイト（Ｔ３サイト）の合計量に対して、前記Ｔ２サイトの量が、２０～７０ｍｏｌ％である。
【化3】
（Ｃ）成分：シランカップリング剤
【請求項2】
（Ａ）成分の質量平均分子量（Ｍｗ）が５００～２５，０００である、請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項3】
（Ｃ）成分の含有量が、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．１～７０質量部である、請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
【請求項4】
（Ａ）成分と（Ｃ）成分の合計量が、硬化性組成物の固形分中５０～１００質量％である、請求項１～３のいずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項5】
さらに希釈剤を含有し、固形分濃度が、６０質量％以上、１００質量％未満である、請求項１～４のいずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項6】
２５℃における屈折率（ｎＤ）が、１．４６～１．５６である、請求項１～５のいずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項7】
請求項１～６のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物。
【請求項8】
光素子固定材である請求項７に記載の硬化物。
【請求項9】
請求項１～６のいずれかに記載の硬化性組成物を、光素子固定材用接着剤として使用する方法。
【請求項10】
請求項１～６のいずれかに記載の硬化性組成物を、光素子固定材用封止材として使用する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、屈折率が高く、光学分野において好適に用いられる硬化性組成物、前記硬化性組成物が硬化してなる硬化物、及び、前記硬化性組成物を、光素子固定材用接着剤又は光素子固定材用封止材として使用する方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、硬化性組成物は用途に応じて様々な改良がなされ、光学部品や成形体の原料、接着剤、コーティング剤等として産業上広く利用されてきている。
また、硬化性組成物は、光素子固定材用接着剤や光素子固定材用封止材等の光素子固定材用組成物としても注目を浴びてきている。
また、硬化性組成物は、光素子固定材用接着剤や光素子固定材用封止材等の光素子固定材用組成物としても注目を浴びてきている。
【0003】
光素子には、半導体レーザー（ＬＤ）等の各種レーザーや発光ダイオード（ＬＥＤ）等の発光素子、受光素子、複合光素子、光集積回路等がある。
近年においては、発光のピーク波長がより短波長である青色光や白色光の光素子が開発され広く使用されてきている。このような発光のピーク波長の短い発光素子の高輝度化が飛躍的に進み、これに伴い、光素子の発熱量が更に大きくなっていく傾向にある。
近年においては、発光のピーク波長がより短波長である青色光や白色光の光素子が開発され広く使用されてきている。このような発光のピーク波長の短い発光素子の高輝度化が飛躍的に進み、これに伴い、光素子の発熱量が更に大きくなっていく傾向にある。
【0004】
ところが、近年における光素子の高輝度化に伴い、光素子固定材用組成物の硬化物が、より高いエネルギーの光や、光素子から発生するより高温の熱に長時間さらされ、接着力が低下するという問題が生じた。
【0005】
この問題を解決するべく、特許文献１～３には、ポリシルセスキオキサン化合物を主成分とする光素子固定材用組成物が提案されている。
【0006】
ところで、硬化性組成物を用いて光素子等を固定する場合、光取り出し効率を高めるために、周囲の部材の屈折率に合わせて、適切な屈折率の硬化性組成物が選択されることがある。
例えば、封止剤と固定材の界面での反射を抑え、光取り出し効率を高めるためには、封止剤の屈折率と固定材の屈折率の差が小さいことが好ましい。
したがって、比較的高い屈折率を有する封止剤を用いる場合、同じように高い屈折率を有する硬化性組成物を用いて固定材を形成することが必要になる。
例えば、封止剤と固定材の界面での反射を抑え、光取り出し効率を高めるためには、封止剤の屈折率と固定材の屈折率の差が小さいことが好ましい。
したがって、比較的高い屈折率を有する封止剤を用いる場合、同じように高い屈折率を有する硬化性組成物を用いて固定材を形成することが必要になる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【文献】特開２００４－３５９９３３号公報
【文献】特開２００５－２６３８６９号公報
【文献】特開２００６－３２８２３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明は、上記した従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、屈折率が高く、光学分野において好適に用いられる硬化性組成物、前記硬化性組成物が硬化してなる硬化物、及び、前記硬化性組成物を、光素子固定材用接着剤又は光素子固定材用封止材として使用する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者らは、上記課題を解決すべく、ポリシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物について鋭意検討を重ねた。
その結果、
（ｉ）ポリシルセスキオキサン化合物として、アリール基を多く含むポリシルセスキオキサン化合物を用いることで、屈折率が高い硬化性組成物が得られること、
（ｉｉ）アリール基を多く含むポリシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物の硬化物には、クラックが発生するおそれがあること、
（ｉｉｉ）アリール基を多く含むポリシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物の硬化物は、接着性に劣る傾向があること、
（ｉｖ）ポリシルセスキオキサン化合物中のアリール基の量を調節すること、ポリシルセスキオキサン化合物に特定の分子構造を導入すること、及び、硬化性組成物中にシランカップリング剤を添加すること、により、上記（ｉｉ）、（ｉｉｉ）の問題を解決し得ること、
を見出し、本発明を完成するに至った。
その結果、
（ｉ）ポリシルセスキオキサン化合物として、アリール基を多く含むポリシルセスキオキサン化合物を用いることで、屈折率が高い硬化性組成物が得られること、
（ｉｉ）アリール基を多く含むポリシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物の硬化物には、クラックが発生するおそれがあること、
（ｉｉｉ）アリール基を多く含むポリシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物の硬化物は、接着性に劣る傾向があること、
（ｉｖ）ポリシルセスキオキサン化合物中のアリール基の量を調節すること、ポリシルセスキオキサン化合物に特定の分子構造を導入すること、及び、硬化性組成物中にシランカップリング剤を添加すること、により、上記（ｉｉ）、（ｉｉｉ）の問題を解決し得ること、
を見出し、本発明を完成するに至った。
【0010】
かくして本発明によれば、下記〔１〕～〔７〕の硬化性組成物、〔８〕、〔９〕の硬化物、及び〔１０〕、〔１１〕の硬化性組成物の使用方法が提供される。
【0011】
〔１〕下記（Ａ）成分、及び、（Ｃ）成分を含有する硬化性組成物。
（Ａ）成分：下記式（ａ－１）
（Ａ）成分：下記式（ａ－１）
【0012】
【化1】
【0013】
〔Ｒ１は、無置換の炭素数６～１２のアリール基、又は、置換基を有する炭素数６～１２のアリール基を表す。〕
で示される繰り返し単位〔繰り返し単位（１）〕、及び、下記式（ａ－２）
で示される繰り返し単位〔繰り返し単位（１）〕、及び、下記式（ａ－２）
【0014】
【化2】
【0015】
〔Ｒ２は、無置換の炭素数１～１０のアルキル基、又は、置換基を有する炭素数１～１０のアルキル基を表す。〕
で示される繰り返し単位〔繰り返し単位（２）〕を有するポリシルセスキオキサン化合物であって、下記要件１及び要件２を満たすことを特徴とするポリシルセスキオキサン化合物
〔要件１〕
繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の合計量に対して、繰り返し単位（１）の量が４０ｍｏｌ％以上、８０ｍｏｌ％未満である。
〔要件２〕
下記式（ａ－３）で示されるＴサイト（Ｔ１サイト）、下記式（ａ－４）で示されるＴサイト（Ｔ２サイト）、及び下記式（ａ－５）で示されるＴサイト（Ｔ３サイト）の合計量に対して、前記Ｔ２サイトの量が、２０～７０ｍｏｌ％である。
で示される繰り返し単位〔繰り返し単位（２）〕を有するポリシルセスキオキサン化合物であって、下記要件１及び要件２を満たすことを特徴とするポリシルセスキオキサン化合物
〔要件１〕
繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の合計量に対して、繰り返し単位（１）の量が４０ｍｏｌ％以上、８０ｍｏｌ％未満である。
〔要件２〕
下記式（ａ－３）で示されるＴサイト（Ｔ１サイト）、下記式（ａ－４）で示されるＴサイト（Ｔ２サイト）、及び下記式（ａ－５）で示されるＴサイト（Ｔ３サイト）の合計量に対して、前記Ｔ２サイトの量が、２０～７０ｍｏｌ％である。
【0016】
【化3】
【0017】
〔Ｇは、Ｒ１又はＲ２で表される基を表す。Ｒ３は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基を表す。＊には、ケイ素原子が結合している。〕
（Ｃ）成分：シランカップリング剤
〔２〕（Ａ）成分の質量平均分子量（Ｍｗ）が５００～２５，０００である、〔１〕に記載の硬化性組成物。
〔３〕（Ａ）成分中の繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の合計量が、（Ａ）成分の全繰り返し単位中９０～１００ｍｏｌ％である、〔１〕又は〔２〕に記載の硬化性組成物。
〔４〕（Ｃ）成分の含有量が、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．１～７０質量部である、〔１〕～〔３〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔５〕（Ａ）成分と（Ｃ）成分の合計量が、硬化性組成物の固形分中５０～１００質量％である、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔６〕さらに希釈剤を含有し、固形分濃度が、６０質量％以上、１００質量％未満である、〔１〕～〔５〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔７〕２５℃における屈折率（ｎＤ）が、１．４６～１．５６である、〔１〕～〔６〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔８〕前記〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物。
〔９〕光素子固定材である〔８〕に記載の硬化物。
〔１０〕前記〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の硬化性組成物を、光素子固定材用接着剤として使用する方法。
〔１１〕前記〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の硬化性組成物を、光素子固定材用封止材として使用する方法。
（Ｃ）成分：シランカップリング剤
〔２〕（Ａ）成分の質量平均分子量（Ｍｗ）が５００～２５，０００である、〔１〕に記載の硬化性組成物。
〔３〕（Ａ）成分中の繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の合計量が、（Ａ）成分の全繰り返し単位中９０～１００ｍｏｌ％である、〔１〕又は〔２〕に記載の硬化性組成物。
〔４〕（Ｃ）成分の含有量が、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．１～７０質量部である、〔１〕～〔３〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔５〕（Ａ）成分と（Ｃ）成分の合計量が、硬化性組成物の固形分中５０～１００質量％である、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔６〕さらに希釈剤を含有し、固形分濃度が、６０質量％以上、１００質量％未満である、〔１〕～〔５〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔７〕２５℃における屈折率（ｎＤ）が、１．４６～１．５６である、〔１〕～〔６〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔８〕前記〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物。
〔９〕光素子固定材である〔８〕に記載の硬化物。
〔１０〕前記〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の硬化性組成物を、光素子固定材用接着剤として使用する方法。
