特許 7569950 塗工装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-10-09

(45)【発行日】2024-10-18

(54)【発明の名称】塗工装置

(51)【国際特許分類】

   B05C 13/02 20060101AFI20241010BHJP

   B05D 1/26 20060101ALI20241010BHJP

   B05C 5/02 20060101ALN20241010BHJP

【ＦＩ】

B05C13/02

B05D1/26 Z

B05C5/02

【請求項の数】 8

(21)【出願番号】P 2024007559

(22)【出願日】2024-01-22

【審査請求日】2024-01-22

(73)【特許権者】

【識別番号】000211123

【氏名又は名称】中外炉工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100129791

【弁理士】

【氏名又は名称】川本 真由美

(74)【代理人】

【識別番号】100144200

【弁理士】

【氏名又は名称】奥西 祐之

(72)【発明者】

【氏名】福井 慎也

(72)【発明者】

【氏名】岩成 賢治

(72)【発明者】

【氏名】福田 恒平

【審査官】佐藤 彰洋

(56)【参考文献】

【文献】特開２００８－２９００３２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－０５２１３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００１－２５２６１０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ０５Ｂ ７／００－７／３２

Ｂ０５Ｂ ９／００－９／０８

Ｂ０５Ｂ １３／００－１３／０６

Ｂ０５Ｂ １５／００－１５／８０

Ｂ０５Ｂ １７／００－１７／０８

Ｂ０５Ｃ １／００－２１／００

Ｂ０５Ｄ １／２６

Ｈ０１Ｌ ２１／６８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板が載置される基板載置部と、前記基板の周囲を取り囲む囲み部材が載置される周囲載置部と、を有するステージと、
前記基板の表面の全部および前記囲み部材の表面の内側部に塗工液を塗布して塗工膜を形成する塗工部と、を備え、
前記基板載置部は、前記基板の裏面を吸着する基板吸着部を有し、
前記周囲載置部は、前記囲み部材の裏面を吸着する周囲吸着部を有し、
前記基板と前記囲み部材との間に形成される隙間には、大気と連通した大気連通部が配設される、塗工装置。

【請求項2】

前記囲み部材は、前記基板を収容する開口部を有する吸着板であり、
前記大気連通部は、前記開口部につながるように前記吸着板の裏面に形成された裏面凹部と、前記裏面凹部と大気との間を接続するように前記吸着板に形成された大気接続部と、を有する、請求項１に記載の塗工装置。

【請求項3】

前記大気接続部は、前記吸着板を厚み方向に貫通した開口穴である、請求項２に記載の塗工装置。

【請求項4】

前記裏面凹部は、前記開口部を囲むように形成された裏面溝を有する、請求項２に記載の塗工装置。

【請求項5】

前記囲み部材は、複数のダミー基板が配設されることによって構成され、
前記囲み部材は、前記大気連通部として、前記周囲載置部と前記基板載置部とを区切るように形成されたステージ凹部を有し、
前記ステージ凹部は大気と連通している、請求項１に記載の塗工装置。

【請求項6】

前記周囲載置部は、前記複数のダミー基板のそれぞれに対応するように構成される、請求項５に記載の塗工装置。

【請求項7】

前記隙間は、前記基板と前記囲み部材とが隣接するように構成される、請求項１に記載の塗工装置。

【請求項8】

前記囲み部材は、前記基板と同じ厚みを有する、請求項１に記載の塗工装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

この発明は、ステージに吸着保持された基板に塗工を行う塗工装置に関し、特に、基板よりも大きめサイズの塗工膜を形成する塗工装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１は、基板の側面にダミー基板を密着させ、基板およびダミー基板に跨がるように塗工液を塗布することによって、基板端部での膜厚変化を抑制して均一な膜厚の塗工膜を形成することを開示している。

【0003】

基板の側面とダミー基板の側面とを互いに密着させたとしても、両者の側面の間には、微小な隙間が形成されてしまう。特許文献１は、基板およびダミー基板をステージに対してどのような方法で保持するかについて具体的に開示していないが、例えば、特許文献２は、吸着によって基板を保持することを開示している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２０１２－１０６２０３号公報

