特許 7572172 レーザ発振器

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-10-15

(45)【発行日】2024-10-23

(54)【発明の名称】レーザ発振器

(51)【国際特許分類】

   H01S 3/041 20060101AFI20241016BHJP

   H01S 3/097 20060101ALI20241016BHJP

【ＦＩ】

H01S3/041

H01S3/097 Z

【請求項の数】 7

(21)【出願番号】P 2020115641

(22)【出願日】2020-07-03

(65)【公開番号】P2022013224

(43)【公開日】2022-01-18

【審査請求日】2023-05-19

(73)【特許権者】

【識別番号】000002107

【氏名又は名称】住友重機械工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100105887

【弁理士】

【氏名又は名称】来山 幹雄

(72)【発明者】

【氏名】河村 譲一

(72)【発明者】

【氏名】田中 研太

【審査官】右田 昌士

(56)【参考文献】

【文献】中国特許出願公開第１０１７５２７８０（ＣＮ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２００２／０１０５９９３（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開平０９－１４８６５５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０７－０３８１７６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－３３８６４５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭６３－０４８８７７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０６－２０４５８７（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１５／０２４４１３７（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開昭６０－０２１５８４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－１３４１２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭５８－１７６９８５（ＪＰ，Ａ）

【文献】中国特許出願公開第１０１６１５７５９（ＣＮ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｓ ３／００ － ３／３０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

レーザ媒質ガスを収容するチェンバ内に放電を生じさせる放電電極と、
前記チェンバ内に配置され、前記放電電極で放電が生じる領域を通る光軸を持つ前記チェンバ内の光共振器を保持し、前記光共振器の光軸の方向に長い単一の部材である共振器ベースと、
前記共振器ベースの表面のうち、前記放電電極の方を向く第１表面と、前記放電電極とは反対側を向く第２表面との温度差を低減させる温度差低減構造と
を有するレーザ発振器。

【請求項2】

前記温度差低減構造は、前記共振器ベースと前記放電電極との間に配置され、断熱または遮熱を行う熱遮蔽部材を含む請求項１に記載のレーザ発振器。

【請求項3】

前記熱遮蔽部材は前記共振器ベースに、前記光共振器の光軸方向に伸縮可能に支持されている請求項２に記載のレーザ発振器。

【請求項4】

前記温度差低減構造は、前記第１表面の上、または前記共振器ベースの内部であって、前記第２表面より前記第１表面に近い位置に設けられた冷却流路を含む請求項１乃至３のいずれか１項に記載のレーザ発振器。

【請求項5】

前記光共振器の共振器ミラーが、前記第１表面の上に固定されている請求項１乃至４のいずれか１項に記載のレーザ発振器。

【請求項6】

前記光共振器の光軸と前記共振器ベースとの間に、前記放電電極の一方が配置されてい
る請求項１乃至５のいずれか１項に記載のレーザ発振器。

【請求項7】

レーザ媒質ガスを収容するチェンバ内に放電を生じさせる放電電極と、
前記チェンバ内に配置され、前記放電電極で放電が生じる領域を通る光軸を持つ光共振器を保持する共振器ベースと、
前記共振器ベースの表面のうち、前記放電電極の方を向く第１表面と、前記放電電極とは反対側を向く第２表面との温度差を低減させる温度差低減構造と
を有し、
前記温度差低減構造は、前記第１表面に接する空間と、前記第２表面に接する空間との間でレーザ媒質ガスを循環させるガス循環機構を含むレーザ発振器。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、レーザ発振器に関する。

【背景技術】

【0002】

レーザ発振器に用いられる光共振器は一対の共振器ミラーを有し、共振器ミラーの間に光を閉じ込めて誘導放出を生じさせる。一対の共振器ミラーの光軸がずれるとレーザ光の出力が低下してしまう。レーザ光の出力低下を回避するために、一対の共振器ミラーの光軸のずれを抑制することが重要である。光軸ずれを抑制するために、一対の共振器ミラーを共振器ベースに固定する構造が採用される場合がある。

【0003】

下記の特許文献１に、レーザ媒質と光共振器とを収容した容器を外側の他の容器の中に配置し、外側の容器と内側の容器との間を真空にしたレーザ発振器が開示されている。この構成により、外部からの熱の影響が軽減される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開昭５８－１７６９８５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

