特許 7576875 浸透促進制御方法、美容器及び記憶媒体

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-10-24

(45)【発行日】2024-11-01

(54)【発明の名称】浸透促進制御方法、美容器及び記憶媒体

(51)【国際特許分類】

   A61N 1/30 20060101AFI20241025BHJP

【ＦＩ】

A61N1/30

【請求項の数】 10

(21)【出願番号】P 2023219518

(22)【出願日】2023-12-26

【審査請求日】2023-12-26

(31)【優先権主張番号】202311319735.6

(32)【優先日】2023-10-12

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】517384589

【氏名又は名称】深▲せん▼市宗匠科技有限公司

【住所又は居所原語表記】２６ｔｈ Ｆｌｏｏｒ， Ｇａｏｘｉｎ Ｃｏｍｍｕｎｉｔｙ Ｕｎｉｔｅｄ Ｈｅａｄｑｕａｒｔｅｒｓ Ｂｕｉｌｄｉｎｇ， Ｎｏ．６３， Ｇａｏｘｉｎ Ｓｏｕｔｈ１０ｔｈ Ｒｏａｄ， Ｂｉｎｈａｉ Ｃｏｍｍｕｎｉｔｙ， Ｙｕｅｈａｉ Ｓｔｒｅｅｔ， Ｎａｎｓｈａｎ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ， Ｓｈｅｎｚｈｅｎ， Ｇｕａｎｇｄｏｎｇ， Ｃｈｉｎａ

(74)【代理人】

【識別番号】110000291

【氏名又は名称】弁理士法人コスモス国際特許商標事務所

(72)【発明者】

【氏名】▲リ▼ ▲ケ▼

(72)【発明者】

【氏名】王 念欧

(72)【発明者】

【氏名】儲 文進

(72)【発明者】

【氏名】杜 海

【審査官】鈴木 敏史

(56)【参考文献】

【文献】中国特許出願公開第１１４７４８７８４（ＣＮ，Ａ）

【文献】再公表特許第２０１４／１２５５１８（ＪＰ，Ａ１）

【文献】中国特許出願公開第１１６８３２３１４（ＣＮ，Ａ）

【文献】中国特許出願公開第１１７１５９９０３（ＣＮ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ａ６１Ｎ １／３０

Ａ６１Ｎ １／４４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

内部に浸透促進待ち物質を貯蔵しており、肌に前記浸透促進待ち物質を吐出するために用いられる液体吐出装置と、間隔を置いて設けられている、それぞれ極性が反対な電圧を出力する時に前記液体吐出装置が肌に吐出した前記浸透促進待ち物質の肌への染み込みを駆動するために用いられる少なくとも二つの電極を含むイオン浸透促進アセンブリと、を含む美容器が行う浸透促進制御方法であって、
前記液体吐出装置が肌に前記浸透促進待ち物質を吐出する時に、流速及び／又は流量を含む、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定するステップと、
決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記イオン浸透促進アセンブリの出力強度を調節するように制御するステップと、
前記液体吐出装置が肌に前記浸透促進待ち物質を吐出する時に、前記美容器と肌との間の距離値を検出するステップと、
検出した前記距離値により、流速及び／又は流量を含む、前記液体吐出装置の液体吐出パラメータを調節するように制御する特定のステップと、を含み、
前記特定のステップは、
検出した前記距離値が小さくなった時に、前記液体吐出装置から吐出される前記浸透促進待ち物質が多過ぎて前記美容器の液体吐出口を塞いだり肌に堆積する前記浸透促進待ち物質が多過ぎたりするのを回避するよう、前記液体吐出装置の液体吐出パラメータを小さくする制御を行うステップと、
検出した前記距離値が大きくなった時に、十分な前記浸透促進待ち物質を吐出して肌を覆うよう、前記液体吐出装置の液体吐出パラメータを大きくする制御を行うステップと、
検出した前記距離値が所定の距離閾値より大きい時に、前記浸透促進待ち物質の浪費を回避するよう、前記液体吐出装置の吐出を停止させる制御を行うステップと、を含むことを特徴とする、浸透促進制御方法。