〔１１〕前記〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の硬化性組成物を、光素子固定材用封止材として使用する方法。
【発明の効果】
【0018】
本発明によれば、屈折率が高く、かつ、光学分野において好適に用いられる硬化性組成物、前記硬化性組成物が硬化してなる硬化物、及び、前記硬化性組成物を、光素子固定材用接着剤又は光素子固定材用封止材として使用する方法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【0019】
以下、本発明を、１）硬化性組成物、２）硬化物、及び、３）硬化性組成物の使用方法、に項分けして詳細に説明する。
【0020】
１）硬化性組成物
本発明の硬化性組成物は、下記（Ａ）成分、及び、（Ｃ）成分を含有する。
（Ａ）成分：上記式（ａ－１）で示される繰り返し単位、及び、上記式（ａ－２）で示される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物であって、上記要件１及び要件２を満たすことを特徴とするポリシルセスキオキサン化合物〔以下、「ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）」と記載することがある。〕
（Ｃ）成分：シランカップリング剤
本発明の硬化性組成物は、下記（Ａ）成分、及び、（Ｃ）成分を含有する。
（Ａ）成分：上記式（ａ－１）で示される繰り返し単位、及び、上記式（ａ－２）で示される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物であって、上記要件１及び要件２を満たすことを特徴とするポリシルセスキオキサン化合物〔以下、「ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）」と記載することがある。〕
（Ｃ）成分：シランカップリング剤
【0021】
〔（Ａ）成分〕
本発明の硬化性組成物を構成するポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、下記式（ａ－１）で示される繰り返し単位〔繰り返し単位（１）〕を有する。
本発明の硬化性組成物を構成するポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、下記式（ａ－１）で示される繰り返し単位〔繰り返し単位（１）〕を有する。
【0022】
【化4】
【0023】
〔Ｒ１は、無置換の炭素数６～１２のアリール基、又は、置換基を有する炭素数６～１２のアリール基を表す。〕
【0024】
繰り返し単位（１）はＲ１を有するため、繰り返し単位（１）を有するポリシルセスキオキサン化合物は高い屈折率を有する。このため、本発明の硬化性組成物は屈折率が高いものとなる。
【0025】
Ｒ１の「無置換の炭素数６～１２のアリール基」としては、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基等が挙げられる。
Ｒ１の「無置換の炭素数６～１２のアリール基」の炭素数は６が好ましい。
Ｒ１の「無置換の炭素数６～１２のアリール基」の炭素数は６が好ましい。
【0026】
Ｒ１の「置換基を有する炭素数６～１２のアリール基」の炭素数は６が好ましい。なお、この炭素数は、置換基を除いた部分（アリール基の部分）の炭素数を意味するものである。したがって、Ｒ１が「置換基を有する炭素数６～１２のアリール基」である場合、Ｒ１の炭素数は１２を超える場合もあり得る。
Ｒ１の「置換基を有する炭素数６～１２のアリール基」のアリール基としては、「無置換の炭素数６～１２のアリール基」として示したものと同様のものが挙げられる。
Ｒ１の「置換基を有する炭素数６～１２のアリール基」のアリール基としては、「無置換の炭素数６～１２のアリール基」として示したものと同様のものが挙げられる。
【0027】
Ｒ１の「置換基を有する炭素数６～１２のアリール基」の置換基の原子数（ただし、水素原子の数を除く）は、通常１～３０、好ましくは１～２０である。
Ｒ１の「置換基を有する炭素数６～１２のアリール基」の置換基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基等のアルキル基；塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；等が挙げられる。
Ｒ１の「置換基を有する炭素数６～１２のアリール基」の置換基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基等のアルキル基；塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；等が挙げられる。
【0028】
これらの中でも、屈折率が高い硬化性組成物を効率よく調製することができることから、Ｒ１としては、無置換の炭素数６～１２のアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
【0029】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、１種のＲ１を有するものであっても、２種以上のＲ１を有するものであってもよい。
【0030】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、更に、下記式（ａ－２）で示される繰り返し単位〔繰り返し単位（２）〕を有する。
【0031】
【化5】
【0032】
〔Ｒ２は、無置換の炭素数１～１０のアルキル基、又は、置換基を有する炭素数１～１０のアルキル基を表す。〕
【0033】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、繰り返し単位（２）を有することで、高分子量化するとともに、分子鎖の柔軟性が向上する。このため、本発明の硬化性組成物の硬化物にはクラックが発生しにくくなり、さらに、本発明の硬化性組成物は接着性に優れる。
【0034】
Ｒ２の「無置換の炭素数１～１０のアルキル基」の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましい。
Ｒ２の「無置換の炭素数１～１０のアルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基等が挙げられる。
Ｒ２の「無置換の炭素数１～１０のアルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基等が挙げられる。
【0035】
Ｒ２の「置換基を有する炭素数１～１０のアルキル基」の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましい。なお、この炭素数は、置換基を除いた部分（アルキル基の部分）の炭素数を意味するものである。したがって、Ｒ２が「置換基を有する炭素数１～１０のアルキル基」である場合、Ｒ２の炭素数は１０を超える場合もあり得る。
Ｒ２の「置換基を有する炭素数１～１０のアルキル基」のアルキル基としては、「無置換の炭素数１～１０のアルキル基」として示したものと同様のものが挙げられる。
Ｒ２の「置換基を有する炭素数１～１０のアルキル基」のアルキル基としては、「無置換の炭素数１～１０のアルキル基」として示したものと同様のものが挙げられる。
【0036】
「置換基を有する炭素数１～１０のアルキル基」の置換基の原子数（ただし水素原子の数を除く）は、通常１～３０、好ましくは１～２０である。
「置換基を有する炭素数１～１０のアルキル基」の置換基としては、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；シアノ基；等が挙げられる。
「置換基を有する炭素数１～１０のアルキル基」の置換基としては、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；シアノ基；等が挙げられる。
【0037】
これらの中でも、Ｒ２としては、無置換の炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、無置換の炭素数１～６のアルキル基がより好ましく、無置換の炭素数１～３のアルキル基が更に好ましい。
Ｒ２が、無置換の炭素数１～１０のアルキル基であるポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）を用いることで、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の分子量を効率よく制御することができる。
Ｒ２が、無置換の炭素数１～１０のアルキル基であるポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）を用いることで、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の分子量を効率よく制御することができる。
【0038】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、１種のＲ２を有するものであっても、２種以上のＲ２を有するものであってもよい。
【0039】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体、交互共重合体等のいずれであってもよいが、製造容易性等の観点からは、ランダム共重合体が好ましい。
また、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の構造は、ラダー型構造、ダブルデッカー型構造、籠型構造、部分開裂籠型構造、環状型構造、ランダム型構造のいずれの構造であってもよい。
また、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の構造は、ラダー型構造、ダブルデッカー型構造、籠型構造、部分開裂籠型構造、環状型構造、ランダム型構造のいずれの構造であってもよい。
【0040】
繰り返し単位（１）や繰り返し単位（２）は、下記式（ａ－６）で示されるものである。
【0041】
【化6】
【0042】
〔Ｇは、Ｒ１又はＲ２で表される基を表す。Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ上記と同じ意味を表す。Ｏ１／２とは、酸素原子が隣の繰り返し単位と共有されていることを表す。〕
【0043】
式（ａ－６）で示されるように、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、一般にＴサイトと総称される、ケイ素原子に酸素原子が３つ結合し、それ以外の基（Ｇで表される基）が１つ結合してなる部分構造を有する。
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）に含まれるＴサイトとしては、下記式（ａ－３）で示されるＴサイト（Ｔ１サイト）、下記式（ａ－４）で示されるＴサイト（Ｔ２サイト）、下記式（ａ－５）で示されるＴサイト（Ｔ３サイト）が挙げられる。
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）に含まれるＴサイトとしては、下記式（ａ－３）で示されるＴサイト（Ｔ１サイト）、下記式（ａ－４）で示されるＴサイト（Ｔ２サイト）、下記式（ａ－５）で示されるＴサイト（Ｔ３サイト）が挙げられる。
【0044】
【化7】
【0045】
式（ａ－３）、（ａ－４）及び（ａ－５）中、Ｇは、上記と同じ意味を表す。Ｒ３は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基を表す。Ｒ３の「炭素数１～１０のアルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基等が挙げられる。複数のＲ３同士は、すべて同一であっても相異なっていてもよい。また、上記式（ａ－３）～（ａ－５）中、＊には、ケイ素原子が結合している。
【0046】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）を合成する際、反応開始直後は、生成物にはＴ１サイトやＴ２サイトが多く含まれるが、反応が進行するとともにこれらのサイトの量が減少し、徐々にＴ３サイトの量が増加する。
したがって、Ｔ１サイトやＴ２サイトの含有割合が高いポリシルセスキオキサン化合物は比較的低分子の化合物であるのに対して、Ｔ３サイトの含有割合が高いポリシルセスキオキサン化合物は比較的高分子の化合物であり、分子鎖の運動は制限される。
また、残存する反応性基（－ＯＲ３）の数から示されるように、Ｔ１サイトやＴ２サイトの含有割合が高いポリシルセスキオキサン化合物は十分な反応性を有しているのに対して、Ｔ３サイトの含有割合が高いポリシルセスキオキサン化合物は反応性に劣る傾向がある。
したがって、Ｔ１サイトやＴ２サイトの含有割合が高いポリシルセスキオキサン化合物は比較的低分子の化合物であるのに対して、Ｔ３サイトの含有割合が高いポリシルセスキオキサン化合物は比較的高分子の化合物であり、分子鎖の運動は制限される。
また、残存する反応性基（－ＯＲ３）の数から示されるように、Ｔ１サイトやＴ２サイトの含有割合が高いポリシルセスキオキサン化合物は十分な反応性を有しているのに対して、Ｔ３サイトの含有割合が高いポリシルセスキオキサン化合物は反応性に劣る傾向がある。
【0047】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、上記要件１を満たすものである。
すなわち、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の合計量に対して、繰り返し単位（１）の量が４０ｍｏｌ％以上、８０ｍｏｌ％未満のものである。
