特許 7571978 除染システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-10-15

(45)【発行日】2024-10-23

(54)【発明の名称】除染システム

(51)【国際特許分類】

   A61L 2/18 20060101AFI20241016BHJP

   B05B 17/06 20060101ALI20241016BHJP

   A61L 101/22 20060101ALN20241016BHJP

【ＦＩ】

A61L2/18 102

B05B17/06

A61L101:22

【請求項の数】 8

(21)【出願番号】P 2021555968

(86)(22)【出願日】2020-10-21

(86)【国際出願番号】 JP2020039556

(87)【国際公開番号】W WO2021095465

(87)【国際公開日】2021-05-20

【審査請求日】2023-07-27

(31)【優先権主張番号】P 2019206606

(32)【優先日】2019-11-15

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(31)【優先権主張番号】P 2020078816

(32)【優先日】2020-04-28

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】599053643

【氏名又は名称】株式会社エアレックス

(74)【代理人】

【識別番号】100121784

【弁理士】

【氏名又は名称】山田 稔

(72)【発明者】

【氏名】川崎 康司

(72)【発明者】

【氏名】宋 軍

(72)【発明者】

【氏名】北野 司

(72)【発明者】

【氏名】郭 志強

(72)【発明者】

【氏名】二村 はるか

(72)【発明者】

【氏名】矢崎 至洋

(72)【発明者】

【氏名】角田 大輔

(72)【発明者】

【氏名】益留 純

【審査官】葛谷 光平

(56)【参考文献】

【文献】国際公開第２０１９／００９３７６（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０１２－０８７９６８（ＪＰ，Ａ）

【文献】中国特許出願公開第１０７７１６４３０（ＣＮ，Ａ）

【文献】欧州特許出願公開第３１８１２４２（ＥＰ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ａ６１Ｌ ２／１８

Ｂ０５Ｂ １７／０６

Ａ６１Ｌ １０１／２２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

除染液をミスト化して除染用ミストを発生するミスト発生手段と、除染対象室の内部に前記除染用ミストを放出するミスト放出口と、放出された前記除染用ミストを分散・拡散するミスト分散・拡散手段とを備え、
前記ミスト放出口は、前記除染対象室の内部側壁面に開口して前記除染用ミストを前記除染対象室の内部に放出し、
前記ミスト分散・拡散手段は、前記除染対象室の内部側壁面の前記ミスト放出口の下部近傍又はミスト放出方向の側面近傍に配置した振動盤を具備し、当該振動盤を超音波振動させて盤面から垂直方向に超音波による音響流を発生させ、前記ミスト放出口から放出された前記除染用ミストに対して後方又は側面から音響放射圧による押圧を間欠作動又は強弱作動させることにより、当該除染用ミストを前記除染対象室の内部全域に隈なく分散・拡散させることを特徴とする除染システム。

【請求項2】

前記ミスト発生手段は、除染液を貯留して除染液供給配管を介して供給する除染液供給装置と、圧縮空気を発生して空気供給配管を介して供給する圧縮空気供給装置とを具備して、供給された除染液と圧縮空気とから前記除染用ミストを発生することを特徴とする請求項１に記載の除染システム。

【請求項3】

前記ミスト発生手段は、１次ミスト発生手段と２次ミスト発生手段とからなり、
前記１次ミスト発生手段は、除染液を貯留して除染液供給配管を介して供給する除染液供給装置と、圧縮空気を発生して空気供給配管を介して供給する圧縮空気供給装置とを具備して、供給された除染液と圧縮空気とから１次ミストを発生し、１次ミスト供給配管を介して前記２次ミスト発生手段に供給し、
前記２次ミスト発生手段は、供給された前記１次ミストを気液分離する１次ミスト受容器と、超音波霧化装置とを具備して、気液分離した除染液を微細で霧化した２次ミストに変換して前記ミスト放出口に供給し、
前記ミスト放出口は、前記２次ミストを前記除染用ミストとして前記除染対象室の内部に放出することを特徴とする請求項１に記載の除染システム。

【請求項4】

前記除染対象室の内部に供給された前記除染用ミストは、前記振動盤から発生する超音波振動により更に微細化することを特徴とする請求項１～３のいずれか１つに記載の除染システム。

【請求項5】

複数の除染対象室に対して、前記除染液供給装置と前記圧縮空気供給装置とを具備する前記１次ミスト発生手段を共有とし、
各除染対象室に対して、それぞれ、前記２次ミスト発生手段と前記ミスト放出口と前記ミスト分散・拡散手段とを備えていることを特徴とする請求項３に記載の除染システム。

【請求項6】

前記除染液供給装置と前記圧縮空気供給装置と前記１次ミスト発生手段とは、前記１次ミスト供給配管を介して除染対象室から離隔した位置に配置し、
前記２次ミスト発生手段は、前記１次ミスト供給配管を介して対応の除染対象室の近傍又は室内に配置することにより、
除染対象室に対して前記１次ミスト供給配管の搬送距離は、対応の前記除染液供給配管の搬送距離よりも長いことを特徴とする請求項５に記載の除染システム。

【請求項7】

前記超音波霧化装置は、圧電振動子と当該圧電振動子の振動により気液分離した除染液を霧化する複数の微細孔が表裏を貫通して設けられた多孔振動板とを備え、
前記多孔振動板の表面を前記ミスト放出口として前記除染対象室の内部に向け、裏面を前記１次ミスト受容器の内部に向けて配置され、
前記１次ミスト受容器に供給された１次ミストは、前記１次ミスト供給配管から前記多孔振動板の裏面に向けて吐出されて気液分離し、分離した除染液が当該多孔振動板の裏面から表面に移動する際に霧化して当該表面を前記ミスト放出口として前記除染対象室の内部に放出されることを特徴とする請求項３、５及び６のいずれか１つに記載の除染システム。

【請求項8】

前記超音波霧化装置は、圧電振動子と当該圧電振動子の振動により気液分離した除染液を霧化する複数の微細孔が表裏を貫通して設けられた多孔振動板とを備え、
前記多孔振動板の表面を前記ミスト放出口として前記除染対象室の内部に向け、裏面を前記１次ミスト受容器の内部下端部に設けられた液溜りに向けて配置され、
前記１次ミスト受容器に供給された１次ミストは、前記１次ミスト供給配管から前記１次ミスト受容器の内部に放出されて気液分離し、分離した除染液が当該１次ミスト受容器の前記液溜りに回収された後に、前記多孔振動板の裏面から表面に移動する際に霧化して当該表面を前記ミスト放出口として前記除染対象室の内部に放出されることを特徴とする請求項３、５及び６のいずれか１つに記載の除染システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、アイソレーター、ＲＡＢＳ、無菌室などや、それらに付随するパスルーム、パスボックスなどの室内に除染用ミストを発生させて除染を行う除染システムに関するものである。

【背景技術】

【0002】

医薬品或いは食品などを製造する製造現場、或いは、手術室などの医療現場においては、室内の無菌状態を維持することが重要である。特に医薬品製造の作業室である無菌室の除染においては、ＧＭＰ（Ｇｏｏｄ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｐｒａｃｔｉｃｅ）に即した高度な除染バリデーションを完了させる必要がある。

【0003】

近年、無菌環境が要求される作業室（以下、除染対象室という）の除染には、過酸化水素ガスが広く採用されている。この過酸化水素ガスは、強力な滅菌効果を有し、安価で入手しやすく、且つ、最終的には酸素と水に分解する環境に優しい除染ガスとして有効である。

【0004】

なお、過酸化水素ガスによる除染効果は、除染対象部位の表面に凝縮する過酸化水素水の凝縮膜によるものであることが下記特許文献１で示された。従って、除染対象室の除染効果の完璧を図るには、過酸化水素ガスの供給量を多くして発生する過酸化水素水の凝縮膜を厚く或いは高濃度にすればよい。

【0005】

ところで、除染対象室に過剰量の過酸化水素ガスを供給すると過度な凝縮が起こり、除染対象室の内部に設置されている各種製造設備や精密測定機器或いは除染対象室の壁面などが、発生した高濃度の過酸化水素水の凝縮膜により腐食されるという不具合が生じる。また、過酸化水素ガスによる除染の後には、除染対象室の内部に残留した過酸化水素ガスや凝縮膜を清浄空気で除去するエアレーションを行う。しかし、過剰量の過酸化水素ガスを供給した場合には、除染対象室の壁面などに発生した高濃度の過酸化水素水の凝縮膜を除去するエアレーションに多くに時間を要するという問題があった。

【0006】

一方、除染対象室に供給する過酸化水素ガスの量が少ないと凝縮が不十分となり、充分な除染効果が得られないという問題があった。このようなことから、過酸化水素ガスに代えて過酸化水素水をミストの状態（以下「過酸化水素ミスト」という）で除染対象室に供給することが考えられる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【文献】特公昭６１－４５４３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

しかし、過酸化水素ミストは液体の微粒子であるので、気体の過酸化水素ガスに比べ分散・拡散する性質が弱い。つまり、除染対象室に適正量と考えられる少量の過酸化水素ミストを供給した場合には、除染対象室の内部に均一に分散・拡散させることが難しく除染されない部分が生じるという問題がある。一方、除染対象室に過剰量の過酸化水素ミストを供給した場合には、大粒の粒子が発生して除染対象室の床面に落下し結露を発生させる。このような結露が発生した結果、除染対象室の壁面などが腐食されるという問題がある。また、この場合にも結露を除去するエアレーションに多くに時間を要するという問題がある。

【0009】

そこで、本発明は、上記の諸問題に対処して、除染対象室の内部に供給した過酸化水素ミストを更に微細化して分散・拡散させることにより、除染対象室に対する適正量の過酸化水素ミストの供給で除染効果の完璧を図ると共に、エアレーションなどの作業時間を短縮して除染作業の効率化を図ることのできる除染システムを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0010】

上記課題の解決にあたり、本発明者らは、除染対象室の内部に供給した過酸化水素ミストに対して、超音波による音響流を作用させて更に微細化すると共に、音響放射圧による押圧で過酸化水素ミストを分散・拡散できることを見出し本発明の完成に至った。

【0011】

即ち、本発明に係る除染システム（１００～５００）は、請求項１の記載によれば、
除染液をミスト化して除染用ミストを発生するミスト発生手段（Ｍ１～Ｍ１１）と、除染対象室（Ｒ１～Ｒ４）の内部に前記除染用ミストを放出するミスト放出口（Ｘ１～Ｘ４）と、放出された前記除染用ミストを分散・拡散するミスト分散・拡散手段（Ｄ１～Ｄ５）とを備え、
前記ミスト放出口は、前記除染対象室の内部側壁面に開口して前記除染用ミストを前記除染対象室の内部に放出し、
前記ミスト分散・拡散手段は、前記除染対象室の内部側壁面の前記ミスト放出口の下部近傍又はミスト放出方向の側面近傍に配置した振動盤を具備し、当該振動盤を超音波振動させて盤面から垂直方向に超音波による音響流を発生させ、前記ミスト放出口から放出された前記除染用ミストに対して後方又は側面から音響放射圧による押圧を間欠作動又は強弱作動させることにより、当該除染用ミストを前記除染対象室の内部全域に隈なく分散・拡散させることを特徴とする。

【0012】

また、本発明は、請求項２の記載によると、請求項１に記載の除染システムにおいて、
前記ミスト発生手段は、除染液を貯留して除染液供給配管（ＬＬ２）を介して供給する除染液供給装置（２０）と、圧縮空気を発生して空気供給配管（ＡＬ２）を介して供給する圧縮空気供給装置（１０）とを具備して、供給された除染液と圧縮空気とから前記除染用ミストを発生することを特徴とする。

【0013】

また、本発明は、請求項３の記載によると、請求項１に記載の除染システムにおいて、
前記ミスト発生手段は、１次ミスト発生手段（Ｍ１，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ７）と２次ミスト発生手段（Ｍ２，Ｍ５，Ｍ６，Ｍ８～Ｍ１１）とからなり、
前記１次ミスト発生手段は、除染液を貯留して除染液供給配管（ＬＬ１，ＬＬ３～ＬＬ５）を介して供給する除染液供給装置（２０）と、圧縮空気を発生して空気供給配管（ＡＬ１，ＡＬ３～ＡＬ５）を介して供給する圧縮空気供給装置（１０）とを具備して、供給された除染液と圧縮空気とから１次ミストを発生し、１次ミスト供給配管（ＭＬ１～ＭＬ４）を介して前記２次ミスト発生手段に供給し、
前記２次ミスト発生手段は、供給された前記１次ミストを気液分離する１次ミスト受容器（ＭＲ１～ＭＲ５）と、超音波霧化装置（Ａ１～Ａ５）とを具備して、気液分離した除染液を微細で霧化した２次ミストに変換して前記ミスト放出口に供給し、
前記ミスト放出口は、前記２次ミストを前記除染用ミストとして前記除染対象室の内部に放出することを特徴とする。