【請求項2】

前記液体吐出装置が前記浸透促進待ち物質を吐出する前に、前記美容器が肌と接触しているか否かを検出して、対応する検出信号を出力するステップと、
前記検出信号により前記美容器が肌と接触していると決定した時に、肌に前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置を制御するステップとを更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の浸透促進制御方法。

【請求項3】

決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記イオン浸透促進アセンブリの出力強度を調節するように制御する前記ステップは、
所定の吐出関連パラメータと出力強度との所定の対応関係により、決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータに対応する出力強度を目標出力強度とするステップと、
前記イオン浸透促進アセンブリの出力強度を前記目標出力強度に調節するように制御するステップとを含むことを特徴とする、請求項１に記載の浸透促進制御方法。

【請求項4】

前記検出信号により前記美容器が肌と接触していると決定した時に、肌に前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置を制御する前記ステップは、
前記検出信号により前記美容器が肌と接触していると決定した時に、所定の流速及び／又は所定の流量を含む所定液体吐出パラメータで前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置を制御するステップを含む浸透促進制御方法であって、
前記検出信号により前記美容器が肌と接触していると決定した時に、
所定の出力強度で出力するように前記イオン浸透促進アセンブリを制御するステップを更に含むことを特徴とする、請求項２に記載の浸透促進制御方法。

【請求項5】

前記検出信号により前記美容器が肌と接触していると決定した時に、肌に前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置を制御する前記ステップは、
前記検出信号により前記美容器が肌と接触していると決定した時に、所定の流速及び／又は所定の流量を含む所定液体吐出パラメータで前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置を制御するステップを含み、
前記液体吐出装置が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定する前記ステップは、
前記液体吐出装置が前記所定液体吐出パラメータで前記浸透促進待ち物質を吐出する時に、肌に吐出する前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定するステップを含むことを特徴とする、請求項２に記載の浸透促進制御方法。

【請求項6】

液体吐出調節操作に応答して、調節されて到達すべき目標液体吐出パラメータを含む液体吐出調節情報を含む液体吐出調節トリガ信号を生成するステップと、
前記液体吐出調節トリガ信号を受信し、流速及び／又は流量を含む、前記液体吐出装置の液体吐出パラメータを前記目標液体吐出パラメータに調節するように制御するステップとを更に含み、
前記液体吐出装置が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定する前記ステップは、
前記液体吐出装置が前記目標液体吐出パラメータで前記浸透促進待ち物質を吐出する時に、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定するステップを含むことを特徴とする、請求項１に記載の浸透促進制御方法。

【請求項7】

前記液体吐出装置が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定する前記ステップは、
前の時刻及び現在時刻の前記液体吐出装置内の浸透促進待ち物質の残量を検出するステップと、
現在時刻と前の時刻との間隔時間長を吐出時間長とするステップと、
検出した前の時刻と現在時刻の前記浸透促進待ち物質の残量及び前記吐出時間長により、前記浸透促進待ち物質の現在時刻の吐出関連パラメータを決定するステップとを含むことを特徴とする、請求項１に記載の浸透促進制御方法。

【請求項8】

前記美容器は、肌と接触するための接触面と、前記接触面に設けられた前記液体吐出口とを含む接触端部を含み、前記液体吐出装置が前記液体吐出口に連通され、前記液体吐出口が前記液体吐出装置内の浸透促進待ち物質を肌表面に吐出するためのものであり、前記少なくとも二つの電極が前記接触面に設けられ、前記美容器は、更に、前記接触面に設けられ、前記接触端部が肌と接触しているか否かを検出するために用いられる接触検出モジュールを含むことを特徴とする、請求項１に記載の浸透促進制御方法。