本発明の硬化性組成物は、要件１を満たすポリシルセスキオキサン化合物を含有するため、屈折率が高いものとなる。さらに、硬化性組成物が要件１を満たすことで、その硬化物は、クラックが発生しにくくなり、また、接着性が向上する。
これらの効果がよりバランスよく得られることから、繰り返し単位（１）の量は、繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の合計量に対して、４５～７７ｍｏｌ％が好ましく、５０～７４ｍｏｌ％がより好ましく、５５～７１ｍｏｌ％がより更に好ましい。
すなわち、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の合計量に対して、繰り返し単位（１）の量が４０ｍｏｌ％以上、８０ｍｏｌ％未満のものである。
本発明の硬化性組成物は、要件１を満たすポリシルセスキオキサン化合物を含有するため、屈折率が高いものとなる。さらに、硬化性組成物が要件１を満たすことで、その硬化物は、クラックが発生しにくくなり、また、接着性が向上する。
これらの効果がよりバランスよく得られることから、繰り返し単位（１）の量は、繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の合計量に対して、４５～７７ｍｏｌ％が好ましく、５０～７４ｍｏｌ％がより好ましく、５５～７１ｍｏｌ％がより更に好ましい。
【0048】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）中の、繰り返し単位（１）や繰り返し単位（２）の割合は、例えば、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の２９Ｓｉ－ＮＭＲを測定することにより求めることができる。
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、アセトン等のケトン系溶媒；ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ジメチルスルホキシド等の含硫黄系溶媒；テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；酢酸エチル等のエステル系溶媒；クロロホルム等の含ハロゲン系溶媒；及びこれらの２種以上からなる混合溶媒；等の各種有機溶媒に可溶である。このため、これらの溶媒を用いて、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の溶液状態での２９Ｓｉ－ＮＭＲを測定することができる。
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、アセトン等のケトン系溶媒；ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ジメチルスルホキシド等の含硫黄系溶媒；テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；酢酸エチル等のエステル系溶媒；クロロホルム等の含ハロゲン系溶媒；及びこれらの２種以上からなる混合溶媒；等の各種有機溶媒に可溶である。このため、これらの溶媒を用いて、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の溶液状態での２９Ｓｉ－ＮＭＲを測定することができる。
【0049】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、上記要件２を満たすものである。
すなわち、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、Ｔ１サイト、Ｔ２サイト、及びＴ３サイトの合計量に対して、前記Ｔ２サイトの量が、２０～７０ｍｏｌ％のものであり、Ｔ２サイトを比較的多く含む。
本発明の硬化性組成物は、上記要件１に加えて要件２を満たすことで、本発明の硬化性組成物の硬化物は、クラックがさらに発生しにくくなり、また、接着性がさらに向上する。
すなわち、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、Ｔ１サイト、Ｔ２サイト、及びＴ３サイトの合計量に対して、前記Ｔ２サイトの量が、２０～７０ｍｏｌ％のものであり、Ｔ２サイトを比較的多く含む。
本発明の硬化性組成物は、上記要件１に加えて要件２を満たすことで、本発明の硬化性組成物の硬化物は、クラックがさらに発生しにくくなり、また、接着性がさらに向上する。
【0050】
すなわち、Ｔ１サイトを多く含むポリシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物は、硬化する際に、加水分解反応や縮合反応が過度に起き、硬化収縮により、その硬化物中にクラックが発生しやすくなる。
また、Ｔ３サイトを多く含むポリシルセスキオキサン化合物は、比較的高分子の化合物であり、運動性に劣るものであるため、そのようなポリシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物の硬化物は、残留応力が生じやすく、クラックが発生しやすくなる。
また、Ｔ３サイトを多く含むポリシルセスキオキサン化合物は、比較的高分子の化合物であり、運動性に劣るものであるため、そのようなポリシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物の硬化物は、残留応力が生じやすく、クラックが発生しやすくなる。
【0051】
一方、Ｔ２サイトを多く含むポリシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物は、加水分解反応や縮合反応を過度に起こすことなく硬化し得るものであるため、その硬化物中にクラックが発生しにくい。
また、Ｔ２サイトを多く含むポリシルセスキオキサン化合物は、それほど分子量が高くなく適度な運動性を有するものであるため、Ｔ２サイトを多く含むポリシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物の硬化物は、残留応力が生じにくく、クラックが発生しにくい。
また、Ｔ２サイトを多く含むポリシルセスキオキサン化合物は、それほど分子量が高くなく適度な運動性を有するものであるため、Ｔ２サイトを多く含むポリシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物の硬化物は、残留応力が生じにくく、クラックが発生しにくい。
【0052】
上記の効果が得られ易いことから、Ｔ１サイト、Ｔ２サイト、及びＴ３サイトの合計量に対するＴ２サイトの量は、２０～７０ｍｏｌ％であり、好ましくは２２～６０ｍｏｌ％、より好ましくは２４～５５ｍｏｌ％であり、より更に好ましくは２６～５０ｍｏｌ％である。
【0053】
また、Ｔ１サイト、Ｔ２サイト、及びＴ３サイトの合計量に対するＴ１サイトの量は、好ましくは０～４０ｍｏｌ％、より好ましくは０～３０ｍｏｌ％であり、より更に好ましくは０～２０ｍｏｌ％であり、より更に好ましくは０～１０ｍｏｌ％である。
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）がＴ１サイトを適度に含むことで、硬化性により優れる硬化性組成物を得ることができる。
また、Ｔ１サイト、Ｔ２サイト、及びＴ３サイトの合計量に対するＴ３サイトの量は、好ましくは１０～８０ｍｏｌ％、より好ましくは２０～７０ｍｏｌ％であり、より更に好ましくは３０～５０ｍｏｌ％である。
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）がＴ３サイトを適度に含むことで、硬化する際の縮合反応によって生じる副生成物の発生を抑制することができる。
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）がＴ１サイトを適度に含むことで、硬化性により優れる硬化性組成物を得ることができる。
また、Ｔ１サイト、Ｔ２サイト、及びＴ３サイトの合計量に対するＴ３サイトの量は、好ましくは１０～８０ｍｏｌ％、より好ましくは２０～７０ｍｏｌ％であり、より更に好ましくは３０～５０ｍｏｌ％である。
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）がＴ３サイトを適度に含むことで、硬化する際の縮合反応によって生じる副生成物の発生を抑制することができる。
【0054】
Ｔ１サイト、Ｔ２サイト、及びＴ３サイトの含有割合は、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の溶液状態での２９Ｓｉ－ＮＭＲを測定することにより求めることができる。
例えば、測定溶媒としてアセトンを使用し、内部標準としてＴＭＳ（テトラメチルシラン）を使用した場合、式（ａ－３）～（ａ－６）において、Ｇがフェニル基のＴサイト中のケイ素原子に由来するシグナルは、Ｔ１サイトで－６５～－５８ｐｐｍ、Ｔ２サイトで－７４～－６５ｐｐｍ、Ｔ３サイトで－８２～－７５ｐｐｍに観測され、式（ａ－３）～（ａ－６）において、Ｇがメチル基のＴサイト中のケイ素原子に由来するシグナルは、Ｔ１サイトで－５０～－４６ｐｐｍ、Ｔ２サイトで－６１～－５２ｐｐｍ、Ｔ３サイトで－７０～－６１ｐｐｍに観測される。
例えば、測定溶媒としてアセトンを使用し、内部標準としてＴＭＳ（テトラメチルシラン）を使用した場合、式（ａ－３）～（ａ－６）において、Ｇがフェニル基のＴサイト中のケイ素原子に由来するシグナルは、Ｔ１サイトで－６５～－５８ｐｐｍ、Ｔ２サイトで－７４～－６５ｐｐｍ、Ｔ３サイトで－８２～－７５ｐｐｍに観測され、式（ａ－３）～（ａ－６）において、Ｇがメチル基のＴサイト中のケイ素原子に由来するシグナルは、Ｔ１サイトで－５０～－４６ｐｐｍ、Ｔ２サイトで－６１～－５２ｐｐｍ、Ｔ３サイトで－７０～－６１ｐｐｍに観測される。
【0055】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは５００～２５，０００、より好ましくは７００～２０，０００、更に好ましくは１，０００～１５，０００であり、より更に好ましくは２，０００～１０，０００である。質量平均分子量（Ｍｗ）が上記範囲内にあるポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）を用いることで、硬化後にクラックが生じにくい硬化性組成物が得られ易くなる。
【0056】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は特に限定されないが、通常１．０～１０．０、好ましくは１．１～６．０であり、より好ましくは１．１～４．０である。分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が上記範囲内にあるポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）を用いることで、耐熱性及び接着性により優れる硬化物を与える硬化性組成物が得られ易くなる。
質量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）による標準ポリスチレン換算値として求めることができる。
質量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）による標準ポリスチレン換算値として求めることができる。
【0057】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）中の繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の合計量は、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の全繰り返し単位中、好ましくは９０～１００ｍｏｌ％、より好ましくは９５～１００ｍｏｌ％、更に好ましくは９８～１００ｍｏｌ％である。
【0058】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の２５℃における屈折率（ｎＤ）は、好ましくは１．４６～１．５６、より好ましくは１．４８～１．５５であり、より更に好ましくは１．５０～１．５５である。
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の２５℃における屈折率（ｎＤ）が、１．４６～１．５６の範囲内であることで、屈折率が高い硬化性組成物や硬化物が得られ易くなる。
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の屈折率（ｎＤ）は、アッベ屈折計を用いて測定することができる。
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の２５℃における屈折率（ｎＤ）が、１．４６～１．５６の範囲内であることで、屈折率が高い硬化性組成物や硬化物が得られ易くなる。
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の屈折率（ｎＤ）は、アッベ屈折計を用いて測定することができる。
【0059】
本発明において、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【0060】
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）の合成方法は特に限定されない。例えば、下記式（ａ－７）で示されるシラン化合物（１）の少なくとも１種と、下記式（ａ－８）で示されるシラン化合物（２）の少なくとも１種を重縮合させることにより、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）を合成することができる。