【0014】

また、本発明は、請求項４の記載によると、請求項１～３のいずれか１つに記載の除染システムにおいて、
前記除染対象室の内部に供給された前記除染用ミストは、前記振動盤から発生する超音波振動により更に微細化することを特徴とする。

【0015】

また、本発明は、請求項５の記載によると、請求項３に記載の除染システムにおいて、
複数の除染対象室に対して、前記除染液供給装置と前記圧縮空気供給装置とを具備する前記１次ミスト発生手段を共有とし、
各除染対象室に対して、それぞれ、前記２次ミスト発生手段と前記ミスト放出口と前記ミスト分散・拡散手段とを備えていることを特徴とする。

【0016】

また、本発明は、請求項６の記載によると、請求項５に記載の除染システムにおいて、
前記除染液供給装置と前記圧縮空気供給装置と前記１次ミスト発生手段とは、前記１次ミスト供給配管を介して除染対象室から離隔した位置に配置し、
前記２次ミスト発生手段は、前記１次ミスト供給配管を介して対応の除染対象室の近傍又は室内に配置することにより、
除染対象室に対して前記１次ミスト供給配管の搬送距離は、対応の前記除染液供給配管の搬送距離よりも長いことを特徴とする。

【0017】

また、本発明は、請求項７の記載によると、請求項３、５及び６のいずれか１つに記載の除染システムにおいて、
前記超音波霧化装置は、圧電振動子（Ａ１-３，Ａ２-３）と当該圧電振動子の振動により気液分離した除染液を霧化する複数の微細孔が表裏を貫通して設けられた多孔振動板（Ａ１-２，Ａ２-２）とを備え、
前記多孔振動板の表面を前記ミスト放出口として前記除染対象室の内部に向け、裏面を前記１次ミスト受容器の内部に向けて配置され、
前記１次ミスト受容器に供給された１次ミストは、前記１次ミスト供給配管から前記多孔振動板の裏面に向けて吐出されて気液分離し、分離した除染液が当該多孔振動板の裏面から表面に移動する際に霧化して当該表面を前記ミスト放出口として前記除染対象室の内部に放出されることを特徴とする。

【0018】

また、本発明は、請求項８の記載によると、請求項３、５及び６のいずれか１つに記載の除染システムにおいて、
前記超音波霧化装置は、圧電振動子（Ａ１-３，Ａ２-３）と当該圧電振動子の振動により気液分離した除染液を霧化する複数の微細孔が表裏を貫通して設けられた多孔振動板（Ａ１-２，Ａ２-２）とを備え、
前記多孔振動板の表面を前記ミスト放出口として前記除染対象室の内部に向け、裏面を前記１次ミスト受容器の内部下端部に設けられた液溜り（ＭＲ１-２，ＭＲ２-２）に向けて配置され、
前記１次ミスト受容器に供給された１次ミストは、前記１次ミスト供給配管から前記１次ミスト受容器の内部に放出されて気液分離し、分離した除染液が当該１次ミスト受容器の前記液溜りに回収された後に、前記多孔振動板の裏面から表面に移動する際に霧化して当該表面を前記ミスト放出口として前記除染対象室の内部に放出されることを特徴とする。

【発明の効果】

【0019】

上記構成によれば、本発明に係る除染システムは、ミスト発生手段とミスト放出口とミスト分散・拡散手段とを備えている。ミスト発生手段は、除染液をミスト化して除染用ミストを発生する。ミスト放出口は、除染対象室の内部側壁面に開口して除染用ミストを除染対象室の内部に放出する。ミスト分散・拡散手段は、除染対象室の内部側壁面のミスト放出口の下部近傍又はミスト放出方向の側面近傍に具備した振動盤を超音波振動させて音響流を発生させ、ミスト放出口から放出された除染用ミストに対して後方又は側面から音響放射圧による押圧を間欠作動又は強弱作動させる。このことにより、当該除染用ミストを除染対象室の内部全域に隈なく分散・拡散させることができる。

【0020】

また、上記構成によれば、ミスト発生手段は、除染液供給装置と圧縮空気供給装置とを具備している。除染液供給装置は、除染液を貯留して除染液供給配管を介して供給する。圧縮空気供給装置は、圧縮空気を発生して空気供給配管を介して供給する。ここで、ミスト発生手段は、供給された除染液と圧縮空気とから除染用ミストを発生する。このことにより、上記作用効果をより具体的に発揮することができる。

【0021】

また、上記構成によれば、除染システムは、１次ミスト発生手段と２次ミスト発生手段とからなる。１次ミスト発生手段は、除染液供給装置と圧縮空気供給装置とを具備している。除染液供給装置は、除染液供給配管を介して貯留した除染液を供給する。圧縮空気供給装置は、空気供給配管を介して発生させた圧縮空気を供給する。ここで、１次ミスト発生手段は、供給された除染液と圧縮空気とから１次ミストを発生し、１次ミスト供給配管を介して２次ミスト発生手段に供給する。

【0022】

２次ミスト発生手段は、１次ミスト受容器と超音波霧化装置とを具備している。１次ミスト受容器は、供給された１次ミストを気液分離する。超音波霧化装置は、気液分離した除染液を微細で霧化した２次ミストに変換してミスト放出口に供給する。ミスト放出口は、２次ミストを除染用ミストとして除染対象室の内部に放出する。このことにより、上記作用効果を更に効果的に発揮することができる。

【0023】

また、上記構成によれば、除染対象室の内部に供給された除染用ミストは、振動盤から発生する超音波振動により更に微細化される。このことにより、上記作用効果をより効果的に発揮することができる。

【0024】

また、上記構成によれば、除染システムは、複数の除染対象室に対して、除染液供給装置と圧縮空気供給装置とを具備する１次ミスト発生手段を共有する。一方、各除染対象室に対して、それぞれ、２次ミスト発生手段とミスト放出口とミスト分散・拡散手段とを備えている。

【0025】

また、上記構成によれば、除染液供給装置と圧縮空気供給装置と１次ミスト発生手段とは、１次ミスト供給配管を介して除染対象室から離隔した位置に配置されている。一方、２次ミスト発生手段は、１次ミスト供給配管を介して対応の除染対象室の近傍又は室内に配置されている。このことにより、除染対象室に対して１次ミスト供給配管の搬送距離は、対応の除染液供給配管の搬送距離よりも長い。

【0026】

また、上記構成によれば、超音波霧化装置は、圧電振動子と当該圧電振動子の振動により気液分離した除染液を霧化する複数の微細孔が表裏を貫通して設けられた多孔振動板とを備えている。また、多孔振動板の表面をミスト放出口として除染対象室の内部に向け、裏面を１次ミスト受容器の内部に向けて配置されている。この状態において、１次ミスト受容器に供給された１次ミストは、１次ミスト供給配管から多孔振動板の裏面に向けて吐出されて気液分離する。分離した除染液は、多孔振動板の裏面から表面に移動する際に霧化して当該表面をミスト放出口として除染対象室の内部に放出される。

【0027】

また、上記構成によれば、超音波霧化装置は、圧電振動子と当該圧電振動子の振動により気液分離した除染液を霧化する複数の微細孔が表裏を貫通して設けられた多孔振動板とを備えている。また、多孔振動板の表面をミスト放出口として除染対象室の内部に向け、裏面を前記１次ミスト受容器の内部下端部に設けられた液溜りに向けて配置されている。この状態において、１次ミスト受容器に供給された１次ミストは、１次ミスト供給配管から１次ミスト受容器の内部に放出されて気液分離し、分離した除染液は、１次ミスト受容器の液溜りに回収された後に、多孔振動板の裏面から表面に移動する際に霧化して当該表面をミスト放出口として除染対象室の内部に放出される。

【0028】

よって、本発明によれば、除染対象室の内部に供給した過酸化水素ミストを更に微細化して分散・拡散させることにより、除染対象室に対する適正量の過酸化水素ミストの供給で除染効果の完璧を図ると共に、エアレーションなどの作業時間を短縮して除染作業の効率化を図ることのできる除染システムを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0029】

【図1】本発明に係る除染システムの第１実施形態を示す概略構成図である。

【図2】第１実施形態で使用する２次ミスト発生装置の外観斜視図である。

【図3】図２の２次ミスト発生装置の構造を示す（Ａ）除染対象室側から見た正面図、（Ｂ）右側面から見た断面図である。

【図4】第１実施形態で使用するミスト分散・拡散装置の外観斜視図である。

【図5】図１の除染システムにおける過酸化水素ミストの分散・拡散の状態を示すイメージ図である。

【図6】本発明に係る除染システムの第２実施形態を示す概略構成図である。

【図7】本発明に係る除染システムの第３実施形態を示す概略構成図（Ａ）平面図である。

【図8】本発明に係る除染システムの第３実施形態を示す概略構成図（Ｂ）正面図である。

【図9】本発明に係る除染システムの第３実施形態を示す概略構成図（Ｃ）側面図である。

【図10】本発明に係る除染システムの第４実施形態を示す概略構成図である。

【図11】第４実施形態において２次ミスト発生装置とミスト分散・拡散装置との組み合わせの第１の例を示す斜視図である。

【図12】図１１の２次ミスト発生装置を除染対象室内の側面から見た右側面図である。

【図13】図１１の２次ミスト発生装置を除染対象室内の正面から見た断面図である。

【図14】第４実施形態において２次ミスト発生装置とミスト分散・拡散装置との組み合わせの第２の例を示す斜視図である。

【図15】第４実施形態において２次ミスト発生装置とミスト分散・拡散装置との組み合わせの第３の例を示す斜視図である。

【図16】第４実施形態において２次ミスト発生装置とミスト分散・拡散装置との組み合わせの第４の例を示す斜視図である。

【図17】図１０の除染システムにおける過酸化水素ミストの分散・拡散の状態を示すイメージ図である。

【図18】本発明に係る除染システムの第５実施形態を示す概略構成図である。

【発明を実施するための形態】

【0030】

本発明において「ミスト」とは、広義に解釈するものであって、微細化して空気中に浮遊する除染剤の液滴の状態、除染剤のガスと液滴が混在した状態、除染剤がガスと液滴との間で凝縮と蒸発との相変化を繰り返している状態などを含むものとする。また、粒径に関しても、場合によって細かく区分されるミスト・フォグ・液滴などを含んで広義に解釈する。

【0031】

よって、本発明に係るミストにおいては、場合によってミスト（１０μｍ以下と定義される場合もある）或いはフォグ（５μｍ以下と定義される場合もある）と呼ばれるもの、及び、それ以上の粒径を有するものも含むものとする。なお、本発明においては、超音波振動の作用により、ミスト・フォグ・液滴などの３μｍ～１０μｍ或いはそれ以上の液滴であっても、３μｍ以下の超微細粒子に均一化されて高度な除染効果を発揮するものと考えられる。

【0032】

以下、本発明に係る除染システムを各実施形態に基づいて説明する。なお、本発明は、下記に示す各実施形態に限定されるものではない。

【0033】

《第１実施形態》
本第１実施形態においては、１室の除染対象室に対して本発明に係る除染システムを配置した場合について説明する。また、本第１実施形態においては、過酸化水素ミスト発生手段として１次ミスト発生手段及び２次ミスト発生手段を併用し、微細で霧化した２次ミストを除染用ミストとして除染対象室の内部に放出する場合について説明する。

【0034】

図１は、本発明に係る除染システムの第１実施形態を示す概略構成図である。図１においては、１台のアイソレーター（容積：４ｍ^３）を除染対象室として、１組の過酸化水素ミスト発生装置（本第１実施形態においては、１次ミスト発生装置及び２次ミスト発生装置の組合せ）により除染用ミストを放出する。また、アイソレーターの内部の装置、例えば、循環ファン、ＨＥＰＡフィルタ、整流板などを省略し、除染対象空間のみを記載している。なお、本第１実施形態においては、アイソレーターを除染対象室とするが、これに限るものではなく、ＲＡＢＳ、無菌室、パスルーム、パスボックスなどであってもよく、これらの組合せであってもよい。また、除染対象室の数も１室から複数の何室であってもよい。

【0035】

図１において、除染対象室Ｒ１に配置した除染システム１００は、１次ミスト発生装置Ｍ１、２次ミスト発生装置Ｍ２、ミスト放出口Ｘ１、及び、ミスト分散・拡散装置Ｄ１を備えている。

【0036】

１次ミスト発生装置Ｍ１は、空気圧縮機１０、過酸化水素水タンク２０、及び、１次ミストを発生するエジェクタＥ１を有している。

【0037】

空気圧縮機１０は、過酸化水素水を搬送するためのキャリアガスとしての圧縮空気を発生するための圧縮空気発生手段として作用する。なお、本第１実施形態においては、この空気圧縮機１０は、除染対象室Ｒ１から離れた位置に配置されている。