一対の共振器ミラーを１つの共振器ベースに支持した構成において光軸ずれを抑制するためには、共振器ベースを変形しにくい剛性の高い部材を用いることが好ましい。ところが、剛性を高めるために、共振器ベースとして分厚くて大きな部材を用いると、装置が大型化し、コスト上昇につながる。

【0006】

本発明の目的は、装置の大型化及びコスト上昇を抑制し、かつ光共振器の光軸ずれを抑制することが可能なレーザ発振器を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の一観点によると、
レーザ媒質ガスを収容するチェンバ内に放電を生じさせる放電電極と、
前記チェンバ内に配置され、前記放電電極で放電が生じる領域を通る光軸を持つ前記チェンバ内の光共振器を保持し、前記光共振器の光軸の方向に長い単一の部材である共振器ベースと、
前記共振器ベースの表面のうち、前記放電電極の方を向く第１表面と、前記放電電極とは反対側を向く第２表面との温度差を低減させる温度差低減構造と
を有するレーザ発振器が提供される。

【発明の効果】

【0008】

温度差低減構造により、共振器ベースの第１表面と第２表面との温度が低減される。これにより、共振器ベースとして分厚くて剛性の高い部材を用いることなく、温度差に起因する反り変形を抑制することができる。共振器ベースの変型が生じにくくなるため、光共振器の光軸ずれも生じにくくなる。共振器ベースとして分厚くて剛性の高い部材を用いる必要がないため、装置の大型化及びコスト上昇を抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】図１は、実施例によるレーザ発振器を搭載したレーザ装置、及びレーザ発振器から出力されたレーザビームで加工を行う加工装置の概略図である。

【図2】図２は、実施例によるレーザ発振器の光軸を含む断面図である。

【図3】図３は、実施例によるレーザ発振器の光軸に垂直な断面図である。

【図4】図４Ａは、実施例によるレーザ発振器に用いられている共振器ベースの平面図であり、図４Ｂ及び図４Ｃは、それぞれ図４Ａの一点鎖線４Ｂ－４Ｂ及び一点鎖線４Ｃ－４Ｃにおける断面図である。

【図5】図５は、他の実施例によるレーザ発振器の光軸を含む断面図である。

【図6】図６は、さらに他の実施例によるレーザ発振器の光軸に垂直な断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

図１は、実施例によるレーザ発振器１２を搭載したレーザ装置１０、及びレーザ装置１０から出力されたレーザビームで加工を行う加工装置８０の概略図である。共通ベース１００に、レーザ装置１０及び加工装置８０が固定されている。共通ベース１００は、例えば床である。

【0011】

レーザ装置１０は、共通ベース１００に固定された架台１１と、架台１１に支持されたレーザ発振器１２とを含む。加工装置８０は、ビーム整形光学系８１及びステージ８２を含む。ステージ８２の上に加工対象物９０が保持される。ビーム整形光学系８１及びステージ８２は、共通ベース１００に固定されている。レーザ発振器１２から出力されたレーザビームが、ビーム整形光学系８１によってビームプロファイルを整形され、加工対象物９０に入射する。

【0012】

図２は、レーザ発振器１２の光軸を含む断面図である。レーザ発振器１２は、レーザ媒質ガス及び光共振器２０等を収容するチェンバ１５を含む。チェンバ１５にレーザ媒質ガスが収容される。チェンバ１５の内部空間が、相対的に上側に位置する光学室１６と、相対的に下側に位置するブロワ室１７と区分されている。光学室１６とブロワ室１７とは、上下仕切り板１８で仕切られている。なお、上下仕切り板１８には、レーザ媒質ガスを光学室１６とブロワ室１７との間で流通させる開口が設けられている。ブロワ室１７の側壁から光学室１６の底板１９が、光共振器２０の光軸２０Ａの方向に張り出しており、光学室１６の光軸方向の長さが、ブロワ室１７の光軸方向の長さより長くなっている。

【0013】

チェンバ１５の底板１９が、４個の支持箇所３５で架台１１（図１）に支持されている。４個の支持箇所３５は、平面視において長方形の４個の頂点に相当する位置に配置されている。