【文献】特開２０１６－１９７６２０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

吸着による保持方法では、基板と、基板を取り囲む囲み部材との間に形成された微小な隙間に対して、減圧による吸着力が作用すると、塗工液が隙間に入り込んでしまう。そして、隙間に入り込んだ塗工液は、基板の裏面やステージの載置面に回り込み、基板の裏面やステージの載置面を汚してしまうという問題を有する。

【0006】

そこで、この発明の課題は、減圧による吸着力によって、基板と囲み部材との間に形成される隙間に塗工液が入り込むことを防止する塗工装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題を解決するため、この発明の一態様に係る塗工装置は、
基板が載置される基板載置部と、前記基板の周囲を取り囲む囲み部材が載置される周囲載置部と、を有するステージと、
前記基板の表面の全部および前記囲み部材の表面の内側部に塗工液を塗布して塗工膜を形成する塗工部と、を備え、
前記基板載置部は、前記基板の裏面を吸着する基板吸着部を有し、
前記周囲載置部は、前記囲み部材の裏面を吸着する周囲吸着部を有し、
前記基板の側面と前記囲み部材の側面との間に形成される隙間には、大気と連通した大気連通部が配設されることを特徴とする。

【発明の効果】

【0008】

この発明によれば、基板と囲み部材との間に形成される隙間に対して、減圧による吸着力が作用しても、隙間が大気連通部によって大気開放されているので、塗工液が隙間に入り込むことを防止できる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】実施の形態１に係る塗工装置を模式的に説明する図である。

【図2】図１に示した塗工装置を用いた塗工を説明する平面図である。

【図3】図２のＩＩＩ－ＩＩＩ線で切断した断面図である。

【図4】図３において破線で囲まれた部分の要部拡大図である。

【図5】図３に示した吸着板の平面図である。

【図6】図３に示した吸着板の下面図である。

【図7】図５に示した吸着板をＶＩＩ－ＶＩＩ線で切断した断面図である。

【図8】実施の形態２に係る塗工装置を用いた塗工を説明する平面図である。

【図9】図８のＩＸ－ＩＸ線で切断した断面図である。

【図10】実施の形態２に係る塗工装置のステージの平面図である。

【図11】図１０のＸＩ－ＸＩ線で切断した断面図である。

【図12】実施の形態３に係る塗工装置を用いた塗工を説明する平面図である。

【図13】図１２のＸＩＩＩ－ＸＩＩＩ線で切断した断面図である。

【図14】実施の形態３に係る塗工装置のステージの平面図である。

【図15】図１４のＸＶ－ＸＶ線で切断した断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、図面を参照しながら、この発明に係る塗工装置１の実施の形態を説明する。なお、以下の説明では、必要に応じて特定の方向あるいは位置を示す用語（例えば、「上」、「下」、「右」、「左」、「前」、「後」を含む用語）を用いるが、それらの用語の使用は、図面を参照した本開示の理解を容易にするためであって、それらの用語の意味によって本開示の技術的範囲が限定されるものではない。また、以下の実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。

【0011】

〔塗工装置の全体構成〕
図１は、実施の形態１に係る塗工装置１を模式的に説明する図である。図１を参照しながら、塗工装置１の全体構成を説明する。

【0012】

図１に示すように、塗工装置１は、スリットダイ７と、ステージ１０と、吸着板２０と、を備える。ステージ１０は、図示しない真空排気装置に接続される。ステージ１０の載置面１１には、吸着板２０および基板３０が配設される。囲み部材として働く吸着板２０の詳細は後述する。ステージ１０の上方には、スリットダイ７が離間して配設される。

【0013】

ステージ１０は、ステージ１０の厚み方向に貫通しているとともに基板吸着部１２および周囲吸着部１３を有する。基板吸着部１２および周囲吸着部１３は、それぞれ、ステージ１０の載置面１１に載置された基板３０および吸着板２０を吸着する吸着孔である。