【0061】
【化8】
【0062】
（式中、Ｒ１は前記と同じ意味を表す。Ｒ４は炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｘ１はハロゲン原子を表し、ｐは０～３の整数を表す。複数のＲ４、及び複数のＸ１は、それぞれ、互いに同一であっても、相異なっていてもよい。）
【0063】
【化9】
【0064】
（式中、Ｒ２は前記と同じ意味を表す。Ｒ５は炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｘ２はハロゲン原子を表し、ｑは０～３の整数を表す。複数のＲ５、及び複数のＸ２は、それぞれ、互いに同一であっても、相異なっていてもよい。）
【0065】
Ｒ４、Ｒ５の「炭素数１～１０のアルキル基」としては、Ｒ３の「炭素数１～１０のアルキル基」として示したものと同様のものが挙げられる。
Ｘ１、Ｘ２のハロゲン原子としては、塩素原子、及び臭素原子等が挙げられる。
Ｘ１、Ｘ２のハロゲン原子としては、塩素原子、及び臭素原子等が挙げられる。
【0066】
シラン化合物（１）の具体例としては、
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等の無置換のアリールトリアルコキシシラン化合物類；
フェニルクロロジメトキシシラン、フェニルクロロジエトキシシラン、フェニルジクロロメトキシシラン、フェニルジクロロエトキシシラン等の無置換のアリールハロゲノアルコキシシラン化合物類；
フェニルトリクロロシラン等の無置換のアリールトリハロゲノシラン化合物類；
４－メチルフェニルトリメトキシシラン、４－メトキシフェニルトリメトキシシラン、４－クロロフェニルトリメトキシシラン、４－メチルフェニルトリエトキシシラン、４－メトキシフェニルトリエトキシシラン、４－クロロフェニルトリエトキシシラン等の置換基を有するアリールトリアルコキシシラン化合物類；
４－メチルフェニルクロロジメトキシシラン、４－メトキシフェニルクロロジメトキシシラン、４－クロロフェニルクロロジメトキシシラン、４－メチルフェニルジクロロメトキシシラン、４－メトキシフェニルジクロロメトキシシラン、４－クロロフェニルジクロロメトキシシラン等の置換基を有するアリールハロゲノアルコキシシラン化合物類；
４－メチルフェニルトリクロロシラン、４－メトキシフェニルトリクロロシラン、４－クロロフェニルトリクロロシラン等の置換基を有するアリールトリハロゲノシラン化合物類；等が挙げられる。
これらのシラン化合物（１）は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等の無置換のアリールトリアルコキシシラン化合物類；
フェニルクロロジメトキシシラン、フェニルクロロジエトキシシラン、フェニルジクロロメトキシシラン、フェニルジクロロエトキシシラン等の無置換のアリールハロゲノアルコキシシラン化合物類；
フェニルトリクロロシラン等の無置換のアリールトリハロゲノシラン化合物類；
４－メチルフェニルトリメトキシシラン、４－メトキシフェニルトリメトキシシラン、４－クロロフェニルトリメトキシシラン、４－メチルフェニルトリエトキシシラン、４－メトキシフェニルトリエトキシシラン、４－クロロフェニルトリエトキシシラン等の置換基を有するアリールトリアルコキシシラン化合物類；
４－メチルフェニルクロロジメトキシシラン、４－メトキシフェニルクロロジメトキシシラン、４－クロロフェニルクロロジメトキシシラン、４－メチルフェニルジクロロメトキシシラン、４－メトキシフェニルジクロロメトキシシラン、４－クロロフェニルジクロロメトキシシラン等の置換基を有するアリールハロゲノアルコキシシラン化合物類；
４－メチルフェニルトリクロロシラン、４－メトキシフェニルトリクロロシラン、４－クロロフェニルトリクロロシラン等の置換基を有するアリールトリハロゲノシラン化合物類；等が挙げられる。
これらのシラン化合物（１）は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【0067】
シラン化合物（２）の具体例としては、
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン等の無置換のアルキルトリアルコキシシラン化合物類；
メチルクロロジメトキシシラン、メチルクロロジエトキシシラン、メチルジクロロメトキシシラン、メチルブロモジメトキシシラン、エチルクロロジメトキシシラン、エチルクロロジエトキシシラン、エチルジクロロメトキシシラン、エチルブロモジメトキシシラン等の無置換のアルキルハロゲノアルコキシシラン化合物類；
メチルトリクロロシラン、メチルトリブロモシラン、エチルトリクロロシラン、エチルトリブロモシラン等の無置換のアルキルトリハロゲノシラン化合物類；
２－シアノエチルトリメトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン、２－シアノエチルトリエトキシシラン、３－クロロプロピルトリエトキシシラン等の置換基を有するアルキルトリアルコキシシラン化合物類；
２－シアノエチルクロロジメトキシシラン、３－クロロプロピルクロロジメトキシシラン、２－シアノエチルクロロジエトキシシラン、３－クロロプロピルクロロジエトキシシラン、２－シアノエチルジクロロメトキシシラン、３－クロロプロピルジクロロメトキシシラン、２－シアノエチルジクロロエトキシシラン、３－クロロプロピルジクロロエトキシシラン等の置換基を有するアルキルハロゲノアルコキシシラン化合物類；
２－シアノエチルトリクロロシラン、３－クロロプロピルトリクロロシラン等の置換基を有するアルキルトリハロゲノシラン化合物類；等が挙げられる。
これらのシラン化合物（２）は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン等の無置換のアルキルトリアルコキシシラン化合物類；
メチルクロロジメトキシシラン、メチルクロロジエトキシシラン、メチルジクロロメトキシシラン、メチルブロモジメトキシシラン、エチルクロロジメトキシシラン、エチルクロロジエトキシシラン、エチルジクロロメトキシシラン、エチルブロモジメトキシシラン等の無置換のアルキルハロゲノアルコキシシラン化合物類；
メチルトリクロロシラン、メチルトリブロモシラン、エチルトリクロロシラン、エチルトリブロモシラン等の無置換のアルキルトリハロゲノシラン化合物類；
２－シアノエチルトリメトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン、２－シアノエチルトリエトキシシラン、３－クロロプロピルトリエトキシシラン等の置換基を有するアルキルトリアルコキシシラン化合物類；
２－シアノエチルクロロジメトキシシラン、３－クロロプロピルクロロジメトキシシラン、２－シアノエチルクロロジエトキシシラン、３－クロロプロピルクロロジエトキシシラン、２－シアノエチルジクロロメトキシシラン、３－クロロプロピルジクロロメトキシシラン、２－シアノエチルジクロロエトキシシラン、３－クロロプロピルジクロロエトキシシラン等の置換基を有するアルキルハロゲノアルコキシシラン化合物類；
２－シアノエチルトリクロロシラン、３－クロロプロピルトリクロロシラン等の置換基を有するアルキルトリハロゲノシラン化合物類；等が挙げられる。
これらのシラン化合物（２）は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【0068】
前記シラン化合物を重縮合させる方法は特に限定されない。例えば、溶媒中、又は無溶媒で、シラン化合物に、所定量の重縮合触媒を添加し、所定温度で撹拌する方法が挙げられる。より具体的には、（ａ）シラン化合物に、所定量の酸触媒を添加し、所定温度で撹拌する方法、（ｂ）シラン化合物に、所定量の塩基触媒を添加し、所定温度で撹拌する方法、（ｃ）シラン化合物に、所定量の酸触媒を添加し、所定温度で撹拌した後、過剰量の塩基触媒を添加して、反応系を塩基性とし、所定温度で撹拌する方法等が挙げられる。
これらの中でも、目的とするポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）を効率よく得ることができることから、（ａ）の方法が好ましい。
これらの中でも、目的とするポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）を効率よく得ることができることから、（ａ）の方法が好ましい。
【0069】
用いる重縮合触媒は、酸触媒及び塩基触媒のいずれであってもよい。また、２以上の重縮合触媒を組み合わせて用いてもよいが、少なくとも酸触媒を用いることが好ましい。
酸触媒としては、リン酸、塩酸、ホウ酸、硫酸、硝酸等の無機酸；クエン酸、酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等の有機酸；等が挙げられる。これらの中でも、リン酸、塩酸、ホウ酸、硫酸、クエン酸、酢酸、及びメタンスルホン酸から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
酸触媒としては、リン酸、塩酸、ホウ酸、硫酸、硝酸等の無機酸；クエン酸、酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等の有機酸；等が挙げられる。これらの中でも、リン酸、塩酸、ホウ酸、硫酸、クエン酸、酢酸、及びメタンスルホン酸から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
【0070】
塩基触媒としては、アンモニア水；トリメチルアミン、トリエチルアミン、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド、ピリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、アニリン、ピコリン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、イミダゾール等の有機塩基；水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム等の有機水酸化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ－ブトキシド、カリウムｔ－ブトキシド等の金属アルコキシド；水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム等の金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩；等が挙げられる。
【0071】
重縮合触媒の使用量は、シラン化合物の総ｍｏｌ量に対して、通常、０．０５～１０ｍｏｌ％、好ましくは０．１～５ｍｏｌ％の範囲である。
【0072】
重縮合時に溶媒を用いる場合、用いる溶媒は、シラン化合物の種類等に応じて、適宜選択することができる。例えば、水；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ－プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｓ－ブチルアルコール、ｔ－ブチルアルコール等のアルコール類；等が挙げられる。これらの溶媒は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【0073】
溶媒の使用量は、シラン化合物の総モル量１モル当たり、０．１リットル以上１０リットル以下、好ましくは０．１リットル以上２リットル以下である。
【0074】
シラン化合物を重縮合させるときの温度は、通常０℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲、好ましくは２０℃以上１００℃以下の範囲である。反応温度があまりに低いと重縮合反応の進行が不十分となる場合がある。一方、反応温度が高くなりすぎるとゲル化抑制が困難となる。反応は、通常３０分から３０時間で完結する。
【0075】
上記方法により、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）を合成する際、シラン化合物（１）のＯＲ４又はＸ１や、シラン化合物（２）のＯＲ５又はＸ２のうち、脱アルコール等が起こらなかった部分は、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）中に残存する。このため、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）中に、前記式（ａ－５）で示される繰り返し単位以外に、前記式（ａ－３）、式（ａ－４）で示される繰り返し単位が含まれることがある。
【0076】
〔（Ｃ）成分〕
本発明の硬化性組成物を構成する（Ｃ）成分は、シランカップリング剤である。
本発明の硬化性組成物は、（Ｃ）成分を含有するものであるため、本発明の硬化性組成物の硬化物は、常温時や高温時における接着性にさらに優れたものとなる。
本発明の硬化性組成物を構成する（Ｃ）成分は、シランカップリング剤である。
本発明の硬化性組成物は、（Ｃ）成分を含有するものであるため、本発明の硬化性組成物の硬化物は、常温時や高温時における接着性にさらに優れたものとなる。
【0077】
シランカップリング剤とは、ケイ素原子と、官能基と、前記ケイ素原子に結合した加水分解性基とを有するシラン化合物をいう。
官能基とは、他の化合物（主に有機物）と反応性を有する基をいい、例えば、アミノ基、置換アミノ基、イソシアネート基、ウレイド基、イソシアヌレート骨格を有する基等の窒素原子を有する基；酸無水物基（酸無水物構造を有する基）；ビニル基；アリル基；エポキシ基；（メタ）アクリル基；メルカプト基；等が挙げられる。
