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特許7576098延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）を含む物品及びその製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-10-22
(45)【発行日】2024-10-30
(54)【発明の名称】延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）を含む物品及びその製造方法
(51)【国際特許分類】
C08J 9/00 20060101AFI20241023BHJP
B29C 67/20 20060101ALI20241023BHJP
【ＦＩ】
C08J9/00 A CFH
B29C67/20 B
【請求項の数】
28
(21)【出願番号】P 2022560256
(86)(22)【出願日】2021-03-31
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2023-05-23
(86)【国際出願番号】 US2021025034
(87)【国際公開番号】W WO2021202628
(87)【国際公開日】2021-10-07
【審査請求日】2022-11-25
(31)【優先権主張番号】63/004,601
(32)【優先日】2020-04-03
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
【前置審査】
(73)【特許権者】
【識別番号】391028362
【氏名又は名称】ダブリュ．エル．ゴア アンド アソシエイツ，インコーポレイティド
【氏名又は名称原語表記】Ｗ．Ｌ． ＧＯＲＥ ＆ ＡＳＳＯＣＩＡＴＥＳ， ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ
(74)【代理人】
【識別番号】100099759
【弁理士】
【氏名又は名称】青木 篤
(74)【代理人】
【識別番号】100123582
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 真二
(74)【代理人】
【識別番号】100092624
【弁理士】
【氏名又は名称】鶴田 準一
(74)【代理人】
【識別番号】100117019
【弁理士】
【氏名又は名称】渡辺 陽一
(74)【代理人】
【識別番号】100108903
【弁理士】
【氏名又は名称】中村 和広
(74)【代理人】
【識別番号】100114018
【弁理士】
【氏名又は名称】南山 知広
(74)【代理人】
【識別番号】100128495
【弁理士】
【氏名又は名称】出野 知
(72)【発明者】
【氏名】ラビ グプタ
(72)【発明者】
【氏名】ガイ エー．スブリグリア
【審査官】深谷 陽子
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１０－２５３７７４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０９－０５９３８７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開昭６１－１９２３２３（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０８Ｊ ５／００－ ５／０２、 ５／１２－ ５／２２
Ｃ０８Ｊ ９／００－ ９／４２
Ｂ２９Ｃ ４４／００－４４／６０、５５／００－５５／３０
Ｂ２９Ｃ ６１／００－６１／１０、６７／２０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
１３０℃～１５０℃の融点及びフィブリルによって相互接続されたノードの微細構造を有する、延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜を含んでなり、前記フィブリルはそれぞれ伸長鎖結晶を含む、物品。
【請求項2】
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは少なくとも７０％の結晶化度を有する、請求項１記載の物品。
【請求項3】
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は３０％を超える気孔率を有する、請求項１又は２記載の物品。
【請求項4】
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に１ＭＰａ～５０ＭＰａのマトリックス引張強度をさらに備える、請求項１～３のいずれか１項記載の物品。
【請求項5】
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に１００ＭＰａ～１０００ＭＰａのマトリックス弾性率を有する、請求項１～４のいずれか１項記載の物品。
【請求項6】
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを含む、請求項１～５のいずれか１項記載の物品。
【請求項7】
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、１～５の多分散を有する、請求項１～６のいずれか１項記載の物品。
【請求項8】
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つのコモノマーを０．００１モル％～１０モル％の量でさらに含む、請求項１～７のいずれか１項記載の物品。
【請求項9】
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つのフィラー材料を含む、請求項１～８のいずれか１項の物品。
【請求項10】
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、その中に生物活性部分を含む、請求項１～９のいずれか１項記載の物品。
【請求項11】
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である、請求項１～１０のいずれか１項記載の物品。
【請求項12】
前記フィブリルはポリマー鎖を含み、前記ポリマー鎖はフィブリル軸に沿って配向している、請求項１～１１のいずれか１項記載の物品。
【請求項13】
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品は、繊維、チューブ、テープ、シート又は三次元自立構造の形態である、請求項１～１２のいずれか１項記載の物品。
【請求項14】
請求項１～１３のいずれか１項記載のポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）物品を含む、複合材。
【請求項15】
請求項１～１３のいずれか１項記載のポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品又は請求項１４記載の複合材を含む、ラミネート。
【請求項16】
請求項１～１３のいずれか１項記載の多孔質ポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を含む、デバイス。
【請求項17】
基材上にポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー溶液をキャストしてポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを形成すること、前記ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを乾燥させて乾燥ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを形成すること、及び、
前記乾燥ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを前記基材から除去すること、さらに
前記乾燥ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを延伸して、ノードアンドフィブリル微細構造を有する延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）膜を形成すること
を含み、前記フィブリルはそれぞれ伸長鎖結晶を含む、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品の製造方法。
【請求項18】
乾燥は、空気乾燥、真空乾燥及びそれらの組み合わせを含む、請求項１７記載の方法。
【請求項19】
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープは、微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープの第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である、請求項１７又は１８記載の方法。
【請求項20】
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー溶液は、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー及び有機溶媒を含む、請求項１７～１９のいずれか１項記載の方法。
【請求項21】
前記基材は多孔質又は非多孔質基材である、請求項１７～２０のいずれか１項記載の方法。
【請求項22】
前記基材は非多孔質基材であり、前記非多孔質基材は、ガラス皿、ガラス板、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートから選ばれる、請求項１７～２１のいずれか１項記載の方法。
【請求項23】
延伸前に前記乾燥ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）キャストテープを所望のサイズに切断することをさらに含む、請求項１７～２２のいずれか１項記載の方法。
【請求項24】
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、少なくとも７０％の結晶化度を有する、請求項１７～２３のいずれか１項記載の方法。
【請求項25】
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、３０％を超える気孔率を有する、請求項１７～２４のいずれか１項記載の方法。
【請求項26】
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に１ＭＰａ～５０ＭＰａのマトリックス引張強度を備える、請求項１７～２５のいずれか１項記載の方法。
【請求項27】
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に１００ＭＰａ～１０００ＭＰａのマトリックス弾性率を有する、請求項１７～２６のいずれか１項記載の方法。
【請求項28】
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する、請求項１７～２７のいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、一般に、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）に関し、より具体的には、約１３０℃～約１５０℃の融点及びノードアンドフィブリル微細構造を有する延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）膜を含む多孔質物品に関する。ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを含有する多孔質物品及び緻密物品の形成方法も提供される。
【背景技術】
【0002】
微孔質フルオロポリマー膜が様々な用途に有用であることは、当該技術分野で知られている。微孔質フルオロポリマー膜から作られた物品は、靭性、衝撃強度、低摩擦係数、及び、溶媒及び腐食性化学物質による攻撃に対する耐性などの特性を備えている。微孔質フルオロポリマー膜に関連する好ましい特性のために、微孔質フルオロポリマー膜は、水ろ過、透析、電池セパレータ、ベント、脱塩及びガス分離などの様々な用途で利用されてきた。
【0003】
微孔質フルオロポリマー膜の物品は魅力的な特性を有し、多くの用途で使用されているが、フルオロケミカル化合物の使用から離れようとする最近の動きがある。したがって、フルオロポリマーが示す有望な特性を少なくとも示す非フルオロポリマー物品が当該技術分野で必要とされている。特に、融解温度未満で加工され、高強度、高気孔度及び高結晶化度を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）物品の製造方法が必要とされている。
【発明の概要】
【0004】
１つの態様（「態様１」）によれば、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、約１３０℃～約１５０℃の融点、少なくとも約７０％の結晶化度、約３０％を超える気孔率及びフィブリルによって相互接続されたノードの微細構造を含む。
【0005】
別の態様（「態様２」）によれば、態様１に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは少なくとも７０％の結晶化度を有する。
【0006】
別の態様（「態様３」）によれば、態様１及び態様２に加えて、延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は約３０％を超える気孔率を有する。
【0007】
別の態様（「態様４」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１ＭＰａ～約５０ＭＰａのマトリックス引張強度を備える。
【0008】
別の態様（「態様５」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１００ＭＰａ～約１０００ＭＰａのマトリックス弾性率を有する。
【0009】
別の態様（「態様６」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを含む。
【0010】
別の態様（「態様７」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、１～５の多分散を有する。
【0011】
別の態様（「態様８」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つのコモノマーを約０．００１モル％～約１０モル％の量で含む。
【0012】
別の態様（「態様９」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つのフィラー材料を含む。
【0013】
別の態様（「態様１０」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、その中に生物活性部分を含む。
【0014】
別の態様（「態様１１」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である。
【0015】
別の態様（「態様１２」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、前記フィブリルはポリマー鎖を含み、前記ポリマー鎖はフィブリル軸に沿って配向している。
【0016】
別の態様（「態様１３」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、前記フィブリルはそれぞれ伸長鎖結晶を含む。
【0017】
別の態様（「態様１４」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品は、繊維、チューブ、テープ、シート又は三次元自立構造の形態である。
【0018】
別の態様（「態様１５」）によれば、態様１～１４のいずれか１つに加えて、複合材は前記ポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）物品を含む。
【0019】
別の態様（「態様１６」）によれば、態様１～１４又は態様１５のいずれか１つに加えて、ラミネートは、ポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を含む。
【0020】
別の態様（「態様１７」）によれば、態様１～１４のいずれか１つに加えて、デバイスは、多孔質ポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を含む。
【0021】
１つの態様（「態様１８」）によれば、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品の製造方法は、約１３０℃～約１５０℃の融点及び少なくとも７０％の結晶化度を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを潤滑化して、潤滑化ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを形成すること、前記潤滑化ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを６０℃～１４０℃の温度で加圧してプリフォームを形成すること、及び６０℃～１４０℃の温度で前記プリフォームを延伸させて、フィブリルによって相互接続されたノードの構造を有する多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を形成することを含む。
【0022】
別の態様（「態様１９」）によれば、態様１８に加えて、前記潤滑化ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを６０℃～１４０℃の温度でカレンダ加工してプリフォームを形成すること、又は、前記潤滑化ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを６０℃～１４０℃の温度でラム押出してプリフォームを形成することを含む。
【0023】
別の態様（「態様２０」）によれば、態様１８及び態様１９に加えて、延伸前に前記プリフォームから潤滑剤を除去することを含む。
【0024】
別の態様（「態様２１」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する。
【0025】
別の態様（「態様２２」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、１～５の多分散を有する。
【0026】
別の態様（「態様２３」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を圧縮して緻密なポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を形成することを含む。
【0027】
別の態様（「態様２４」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーにフィラー材料及び生物活性部分の１つを添加することを含む。
【0028】
別の態様（「態様２５」）によれば、上述の態様のいずれかに加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品は、第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である。
【0029】
１つの態様（「態様２６」）によれば、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品の製造方法は、１３０℃～１５０℃の融点及び少なくとも７０％の結晶化度を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを６０℃～１４０℃の温度で加圧及び加熱してプリフォーム物品を形成し、続いて６０℃～１４０℃の温度で前記プリフォーム物品を延伸させて、多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を形成することを含む。
【0030】
別の態様（「態様２７」）によれば、態様２６に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する。