【0014】

光学室１６内に、放電電極２１及び光共振器２０が配置されている。光共振器２０は、一対の共振器ミラー２５を含む。放電電極２１は一対の導電部材２１Ａを含み、一対の導電部材２１Ａは、それぞれ電極ボックス２２に固定されている。一対の電極ボックス２２は電極支持部材２３を介して底板１９に支持されている。放電電極２１を構成する一対の導電部材２１Ａは、上下方向に間隔を隔てて配置され、両者の間に放電領域２４が画定される。放電電極２１は放電領域２４に放電を生じさせることにより、レーザ媒質ガスを励起させる。光共振器２０の光軸２０Ａは放電領域２４を通る。後に図３を参照して説明するように、放電領域２４を図２の紙面に垂直な方向にレーザ媒質ガスが流れる。

【0015】

一対の共振器ミラー２５を含む光共振器２０は、光学室１６内に配置された１つの共振器ベース２６に固定されている。共振器ベース２６は、光軸２０Ａの方向に長い板状の単一の部材であり、４個の光共振器支持部材２７を介して底板１９に支持されている。共振器ベース２６の上面に、熱遮蔽部材３０が、光軸２０Ａの方向に伸縮可能に保持されている。熱遮蔽部材３０は、共振器ベース２６から脱落しないようにボルト３１によって共振器ベース２６に保持されている。本明細書において、共振器ベース２６の上下の表面のうち、放電電極２１側を向く表面（図２において上面）を第１表面２６Ａといい、反対側を向く表面（図２において下面）を第２表面２６Ｂということとする。

【0016】

光共振器２０の光軸２０Ａを一方向（図１において左方向）に延伸させた延長線と光学室１６の壁面との交差箇所に、レーザビームを透過させる光透過窓２８が取り付けられている。光共振器内で励振されたレーザビームが光透過窓２８を透過して外部に放射される。

【0017】

ブロワ室１７にブロワ２９が配置されている。ブロワ２９は、光学室１６とブロワ室１７との間でレーザ媒質ガスを循環させる。

【0018】

図３は、実施例によるレーザ発振器１２の光軸２０Ａ（図２）に垂直な断面図である。図２を参照して説明したように、チェンバ１５の内部空間が上下仕切り板１８により、上方の光学室１６と下方のブロワ室１７とに区分されている。光学室１６内に、放電電極２１、共振器ベース２６、熱遮蔽部材３０が配置されている。放電電極２１を構成する一対の導電部材２１Ａが、それぞれ電極ボックス２２に固定されている。電極ボックス２２は、電極支持部材２３によってチェンバ１５の底板１９（図２）に支持されている。一対の導電部材２１Ａの間に放電領域２４が画定される。共振器ベース２６は、光共振器支持部材２７によってチェンバ１５の底板１９（図２）に支持されている。電極支持部材２３及び光共振器支持部材２７は、図３に示した断面からずれた位置に配置されているため、図３において電極支持部材２３及び光共振器支持部材２７を破線で表している。

【0019】

光学室１６内に仕切り板４０が配置されている。仕切り板４０は、上下仕切り板１８に設けられた開口１８Ａから放電領域２４までの第１ガス流路４１、放電領域２４から上下仕切り板１８に設けられた他の開口１８Ｂまでの第２ガス流路４２を画定する。レーザ媒質ガスは、放電領域２４を、光軸２０Ａ（図２）に対して直交する方向に流れる。放電方向は、レーザ媒質ガスが流れる方向、及び光軸２０Ａの両方に対して直交する。ブロワ室１７、第１ガス流路４１、放電領域２４、及び第２ガス流路４２によって、レーザ媒質ガスが循環する循環路が形成される。ブロワ２９は、この循環路をレーザ媒質ガスが循環するように、矢印で示したレーザ媒質ガスの流れを発生させる。

【0020】

ブロワ室１７内の循環路に、熱交換器４３が収容されている。放電領域２４で加熱されたレーザ媒質ガスが熱交換器４３を通過することによって冷却され、冷却されたレーザ媒質ガスが放電領域２４に再供給される。

