特許7576444IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

被溶射体に溶射皮膜を形成するための溶射ガン、およびこれを備えた溶射システム

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、溶融させるワイヤの微細化の程度をコントロールするのに適した構造の溶射ガンを提供することを主たる課題とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

の課題を解決するため、本発明では、次の技術的手段を採用した。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、ノズルの内部空間に第1圧縮ガスを吹き出すための第1吐出口と、ノズルの内部空間に第2圧縮ガスを吹き出すための第2吐出口とが設けられている。第2吐出口は、第1吐出口よりも第1方向においてガス噴出孔に近接する位置にある。溶射ガンには、第1ガス供給手段により第1圧縮ガスが定常的に供給され、第1吐出口からノズルの内部空間に定常的に第1圧縮ガスが吹き出される。また、溶射ガンには第2ガス供給手段により第2圧縮ガスが間欠的に供給され、第2吐出口からノズルの内部空間に間欠的に第2圧縮ガスが吹き出される。このような構成によれば、定常的に供給される第1圧縮ガスに加えて間欠的に供給される第2圧縮ガスが混在したガスがガス噴出孔から噴出され、ワイヤの溶融金属が微細化されて緻密な溶射皮膜を形成することができる。

本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本発明に係る溶射ガンを備えた溶射システムの一例を示す概略構成図である。
【図2】 本発明に係る溶射ガンの一例を示し、溶射ガンの先端側から見た図である。
【図3】 図2のIII-IIIに沿う部分断面図である。
【図4】 図2のIV-IVに沿う部分断面図である。
【図5】 図3の部分拡大図である。
【図6】 図5の部分拡大図である。
【図7】 本発明に係る溶射ガンの他の例を示し、図5と同様の断面図である。

代表図 図1本件の代表的な図

A1:溶射システム、2:溶射ガン、21:ガン本体、22:給電チップ、24:ノズル、242:ガス噴出孔、252:第1吐出口、263:第2吐出口、3A:第1ガス供給手段、3B:第2ガス供給手段、W:ワイヤ、x:方向(第1方向)

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