【0031】
別の態様（「態様２８」）によれば、態様２６又は態様２７に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、１～５の多分散を有する。
【0032】
別の態様（「態様２９」）によれば、態様２６～２８に加えて、前記多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品は、約３０％を超える気孔率を有する。
【0033】
別の態様（「態様３０」）によれば、態様２６～２９に加えて、前記多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を圧縮して緻密なポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を形成することを含む。
【0034】
１つの態様（「態様３１」）によれば、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品の製造方法は、基材上にポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー溶液をキャストしてポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを形成すること、前記ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーテープを乾燥させて乾燥ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを形成すること、及び、微孔質ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを前記基材から除去することを含む。
【0035】
別の態様（「態様３２」）によれば、態様３１に加えて、前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを延伸させて、ノードアンドフィブリル微細構造を有する延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）膜を形成することを含む。
【0036】
別の態様（「態様３３」）によれば、態様３１又は態様３２に加えて、乾燥は、空気乾燥、真空乾燥及びそれらの組み合わせを含む。
【0037】
別の態様（「態様３４」）によれば、態様３１～３３のいずれか１つに加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープは、微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープの第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である。
【0038】
別の態様（「態様３５」）によれば、態様３１～３４に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー溶液は、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー及び有機溶媒を含む。
【0039】
別の態様（「態様３６」）によれば、態様３１～３５に加えて、前記基材は多孔質又は非多孔質基材である。
【0040】
別の態様（「態様３７」）によれば、態様３１～３６に加えて、前記基材は非多孔質基材であり、前記非多孔質基材は、ガラス皿、ガラス板、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートから選ばれる。
【0041】
別の態様（「態様３８」）によれば、態様３１～３７に加えて、延伸前に前記乾燥ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）キャストテープを所望のサイズに切断することを含む。
【0042】
別の態様（「態様３９」）によれば、態様３１～３８に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、少なくとも７０％の結晶化度を有する。
【0043】
別の態様（「態様４０」）によれば、態様３１～３９に加えて、延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、約３０％を超える気孔率を有する。
【0044】
別の態様（「態様４１」）によれば、態様３１～４０に加えて、延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１ＭＰａ～約５０ＭＰａのマトリックス引張強度を備える。
【0045】
別の態様（「態様４２」）によれば、態様３１～４１に加えて、延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１００ＭＰａ～約１０００ＭＰａのマトリックス弾性率を有する。
【0046】
別の態様（「態様４３」）によれば、態様３１～４２に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する。
【0047】
１つの態様（「態様４４」）によれば、緻密物品の製造方法は、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー粉末を２つのカレンダロールのニップに直接供給して、凝集性の緻密ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）テープを生成することを含む。
【0048】
１つの態様（「態様４５」）によれば、方法は、基材上にポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー溶液をキャストしてポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを形成すること、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを溶媒誘起相分離のための非溶媒浴中に沈めること、前記基材から前記ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを除去すること、及び、前記ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを乾燥させて微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを形成することを含む。
【0049】
別の態様（「態様４６」）によれば、態様４５に加えて、前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを延伸させて、ノードアンドフィブリル微細構造を有する延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）膜を形成することを含む。
【0050】
別の態様（「態様４７」）によれば、態様４５又は態様４６に加えて、延伸前に乾燥ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを切断することを含む。
【0051】
別の態様（「態様４８」）によれば、態様４５～４７に加えて、前記基材は多孔質又は非多孔質基材である。
【0052】
別の態様（「態様４９」）によれば、態様４５～４８に加えて、前記基材は非多孔質基材であり、前記非多孔質基材は、ガラス皿、ガラス板、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートから選ばれる。
【0053】
別の態様（「態様５０」）によれば、態様４５～４９に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、少なくとも７０％の結晶化度を有する。
【0054】
別の態様（「態様５１」）によれば、態様４５～５０に加えて、前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープは、前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープの第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である。
【0055】
別の態様（「態様５２」）によれば、態様４５～５１に加えて、延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、約３０％を超える気孔率を有する。
【0056】
別の態様（「態様５３」）によれば、態様４５～５２に加えて、延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１ＭＰａ～約５０ＭＰａのマトリックス引張強度を備える。
【0057】
別の態様（「態様５４」）によれば、態様４５～５３に加えて、延伸ポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１００ＭＰａ～約１０００ＭＰａのマトリックス弾性率を有する。
【0058】
別の態様（「態様５５」）によれば、態様４５～５４に加えて、延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを含む。
【0059】
１つの態様（「態様５６」）によれば、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーから形成されたポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープは、少なくとも約７０％の結晶化度、１～５の多分散及び約３５０ｋＤａ～約５ＭＤａの重量平均分子量を有する。
【0060】
別の態様（「態様５７」）によれば、態様５６に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープは不透明である。
【0061】
別の態様（「態様５８」）によれば、態様５６又は態様５７に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープは、キャスト法、溶媒誘起キャスト法、ペーストカレンダ法又はペースト押出法を利用して形成されたものである。
【0062】
１つの態様（「態様５９」）によれば、物品は、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを含む。
【0063】
別の態様（「態様６０」）によれば、態様５９に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープは、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープの第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である。
【0064】
別の態様（「態様６１」）によれば、態様５９又は態様６０に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、少なくとも７０％の結晶化度を有する。
【0065】
別の態様（「態様６２」）によれば、態様５９～６１に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する。
【0066】
１つの態様（「態様６３」）によれば、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品の製造方法は、約１３０℃～約１５０℃の融点及び少なくとも７０％の結晶化度を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを潤滑剤により潤滑化してポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）粉末／潤滑剤混合物を形成すること、及び、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）粉末／潤滑剤混合物をペースト押出して、凝集性ＰＴＭＰＳビーズ、テープ、チューブ又は三次元自立構造を形成することを含む。
【0067】
別の態様（「態様６４」）によれば、態様６３に加えて、ペースト押出前に前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー粉末／油混合物をタンブリングすることを含む。
【0068】
別の態様（「態様６５」）によれば、態様６３又は態様６４に加えて、ペースト押出前に前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー粉末／油混合物を熱調整することを含む。
【0069】
別の態様（「態様６６」）によれば、態様６３～６５に加えて、凝集性ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマービーズを延伸させて延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜を形成することを含む。
【0070】
別の態様（「態様６７」）によれば、態様６３～６６に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する。
【0071】
別の態様（「態様６８」）によれば、態様６３～６７に加えて、前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、１～５の多分散を有する。
【図面の簡単な説明】
【0072】
添付の図面は、本開示のさらなる理解を提供するために含まれ、本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を構成し、実施形態を示し、記載と共に本開示の原理を説明するのに役立つ。
【0073】
【0074】
【0075】
【0076】
【0077】
【0078】
【0079】
【0080】
【0081】
【0082】
【0083】
【0084】
【0085】
【0086】
【0087】
【0088】
【0089】
【発明を実施するための形態】
【0090】
当業者は、意図された機能を発揮するように構成された任意の数の方法及び装置によって、本開示の様々な態様を実現できることを容易に理解するであろう。本明細書で参照される添付の図は、必ずしも一定の縮尺で描かれているわけではなく、本開示の様々な態様を示すために誇張されていることがあり、その点で、図は限定と解釈されるべきではないことにも留意されたい。「溶融温度」、「融解温度」及び融点という用語は、本明細書で交換可能に使用できることを理解されたい。
【0091】
本開示は、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）（ＰＴＭＰＳ）膜、及びポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）の溶融温度未満で加工され、高強度、高気孔率及び高結晶化度を有する多孔質物品に関する。ＰＴＭＰＳポリマーの結晶化度は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によって測定することができる。さらに、ＰＴＭＰＳ膜は、約１３０℃～約１５０℃の、ＰＴＭＰＳポリマーと比較してより高く、より広い溶融温度を有し、元のラメラ結晶が伸長鎖結晶に部分的に転化されたことを示す。さらに、ＰＴＭＰＳ膜は非対称であることができ、これは、ＰＴＭＰＳ膜の一方の側で観察される細孔構造が、ＰＴＭＰＳ膜の反対側にある細孔構造とは異なることを意味する。幾つかの実施形態において、多孔質ＰＴＭＰＳ膜サンプルの走査電子顕微鏡法（ＳＥＭ）に基づいて、細孔サイズは、ＰＴＭＰＳ膜の一方の側からＰＴＭＰＳ膜の反対側に向かって次第に大きくなる。
【0092】
ＰＴＭＰＳポリマー形成
ＰＴＭＰＳポリマーの形成において、１つの実施形態において、ジャケット付きガラス反応器中で例１（以下に記載）で生成された１，４－ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーに無水ベンゼンを添加して、反応混合物を形成する。反応混合物を高い還流温度に加熱しながら、テトラメチルグアニジニウムビス－２－エチルヘキサノエート触媒を反応器に加える。次いで、反応混合物を還流させる。還流後に、反応混合物を３５℃に冷却し、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）（ＰＴＭＰＳ）ポリマーをメタノール中で沈殿させる。ＰＴＭＰＳポリマーを真空下で乾燥させる。乾燥したＰＴＭＰＳポリマーは、約４６０キロダルトン（ｋＤａ）の重量平均分子量及び１．８の多分散を有する。沈殿したＰＴＭＰＳポリマーの融点は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）に基づいて１２７℃である（図９を参照されたい）。
ＰＴＭＰＳポリマーの形成において、１つの実施形態において、ジャケット付きガラス反応器中で例１（以下に記載）で生成された１，４－ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーに無水ベンゼンを添加して、反応混合物を形成する。反応混合物を高い還流温度に加熱しながら、テトラメチルグアニジニウムビス－２－エチルヘキサノエート触媒を反応器に加える。次いで、反応混合物を還流させる。還流後に、反応混合物を３５℃に冷却し、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）（ＰＴＭＰＳ）ポリマーをメタノール中で沈殿させる。ＰＴＭＰＳポリマーを真空下で乾燥させる。乾燥したＰＴＭＰＳポリマーは、約４６０キロダルトン（ｋＤａ）の重量平均分子量及び１．８の多分散を有する。沈殿したＰＴＭＰＳポリマーの融点は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）に基づいて１２７℃である（図９を参照されたい）。
【0093】
別の実施形態において、ＰＴＭＰＳポリマーは、例１で生成されたとおりの１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーに無水ベンゼンを反応器中で添加してスラリーを作製することによって形成されうる。反応混合物を高い還流温度に加熱しながら、テトラメチルグアニジニウムビス－２－エチルヘキサノエート触媒を反応器に加える。ＰＴＭＰＳポリマーを室温でメタノール中で沈殿させ、真空下で乾燥させる。乾燥したＰＴＭＰＳポリマーは、サイズ排除クロマトグラフィー(ＳＥＣ)を使用して特性化される。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、１．７の多分散で３５６キロダルトン（ｋＤａ）であると決定される。
【0094】
さらなる実施形態において、ＰＴＭＰＳポリマーは、例１１で調製されるとおりの１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーに無水トルエンを添加してスラリーを作製することによって作製されうる。次に、反応混合物を高い還流温度に加熱しながら、１，１，３，３－テトラメチルグアニジン触媒を反応器に加える。ＰＴＭＰＳポリマーを室温でメタノール中で沈殿させ、真空下で乾燥させる。乾燥したＰＴＭＰＳポリマーは、サイズ排除クロマトグラフィー(ＳＥＣ)を使用して特性化される。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、２の多分散で１００万ダルトン(１ＭＤａ)であると決定される。
【0095】
さらに別の実施形態において、ＰＴＭＰＳ粉末は、ＰＴＭＰＳポリマーから製造することができる。例えば、以下の例２で生成されるとおりのＰＴＭＰＳポリマーは、ジャケット付きガラス反応器内で１，３，５－トリメチルベンゼン中に溶解されうる。反応器を８０℃の温度で３時間維持した後に、反応器を冷却し、反応混合物を穏やかに攪拌する。２４時間後に、ＰＴＭＰＳの結晶化粒子は反応器内に見える。ＰＴＭＰＳ湿潤粉末を過剰のメタノールで洗浄し、乾燥してＰＴＭＰＳ粉末を得る。ＰＴＭＰＳ粉末の融点は、ＤＳＣを使用して１２９℃である（図１０を参照されたい）。
【0096】
ペースト加工ＰＴＭＰＳポリマー粉末