【0014】

スリットダイ７には、図示しない塗工液供給装置に接続されて、塗工液供給装置に貯留された塗工液Ｐがスリットダイ７に供給される。塗工液Ｐは、水状の液体、ペースト状の高粘度液状物、高濃度のスラリー物などのような、流動性を有する液状物の総称である。スリットダイ７は、第１ダイ７ａと第２ダイ７ｂとシム板７ｃとを有する。シム板７ｃは、第１ダイ７ａおよび第２ダイ７ｂによって挟持されるように構成される。第１ダイ７ａは、その内部空間に貯留部７ｄを有し、塗工液供給装置から供給された塗工液Ｐは、貯留部７ｄに貯留される。貯留部７ｄに貯留された塗工液Ｐは、シム板７ｃの供給路７ｆを通じて排出される。スリットダイ７から排出された塗工液Ｐは、基板３０の表面の全部および吸着板２０の表面の内側部に塗工される。

【0015】

〔実施の形態１〕
図５から図７を参照しながら、実施の形態１に係る、吸着板２０を用いる塗工装置１について説明する。図５は、図３に示した吸着板２０の平面図である。図６は、図３に示した吸着板２０の下面図である。図７は、図５に示した吸着板２０をＶＩＩ－ＶＩＩ線で切断した断面図である。

【0016】

図５から図７に示すように、基板３０の囲み部材として働く吸着板２０は、基板３０の周囲を取り囲むように構成された開口部２１を有する。例えば、基板３０が平面視で矩形状を有する場合、開口部２１は、基板３０を収容できるように基板３０よりも少し大きめに構成された、平面視で矩形状の開口を有する。開口部２１を画定する内側側面２２と基板３０の側面３３（図４を参照）との間には、微小な隙間２６が形成されている。微小な隙間２６は、基板３０の側面３３と開口部２１の内側側面２２とが隣接するように構成される。これにより、塗工液Ｐが自重によって隙間２６に流入することを防止できる。

【0017】

吸着板２０は、平坦な板状体からなり、塗工表面２１ａおよび塗工裏面２１ｂを有する。塗工表面２１ａは、吸着板２０の上面であって塗工によって塗工膜４０が形成される面である。塗工裏面２１ｂは、吸着板２０の下面であってステージ１０の載置面１１に当接する面である。吸着板２０は、基板３０と同じ厚みを有する。吸着板２０の塗工表面２１ａは、開口部２１に収容された基板３０の表面３１と面一であるように構成されている。これにより、塗工膜４０の厚みの均一化が容易になる。

【0018】

吸着板２０は、隙間２６および大気を連通する大気連通部２９を有する。大気連通部２９は、開口穴２３と、連絡溝２４，裏面溝２５と、を有する。開口穴２３は、連絡溝２４，裏面溝２５と大気との間を接続するように吸着板２０に形成されている。開口穴２３は、吸着板２０の厚み方向を貫通しており、例えば、上下左右の４箇所に離間して設けられる。

【0019】

裏面凹部として働く連絡溝２４および裏面溝２５が、吸着板２０の塗工裏面２１ｂに形成されており、開口部２１および開口穴２３をつなぐように構成されている。裏面溝２５は、開口部２１および連絡溝２４をつなぐとともに開口部２１を囲むように凹部で形成される。これにより、開口部２１を介して隙間２６との連通を確実に行うことができ、隙間２６での圧力を大気圧と同等にできる。裏面溝２５は、例えば、ロの字形状を有する。連絡溝２４は、裏面溝２５および開口穴２３をつなぐように、平面視で上下左右の方向に延在する溝である。

【0020】

図２から図４を参照しながら、実施の形態１に係る吸着板２０を用いた塗工について説明する。図２は、図１に示した塗工装置１を用いた塗工を説明する平面図である。図３は、図２のＩＩＩ－ＩＩＩ線で切断した断面図である。図４は、図３において破線で囲まれた部分の要部拡大図である。