【請求項9】

内部に浸透促進待ち物質を貯蔵しており、肌に前記浸透促進待ち物質を吐出するために用いられる液体吐出装置と、
間隔を置いて設けられている、それぞれ極性が反対な電圧を出力する時に前記液体吐出装置が肌に吐出した浸透促進待ち物質の肌への染み込みを駆動するために用いられる少なくとも二つの電極を含むイオン浸透促進アセンブリと、
前記液体吐出装置及び前記イオン浸透促進アセンブリに接続されており、前記液体吐出装置が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に、流速及び／又は流量を含む、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定し、決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記イオン浸透促進アセンブリの出力強度を調節するように制御するために用いられる制御モジュールと、を含む美容器であって、
前記制御モジュールは、
前記液体吐出装置が肌に前記浸透促進待ち物質を吐出する時に、前記美容器と肌との間の距離値を検出し、
検出した前記距離値により、流速及び／又は流量を含む、前記液体吐出装置の液体吐出パラメータを調節するものであって、
検出した前記距離値が小さくなった時に、前記液体吐出装置から吐出される前記浸透促進待ち物質が多過ぎて前記美容器の液体吐出口を塞いだり肌に堆積する前記浸透促進待ち物質が多過ぎたりするのを回避するよう、前記液体吐出装置の液体吐出パラメータを小さくし、
検出した前記距離値が大きくなった時に、十分な前記浸透促進待ち物質を吐出して肌を覆うよう、前記液体吐出装置の液体吐出パラメータを大きくし、
検出した前記距離値が所定の距離閾値より大きい時に、前記浸透促進待ち物質の浪費を回避するよう、前記液体吐出装置の吐出を停止させるものであることを特徴とする、美容器。

【請求項10】

プロセッサにより呼び出されてから実行されて、請求項１～８のいずれか一項に記載の浸透促進制御方法を実現するためのコンピュータプログラムを記憶していることを特徴とする、コンピュータ可読記憶媒体。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、美容機器の技術分野に関し、特に、浸透促進制御方法、美容器及び記憶媒体に関する。

【背景技術】

【0002】

美容業界の発展に伴い、美容器は美容用液体と浸透促進モジュールを一体に統合し、肌に美容用液体を供給しながら、美容器の浸透促進作用によって美容用液体の肌への浸透を促進し、美容用液体の浸透率を向上させることができる。

【0003】

美容器を用いて肌に美容用液体を供給しながら美容用液体の浸透を促進する過程で、美容器の浸透促進モジュールの出力電力が美容用液体の吐出状況に対応しないことがしばしばあるため、美容用液体の浸透促進効果が良くなく、肌の美容用液体に対する吸収に影響を与えると共に、美容用液体の浪費を招くことは現状である。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上記技術問題を解決するために、本願は浸透促進制御方法、美容器及び記憶媒体を提供し、これにより、イオン浸透促進アセンブリの出力強度と液体吐出装置が肌表面に吐出する浸透促進待ち物質の吐出状況とが対応付けられ、更に美容器のイオン浸透促進作用を最適状態にすると共に、浸透促進待ち物質の浪費を回避することができる。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本願の第１態様において、美容器に用いられる浸透促進制御方法において、前記美容器は、内部に浸透促進待ち物質を貯蔵しており、肌に前記浸透促進待ち物質を吐出するために用いられる液体吐出装置と、間隔を置いて設けられている、それぞれ極性が反対な電圧を出力する時に前記液体吐出装置が肌に吐出した浸透促進待ち物質の肌への染み込みを駆動するために用いられる少なくとも二つの電極を含むイオン浸透促進アセンブリとを含む浸透促進制御方法であって、前記液体吐出装置が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に、流速及び／又は流量を含む、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定するステップと、決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記イオン浸透促進アセンブリの出力強度を調節するように制御するステップとを含む浸透促進制御方法を提供する。