１つの実施形態において、ＰＴＭＰＳポリマー粉末は、ＰＴＭＰＳポリマー粉末のペースト加工によって微孔質物品に形成されうる。ＰＴＭＰＳポリマー粉末から多孔質物品を形成するときに、ＰＴＭＰＳポリマー粉末は、最初に軽油などの潤滑剤と混合される。他の適切な潤滑剤としては、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素などが挙げられ、可燃性、蒸発速度及び経済的考慮事項に従って選択される。本明細書で使用されるときに、「潤滑剤」という用語は、プロセス条件でポリマーの溶媒ではない非圧縮性流体を含む（又はからなる）加工助剤を記載することを意図することを理解されたい。流体とポリマーの表面相互作用により、均一な混合物を作ることができる。潤滑剤の選択は特に限定されず、潤滑剤の選択は主に安全性と利便性の問題であることにも留意されたい。流体-ポリマー表面相互作用が均一な混合物を生成できるようなものである限り、本明細書に記載の潤滑剤のいずれも潤滑剤として利用できることを理解されたい。潤滑剤は、約１ｍｌ／１００ｇ～約１００ｍｌ／１００ｇ、又は約１０ｍｌ／１００ｇ～約７０ｍｌ／１００ｇの比でＰＴＭＰＳポリマー粉末に添加されうる。
１つの実施形態において、ＰＴＭＰＳポリマー粉末は、ＰＴＭＰＳポリマー粉末のペースト加工によって微孔質物品に形成されうる。ＰＴＭＰＳポリマー粉末から多孔質物品を形成するときに、ＰＴＭＰＳポリマー粉末は、最初に軽油などの潤滑剤と混合される。他の適切な潤滑剤としては、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素などが挙げられ、可燃性、蒸発速度及び経済的考慮事項に従って選択される。本明細書で使用されるときに、「潤滑剤」という用語は、プロセス条件でポリマーの溶媒ではない非圧縮性流体を含む（又はからなる）加工助剤を記載することを意図することを理解されたい。流体とポリマーの表面相互作用により、均一な混合物を作ることができる。潤滑剤の選択は特に限定されず、潤滑剤の選択は主に安全性と利便性の問題であることにも留意されたい。流体-ポリマー表面相互作用が均一な混合物を生成できるようなものである限り、本明細書に記載の潤滑剤のいずれも潤滑剤として利用できることを理解されたい。潤滑剤は、約１ｍｌ／１００ｇ～約１００ｍｌ／１００ｇ、又は約１０ｍｌ／１００ｇ～約７０ｍｌ／１００ｇの比でＰＴＭＰＳポリマー粉末に添加されうる。
【0097】
少なくとも１つの実施形態において、ＰＴＭＰＳポリマー粉末及び潤滑剤は、混合物中に潤滑剤を均一又は実質的に均一に分布させるように混合される。本明細書で使用されるときに、「実質的に均一」とは、粉末の目に見える凝集が見られないように、粉末が可能な限り均一に分布していることを表すことを意味する。ＰＴＭＰＳポリマー粉末を潤滑剤中に分布させるために、様々な時間及び混合方法を使用できることを理解されたい。１つの実施形態において、潤滑化ＰＴＭＰＳポリマー粉末は、ＰＴＭＰＳポリマー粉末の融解温度より低く、かつＰＴＭＰＳポリマーの固体／状態遷移である７０℃より高い温度まで加熱される。粒子間結合を形成し、固体形状を作成するために、十分な圧力及びせん断を加えることができる。ＰＴＭＰＳポリマーの溶融温度を超えることなく形成されうる固体形態の非限定的な例としては、繊維、チューブ、テープ、シート及び三次元自立構造が挙げられる。圧力及びせん断を加える方法の非限定的な例としては、ペースト押出（例えば、ラム押出、カレンダ加工及びそれらの組み合わせ）が挙げられる。
【0098】
１つの実施形態において、ＰＴＭＰＳポリマー粉末及び潤滑剤がブレンドされると、ＰＴＭＰＳポリマー粉末はカレンダ加工されて、凝集性可撓性テープが製造される。本明細書で使用されるときに、「凝集性」という用語は、さらなる加工のために十分に強いテープを記載することを意図する。カレンダ加工は、例えば約１４０℃以下、又は６０℃～１４０℃、７５℃～１３０℃、８０℃～１２５℃、９０℃～１２０℃、又は８０℃～１１０℃など、ＰＴＭＰＳポリマーの融点未満の温度で行われる。形成されるテープの長さは不定で、厚さは１００μｍ未満である。約１０μｍ～約５００μｍ、約１５μｍ～約２５０μｍ、又は約２５μｍ～約１５０μｍの厚さを有するテープを形成することができる。別の実施形態において、潤滑化ＰＴＭＰＳポリマー粉末をラム押出して、凝集性ＰＴＭＰＳテープを製造することができる。
【0099】
次の工程において、潤滑剤をＰＴＭＰＳテープから除去することができる。鉱油が潤滑剤として使用される場合において、潤滑剤は、メタノール、ヘキサン又は他の適切な溶媒でテープを洗浄することによって除去されうる。洗浄溶媒は、潤滑剤に対する優れた溶解性と、ＰＴＭＰＳポリマーの融点未満で除去されるのに十分な揮発性を有するように選択される。潤滑剤が十分な揮発性を有するならば、潤滑剤は洗浄工程なしで除去されることができ、又は、熱及び／又は真空によって除去されることができる。次いで、ＰＴＭＰＳテープは、場合により、乾燥させられ、典型的には空気乾燥によって乾燥させられる。しかしながら、ＰＴＭＰＳテープを加熱する温度がＰＴＭＰＳポリマーの融点未満のままである限り、任意の従来の乾燥方法を使用することができる。
【0100】
テープは、乾燥すると、延伸のために適切なサイズに切断されうる。サンプルの延伸は、ＰＴＭＰＳポリマーの溶融温度より低い温度で起こる。幾つかの実施形態において、サンプルは、６０℃～１４０℃、７５℃～１３０℃、８０℃～１２５℃、９０℃～１２０℃、又は８０℃～１１０℃の温度で延伸される。サンプルは、多孔質（例えば、微孔質）ＰＴＭＰＳ膜を形成するために、１つ以上の方向（すなわち、一軸又は二軸）に延伸されうる。ＰＴＭＰＳテープの二軸延伸は、順次又は同時に発生することができる。一軸又は二軸のいずれかの延伸は、約０．１％／秒～約１０００％／秒、約１％／秒～約５００％／秒、又は約１０％／秒～約１００％／秒の速度で行うことができる。延伸した膜の多孔質微細構造は、延伸する温度及び速度の影響を受ける。ノードアンドフィブリルの幾何形状は、ＰＴＭＰＳポリマーの選択、延伸速度、延伸温度及び/又は延伸の総量によって制御できる。テープはまた、例えば多孔質ＰＴＭＰＳ物品への連続加工にも適している。さらに、多孔質ＰＴＭＰＳポリマー膜を圧縮して、１０％以下の気孔率を有する緻密なポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を形成することができる。
【0101】
多孔質ＰＴＭＰＳ物品を形成するためのキャスト方法
少なくとも１つの実施形態において、ＰＴＭＰＳポリマーは、キャスト法によって微孔質物品に形成されうる。幾つかの実施形態において、上記のように形成されたＰＴＭＰＳポリマーを、ｐ－キシレンなどの有機溶媒を含む溶液に入れ、所望のｗｔ％のＰＴＭＰＳ溶液を作製する。１つの例として、ｐ－キシレンをＰＴＭＰＳポリマーに添加して、１％溶液、３％溶液、５％溶液、７％溶液、１０％溶液、１２％溶液、１５％溶液、１７％溶液又は２０％溶液(「ＰＴＭＰＳ溶液」)を作ることができる。本明細書で使用するのに適した有機溶媒の他の非限定的な例としては、トルエン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）及びキシレンが挙げられる。１つのキャスト法において、ＰＴＭＰＳ溶液をガラス皿又は板などの非多孔質基材上にキャスト又は配置し、そして空気乾燥させることができる。空気乾燥したら、ＰＴＭＰＳキャストテープを非多孔質基材(例えば、ガラス皿)から剥離し、真空下でさらに乾燥させる。ＰＴＭＰＳキャストテープを形成するために使用できる他の適切な非多孔質基材としては、限定するわけではないが、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が挙げられる。
少なくとも１つの実施形態において、ＰＴＭＰＳポリマーは、キャスト法によって微孔質物品に形成されうる。幾つかの実施形態において、上記のように形成されたＰＴＭＰＳポリマーを、ｐ－キシレンなどの有機溶媒を含む溶液に入れ、所望のｗｔ％のＰＴＭＰＳ溶液を作製する。１つの例として、ｐ－キシレンをＰＴＭＰＳポリマーに添加して、１％溶液、３％溶液、５％溶液、７％溶液、１０％溶液、１２％溶液、１５％溶液、１７％溶液又は２０％溶液(「ＰＴＭＰＳ溶液」)を作ることができる。本明細書で使用するのに適した有機溶媒の他の非限定的な例としては、トルエン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）及びキシレンが挙げられる。１つのキャスト法において、ＰＴＭＰＳ溶液をガラス皿又は板などの非多孔質基材上にキャスト又は配置し、そして空気乾燥させることができる。空気乾燥したら、ＰＴＭＰＳキャストテープを非多孔質基材(例えば、ガラス皿)から剥離し、真空下でさらに乾燥させる。ＰＴＭＰＳキャストテープを形成するために使用できる他の適切な非多孔質基材としては、限定するわけではないが、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が挙げられる。
【0102】
１つの例として、上記のようなＰＴＭＰＳ溶液は、ガラス板などの非多孔質基材上、あるいは多孔質基材上にキャストして湿潤テープを形成することができる。次に、ＰＴＭＰＳ湿潤テープをイソプロパノール（ＩＰＡ）又はメタノールなどの非溶媒に沈めて、溶媒誘起相分離を行い、ＰＴＭＰＳキャストテープを形成する。ＰＴＭＰＳ溶液を作製するために使用される溶媒と混和性であるＰＴＭＰＳに対する任意の非溶媒が、キャスト法において使用されうることを理解されたい。溶媒誘起相分離の結果、不透明なＰＴＭＰＳテープが得られ、それは多孔質又は非多孔質の基材(例えば、ガラス板)から剥がすことができる。次いで、ＰＴＭＰＳキャストテープを空気乾燥して残留溶媒を除去することができる。
【0103】
ＰＴＭＰＳキャストテープは、延伸に適したサイズに切断することができる。キャストテープの延伸は、ＰＴＭＰＳポリマーの溶融温度より低い温度で起こる。幾つかの実施形態において、ＰＴＭＰＳキャストテープは、６０℃～１４０℃、７５℃～１３０℃、８０℃～１２５℃、９０℃～１２０℃、又は８０℃～１１０℃の温度で延伸される。ＰＴＭＰＳテープは、１つ以上の方向（すなわち、一軸又は二軸）に延伸させて、多孔質ＰＴＭＰＳ膜を形成することができる。一軸又は二軸のいずれかの延伸は、約０．１％／秒～約１０００％／秒、約１％／秒～約５００％／秒、又は約１０％／秒～約１００％／秒の速度で行うことができる。二軸延伸は、順次に（すなわち、機械方向及び横断方向の延伸を別々に行う）又は同時に（すなわち、機械方向及び横断方向の延伸を同時に行う）行うことができる。ＰＴＭＰＳテープが延伸されると、延伸されたＰＴＭＰＳ膜はノードアンドフィブリル構造を有する。本明細書で規定されるとおりのノードは、少なくとも３つのフィブリルの接続点を記載することを意味する。延伸ＰＴＭＰＳ膜の多孔質微細構造は、テープ形成プロセスの条件(例えば、使用する溶媒、テープを乾燥させる速度、溶液中のポリマーの濃度、使用する基材など)の影響を受ける。
【0104】
本明細書に記載の方法に従って製造される延伸ＰＴＭＰＳポリマー物品（例えば、延伸ＰＴＭＰＳ膜）は、少なくとも１つの方向に約１ＭＰａ～約５０ＭＰａ、約１０ＭＰａ～約５０ＭＰａ、約２０ＭＰａ～約５０ＭＰａ、約３０ＭＰａ～約５０ＭＰａ、又は約４０ＭＰａ～約５０ＭＰａのマトリックス引張強度を有する。さらに、延伸ＰＴＭＰＳ物品は、少なくとも１つの方向において、約１００ＭＰａを超える、約２５０ＭＰａを超える、又は約５００ＭＰａを超える、又は１０００ＭＰａ以下のマトリックス弾性率を有する。延伸ＰＴＭＰＳポリマー物品のマトリックス弾性率は、約１００ＭＰａ～約１０００ＭＰａ、約２００ＭＰａ～約１０００ＭＰａ、約３００ＭＰａ～約１０００ＭＰａ、約４００ＭＰａ～約１０００ＭＰａ、約５００ＭＰａ～約１０００ＭＰａ、約６００ＭＰａ～約１０００ＭＰａ、約７００ＭＰａ～約１０００ＭＰａ、約８００ＭＰａ～約１０００ＭＰａ、又は約９００ＭＰａ～約１０００ＭＰａの範囲であることができる。
【0105】
さらに、延伸ＰＴＭＰＳポリマー物品は、約３０％を超え、約３５％以上、約４０％以上、約４５％以上、約５０％以上、約５５％以上、約６０％以上、約６５％以上、約７０％以上、約７５％以上、約８０％以上、約８５％以上、又は約９０％以上の％気孔率を有する。幾つかの実施形態において、ＰＴＭＰＳポリマー物品は、約３０％～約９０％、約４０％～約９０％、約５０％～約９０％、約６０％～約９０％、約７０％～約９０％又は約８０％～約９０％の気孔率を有することができる。
【0106】
ＰＴＭＰＳポリマーは高い結晶化度を有する。本明細書で使用されるときに、「高結晶化度」という語句は、ＤＳＣで測定して少なくとも７０％の結晶化度を有するＰＴＭＰＳポリマーを含むことを意味する。ＰＴＭＰＳポリマーは、少なくとも７５％、少なくとも８０％、少なくとも８５％、少なくとも９０％又は少なくとも９５％の結晶化度を有することができる。あるいは、ＰＴＭＰＳポリマーは、約７０％～約９５％、約８０％～約９５％、約８５％～約９５％又は約９０％～約９５％の結晶化度を有することができる。さらに、ＰＴＭＰＳポリマーは、約３５０ｋＤａ～約５ＭＤａ、約８００，０００ｋＤａ～約５ＭＤａ又は約１．５ＭＤａ～約５ＭＤａの重量平均分子量を有する。
【0107】
本明細書で議論されるように、ＰＴＭＰＳポリマー物品はノードアンドフィブリル微細構造を有する。本明細書に記載のＰＴＭＰＳポリマー及びＰＴＭＰＳ物品に関して、ノードは、より大きな体積のポリマーとして記載されることができ、ノードを通る同じフィブリルの明確な継続を伴わずにフィブリルが開始又は終了する場所である。ノードは、少なくとも３つのフィブリルの接続点でもある。少なくとも１つの実施形態において、ＰＴＭＰＳポリマー鎖はフィブリル軸に沿って配向される。ＰＴＭＰＳ膜は融点が１３５℃～１５０℃と広く、元のラメラ結晶が伸長された鎖結晶に部分的に転化されていることを示している。ＰＴＭＰＳポリマーのより高い溶融温度（例えば、１３５℃～１５０℃）は、身長された鎖結晶を表す。さらに、各フィブリルは、図１２に示されるＤＳＣ曲線によって証明されるように、伸長された鎖結晶を含む。
【0108】
さらに、ＰＴＭＰＳポリマーは、少なくとも１つの追加のコモノマーを含有することができ、それによって変性ＰＴＭＰＳポリマーを形成することができる。ＰＴＭＰＳポリマーに含めることができる適切なコモノマーとしては、限定するわけではないが、ｍ－ビス（ジメチルヒドロキシシリル）ベンゼン、ｏ－ビス（ジメチルヒドロキシシリル）ベンゼン又は式Ｉを有するコモノマーが挙げられる。コモノマーは、約０．００１モル％を超える、約１モル％を超える、約５モル％を超える、約１０モル％を超える、約１５モル％を超える、又は約２０モル％を超える量でコポリマー中に存在することができる。幾つかの実施形態において、コモノマーは、約０．００１モル％～約３０モル％、約０．００１モル％～約２５モル％、約０．００１モル％～約２０モル％、約０．００１モル％～約１５モル％、又は約０．００１モル％～約１０モル％、約０．０１モル％～約５モル％又は約０．１モル％～約１モル％の量でコポリマー中に存在することができる。
（上式中、Ｒ及びＲ’は、Ｃ１～Ｃ６アルキル又は芳香族基、例えば、フェニル環を含む芳香族基に属する）。
【化1】
【0109】
さらなる実施形態において、緻密なＰＴＭＰＳポリマー物品が提供される。緻密なＰＴＭＰＳ物品は、熱を加えて又は加えずに（ただし、ＰＴＭＰＳポリマーの融点未満のままで）、多孔質ＰＴＭＰＳポリマー膜を圧縮することによって形成することができる。圧力は、カレンダ加工又はプレートプレスによって加えることができる。別の実施形態において、ＰＴＭＰＳポリマー粉末を直接カレンダ加工して（すなわち、ＰＴＭＰＳポリマー粉末を２つのカレンダロールのニップに直接供給することができる）、凝集性緻密テープを製造することができる。形成される緻密テープの長さは不確定で、厚さは約１ｍｍ未満である。緻密テープは、連続的に処理することができ、又は、延伸に適したサイズに切断することができる。乾燥緻密テープの延伸は、ＰＴＭＰＳポリマーの溶融温度より低く、そしてＰＴＭＰＳポリマーの固体/状態遷移である７０℃より高い温度で起こる。一軸又は二軸のいずれかの延伸は、約０．１％／秒～約１０００％／秒、約１％／秒～約５００％／秒、又は約１０％／秒～約１００％/秒の速度で行うことができる。緻密化された物品を達成するために、様々な時間、温度及び圧力を利用することができることは、当業者に理解されるべきである。
【0110】
本明細書に記載のＰＴＭＰＳポリマー物品の中又は上へのフィラー材料及び／又はコーティングの組み込みは、本発明の範囲内であると考えられる。例えば、フィラー材料は、カレンダ加工又はラム押出（及び場合により延伸）の前にＰＴＭＰＳポリマーとブレンドすることができ、又はＰＴＭＰＳポリマー物品上に配置し、適切なヒドロゲルで適所に固定することができる。適切なフィラー材料の非限定的な例としては、無機材料（例えば、シリカ）、カーボンブラック、エアロゲル、金属、半金属、セラミック、炭素／金属微粒子混合物、活性炭、ヒドロゲル材料、生物活性物質、硬化剤及びそれらの組み合わせが挙げられる。フィラー材料は、ＰＴＭＰＳ物品の約１．０質量％～約８０質量％、又は約２０質量％～約６０質量％、又は約１質量％～約３０質量％の量で、ＰＴＭＰＳポリマー物品に組み込まれることができる。あるいは、適切な非反応性フィラー材料を、ＰＴＭＰＳポリマーの形成中にＰＴＭＰＳポリマー物品に組み込むことができる。
【0111】
様々な成分を、ＰＴＭＰＳ物品と共処理するか、又はその上及び／又は中に配置することができる。特に、成分（又は化学組成物）は、ポリマー合成中又は合成後のいずれかで、添加される成分がポリマー中で緊密に混合されるように、例えば、ブレンドで又はＰＴＭＰＳポリマー鎖の共有結合成分として、ＰＴＭＰＳポリマーに添加されうる。添加される成分は、代替的に又は追加的に、延伸したＰＴＭＰＳポリマーのフィブリルの表面上でポリマーの外側に配置されうる。さらに、その成分は、延伸ＰＴＭＰＳ物品中のボイド空間（例えば、細孔）内又はフィブリル間に配置されうる。ＰＴＭＰＳ物品に又はその中に添加される成分は、吸収性又は非吸収性であることができる。添加される組成物は、その中に放出可能に含まれる有用な物質を含むことができる。ＰＴＭＰＳポリマー又はＰＴＭＰＳ物品に添加され又は他の方法で含まれることができる成分の非限定的な例としては、細胞、ウイルス、ウイルスベクター、細菌、タンパク質、抗体及び他の生物活性部分が挙げられる。
【0112】
本明細書に記載の多孔質ＰＴＭＰＳ膜の利点としては、耐クリープ性、広範囲の温度、溶媒及び濃度での加工の容易さ、ならびに耐放射線性（例えば、ガンマ線）が挙げられる。さらに、ＰＴＭＰＳ膜にはフルオロカーボンが含まれていない。他のタイプのシリコーン基材とは異なり、ＰＴＭＰＳ膜は、架橋を必要とせずに高いマトリックス弾性率及びマトリックス引張強度を備えている。
【実施例】
【0113】
試験方法
特定の方法及び装置について以下に記載するが、当業者によって適切であると判断される他の方法又は装置を代わりに利用できることを理解されたい。以下の実施例は実験室規模で行われたが、連続又は半連続プロセスに容易に適応できることを理解されたい。
特定の方法及び装置について以下に記載するが、当業者によって適切であると判断される他の方法又は装置を代わりに利用できることを理解されたい。以下の実施例は実験室規模で行われたが、連続又は半連続プロセスに容易に適応できることを理解されたい。
【0114】
示差走査熱量測定(ＤＳＣ)
ＤＳＣデータを、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ ＤＳＣを用いて、－５０℃～１６０℃で１０℃／分の加熱速度を用いて収集した。樹脂サンプルの場合に、約５ｍｇの粉末を、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓから入手可能な標準的なパンアンドリッド組み合わせに入れた。膜のサンプルは、４ｍｍのディスクを打ち抜くことにより調製した。４ｍｍディスクをパンに平らに置き、リッドを圧着して、パンとリッドの間に膜ディスクを挟んだ。
ＤＳＣデータを、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ ＤＳＣを用いて、－５０℃～１６０℃で１０℃／分の加熱速度を用いて収集した。樹脂サンプルの場合に、約５ｍｇの粉末を、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓから入手可能な標準的なパンアンドリッド組み合わせに入れた。膜のサンプルは、４ｍｍのディスクを打ち抜くことにより調製した。４ｍｍディスクをパンに平らに置き、リッドを圧着して、パンとリッドの間に膜ディスクを挟んだ。
【0115】
走査型電子顕微鏡写真(ＳＥＭ)