【0021】

次に、図４Ａ～図４Ｃを参照して、共振器ベース２６及び熱遮蔽部材３０の支持構造について説明する。

【0022】

図４Ａは、共振器ベース２６及び熱遮蔽部材３０の平面図であり、図４Ｂ及び図４Ｃは、それぞれ図４Ａの一点鎖線４Ｂ－４Ｂ及び一点鎖線４Ｃ－４Ｃにおける断面図である。共振器ベース２６の上に、熱遮蔽部材３０が載せられて、光軸２０Ａの方向に伸縮可能に支持されている。共振器ベース２６は、光軸２０Ａの方向に長い平板である。共振器ベース２６の両端近傍の第１表面２６Ａの上に共振器ミラー２５が固定されている。

【0023】

平面視において共振器ベース２６に包含される位置に、４本の光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂ、２７Ｃ、２７Ｄが配置されている。光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂの各々は段付きピンであり、平面視において光軸２０Ａから見て同じ側に配置されている。平面視において光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂの中心を通過する直線は、光軸２０Ａと平行である。他の２つの光共振器支持部材２７Ｃ、２７Ｄは、段差が設けられていないピンであり、それぞれ平面視において光軸２０Ａに関して光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂの線対称の位置に配置されている。すなわち、４個の光共振器支持部材２７Ａ～２７Ｄは、長方形の４つの頂点に対応する位置に配置されている。４個の光共振器支持部材２７Ａ～２７Ｄの下端は、底板１９に埋め込まれて底板１９に固定されている。

【0024】

共振器ベース２６に、円形孔５１及び長孔５２が設けられている。円形孔５１及び長孔５２は、それぞれ、平面視において光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂに対応する位置に配置されている。長孔５２は、平面視において光軸２０Ａに平行な方向に長い形状を持つ。光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂのそれぞれの段差より上方の部分が、円形孔５１及び長孔５２に挿入されている。共振器ベース２６は、光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂの段差部分、及び光共振器支持部材２７Ｃ、２７Ｄの上端面によって、荷重が加わる方向に支持されている。

【0025】

共振器ベース２６のうち円形孔５１の周囲の部分は、光共振器支持部材２７Ａに対して水平面内の位置が拘束されている。長孔５２に挿入された光共振器支持部材２７Ｂは、共振器ベース２６に対して光軸２０Ａに平行な一次元方向に移動可能である。光共振器支持部材２７Ｃ、２７Ｄは、共振器ベース２６に対して水平面内の二方向に移動可能である。すなわち、共振器ベース２６は、チェンバ１５に対して１か所において水平方向の位置が拘束され、他の３か所においては水平方向の位置が拘束されていない。

【0026】

熱遮蔽部材３０は、共振器ベース２６から脱落しないように、熱遮蔽部材３０を貫通する４本のボルト３１で共振器ベース２６に支持されている。４本のボルト３１のうち２本のボルト３１が通過する熱遮蔽部材３０の孔は長孔３２とされており、熱遮蔽部材３０は共振器ベース２６に対して光軸２０Ａの方向に伸縮可能である。

【0027】

次に、上記実施例の優れた効果について説明する。
熱遮蔽部材３０が配置されていない構成では、放電電極２１及び電極ボックス２２で発生した熱が共振器ベース２６まで伝わり、共振器ベース２６の第１表面２６Ａの温度が第２表面２６Ｂの温度より高くなる。共振器ベース２６の厚さ方向に温度差が発生すると、共振器ベース２６の第１表面２６Ａと第２表面２６Ｂとで熱膨張量が異なり、共振器ベース２６に反り変形が発生してしまう。共振器ベース２６に反り変形が発生すると、一対の共振器ミラー２５の平行度が低下する。すなわち、一対の共振器ミラー２５の光軸がずれる。一対の共振器ミラー２５の光軸がずれると、レーザ出力が低下してしまう。共振器ベース２６の反り変形を低減させるためには、共振器ベース２６を分厚くして剛性を高めなければならない。または、共振器ベース２６に、高価な低熱膨張部材を用いなければならない。