【0021】

図２から図４に示すように、吸着板２０および基板３０は、ステージ１０の載置面１１の上に載置され、基板３０は、吸着板２０の開口部２１に収容されるとともに吸着板２０で取り囲まれるように構成されている。基板３０の側面３３と開口部２１の内側側面２２とは、微小な隙間２６を介して隣接している。

【0022】

ステージ１０は、基板載置部１６および周囲載置部１７を有する。基板載置部１６には、基板３０が載置され、基板載置部１６に配設される基板吸着部１２によって、基板３０が吸着保持される。周囲載置部１７には、吸着板２０が載置され、周囲載置部１７に配設される周囲吸着部１３によって、吸着板２０が吸着保持される。

【0023】

ステージ１０の載置面１１に吸着保持された吸着板２０の塗工表面２１ａおよび基板３０の表面３１に対して、基板３０よりも大きめのサイズで塗工液Ｐが塗工される。そして、基板３０の表面３１の全部および吸着板２０の塗工表面２１ａの内側部において、塗工膜４０が形成される。塗工膜４０は、連続的につながっている、基板塗工部４１と隙間塗工部４３と周囲塗工部４２とを有する。基板塗工部４１は、基板３０の表面３１の全面の上に形成されている。周囲塗工部４２は、塗工表面２１ａにおいて、内側側面２２から開口穴２３の手前まで延在するように形成されている。隙間塗工部４３は、基板塗工部４１および周囲塗工部４２の間に位置して、隙間２６の上に形成されている。

【0024】

図４に示すように、基板吸着部１２および／または周囲吸着部１３が、隙間２６の近傍に位置しても、隙間２６が大気連通部２９によって大気開放されている。これにより、基板吸着部１２および／または周囲吸着部１３の吸着力が、隙間２６に作用せず、隙間塗工部４３が隙間２６に入り込むことを防止できる。

【0025】

したがって、基板３０と吸着板２０との間に形成される隙間２６に対して、減圧による吸着力が作用しても、隙間２６が大気連通部２９によって大気開放されているので、塗工液Ｐが隙間２６に入り込むことを防止できる。

【0026】

〔実施の形態２〕
図８から図１１を参照しながら、実施の形態２に係る、横ダミー基板６１，縦ダミー基板６２を用いる塗工装置１について説明する。図８は、実施の形態２に係る塗工装置１を用いた塗工を説明する平面図である。図９は、図８のＩＸ－ＩＸ線で切断した断面図である。図１０は、実施の形態２に係る塗工装置１のステージ１０の平面図である。図１１は、図１０のＸＩ－ＸＩ線で切断した断面図である。

【0027】

図１０および図１１に示すように、塗工装置１のステージ１０は、大気連通部として働くステージ凹部１８を有する。ステージ凹部１８は、基板載置部１６と周囲載置部１７とを区切るように形成されるとともに大気と連通している。例えば、ステージ凹部１８は、載置面１１に対して下方に凹んでいる矩形状の断面を有する溝である。

【0028】

図１０に示したステージ１０は、中央部に位置して横方向に延在する基板載置部１６と、基板載置部１６を取り囲むように配設された周囲載置部１７と、を有する。周囲載置部１７は、複数の横ダミー基板６１，縦ダミー基板６２のそれぞれに対応するように構成される。例えば、周囲載置部１７は、横方向に延在する２つの横長部と、縦方向に延在する２つの縦長部と、矩形である４つのコーナー部と、を有する。例えば、基板載置部１６は４つの基板吸着部１２を有し、周囲載置部１７の２つの横長部は４つの周囲吸着部１３を有し、周囲載置部１７の２つの縦長部および４つのコーナー部は１つの周囲吸着部１３を有する。これにより、複数のダミー基板６１，６２の吸着保持が容易にかつ確実になる。