ＳＥＭサンプルは、混合上部及び下部第二電子検出器を備えた日立ＳＵ８０００電界放出走査型電子顕微鏡を使用して、１．０～１０ｋＶで撮像された。
ＳＥＭサンプルは、混合上部及び下部第二電子検出器を備えた日立ＳＵ８０００電界放出走査型電子顕微鏡を使用して、１．０～１０ｋＶで撮像された。
【0116】
平均厚さ測定
ミユトヨ厚さ計（ミユトヨコーポレーション、川崎、日本）の２枚の板の間にサンプルを置くことによって厚さを測定した。３回の測定の平均を報告した。
ミユトヨ厚さ計（ミユトヨコーポレーション、川崎、日本）の２枚の板の間にサンプルを置くことによって厚さを測定した。３回の測定の平均を報告した。
【0117】
マトリックス引張強度及びマトリックス弾性率
マトリックス引張強度及びマトリックス弾性率は、動的機械分析器（ＤＭＡ）（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ－Ｗａｔｅｒｓ ＬＬＣ、ニューキャッスル、デラウェア州、米国によって製造されたモデル：ＲＳＡ－Ｇ２）上で軸試験を使用して、一定の一軸変位速度に対する応力応答を測定することによって測定された。膜の矩形試験片を幅４．７ｍｍでダイカットした。ＤＭＡは、フィルム/ファイバー張力クランプが付属している。クランプのギャップは、室温の同じ試験条件で参照された。調製された試験片を、１０ｍｍのサンプル長さ/ギャップでＤＭＡクランプに取り付けた。軸試験は、最大２００秒間、０．１ｍｍ／秒の一定の変位速度を適用し、対応する一時的な軸力を測定することからなる。長手方向ＭＴＳ測定では、サンプルの大きい方の寸法は、「機械方向」と呼ばれる延伸方向に向けられた。横断方向ＭＴＳ測定では、サンプルの大きい方の寸法は、「横断方向」と呼ばれる延伸方向に対して垂直方向に向けられた。
マトリックス引張強度及びマトリックス弾性率は、動的機械分析器（ＤＭＡ）（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ－Ｗａｔｅｒｓ ＬＬＣ、ニューキャッスル、デラウェア州、米国によって製造されたモデル：ＲＳＡ－Ｇ２）上で軸試験を使用して、一定の一軸変位速度に対する応力応答を測定することによって測定された。膜の矩形試験片を幅４．７ｍｍでダイカットした。ＤＭＡは、フィルム/ファイバー張力クランプが付属している。クランプのギャップは、室温の同じ試験条件で参照された。調製された試験片を、１０ｍｍのサンプル長さ/ギャップでＤＭＡクランプに取り付けた。軸試験は、最大２００秒間、０．１ｍｍ／秒の一定の変位速度を適用し、対応する一時的な軸力を測定することからなる。長手方向ＭＴＳ測定では、サンプルの大きい方の寸法は、「機械方向」と呼ばれる延伸方向に向けられた。横断方向ＭＴＳ測定では、サンプルの大きい方の寸法は、「横断方向」と呼ばれる延伸方向に対して垂直方向に向けられた。
【0118】
マトリックスの引張強度は、次の式を使用して計算された。
ＭＴＳ＝(最大応力/断面積)＊(ＰＴＭＰＳの骨格密度)/サンプルの密度、
ＰＴＭＰＳの真/骨格密度は、ヘリウム比重計で測定して１．０２５ｇ/ｃｃであると考えられた。
ＭＴＳ＝(最大応力/断面積)＊(ＰＴＭＰＳの骨格密度)/サンプルの密度、
ＰＴＭＰＳの真/骨格密度は、ヘリウム比重計で測定して１．０２５ｇ/ｃｃであると考えられた。
【0119】
マトリックス弾性率を、次の式を使用して計算した。
マトリックス弾性率＝(荷重－変位曲線の小さなひずみ勾配/断面積)*(ＰＴＭＰＳの骨格密度)/サンプルの密度
マトリックス弾性率＝(荷重－変位曲線の小さなひずみ勾配/断面積)*(ＰＴＭＰＳの骨格密度)/サンプルの密度
【0120】
ＡＴＥＱを用いた空気流測定
ＰＴＭＰＳ膜を通過する空気流は、ＡＴＥＱ Ｄ５７０を使用して、圧力１２ｍｂａｒ、サンプルポートサイズ２．９９ｃｍ２で測定された。
ＰＴＭＰＳ膜を通過する空気流は、ＡＴＥＱ Ｄ５７０を使用して、圧力１２ｍｂａｒ、サンプルポートサイズ２．９９ｃｍ２で測定された。
【0121】
ヘリウム比重計を用いた気孔率測定
ヘリウム比重計（Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎによるＡｃｃｕＰｙｃ １３３０ Ｐｙｃｎｏｍｅｔｅｒ）を使用してＰＴＭＰＳポリマーの真密度又は骨格密度を決定し、１．０２５ｇ／ｃｃ（３回の測定の平均）であった。サンプルをダイカットして、９ｃｍ×５ｃｍの矩形セクションを形成した。Mettler Toledo ML54 天びんを使用して各サンプルの重量を測定し、ミユトヨ厚さ計(ミユトヨコーポレーション、川崎、日本)を使用してサンプルの厚さを測定した。このデータを使用して、次の式でサンプルのかさ密度を計算できる。
（上式中、
＝かさ密度(g/cc)であり、
ｍ＝質量(ｇ)であり、
ｗ＝幅(９ｃｍ)であり、
ｌ＝長さ(５ｃｍ)であり、
ｔ＝厚さ(ｃｍ)である）。
報告される結果は、少なくとも３回の計算の平均である。気孔率を次のように計算した。
（上式中、Ｐ＝％気孔率であり、
ρbulk ＝サンプルのかさ密度(ｇ/ｃｃ)であり、
ρ＝骨格密度である）。
ヘリウム比重計（Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎによるＡｃｃｕＰｙｃ １３３０ Ｐｙｃｎｏｍｅｔｅｒ）を使用してＰＴＭＰＳポリマーの真密度又は骨格密度を決定し、１．０２５ｇ／ｃｃ（３回の測定の平均）であった。サンプルをダイカットして、９ｃｍ×５ｃｍの矩形セクションを形成した。Mettler Toledo ML54 天びんを使用して各サンプルの重量を測定し、ミユトヨ厚さ計(ミユトヨコーポレーション、川崎、日本)を使用してサンプルの厚さを測定した。このデータを使用して、次の式でサンプルのかさ密度を計算できる。
【数1】
ｍ＝質量(ｇ)であり、
ｗ＝幅(９ｃｍ)であり、
ｌ＝長さ(５ｃｍ)であり、
ｔ＝厚さ(ｃｍ)である）。
報告される結果は、少なくとも３回の計算の平均である。気孔率を次のように計算した。
【数2】
ρbulk ＝サンプルのかさ密度(ｇ/ｃｃ)であり、
ρ＝骨格密度である）。
【0122】
サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）による平均の重量平均分子量
ＳＥＣは、ＳｈｏｄｅｘカラムＫＦ-８０６Ｌ、ＫＦ-８０７Ｌ及びＫＦ-８０３を備えたＭａｌｖｅｒｎ ＯＭＮＩＳＥＣ（登録商標）Ｒｅｖｅａｌ（Ｍａｌｖｅｒｎ ＰＡＮａｎａｌｙｔｉｃａｌ、Ｗｅｓｔｂｏｒｏｕｇｈ、ＭＡ）、０．８ｍＬ／分の流速でテトラヒドロフラン（Ｓｉｇｍａ-Ａｌｄｒｉｃｈ、ＧＰＣグレード）溶媒、及び３０℃で２～３ｍｇ/ｍＬのＰＴＭＰＳ濃度で１００μＬの注入体積を用いて行った。
ＳＥＣは、ＳｈｏｄｅｘカラムＫＦ-８０６Ｌ、ＫＦ-８０７Ｌ及びＫＦ-８０３を備えたＭａｌｖｅｒｎ ＯＭＮＩＳＥＣ（登録商標）Ｒｅｖｅａｌ（Ｍａｌｖｅｒｎ ＰＡＮａｎａｌｙｔｉｃａｌ、Ｗｅｓｔｂｏｒｏｕｇｈ、ＭＡ）、０．８ｍＬ／分の流速でテトラヒドロフラン（Ｓｉｇｍａ-Ａｌｄｒｉｃｈ、ＧＰＣグレード）溶媒、及び３０℃で２～３ｍｇ/ｍＬのＰＴＭＰＳ濃度で１００μＬの注入体積を用いて行った。
【0123】
結晶化度の測定
ＰＴＭＰＳ結晶化度は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）からの融解エンタルピーを使用して決定した。具体的には、ＰＴＭＰＳの融解エンタルピーは、１０℃/分の速度で測定されたＤＳＣデータを８０℃～１６０℃で積分することによって決定した。結晶化度は、次の式で計算した。
（上式中、ΔＨ(J/g)は上記のように計算されたＰＴＭＰＳ溶融エンタルピーであり、ΔＨ０(J/g)は１００％結晶性ＰＴＭＰＳの溶融エンタルピーである）。１００％結晶性ＰＴＭＰＳについて、５４Ｊ／ｇの値を使用した（参考文献：Ｇａｒｄｅｌｌａら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９８３、１０５、４５３６～４５４１から取られた）。
ＰＴＭＰＳ結晶化度は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）からの融解エンタルピーを使用して決定した。具体的には、ＰＴＭＰＳの融解エンタルピーは、１０℃/分の速度で測定されたＤＳＣデータを８０℃～１６０℃で積分することによって決定した。結晶化度は、次の式で計算した。
【数3】
【0124】
例１
テトラヒドロフランを用いた精製１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマー粉末の調製
２９ｇの１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼン（Ｇｅｌｅｓｔ Ｉｎｃ．、Ｔｅｃｈ－９５、ＣＡＳ番号２７５４－３２－７）モノマーを１２５ｍＬのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ、ＣＡＳ番号１０９－９９－９）に溶解した。この溶液をＷｈａｔｍａｎ（登録商標）グレード５２ろ紙（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ、ＷＨＡ１４５２０９０、硬化、低灰分）を通してろ過して、大きな不溶性不純物を除去した。１６００ｍＬのヘキサンで溶液を沈殿させることにより、モノマー粉末を再結晶化した(純度＞＝９９％、Ｓｉｇｍａ-Ａｌｄｒｉｃｈ)。再結晶したモノマー粉末をろ過し、真空下で室温（約２２℃）で一晩乾燥させた。１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーの最終収率は７０ｗｔ％であった。
テトラヒドロフランを用いた精製１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマー粉末の調製
２９ｇの１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼン（Ｇｅｌｅｓｔ Ｉｎｃ．、Ｔｅｃｈ－９５、ＣＡＳ番号２７５４－３２－７）モノマーを１２５ｍＬのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ、ＣＡＳ番号１０９－９９－９）に溶解した。この溶液をＷｈａｔｍａｎ（登録商標）グレード５２ろ紙（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ、ＷＨＡ１４５２０９０、硬化、低灰分）を通してろ過して、大きな不溶性不純物を除去した。１６００ｍＬのヘキサンで溶液を沈殿させることにより、モノマー粉末を再結晶化した(純度＞＝９９％、Ｓｉｇｍａ-Ａｌｄｒｉｃｈ)。再結晶したモノマー粉末をろ過し、真空下で室温（約２２℃）で一晩乾燥させた。１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーの最終収率は７０ｗｔ％であった。
【0125】
例２
ポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）（ＰＴＭＰＳ）ポリマーの調製
例１からの２０ｇの精製１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマー粉末を、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）撹拌ブレードを備えた１２５ｍＬジャケット付きガラス反応器に添加した。ディーン・スターク凝縮器を反応器の出口の１つに接続して、反応副生成物として生成された水を収集した。ガラス器具を窒素で４時間パージした。その後、１０６ｇの無水ベンゼン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）を室温（約２２℃）で反応器に添加して、モノマーを含むスラリーを作製した。反応混合物が還流温度（８０℃）に達する間に、０．８ｗｔ％（モノマー重量に基づく）のテトラメチルグアニジニウムビス－２－エチルヘキサノエート触媒を反応器に添加した。反応物を４日間還流させた（８０℃）。最後に、反応混合物を３０℃に冷却することによって反応を停止し、メタノール（２２℃）中でポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）（ＰＴＭＰＳ）ポリマーを沈殿させ、次いで真空乾燥した。乾燥したＰＴＭＰＳポリマーは、サイズ排除クロマトグラフィー(ＳＥＣ)を使用して特性化した。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、ＳＥＣによって１．８の多分散で４４７キロダルトン（ｋＤａ）であると測定された。ＰＴＭＰＳポリマーの融点は、示差走査熱量測定に基づいて１２７℃であると決定された。ＰＴＭＰＳポリマーの結晶化度パーセントは、ＤＳＣからの溶融エンタルピーに基づいて６８％であった。
ポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）（ＰＴＭＰＳ）ポリマーの調製
例１からの２０ｇの精製１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマー粉末を、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）撹拌ブレードを備えた１２５ｍＬジャケット付きガラス反応器に添加した。ディーン・スターク凝縮器を反応器の出口の１つに接続して、反応副生成物として生成された水を収集した。ガラス器具を窒素で４時間パージした。その後、１０６ｇの無水ベンゼン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）を室温（約２２℃）で反応器に添加して、モノマーを含むスラリーを作製した。反応混合物が還流温度（８０℃）に達する間に、０．８ｗｔ％（モノマー重量に基づく）のテトラメチルグアニジニウムビス－２－エチルヘキサノエート触媒を反応器に添加した。反応物を４日間還流させた（８０℃）。最後に、反応混合物を３０℃に冷却することによって反応を停止し、メタノール（２２℃）中でポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）（ＰＴＭＰＳ）ポリマーを沈殿させ、次いで真空乾燥した。乾燥したＰＴＭＰＳポリマーは、サイズ排除クロマトグラフィー(ＳＥＣ)を使用して特性化した。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、ＳＥＣによって１．８の多分散で４４７キロダルトン（ｋＤａ）であると測定された。ＰＴＭＰＳポリマーの融点は、示差走査熱量測定に基づいて１２７℃であると決定された。ＰＴＭＰＳポリマーの結晶化度パーセントは、ＤＳＣからの溶融エンタルピーに基づいて６８％であった。
【0126】
例３
１ｗｔ％溶液でのＰＴＭＰＳキャストテープの調製
例２で調製したＰＴＭＰＳポリマーを７５℃でｐ-キシレン（Ｓｉｇｍａ-Ａｌｄｒｉｃｈ）に溶解して、１ｗｔ％のｐ-キシレン溶液を作製した。溶液をガラスペトリ皿にキャストし、約２２℃で乾燥させた。乾燥したＰＴＭＰＳキャストテープをペトリ皿から剥がし、３０℃で真空下でさらに乾燥させた。乾燥したＰＴＭＰＳキャストテープは、ミツトヨデジマティックスナップゲージ(Mitutoyo America、Aurora、IL)を使用して、平均厚さが４０μｍであると測定された(３回の測定値の平均)。乾燥したＰＴＭＰＳキャストテープの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）は、テープの空気側（図１Ａ）からテープのガラス側（図１Ｂ）までの細孔構造が非対称である多孔質形態を示した。図１Ｃは、乾燥キャストＰＴＭＰＳテープの断面図の走査型電子顕微鏡写真である。ＰＴＭＰＳテープの融点は、示差走査熱量測定(ＤＳＣ)に基づいて１２６℃と測定された。ＰＴＭＰＳポリマーの％結晶化度は、ＤＳＣからの溶融エンタルピーに基づいて６７％であった。
１ｗｔ％溶液でのＰＴＭＰＳキャストテープの調製
例２で調製したＰＴＭＰＳポリマーを７５℃でｐ-キシレン（Ｓｉｇｍａ-Ａｌｄｒｉｃｈ）に溶解して、１ｗｔ％のｐ-キシレン溶液を作製した。溶液をガラスペトリ皿にキャストし、約２２℃で乾燥させた。乾燥したＰＴＭＰＳキャストテープをペトリ皿から剥がし、３０℃で真空下でさらに乾燥させた。乾燥したＰＴＭＰＳキャストテープは、ミツトヨデジマティックスナップゲージ(Mitutoyo America、Aurora、IL)を使用して、平均厚さが４０μｍであると測定された(３回の測定値の平均)。乾燥したＰＴＭＰＳキャストテープの走査型電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）は、テープの空気側（図１Ａ）からテープのガラス側（図１Ｂ）までの細孔構造が非対称である多孔質形態を示した。図１Ｃは、乾燥キャストＰＴＭＰＳテープの断面図の走査型電子顕微鏡写真である。ＰＴＭＰＳテープの融点は、示差走査熱量測定(ＤＳＣ)に基づいて１２６℃と測定された。ＰＴＭＰＳポリマーの％結晶化度は、ＤＳＣからの溶融エンタルピーに基づいて６７％であった。
【0127】
例４
一軸延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
例３で調製したＰＴＭＰＳキャストテープからの長さ４インチ（約１０．１６ｃｍ）、幅１インチ（約２．５４ｃｍ）の矩形サンプルを鋭利なカミソリの刃で切断し、２つの空気式グリップ（平面グリップ、「１１２４ポンド」（約５ｋＮ）のロードセル、及び、ビルトイン対流式オーブン（イリノイツールズワークス、マサチューセッツ州ノーウッド）を備えたＩｎｓｔｒｏｎ（登録商標）５９６５引張試験機）の間に拘束した。拘束されたＰＴＭＰＳキャストテープを、１２０℃で２０ｍｍゲージ長で１０分間、熱的に平衡化し、１２０℃で１．２５％/秒の速度で元の長さの５倍まで一軸延伸して、一軸延伸ＰＴＭＰＳ膜を形成した。一軸延伸ＰＴＭＰＳ膜の走査型電子顕微鏡写真は、微孔質ノードアンドフィブリル微細構造の存在(ガラス側、図２Ａ、空気側、図２Ｂ及び２Ｃ)を示した。一軸延伸ＰＴＭＰＳ膜は、空気側からガラス側への観察された細孔構造に関して非対称であった。ＤＳＣを使用した熱分析は、融点がより高い温度にシフトし、１３５℃～１５０℃の広い融点が存在することを示し、元のラメラ結晶が伸長鎖結晶に部分的に転化したことを示した。
一軸延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
例３で調製したＰＴＭＰＳキャストテープからの長さ４インチ（約１０．１６ｃｍ）、幅１インチ（約２．５４ｃｍ）の矩形サンプルを鋭利なカミソリの刃で切断し、２つの空気式グリップ（平面グリップ、「１１２４ポンド」（約５ｋＮ）のロードセル、及び、ビルトイン対流式オーブン（イリノイツールズワークス、マサチューセッツ州ノーウッド）を備えたＩｎｓｔｒｏｎ（登録商標）５９６５引張試験機）の間に拘束した。拘束されたＰＴＭＰＳキャストテープを、１２０℃で２０ｍｍゲージ長で１０分間、熱的に平衡化し、１２０℃で１．２５％/秒の速度で元の長さの５倍まで一軸延伸して、一軸延伸ＰＴＭＰＳ膜を形成した。一軸延伸ＰＴＭＰＳ膜の走査型電子顕微鏡写真は、微孔質ノードアンドフィブリル微細構造の存在(ガラス側、図２Ａ、空気側、図２Ｂ及び２Ｃ)を示した。一軸延伸ＰＴＭＰＳ膜は、空気側からガラス側への観察された細孔構造に関して非対称であった。ＤＳＣを使用した熱分析は、融点がより高い温度にシフトし、１３５℃～１５０℃の広い融点が存在することを示し、元のラメラ結晶が伸長鎖結晶に部分的に転化したことを示した。
【0128】
例５
二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
長さ４インチ（約１０．１６ｃｍ）、幅１インチ（約２．５４ｃｍ）の矩形サンプルを、例３で調製したＰＴＭＰＳキャストテープから鋭利なカミソリの刃で切り取り、２つの空気式グリップ（ビルトイン対流式オーブンを備えたＩｎｓｔｒｏｎ（登録商標）５９６５引張試験機）の間に拘束した。ＰＴＭＰＳキャストテープの矩形サンプルを１２０℃で １０分間、ゲージ長２０ｍｍで熱的に平衡化し、１２０℃で元の面積の５倍の面積まで１％/秒の速度で二軸延伸して、二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜を形成した。二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜のＳＥＭ顕微鏡写真は、微孔質ノードアンドフィブリル微細構造の存在を示した（ガラス側、図３Ａ、空気側、図３Ｂ及び３Ｃ、断面図、図３Ｄ）。二軸延伸膜は、空気側からガラス側まで観察された細孔構造に関して、非対称であった。