【0006】

本願の第２態様において、内部に浸透促進待ち物質を貯蔵しており、肌に前記浸透促進待ち物質を吐出するために用いられる液体吐出装置と、間隔を置いて設けられている、それぞれ極性が反対な電圧を出力する時に前記液体吐出装置が肌に吐出した浸透促進待ち物質の肌への染み込みを駆動するために用いられる少なくとも二つの電極を含むイオン浸透促進アセンブリと、前記液体吐出装置及びイオン浸透促進アセンブリに接続されており、前記液体吐出装置が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に、流速及び／又は流量を含む、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定し、決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記イオン浸透促進アセンブリの出力強度を調節するように制御するために用いられる制御モジュールとを含む美容器を提供する。

【0007】

本願の第３態様において、プロセッサにより呼び出されてから実行されて、上述した浸透促進制御方法を実現するためのコンピュータプログラムを記憶しているコンピュータ可読記憶媒体を提供する。

【発明の効果】

【0008】

本願で提供される浸透促進制御方法、美容器及び記憶媒体は、前記液体吐出装置が肌表面に吐出する浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定し、前記吐出関連パラメータにより前記イオン浸透促進アセンブリの出力強度を調節するように制御することによって、イオン浸透促進アセンブリの出力強度と肌表面に吐出する浸透促進待ち物質の吐出状況とを対応付けることができ、更に美容器のイオン浸透促進作用を最適状態にすることができ、浸透促進待ち物質の浪費を回避することもできる。

【0009】

本願の技術的解決手段をより明らかに説明するために、以下において、実施形態に使用必要な図面を簡単に説明し、当然ながら、以下の説明における図面は本願のいくつかの実施形態であり、当業者であれば、創造的な労力を要することなく、これらの図面から他の図面に想到し得る。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本願の一実施例で提供される浸透促進制御方法のフローチャートである。

【図2】本願の一実施例で提供される美容器の分解構造模式図である。

【図3】本願の別の実施例で提供される浸透促進制御方法のフローチャートである。

【図4】本願の更に別の実施例で提供される浸透促進制御方法のフローチャートである。

【図5】図２に示す美容器の別の角度の構造模式図である。

【図6】図２に示す美容器の部分構造模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下において、本願の実施例中の図面を参照しながら、本願の実施例中の技術的解決手段を明確に、完全に説明し、当然ながら、説明される実施例は本願の一部の実施例に過ぎず、全ての実施例ではない。本願における実施例に基づき、当業者が創造的な労力を要することなく得た他の全ての実施例は、いずれも本願の保護範囲に属するものとする。

【0012】

本願の説明において、「第１」、「第２」等の用語は、特定の順序を記述せず、異なる対象を区別するためのものであり、また、「上」、「内」、「外」等の用語で示す方位又は位置関係は図面に示す方位又は位置関係に基づくものであり、本願を容易に説明し記述を簡略化するためのものに過ぎず、記載される装置又は素子が必ず特定の方位を有したり、特定の方位で構成、操作されたりすることを指示又は暗示することがないので、本願を限定するものと理解してはならない。

【0013】

本願の説明において、特に明らかに規定したり、限定したりしない限り、「接続」という用語は、広義に理解すべきであり、例えば、固定的な接続であってもよく、取り外し可能な接続であってもよく、又は、一体的な接続であってもよく、また、直接的な接続であってもよく、中間媒介を介した間接的な接続であってもよく、２つの素子の内部連通であってもよく、また、通信接続であってもよく、また、電気的接続であってもよい。当業者であれば、具体的な状況に応じて上記用語の本願での具体的な意味を理解することができる。

【0014】

本願の一実施例で提供される浸透促進制御方法のフローチャートである図１を参照されたい。前記浸透促進制御方法は、美容器に用いることができ、前記美容器は、内部に浸透促進待ち物質を貯蔵しており、肌に前記浸透促進待ち物質を吐出するために用いられる液体吐出装置と、間隔を置いて設けられている、それぞれ極性が反対な電圧を出力する時に前記液体吐出装置が肌に吐出した浸透促進待ち物質の肌への染み込みを駆動するために用いられる少なくとも二つの電極を含むイオン浸透促進アセンブリとを含む。図１に示すように、前記浸透促進制御方法は、下記のステップＳ１０及びステップＳ２０を含む。
Ｓ１０：前記液体吐出装置が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に、流速及び／又は流量を含む、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定する。
Ｓ２０：決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記イオン浸透促進アセンブリの出力強度を調節するように制御する。