【0029】

図８および図９に示すように、基板載置部１６には、横長の基板３０が載置され、基板載置部１６に配設される基板吸着部１２によって、基板３０が吸着保持される。周囲載置部１７には、基板３０の囲み部材として働く横ダミー基板６１，縦ダミー基板６２が載置され、周囲載置部１７に配設される周囲吸着部１３によって、複数のダミー基板６１，６２が吸着保持される。

【0030】

基板３０を取り囲むように、上部および下部の横ダミー基板６１は、図８におけるステージ１０の上部および下部に配設され、上部および下部の横ダミー基板６１の間に２つの縦ダミー基板６２が配設される。したがって、横ダミー基板６１および縦ダミー基板６２は、基板３０の周囲を取り囲む囲み部材として働く。なお、横ダミー基板６１および縦ダミー基板６２は、基板３０と同じ厚みを有し、横ダミー基板６１および縦ダミー基板６２の表面は、基板３０の表面３１と面一であるように構成されている。これにより、塗工膜４０の厚みの均一化が容易になる。

【0031】

基板３０の側面および横ダミー基板６１および縦ダミー基板６２の側面と、横ダミー基板６１の側面および縦ダミー基板６２の側面とは、それぞれ、互いに密着して挟持されるように、アライメント部５１によってアライメントされている。なお、これらの側面のそれぞれの間には、極めて微小な隙間２６が形成されている。アライメントされた基板３０、横ダミー基板６１および縦ダミー基板６２は、ステージ１０の載置面１１の上で吸着保持される。

【0032】

実施の形態１と同様に、スリットダイ７を用いて、塗工膜４０は、基板３０よりも大きめのサイズで形成され、すなわち、基板３０の表面の全部と、横ダミー基板６１および縦ダミー基板６２の表面の内側部とに形成される。

【0033】

したがって、基板３０と横ダミー基板６１および縦ダミー基板６２との間に形成される隙間２６に対して、減圧による吸着力が作用しても、隙間２６が大気連通部として働くステージ凹部１８によって大気開放されているので、塗工液Ｐが隙間２６に入り込むことを防止できる。また、複数の横ダミー基板６１，縦ダミー基板６２の配置を適宜に変更することによって、様々な基板３０の塗工に柔軟に対応できる。

【0034】

そして、塗工膜４０が形成された基板３０、横ダミー基板６１および縦ダミー基板６２は、リフター５５を用いて、ステージ１０から持ち上げられたあと、横方向に移動されて、図示しない乾燥装置に搬送される。

【0035】

〔実施の形態３〕
図１２から図１５を参照しながら、実施の形態３に係る、横ダミー基板６１，縦ダミー基板６２を用いる塗工装置１について説明する。図１２は、実施の形態３に係る塗工装置１を用いた塗工を説明する平面図である。図１３は、図１２のＸＩＩＩ－ＸＩＩＩ線で切断した断面図である。図１４は、実施の形態３に係る塗工装置１のステージ１０の平面図である。図１５は、図１４のＸＶ－ＸＶ線で切断した断面図である。

【0036】

実施の形態３では、一度の塗工で、同じサイズを有する一群の複数の基板３０に塗工膜４０を形成することを特徴とする。上述した実施の形態２に係る塗工装置１との相違点を中心に説明する。

【0037】

図１４に示したステージ１０は、中央部に位置して横方向に並んで配置される複数の基板載置部１６と、基板載置部１６を取り囲むように配設された周囲載置部１７と、を有する。例えば、４つの基板載置部１６が横方向に並んで配設され、基板載置部１６のそれぞれは基板吸着部１２を有する。

【0038】

図１２および図１３に示すように、４つの基板載置部１６のそれぞれには、基板３０が載置され、各基板載置部１６に配設される基板吸着部１２によって、４つの基板３０のそれぞれが吸着保持される。