【0038】

過酸化水素水タンク２０は、除染用ミストとしての過酸化水素ミストの発生源である過酸化水素水を貯留するための除染液供給手段として作用する。なお、本第１実施形態においては、この過酸化水素水タンク２０は、除染対象室Ｒ１から離れた位置で空気圧縮機１０の近傍に配置されている。ここで、過酸化水素水タンク２０に貯留される過酸化水素水の濃度は特に限定するものではないが、一般に、危険物などの取扱いを考慮して３０～３５重量％のものを使用することが好ましい。また、過酸化水素水タンク２０は、内部の過酸化水素水の残量を検知する秤量器２１と、残量を制御する制御装置（図示せず）を備えている。

【0039】

エジェクタＥ１は、過酸化水素水を圧縮空気中に気液混合して１次ミストを発生する。このエジェクタＥ１は、除染対象室Ｒ１から離れた位置で空気圧縮機１０及び過酸化水素水タンク２０の近傍に配置されている。

【0040】

また、図１において、除染システム１００は、空気圧縮機１０とエジェクタＥ１とを連通する空気供給配管ＡＬ１と、過酸化水素水タンク２０とエジェクタＥ１とを連通する除染液供給配管ＬＬ１と、エジェクタＥ１と２次ミスト発生装置Ｍ２とを連通する１次ミスト供給配管ＭＬ１とを備えている。

【0041】

空気供給配管ＡＬ１は、空気圧縮機１０の吐出口とエジェクタＥ１の駆動流路（図示しない）とを連通する。空気供給配管ＡＬ１の管路には、それぞれ、圧縮空気の供給を制御する開閉弁（図持せず）が設けられている。ここで、空気供給配管ＡＬ１の材質及び管径については特に限定するものではないが、一般に、内径１～１０ｍｍのステンレス管であることが好ましい。なお、図１には示していないが、空気圧縮機１０と空気供給配管ＡＬ１の間の管路には、エアドライヤ、エアレギュレータ、オートドレン、オイルミストセパレータ、その他のフィルタなどを設けるようにしてもよい。

【0042】

除染液供給配管ＬＬ１は、過酸化水素水タンク２０の供給口とエジェクタＥ１の吸引流路（図示しない）とを連通する。除染液供給配管ＬＬ１の管路には、それぞれ、過酸化水素水の供給を制御するチューブポンプＰ１が設けられている。ここで、除染液供給配管ＬＬ１の材質及び管径については、過酸化水素水に使用可能なものであれば特に限定するものではないが、一般に、内径１～１０ｍｍのステンレス管であることが好ましい。

【0043】

１次ミスト供給配管ＭＬ１は、エジェクタＥ１の吐出流路と超音波霧化装置（後述する）を具備する２次ミスト発生装置Ｍ２とを連通する。１次ミスト供給配管ＭＬ１は、空気圧縮機１０及び過酸化水素水タンク２０の近傍から除染対象室Ｒ１の奥壁面の上部中央に配置された２次ミスト発生装置Ｍ２の位置まで長い距離を配管されている。ここで、１次ミスト供給配管ＭＬ１の材質及び管径については、単位時間当りに必要な量の過酸化水素ミストを長い距離搬送することのできるものであることが好ましく、一般に、内径１～１０ｍｍのステンレス管であることが好ましい。

【0044】

図１から分かるように、１次ミスト供給配管ＭＬ１の搬送距離は、空気供給配管ＡＬ１の搬送距離又は除染液供給配管ＬＬ１の搬送距離よりも長い距離となる。この１次ミスト供給配管ＭＬ１による１次ミストの搬送距離は、特に限定するものではないが、通常、３～１００ｍ程度は搬送することができる。一方、空気供給配管ＡＬ１の搬送距離又は除染液供給配管ＬＬ１の搬送距離は短くすることができる。

【0045】

本第１実施形態において、１次ミストは、圧縮空気と過酸化水素水との混合気液であり密度の高い状態にあり搬送速度も速いので、１次ミスト供給配管ＭＬ１には小口径の配管を用いることができる。従って、除染対象室Ｒ１に長い距離の１次ミスト供給配管ＭＬ１を配置することができる。このことにより、大口径のダクトなどの大掛かりな設備を必要としない。

【0046】

また、１次ミスト中の過酸化水素水は液体の状態にあるので、凝縮を防止するために１次ミスト供給配管ＭＬ１を保温する必要がない。従って、除染対象室Ｒ１に長い距離の配管を配置する場合であっても、凝縮防止のヒーターなどの大掛かりな設備を必要としない。

【0047】

このように、除染液供給配管ＬＬ１の搬送距離を短くすることで、エジェクタＥ１への過酸化水素水の供給量を正確に把握することができる。このことにより、２次ミスト発生装置Ｍ２に供給された過酸化水素水の量を正確に把握することができ、除染対象室Ｒ１に放出された過酸化水素ミストの量が明確になる。一方、１次ミスト中の過酸化水素水は液体の状態にあり凝縮することがないので、１次ミスト供給配管ＭＬ１の搬送距離を長くして過酸化水素水を遠くまで正確に搬送することができる。更に、圧縮空気により１次ミスト供給配管ＭＬ１中の過酸化水素水を完全に搬送することができるので配管中にデッド液が残留することがない。

【0048】

２次ミスト発生装置Ｍ２は、除染対象室Ｒ１の奥壁面の上部中央（外壁側）に配置され、除染対象室Ｒ１の内壁側に開口するミスト放出口Ｘ１を介して除染対象室Ｒ１の内部に２次ミストを放出する。また、２次ミスト発生装置Ｍ２は、ミスト受容器と超音波霧化装置とから構成され、エジェクタＥ１から搬送されてくる過酸化水素水を含む１次ミストを受容して２次ミストに変換する。ミスト受容器と超音波霧化装置の構造と機能については後述する。

【0049】

ミスト分散・拡散装置Ｄ１は、除染対象室Ｒ１の奥壁面の上部中央に開口するミスト放出口Ｘ１の直下に左右対称に奥壁面に沿って横方向に長く配置され、２次ミスト発生装置Ｍ２から除染対象室Ｒ１の内部に放出された過酸化水素ミスト（２次ミスト）を除染対象室Ｒ１の内部に均一に分散・拡散させる。このミスト分散・拡散装置Ｄ１の構造と機能については後述する。

【0050】

このように、２次ミスト発生装置Ｍ２及びミスト分散・拡散装置Ｄ１は、除染対象室Ｒ１の上部に配置することが好ましい。過酸化水素ミストは、微細なミストといえども液滴であるため自重による落下を利用して下方への均一な分散・拡散を図ることができる。

【0051】

なお、ミスト分散・拡散装置Ｄ１の位置は、ミスト放出口Ｘ１の直下に限定するものではなくミスト放出口Ｘ１の下部近傍であればよい。ミスト放出口Ｘ１からの距離は特に限定するものではなく、例えば、０～８００ｍｍ、好ましくは、０～３００ｍｍであってもよい。ミスト分散・拡散装置Ｄ１がミスト放出口Ｘ１の下部近傍（直下を含む）にあることにより、除染対象室Ｒ１の内部に放出されて重力により下方に落下する傾向のある過酸化水素ミストがより効率よく分散・拡散することができる。

【0052】

なお、本第１実施形態においては、２次ミスト発生装置Ｍ２とミスト分散・拡散装置Ｄ１が除染対象室Ｒ１の奥壁面の上部中央に配置されている。なお、２次ミスト発生装置Ｍ２及びミスト分散・拡散装置Ｄ１の位置は、これに限るものではなく、他の壁面に配置してもよい。この場合においても、除染対象室Ｒ１の内部への過酸化水素ミストの均一な分散・拡散を考慮した位置に配置することが好ましい。なお、他の配置については後述の第３実施形態で説明する。

【0053】

また、除染対象室の容積が大きい場合には、複数の過酸化水素ミスト発生装置及びこれに付随した複数のミスト分散・拡散装置を配置する。このことにより、除染対象室の内部への過酸化水素ミストの均一な分散・拡散を図ることができ、除染効率が高くなるからである。

【0054】

次に、２次ミスト発生装置Ｍ２について説明する。図２は、本第１実施形態で使用する２次ミスト発生装置の外観斜視図である。図２において、２次ミスト発生装置Ｍ２は、ミスト受容器ＭＲ１と超音波霧化装置Ａ１とから構成されて２次ミストを発生させる。ミスト受容器ＭＲ１は、エジェクタＥ１から搬送されてくる過酸化水素水を含む１次ミストを受容して気液分離する。また、このミスト受容器ＭＲ１は、気液分離した過酸化水素水を超音波霧化装置Ａ１に供給すると共に、気液分離した空気を外部に放出する。ミスト受容器ＭＲ１の正面にはミスト放出口Ｘ１が設けられている。

【0055】

超音波霧化装置Ａ１は、ミスト受容器ＭＲ１から気液分離した過酸化水素水を受取り、微細な過酸化水素ミスト（２次ミスト）を発生して除染対象室Ｒ１の内部に放出する。なお、本第１実施形態においては、超音波霧化装置Ａ１の振動盤（後述する）がミスト放出口Ｘ１を兼ねている。

【0056】

ここで、本第１実施形態で使用する２次ミスト発生装置Ｍ２の１例を説明する。図３は、２次ミスト発生装置の構造を示している。（Ａ）は除染対象室側から見た正面図、（Ｂ）は右側面から見た断面図である。

【0057】

ミスト受容器ＭＲ１は、正面内部が半紡錘形の断面をした内部空間Ｓ１を構成し、半紡錘形の幅が集束する正面下端部に対応して外壁面に開口する開口部Ｓ１-２には、超音波霧化装置Ａ１が取り付けられている。この内部空間Ｓ１の下端部は、気液分離した少量の除染液の液溜りＭＲ１-２の機能を有するために幅が集束している。また、ミスト受容器ＭＲ１の背面下端部（超音波霧化装置Ａ１に対向する位置）には、１次ミスト供給配管ＭＬ１の末端がミスト受容器ＭＲ１の内部に向けて連通している。ミスト受容器ＭＲ１の背面内部の上端部には、空気抜きＭＲ１-３が開口している。なお、この空気抜きＭＲ１-３の経路には、過酸化水素を分解するためのフィルタＭＨ１を設けるようにしてもよい。また、ミスト受容器ＭＲ１の内部中央の１次ミスト供給配管ＭＬ１の末端と空気抜きＭＲ１-３との間に邪魔板ＭＲ１-４が設けられている。

【0058】

超音波霧化装置Ａ１は、気液分離した除染液（過酸化水素水）を霧化する複数の微細孔（図示せず）が表裏を貫通して設けられた略円板状の多孔振動板Ａ１-２と、この多孔振動板Ａ１-２を膜振動させる略円環板状に形成された圧電振動子Ａ１-３と、この圧電振動子Ａ１-３の振動を制御する制御装置（図示せず）とから構成されている。多孔振動板Ａ１-２は、圧電振動子Ａ１-３の内孔部を覆うように圧電振動子Ａ１-３に貼り合わされている。

【0059】

また、多孔振動板Ａ１は、その表面を除染対象室の内部に向け、裏面をミスト受容器ＭＲ１の内部に向けて取り付けられており、多孔振動板Ａ１-２の複数の微細孔が除染対象室の内部とミスト受容器ＭＲ１の内部とを貫通している。本第１実施形態においては、多孔振動板Ａ１-２の表面がミスト放出口Ｘ１を兼ねている。なお、図３においては、多孔振動板Ａ１-２の表面から水平方向に向けて過酸化水素ミストを放出するように配設されているが、これに限るものではなく、下方に向けて或いは配設位置によっては上方に向けて放出するようにしてもよい。

【0060】

この状態において、１次ミストが１次ミスト供給配管ＭＬ１を介してミスト受容器ＭＲ１の内部に放出される。ミスト受容器ＭＲ１の内部では多孔振動板Ａ１-２の裏面と１次ミスト供給配管ＭＬ１の末端とが対向している。このことにより、放出された１次ミストは、直接、多孔振動板Ａ１-２の裏面に吐出されて気液分離される。この気液分離された除染液は、超音波振動する多孔振動板Ａ１-２の複数の微細孔を介して微細な２次ミスト（過酸化水素ミスト）となって、除染対象室の内部に放出され除染効果を発揮する。なお、多孔振動板Ａ１-２の裏面で気液分離した除染液の一部が液溜りＭＲ１-２に留保されることがあっても、これらは極少量であり多孔振動板Ａ１-２の複数の微細孔を介して微細な２次ミストとなって、除染対象室の内部に放出される。一方、気液分離された空気は、空気抜きＭＲ１-３から外部に放出される。

【0061】

このように、超音波霧化装置Ａ１に供給する除染液の量を必要最小限に精度よく制御できるので、複数の除染対象室に対して各室ごとに長い距離の配管を設置した場合でも、除染液の残留を回避して効率的な除染を行うことができる。更に、このように各室ごとに正確な量の過酸化水素ミストを供給できるので、除染液が欠乏して超音波霧化装置Ａ１の心臓部である超音波振動子に故障が発生することがない。また、必要最小限の除染液の量で十分な除染効果を得ることができ、除染液の効率的利用を図ることができる。