本発明において、シランカップリング剤は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
官能基とは、他の化合物（主に有機物）と反応性を有する基をいい、例えば、アミノ基、置換アミノ基、イソシアネート基、ウレイド基、イソシアヌレート骨格を有する基等の窒素原子を有する基；酸無水物基（酸無水物構造を有する基）；ビニル基；アリル基；エポキシ基；（メタ）アクリル基；メルカプト基；等が挙げられる。
本発明において、シランカップリング剤は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【0078】
シランカップリング剤の含有量は、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは０．１～７０質量部であり、より好ましくは１～６０質量部、更に好ましくは５～５５質量部であり、より更に好ましくは１０～５０質量部であり、特に好ましくは１５～４５質量部である。
シランカップリング剤の含有量が上記範囲内である硬化性組成物を用いることで、常温時や高温時における接着性により優れた硬化物を形成することができる。
シランカップリング剤の含有量が上記範囲内である硬化性組成物を用いることで、常温時や高温時における接着性により優れた硬化物を形成することができる。
【0079】
シランカップリング剤としては、分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤や、分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤が好ましく、分子内にイソシアヌレート構造を有するシランカップリング剤や、分子内にコハク酸無水物構造を有するシランカップリング剤が更に好ましい。
【0080】
分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤としては、例えば、下記式（ｃ－１）で表されるトリアルコキシシラン化合物、式（ｃ－２）で表されるジアルコキシアルキルシラン化合物又はジアルコキシアリールシラン化合物等が挙げられる。
【0081】
【化10】
【0082】
上記式中、Ｒａは、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基等の炭素数１～６のアルコキシ基を表す。複数のＲａ同士は同一であっても相異なっていてもよい。
Ｒｂは、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基等の炭素数１～６のアルキル基；又は、フェニル基、４－クロロフェニル基、４－メチルフェニル基、１－ナフチル基等の、置換基を有する、又は置換基を有さないアリール基；を表す。
Ｒｂは、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基等の炭素数１～６のアルキル基；又は、フェニル基、４－クロロフェニル基、４－メチルフェニル基、１－ナフチル基等の、置換基を有する、又は置換基を有さないアリール基；を表す。
【0083】
Ｒｃは、窒素原子を有する、炭素数１～１０の有機基を表す。また、Ｒｃは、更に他のケイ素原子を含む基と結合していてもよい。
Ｒｃの炭素数１～１０の有機基の具体例としては、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピル基、３－アミノプロピル基、Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）アミノプロピル基、３－ウレイドプロピル基、Ｎ－フェニル－アミノプロピル基等が挙げられる。
Ｒｃの炭素数１～１０の有機基の具体例としては、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピル基、３－アミノプロピル基、Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）アミノプロピル基、３－ウレイドプロピル基、Ｎ－フェニル－アミノプロピル基等が挙げられる。
【0084】
上記式（ｃ－１）又は（ｃ－２）で表される化合物のうち、Ｒｃが、他のケイ素原子を含む基と結合した有機基である場合の化合物としては、イソシアヌレート骨格を介して他のケイ素原子と結合してイソシアヌレート系シランカップリング剤を構成するものや、ウレア骨格を介して他のケイ素原子と結合してウレア系シランカップリング剤を構成するものが挙げられる。
【0085】
これらの中でも、分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤としては、接着性により優れる硬化物が得られ易いことから、イソシアヌレート系シランカップリング剤、及びウレア系シランカップリング剤が好ましく、更に、分子内に、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を４以上有するものが好ましい。
ケイ素原子に結合したアルコキシ基を４以上有するとは、同一のケイ素原子に結合したアルコキシ基と、異なるケイ素原子に結合したアルコキシ基との総合計数が４以上という意味である。
ケイ素原子に結合したアルコキシ基を４以上有するとは、同一のケイ素原子に結合したアルコキシ基と、異なるケイ素原子に結合したアルコキシ基との総合計数が４以上という意味である。
【0086】
ケイ素原子に結合したアルコキシ基を４以上有するイソシアヌレート系シランカップリング剤としては、下記式（ｃ－３）で表される化合物が挙げられる。ケイ素原子に結合したアルコキシ基を４以上有するウレア系シランカップリング剤としては、下記式（ｃ－４）で表される化合物が挙げられる。
【0087】
【化11】
【0088】
式中、Ｒａは上記と同じ意味を表す。ｔ１～ｔ５はそれぞれ独立して、１～１０の整数を表し、１～６の整数であるのが好ましく、３であるのが特に好ましい。
【0089】
これらの中でも、分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤としては、１，３，５－Ｎ－トリス（３－トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、１，３，５－Ｎ－トリス（３－トリエトキシシリルプロピル）イソシアヌレート（以下、「イソシアヌレート化合物」という。）、Ｎ，Ｎ’－ビス（３－トリメトキシシリルプロピル）ウレア、Ｎ，Ｎ’－ビス（３－トリエトキシシリルプロピル）ウレア（以下、「ウレア化合物」という。）、及び、上記イソシアヌレート化合物とウレア化合物との組み合わせを用いるのが好ましい。
【0090】
本発明の硬化性組成物が分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤を含有する場合、その含有量は特に限定されないが、その量は、上記（Ａ）成分と分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤の質量比〔（Ａ）成分：分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤〕で、好ましくは１００：０．１～１００：６５、より好ましくは１００：０．３～１００：６０、より好ましくは１００：１～１００：５０、更に好ましくは１００：３～１００：４０、特に好ましくは１００：５～１００：３５となる量である。
このような割合で（Ａ）成分及び分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤を含有する硬化性組成物の硬化物は、耐熱性及び接着性により優れたものになる。
このような割合で（Ａ）成分及び分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤を含有する硬化性組成物の硬化物は、耐熱性及び接着性により優れたものになる。
【0091】
分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤は、一つの分子中に、酸無水物構造を有する基と、加水分解性基の両者を併せ持つ有機ケイ素化合物である。具体的には下記式（ｃ－５）で表される化合物が挙げられる。
【0092】
【化12】
【0093】
式中、Ｑは酸無水物構造を有する基を表し、Ｒｄは炭素数１～６のアルキル基、又は、置換基を有する、若しくは置換基を有さないフェニル基を表し、Ｒｅは炭素数１～６のアルコキシ基又はハロゲン原子を表し、ｉ、ｋは１～３の整数を表し、ｊは０～２の整数を表し、ｉ+ｊ+ｋ＝４である。ｊが２であるとき、Ｒｄ同士は同一であっても相異なっていてもよい。ｋが２又は３のとき、複数のＲｅ同士は同一であっても相異なっていてもよい。ｉが２又は３のとき、複数のＱ同士は同一であっても相異なっていてもよい。
Ｑとしては、下記式
Ｑとしては、下記式
【0094】
【化13】
【0095】
（式中、ｈは０～１０の整数を表す。）で表される基等が挙げられ、（Ｑ１）で表される基が特に好ましい。
【0096】
分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤としては、２－（トリメトキシシリル）エチル無水コハク酸、２－（トリエトキシシリル）エチル無水コハク酸、３－（トリメトキシシリル）プロピル無水コハク酸、３－（トリエトキシシリル）プロピル無水コハク酸等の、トリ（炭素数１～６）アルコキシシリル（炭素数２～８）アルキル無水コハク酸；
２－（ジメトキシメチルシリル）エチル無水コハク酸等の、ジ（炭素数１～６）アルコキシメチルシリル（炭素数２～８）アルキル無水コハク酸；
２－（メトキシジメチルシリル）エチル無水コハク酸等の、（炭素数１～６）アルコキシジメチルシリル（炭素数２～８）アルキル無水コハク酸；
２－（ジメトキシメチルシリル）エチル無水コハク酸等の、ジ（炭素数１～６）アルコキシメチルシリル（炭素数２～８）アルキル無水コハク酸；
２－（メトキシジメチルシリル）エチル無水コハク酸等の、（炭素数１～６）アルコキシジメチルシリル（炭素数２～８）アルキル無水コハク酸；
【0097】
２－（トリクロロシリル）エチル無水コハク酸、２－（トリブロモシリル）エチル無水コハク酸等の、トリハロゲノシリル（炭素数２～８）アルキル無水コハク酸；
２－（ジクロロメチルシリル）エチル無水コハク酸等の、ジハロゲノメチルシリル（炭素数２～８）アルキル無水コハク酸；
２－（クロロジメチルシリル）エチル無水コハク酸等の、ハロゲノジメチルシリル（炭素数２～８）アルキル無水コハク酸；等が挙げられる。
２－（ジクロロメチルシリル）エチル無水コハク酸等の、ジハロゲノメチルシリル（炭素数２～８）アルキル無水コハク酸；
２－（クロロジメチルシリル）エチル無水コハク酸等の、ハロゲノジメチルシリル（炭素数２～８）アルキル無水コハク酸；等が挙げられる。
【0098】
これらの中でも、分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤としては、トリ（炭素数１～６）アルコキシシリル（炭素数２～８）アルキル無水コハク酸が好ましく、３－（トリメトキシシリル）プロピル無水コハク酸又は３－（トリエトキシシリル）プロピル無水コハク酸が特に好ましい。
【0099】
本発明の硬化性組成物が分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤を含有する場合、その含有量は特に限定されないが、その量は、上記（Ａ）成分と分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤の質量比〔（Ａ）成分：分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤〕で、好ましくは１００：０．１～１００：３０、より好ましくは１００：０．３～１００：２０、より好ましくは１００：０．５～１００：１５、更に好ましくは１００：１～１００：１０となる量である。
このような割合で（Ａ）成分及び分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤を含有する硬化性組成物の硬化物は、接着性により優れたものになる。
このような割合で（Ａ）成分及び分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤を含有する硬化性組成物の硬化物は、接着性により優れたものになる。
【0100】
〔硬化性組成物〕
本発明の硬化性組成物は、（Ａ）成分と（Ｃ）成分の合計量が、硬化性組成物の固形分中５０～１００質量％であることが好ましく、７０～１００質量％であることがより好ましい。
本発明において、「固形分」とは、硬化性組成物中の溶媒以外の成分をいう。
本発明の硬化性組成物は、（Ａ）成分と（Ｃ）成分の合計量が、硬化性組成物の固形分中５０～１００質量％であることが好ましく、７０～１００質量％であることがより好ましい。
本発明において、「固形分」とは、硬化性組成物中の溶媒以外の成分をいう。
【0101】
本発明の硬化性組成物は、（Ｂ）成分として、平均一次粒子径が、５ｎｍ以上、４０ｎｍ以下の微粒子（以下、「微粒子（Ｂ）」と記載することがある。）を含有してもよい。
微粒子（Ｂ）を含有する硬化性組成物は、塗布工程における作業性に優れる。
この効果がより得られ易いことから、微粒子（Ｂ）の平均一次粒子径は、好ましくは５～３０ｎｍ、より好ましくは５～２０ｎｍである。
微粒子（Ｂ）を含有する硬化性組成物は、塗布工程における作業性に優れる。
この効果がより得られ易いことから、微粒子（Ｂ）の平均一次粒子径は、好ましくは５～３０ｎｍ、より好ましくは５～２０ｎｍである。
【0102】