【0039】

横方向に並んで配置される一群の４つの基板３０を取り囲むように、上部および下部の横ダミー基板６１は、図１２におけるステージ１０の上部および下部に配設され、上部および下部の横ダミー基板６１の間および４つの基板３０の左部および右部に２つの縦ダミー基板６２が配設される。したがって、横ダミー基板６１および縦ダミー基板６２は、一群の４つの基板３０の周囲を取り囲む囲み部材として働く。

【0040】

４つの基板３０同士の側面と、４つの基板３０の側面および横ダミー基板６１の側面と、４つの基板３０の側面および縦ダミー基板６２の側面と、横ダミー基板６１の側面および縦ダミー基板６２の側面とは、それぞれ、互いに密着して挟持されるように、アライメント部５１によってアライメントされている。なお、これらの側面の間には、極めて微小な隙間２６が形成されている。アライメントされた基板３０、横ダミー基板６１および縦ダミー基板６２は、ステージ１０の載置面１１の上で基板吸着部１２、周囲吸着部１３により吸着保持される。

【0041】

実施の形態１と同様に、スリットダイ７を用いて、塗工膜４０は、一群の４つの基板３０のサイズよりも大きめのサイズで形成され、すなわち、一群の４つの基板３０の表面の全部と、横ダミー基板６１および縦ダミー基板６２の表面の内側部とに形成される。

【0042】

したがって、基板３０同士の間に形成される隙間２６、および、基板３０と横ダミー基板６１，縦ダミー基板６２との間に形成される隙間２６に対して、減圧による吸着力が作用しても、隙間２６が大気連通部として働くステージ凹部１８によって大気開放されているので、塗工液Ｐが隙間２６に入り込むことを防止できる。

【0043】

この発明の具体的な実施の形態について説明したが、この発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内で種々変更して実施することができる。

【0044】

上記実施の形態１では、大気連通部２９が吸着板２０の厚み方向に貫通する開口穴２３を有する態様について説明したが、連絡溝２４が吸着板２０の外側側面まで延在することによって大気に連通する態様であってもよい。

【0045】

上記実施の形態２および実施の形態３では、ステージ凹部１８が矩形状の断面を有する溝である態様を例示したが、ステージ凹部１８は、半円状や三日月状の断面を有する溝である態様であってもよい。

【0046】

上記実施の形態では、基板３０が平面視で矩形状を有する態様について説明したが、基板３０が平面視で円形状や楕円形状や多角形状を有する態様であってもよい。

【0047】

この発明および実施形態をまとめると、次のようになる。

【0048】

この発明の第１態様に係る塗工装置１は、
基板３０が載置される基板載置部１６と、前記基板３０の周囲を取り囲む囲み部材２０；６１，６２が載置される周囲載置部１７と、を有するステージ１０と、
前記基板３０の表面３１の全部および前記囲み部材２０；６１，６２の表面の内側部に塗工液Ｐを塗布して塗工膜４０を形成する塗工部７と、を備え、
前記基板載置部１６は、前記基板３０の裏面３２を吸着する基板吸着部１２を有し、
前記周囲載置部１７は、前記囲み部材２０；６１，６２の裏面を吸着する周囲吸着部１３を有し、
前記基板３０と前記囲み部材２０；６１，６２との間に形成される隙間２６には、大気と連通した大気連通部２９が配設されることを特徴とする。

【0049】

上記態様によれば、基板３０と囲み部材２０；６１，６２との間に形成される隙間２６に対して、減圧による吸着力が作用しても、隙間２６が大気連通部２９によって大気開放されているので、塗工液Ｐが隙間２６に入り込むことを防止できる。

【0050】

また、第２態様に係る塗工装置１は、上記第１態様において、
前記囲み部材２０は、前記基板３０を収容する開口部２１を有する吸着板２０であり、
前記大気連通部２９は、前記開口部２１につながるように前記吸着板２０の裏面に形成された裏面凹部２４，２５と、前記裏面凹部２４，２５と大気との間を接続するように前記吸着板２０に形成された大気接続部２３と、を有する。