【0062】

ここで、多孔振動板Ａ１-２の微細孔の孔径及び穴数は、特に限定するものではなく、超音波霧化効果と過酸化水素ミストの十分な供給量を確保できるものであればよい。なお、通常は４～１１μｍ程度の孔径を有するものであるが、細菌の芽胞のサイズより小さいもの（例えば、０．５～３μｍ程度）の孔径を選択すれば、フィルタ効果を発揮して細菌によって除染液が汚染することがない。

【0063】

次に、このようにして放出された過酸化水素ミストを除染対象室の内部に分散・拡散するミスト分散・拡散装置Ｄ１について説明する。図４は、本第１実施形態で使用するミスト分散・拡散装置の外観斜視図である。図４において、ミスト分散・拡散装置Ｄ１は、超音波振動盤Ｄ１ａを有している。超音波振動盤Ｄ１ａは、超音波霧化装置Ａ１から放出される過酸化水素ミストに対して、放出方向の下部後方から超音波振動による音響放射圧を作用させるように配置されている（図１参照）。

【0064】

ここで、超音波振動盤Ｄ１ａの構造と作用について説明する。図４において、超音波振動盤Ｄ１ａは、基盤と複数の送波器とを具備している。本第１実施形態においては、基盤Ｕ１を使用し、送波器として超音波発信器Ｕ１ａを使用した。本第１実施形態においては、基盤Ｕ１の盤上に１０５個の超音波発信器Ｕ１ａをそれらの振動面の送波方向（図示正面やや左方向）を統一して配置されている。なお、超音波発信器の個数は、特に限定するものではない。

【0065】

本第１実施形態においては、超指向性の超音波発信器Ｕ１ａを使用した。具体的には、周波数４０ＫＨｚ付近の超音波を送波する周波数変調方式の超音波発信器（ＤＣ１２Ｖ、５０ｍＡ）を使用した。なお、超音波発信器の種類、大きさと構造、出力等に関しては、特に限定するものではない。また、本発明においては、超音波振動盤に関しては超音波発信器に限るものではなく、超音波の発生機構、周波数域及び出力等について特に限定するものではない。

【0066】

本第１実施形態において、複数（１０５個）の超音波発信器Ｕ１ａの振動面の送波方向を統一すると共にこれらの送波器を同位相で作動させることにより、各超音波発信器Ｕ１ａの正面方向の超音波が互いに強め合うと共に、各超音波発信器Ｕ１ａの横方向の超音波が互いに打ち消し合うようになる。その結果、基盤Ｕ１に配置された超音波発信器Ｕ１ａが超音波振動すると、各振動面から垂直方向に空気中を進行する指向性の強い音響流が発生する。なお、本第１実施形態においては、制御装置（図示せず）により超音波発信器Ｕ１ａの周波数、出力、発信時間を制御すると共に、超音波の発信を間欠作動又は強弱作動させることにより、過酸化水素ミストに作用する音響放射圧による押圧を変化させることが重要である（詳細は後述する）。

【0067】

次に、本第１実施形態に係る除染システム１００を使用して除染対象室Ｒ１を除染する除染方法について説明する。ここでは、図２と図３で説明した２次ミスト発生装置Ｍ２及び図４で説明したミスト分散・拡散装置Ｄ１を除染対象室Ｒ１の奥壁面の上部中央に配置している（図１参照）。

【0068】

本第１実施形態においては、まず、除染対象室Ｒ１に単位時間当りに放出すべき過酸化水素ミストの量を算出する。この除染用ミスト放出量から、除染対象室Ｒ１に対応するエジェクタＥ１に対して、除染液供給配管ＬＬ１を介して過酸化水素水タンク２０から供給する過酸化水素水の量を算出する。なお、除染前の除染対象室Ｒ１は温度調節機及び湿度調節機を用いて所定の条件に設定しておくことが好ましい。

【0069】

次に、除染操作を開始する。まず、空気供給配管ＡＬ１の開閉弁（図示せず）を開放し、空気圧縮機１０から空気供給配管ＡＬ１を介してエジェクタＥ１の駆動流路に圧縮空気を供給する。ここで、エジェクタＥ１に供給される圧縮空気は、特に限定するものではないが、それぞれ、吐出圧力が０．０５ＭＰａ以上であって、空気流量が０．５～２０ＮＬ／ｍｉｎであることが好ましい。この空気流量は、除染対象室Ｒ１に供給する過酸化水素水の濃度と量、及び、除染対象室Ｒ１への距離に応じて適宜設定するようにすればよい。

【0070】

次に、除染液供給配管ＬＬ１のチューブポンプＰ１を作動し、過酸化水素水タンク２０から除染液供給配管ＬＬ１を介してエジェクタＥ１の吸引流路に過酸化水素水を供給する。なお、この過酸化水素水の供給量は、エジェクタＥ１に対して上述のようにして計算した量に対応する。ここで、エジェクタＥ１に供給される過酸化水素水の濃度は、特に限定するものではないが、一般に流通している３０～３５重量％のものをそのまま使用してもよく、又は、これらを濃縮或いは希釈して使用するようにしてもよい。また、エジェクタＥ１に供給される過酸化水素水は、それぞれ、流量が０．５～１０ｇ／ｍｉｎに調整するようにしてもよい。

【0071】

なお、過酸化水素水の量が上記範囲であることにより、且つ、圧縮空気の量が上記範囲であることにより、１次ミスト供給配管ＭＬ１を介して過酸化水素水を混合した１次ミストを長い距離でも搬送することができる。

【0072】

上述の操作により、エジェクタＥ１において過酸化水素水と圧縮空気が１次ミスト化し、エジェクタＥ１の吐出流路から１次ミスト供給配管ＭＬ１を介して２次ミスト発生装置Ｍ２を構成するミスト受容器ＭＲ１に供給される。

【0073】

ミスト受容器ＭＲ１においては、１次ミストが気液分離して過酸化水素水と空気が分離される。ミスト受容器ＭＲ１で気液分離した過酸化水素水は、ミスト受容器ＭＲ１から除染対象室Ｒ１の内部の超音波霧化装置Ａ１に供給される。なお、上述のように、超音波霧化装置Ａ１の多孔振動板Ａ１-２は、ミスト放出口Ｘ１を兼ねている。この段階において、超音波霧化装置Ａ１の圧電振動子Ａ１-３が作動を開始する。このことにより、超音波霧化装置Ａ１で発生した微細な過酸化水素ミストが除染対象室Ｒ１の内部に放出される。このとき、過酸化水素ミストは、除染対象室Ｒ１の奥壁面の上部中央に開口するミスト放出口Ｘ１から奥壁面に垂直に水平方向に放出される。

【0074】

ここで、ミスト分散・拡散装置Ｄ１が有する制御装置（図示せず）により、超音波振動盤Ｄ１ａの作動が所定のプログラムに応じて変化する。すなわち、過酸化水素ミストに対して下部後方から作用する音響放射圧の出力をＯＮ⇔ＯＦＦと変化させて間欠作動させ、又は、強⇔弱と変化させて強弱作動させる。同時に、発信時間・停止時間の調整も行う。このことにより、除染対象室Ｒ１の奥壁面の上部中央から奥壁面に垂直に水平方向に放出された過酸化水素ミストに音響放射圧による押圧が変化しながら作用する。このことにより、過酸化水素ミストの分散方向と拡散方向が所定のプログラムに応じて変化する。

【0075】

図５は、本第１実施形態の除染システムにおける過酸化水素ミストの分散・拡散の状態を示すイメージ図である。図５において、まず、２次ミスト発生装置Ｍ２の超音波霧化装置Ａ１から放出された過酸化水素ミスト（Ｈ_２Ｏ_２-Ｍｉｓｔ）は、ミスト分散・拡散装置Ｄ１の超音波振動盤Ｄ１ａの変化する作動によって除染対象室Ｒ１の水平方向に均一に分散・拡散する。また、この際に過酸化水素水ミストは、音響放射圧の作用により更に微細化が進み、除染対象室Ｒ１の内部に分散・拡散する。

【0076】

次に、超音波振動盤Ｄ１ａの変化する作動によって除染対象室Ｒ１の水平方向に均一に分散・拡散している過酸化水素ミストは、非常に微細な液滴からなるミストであって、自重により緩やかに落下する。よって、過酸化水素ミストは、除染対象室Ｒ１の垂直方向にも均一に分散・拡散する。

【0077】

なお、本第１実施形態においては、超音波振動による音響放射圧の作用により、過酸化水素水ミストの微細化が更に進み、ミスト・フォグ・液滴などの３μｍ～１０μｍ或いはそれ以上の液滴であっても、３μｍ以下の超微細粒子に均一化されて高度な除染効果を発揮するものと考えられる。また、過酸化水素ミストは、超音波振動の作用で微細化され粒径が小さく表面積が大きくなることから、ミストの蒸発効率が高く蒸発と凝縮とを繰り返しているものと考えられる。また、高度に微細化されたミストであり、除染対象室Ｒ１の内壁面に均一且つ薄層の凝縮膜を形成する。これらのことにより、除染対象室Ｒ１の内部には過酸化水素の３μｍ以下の超微細粒子と過酸化水素ガスとが相変化しながら共存して高度な除染環境を発現するものと考えられる。

【0078】

このようにして、所定の時間、過酸化水素ミストを放出しながら音響放射圧を作用させる。所定の時間を経過した段階で、除染液供給配管ＬＬ１のチューブポンプＰ１を停止し、過酸化水素水の供給を止める。この段階では、空気供給配管ＡＬ１を介してエジェクタＥ１に圧縮空気が供給された状態にあり、１次ミスト供給配管ＭＬ１中の残余の過酸化水素水が全てミスト受容器ＭＲ１に送られる。このことにより、除染対象室Ｒ１に対して、それぞれ、所定量の過酸化水素ミストが正確に放出される。超音波霧化装置Ａ１に供給された過酸化水素水が全てミスト化した段階において、超音波霧化装置Ａ１及びミスト分散・拡散装置Ｄ１は作動を停止する。

【0079】

次に、空気供給配管ＡＬ１の開閉弁を閉鎖し、圧縮空気の供給を止める。その後、室内の過酸化水素ミストを排出し室内をエアレーションして除染操作を終了する。なお、上記各操作は、マイクロコンピュータによる自動制御により行うことが好ましい。

【0080】

このように、除染対象室Ｒ１の内壁面に均一且つ薄層で形成された凝縮膜が再蒸発と凝縮とを繰り返すことにより、除染ミスト中の除染剤濃度を上げることが可能で、少量の除染剤で効率の良い除染を可能にする。また、少量の除染剤で効率よく除染できるのと共に結露を防止することができるので、除染後のエアレーションの効率も向上し除染操作の短時間化も可能である。

【0081】

ここで、本第１実施形態において、超微細な過酸化水素ミストが水平方向及び垂直方向に均一に分散・拡散する状態を確認した。具体的には、本第１実施形態の除染対象室Ｒ１であるアイソレーター（容積：Ｗ３×１Ｄ×１.３Ｈ＝４ｍ^３）に対して、図１に示す位置に１台の２次ミスト発生装置Ｍ２、及び、１台のミスト分散・拡散装置Ｄ１を配置した。この時の除染基準を１５ｇ／ｍ^３として計画し、１組の過酸化水素ミスト発生装置（本第１実施形態においては、１次ミスト発生装置Ｍ１及び２次ミスト発生装置Ｍ２の組合せ）から除染対象室Ｒ１の内部に放出する過酸化水素水（３５重量％）の量を２ｇ／ｍｉｎとして３０分間投入した。

【0082】

また、アイソレーターの底壁面の要所位置に複数の凝縮センサーＳＤＭ（本発明者が開発したものであって、詳細は日本特許第３８０９１７６号参照）を設置して、凝縮膜の厚みを測定してＳＤＶ値（除染に最適な凝縮膜の形成を確認する値）を確認した。その結果、過酸化水素ミストが２次ミスト発生装置Ｍ２とミスト分散・拡散装置Ｄ１の作用による水平方向及び垂直方向への分散・拡散が十分に達成できていることを確認した。一方、比較例として、ミスト分散・拡散装置Ｄ１の作動を停止して２次ミスト発生装置Ｍ２からの過酸化水素ミストの放出のみを行った結果、水平方向への分散・拡散が不十分であり、充分な除染ができない個所が複数認められた。また、２次ミスト発生装置Ｍ２からの放出方向にある底壁面に部分的な凝縮を認めた。

【0083】

《第２実施形態》
本第２実施形態においては、上記第１実施形態と同様に１室の除染対象室に対して本発明に係る除染システムを配置した場合について説明する。なお、本第２実施形態においては、過酸化水素ミスト発生手段として単一のミスト発生手段のみを使用し、微細なミストを除染用ミストとして除染対象室の内部に放出する場合について説明する。

【0084】

本第２実施形態においては、上記第１実施形態で使用した２次ミスト発生装置Ｍ２（超音波霧化装置Ａ１を含む）を使用せずに、過酸化水素水を直接ミスト化して除染対象室の内部に放出する。従って、発生するミストの粒径は小さくすることが好ましい。なお、ミスト発生装置としては、液状の過酸化水素水を微細なミストにできるものであれば、その構造はどのようなものでもよい。