【0015】

本願の実施例で提供される浸透促進制御方法は、前記液体吐出装置が肌表面に吐出する浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定し、前記吐出関連パラメータにより前記イオン浸透促進アセンブリの出力強度を調節するように制御することによって、前記イオン浸透促進アセンブリの出力強度と肌表面に吐出する浸透促進待ち物質の吐出状況とを対応付けることができ、更に前記イオン浸透促進アセンブリのイオン浸透促進作用を最適状態にすることができ、浸透促進待ち物質の浪費を回避することもできる。また、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータによりイオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を調節することで、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の調整をより精確にすることができる。

【0016】

いくつかの実施例では、前記浸透促進待ち物質は、アストリンゼントローション、化粧水、美容液、乳液、フェイスクリーム、アイクリーム、ゲル、リップバーム、リップクリーム、ボディミルク及び保湿乳液のうちの少なくとも一種を含んでもよく、前記浸透促進待ち物質は更に他の種類の美容スキンケア効能を有する物質であってもよい。

【0017】

ここで、前記浸透促進待ち物質は陰イオン及び／又は陽イオンを含む。前記美容器を使用する時に、前記イオン浸透促進アセンブリの少なくとも二つの電極がそれぞれ人体と接触し、前記少なくとも二つの電極がそれぞれ極性の反対な電圧を出力する時に、前記少なくとも二つの電極と人体が電流回路を形成し、肌を被覆している浸透促進待ち物質の肌への進入を駆動し、また、電流回路中の電流の方向は前記少なくとも二つの電極のうち正電圧を出力する電極から人体へ流れ、次に前記少なくとも二つの電極のうち負電圧を出力する電極へ流れるようになっている。

【0018】

負電荷を帯びた陰イオンの運動方向が電流の方向と反対なので、それぞれ正電圧と負電圧を出力するように前記少なくとも二つの電極を制御することで、負電圧出力電極から人体への方向に沿って運動するように浸透促進待ち物質の陰イオンを駆動して、浸透促進待ち物質の陰イオンの肌の奥への染み込みを促進することができる。他方では、肌を被覆している浸透促進待ち物質の陰イオンと負電圧出力電極との相互排斥及び人体と正電圧出力電極との相互吸引によって、浸透促進待ち物質の陰イオンが肌に入り、浸透促進待ち物質の陰イオンの肌への導入を実現すると理解してもよい。

【0019】

正電荷を帯びた陽イオンの運動方向が電流の方向と同じなので、それぞれ正電圧と負電圧を出力するように前記少なくとも二つの電極を制御することで、正電圧出力電極から人体への方向に沿って運動するように浸透促進待ち物質の陽イオンを駆動して、浸透促進待ち物質の陽イオンの肌の奥への染み込みを促進することができる。他方では、肌を被覆している浸透促進待ち物質の陽イオンと正電圧出力電極との相互排斥及び人体と負電圧出力電極との相互吸引によって、浸透促進待ち物質の陽イオンが肌に入り、浸透促進待ち物質の陽イオンの肌への導入を実現すると理解してもよい。

【0020】

本願の一実施例で提供される美容器１００の分解構造模式図である図２を参照されたい。前記浸透促進制御方法は前記美容器１００に用いることができる。図２に示すように、前記美容器１００は前記液体吐出装置１０、少なくとも二つの電極２１を含むイオン浸透促進アセンブリ２０及び制御モジュール３０を含む。

【0021】

前記制御モジュール３０によって、前記液体吐出装置１０が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定し、前記制御モジュール３０によって、決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより前記液体吐出装置１０の出力強度を制御することができる。