【0028】

これに対して上記実施例では、熱遮蔽部材３０が、放電電極２１及び電極ボックス２２から共振器ベース２６の第１表面２６Ａへの、レーザ媒質ガスを介した熱の伝達を抑制する。熱遮蔽部材３０には、例えばＰＴＦＥ等の熱伝導率の小さな材料が用いられる。熱遮蔽部材３０の上面が加熱されて温度が上昇しても、下面の温度上昇は抑制される。その結果、熱遮蔽部材３０の下面に対向する共振器ベース２６の第１表面２６Ａの温度上昇も抑制される。このため、共振器ベース２６の第１表面２６Ａと第２表面２６Ｂとの間で温度差が生じにくくなり、温度差に起因する反り変形も生じにくくなる。したがって、共振器ベース２６を薄くすることが可能になり、装置の大型化を抑制することができる。さらに、共振器ベース２６に高特性の低熱膨張部材を用いる必要がなくなるため、装置のコストダウンを図ることが可能になる。共振器ベース２６の第１表面２６Ａと第２表面２６Ｂとの間で温度差が生じにくくなるという十分な効果を得るために、熱遮蔽部材３０として、共振器ベース２６の熱伝導率より小さな熱伝導率を持つ材料を用いることが好ましい。

【0029】

さらに、熱遮蔽部材３０は共振器ベース２６に対して光軸２０Ａ（図２）の方向に伸縮可能であるため、熱遮蔽部材３０自体が熱膨張しても、共振器ベース２６に変形は生じない。

【0030】

次に、上記実施例の変型例について説明する。
上記実施例では、熱遮蔽部材３０（図２、図３）に、ＰＴＦＥ等の熱伝導率の小さな材料を用いたが、その他の断熱材料を用いてもよい。また、放電電極２１及び電極ボックス２２から共振器ベース２６への放射熱を遮蔽する遮熱部材を用いてもよい。上記実施例では、熱遮蔽部材３０が共振器ベース２６の第１表面２６Ａに載せられているが、放電電極２１と共振器ベース２６との間の空間に、熱遮蔽部材３０を支持する構成としてもよい。

【0031】

上記実施例では、一対の共振器ミラー２５で光共振器２０を構成しているが、１枚以上のミラーを追加して折返し光共振器を構成してもよい。この場合には、光共振器を構成する一対の共振器ミラー２５と、光共振器に含まれる他のミラーとを、共振器ベース２６に支持する構成とするとよい。この構成においても、熱遮蔽部材３０を配置することにより、一対の共振器ミラー２５及び他のミラーを含めた光学部品の光軸のずれを抑制することができる。

【0032】

次に、図５を参照して他の実施例によるレーザ発振器について説明する。以下、図１～図４Ｃに示した実施例によるレーザ発振器と共通の構成については説明を省略する。

【0033】

図５は、本実施例によるレーザ発振器の光軸２０Ａを含む断面図である。本実施例においては、熱遮蔽部材３０（図２、図３）に代えて、共振器ベース２６の内部に冷却流路６０が設けられている。チェンバ１５の壁面に隔壁継手６２、６３が取り付けられている。冷却水供給回収装置６１から隔壁継手６２、６３を介してチェンバ１５内に、それぞれ管路６４、６５が導入されている。管路６４、６５は、それぞれ継手６６、６７を介して共振器ベース２６内の冷却流路６０に接続されている。冷却水供給回収装置６１は、一方の管路６４を通して冷却流路６０に冷却水を供給し、他方の管路６５を通して冷却流路６０から冷却水を回収する。

【0034】

冷却流路６０は、第２表面２６Ｂより第１表面２６Ａに近い位置に設けられている。すなわち、厚さ方向に関して中央よりも放電電極２１側に配置されている。

【0035】

次に、図５に示した実施例の優れた効果について説明する。
本実施例においては、共振器ベース２６が、冷却流路６０を流れる冷却水によって冷却される。冷却流路６０が、第１表面２６Ａ側に配置されているため、第１表面２６Ａが第２表面２６Ｂよりも優先的に冷却される。相対的に高温になりやすい第１表面２６Ａが優先的に冷却されるため、共振器ベース２６の上下面の温度差を軽減させることができる。このため、図１～図４Ｃに示した実施例と同様に、共振器ベース２６に、温度差に起因する反り変形が生じにくくなるという優れた効果が得られる。