【0085】

例えば、液体を直接ミスト化する一流体スプレーノズル、ピエゾ高圧噴射装置、浸漬型超音波霧化装置、円盤型霧化装置、円盤メッシュ型霧化装置などであってもよい。また、高圧空気などで液体をミスト化するエジェクタや二流体スプレーノズルなどであってもよい。なお、本第２実施形態においては、高圧空気で除染剤をミスト化するエジェクタを使用して説明する。

【0086】

図６は、本発明に係る除染システムの第２実施形態を示す概略構成図である。図２においては、上記第１実施形態と同様に１台のアイソレーター（容積：４ｍ^３）を除染対象室として、過酸化水素ミスト発生装置（本実施形態においては、単一のミスト発生装置のみを使用）により除染用ミストを放出する。また、アイソレーターの内部の装置、例えば、循環ファン、ＨＥＰＡフィルタ、整流板などを省略し、除染対象空間のみを記載している。

【0087】

図６において、除染対象室Ｒ２に配置した除染システム２００は、ミスト発生装置Ｍ３、ミスト放出口Ｘ２、及び、ミスト分散・拡散装置Ｄ２を備えている。

【0088】

ミスト発生装置Ｍ３は、空気圧縮機１０、過酸化水素水タンク２０、及び、ミストを発生するエジェクタＥ２を有している。

【0089】

空気圧縮機１０及び過酸化水素水タンク２０の構成と構造は、上記第１実施形態と同様であり、ここでは説明を省略する。エジェクタＥ２は、上記第１実施形態とは異なり、除染対象室Ｒ２の奥壁面の上部中央（外壁側）に配置され、除染対象室Ｒ２の内壁側に開口するミスト放出口Ｘ２を介して除染対象室Ｒ２の内部にミストを放出する。

【0090】

また、図６において、除染システム２００は、空気圧縮機１０とエジェクタＥ２とを連通する空気供給配管ＡＬ２と、過酸化水素水タンク２０とエジェクタＥ２とを連通する除染液供給配管ＬＬ２とを備えている。なお、空気供給配管ＡＬ２及び除染液供給配管ＬＬ２の構成と構造は、上記第１実施形態と同様であり、ここでは説明を省略する。

【0091】

ミスト分散・拡散装置Ｄ２は、除染対象室Ｒ２の奥壁面の上部中央に開口するミスト放出口Ｘ２の直下に左右対称に奥壁面に沿って横方向に長く配置され、ミスト発生装置Ｍ３から除染対象室Ｒ２の内部に放出された過酸化水素ミストを除染対象室Ｒ２の内部に均一に分散・拡散させる。このミスト分散・拡散装置Ｄ１の構造と機能については、上記第１実施形態と同様であり、ここでは説明を省略する。

【0092】

このように、ミスト発生装置Ｍ３及びミスト分散・拡散装置Ｄ２は、除染対象室Ｒ２の上部に配置することが好ましい。過酸化水素ミストは、微細なミストといえども液滴であるため自重による落下を利用して下方への均一な分散・拡散を図ることができる。

【0093】

なお、ミスト分散・拡散装置Ｄ２の位置は、ミスト放出口Ｘ２の直下に限定するものではなくミスト放出口Ｘ２の下部近傍であればよい。ミスト放出口Ｘ２からの距離は特に限定するものではなく、例えば、０～８００ｍｍ、好ましくは、０～３００ｍｍであってもよい。ミスト分散・拡散装置Ｄ２がミスト放出口Ｘ２の下部近傍（直下を含む）にあることにより、除染対象室Ｒ２の内部に放出されて重力により下方に落下する傾向のある過酸化水素ミストがより効率よく分散・拡散することができる。

【0094】

なお、本第２実施形態においては、ミスト発生装置Ｍ３とミスト分散・拡散装置Ｄ２が除染対象室Ｒ２の奥壁面の上部中央に配置されている。なお、ミスト発生装置Ｍ３及びミスト分散・拡散装置Ｄ２の位置は、これに限るものではなく、他の壁面に配置してもよい。この場合においても、除染対象室Ｒ２の内部への過酸化水素ミストの均一な分散・拡散を考慮した位置に配置することが好ましい。

【0095】

また、除染対象室の容積が大きい場合には、複数の過酸化水素ミスト発生装置及びこれに付随した複数のミスト分散・拡散装置を配置する。このことにより、除染対象室の内部への過酸化水素ミストの均一な分散・拡散を図ることができ、除染効率が高くなるからである。

【0096】

本第２実施形態においても、上記第１実施形態と同様にミスト分散・拡散装置Ｄ２の超音波振動盤は、エジェクタＥ２から放出される過酸化水素ミストに対して、放出方向の下部後方から超音波振動による音響放射圧を作用させるように配置されている（図６参照）。従って、本第２実施形態における過酸化水素ミストの制御方法は、上記第１実施形態と同様であり、ここでは説明を省略する。また、本第２実施形態における過酸化水素ミストの分散・拡散の状態を示すイメージ図も上記第１実施形態と同様である（図５参照）。

【0097】

《第３実施形態》
本第３実施形態においては、容積の大きな１室の除染対象室に対して本発明に係る除染システムを配置した場合について説明する。また、本第３実施形態においては、過酸化水素ミスト発生手段として１台の１次ミスト発生手段及び２台の２次ミスト発生手段を併用し、微細で霧化した２次ミストを除染用ミストとして除染対象室の内部に２か所から放出する場合について説明する。

【0098】

図７は、本発明に係る除染システムの第３実施形態を示す概略構成図の（Ａ）平面図である。また、図８は、概略構成図の（Ｂ）正面図であって一部破断線により室内の状態を示している。同様に、図９は、概略構成図の（Ｃ）側面図であって一部破断線により室内の状態を示している。図７～９においては、１台のアイソレーター（容積：８ｍ^３）を除染対象室として、過酸化水素ミスト発生装置（本第３実施形態においては、１台の１次ミスト発生装置及び２台の２次ミスト発生装置の組合せ）により除染用ミストを放出する。また、アイソレーターの内部の装置、例えば、循環ファン、ＨＥＰＡフィルタ、整流板などを省略し、除染対象空間のみを記載している。

【0099】

図７～９において、除染対象室Ｒ３に配置した除染システム３００は、１台の１次ミスト発生装置Ｍ４、２台の２次ミスト発生装置Ｍ５、Ｍ６、２つのミスト放出口Ｘ３、Ｘ４、及び、２台のミスト分散・拡散装置Ｄ３、Ｄ４を備えている。

【0100】

１次ミスト発生装置Ｍ４は、空気圧縮機１０、過酸化水素水タンク２０、及び、１次ミストを発生する２台のエジェクタＥ３、Ｅ４を有している。

【0101】

空気圧縮機１０、過酸化水素水タンク２０及び２台のエジェクタＥ３、Ｅ４の構成と構造は、上記第１実施形態と同様であり、ここでは説明を省略する。なお、２台のエジェクタＥ３、Ｅ４は、それぞれ２台の２次ミスト発生装置Ｍ５、Ｍ６に対して１次ミストを供給する。また、２台のエジェクタＥ３、Ｅ４は、除染対象室Ｒ３から離れた位置で空気圧縮機１０及び過酸化水素水タンク２０の近傍に配置されている。

【0102】

また、図７～９において、除染システム３００は、空気圧縮機１０と２台のエジェクタＥ３、Ｅ４とをそれぞれ連通する２本の空気供給配管ＡＬ３、ＡＬ４、過酸化水素水タンク２０と２台のエジェクタＥ３、Ｅ４とをそれぞれ連通する２本の除染液供給配管ＬＬ３、ＬＬ４、及び、２台のエジェクタＥ３、Ｅ４と２次ミスト発生装置Ｍ５、Ｍ６とをそれぞれ連通する２本の１次ミスト供給配管ＭＬ２、ＭＬ３とを備えている。なお、２本の空気供給配管ＡＬ３、ＡＬ４、２本の除染液供給配管ＬＬ３、ＬＬ４、及び、２本の１次ミスト供給配管ＭＬ２、ＭＬ３の構成と構造は、上記第１実施形態と同様であり、ここでは説明を省略する。

【0103】

図７～９から分かるように、２本の１次ミスト供給配管ＭＬ２、ＭＬ３の搬送距離は、２本の空気供給配管ＡＬ３、ＡＬ４の搬送距離又は２本の除染液供給配管ＬＬ３、ＬＬ４の搬送距離よりも長い距離となる。これら２本の１次ミスト供給配管ＭＬ２、ＭＬ３による１次ミストの搬送距離は、特に限定するものではないが、通常、３～１００ｍ程度は搬送することができる。一方、２本の空気供給配管ＡＬ３、ＡＬ４の搬送距離又は２本の除染液供給配管ＬＬ３、ＬＬ４の搬送距離は短くすることができる。

【0104】

本第３実施形態において、１次ミストは、圧縮空気と過酸化水素水との混合気液であり密度の高い状態にあり搬送速度も速いので、２本の１次ミスト供給配管ＭＬ２、ＭＬ３には小口径の配管を用いることができる。従って、除染対象室Ｒ３に長い距離の１次ミスト供給配管ＭＬ２、ＭＬ３を配置することができる。このことにより、大口径のダクトなどの大掛かりな設備を必要としない。

【0105】

また、１次ミスト中の過酸化水素水は液体の状態にあるので、凝縮を防止するために２本の１次ミスト供給配管ＭＬ２、ＭＬ３をそれぞれ保温する必要がない。従って、除染対象室Ｒ３に長い距離の配管を配置する場合であっても、凝縮防止のヒーターなどの大掛かりな設備を必要としない。

【0106】

このように、２本の除染液供給配管ＬＬ３、ＬＬ４の搬送距離を短くすることで、２台のエジェクタＥ３、Ｅ４への過酸化水素水の供給量を正確に把握することができる。このことにより、２台の２次ミスト発生装置Ｍ５、Ｍ６にそれぞれ供給された過酸化水素水の量を正確に把握することができ、除染対象室Ｒ３に放出された過酸化水素ミストの量が明確になる。一方、１次ミスト中の過酸化水素水は液体の状態にあり凝縮することがないので、２本の１次ミスト供給配管ＭＬ２、ＭＬ３の搬送距離を長くして過酸化水素水を遠くまで正確に搬送することができる。更に、圧縮空気により２本の１次ミスト供給配管ＭＬ２、ＭＬ３中の過酸化水素水をそれぞれ完全に搬送することができるので配管中にデッド液が残留することがない。

【0107】

なお、本第３実施形態においては、２台のミスト分散・拡散装置Ｄ３、Ｄ４は、それぞれ除染対象室Ｒ３の側壁面の上部角部の対角位置に開口するミスト放出口Ｘ３、Ｘ４のミスト放出方向の側壁面下部近傍壁面に横方向に長く配置され、１次ミスト発生装置Ｍ４から除染対象室Ｒ３の内部に放出された過酸化水素ミスト（２次ミスト）を除染対象室Ｒ３の内部に均一に分散・拡散させる。これらの２台のミスト分散・拡散装置Ｄ３、Ｄ４の構造と機能については、上記第１実施形態と同様であり、ここでは説明を省略する。

【0108】

なお、本第３実施形態においても、２台のミスト分散・拡散装置Ｄ３、Ｄ４が有する制御装置（図示せず）により、各超音波振動盤の作動が所定のプログラムに応じて変化する。すなわち、過酸化水素ミストに対して下部側面から作用する音響放射圧の出力をＯＮ⇔ＯＦＦと変化させて間欠作動させ、又は、強⇔弱と変化させて強弱作動させる。同時に、発信時間・停止時間の調整も行う。このことにより、除染対象室Ｒ１の側壁面の上方角部から側壁面に沿って水平方向に放出された過酸化水素ミストに音響放射圧による押圧が変化しながら作用する。このことにより、過酸化水素ミストの分散方向と拡散方向が所定のプログラムに応じて変化する。

【0109】

このように、２台の２次ミスト発生装置Ｍ５、Ｍ６及び２台のミスト分散・拡散装置Ｄ３、Ｄ４は、除染対象室Ｒ３の上部の対角位置に配置することが好ましい。過酸化水素ミストは、微細なミストといえども液滴であるため自重による落下を利用して下方への均一な分散・拡散を図ることができる。

【0110】

なお、２台のミスト分散・拡散装置Ｄ３、Ｄ４の位置は、それぞれ対応するミスト放出口Ｘ３、Ｘ４のミスト放出方向の側壁面下部近傍であれば、特に限定するものではない。なお、ミスト放出口Ｘ３、Ｘ４からの横方向の距離（放出方向への距離）は、大きく離れない方が好ましい。一方、ミスト放出口Ｘ３、Ｘ４からの下方距離は、例えば、０～８００ｍｍ、好ましくは、０～３００ｍｍであってもよい。２台のミスト分散・拡散装置Ｄ３、Ｄ４がミスト放出口Ｘ３、Ｘ４のミスト放出方向の下部近傍（直下を含む）にあることにより、除染対象室Ｒ３の内部に放出されて重力により下方に落下する傾向のある過酸化水素ミストがより効率よく分散・拡散することができる。