二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
長さ４インチ（約１０．１６ｃｍ）、幅１インチ（約２．５４ｃｍ）の矩形サンプルを、例３で調製したＰＴＭＰＳキャストテープから鋭利なカミソリの刃で切り取り、２つの空気式グリップ（ビルトイン対流式オーブンを備えたＩｎｓｔｒｏｎ（登録商標）５９６５引張試験機）の間に拘束した。ＰＴＭＰＳキャストテープの矩形サンプルを１２０℃で １０分間、ゲージ長２０ｍｍで熱的に平衡化し、１２０℃で元の面積の５倍の面積まで１％/秒の速度で二軸延伸して、二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜を形成した。二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜のＳＥＭ顕微鏡写真は、微孔質ノードアンドフィブリル微細構造の存在を示した（ガラス側、図３Ａ、空気側、図３Ｂ及び３Ｃ、断面図、図３Ｄ）。二軸延伸膜は、空気側からガラス側まで観察された細孔構造に関して、非対称であった。
【0129】
例６
ＰＴＭＰＳ微粉末の調製
例２で調製したとおりの２ｇのＰＴＭＰＳポリマーを、ガラス撹拌棒を取り付けたガラスジャケット付き反応器内で、８０℃で３時間、２リットルの１，３，５－トリメチルベンゼン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）中に溶解した。反応器を３℃に冷却し、次いで穏やかに撹拌しながら（１００ｒｐｍ）３℃で２４時間維持した。２４時間後に、反応器内にＰＴＭＰＳの結晶化粒子が見えた。スターラを停止し、ＰＴＭＰＳ粒子を粗いろ紙(VWR グレード 315; VWR International, Radnor, PA)を使用してろ過した。湿潤粉末を過剰のメタノール(純度＞＝９９％、Sigma-Aldrich)で５回洗浄し、２２℃で乾燥してＰＴＭＰＳの微粉末を得た。ＰＴＭＰＳ微粉末の融点は、ＤＳＣを使用して１２９℃であると決定した。ＰＴＭＰＳポリマーの％結晶化度は、ＤＳＣからの溶融エンタルピーに基づいて ８５％であった(図１０)。
ＰＴＭＰＳ微粉末の調製
例２で調製したとおりの２ｇのＰＴＭＰＳポリマーを、ガラス撹拌棒を取り付けたガラスジャケット付き反応器内で、８０℃で３時間、２リットルの１，３，５－トリメチルベンゼン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）中に溶解した。反応器を３℃に冷却し、次いで穏やかに撹拌しながら（１００ｒｐｍ）３℃で２４時間維持した。２４時間後に、反応器内にＰＴＭＰＳの結晶化粒子が見えた。スターラを停止し、ＰＴＭＰＳ粒子を粗いろ紙(VWR グレード 315; VWR International, Radnor, PA)を使用してろ過した。湿潤粉末を過剰のメタノール(純度＞＝９９％、Sigma-Aldrich)で５回洗浄し、２２℃で乾燥してＰＴＭＰＳの微粉末を得た。ＰＴＭＰＳ微粉末の融点は、ＤＳＣを使用して１２９℃であると決定した。ＰＴＭＰＳポリマーの％結晶化度は、ＤＳＣからの溶融エンタルピーに基づいて ８５％であった(図１０)。
【0130】
例７
ペースト押出ＰＴＭＰＳテープの調製
例６で調製したＰＴＭＰＳ微粉末を、ガラスジャー内で鉱油（ＰＴＭＰＳ微粉末１００ｇに対して鉱油３０ｇ）と混合した。ガラスジャーに含まれるＰＴＭＰＳ粉末/鉱油混合物をジャーミル (U.S. Stoneware, East Palestine, OH)で１時間タンブリングさせ、室温(約２２℃)で１２時間静置した。次いで、ＰＴＭＰＳ粉末／鉱油混合物を対流式オーブン内で５０℃で３０分間熱的に状態調整した。３フィート／分（約０．９１４ｍ／分）の直線速度で移動する２つの共回転ローラの間に、熱的に調整された粉末を手で注いだ。ローラを１２０℃に設定し、ローラ間のギャップを２５．４μｍに設定して、厚さ約１００μｍの凝集性ＰＴＭＰＳテープを得た。凝集性ＰＴＭＰＳテープをヘキサン(純度＞＝９９％、Sigma-Aldrich)で洗浄し、約２２℃で鉱油を除去した。ＰＴＭＰＳテープの％結晶化度は、ＤＳＣからの融解エンタルピーに基づいて８５％であった。
ペースト押出ＰＴＭＰＳテープの調製
例６で調製したＰＴＭＰＳ微粉末を、ガラスジャー内で鉱油（ＰＴＭＰＳ微粉末１００ｇに対して鉱油３０ｇ）と混合した。ガラスジャーに含まれるＰＴＭＰＳ粉末/鉱油混合物をジャーミル (U.S. Stoneware, East Palestine, OH)で１時間タンブリングさせ、室温(約２２℃)で１２時間静置した。次いで、ＰＴＭＰＳ粉末／鉱油混合物を対流式オーブン内で５０℃で３０分間熱的に状態調整した。３フィート／分（約０．９１４ｍ／分）の直線速度で移動する２つの共回転ローラの間に、熱的に調整された粉末を手で注いだ。ローラを１２０℃に設定し、ローラ間のギャップを２５．４μｍに設定して、厚さ約１００μｍの凝集性ＰＴＭＰＳテープを得た。凝集性ＰＴＭＰＳテープをヘキサン(純度＞＝９９％、Sigma-Aldrich)で洗浄し、約２２℃で鉱油を除去した。ＰＴＭＰＳテープの％結晶化度は、ＤＳＣからの融解エンタルピーに基づいて８５％であった。
【0131】
例８
延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
例７の凝集性ＰＴＭＰＳテープからの長さ４インチ（１０．１６ｃｍ）、幅１インチ（約２．５４ｃｍ）の矩形サンプルを、鋭利なカミソリの刃を使用して切断し、サンプルを２つの空気式グリップ（ビルトイン対流式オーブンを備えたＩｎｓｔｒｏｎ（登録商標）５９６５引張試験機）の間に拘束した。拘束されたＰＴＭＰＳテープサンプルは、ゲージ長１０ｍｍで１０分間１２０℃で熱的に平衡化された後、１％/秒の速度で元の長さの２倍まで一軸延伸され、一軸延伸ＰＴＭＰＳ膜が形成された。延伸ＰＴＭＰＳ膜のＳＥＭ顕微鏡写真は、多孔質ノードアンドフィブリル微細構造を示した（図４）。
延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
例７の凝集性ＰＴＭＰＳテープからの長さ４インチ（１０．１６ｃｍ）、幅１インチ（約２．５４ｃｍ）の矩形サンプルを、鋭利なカミソリの刃を使用して切断し、サンプルを２つの空気式グリップ（ビルトイン対流式オーブンを備えたＩｎｓｔｒｏｎ（登録商標）５９６５引張試験機）の間に拘束した。拘束されたＰＴＭＰＳテープサンプルは、ゲージ長１０ｍｍで１０分間１２０℃で熱的に平衡化された後、１％/秒の速度で元の長さの２倍まで一軸延伸され、一軸延伸ＰＴＭＰＳ膜が形成された。延伸ＰＴＭＰＳ膜のＳＥＭ顕微鏡写真は、多孔質ノードアンドフィブリル微細構造を示した（図４）。
【0132】
例９
テトラメチルグアニジニウムビス-２-エチルヘキサノエート触媒を使用したＰＴＭＰＳポリマーの調製
例１からの１６ｇの精製１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーを、ＰＴＦＥ攪拌ブレードを備えた１２５ｍＬジャケット付きガラス反応器に添加した。ディーン・スターク凝縮器を反応器の出口の１つに取り付け、反応副生成物として生成される水を集めた。ガラス器具を窒素で数時間パージした。その後、８５ｇの無水ベンゼン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）を約２２℃で反応器に添加して、モノマーを含むスラリーを作製した。反応混合物が還流温度（８０℃）に達する間に、０．８４ｗｔ％（モノマー粉末の重量に基づく）のテトラメチルグアニジニウムビス－２－エチルヘキサノエート触媒（一般的な方法に記載のように調製）を反応器に添加した。反応を還流下（８０℃）で３日間行った。３日目に、反応混合物を３０℃に冷却することにより、反応を停止させ、室温（約２２℃）でメタノール（Ｓｉｇｍａ-Ａｌｄｒｉｃｈ、＞９９％）中でＰＴＭＰＳポリマーを沈殿させ、次いで真空下で乾燥した。乾燥したＰＴＭＰＳポリマーは、サイズ排除クロマトグラフィーを使用して特性化された。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、１．７の多分散で３５６キロダルトン（ｋＤａ）であると決定された。
テトラメチルグアニジニウムビス-２-エチルヘキサノエート触媒を使用したＰＴＭＰＳポリマーの調製
例１からの１６ｇの精製１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーを、ＰＴＦＥ攪拌ブレードを備えた１２５ｍＬジャケット付きガラス反応器に添加した。ディーン・スターク凝縮器を反応器の出口の１つに取り付け、反応副生成物として生成される水を集めた。ガラス器具を窒素で数時間パージした。その後、８５ｇの無水ベンゼン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）を約２２℃で反応器に添加して、モノマーを含むスラリーを作製した。反応混合物が還流温度（８０℃）に達する間に、０．８４ｗｔ％（モノマー粉末の重量に基づく）のテトラメチルグアニジニウムビス－２－エチルヘキサノエート触媒（一般的な方法に記載のように調製）を反応器に添加した。反応を還流下（８０℃）で３日間行った。３日目に、反応混合物を３０℃に冷却することにより、反応を停止させ、室温（約２２℃）でメタノール（Ｓｉｇｍａ-Ａｌｄｒｉｃｈ、＞９９％）中でＰＴＭＰＳポリマーを沈殿させ、次いで真空下で乾燥した。乾燥したＰＴＭＰＳポリマーは、サイズ排除クロマトグラフィーを使用して特性化された。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、１．７の多分散で３５６キロダルトン（ｋＤａ）であると決定された。
【0133】
例１０
ＰＴＭＰＳキャストテープの調製－メタノール相誘起分離－２０ｗｔ％
例９で調製したＰＴＭＰＳポリマーをｐ－キシレン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）に溶解して２０ｗｔ％溶液を作った。この溶液を、３ミル(約７６．２μｍ)のドローダウンバーを使用してガラス板にコーティングした。湿潤テープを、溶媒誘起相分離のために、すぐにメタノール(純度＞９９％、Sigma Aldrich)浴に沈めた。数分後、不透明なＰＴＭＰＳキャストテープがガラス板から剥がされた。ＰＴＭＰＳキャストテープを約２２℃で空気乾燥して余分な溶媒を除去した。乾燥したキャストＰＴＭＰＳテープは、２５～３０μｍの範囲の厚さを有することが決定された。０．２５ｍＬのメタノールを適用した後に、乾燥したＰＴＭＰＳキャストテープがより透明になり、ＰＴＭＰＳキャストテープが微孔質であることを示していることが注目された（断面図、図５）。微孔質ＰＴＭＰＳテープのマトリックス弾性率及びマトリックス引張強度は、動的機械分析器（Dynamic Mechanical Analyzer）(DMA、TA Instruments)を使用して測定した。ＰＴＭＰＳキャストテープは、２１２ＭＰａのマトリックス弾性率及び６．５ＭＰａのマトリックス引張強度を有することが決定された。ＰＴＭＰＳキャストテープは、ヘリウム比重計（Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ ＡｃｃｕＰｙｃ １３３０；Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｃｏｒｐ．、Ｎｏｒｃｒｏｓｓ、ＧＡ）によって３５％の気孔率を有することが決定された。ＰＴＭＰＳテープの％結晶化度は、ＤＳＣからの融解エンタルピーに基づいて７１％であった。
ＰＴＭＰＳキャストテープの調製－メタノール相誘起分離－２０ｗｔ％
例９で調製したＰＴＭＰＳポリマーをｐ－キシレン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）に溶解して２０ｗｔ％溶液を作った。この溶液を、３ミル(約７６．２μｍ)のドローダウンバーを使用してガラス板にコーティングした。湿潤テープを、溶媒誘起相分離のために、すぐにメタノール(純度＞９９％、Sigma Aldrich)浴に沈めた。数分後、不透明なＰＴＭＰＳキャストテープがガラス板から剥がされた。ＰＴＭＰＳキャストテープを約２２℃で空気乾燥して余分な溶媒を除去した。乾燥したキャストＰＴＭＰＳテープは、２５～３０μｍの範囲の厚さを有することが決定された。０．２５ｍＬのメタノールを適用した後に、乾燥したＰＴＭＰＳキャストテープがより透明になり、ＰＴＭＰＳキャストテープが微孔質であることを示していることが注目された（断面図、図５）。微孔質ＰＴＭＰＳテープのマトリックス弾性率及びマトリックス引張強度は、動的機械分析器（Dynamic Mechanical Analyzer）(DMA、TA Instruments)を使用して測定した。ＰＴＭＰＳキャストテープは、２１２ＭＰａのマトリックス弾性率及び６．５ＭＰａのマトリックス引張強度を有することが決定された。ＰＴＭＰＳキャストテープは、ヘリウム比重計（Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ ＡｃｃｕＰｙｃ １３３０；Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｃｏｒｐ．、Ｎｏｒｃｒｏｓｓ、ＧＡ）によって３５％の気孔率を有することが決定された。ＰＴＭＰＳテープの％結晶化度は、ＤＳＣからの融解エンタルピーに基づいて７１％であった。
【0134】
例１１
ジクロロメタンを使用した精製１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーの調製
２５ｇの１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマー（Ｇｅｌｅｓｔ Ｉｎｃ．、Ｔｅｃｈ-９５）を９３６ｍＬのジクロロメタン（ＤＣＭ、Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ）に溶解して、透明な溶液を調製した。この溶液をＷＨＡＴＭＡＮ（登録商標）グレード５２ろ紙を通してろ過して、大きな不溶性不純物を除去した。１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーは、溶液を－３℃で一晩冷蔵することによりろ過溶液から再結晶化した。再結晶した１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマー粉末を、粗いろ紙（ＶＷＲグレード３１５）を使用してろ過し、真空下で６時間（３０℃で）乾燥させた。１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマー粉末の最終収率は７０ｗｔ％であった。
ジクロロメタンを使用した精製１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーの調製
２５ｇの１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマー（Ｇｅｌｅｓｔ Ｉｎｃ．、Ｔｅｃｈ-９５）を９３６ｍＬのジクロロメタン（ＤＣＭ、Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ）に溶解して、透明な溶液を調製した。この溶液をＷＨＡＴＭＡＮ（登録商標）グレード５２ろ紙を通してろ過して、大きな不溶性不純物を除去した。１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーは、溶液を－３℃で一晩冷蔵することによりろ過溶液から再結晶化した。再結晶した１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマー粉末を、粗いろ紙（ＶＷＲグレード３１５）を使用してろ過し、真空下で６時間（３０℃で）乾燥させた。１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマー粉末の最終収率は７０ｗｔ％であった。
【0135】
例１２
１，１，３，３-テトラメチルグアニジン触媒を用いたＰＴＭＰＳ粉末の調製
例１１からの９ｇの精製１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーを、ＰＴＦＥ撹拌ブレードを備えた１２５ｍＬジャケット付きガラス反応器に添加した。ディーン・スターク凝縮器を反応器の出口の１つに取り付け、反応副生成物として生成される水を集めた。反応装置全体を窒素グローブボックスに入れた。その後、４０ｇの無水トルエン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）を室温（約２２℃）で反応器に添加して、スラリーを作製した。反応混合物が還流温度（１１５℃）に達する間に、０．２４ｇの１，１，３，３－テトラメチルグアニジン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ、９９％、カタログ２４１７６８－１００ＭＬ）触媒を反応器に添加した。反応を還流下（１１５℃）で７日間行った。最後に、反応混合物を３０℃に冷却することにより反応を停止した。ＰＴＭＰＳポリマーを室温（約２２℃）のメタノール中に沈殿させ、次いで真空下で乾燥させた。乾燥したＰＴＭＰＳポリマーは、サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）を使用して特性化した。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、２の多分散で１００万ダルトン(１ＭＤａ)であると決定された。
１，１，３，３-テトラメチルグアニジン触媒を用いたＰＴＭＰＳ粉末の調製
例１１からの９ｇの精製１，４ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼンモノマーを、ＰＴＦＥ撹拌ブレードを備えた１２５ｍＬジャケット付きガラス反応器に添加した。ディーン・スターク凝縮器を反応器の出口の１つに取り付け、反応副生成物として生成される水を集めた。反応装置全体を窒素グローブボックスに入れた。その後、４０ｇの無水トルエン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）を室温（約２２℃）で反応器に添加して、スラリーを作製した。反応混合物が還流温度（１１５℃）に達する間に、０．２４ｇの１，１，３，３－テトラメチルグアニジン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ、９９％、カタログ２４１７６８－１００ＭＬ）触媒を反応器に添加した。反応を還流下（１１５℃）で７日間行った。最後に、反応混合物を３０℃に冷却することにより反応を停止した。ＰＴＭＰＳポリマーを室温（約２２℃）のメタノール中に沈殿させ、次いで真空下で乾燥させた。乾燥したＰＴＭＰＳポリマーは、サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）を使用して特性化した。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、２の多分散で１００万ダルトン(１ＭＤａ)であると決定された。
【0136】
例１３
相誘起分離のためのメタノールを使用したＰＴＭＰＳキャストテープの調製-１０ｗｔ％
例１２で調製したＰＴＭＰＳポリマーをｐ－キシレン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）に溶解して１０ｗｔ％溶液を作製した。この溶液を、３ミル(約７６．２μｍ)のドローダウンバーを使用してガラス板にコーティングした。湿潤テープを、溶媒誘起相分離のために、２２℃のメタノール(Sigma-Aldrich)浴に直ちに沈めた。数分後に、不透明なＰＴＭＰＳキャストテープをガラス板から剥がした。ＰＴＭＰＳキャストテープを空気中(約２２℃)で乾燥させて、厚さ１７μｍを得た。０．２５ｍＬのメタノールを適用した後に、乾燥ＰＴＭＰＳキャストテープがより透明になり、ＰＴＭＰＳキャストテープが微孔質であることを示していることが注目された。ＰＴＭＰＳキャストテープの気孔率は、ヘリウム比重計（Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ Ａｃｃｕｐｙｃ １３３０）によって決定して、３４％であった。
相誘起分離のためのメタノールを使用したＰＴＭＰＳキャストテープの調製-１０ｗｔ％