微粒子（Ｂ）の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡を用いて微粒子の形状を観察することにより求められる。
【0103】
微粒子（Ｂ）の材質としては、金属；金属酸化物；鉱物；炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の金属炭酸塩；硫酸カルシウム、硫酸バリウム等の金属硫酸塩；水酸化アルミニウム等の金属水酸化物；珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム等の金属珪酸塩；シリカ等の無機成分；シリコーン；アクリル系重合体等の有機成分；等が挙げられる。
また、用いる微粒子（Ｂ）は表面が修飾されたものであってもよい。
また、用いる微粒子（Ｂ）は表面が修飾されたものであってもよい。
【0104】
微粒子（Ｂ）は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の硬化性組成物が微粒子（Ｂ）〔（Ｂ）成分〕を含有する場合、（Ｂ）成分の含有量は特に限定されないが、その量は、上記（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比〔（Ａ）成分：（Ｂ）成分〕で、好ましくは１００：０．１～１００：９０、より好ましくは１００：０．２～１００：６０、より好ましくは１００：０．３～１００：５０、より好ましくは１００：０．５～１００：４０、より好ましくは１００：０．８～１００：３０となる量である。（Ｂ）成分を上記範囲で用いることにより、（Ｂ）成分を加える効果をより発現することができる。
本発明の硬化性組成物が微粒子（Ｂ）〔（Ｂ）成分〕を含有する場合、（Ｂ）成分の含有量は特に限定されないが、その量は、上記（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比〔（Ａ）成分：（Ｂ）成分〕で、好ましくは１００：０．１～１００：９０、より好ましくは１００：０．２～１００：６０、より好ましくは１００：０．３～１００：５０、より好ましくは１００：０．５～１００：４０、より好ましくは１００：０．８～１００：３０となる量である。（Ｂ）成分を上記範囲で用いることにより、（Ｂ）成分を加える効果をより発現することができる。
【0105】
本発明の硬化性組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲で、その他の成分を含有してもよい。
その他の成分としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤等が挙げられる。
その他の成分としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤等が挙げられる。
【0106】
酸化防止剤は、加熱時の酸化劣化を防止するために添加される。酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が挙げられる。
【0107】
リン系酸化防止剤としては、ホスファイト類、オキサホスファフェナントレンオキサイド類等が挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、モノフェノール類、ビスフェノール類、高分子型フェノール類等が挙げられる。硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリル－３，３’－チオジプロピオネート、ジミリスチル－３，３’－チオジプロピオネート、ジステアリル－３，３’－チオジプロピオネート等が挙げられる。
【0108】
これらの酸化防止剤は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。酸化防止剤の含有量は特に限定されないが、（Ａ）成分に対して、通常１０質量％以下である。
【0109】
紫外線吸収剤は、得られる硬化物の耐光性を向上させる目的で添加される。
紫外線吸収剤としては、サリチル酸類、ベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、ヒンダードアミン類等が挙げられる。
紫外線吸収剤は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。紫外線吸収剤の含有量は特に限定されないが、（Ａ）成分に対して、通常１０質量％以下である。
紫外線吸収剤としては、サリチル酸類、ベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、ヒンダードアミン類等が挙げられる。
紫外線吸収剤は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。紫外線吸収剤の含有量は特に限定されないが、（Ａ）成分に対して、通常１０質量％以下である。
【0110】
光安定剤は、得られる硬化物の耐光性を向上させる目的で添加される。
光安定剤としては、例えば、ポリ［｛６－（１，１，３，３，－テトラメチルブチル）アミノ－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル｝｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン）イミノ｝］等のヒンダードアミン類等が挙げられる。
これらの光安定剤は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。光安定剤の含有量は、（Ａ）成分に対して、通常２０質量％以下である。
光安定剤としては、例えば、ポリ［｛６－（１，１，３，３，－テトラメチルブチル）アミノ－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル｝｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジン）イミノ｝］等のヒンダードアミン類等が挙げられる。
これらの光安定剤は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。光安定剤の含有量は、（Ａ）成分に対して、通常２０質量％以下である。
【0111】
本発明の硬化性組成物は、希釈剤を含有してもよい。希釈剤は、本発明の硬化性組成物の成分を溶解又は分散し得るものであれば特に限定されない。希釈剤は１種類でもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【0112】
本発明の硬化性組成物が希釈剤を含有する場合、その含有量は、固形分濃度が、好ましくは６０質量％以上、１００質量％未満、より好ましくは６５～９８質量％、より更に好ましくは７０～９５質量％になる量である。
本発明に用いるポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、比較的分子量が小さいことが多い。そのようなポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）を含有する硬化性組成物においては、希釈剤を大量に含有しなくても（すなわち、固形分濃度が高くても）、良好な塗布性を有する。
固形分濃度が高い硬化性組成物を用いる場合、塗膜の乾燥条件や、硬化条件を厳密に管理しなくても、硬化物には溶媒がほとんど含まれないため、一定の特性を有する硬化物を安定的に形成することができる。
本発明に用いるポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）は、比較的分子量が小さいことが多い。そのようなポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）を含有する硬化性組成物においては、希釈剤を大量に含有しなくても（すなわち、固形分濃度が高くても）、良好な塗布性を有する。
固形分濃度が高い硬化性組成物を用いる場合、塗膜の乾燥条件や、硬化条件を厳密に管理しなくても、硬化物には溶媒がほとんど含まれないため、一定の特性を有する硬化物を安定的に形成することができる。
【0113】
本発明の硬化性組成物はポリシルセスキオキサン化合物（Ａ）を含有するため、屈折率が高い。
本発明の硬化性組成物の、２５℃における屈折率（ｎＤ）は、通常１．４６以上であり、好ましくは１．４６～１．５６、より好ましくは１．４６～１．５４であり、より更に好ましくは１．４７～１．５３である。
硬化性組成物の屈折率（ｎＤ）は、実施例に記載の方法を用いて測定することができる。
本発明の硬化性組成物の、２５℃における屈折率（ｎＤ）は、通常１．４６以上であり、好ましくは１．４６～１．５６、より好ましくは１．４６～１．５４であり、より更に好ましくは１．４７～１．５３である。
硬化性組成物の屈折率（ｎＤ）は、実施例に記載の方法を用いて測定することができる。
【0114】
本発明の硬化性組成物は、例えば、上記（Ａ）成分と（Ｃ）成分、及び、所望によりこれら以外の成分を所定割合で混合し、脱泡することにより調製することができる。
混合方法、脱泡方法は特に限定されず、公知の方法を利用することができる。
混合方法、脱泡方法は特に限定されず、公知の方法を利用することができる。
【0115】
２）硬化物
本発明の硬化物は、本発明の硬化性組成物を硬化させて得られるものである。
本発明の硬化性組成物を硬化させる方法としては加熱硬化が挙げられる。硬化させるときの加熱温度は、通常１００～２００℃であり、加熱時間は、通常１０分から２０時間、好ましくは３０分から１０時間である。
本発明の硬化物は、本発明の硬化性組成物を硬化させて得られるものである。
本発明の硬化性組成物を硬化させる方法としては加熱硬化が挙げられる。硬化させるときの加熱温度は、通常１００～２００℃であり、加熱時間は、通常１０分から２０時間、好ましくは３０分から１０時間である。
【0116】
本発明の硬化物は、耐熱性及び接着性に優れるものである。
本発明の硬化物がこれらの特性を有することは、例えば、次のようにして確認することができる。すなわち、シリコンチップのミラー面に、本発明の硬化性組成物を所定量塗布し、塗布面を被着体の上に載せ、圧着し、加熱処理して硬化させる。これを、予め所定温度（例えば、２３℃、１００℃）に加熱したボンドテスターの測定ステージ上に３０秒間放置し、被着体から５０μｍの高さの位置より、接着面に対し水平方向（せん断方向）に応力をかけ、試験片と被着体との接着力を測定する。
本発明の硬化物がこれらの特性を有することは、例えば、次のようにして確認することができる。すなわち、シリコンチップのミラー面に、本発明の硬化性組成物を所定量塗布し、塗布面を被着体の上に載せ、圧着し、加熱処理して硬化させる。これを、予め所定温度（例えば、２３℃、１００℃）に加熱したボンドテスターの測定ステージ上に３０秒間放置し、被着体から５０μｍの高さの位置より、接着面に対し水平方向（せん断方向）に応力をかけ、試験片と被着体との接着力を測定する。
【0117】
本発明の硬化物の接着力は、２３℃において１００Ｎ／４ｍｍ２以上であることが好ましく、１２０Ｎ／４ｍｍ２以上であることがより好ましい。
本発明の硬化物の接着力は、１００℃において４０Ｎ／４ｍｍ２以上であることが好ましく、４５Ｎ／４ｍｍ２以上であることがより好ましい。
本明細書において、「４ｍｍ２」とは、「２ｍｍ ｓｑｕａｒｅ」、すなわち、２ｍｍ×２ｍｍ（１辺が２ｍｍの正方形）を意味する。
本発明の硬化物の接着力は、１００℃において４０Ｎ／４ｍｍ２以上であることが好ましく、４５Ｎ／４ｍｍ２以上であることがより好ましい。
本明細書において、「４ｍｍ２」とは、「２ｍｍ ｓｑｕａｒｅ」、すなわち、２ｍｍ×２ｍｍ（１辺が２ｍｍの正方形）を意味する。
【0118】
本発明の硬化物は、屈折率が高く、かつ、優れた接着性を有する。したがって、本発明の硬化物は、屈折率が高い接着剤層等として好ましく用いられる。
本発明の硬化物の、２５℃における屈折率（ｎＤ）は、通常１．４６以上であり、好ましくは１．４６～１．５６、より好ましくは１．４６～１．５４であり、より更に好ましくは１．４７～１．５３である。
硬化物の屈折率（ｎＤ）は、アッベ屈折計を用いて測定することができる。
本発明の硬化物の、２５℃における屈折率（ｎＤ）は、通常１．４６以上であり、好ましくは１．４６～１．５６、より好ましくは１．４６～１．５４であり、より更に好ましくは１．４７～１．５３である。
硬化物の屈折率（ｎＤ）は、アッベ屈折計を用いて測定することができる。
【0119】
上記特性を有することから、本発明の硬化物は、光素子固定材として好ましく用いられる。
【0120】
３）硬化性組成物の使用方法
本発明の方法は、本発明の硬化性組成物を、光素子固定材用接着剤又は光素子固定材用封止材として使用する方法である。
光素子としては、ＬＥＤ、ＬＤ等の発光素子、受光素子、複合光素子、光集積回路等が挙げられる。
本発明の方法は、本発明の硬化性組成物を、光素子固定材用接着剤又は光素子固定材用封止材として使用する方法である。
光素子としては、ＬＥＤ、ＬＤ等の発光素子、受光素子、複合光素子、光集積回路等が挙げられる。
【0121】
〈光素子固定材用接着剤〉
本発明の硬化性組成物は、光素子固定材用接着剤として好適に使用することができる。
本発明の硬化性組成物を光素子固定材用接着剤として使用する方法としては、接着の対象とする材料（光素子とその基板等）の一方又は両方の接着面に該組成物を塗布し、圧着した後、加熱硬化させ、接着の対象とする材料同士を強固に接着させる方法が挙げられる。本発明の硬化性組成物の塗布量は、特に限定されず、硬化させることにより、接着の対象とする材料同士を強固に接着することができる量であればよい。通常、硬化性組成物の塗膜の厚みが０．５～５μｍ、好ましくは１～３μｍとなる量である。
本発明の硬化性組成物は、光素子固定材用接着剤として好適に使用することができる。