【0022】

ここで、前記浸透促進制御方法は、液体吐出構造及びイオン浸透促進構造を有する他の美容器に用いることもできる。

【0023】

本願の別の実施例で提供される浸透促進制御方法のフローチャートである図３を参照されたい。図３に示すように、前記浸透促進制御方法は、下記のステップＳ３０及びステップＳ４０を更に含む。
Ｓ３０：前記液体吐出装置１０が前記浸透促進待ち物質を吐出する前に、前記美容器１００が肌と接触しているか否かを検出して、対応する検出信号を出力する。
Ｓ４０：前記検出信号により前記美容器１００が肌と接触していると決定した時に、肌に前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置１０を制御する。

【0024】

即ち、前記美容器１００が肌と接触していると決定してこそ、前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置１０を制御し、出力するように前記イオン浸透促進アセンブリ２０を制御し、これにより前記浸透促進待ち物質の浪費及び出力エネルギーの浪費を回避することができる。

【0025】

ここで、前記美容器１００が肌と接触している時に、前記美容器１００と肌との間の距離が非常に小さく、前記美容器１００が肌と接触していると見なすことができる。前記美容器１００と肌との間の微細な距離は前記液体吐出装置１０が浸透促進待ち物質を肌に吐出することに有利である。

【0026】

いくつかの実施例では、前記検出信号は、輝度値を含む輝度信号、温度値を含む温度信号、圧力値を含む圧力信号、距離値を含む距離信号、静電容量値を含む静電容量信号、抵抗値を含む抵抗信号及び音波エネルギー値を含む音波信号のうちの少なくとも一種を含む。

【0027】

前記検出信号により前記美容器１００が肌と接触していると決定する上記のステップは、前記検出信号が所定の条件のうちの少なくとも一項を満たした時に、前記美容器１００が肌と接触していると決定するステップを含み、前記所定の条件は、前記検出信号に含まれる輝度値が所定輝度値以下であること、前記検出信号に含まれる圧力値が所定圧力値以上であること、前記検出信号に含まれる距離値が所定距離値以下であること、前記検出信号に含まれる静電容量値が第１所定静電容量値範囲内にあること、前記検出信号に含まれる抵抗値が第１所定抵抗値範囲内にあること、前記検出信号に含まれる音波エネルギー値が所定音波エネルギー値より小さいことを含む。

【0028】

ここで、前記所定輝度値、所定圧力値、所定距離値、第１所定静電容量値範囲、第１所定抵抗値範囲及び所定音波エネルギー値は、実際の需要に応じて設定することができ、ここで限定されない。

【0029】

ここで、前記美容器１００は、前記美容器１００が肌と接触しているか否かを検出して、前記検出信号を前記制御モジュール３０に出力するために用いられる接触検出モジュールを含んでもよい。

【0030】

いくつかの実施例では、図２に示すように、前記美容器１００は、接触面５１を含む接触端部５０を含み、前記接触面５１は前記美容器１００が肌に作用する時に肌と接触するためのものであり、前記少なくとも二つの電極２１が前記接触面５１に設けられている。前記接触検出モジュールは前記接触面５１に設けられ、前記接触面５１が肌と接触しているか否かを検出して、前記検出信号を出力するために用いられる。

【0031】

前記接触面５１が肌と接触している時に、前記接触面５１の輝度が弱くなり、前記接触面５１に接触検出モジュールを設け且つ輝度値を検出することによって、前記接触面５１が肌と接触しているか否かを判断することができる。前記接触検出モジュールは輝度センサー、例えば感光素子であってもよい。前記輝度センサーは検出した輝度値を含む輝度信号を前記制御モジュール３０に送信し、前記制御モジュール３０は前記輝度信号を受信すると、前記輝度信号に含まれる輝度値により前記接触面５１が前記肌と接触しているか否かを判断する。

【0032】

前記接触面５１が肌と接触している時に、前記接触面５１が力を受け、前記接触面５１に圧力センサーを設け且つ前記接触面５１の圧力値を検出することによって、前記接触面５１が肌と接触しているか否かを判断することができる。前記圧力センサーは検出した圧力値を含む圧力信号を前記制御モジュール３０に送信し、前記制御モジュール３０は前記圧力信号を受信すると、前記圧力信号に含まれる圧力値により前記接触面５１が肌と接触しているか否かを判断する。