例１２で調製したＰＴＭＰＳポリマーをｐ－キシレン（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）に溶解して１０ｗｔ％溶液を作製した。この溶液を、３ミル(約７６．２μｍ)のドローダウンバーを使用してガラス板にコーティングした。湿潤テープを、溶媒誘起相分離のために、２２℃のメタノール(Sigma-Aldrich)浴に直ちに沈めた。数分後に、不透明なＰＴＭＰＳキャストテープをガラス板から剥がした。ＰＴＭＰＳキャストテープを空気中(約２２℃)で乾燥させて、厚さ１７μｍを得た。０．２５ｍＬのメタノールを適用した後に、乾燥ＰＴＭＰＳキャストテープがより透明になり、ＰＴＭＰＳキャストテープが微孔質であることを示していることが注目された。ＰＴＭＰＳキャストテープの気孔率は、ヘリウム比重計（Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ Ａｃｃｕｐｙｃ １３３０）によって決定して、３４％であった。
【0137】
例１４
相誘起分離のためにイソプロパノールを使用したＰＴＭＰＳキャストテープの調製－１０ｗｔ％
例１２で調製したＰＴＭＰＳポリマーをｐ-キシレン（Ｓｉｇｍａ-Ａｌｄｒｉｃｈ）に溶解して１０ｗｔ％溶液を作製した。この溶液を、３ミル(約７６．２μｍ)のドローダウンバーを使用してガラス板にコーティングした。ＰＴＭＰＳキャストテープの溶媒誘起相分離のために、湿潤テープをすぐに２２℃のイソプロパノール（ＩＰＡ）（純度＞＝９９％、Sigma-Aldrich）浴に沈めた。１０分後に、不透明なＰＴＭＰＳキャストテープがガラス板から剥がされた。ＰＴＭＰＳキャストテープを空気中(約２２℃)で乾燥させて、厚さ３０μｍを得た。乾燥したＰＴＭＰＳキャストテープは、０．２５ｍＬのメタノールを適用した後、より透明になり、ＰＴＭＰＳキャストテープが微孔質であることを示した。ＰＴＭＰＳキャストテープの気孔率は、ヘリウム比重計（Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ Ａｃｃｕｐｙｃ １３３０）によって決定して、６７％であった。
相誘起分離のためにイソプロパノールを使用したＰＴＭＰＳキャストテープの調製－１０ｗｔ％
例１２で調製したＰＴＭＰＳポリマーをｐ-キシレン（Ｓｉｇｍａ-Ａｌｄｒｉｃｈ）に溶解して１０ｗｔ％溶液を作製した。この溶液を、３ミル(約７６．２μｍ)のドローダウンバーを使用してガラス板にコーティングした。ＰＴＭＰＳキャストテープの溶媒誘起相分離のために、湿潤テープをすぐに２２℃のイソプロパノール（ＩＰＡ）（純度＞＝９９％、Sigma-Aldrich）浴に沈めた。１０分後に、不透明なＰＴＭＰＳキャストテープがガラス板から剥がされた。ＰＴＭＰＳキャストテープを空気中(約２２℃)で乾燥させて、厚さ３０μｍを得た。乾燥したＰＴＭＰＳキャストテープは、０．２５ｍＬのメタノールを適用した後、より透明になり、ＰＴＭＰＳキャストテープが微孔質であることを示した。ＰＴＭＰＳキャストテープの気孔率は、ヘリウム比重計（Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ Ａｃｃｕｐｙｃ １３３０）によって決定して、６７％であった。
【0138】
例１５
相誘起分離のためにイソプロパノールを使用したＰＴＭＰＳキャストテープの調製－７ｗｔ％
例１２で調製したＰＴＭＰＳポリマーをｐ-キシレンに溶解して７ｗｔ％溶液を作製した。この溶液を、３ミル(約７６．２μｍ)のドローダウンバーを使用してガラス板にコーティングした。ＰＴＭＰＳキャストテープの溶媒誘起相分離のために、湿潤テープをすぐにイソプロパノール（ＩＰＡ）（Sigma-Aldrich）浴に沈めた。１０分後に、不透明なＰＴＭＰＳテープがガラス板から剥がされた。ＰＴＭＰＳキャストテープを空気中(約２２℃)で乾燥させて、厚さ２０μｍを得た。乾燥したＰＴＭＰＳキャストテープは、０．２５ ｍＬのメタノールを適用した後に、より透明になり、ＰＴＭＰＳキャストテープが微孔質であることを示した。ＰＴＭＰＳキャストテープの気孔率は、ヘリウム比重計で測定して、４４％であった。
相誘起分離のためにイソプロパノールを使用したＰＴＭＰＳキャストテープの調製－７ｗｔ％
例１２で調製したＰＴＭＰＳポリマーをｐ-キシレンに溶解して７ｗｔ％溶液を作製した。この溶液を、３ミル(約７６．２μｍ)のドローダウンバーを使用してガラス板にコーティングした。ＰＴＭＰＳキャストテープの溶媒誘起相分離のために、湿潤テープをすぐにイソプロパノール（ＩＰＡ）（Sigma-Aldrich）浴に沈めた。１０分後に、不透明なＰＴＭＰＳテープがガラス板から剥がされた。ＰＴＭＰＳキャストテープを空気中(約２２℃)で乾燥させて、厚さ２０μｍを得た。乾燥したＰＴＭＰＳキャストテープは、０．２５ ｍＬのメタノールを適用した後に、より透明になり、ＰＴＭＰＳキャストテープが微孔質であることを示した。ＰＴＭＰＳキャストテープの気孔率は、ヘリウム比重計で測定して、４４％であった。
【0139】
例１６
延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
長さ４インチ（約１０．１６ｃｍ）、幅１インチ（約２．５４ｃｍ）の矩形サンプルを、例１４で調製したＰＴＭＰＳキャストテープから鋭利なカミソリの刃を用いて切り取った。ＰＴＭＰＳテープのサンプルを、２つの空気式グリップ(ビルトイン対流式オーブンを備えたＩｎｓｔｒｏｎ（登録商標）５９６５引張試験機)の間で拘束した。拘束されたテープを１２０℃で１０分間、ゲージ長２０ｍｍで熱的に平衡化した後に、１０％/秒の速度で元の長さの２倍まで一軸延伸して、延伸ＰＴＭＰＳ膜を形成した。延伸ＰＴＭＰＳ膜のＳＥＭ顕微鏡写真は、それが多孔質ノードアンドフィブリル微細構造を含むことを示した（図６）。０．２５ｍＬのメタノールを適用した後に、延伸ＰＴＭＰＳ膜はより透明になった(これは、延伸ＰＴＭＰＳ膜が微孔質であることを示している)。延伸ＰＴＭＰＳ膜の気孔率は、ヘリウム比重計で測定して、８７％であった。微孔質ＰＴＭＰＳ膜の弾性率及びマトリックス引張強度は、動的機械分析器（Dynamic Mechanical Analyzer） (DMA、TA Instruments) を使用して決定した。延伸ＰＴＭＰＳ膜は、２７８ＭＰａの弾性率及び５ＭＰａのマトリックス引張強度を有していた。
延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
長さ４インチ（約１０．１６ｃｍ）、幅１インチ（約２．５４ｃｍ）の矩形サンプルを、例１４で調製したＰＴＭＰＳキャストテープから鋭利なカミソリの刃を用いて切り取った。ＰＴＭＰＳテープのサンプルを、２つの空気式グリップ(ビルトイン対流式オーブンを備えたＩｎｓｔｒｏｎ（登録商標）５９６５引張試験機)の間で拘束した。拘束されたテープを１２０℃で１０分間、ゲージ長２０ｍｍで熱的に平衡化した後に、１０％/秒の速度で元の長さの２倍まで一軸延伸して、延伸ＰＴＭＰＳ膜を形成した。延伸ＰＴＭＰＳ膜のＳＥＭ顕微鏡写真は、それが多孔質ノードアンドフィブリル微細構造を含むことを示した（図６）。０．２５ｍＬのメタノールを適用した後に、延伸ＰＴＭＰＳ膜はより透明になった(これは、延伸ＰＴＭＰＳ膜が微孔質であることを示している)。延伸ＰＴＭＰＳ膜の気孔率は、ヘリウム比重計で測定して、８７％であった。微孔質ＰＴＭＰＳ膜の弾性率及びマトリックス引張強度は、動的機械分析器（Dynamic Mechanical Analyzer） (DMA、TA Instruments) を使用して決定した。延伸ＰＴＭＰＳ膜は、２７８ＭＰａの弾性率及び５ＭＰａのマトリックス引張強度を有していた。
【0140】
例１７
プレスされた膜からの延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
長さ７６ｍｍ、幅６０ｍｍのサイズを有する、例１４で調製したＰＴＭＰＳキャストテープからの矩形サンプルを、鋭利なカミソリの刃を使用して切断し、Ｋａｐｔｏｎ（登録商標）フィルム（DePont, de Nemours Inc.、ウィルミントン、デラウェア州から市販されているポリイミドフィルム）の間でプレスし、８０℃で１００ｐｓｉ(約６８９ｋＰａ)の圧力で５分間ホットプレス(Pasadena Hydraulics Inc.、City of Industry、CA)で同じ寸法の研磨された鋼板で覆った。長さ３０ｍｍ、幅２４ｍｍのサンプルを、プレスされた ＰＴＭＰＳキャストテープから鋭いカミソリの刃を使用して切断し、２つの空気式グリップ(インビルト対流式オーブンを備えたＩｎｓｔｒｏｎ（登録商標）５９６５引張試験機) の間に拘束した。拘束されたＰＴＭＰＳキャストテープを１２０℃で１０分間、ゲージ長２０ｍｍで熱的に平衡化させた後に、１２０℃で元の長さの３．７５倍まで１０％/秒の速度で一軸延伸して、延伸ＰＴＭＰＳ膜を形成した。延伸ＰＴＭＰＳ膜のＳＥＭ顕微鏡写真は、延伸ＰＴＭＰＳ膜が多孔質ノードアンドフィブリル微細構造を有することを示した（図７）。ノードアンドフィブリル微細構造を有する延伸ＰＴＭＰＳ膜は、０．２５ｍＬのメタノールを適用した後により透明になり、延伸ＰＴＭＰＳ膜が微孔質であることを示した。延伸ＰＴＭＰＳ膜の気孔率は、ヘリウム比重計で測定して６０％であった。機械（一軸延伸方向に沿った）及び横断（一軸延伸方向に垂直）方向の両方で動的機械分析器（ＤＭＡ、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ）を使用して、微孔質フィルムの弾性率及びマトリックス引張強度を決定した。微孔質ＰＴＭＰＳ膜は、機械方向に７９５ＭＰａのマトリックス弾性率及び３３ＭＰａのマトリックス引張強度、横断方向に沿って１６４ＭＰａのマトリックス弾性率及び４ＭＰａのマトリックス引張強度を有していた。
プレスされた膜からの延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
長さ７６ｍｍ、幅６０ｍｍのサイズを有する、例１４で調製したＰＴＭＰＳキャストテープからの矩形サンプルを、鋭利なカミソリの刃を使用して切断し、Ｋａｐｔｏｎ（登録商標）フィルム（DePont, de Nemours Inc.、ウィルミントン、デラウェア州から市販されているポリイミドフィルム）の間でプレスし、８０℃で１００ｐｓｉ(約６８９ｋＰａ)の圧力で５分間ホットプレス(Pasadena Hydraulics Inc.、City of Industry、CA)で同じ寸法の研磨された鋼板で覆った。長さ３０ｍｍ、幅２４ｍｍのサンプルを、プレスされた ＰＴＭＰＳキャストテープから鋭いカミソリの刃を使用して切断し、２つの空気式グリップ(インビルト対流式オーブンを備えたＩｎｓｔｒｏｎ（登録商標）５９６５引張試験機) の間に拘束した。拘束されたＰＴＭＰＳキャストテープを１２０℃で１０分間、ゲージ長２０ｍｍで熱的に平衡化させた後に、１２０℃で元の長さの３．７５倍まで１０％/秒の速度で一軸延伸して、延伸ＰＴＭＰＳ膜を形成した。延伸ＰＴＭＰＳ膜のＳＥＭ顕微鏡写真は、延伸ＰＴＭＰＳ膜が多孔質ノードアンドフィブリル微細構造を有することを示した（図７）。ノードアンドフィブリル微細構造を有する延伸ＰＴＭＰＳ膜は、０．２５ｍＬのメタノールを適用した後により透明になり、延伸ＰＴＭＰＳ膜が微孔質であることを示した。延伸ＰＴＭＰＳ膜の気孔率は、ヘリウム比重計で測定して６０％であった。機械（一軸延伸方向に沿った）及び横断（一軸延伸方向に垂直）方向の両方で動的機械分析器（ＤＭＡ、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ）を使用して、微孔質フィルムの弾性率及びマトリックス引張強度を決定した。微孔質ＰＴＭＰＳ膜は、機械方向に７９５ＭＰａのマトリックス弾性率及び３３ＭＰａのマトリックス引張強度、横断方向に沿って１６４ＭＰａのマトリックス弾性率及び４ＭＰａのマトリックス引張強度を有していた。
【0141】
例１８
二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
ＰＴＭＰＳポリマーは、例１２で概説した方法を使用して重合された。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、１．５の多分散で６５０（ｋＤａ）であると決定された。次いで、ＰＴＭＰＳポリマーをｐ－キシレンに溶解して１０ｗｔ％溶液を作製した。この溶液を、１０ミル（約２５４μｍ）のドローダウンバーを使用してガラス板上にコーティングしてキャストフィルムを形成した。ＰＴＭＰＳキャストテープの溶媒誘起相分離のために、湿潤テープをイソプロパノール（ＩＰＡ）（Sigma-Aldrich）浴に直ちに沈めた。
二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
ＰＴＭＰＳポリマーは、例１２で概説した方法を使用して重合された。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、１．５の多分散で６５０（ｋＤａ）であると決定された。次いで、ＰＴＭＰＳポリマーをｐ－キシレンに溶解して１０ｗｔ％溶液を作製した。この溶液を、１０ミル（約２５４μｍ）のドローダウンバーを使用してガラス板上にコーティングしてキャストフィルムを形成した。ＰＴＭＰＳキャストテープの溶媒誘起相分離のために、湿潤テープをイソプロパノール（ＩＰＡ）（Sigma-Aldrich）浴に直ちに沈めた。
【0142】
１０分後に不透明なＰＴＭＰＳテープをガラス板から剥がした。ＰＴＭＰＳキャストテープを空気中(約２２℃)で乾燥させて、厚さ１４６μｍを得た。ATEQ D570 を使用してＰＴＭＰＳキャストテープを通る空気流を測定し、２．２Ｌ/時であると決定された。長さ３．２インチ(約８．１ｃｍ)、幅２．８インチ(約７．２ｃｍ)の矩形サンプルを、鋭利なカミソリの刃を使用してＰＴＭＰＳキャストテープから切り取り、ＰＴＭＰＳテープサンプルを２つの空気式グリップ (ビルトイン対流式オーブンを備えたＩｎｓｔｒｏｎ（登録商標）５９６５引張試験機）の間に拘束した。拘束されたＰＴＭＰＳキャストテープを１１１℃で５分間熱的に平衡化した後に、初期ゲージ長を２０ｍｍにして、１００％/秒の速度で元の長さの３倍まで一軸方向に延伸し、延伸ＰＴＭＰＳ膜を形成した。延伸された方向は機械方向（ＭＤ）と呼ばれ、ＭＤから９０°の方向は横断方向（ＴＤ）と呼ばれる。延伸ＰＴＭＰＳ膜をグリップから取り出し、９０°回転させ、ＴＤがグリップの移動方向に沿うように２つの空気圧式グリップの間に再び拘束した。拘束されたＰＴＭＰＳ膜は、１１１℃で５分間熱的に平衡化され、その後、２０ｍｍの初期ゲージ長で１００％/秒の速度で元の長さの２倍まで一軸延伸され、二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜を得た。二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜のＳＥＭ顕微鏡写真は、多孔質ノードアンドフィブリル微細構造を示した（図８）。また、図１２は、フィブリルを構成するより高い融点の伸長鎖結晶の存在を示すＤＳＣ曲線を描写している。ATEQ D570を使用して二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜を通る空気流を測定し、４５．３Ｌ／時であると決定した。
【0143】
例１９
同時二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
ＰＴＭＰＳポリマーを、例１２で概説した方法を使用して重合した。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、１．７の多分散で５５０（ｋＤａ）であると決定された。ＰＴＭＰＳポリマーをｐ-キシレンに溶解して１０ｗｔ％溶液を作成した。ＰＴＭＰＳポリマー溶液を、１０ミル(約２５４μｍ)のドローダウンバーを使用してガラス板上にコーティングし、キャストフィルムを形成した。ＰＴＭＰＳキャストテープの溶媒誘起相分離のために、湿潤テープをイソプロパノール（ＩＰＡ）（Sigma-Aldrich）浴に直ちに沈めた。
同時二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜の調製
ＰＴＭＰＳポリマーを、例１２で概説した方法を使用して重合した。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、１．７の多分散で５５０（ｋＤａ）であると決定された。ＰＴＭＰＳポリマーをｐ-キシレンに溶解して１０ｗｔ％溶液を作成した。ＰＴＭＰＳポリマー溶液を、１０ミル(約２５４μｍ)のドローダウンバーを使用してガラス板上にコーティングし、キャストフィルムを形成した。ＰＴＭＰＳキャストテープの溶媒誘起相分離のために、湿潤テープをイソプロパノール（ＩＰＡ）（Sigma-Aldrich）浴に直ちに沈めた。
【0144】
不透明なＰＴＭＰＳテープを、１０分後にガラス板から剥した。ＰＴＭＰＳキャストテープを空気中（約２２℃）で乾燥させた。乾燥したＰＴＭＰＳキャストテープをＫａｐｔｏｎ（登録商標）フィルム（ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ Ｉｎｃ．、Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ、ＤＥから市販されているポリイミドフィルム）の間で圧縮し、ホットプレス（Ｐａｓａｄｅｎａ Ｈｙｄｒａｕｌｉｃｓ Ｉｎｃ．、Ｃｉｔｙ ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ、ＣＡ)上で、８０℃、１０ｐｓｉ(約６８．９ｋＰａ)の圧力で５分間、同じ寸法の研磨スチール板で覆った。ＰＴＭＰＳキャストテープの最終的な厚さは１１０μｍであった。次に、圧縮されたＰＴＭＰＳキャストテープをＫａｒｏ ＩＶ 二軸延伸機 (Bruckner Group, GmbH から市販)に装填し、１２０℃で３分間熱的に平衡化した後に、ＰＴＭＰＳキャストテープを１０％/秒で９の面積比に到達するまで同時に二軸延伸させた。同時に二軸延伸されたＰＴＭＰＳ膜のＳＥＭ顕微鏡写真は、多孔質ノードアンドフィブリル微細構造を示した（図１１）。同時に二軸延伸されたＰＴＭＰＳ膜の気孔率は、ヘリウム比重計で測定して、８４％であった。同時に二軸延伸された多孔質ＰＴＭＰＳ膜の弾性率及びマトリックス引張強度を、動的機械分析器（Dynamic Mechanical Analyzer）(DMA、TA Instruments)を使用してそれぞれ測定した。同時二軸延伸ＰＴＭＰＳ膜は、１８７ＭＰａの弾性率及び９．６ＭＰａのマトリックス引張強度を有していた。
【0145】
例２０
ＰＴＭＰＳ微粉末のビーズへのペースト押出
ＰＴＭＰＳポリマーを、例１２で概説した方法を使用して重合した。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、１．６の多分散で６８０（ｋＤａ）であると決定された。ＰＴＭＰＳポリマーをジクロロメタン（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ 純度＞９９．５％）に溶解して、５ｗｔ％溶液を作製した。ＰＴＭＰＳ溶液を、プラスチック容器中の等質量部の水－界面活性剤溶液に添加した。この混合物を、ＩＫＡ Ｔ５０ Ｂａｓｉｃホモジナイザー（ＩＫＡ（登録商標）-Ｗｏｒｋｓ，Ｉｎｃ．、ノースカロライナ州ウィルミントン）を使用して、１０，０００ｒｐｍで１０分間、２５℃で乳化した。次いで、エマルションを２５０ｍＬガラスジャケット付き反応器に移し、２５℃で穏やかに撹拌することによりエマルションからジクロロメタンを除去して、水中のＰＴＭＰＳ粒子を得た。ＰＴＭＰＳ粒子を、塩を添加することによって水相から沈殿させ、等体積の水で５回洗浄して過剰の界面活性剤及び塩を除去した。最後に、ＰＴＭＰＳ粒子を粗いろ紙(VWR グレード 315)で水からろ過し、３０℃で２４時間真空乾燥してＰＴＭＰＳ微粉末を得た。
ＰＴＭＰＳ微粉末のビーズへのペースト押出
ＰＴＭＰＳポリマーを、例１２で概説した方法を使用して重合した。ＰＴＭＰＳポリマーの重量平均分子量は、１．６の多分散で６８０（ｋＤａ）であると決定された。ＰＴＭＰＳポリマーをジクロロメタン（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ 純度＞９９．５％）に溶解して、５ｗｔ％溶液を作製した。ＰＴＭＰＳ溶液を、プラスチック容器中の等質量部の水－界面活性剤溶液に添加した。この混合物を、ＩＫＡ Ｔ５０ Ｂａｓｉｃホモジナイザー（ＩＫＡ（登録商標）-Ｗｏｒｋｓ，Ｉｎｃ．、ノースカロライナ州ウィルミントン）を使用して、１０，０００ｒｐｍで１０分間、２５℃で乳化した。次いで、エマルションを２５０ｍＬガラスジャケット付き反応器に移し、２５℃で穏やかに撹拌することによりエマルションからジクロロメタンを除去して、水中のＰＴＭＰＳ粒子を得た。ＰＴＭＰＳ粒子を、塩を添加することによって水相から沈殿させ、等体積の水で５回洗浄して過剰の界面活性剤及び塩を除去した。最後に、ＰＴＭＰＳ粒子を粗いろ紙(VWR グレード 315)で水からろ過し、３０℃で２４時間真空乾燥してＰＴＭＰＳ微粉末を得た。
