特許 7572569出願番号 特願 2023-545655
耐プラズマ積層体、その製造方法、ならびにプラズマ処理装置
公報発行日 2024年10月23
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7572569 ログイン済みの方はこのURLへ
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技術分野
耐プラズマ積層体、その製造方法、ならびにプラズマ処理装置
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
本開示の一耐プラズマ積層体を示す概略断面図である。
【図2】
耐プラズマ積層体を製造するためのスパッタ装置を示す模式図である。
【図3A】
サファイアを用いて成膜した基体のレーザー顕微鏡写真（倍率：１２００倍）である。
【図3B】
比較のためアルミナを用いて成膜した基体のレーザー顕微鏡写真（倍率：１２００倍）である。
【図4A】
中央部における膜電極と誘電体層との界面部分を示す走査電子顕微鏡(ＳＥＭ)写真である。
【図4B】
外周部における膜電極と誘電体層との界面部分を示す走査電子顕微鏡(ＳＥＭ)写真である。
代表図 図1本件の代表的な図
１ 耐プラズマ積層体
２ 基体
３ 膜電極
４ 誘電体層
５ 支持体層
６ ビア電極
７ 給電端子
１１ ターゲット
１２ 陰極
１３ ガス供給源
１４ 陽極
１５ チャンバ
２０ スパッタ装置
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