【0111】

《第４実施形態》
本第４実施形態においては、上記第１実施形態と同様に１室の除染対象室に対して本発明に係る除染システムを配置した場合について説明する。また、本第４実施形態においては、上記第１実施形態と同様に過酸化水素ミスト発生手段として１次ミスト発生手段及び２次ミスト発生手段を併用し、微細で霧化した２次ミストを除染用ミストとして除染対象室の内部に放出する。なお、本第４実施形態においては、過酸化水素ミスト発生装置とミスト分散・拡散装置の配置が上記第１実施形態と異なっている。

【0112】

図１０は、本発明に係る除染システムの第４実施形態を示す概略構成図である。図１０においては、上記第１実施形態と同様に１台のアイソレーター（容積：４ｍ^３）を除染対象室として、１組の過酸化水素ミスト発生装置（本第４実施形態においては、１次ミスト発生装置及び２次ミスト発生装置の組合せ）により除染用ミストを放出する。また、アイソレーターの内部の装置、例えば、循環ファン、ＨＥＰＡフィルタ、整流板などを省略し、除染対象空間のみを記載している。

【0113】

図１０において、除染対象室Ｒ４に配置した除染システム４００は、１次ミスト発生装置Ｍ７、２次ミスト発生装置Ｍ８、及び、ミスト分散・拡散装置Ｄ５を備えている。１次ミスト発生装置Ｍ７は、空気圧縮機１０、過酸化水素水タンク２０、及び、１次ミストを発生するエジェクタＥ５を有している。なお、図１０において、除染対象室Ｒ４は、１台の１次ミスト発生装置Ｍ７、１台の２次ミスト発生装置Ｍ８、及び、２台１対のミスト分散・拡散装置Ｄ５ａ、Ｄ５ｂを有している。

【0114】

空気圧縮機１０、過酸化水素水タンク２０及びエジェクタＥ５の構成と構造は、上記第１実施形態と同様であり、ここでは説明を省略する。また、図１０において、除染システム４００は、空気圧縮機１０とエジェクタＥ５とを連通する空気供給配管ＡＬ５と、過酸化水素水タンク２０とエジェクタＥ５とを連通する除染液供給配管ＬＬ５とを備えている。なお、空気供給配管ＡＬ５及び除染液供給配管ＬＬ５の構成と構造は、上記第１実施形態と同様であり、ここでは説明を省略する。

【0115】

２次ミスト発生装置Ｍ８は、ミスト受容器と超音波霧化装置とから構成され、エジェクタＥ５から搬送されてくる過酸化水素水を含む１次ミストを受容して２次ミストに変換し、除染対象室Ｒ４の内部に放出する。ミスト受容器と超音波霧化装置の構造と機能については後述する。また、ミスト分散・拡散装置Ｄ５（図１０においては「Ｄ５ａ及びＤ５ｂ」をいう）は、２次ミスト発生装置Ｍ８の左右に対称に配置され、２次ミスト発生装置Ｍ８から除染対象室Ｒ４の内部に放出された過酸化水素ミスト（２次ミスト）を除染対象室Ｒ４の内部に均一に分散・拡散させる。このミスト分散・拡散装置Ｄ５の構造と機能については後述する。

【0116】

本第４実施形態の図１０においては、２次ミスト発生装置Ｍ８及びミスト分散・拡散装置Ｄ５は、除染対象室Ｒ４の１壁面の上部中央に配置されている。なお、２次ミスト発生装置Ｍ８及びミスト分散・拡散装置Ｄ５の位置は、これに限るものではなく、他の壁面に配置してもよい。この場合においても、除染対象室Ｒ４の内部への過酸化水素ミストの均一な分散・拡散を考慮した位置に配置することが好ましい。

【0117】

１次ミスト供給配管ＭＬ４は、エジェクタＥ５の吐出流路と超音波霧化装置Ａ２を構成するミスト受容器ＭＲ２とを連通する。１次ミスト供給配管ＭＬ４は、空気圧縮機１０及び過酸化水素水タンク２０の近傍から除染対象室Ｒ４の１壁面の上部中央に配置された２次ミスト発生装置Ｍ８の位置まで長い距離を配管されている。ここで、１次ミスト供給配管ＭＬ４の材質と管径、及び、搬送距離等については、上記第１実施形態と同様である。

【0118】

次に、２次ミスト発生装置Ｍ８及びミスト分散・拡散装置Ｄ５について説明する。図１１は、本第４実施形態において２次ミスト発生装置とミスト分散・拡散装置との組み合わせの第１の例を示す斜視図である。まず、２次ミスト発生装置Ｍ８について説明する。なお、ミスト分散・拡散装置Ｄ５については後述する。

【0119】

図１１において、２次ミスト発生装置Ｍ８は、ミスト受容器ＭＲ２と２台の超音波霧化装置Ａ２(1)、Ａ２(2)とから構成されて、２次ミスト発生手段として作用する。ミスト受容器ＭＲ２は、エジェクタＥ５から搬送されてくる過酸化水素水を含む１次ミストを受容して気液分離する１次ミスト受容器として作用する。また、このミスト受容器ＭＲ２は、気液分離した過酸化水素水を超音波霧化装置Ａ２(1)、Ａ２(2)に供給すると共に、気液分離した空気を外部に放出する。

【0120】

超音波霧化装置Ａ２(1)、Ａ２(2)は、２次ミスト発生装置Ｍ８の相対する２面（図１０においては左右両側面）に、それぞれ１台ずつ設けられている。これらの超音波霧化装置Ａ２(1)、Ａ２(2)は、ミスト受容器ＭＲ２から気液分離した過酸化水素水を受取り、微細な過酸化水素ミスト（２次ミスト）を発生して除染対象室Ｒ４の内部に放出する。なお、超音波霧化装置Ａ２(1)、Ａ２(2)は、配置された面から垂直方向（図１０の奥壁面に沿って水平に左右両方向）に過酸化水素ミストを放出する。

【0121】

ここで、本第４実施形態で使用する２次ミスト発生装置Ｍ８の１例を説明する。図１２は、本第４実施形態で使用する２次ミスト発生装置を除染対象室内の側面から見た右側面図である。図１３は、本第４実施形態で使用する２次ミスト発生装置を除染対象室内の正面から見た断面図である。

【0122】

図１２及び図１３において、ミスト受容器ＭＲ２は、側面内部が半紡錘形の断面をした２つの内部空間Ｓ２(1)、Ｓ２(2)を構成し、半紡錘形の幅が集束する側面下端部に対応して外壁面に開口する開口部Ｓ２-２(1)、Ｓ２-２(2)には、超音波霧化装置Ａ２(1)、Ａ２(2)が取り付けられている。この内部空間の下端部は、気液分離した少量の除染液の液溜りＭＲ２-２(1)、ＭＲ２-２(2)の機能を有するために幅が集束している。また、ミスト受容器ＭＲ２の背面中央部（超音波霧化装置Ａ２に対向する位置）には、１次ミスト供給配管ＭＬ４の末端がミスト受容器ＭＲ２の内部に向けて連通し、内部で左右２方向に分かれてＭＬ４(1)、ＭＬ４(2)となり、それぞれ超音波霧化装置Ａ２(1)、Ａ２(2)の背面（除染対象室の外部）に向かって開口している。

【0123】

ミスト受容器ＭＲ２の２つの内部空間Ｓ２(1)、Ｓ２(2)の背面の上端部には、空気抜きＭＲ２-３(1)、ＭＲ２-３(2)が開口している。なお、この空気抜きＭＲ２-３(1)、ＭＲ２-３(2)の経路には、過酸化水素を分解するためのフィルタＭＨ２を設けるようにしてもよい。また、ミスト受容器ＭＲ２の２つの内部空間Ｓ２(1)、Ｓ２(2)の１次ミスト供給配管ＭＬ４の末端ＭＬ４(1)、ＭＬ４(2)と空気抜きＭＲ２-３(1)、ＭＲ２-３(2)との間には、それぞれ邪魔板ＭＲ２-４(1)、ＭＲ２-４(2)が設けられている。

【0124】

超音波霧化装置Ａ２(1)、Ａ２(2)は、気液分離した除染液（過酸化水素水）を霧化する複数の微細孔（図示はイメージ）が表裏を貫通して設けられた略円板状の多孔振動板Ａ２-２(1)、Ａ２-２(2)と、この多孔振動板Ａ２-２(1)、Ａ２-２(2)を膜振動させる略円環板状に形成された圧電振動子Ａ２-３(1)、Ａ２-３(2)と、この圧電振動子Ａ２-３(1)、Ａ２-３(2)の振動を制御する制御装置（図示せず）とから構成されている。多孔振動板Ａ２-２(1)、Ａ２-２(2)は、圧電振動子Ａ２-３(1)、Ａ２-３(2)の内孔部を覆うように圧電振動子Ａ２-３(1)、Ａ２-３(2)に貼り合わされている。

【0125】

また、多孔振動板Ａ２-２(1)、Ａ２-２(2)は、その表面を除染対象室の内部に向け、裏面をミスト受容器ＭＲ２の内部空間Ｓ２(1)、Ｓ２(2)の液溜りＭＲ２-２(1)、ＭＲ２-２(2)に向けて取り付けられている。このことにより、多孔振動板Ａ２-２(1)、Ａ２-２(2)の複数の微細孔が除染対象室Ｒ４の内部とミスト受容器ＭＲ２の内部空間Ｓ２(1)、Ｓ２(2)とを貫通している。なお、図１１においては、超音波霧化装置Ａ２(1)、Ａ２(2)の多孔振動板Ａ２-２(1)、Ａ２-２(2)の表面から水平方向、且つ、ミスト分散・拡散装置Ｄ５ａ、Ｄ５ｂの表面に沿って過酸化水素ミストを放出するように配置されている。

【0126】

この状態において、１次ミストが１次ミスト供給配管ＭＬ４の末端ＭＬ１(1)、ＭＬ１(2)を介してミスト受容器ＭＲ１の内部に放出される。ミスト受容器ＭＲ１の内部では多孔振動板Ａ１-２(1)、Ａ１-２(2)の裏面と１次ミスト供給配管ＭＬ４の末端ＭＬ４(1)、ＭＬ４(2)とが対向している。このことにより、放出された１次ミストは、直接、多孔振動板Ａ２-２(1)、Ａ２-２(2)の裏面に吐出されて気液分離される。

【0127】

この気液分離された除染液は、超音波振動する多孔振動板Ａ２-２(1)、Ａ２-２(2)の複数の微細孔を介して微細な過酸化水素ミスト（２次ミスト）となって、除染対象室Ｒ４の内部に放出される。なお、多孔振動板Ａ２-２(1)、Ａ２-２(2)の裏面で気液分離した除染液の一部が液溜りＭＲ２-２(1)、ＭＲ２-２(2)に留保されることがあっても、これらは極少量であり多孔振動板Ａ２-２(1)、Ａ２-２(2)の複数の微細孔を介して微細な２次ミストとなって、除染対象室の内部に放出される。一方、気液分離された空気は、空気抜きＭＲ２-３(1)、ＭＲ２-３(2)から外部に放出される。なお、多孔振動板Ａ１-２(1)、Ａ１-２(2)の微細孔の孔径及び穴数等については、上記第１実施形態と同様であり説明を省略する。

【0128】

次に、このようにして放出された過酸化水素ミストを除染対象室の内部に分散・拡散するミスト分散・拡散装置Ｄ５ａ、Ｄ５ｂについて説明する。図１１において、２次ミスト発生装置Ｍ８を中央にして、その左右に２台１対のミスト分散・拡散装置Ｄ５ａ、Ｄ５ｂが配置されている。２台のミスト分散・拡散装置Ｄ５ａ、Ｄ５ｂは、それぞれ同様の超音波振動盤Ｄ５-２ａ、Ｄ５-２ｂを有している。

【0129】

一方の超音波振動盤Ｄ５-２ａは、超音波霧化装置Ａ２(1)から水平に図示右方向に放出される過酸化水素ミストに対して、放出方向の側面から超音波振動による音響放射圧を作用させるように配置されている。また、他方の超音波振動盤Ｄ５-２ｂは、超音波霧化装置Ａ２(2)から水平に図示左方向に放出される過酸化水素ミストに対して、放出方向の側面から超音波振動による音響放射圧を作用させるように配置されている。なお、超音波振動盤Ｄ５-２ａ、Ｄ５-２ｂの構造と作用については、上記第１実施形態と同様であり説明を省略する。