【0146】
ＰＴＭＰＳ微粉末を、ガラスジャー内でＩｓｏｐａｒ（商標）Ｖ油（Ｅｘｘｏｎ Ｍｏｂｉｌｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）（ＰＴＭＰＳ微粉末１００ｇに対して油３０ｇ）と混合した。ガラスジャーに含まれるＰＴＭＰＳ粉末/油混合物をジャーミル (U.S. Stoneware, Eastpalestine, OH)で１時間タンブリングさせ、室温(約２２℃)で１２時間放置した。次いで、ＰＴＭＰＳ粉末／油混合物を対流式オーブン内で５０℃で３０分間熱的に調整した。ＰＴＭＰＳ粉末/オイル混合物を、出口に９：１の縮小ダイを備えたアルミニウムの筒形キャビティに注ぎ、１２３℃で５分間平衡化した。粉末／油混合物を、９：１縮小ダイを通して１ｍｍ／秒でペースト押出して、凝集ＰＴＭＰＳ筒形ビーズを形成した。
【0147】
本出願の発明を一般的にも特定の実施形態に関しても上記に記載した。本開示の範囲から逸脱することなく、実施形態に様々な変更及び変形を加えることができることが当業者に明らかであろう。したがって、実施形態は、添付の特許請求の範囲及びそれらの均等形態の範囲内にある限り、本発明の変更及び変形を網羅することが意図されている。以下、本発明の態様を列挙する。
［態様１］
約１３０℃～約１５０℃の融点及びフィブリルによって相互接続されたノードの微細構造を有する、延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜を含む、物品。
［態様２］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは少なくとも７０％の結晶化度を有する、態様１記載の物品。
［態様３］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は約３０％を超える気孔率を有する、態様１又は２記載の物品。
［態様４］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１ＭＰａ～約５０ＭＰａのマトリックス引張強度をさらに備える、態様１～３のいずれか１項記載の物品。
［態様５］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１００ＭＰａ～約１０００ＭＰａのマトリックス弾性率を有する、態様１～４のいずれか１項記載の物品。
［態様６］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを含む、態様１～５のいずれか１項記載の物品。
［態様７］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、１～５の多分散を有する、態様１～６のいずれか１項記載の物品。
［態様８］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つのコモノマーを約０．００１モル％～約１０モル％の量でさらに含む、態様１～７のいずれか１項記載の物品。
［態様９］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つのフィラー材料を含む、態様１～８のいずれか１項の物品。
［態様１０］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、その中に生物活性部分を含む、態様１～９のいずれか１項記載の物品。
［態様１１］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である、態様１～１０のいずれか１項記載の物品。
［態様１２］
前記フィブリルはポリマー鎖を含み、前記ポリマー鎖はフィブリル軸に沿って配向している、態様１～１１のいずれか１項記載の物品。
［態様１３］
前記フィブリルはそれぞれ伸長鎖結晶を含む、態様１～１２のいずれか１項記載の物品。
［態様１４］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品は、繊維、チューブ、テープ、シート又は三次元自立構造の形態である、態様１～１３のいずれか１項記載の物品。
［態様１５］
態様１～１４のいずれか１項記載のポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）物品を含む、複合材。
［態様１６］
態様１～１４のいずれか１項記載のポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品又は態様１５記載の複合材を含む、ラミネート。
［態様１７］
態様１～１４のいずれか１項記載の多孔質ポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を含む、デバイス。
［態様１８］
約１３０℃～約１５０℃の融点及び少なくとも７０％の結晶化度を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを潤滑化して、潤滑化ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを形成すること、
前記潤滑化ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを６０℃～１４０℃の温度で加圧してプリフォームを形成すること、及び、
６０℃～１４０℃の温度で前記プリフォームを延伸して、フィブリルによって相互接続されたノードの構造を有する多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を形成すること、
を含む、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品の製造方法。
［態様１９］
前記潤滑化ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを６０℃～１４０℃の温度でカレンダ加工してプリフォームを形成すること、又は、前記潤滑化ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを６０℃～１４０℃の温度でラム押出してプリフォームを形成することを含む、態様１８記載の方法。
［態様２０］
延伸前に前記プリフォームから潤滑剤を除去することをさらに態様１８又は１９記載の方法。
［態様２１］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する、態様１８～２０のいずれか１項記載の方法。
［態様２２］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、１～５の多分散を有する、態様１８～２１のいずれか１項記載の方法。
［態様２３］
前記多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を圧縮して緻密なポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を形成することをさらに含む、態様１８～２２のいずれか１項記載の方法。
［態様２４］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーにフィラー材料及び生物活性部分の１つを添加することをさらに含む、態様１８～２３のいずれか１項記載の方法。
［態様２５］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品は、第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である、態様１８～２４のいずれか１項記載の方法。
［態様２６］
１３０℃～１５０℃の融点及び少なくとも７０％の結晶化度を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを６０℃～１４０℃の温度で加圧及び加熱してプリフォーム物品を形成し、続いて６０℃～１４０℃の温度で前記プリフォーム物品を延伸して、多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を形成することを含む、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品の製造方法。
［態様２７］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する、態様２６記載の方法。
［態様２８］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、１～５の多分散を有する、態様２６又は２７記載の方法。
［態様２９］
前記多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品は、約３０％を超える気孔率を有する、態様２６～２８のいずれか１項記載の方法。
［態様３０］
前記多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を圧縮して緻密なポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を形成することをさらに含む、態様２６～２９のいずれか１項記載の方法。
［態様３１］
基材上にポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー溶液をキャストしてポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを形成すること、
前記ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを乾燥させて乾燥ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを形成すること、及び、
前記乾燥ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを前記基材から除去すること、
を含む、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品の製造方法。
［態様３２］
前記乾燥ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープを延伸して、ノードアンドフィブリル微細構造を有する延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）膜を形成することをさらに含む、態様３１記載の方法。
［態様３３］
乾燥は、空気乾燥、真空乾燥及びそれらの組み合わせを含む、態様３１又は３２記載の方法。
［態様３４］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープは、微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープの第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である、態様３１～３３のいずれか１項記載の方法。
［態様３５］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー溶液は、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー及び有機溶媒を含む、態様３１～３４のいずれか１項記載の方法。
［態様３６］
前記基材は多孔質又は非多孔質基材である、態様３１～３５のいずれか１項記載の方法。
［態様３７］
前記基材は非多孔質基材であり、前記非多孔質基材は、ガラス皿、ガラス板、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートから選ばれる、態様３１～３６のいずれか１項記載の方法。
［態様３８］
延伸前に前記乾燥ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）キャストテープを所望のサイズに切断することをさらに含む、態様３１～３７のいずれか１項記載の方法。
［態様３９］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、少なくとも７０％の結晶化度を有する、態様３１～３８のいずれか１項記載の方法。
［態様４０］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、約３０％を超える気孔率を有する、態様３１～３９のいずれか１項記載の方法。
［態様４１］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１ＭＰａ～約５０ＭＰａのマトリックス引張強度を備える、態様３１～４０のいずれか１項記載の方法。
［態様４２］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１００ＭＰａ～約１０００ＭＰａのマトリックス弾性率を有する、態様３１～４１のいずれか１項記載の方法。
［態様４３］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する、態様３１～４２のいずれか１項記載の方法。
［態様４４］
ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー粉末を２つのカレンダロールのニップに直接供給して、凝集性の緻密ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）テープを生成することを含む、緻密物品の製造方法。
［態様４５］
基材上にポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー溶液をキャストしてポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを形成すること、
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを溶媒誘起相分離のための非溶媒浴中に沈めること、
前記基材から前記ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを除去すること、及び、
前記ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーテープを乾燥させて微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを形成すること、
を含む、方法。
［態様４６］
前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを延伸して、ノードアンドフィブリル微細構造を有する延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）膜を形成することをさらに含む、態様４５記載の方法。
［態様４７］
延伸前に前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを切断することをさらに含む、態様４５又は態様４６記載の方法。
［態様４８］
前記基材は多孔質又は非多孔質基材である、態様４５～４７のいずれか１項記載の方法。
［態様４９］
前記基材は非多孔質基材であり、前記非多孔質基材は、ガラス皿、ガラス板、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートから選ばれる、態様４５～４８のいずれか１項記載の方法。
［態様５０］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、少なくとも７０％の結晶化度を有する、態様４５～４９のいずれか１項記載の方法。
［態様５１］
前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープは、前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープの第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である、態様４５～５０のいずれか１項記載の方法。
［態様５２］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、約３０％を超える気孔率を有する、態様４５～５１のいずれか１項記載の方法。
［態様５３］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１ＭＰａ～約５０ＭＰａのマトリックス引張強度を備える、態様４５～５２のいずれか１項記載の方法。
［態様５４］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１００ＭＰａ～約１０００ＭＰａのマトリックス弾性率を有する、態様４５～５３のいずれか１項記載の方法。
［態様５５］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを含む、態様４５～５４のいずれか１項記載の方法。
［態様５６］
少なくとも約７０％の結晶化度、１～５の多分散及び約３５０ｋＤａ～約５ＭＤａの重量平均分子量を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーから形成されたポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープを含む、物品。
［態様５７］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープは不透明である、態様５６記載の物品。
［態様５８］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープは、キャスト法、溶媒誘起キャスト法又はペースト押出法を利用して形成されたものである、態様５６又は５７記載の物品。
［態様５９］
ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを含む、物品。
［態様６０］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは少なくとも７０％の結晶化度を有する、態様５９記載の物品。
［態様６１］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープは、前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープの第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である、態様５９又は６０記載の物品。
［態様６２］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する、態様５９～６１のいずれか１項記載の物品。
［態様６３］
約１３０℃～約１５０℃の融点及び少なくとも７０％の結晶化度を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを潤滑剤により潤滑化してポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）粉末／潤滑剤混合物を形成すること、及び、
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）粉末／潤滑剤混合物をペースト押出して、凝集性ＰＴＭＰＳビーズ、テープ、チューブ又は三次元自立構造を形成すること、
を含む、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品の製造方法。
［態様６４］
ペースト押出前に前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー粉末／油混合物をタンブリングすることをさらに含む、態様６３記載の方法。
［態様６５］
ペースト押出前に前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー粉末／油混合物を熱調整することをさらに含む、態様６３又は態様６４記載の方法。
［態様６６］