本発明の硬化性組成物を光素子固定材用接着剤として使用する方法としては、接着の対象とする材料（光素子とその基板等）の一方又は両方の接着面に該組成物を塗布し、圧着した後、加熱硬化させ、接着の対象とする材料同士を強固に接着させる方法が挙げられる。本発明の硬化性組成物の塗布量は、特に限定されず、硬化させることにより、接着の対象とする材料同士を強固に接着することができる量であればよい。通常、硬化性組成物の塗膜の厚みが０．５～５μｍ、好ましくは１～３μｍとなる量である。
【0122】
光素子を接着するための基板材料としては、ソーダライムガラス、耐熱性硬質ガラス等のガラス類；セラミックス；サファイア；鉄、銅、アルミニウム、金、銀、白金、クロム、チタン及びこれらの金属の合金、ステンレス（ＳＵＳ３０２、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３０４Ｌ、ＳＵＳ３０９等）等の金属類；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルペンテン、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリアミド、アクリル樹脂、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィン樹脂、ガラスエポキシ樹脂等の合成樹脂；等が挙げられる。
【0123】
加熱硬化させる際の加熱温度は、用いる硬化性組成物等にもよるが、通常１００～２００℃である。加熱時間は、通常１０分から２０時間、好ましくは３０分から１０時間である。
【0124】
〈光素子固定材用封止材〉
本発明の硬化性組成物は、光素子固定材用封止材として好適に用いることができる。
本発明の硬化性組成物を光素子固定材用封止材として使用する方法としては、例えば、該組成物を所望の形状に成形して、光素子を内包した成形体を得た後、このものを加熱硬化させることにより、光素子封止体を製造する方法等が挙げられる。
本発明の硬化性組成物を所望の形状に成形する方法としては、特に限定されるものではなく、通常のトランスファー成形法や、注型法等の公知のモールド法を採用できる。
本発明の硬化性組成物は、光素子固定材用封止材として好適に用いることができる。
本発明の硬化性組成物を光素子固定材用封止材として使用する方法としては、例えば、該組成物を所望の形状に成形して、光素子を内包した成形体を得た後、このものを加熱硬化させることにより、光素子封止体を製造する方法等が挙げられる。
本発明の硬化性組成物を所望の形状に成形する方法としては、特に限定されるものではなく、通常のトランスファー成形法や、注型法等の公知のモールド法を採用できる。
【0125】
加熱硬化させる際の加熱温度は、用いる硬化性組成物等にもよるが、通常、１００～２００℃である。加熱時間は、通常１０分から２０時間、好ましくは３０分から１０時間である。
【0126】
得られる光素子封止体は、本発明の硬化性組成物を用いているので、耐熱性及び接着性に優れる。
【実施例】
【0127】
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例になんら限定されるものではない。
【0128】
（平均分子量測定）
ポリシルセスキオキサン化合物の質量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、標準ポリスチレン換算値とし、以下の装置及び条件にて測定した。
装置名：ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ、東ソー株式会社製
カラム：ＴＳＫｇｅｌＧＭＨＸＬ、ＴＳＫｇｅｌＧＭＨＸＬ、及び、ＴＳＫｇｅｌ２０００ＨＸＬを順次連結したもの
溶媒：テトラヒドロフラン
注入量：２０μｌ
測定温度：４０℃
流速：０．６ｍｌ／分
検出器：示差屈折計
ポリシルセスキオキサン化合物の質量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、標準ポリスチレン換算値とし、以下の装置及び条件にて測定した。
装置名：ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ、東ソー株式会社製
カラム：ＴＳＫｇｅｌＧＭＨＸＬ、ＴＳＫｇｅｌＧＭＨＸＬ、及び、ＴＳＫｇｅｌ２０００ＨＸＬを順次連結したもの
溶媒：テトラヒドロフラン
注入量：２０μｌ
測定温度：４０℃
流速：０．６ｍｌ／分
検出器：示差屈折計
【0129】
（２９Ｓｉ－ＮＭＲ測定）
ポリシルセスキオキサン化合物の繰り返し単位とその量を調べるために、以下の条件で２９Ｓｉ－ＮＭＲ測定を行った。
装置：ブルカー・バイオスピン社製 ＡＶ－５００
２９Ｓｉ－ＮＭＲ共鳴周波数：９９．３５２ＭＨｚ
プローブ：５ｍｍφ溶液プローブ
測定温度：室温（２５℃）
試料回転数：２０ｋＨｚ
測定法：インバースゲートデカップリング法
２９Ｓｉ フリップ角：９０°
２９Ｓｉ ９０°パルス幅：８．０μｓ
繰り返し時間：５ｓ
積算回数：９２００回
観測幅：３０ｋＨｚ
ポリシルセスキオキサン化合物の繰り返し単位とその量を調べるために、以下の条件で２９Ｓｉ－ＮＭＲ測定を行った。
装置：ブルカー・バイオスピン社製 ＡＶ－５００
２９Ｓｉ－ＮＭＲ共鳴周波数：９９．３５２ＭＨｚ
プローブ：５ｍｍφ溶液プローブ
測定温度：室温（２５℃）
試料回転数：２０ｋＨｚ
測定法：インバースゲートデカップリング法
２９Ｓｉ フリップ角：９０°
２９Ｓｉ ９０°パルス幅：８．０μｓ
繰り返し時間：５ｓ
積算回数：９２００回
観測幅：３０ｋＨｚ
【0130】
（２９Ｓｉ－ＮＭＲ試料作製方法）
緩和時間短縮のため、緩和試薬としてＦｅ（ａｃａｃ）３を添加し測定した。
ポリシルセスキオキサン化合物濃度：１５質量％
Ｆｅ（ａｃａｃ）３濃度：０．６質量％
測定溶媒：アセトン
内部標準：ＴＭＳ
緩和時間短縮のため、緩和試薬としてＦｅ（ａｃａｃ）３を添加し測定した。
ポリシルセスキオキサン化合物濃度：１５質量％
Ｆｅ（ａｃａｃ）３濃度：０．６質量％
測定溶媒：アセトン
内部標準：ＴＭＳ
【0131】
（波形処理解析）
フーリエ変換後のスペクトルの各ピークについて、ピークトップの位置によりケミカルシフトを求め、以下の範囲で各ピークの積分を行った。得られた値をもとに、Ｔ１サイト、Ｔ２サイト、Ｔ３サイトの割合を算出した。
フェニル基を有するＴサイト（Ｔ１：－６５～－５８ｐｐｍ、Ｔ２：－７４～－６５ｐｐｍ、Ｔ３：－８２～－７５ｐｐｍ）
メチル基を有するＴサイト（Ｔ１：－５０～－４６ｐｐｍ、Ｔ２：－６１～－５２ｐｐｍ、Ｔ３：－７０～－６１ｐｐｍ）
フーリエ変換後のスペクトルの各ピークについて、ピークトップの位置によりケミカルシフトを求め、以下の範囲で各ピークの積分を行った。得られた値をもとに、Ｔ１サイト、Ｔ２サイト、Ｔ３サイトの割合を算出した。
フェニル基を有するＴサイト（Ｔ１：－６５～－５８ｐｐｍ、Ｔ２：－７４～－６５ｐｐｍ、Ｔ３：－８２～－７５ｐｐｍ）
メチル基を有するＴサイト（Ｔ１：－５０～－４６ｐｐｍ、Ｔ２：－６１～－５２ｐｐｍ、Ｔ３：－７０～－６１ｐｐｍ）
【0132】
（屈折率）
多波長アッベ屈折計（株式会社アタゴ製、ＤＲ－Ｍ２）を用いて、２５℃で、ポリシルセスキオキサン化合物の屈折率（ｎＤ）を測定した。
多波長アッベ屈折計（株式会社アタゴ製、ＤＲ－Ｍ２）を用いて、２５℃で、ポリシルセスキオキサン化合物の屈折率（ｎＤ）を測定した。
【0133】
（製造例１）
３００ｍｌのナス型フラスコに、フェニルトリメトキシシラン９．３４ｇ（４７．１ｍｍｏｌ）およびメチルトリエトキシシラン８．４０ｇ（４７．１ｍｍｏｌ）を仕込んだ後、これを撹拌しながら、蒸留水５．０９ｇに３５質量％塩酸０．０２５ｇ（シラン化合物全量に対してＨＣｌが０．２５ｍｏｌ％）を溶解した水溶液を加え、全容を３０℃にて２時間、次いで８０℃に昇温して２０時間撹拌した。
反応液を室温まで放冷した後、そこに、酢酸プロピル５０ｇ及び水１００ｇを加えて分液処理を行い、反応生成物を含む有機層を得た。この有機層に硫酸マグネシウムを加えて乾燥処理を行った。硫酸マグネシウムを濾別除去した後、有機層をエバポレーターで濃縮し、次いで、得られた濃縮物を真空乾燥することにより、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ１）を得た。
３００ｍｌのナス型フラスコに、フェニルトリメトキシシラン９．３４ｇ（４７．１ｍｍｏｌ）およびメチルトリエトキシシラン８．４０ｇ（４７．１ｍｍｏｌ）を仕込んだ後、これを撹拌しながら、蒸留水５．０９ｇに３５質量％塩酸０．０２５ｇ（シラン化合物全量に対してＨＣｌが０．２５ｍｏｌ％）を溶解した水溶液を加え、全容を３０℃にて２時間、次いで８０℃に昇温して２０時間撹拌した。
反応液を室温まで放冷した後、そこに、酢酸プロピル５０ｇ及び水１００ｇを加えて分液処理を行い、反応生成物を含む有機層を得た。この有機層に硫酸マグネシウムを加えて乾燥処理を行った。硫酸マグネシウムを濾別除去した後、有機層をエバポレーターで濃縮し、次いで、得られた濃縮物を真空乾燥することにより、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ１）を得た。
【0134】
（製造例２）
３００ｍｌのナス型フラスコに、フェニルトリメトキシシラン１２．５５ｇ（６３．３ｍｍｏｌ）およびメチルトリエトキシシラン４．８３ｇ（２７．１ｍｍｏｌ）を仕込んだ後、これを撹拌しながら、蒸留水４．８８ｇに３５質量％塩酸０．０２４ｇ（シラン化合物全量に対してＨＣｌが０．２５ｍｏｌ％）を溶解した水溶液を加え、全容を３０℃にて２時間、次いで８０℃に昇温して２０時間撹拌した。
内容物の撹拌を継続しながら、そこに、酢酸プロピル１７ｇと、２８質量％アンモニア水０．１４９ｇ（フェニルトリエトキシシランに対して２．５ｍｏｌ％）を加え、８０℃に昇温して２０時間撹拌した。
反応液を室温まで放冷した後、製造例１と同様に分液、乾燥処理等を行うことにより、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ２）を得た。
３００ｍｌのナス型フラスコに、フェニルトリメトキシシラン１２．５５ｇ（６３．３ｍｍｏｌ）およびメチルトリエトキシシラン４．８３ｇ（２７．１ｍｍｏｌ）を仕込んだ後、これを撹拌しながら、蒸留水４．８８ｇに３５質量％塩酸０．０２４ｇ（シラン化合物全量に対してＨＣｌが０．２５ｍｏｌ％）を溶解した水溶液を加え、全容を３０℃にて２時間、次いで８０℃に昇温して２０時間撹拌した。
内容物の撹拌を継続しながら、そこに、酢酸プロピル１７ｇと、２８質量％アンモニア水０．１４９ｇ（フェニルトリエトキシシランに対して２．５ｍｏｌ％）を加え、８０℃に昇温して２０時間撹拌した。
反応液を室温まで放冷した後、製造例１と同様に分液、乾燥処理等を行うことにより、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ２）を得た。
【0135】
（製造例３）
３００ｍｌのナス型フラスコに、フェニルトリメトキシシラン９．３４ｇ（４７．１ｍｍｏｌ）およびメチルトリエトキシシラン８．４０ｇ（４７．１ｍｍｏｌ）を仕込んだ後、これを撹拌しながら、蒸留水５．０９ｇに３５質量％塩酸０．２９４ｇ（シラン化合物全量に対してＨＣｌが３．００ｍｏｌ％）を溶解した水溶液を加え、全容を３０℃にて２時間、次いで８０℃に昇温して２０時間撹拌した。
反応液を室温まで放冷した後、そこに、酢酸プロピル５０ｇ及び水１００ｇを加えて分液処理を行い、反応生成物を含む有機層を得た。この有機層に硫酸マグネシウムを加えて乾燥処理を行った。硫酸マグネシウムを濾別除去した後、有機層をエバポレーターで濃縮し、次いで、得られた濃縮物を真空乾燥することにより、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ３）を得た。
３００ｍｌのナス型フラスコに、フェニルトリメトキシシラン９．３４ｇ（４７．１ｍｍｏｌ）およびメチルトリエトキシシラン８．４０ｇ（４７．１ｍｍｏｌ）を仕込んだ後、これを撹拌しながら、蒸留水５．０９ｇに３５質量％塩酸０．２９４ｇ（シラン化合物全量に対してＨＣｌが３．００ｍｏｌ％）を溶解した水溶液を加え、全容を３０℃にて２時間、次いで８０℃に昇温して２０時間撹拌した。
反応液を室温まで放冷した後、そこに、酢酸プロピル５０ｇ及び水１００ｇを加えて分液処理を行い、反応生成物を含む有機層を得た。この有機層に硫酸マグネシウムを加えて乾燥処理を行った。硫酸マグネシウムを濾別除去した後、有機層をエバポレーターで濃縮し、次いで、得られた濃縮物を真空乾燥することにより、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ３）を得た。
【0136】
（比較製造例１）
３００ｍｌのナス型フラスコに、フェニルトリメトキシシラン１４．４５５ｇ（７２．９ｍｍｏｌ）を仕込んだ後、これを撹拌しながら、蒸留水３．９３７ｇに３５質量％塩酸０．０１８８ｇ（フェニルトリメトキシシランに対してＨＣｌが０．２５ｍｏｌ％）を溶解した水溶液を加え、全容を３０℃にて２時間、次いで７０℃に昇温して２２時間撹拌した。
内容物の撹拌を継続しながら、そこに、酢酸プロピル１５ｇと、２８質量％アンモニア水０．０１０９ｇ（フェニルトリエトキシシランに対して０．２５ｍｏｌ％）を加え、８０℃に昇温して２０時間撹拌した。
反応液を室温まで放冷した後、製造例１と同様に分液、乾燥処理等を行うことにより、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ４）を得た。
３００ｍｌのナス型フラスコに、フェニルトリメトキシシラン１４．４５５ｇ（７２．９ｍｍｏｌ）を仕込んだ後、これを撹拌しながら、蒸留水３．９３７ｇに３５質量％塩酸０．０１８８ｇ（フェニルトリメトキシシランに対してＨＣｌが０．２５ｍｏｌ％）を溶解した水溶液を加え、全容を３０℃にて２時間、次いで７０℃に昇温して２２時間撹拌した。