【0130】

また、２次ミスト発生装置とミスト分散・拡散装置との組み合わせは、上記の例（図１１）に限るものではなく、以下に他の例を説明する。図１４は、２次ミスト発生装置とミスト分散・拡散装置との組み合わせの第２の例を示す斜視図である。図１４においては、２次ミスト発生装置Ｍ９に対して、図示右側に１台のミスト分散・拡散装置Ｄ６が配置されている。２次ミスト発生装置Ｍ９は、ミスト受容器ＭＲ３と１台の超音波霧化装置Ａ３とから構成されて、２次ミスト発生手段として作用する。なお、ミスト受容器ＭＲ３の構造と作用は、上述のミスト受容器ＭＲ２とほぼ同様である。また、超音波霧化装置Ａ３の構造と作用は、上述の超音波霧化装置Ａ２(1)と同様である。

【0131】

ミスト分散・拡散装置Ｄ６は、上述したミスト分散・拡散装置Ｄ５ａと同様の超音波振動盤Ｄ６-２を有している。超音波振動盤Ｄ６-２は、超音波霧化装置Ａ３から水平に図示右方向に放出される過酸化水素ミストに対して、放出方向の側面から超音波振動による音響放射圧を作用させるように配置されている。なお、超音波振動盤Ｄ６-２の構造と作用については、上記第１実施形態と同様であり説明を省略する。

【0132】

このように、図１４においては、２次ミスト発生装置Ｍ９の一方の面にのみミスト分散・拡散装置Ｄ６が配置されている。従って、２次ミスト発生装置Ｍ９及びミスト分散・拡散装置Ｄ６は、除染対象室の壁面の上部中央に配置するのではなく、上部角部に配置することが好ましい。なお、この場合においても、制御装置（図示せず）により超音波振動盤Ｄ６-２の超音波発信器Ｕ６-２の周波数、出力、発信時間を制御すると共に、超音波の発信を間欠作動又は強弱作動させることにより、過酸化水素ミストに作用する音響放射圧による押圧を変化させる。

【0133】

また、図１５は、２次ミスト発生装置とミスト分散・拡散装置との組み合わせの第３の例を示す斜視図である。図１５において、２次ミスト発生装置Ｍ１０に対して、ミスト分散・拡散装置Ｄ７（図１５においては「Ｄ７ａ、Ｄ７ｂ、Ｄ７ｃ、Ｄ７ｄ」をいう）は、２次ミスト発生装置Ｍ１０の左右対称に各２台ずつ配置されている。

【0134】

なお、２次ミスト発生装置Ｍ１０の図示右側には、ミスト分散・拡散装置Ｄ７ａ、Ｄ７ｃが図示上下に各面をやや対向させるように傾斜して配置されている。一方、２次ミスト発生装置Ｍ１０の図示左側には、ミスト分散・拡散装置Ｄ７ｂ、Ｄ７ｄが図示上下に各面をやや対向させるように傾斜して配置されている。

【0135】

２次ミスト発生装置Ｍ１０は、ミスト受容器ＭＲ４と２台の超音波霧化装置Ａ４(1)、Ａ４(2)とから構成されて、２次ミスト発生手段として作用する。なお、ミスト受容器ＭＲ４及び超音波霧化装置Ａ４(1)、Ａ４(2)の構造と作用は、上述のミスト受容器ＭＲ２及び超音波霧化装置Ａ２(1)、Ａ２(2)と同様である。

【0136】

ミスト分散・拡散装置Ｄ７ａ～Ｄ７ｄは、上述したミスト分散・拡散装置Ｄ５ａ、Ｄ５ｂと同様の超音波振動盤Ｄ７-２ａ～Ｄ７-２ｄを有している。なお、超音波振動盤Ｄ７-２ａ～Ｄ７-２ｄの構造と作用については、上記第１実施形態と同様であり説明を省略する。

【0137】

これらの超音波振動盤Ｄ７-２ａ～Ｄ７-２ｄは、それぞれ超音波霧化装置Ａ４(1)、Ａ４(2)から水平に図示左右両方向（除染対象室の壁面に沿った方向）に放出される過酸化水素ミストに対して、超音波振動による音響放射圧を作用させるように配置されている。なお、超音波振動盤Ｄ７-２ａ、Ｄ７-２ｃは、超音波霧化装置Ａ４(1)から図示右方向に放出される過酸化水素ミストの横方向の上下からやや角度をもって過酸化水素ミストを挟むように超音波振動による音響放射圧を作用させるように配置されている。このことにより、過酸化水素ミストは、上下方向から音響放射圧の作用を受けてより強力に指向性を高め、遠くまで早く届けられる。

【0138】

同様に、超音波振動盤Ｄ７-２ｂ、Ｄ７-２ｄは、超音波霧化装置Ａ４(2)から図示左方向に放出される過酸化水素ミストの横方向の上下からやや角度をもって過酸化水素ミストを挟むように超音波振動による音響放射圧を作用させるように配置されている。このことにより、過酸化水素ミストは、上下及び横方向から音響放射圧の作用を受けてより強力に指向性を高め、遠くまで早く届けられる。

【0139】

このように、図１５においては、２次ミスト発生装置Ｍ１０の左右両方向に角度をもって４台のミスト分散・拡散装置Ｄ７ａ～Ｄ７ｄが配置されている。従って、２次ミスト発生装置Ｍ１０及びミスト分散・拡散装置Ｄ７ａ～Ｄ７ｄは、除染対象室の壁面の上部中央に配置することが好ましい。なお、この場合においても、制御装置（図示せず）により超音波振動盤Ｄ７-２ａ～Ｄ７-２ｄの超音波発信器Ｕ７-２ａ～Ｕ７-２ｄの周波数、出力、発信時間を制御すると共に、超音波の発信を間欠作動又は強弱作動させることにより、過酸化水素ミストに作用する音響放射圧による押圧を変化させる。

【0140】

また、図１６は、２次ミスト発生装置とミスト分散・拡散装置との組み合わせの第４の例を示す斜視図である。図１６において、２次ミスト発生装置Ｍ１１に対して、ミスト分散・拡散装置Ｄ８（図１６においては「Ｄ８ａ、Ｄ８ｂ、Ｄ８ｃ、Ｄ８ｄ」をいう）は、２次ミスト発生装置Ｍ１１の左右対称に各２台ずつ配置されている。左右の各２台は、背面合わせの状態で配置されている。具体的には、図１６の２次ミスト発生装置Ｍ１１及びミスト分散・拡散装置Ｄ８ａ～Ｄ８ｄは、図１１の２次ミスト発生装置Ｍ８及びミスト分散・拡散装置Ｄ５ａ、Ｄ５ｂを２台背面合わせの状態にしたものと同様の構造を有する。

【0141】

２次ミスト発生装置Ｍ１１は、２台のミスト受容器ＭＲ５(1)、ＭＲ５(2)と４台の超音波霧化装置Ａ５(1)～Ａ５(4)（図１６においてＡ５(3)とＡ５(4)は、Ａ５(1)とＡ５(2)の背面にあり表示されていない）とから構成されて、２次ミスト発生手段として作用する。なお、ミスト受容器ＭＲ５(1)、ＭＲ５(2)及び超音波霧化装置Ａ５(1)～Ａ５(4)の構造と作用は、上述のミスト受容器ＭＲ２及び超音波霧化装置Ａ２(1)、Ａ２(2)と同様である。

【0142】

ミスト分散・拡散装置Ｄ８ａ～Ｄ８ｄは、上述したミスト分散・拡散装置Ｄ５ａ、Ｄ５ｂと同様の超音波振動盤Ｄ８-２ａ～Ｄ８-２ｄを有している。なお、超音波振動盤Ｄ８-２ａ～Ｄ８-２ｄの構造と作用は、については、上記第１実施形態と同様であり説明を省略する。

【0143】

これらの超音波振動盤Ｄ８-２ａ～Ｄ８-２ｄは、それぞれ超音波霧化装置Ａ５(1)～Ａ５(4))から水平に図示左右両方向に放出される過酸化水素ミストに対して、超音波振動による音響放射圧を作用させるように配置されている。なお、超音波振動盤Ｄ８-２ａは、超音波霧化装置Ａ５(1)から図示表側右方向に放出される過酸化水素ミストの横方向から超音波振動による音響放射圧を作用させるように配置されている。また、超音波振動盤Ｄ８-２ｂは、超音波霧化装置Ａ５(2)から図示表側左方向に放出される過酸化水素ミストの横方向から超音波振動による音響放射圧を作用させるように配置されている。

【0144】

一方、超音波振動盤Ｄ８-２ｃは、超音波霧化装置Ａ５(3)（図１６においてＡ５(1)の背面にあり表示されていない）から図示裏側右方向に放出される過酸化水素ミストの横方向から超音波振動による音響放射圧を作用させるように配置されている。また、超音波振動盤Ｄ８-２ｄは、超音波霧化装置Ａ５(4)（図１６においてＡ５(2)の背面にあり表示されていない）から図示裏側左方向に放出される過酸化水素ミストの横方向から超音波振動による音響放射圧を作用させるように配置されている。

【0145】

このように、図１６においては、２次ミスト発生装置Ｍ１１の左右両方向にそれぞれ背面合わせに４台のミスト分散・拡散装置Ｄ８ａ～Ｄ８ｄが配置されている。従って、２次ミスト発生装置Ｍ１１及びミスト分散・拡散装置Ｄ８ａ～Ｄ８ｄは、除染対象室の壁面の上部中央に配置するよりも、天井壁の中央付近に配置することが好ましい。このことにより、２次ミスト発生装置Ｍ１１から放出される４本の過酸化水素ミストは、除染対象室の中央から四方全域に均一に分散・拡散される。なお、この場合においても、制御装置（図示せず）により超音波振動盤Ｄ８-２ａ～Ｄ８-２ｄの超音波発信器Ｕ８-２ａ～Ｕ８-２ｄの周波数、出力、発信時間を制御すると共に、超音波の発信を間欠作動又は強弱作動させることにより、過酸化水素ミストに作用する音響放射圧による押圧を変化させる。

【0146】

本第４実施形態に係る除染システム４００を使用して除染対象室Ｒ１を除染する除染方法については、図１１で説明した２次ミスト発生装置Ｍ８と２台１対のミスト分散・拡散装置Ｄ５ａ、Ｄ５ｂとを除染対象室Ｒ４の壁面の上部中央に配置して行った（図１０参照）。なお、除染対象室Ｒ４の広さ及び単位時間当りに放出すべき過酸化水素ミストの量は、上記第１実施形態と同様であり、また除染効果についても同様の良好な結果を得た。よって、ここでは除染方法及び除染結果の詳細について説明を省略する。

【0147】

《第５実施形態》
本第５実施形態においては、複数の除染対象室に対して本発明に係る除染システムを配置した場合について説明する。図１８は、本発明に係る除染システムの第５実施形態を示す概略構成図である。図１８に示すように、除染システム５００は、広さの異なるｎ室（ｎは正の整数）からなるアイソレーターを除染対象室Ｒ１～Ｒｎとしている。各除染対象室は、それぞれ、独立した空間を有して、室内上部に循環ファンＦ１～Ｆｎ、ＨＥＰＡフィルタＨ１～Ｈｎ、及び、整流板Ｂ１～Ｂｎを備えている。

【0148】

なお、本第５実施形態においては、ｎ室からなるアイソレーターを除染対象室とするが、これに限るものではなく、ＲＡＢＳ、無菌室、パスルーム、パスボックスなどであってもよく、これらの組合せであってもよい。また、除染対象室の数も１室から複数の何室であってもよい。

【0149】

図１８において、除染システム５００は、除染対象室Ｒ１～Ｒｎの各室に共通の空気圧縮機１０と過酸化水素水タンク２０とを有している。また、除染対象室Ｒ１～Ｒｎは、それぞれ、過酸化水素ミスト発生装置Ｍ１～Ｍｎ+1（１次ミスト発生装置の単独、又は、１次ミスト発生装置及び２次ミスト発生装置の組合せ）と、ミスト分散・拡散装置Ｄ１～Ｄｎとを備えている。

【0150】

なお、図１８においては、全ての除染対象室Ｒ１～Ｒｎに対して１台の１次ミスト発生装置Ｍ１（但し、各室に対してエジェクタＥ１～Ｅｎを有する）、及び、除染対象室Ｒ１に対して２台の２次ミスト発生装置Ｍ２(1)、Ｍ２(2)と２台のミスト分散・拡散装置Ｄ１(1)、Ｄ１(2)を有している。一方、除染対象室Ｒｎは、１台の２次ミスト発生装置Ｍｎ+1を有している。これは、各除染対象室の内部容積に対応させたものである。

【0151】

空気圧縮機１０は、過酸化水素水を搬送するためのキャリアガスとしての圧縮空気を発生するための圧縮空気発生手段として作用する。この空気圧縮機１０は、除染対象室Ｒ１～Ｒｎから離れた位置に配置されている。

【0152】

過酸化水素水タンク２０は、除染用ミストとしての過酸化水素ミストの発生源である過酸化水素水を貯留するための除染液供給手段として作用する。この過酸化水素水タンク２０は、除染対象室Ｒ１～Ｒｎから離れた位置で空気圧縮機１０の近傍に配置されている。ここで、過酸化水素水タンク２０に貯留される過酸化水素水の濃度は特に限定するものではないが、一般に、危険物などの取扱いを考慮して３０～３５重量％のものを使用することが好ましい。また、過酸化水素水タンク２０は、内部の過酸化水素水の残量を検知する秤量器２１と、残量を制御する制御装置（図示せず）を備えている。