前記凝集性ＰＴＭＰＳビーズを延伸させて延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜を形成することを含む、態様６３～６５のいずれか１項記載の方法。
［態様６７］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する、態様６６記載の方法。
［態様６８］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、１～５の多分散を有する、態様６３～６７のいずれか１項記載の方法。
［態様１］
約１３０℃～約１５０℃の融点及びフィブリルによって相互接続されたノードの微細構造を有する、延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜を含む、物品。
［態様２］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは少なくとも７０％の結晶化度を有する、態様１記載の物品。
［態様３］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は約３０％を超える気孔率を有する、態様１又は２記載の物品。
［態様４］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１ＭＰａ～約５０ＭＰａのマトリックス引張強度をさらに備える、態様１～３のいずれか１項記載の物品。
［態様５］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１００ＭＰａ～約１０００ＭＰａのマトリックス弾性率を有する、態様１～４のいずれか１項記載の物品。
［態様６］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを含む、態様１～５のいずれか１項記載の物品。
［態様７］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、１～５の多分散を有する、態様１～６のいずれか１項記載の物品。
［態様８］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つのコモノマーを約０．００１モル％～約１０モル％の量でさらに含む、態様１～７のいずれか１項記載の物品。
［態様９］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つのフィラー材料を含む、態様１～８のいずれか１項の物品。
［態様１０］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、その中に生物活性部分を含む、態様１～９のいずれか１項記載の物品。
［態様１１］
前記延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である、態様１～１０のいずれか１項記載の物品。
［態様１２］
前記フィブリルはポリマー鎖を含み、前記ポリマー鎖はフィブリル軸に沿って配向している、態様１～１１のいずれか１項記載の物品。
［態様１３］
前記フィブリルはそれぞれ伸長鎖結晶を含む、態様１～１２のいずれか１項記載の物品。
［態様１４］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品は、繊維、チューブ、テープ、シート又は三次元自立構造の形態である、態様１～１３のいずれか１項記載の物品。
［態様１５］
態様１～１４のいずれか１項記載のポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）物品を含む、複合材。
［態様１６］
態様１～１４のいずれか１項記載のポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品又は態様１５記載の複合材を含む、ラミネート。
［態様１７］
態様１～１４のいずれか１項記載の多孔質ポリ（テトラメチル-ｐ-シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を含む、デバイス。
［態様１８］
約１３０℃～約１５０℃の融点及び少なくとも７０％の結晶化度を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを潤滑化して、潤滑化ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを形成すること、
前記潤滑化ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを６０℃～１４０℃の温度で加圧してプリフォームを形成すること、及び、
６０℃～１４０℃の温度で前記プリフォームを延伸して、フィブリルによって相互接続されたノードの構造を有する多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を形成すること、
を含む、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品の製造方法。
［態様１９］
前記潤滑化ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを６０℃～１４０℃の温度でカレンダ加工してプリフォームを形成すること、又は、前記潤滑化ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを６０℃～１４０℃の温度でラム押出してプリフォームを形成することを含む、態様１８記載の方法。
［態様２０］
延伸前に前記プリフォームから潤滑剤を除去することをさらに態様１８又は１９記載の方法。
［態様２１］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する、態様１８～２０のいずれか１項記載の方法。
［態様２２］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、１～５の多分散を有する、態様１８～２１のいずれか１項記載の方法。
［態様２３］
前記多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を圧縮して緻密なポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を形成することをさらに含む、態様１８～２２のいずれか１項記載の方法。
［態様２４］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーにフィラー材料及び生物活性部分の１つを添加することをさらに含む、態様１８～２３のいずれか１項記載の方法。
［態様２５］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品は、第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である、態様１８～２４のいずれか１項記載の方法。
［態様２６］
１３０℃～１５０℃の融点及び少なくとも７０％の結晶化度を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを６０℃～１４０℃の温度で加圧及び加熱してプリフォーム物品を形成し、続いて６０℃～１４０℃の温度で前記プリフォーム物品を延伸して、多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を形成することを含む、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品の製造方法。
［態様２７］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する、態様２６記載の方法。
［態様２８］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、１～５の多分散を有する、態様２６又は２７記載の方法。
［態様２９］
前記多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品は、約３０％を超える気孔率を有する、態様２６～２８のいずれか１項記載の方法。
［態様３０］
前記多孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を圧縮して緻密なポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品を形成することをさらに含む、態様２６～２９のいずれか１項記載の方法。
［態様３１］
基材上にポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー溶液をキャストしてポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを形成すること、
前記ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを乾燥させて乾燥ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを形成すること、及び、
前記乾燥ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを前記基材から除去すること、
を含む、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品の製造方法。
［態様３２］
前記乾燥ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープを延伸して、ノードアンドフィブリル微細構造を有する延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）膜を形成することをさらに含む、態様３１記載の方法。
［態様３３］
乾燥は、空気乾燥、真空乾燥及びそれらの組み合わせを含む、態様３１又は３２記載の方法。
［態様３４］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープは、微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープの第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である、態様３１～３３のいずれか１項記載の方法。
［態様３５］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー溶液は、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー及び有機溶媒を含む、態様３１～３４のいずれか１項記載の方法。
［態様３６］
前記基材は多孔質又は非多孔質基材である、態様３１～３５のいずれか１項記載の方法。
［態様３７］
前記基材は非多孔質基材であり、前記非多孔質基材は、ガラス皿、ガラス板、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートから選ばれる、態様３１～３６のいずれか１項記載の方法。
［態様３８］
延伸前に前記乾燥ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）キャストテープを所望のサイズに切断することをさらに含む、態様３１～３７のいずれか１項記載の方法。
［態様３９］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、少なくとも７０％の結晶化度を有する、態様３１～３８のいずれか１項記載の方法。
［態様４０］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、約３０％を超える気孔率を有する、態様３１～３９のいずれか１項記載の方法。
［態様４１］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１ＭＰａ～約５０ＭＰａのマトリックス引張強度を備える、態様３１～４０のいずれか１項記載の方法。
［態様４２］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１００ＭＰａ～約１０００ＭＰａのマトリックス弾性率を有する、態様３１～４１のいずれか１項記載の方法。
［態様４３］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する、態様３１～４２のいずれか１項記載の方法。
［態様４４］
ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー粉末を２つのカレンダロールのニップに直接供給して、凝集性の緻密ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）テープを生成することを含む、緻密物品の製造方法。
［態様４５］
基材上にポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー溶液をキャストしてポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを形成すること、
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを溶媒誘起相分離のための非溶媒浴中に沈めること、
前記基材から前記ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーキャストテープを除去すること、及び、
前記ポリ(テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン)ポリマーテープを乾燥させて微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを形成すること、
を含む、方法。
［態様４６］
前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを延伸して、ノードアンドフィブリル微細構造を有する延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）膜を形成することをさらに含む、態様４５記載の方法。
［態様４７］
延伸前に前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを切断することをさらに含む、態様４５又は態様４６記載の方法。
［態様４８］
前記基材は多孔質又は非多孔質基材である、態様４５～４７のいずれか１項記載の方法。
［態様４９］
前記基材は非多孔質基材であり、前記非多孔質基材は、ガラス皿、ガラス板、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートから選ばれる、態様４５～４８のいずれか１項記載の方法。
［態様５０］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、少なくとも７０％の結晶化度を有する、態様４５～４９のいずれか１項記載の方法。
［態様５１］
前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープは、前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープの第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である、態様４５～５０のいずれか１項記載の方法。
［態様５２］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、約３０％を超える気孔率を有する、態様４５～５１のいずれか１項記載の方法。
［態様５３］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１ＭＰａ～約５０ＭＰａのマトリックス引張強度を備える、態様４５～５２のいずれか１項記載の方法。
［態様５４］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、少なくとも１つの方向に約１００ＭＰａ～約１０００ＭＰａのマトリックス弾性率を有する、態様４５～５３のいずれか１項記載の方法。
［態様５５］
延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜は、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを含む、態様４５～５４のいずれか１項記載の方法。
［態様５６］
少なくとも約７０％の結晶化度、１～５の多分散及び約３５０ｋＤａ～約５ＭＤａの重量平均分子量を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーから形成されたポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープを含む、物品。
［態様５７］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープは不透明である、態様５６記載の物品。
［態様５８］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープは、キャスト法、溶媒誘起キャスト法又はペースト押出法を利用して形成されたものである、態様５６又は５７記載の物品。
［態様５９］
ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーキャストテープを含む、物品。
［態様６０］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは少なくとも７０％の結晶化度を有する、態様５９記載の物品。
［態様６１］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープは、前記微孔質ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーテープの第一の側から第二の側まで細孔サイズが非対称である、態様５９又は６０記載の物品。
［態様６２］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する、態様５９～６１のいずれか１項記載の物品。
［態様６３］
約１３０℃～約１５０℃の融点及び少なくとも７０％の結晶化度を有するポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーを潤滑剤により潤滑化してポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）粉末／潤滑剤混合物を形成すること、及び、
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）粉末／潤滑剤混合物をペースト押出して、凝集性ＰＴＭＰＳビーズ、テープ、チューブ又は三次元自立構造を形成すること、
を含む、ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー物品の製造方法。
［態様６４］
ペースト押出前に前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー粉末／油混合物をタンブリングすることをさらに含む、態様６３記載の方法。
［態様６５］
ペースト押出前に前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー粉末／油混合物を熱調整することをさらに含む、態様６３又は態様６４記載の方法。
［態様６６］
前記凝集性ＰＴＭＰＳビーズを延伸させて延伸ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマー膜を形成することを含む、態様６３～６５のいずれか１項記載の方法。
［態様６７］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、約３５０ｋＤａ～５ＭＤａの重量平均分子量を有する、態様６６記載の方法。
［態様６８］
前記ポリ（テトラメチル－ｐ－シルフェニレンシロキサン）ポリマーは、１～５の多分散を有する、態様６３～６７のいずれか１項記載の方法。
【図1A】
【図1B】
【図1C】
【図2A】
【図2B】
【図2C】
【図3A】
【図3B】
【図3C】
【図3D】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】