【0051】

上記態様によれば、吸着板２０の開口部２１の形状を適宜に変更することによって、様々な基板３０の塗工に柔軟に対応できる。

【0052】

また、第３態様に係る塗工装置１は、上記第２態様において、
前記大気接続部２３は、前記吸着板２０を厚み方向に貫通した開口穴２３である。

【0053】

上記態様によれば、大気接続部２３の形成が容易になる。

【0054】

また、第４態様に係る塗工装置１は、上記第２態様において、
前記裏面凹部２５は、前記開口部２１を囲むように形成された裏面溝２５を有する。

【0055】

上記態様によれば、開口部２１を介して隙間２６との連通を確実に行うことができる。

【0056】

また、第５態様に係る塗工装置１は、上記第１態様において、
前記囲み部材６１，６２は、複数の横ダミー基板６１，縦ダミー基板６２が配設されることによって構成され、
前記囲み部材６１，６２は、前記大気連通部２９として、前記周囲載置部１７と前記基板載置部１６とを区切るように形成されたステージ凹部１８を有し、
前記ステージ凹部１８は大気と連通している。

【0057】

上記態様によれば、複数の横ダミー基板６１，縦ダミー基板６２の配置を適宜に変更することによって、様々な基板３０の塗工に柔軟に対応できる。

【0058】

また、第６態様に係る塗工装置１は、上記第５態様において、
前記周囲載置部１７は、前記複数の横ダミー基板６１，縦ダミー基板６２のそれぞれに対応するように構成される。

【0059】

上記態様によれば、複数の横ダミー基板６１，縦ダミー基板６２の吸着保持が容易にかつ確実になる。

【0060】

また、第７態様に係る塗工装置１は、上記第１態様において、
前記隙間２６は、前記基板３０と前記囲み部材２０；６１，６２とが隣接するように構成される。

【0061】

上記態様によれば、塗工液Ｐが自重によって隙間２６に流入することを防止できる。

【0062】

また、第８態様に係る塗工装置１は、上記第１態様において、
前記囲み部材２０；６１，６２は、前記基板３０と同じ厚みを有する。

【0063】

上記態様によれば、塗工膜４０の厚みの均一化が容易になる。

【符号の説明】

【0064】

１…塗工装置
７…スリットダイ（塗工部）
７ａ…第１ダイ
７ｂ…第２ダイ
７ｃ…シム板
７ｄ…貯留部
７ｆ…供給路
１０…ステージ
１１…載置面
１２…基板吸着部
１３…周囲吸着部
１６…基板載置部
１７…周囲載置部
１８…ステージ凹部（大気連通部）
２０…吸着板（囲み部材）
２１…開口部
２１ａ…塗工表面
２１ｂ…塗工裏面
２２…内側側面（側面）
２３…開口穴（大気接続部）
２４…連絡溝（裏面凹部）
２５…裏面溝（裏面凹部）
２６…隙間
２９…大気連通部
３０…基板
３１…表面
３２…裏面
３３…側面
４０…塗工膜
４１…基板塗工部
４２…周囲塗工部
４３…隙間塗工部
５１…アライメント部
５５…リフター
６１…横ダミー基板（ダミー基板、囲み部材）
６２…縦ダミー基板（ダミー基板、囲み部材）
Ｐ…塗工液

【要約】

【課題】減圧による吸着力によって、基板と囲み部材との間に形成される隙間に塗工液が入り込むことを防止する塗工装置を提供する。
【解決手段】基板３０が載置される基板載置部１６と、基板３０の周囲を取り囲む囲み部材２０：６１，６２が載置される周囲載置部１７と、を有するステージ１０と、基板の表面の全部および囲み部材の表面の内側部に塗工液Ｐを塗布して塗工膜４０を形成する塗工部７と、を備え、基板載置部は、基板の裏面を吸着する基板吸着部１２を有し、周囲載置部は、囲み部材の裏面を吸着する周囲吸着部１３を有し、基板と囲み部材との間に形成される隙間２６には、大気と連通した大気連通部１８が配設される。
【選択図】図４

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】