【0036】

次に、本実施例の変型例について説明する。
本実施例では、冷却流路６０を共振器ベース２６の内部に設けているが、第１表面２６Ａの上に設けてもよい。本実施例では、冷却流路６０に冷却水を流しているが、その他の冷却用流体を流してもよい。例えば、冷却流路６０に流す流体としてガスを用いてもよい。

【0037】

次に、図６を参照してさらに他の実施例について説明する。以下、図１～図４Ｃに示した実施例によるレーザ発振器と共通の構成については説明を省略する。

【0038】

図６は、本実施例によるレーザ発振器の光軸２０Ａに垂直な断面図である。本実施例では、熱遮蔽部材３０（図２、図３）に代えて、ガス循環機構７０が配置されている。ガス循環機構７０は、共振器ベース２６の第１表面２６Ａに接する空間と、第２表面２６Ｂに接する空間との間でレーザ媒質ガスを循環させる。ガス循環機構７０は、例えば送風ファンを含む。

【0039】

ガス循環機構７０は、第１表面２６Ａに接する空間のレーザ媒質ガスを、光軸２０Ａ（図２）に対して交差する方向に流す。第１表面２６Ａに沿って流れたレーザ媒質ガスは、仕切り板４０の手前で折り返され、第２表面２６Ｂに接する空間に流入する。第２表面２６Ｂに沿って流れたレーザ媒質ガスは、反対側の仕切り板４０の手前で折り返され、第１表面２６Ａに接する空間に戻る。

【0040】

次に、図６に示した実施例の優れた効果について説明する。本実施例では、第１表面２６Ａに接する空間と、第２表面２６Ｂに接する空間との間で循環するレーザ媒質ガスを介して、第１表面２６Ａと第２表面２６Ｂとの間で熱の伝達が行われる。その結果、第１表面２６Ａと第２表面２６Ｂとの間の温度差が低減される。このため、図１～図４Ｃに示した実施例と同様に、共振器ベース２６に、温度差に起因する反り変形が生じにくくなるという優れた効果が得られる。

【0041】

上述の３つの実施例のいずれにおいても、レーザ発振器は、共振器ベース２６の第１表面２６Ａと第２表面２６Ｂとの温度差を低減させる温度差低減構造を有している。図１～図４Ｃに示した実施例では、温度差低減構造が熱遮蔽部材３０（図２、図３）を含む。図５に示した実施例では、温度差低減構造が冷却流路６０（図５）等を含む。図６に示した実施例では、温度差低減構造がガス循環機構７０（図６）を含む。温度差低減構造が、熱遮蔽部材３０（図２、図３）、冷却流路６０（図５）、及びガス循環機構７０（図６）の複数を含むようにしてもよい。さらに、温度差低減構造としてその他の構造を採用してもよい。

【0042】

上述の各実施例は例示であり、異なる実施例で示した構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることは言うまでもない。複数の実施例の同様の構成による同様の作用効果については実施例ごとには逐次言及しない。さらに、本発明は上述の実施例に制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。

【符号の説明】

【0043】

１０ レーザ装置
１１ 架台
１２ レーザ発振器
１５ チェンバ
１６ 光学室
１７ ブロワ室
１８ 上下仕切り板
１８Ａ、１８Ｂ 開口
１９ 底板
２０ 光共振器
２０Ａ 光軸
２１ 放電電極
２１Ａ 放電電極を構成する一対の導電部材
２２ 電極ボックス
２３ 電極支持部材
２４ 放電領域
２５ 光共振器ミラー
２６ 共振器ベース
２６Ａ 第１表面
２６Ｂ 第２表面
２７、２７Ａ、２７Ｂ、２７Ｃ、２７Ｄ 光共振器支持部材
２８ 光透過窓
２９ ブロワ
３０ 熱遮蔽部材
３１ ボルト
３２ 長孔
３５ チェンバの支持箇所
４０ 仕切り板
４１ 第１ガス流路
４２ 第２ガス流路
４３ 熱交換器
５１ 円形孔
５２ 長孔
６０ 冷却流路
６１ 冷却水供給回収装置
６２、６３ 隔壁継手
６４、６５ 管路
６６、６７ 継手
７０ ガス循環機構
８０ 加工装置
８１ ビーム整形光学系
８２ ステージ
９０ 加工対象物
１００ 共通ベース

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】