内容物の撹拌を継続しながら、そこに、酢酸プロピル１５ｇと、２８質量％アンモニア水０．０１０９ｇ（フェニルトリエトキシシランに対して０．２５ｍｏｌ％）を加え、８０℃に昇温して２０時間撹拌した。
反応液を室温まで放冷した後、製造例１と同様に分液、乾燥処理等を行うことにより、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ４）を得た。
【0137】
（比較製造例２）
３００ｍｌのナス型フラスコに、フェニルトリメトキシシラン２８．７７ｇ（１４５．１ｍｍｏｌ）およびメチルトリエトキシシラン０．２６７５ｇ（１．５ｍｍｏｌ）を仕込んだ後、これを撹拌しながら、蒸留水８．２４ｇに３５質量％塩酸０．４７７ｇ（シラン化合物全量に対してＨＣｌが３ｍｏｌ％）を溶解した水溶液を加え、全容を３０℃にて２時間、次いで８０℃に昇温して２０時間撹拌した。
反応液を室温まで放冷した後、製造例１と同様に分液、乾燥処理等を行うことにより、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ５）を得た。
３００ｍｌのナス型フラスコに、フェニルトリメトキシシラン２８．７７ｇ（１４５．１ｍｍｏｌ）およびメチルトリエトキシシラン０．２６７５ｇ（１．５ｍｍｏｌ）を仕込んだ後、これを撹拌しながら、蒸留水８．２４ｇに３５質量％塩酸０．４７７ｇ（シラン化合物全量に対してＨＣｌが３ｍｏｌ％）を溶解した水溶液を加え、全容を３０℃にて２時間、次いで８０℃に昇温して２０時間撹拌した。
反応液を室温まで放冷した後、製造例１と同様に分液、乾燥処理等を行うことにより、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ５）を得た。
【0138】
得られたポリシルセスキオキサン化合物（ＰＳＱ）の詳細を第１表に示す。
【0139】
【表1】
【0140】
実施例、比較例、及び参考例で用いた化合物を以下に示す。
【0141】
（シランカップリング剤）
シランカップリング剤（Ｃ１）：１，３，５－Ｎ－トリス〔３－（トリメトキシシリル）プロピル〕イソシアヌレート
シランカップリング剤（Ｃ２）：３－（トリメトキシシリル）プロピルコハク酸無水物
シランカップリング剤（Ｃ１）：１，３，５－Ｎ－トリス〔３－（トリメトキシシリル）プロピル〕イソシアヌレート
シランカップリング剤（Ｃ２）：３－（トリメトキシシリル）プロピルコハク酸無水物
【0142】
（フィラー）
シリカ微粒子：（日本アエロジル株式会社製、製品名「ＡＥＲＯＳＩＬ ＲＸ３００」、平均一次粒子径：７ｎｍ、比表面積：２１０ｍ２／ｇ）
シリカ微粒子：（日本アエロジル株式会社製、製品名「ＡＥＲＯＳＩＬ ＲＸ３００」、平均一次粒子径：７ｎｍ、比表面積：２１０ｍ２／ｇ）
【0143】
（実施例１）
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ１）１００質量部に、シリカ微粒子５質量部を加え、更に、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート：トリプロピレングリコール－ｎ－ブチルエーテル＝４０：６０（質量比）の混合溶剤を加え、全容を撹拌した。三本ロールミルによる分散処理後、シランカップリング剤（Ｃ１）３０質量部、シランカップリング剤（Ｃ２）３質量部を加え、全容を十分に混合、脱泡することにより、固形分濃度が８０質量％の硬化性組成物を得た。
ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ１）１００質量部に、シリカ微粒子５質量部を加え、更に、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート：トリプロピレングリコール－ｎ－ブチルエーテル＝４０：６０（質量比）の混合溶剤を加え、全容を撹拌した。三本ロールミルによる分散処理後、シランカップリング剤（Ｃ１）３０質量部、シランカップリング剤（Ｃ２）３質量部を加え、全容を十分に混合、脱泡することにより、固形分濃度が８０質量％の硬化性組成物を得た。
【0144】
（実施例２）
実施例１において、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ１）に代えてポリシルセスキオキサン化合物（Ａ２）を使用し、シリカ微粒子の含有量を２０質量部に変更し、更に混合溶剤量を変更したこと以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度が８０質量％の硬化性組成物を得た。
実施例１において、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ１）に代えてポリシルセスキオキサン化合物（Ａ２）を使用し、シリカ微粒子の含有量を２０質量部に変更し、更に混合溶剤量を変更したこと以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度が８０質量％の硬化性組成物を得た。
【0145】
（実施例３）
実施例１において、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ１）に代えてポリシルセスキオキサン化合物（Ａ３）を使用したこと以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度が８０質量％の硬化性組成物を得た。
実施例１において、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ１）に代えてポリシルセスキオキサン化合物（Ａ３）を使用したこと以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度が８０質量％の硬化性組成物を得た。
【0146】
（比較例１）
実施例１において、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ１）に代えてポリシルセスキオキサン化合物（Ａ４）を使用したことと、シリカ微粒子の含有量を２０質量部に変更し、更に混合溶剤量を変更したこと以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度が８０質量％の硬化性組成物を得た。
実施例１において、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ１）に代えてポリシルセスキオキサン化合物（Ａ４）を使用したことと、シリカ微粒子の含有量を２０質量部に変更し、更に混合溶剤量を変更したこと以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度が８０質量％の硬化性組成物を得た。
【0147】
（比較例２）
実施例１において、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ１）に代えてポリシルセスキオキサン化合物（Ａ５）を使用したことと、シランカップリング剤（Ｃ１）とシランカップリング剤（Ｃ２）を使用しなかったこと、混合溶剤量を変更したこと以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度が７８質量％の硬化性組成物を得た。
実施例１において、ポリシルセスキオキサン化合物（Ａ１）に代えてポリシルセスキオキサン化合物（Ａ５）を使用したことと、シランカップリング剤（Ｃ１）とシランカップリング剤（Ｃ２）を使用しなかったこと、混合溶剤量を変更したこと以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度が７８質量％の硬化性組成物を得た。
【0148】
（比較例３）
実施例１において、シランカップリング剤（Ｃ１）とシランカップリング剤（Ｃ２）を使用しなかったこと、混合溶剤量を変更したこと以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度が７５質量％の硬化性組成物を得た。
実施例１において、シランカップリング剤（Ｃ１）とシランカップリング剤（Ｃ２）を使用しなかったこと、混合溶剤量を変更したこと以外は、実施例１と同様にして、固形分濃度が７５質量％の硬化性組成物を得た。
【0149】
実施例、比較例、及び参考例で得た硬化性組成物を用いて、それぞれ以下の測定、試験を行った。
〔屈折率測定〕
多波長アッベ屈折計（株式会社アタゴ製、ＤＲ－Ｍ２）を用いて、２５℃で、硬化性組成物の屈折率（ｎＤ）を測定した。
〔屈折率測定〕
多波長アッベ屈折計（株式会社アタゴ製、ＤＲ－Ｍ２）を用いて、２５℃で、硬化性組成物の屈折率（ｎＤ）を測定した。
【0150】
〔耐クラック性評価〕
一辺の長さが０．５ｍｍの正方形のガラスチップのミラー面に、実施例及び比較例で得た硬化性組成物を、それぞれ、厚さが約２μｍになるよう塗布し、塗布面を被着体（銀メッキ銅板）の上に載せ圧着した。その後、１７０℃で２時間加熱処理して硬化させて試験片付被着体を得た。なお、硬化性組成物１種につき、２０個の試験片付被着体を作製した。走査型電子顕微鏡（キーエンス社製、ＶＥ－９８００Ｓ）を用いてガラスチップからはみ出している樹脂部（フィレット部）を観察し、クラックを有するサンプルの数を数え、クラック発生率が０％以上２５％未満を「Ａ」、２５％以上５０％未満を「Ｂ」、５０％以上１００％以下を「Ｃ」と評価した。
一辺の長さが０．５ｍｍの正方形のガラスチップのミラー面に、実施例及び比較例で得た硬化性組成物を、それぞれ、厚さが約２μｍになるよう塗布し、塗布面を被着体（銀メッキ銅板）の上に載せ圧着した。その後、１７０℃で２時間加熱処理して硬化させて試験片付被着体を得た。なお、硬化性組成物１種につき、２０個の試験片付被着体を作製した。走査型電子顕微鏡（キーエンス社製、ＶＥ－９８００Ｓ）を用いてガラスチップからはみ出している樹脂部（フィレット部）を観察し、クラックを有するサンプルの数を数え、クラック発生率が０％以上２５％未満を「Ａ」、２５％以上５０％未満を「Ｂ」、５０％以上１００％以下を「Ｃ」と評価した。
【0151】
〔接着強度評価〕
一辺の長さが２ｍｍの正方形（面積が４ｍｍ２）のシリコンチップのミラー面に、実施例及び比較例で得た硬化性組成物を、それぞれ、厚さが約２μｍになるように塗布し、塗布面を被着体（銀メッキ銅板）の上に載せ圧着した。その後、１７０℃で２時間加熱処理して硬化させて試験片付被着体を得た。この試験片付被着体を、予め所定温度（２３℃、１００℃）に加熱したボンドテスター（デイジ社製、シリーズ４０００）の測定ステージ上に３０秒間放置し、被着体から５０μｍの高さの位置より、スピード２００μｍ／ｓで接着面に対し水平方向（せん断方向）に応力をかけ、２３℃及び１００℃における、試験片と被着体との接着力（Ｎ／４ｍｍ２）を測定した。
一辺の長さが２ｍｍの正方形（面積が４ｍｍ２）のシリコンチップのミラー面に、実施例及び比較例で得た硬化性組成物を、それぞれ、厚さが約２μｍになるように塗布し、塗布面を被着体（銀メッキ銅板）の上に載せ圧着した。その後、１７０℃で２時間加熱処理して硬化させて試験片付被着体を得た。この試験片付被着体を、予め所定温度（２３℃、１００℃）に加熱したボンドテスター（デイジ社製、シリーズ４０００）の測定ステージ上に３０秒間放置し、被着体から５０μｍの高さの位置より、スピード２００μｍ／ｓで接着面に対し水平方向（せん断方向）に応力をかけ、２３℃及び１００℃における、試験片と被着体との接着力（Ｎ／４ｍｍ２）を測定した。
【0152】
測定結果、評価結果を第２表に示す。
【0153】
【表2】
【0154】
上記実施例、比較例及び参考例から以下のことが分かる。
実施例１～３の硬化性組成物は、繰り返し単位（１）を有するポリシルセスキオキサン化合物（ＰＳＱ（Ａ１）、ＰＳＱ（Ａ２）、ＰＳＱ（Ａ３））を含有するため、屈折率が適度に高い。
また、実施例１～３の硬化性組成物は、シランカップリング剤を含有する。さらに、ＰＳＱ（Ａ１）とＰＳＱ（Ａ２）及び、ＰＳＱ（Ａ３）は、いずれも繰り返し単位（２）を有し、かつ、Ｔ２サイトを適度に含むものである。このため、実施例１～３の硬化物は、耐クラック性及び接着性に優れている。
一方、比較例１の硬化性組成物もまた、繰り返し単位（１）の含有割合が高いポリシルセスキオキサン化合物（ＰＳＱ（Ａ４））を含有するため屈折率が高い。
しかしながら、ＰＳＱ（Ａ４）は、繰り返し単位（２）を有さず、さらに、Ｔ２サイトの割合が高くないため、比較例１の硬化性組成物の硬化物は耐クラック性に劣っている。
一方、比較例２及び比較例３で得られた硬化性組成物は、シランカップリング剤を含有しないものであるため、その硬化物は十分な接着強度を有していない。
実施例１～３の硬化性組成物は、繰り返し単位（１）を有するポリシルセスキオキサン化合物（ＰＳＱ（Ａ１）、ＰＳＱ（Ａ２）、ＰＳＱ（Ａ３））を含有するため、屈折率が適度に高い。
また、実施例１～３の硬化性組成物は、シランカップリング剤を含有する。さらに、ＰＳＱ（Ａ１）とＰＳＱ（Ａ２）及び、ＰＳＱ（Ａ３）は、いずれも繰り返し単位（２）を有し、かつ、Ｔ２サイトを適度に含むものである。このため、実施例１～３の硬化物は、耐クラック性及び接着性に優れている。
一方、比較例１の硬化性組成物もまた、繰り返し単位（１）の含有割合が高いポリシルセスキオキサン化合物（ＰＳＱ（Ａ４））を含有するため屈折率が高い。
しかしながら、ＰＳＱ（Ａ４）は、繰り返し単位（２）を有さず、さらに、Ｔ２サイトの割合が高くないため、比較例１の硬化性組成物の硬化物は耐クラック性に劣っている。
一方、比較例２及び比較例３で得られた硬化性組成物は、シランカップリング剤を含有しないものであるため、その硬化物は十分な接着強度を有していない。