【0153】

１次ミスト発生装置Ｍ１のエジェクタＥ１～Ｅｎは、過酸化水素水を圧縮空気中に気液混合して１次ミストを発生するための１次ミスト発生手段として作用する。このエジェクタＥ１～Ｅｎは、除染対象室Ｒ１～Ｒｎから離れた位置で空気圧縮機１０及び過酸化水素水タンク２０の近傍に配置されている。

【0154】

２次ミスト発生装置Ｍ２～Ｍｎ+1は、ミスト受容器ＭＲ１～ＭＲｎと超音波霧化装置Ａ１～Ａｎ（共に図１８に示していないが、構造は上記第１実施形態と同様である）とから構成されている。ミスト受容器ＭＲ１～ＭＲｎは、エジェクタＥ１～Ｅｎから搬送されてくる過酸化水素水を含む１次ミストを受容して気液分離する１次ミスト受容器として作用する。また、このミスト受容器ＭＲ１～ＭＲｎは、気液分離した過酸化水素水を超音波霧化装置Ａ１～Ａｎに供給すると共に、気液分離した空気を外部に放出する。このミスト受容器ＭＲ１～ＭＲｎの構造についても上記第１実施形態と同様である。

【0155】

本第５実施形態の図１８においては、２次ミスト発生装置Ｍ２～Ｍｎ+1は、除染対象室Ｒ１～Ｒｎの作業領域上方（整流板Ｂ１～Ｂｎの直下）に配置されている。

【0156】

超音波霧化装置Ａ１～Ａｎは、ミスト受容器ＭＲ１～ＭＲｎから気液分離した過酸化水素水を受取り、微細な２次ミストを発生して除染対象室Ｒ１～Ｒｎの内部に放出する。この超音波霧化装置Ａ１～Ａｎは、ミスト受容器ＭＲ１～ＭＲｎと一体になって２次ミスト発生手段として作用する２次ミスト発生装置Ｍ２～Ｍｎ+1を構成する。なお、この超音波霧化装置Ａ１～Ａｎの構造についても上記第１実施形態と同様である。

【0157】

ミスト分散・拡散装置Ｄ１～Ｄｎは、２次ミスト発生装置Ｍ２～Ｍｎ+1の下部近傍配置されている。ミスト分散・拡散装置Ｄ１～Ｄｎは、上記第１実施形態と同様の超音波振動盤を有して、超音波霧化装置Ａ１～Ａｎから水平に放出される過酸化水素ミストに対して、放出口の下部から超音波振動による音響放射圧を作用させる。なお、ミスト分散・拡散装置Ｄ１～Ｄｎの構造と作用効果は上記第１実施形態と同様である。

【0158】

なお、最も広い除染対象室Ｒ１には、上述のように、２台のエジェクタＥ１(1)、Ｅ１(2)、２台の２次ミスト発生装置Ｍ２(1)、Ｍ２(2)、及び、２台のミスト分散・拡散装置Ｄ１(1)、Ｄ１(2)が配置されている。これは、除染対象室Ｒ１の容積が大きく、２か所から過酸化水素ミストを放出することにより除染効率が高くなるからである。また、除染対象室の広さによっては、１室に更に多くの２次ミスト発生装置とミスト分散・拡散装置を設けるようにしてもよい。なお、このように１室に複数の２次ミスト発生装置とミスト分散・拡散装置を設ける場合でも、１次ミスト供給配管は小口径であり設備費の点で問題となることはない。

【0159】

また、図１８において、除染システム５００は、空気圧縮機１０とエジェクタＥ１～Ｅｎとを連通する空気供給配管ＡＬ１～ＡＬｎと、過酸化水素水タンク２０とエジェクタＥ１～Ｅｎとを連通する除染液供給配管ＬＬ１～ＬＬｎと、エジェクタＥ１～Ｅｎとミスト受容器ＭＲ１～ＭＲｎとを連通する１次ミスト供給配管ＭＬ１～ＭＬｎとを備えている。

【0160】

空気供給配管ＡＬ１～ＡＬｎは、空気圧縮機１０の吐出口とエジェクタＥ１～Ｅｎの駆動流路（図示しない）とを連通する。空気供給配管ＡＬ１～ＡＬｎの管路には、それぞれ、圧縮空気の供給を制御する開閉弁（図持せず）が設けられている。ここで、空気供給配管ＡＬ１～ＡＬｎの材質及び管径については特に限定するものではないが、上記第１実施形態と同様に、内径１～１０ｍｍのステンレス管であることが好ましい。なお、図１８には示していないが、空気圧縮機１０と空気供給配管ＡＬ１～ＡＬｎの間の管路には、エアドライヤ、エアレギュレータ、オートドレン、オイルミストセパレータ、その他のフィルタなどを設けるようにしてもよい。

【0161】

除染液供給配管ＬＬ１～ＬＬｎは、過酸化水素水タンク２０の供給口とエジェクタＥ１～Ｅｎの吸引流路（図示しない）とを連通する。除染液供給配管ＬＬ１～ＬＬｎの管路には、それぞれ、過酸化水素水の供給を制御するチューブポンプＰ１～Ｐｎが設けられている。ここで、除染液供給配管ＬＬ１～ＬＬｎの材質及び管径については、過酸化水素水に使用可能なものであれば特に限定するものではないが、上記第１実施形態と同様に、内径１～１０ｍｍのステンレス管であることが好ましい。

【0162】

１次ミスト供給配管ＭＬ１～ＭＬｎは、エジェクタＥ１～Ｅｎの吐出流路と超音波霧化装置Ａ１～Ａｎを構成するミスト受容器ＭＲ１～ＭＲｎとを連通する。１次ミスト供給配管ＭＬ１～ＭＬｎは、空気圧縮機１０及び過酸化水素水タンク２０の近傍から除染対象室Ｒ１～Ｒｎの上壁内側に配置された２次ミスト発生装置Ｍ２～Ｍｎ+1の位置まで長い距離を配管されている。ここで、１次ミスト供給配管ＭＬ１～ＭＬｎの材質及び管径については、単位時間当りに必要な量の過酸化水素ミストを長い距離搬送することのできるものであることが好ましく、上記第１実施形態と同様に、内径１～１０ｍｍのステンレス管であることが好ましい。

【0163】

このように、除染対象室Ｒ１～Ｒｎに対して、それぞれ、空気供給配管ＡＬ１～ＡＬｎと除染液供給配管ＬＬ１～ＬＬｎと１次ミスト供給配管ＭＬ１～ＭＬｎとを配置することにより、除染対象室ごとに、別個に過酸化水素ミストを放出することができ、各室ごとに正確な除染を行うことができる。

【0164】

また、図１８から分かるように、１次ミスト供給配管ＭＬ１～ＭＬｎの搬送距離は、空気供給配管ＡＬ１～ＡＬｎの搬送距離又は除染液供給配管ＬＬ１～ＬＬｎの搬送距離よりも長い距離となる。この１次ミスト供給配管ＭＬ１～ＭＬｎによる１次ミストの搬送距離は、特に限定するものではないが、通常、３～１００ｍ程度は搬送することができる。一方、空気供給配管ＡＬ１～ＡＬｎの搬送距離又は除染液供給配管ＬＬ１～ＬＬｎの搬送距離は短くすることができる。

【0165】

本第５実施形態において、１次ミストは、圧縮空気と過酸化水素水との混合気液であり密度の高い状態にあり搬送速度も速いので、１次ミスト供給配管ＭＬ１～ＭＬｎには小口径の配管を用いることができる。従って、除染対象室ごとに長い距離の１次ミスト供給配管ＭＬ１～ＭＬｎを配置することができる。このことにより、大口径のダクトなどの大掛かりな設備を必要としない。

【0166】

また、１次ミスト中の過酸化水素水は液体の状態にあるので、凝縮を防止するために１次ミスト供給配管ＭＬ１～ＭＬｎを保温する必要がない。従って、除染対象室ごとに長い距離の配管を配置する場合であっても、凝縮防止のヒーターなどの大掛かりな設備を必要としない。

【0167】

このように、除染液供給配管ＬＬ１～ＬＬｎの搬送距離を短くすることで、エジェクタＥ１～Ｅｎへの過酸化水素水の供給量を正確に把握することができる。このことにより、除染対象室ごとにミスト受容器ＭＲ１～ＭＲｎに供給された過酸化水素水の量を正確に把握することができ、当該除染対象室に放出された過酸化水素ミストの量が明確になる。一方、１次ミスト中の過酸化水素水は液体の状態にあり凝縮することがないので、１次ミスト供給配管ＭＬ１～ＭＬｎの搬送距離を長くして過酸化水素水を遠くまで正確に搬送することができる。更に、圧縮空気により１次ミスト供給配管ＭＬ１～ＭＬｎ中の過酸化水素水を完全に搬送することができるので配管中にデッド液が残留することがない。

【0168】

なお、本第５実施形態に係る除染システム５００を使用して除染対象室Ｒ１～Ｒｎを除染する除染方法については、各除染対象室Ｒ１～Ｒｎについて上記第１実施形態で説明した内容と同様であり、ここでは省略する。

【0169】

以上のように上記各実施形態から明らかなように、本発明においては、除染対象室の内部に供給した過酸化水素ミストを更に微細化して分散・拡散させることにより、除染対象室に対する適正量の過酸化水素ミストの供給で除染効果の完璧を図ると共に、エアレーションなどの作業時間を短縮して除染作業の効率化を図ることのできる除染システムを提供することができる。

【0170】

なお、本発明の実施にあたり、上記各実施形態に限らず次のような種々の変形例が挙げられる。
（１）上記各実施形態においては、圧縮空気発生手段として空気圧縮機を採用するが、これに限定されるものではなく、高圧空気ボンベなど、その他の手段を採用するようにしてもよい。
（２）上記各実施形態においては、１次ミスト発生手段としてエジェクタを採用するが、これに限定されるものではなく、二流体スプレーノズルなどの気液ポンプなど、その他の気液混合手段を採用するようにしてもよい。
（３）上記各実施形態においては、除染液供給配管の管路にチューブポンプを採用するが、これに限定されるものではなく、他のどのようなポンプ或いは給液手段を採用するようにしてもよい。

【符号の説明】

【0171】

１００，２００，３００，４００，５００…除染システム、
１０…空気圧縮機、ＡＬ１～ＡＬｎ…空気供給配管、
２０…過酸化水素水タンク、２１…秤量器、ＬＬ１～ＬＬｎ…除染液供給配管、
Ｐ１～Ｐｎ…チューブポンプ、Ｅ１～Ｅｎ…エジェクタ、
ＭＬ１～ＭＬｎ…１次ミスト供給配管、
Ｍ１～Ｍｎ…過酸化水素ミスト発生装置（１次ミスト発生装置，２次ミスト発生装置）、
ＭＲ１～ＭＲｎ…ミスト受容器、ＭＲ１-２，ＭＲ２-２…液溜り、
ＭＲ１-３，ＭＲ２-３…空気抜き、ＭＲ１-４，ＭＲ２-４…邪魔板、
Ｓ１，Ｓ２…内部空間、Ｓ１-２，Ｓ２-２…開口部、
ＭＨ１，ＭＨ２…過酸化水素分解フィルタ、
Ａ１～Ａｎ…超音波霧化装置、Ａ１-２，Ａ２-２…多孔振動板、
Ａ１-３，Ａ２-３…圧電振動子、
Ｄ１～Ｄｎ，Ｄ５ａ，Ｄ５ｂ，Ｄ７ａ～Ｄ７ｄ，Ｄ８ａ～Ｄ８ｄ…ミスト分散・拡散装置、
Ｄ１ａ，Ｄ５-２ａ，Ｄ５-２ｂ，Ｄ６-２，Ｄ７-２ａ～Ｄ７-２ｄ，Ｄ８-２ａ～Ｄ８-２ｄ…超音波振動盤、
Ｕ１，Ｕ５ａ，Ｕ５ｂ，Ｕ６，Ｕ７ａ～Ｕ７ｄ，Ｕ８ａ～Ｕ８ｄ…基盤、
Ｕ１ａ，Ｕ５-２ａ，Ｕ５-２ｂ，Ｕ６-２，Ｕ７-２ａ～Ｕ７-２ｄ，Ｕ８-２ａ～Ｕ８-２ｄ…超音波発信器、
Ｒ１～Ｒｎ…除染対象室、Ｆ１～Ｆｎ…循環ファン、Ｈ１～Ｈｎ…ＨＥＰＡフィルタ、
Ｂ１～Ｂｎ…整流板、
Ｒ１～Ｒ４…除染対象室、Ｘ１～Ｘ５…ミスト放出口。
なお、１室に装置が２台ある場合には、各符号に(1),(2)を付して使い分けるようにした。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】