【0033】

前記接触面５１が肌に接近した時に、前記接触面５１と前記肌との間の距離が小さくなり、前記接触面５１に距離センサーを設け且つ前記接触面５１と肌との距離値を検出することによって、前記接触面５１が肌と接触しているか否かを判断することができる。前記距離センサーは、例えば、赤外線測距センサー、超音波測距センサー、レーザ測距センサー等であってもよい。前記距離センサーは検出した距離値を含む距離信号を前記制御モジュール３０に送信し、前記制御モジュール３０は前記距離信号を受信すると、前記距離信号に含まれる距離値により前記接触面５１が肌と接触しているか否かを判断する。

【0034】

肌は導電性を有し、前記接触面５１が肌と接触している時に、前記接触面５１の静電容量値及び抵抗値が変わり、前記接触面５１に静電容量型接触センサー及び／又は抵抗型接触センサーを設け且つ静電容量値及び／又は抵抗値を検出することによって、前記接触面５１が肌と接触しているか否かを判断することができる。前記静電容量型接触センサー及び／又は抵抗型接触センサーは検出した静電容量値を含む静電容量信号及び／又は検出した抵抗値を含む抵抗信号を前記制御モジュール３０に送信し、前記制御モジュール３０は前記静電容量信号及び／又は抵抗信号を受信すると、前記静電容量信号及び／又は抵抗信号に含まれる静電容量値及び／又は抵抗値により前記接触面５１が肌と接触しているか否かを判断する。

【0035】

前記接触面５１が肌と接触している時に、前記接触面５１に前記音波型接触センサーが設けられていれば、前記音波型接触センサーが発生した音波が阻害されることで減衰し、前記音波型接触センサーが減衰後の音波を受信し、即ち、前記音波型接触センサーが受信した音波の音波エネルギー値が変わり、前記接触面５１に音波型接触センサーを設け且つ音波エネルギー値を検出することによって、前記接触面５１が肌と接触しているか否かを判断することができる。前記音波型接触センサーは、表面音波型接触センサー、屈曲音波型接触センサー、実体波音波型接触センサー等であってもよい。前記音波型センサーは検出した音波エネルギー値を含む音波信号を前記制御モジュール３０に送信し、前記制御モジュール３０は前記音波信号を受信すると、前記音波信号に含まれる音波エネルギー値により前記接触面５１が肌と接触しているか否かを判断する。

【0036】

いくつかの実施例では、前記浸透促進制御方法は、前記液体吐出装置１０が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に、前記美容器１００が肌と接触しているか否かを検出して、対応する検出信号を出力するステップと、前記検出信号により前記美容器１００が肌と接触していないと決定した時に、前記浸透促進待ち物質の吐出を停止させるように前記液体吐出装置１０を制御するか、又は、前記浸透促進待ち物質の吐出を停止させるように前記液体吐出装置１０を制御し、エネルギーの出力を停止させるように前記イオン浸透促進アセンブリ２０を制御するステップとを更に含む。

【0037】

即ち、前記液体吐出装置１０が肌に前記浸透促進待ち物質を吐出する過程で、前記美容器１００が肌と接触しているか否かを検出し、前記美容器１００が肌と接触していなく、即ち前記美容器１００が肌から離れたと決定した時に、浸透促進待ち物質の吐出を停止させるように前記液体吐出装置１０を制御し、これにより浸透促進待ち物質の浪費を回避することができ、出力を停止させるように前記イオン浸透促進アセンブリ２０を制御し、これによりイオン浸透促進アセンブリ２０の出力エネルギーの浪費及び肌でのやけど発生を回避することができる。

【0038】

ここで、前記液体吐出装置１０が肌に浸透促進待ち物質を吐出する過程で、上述した接触検出モジュールによって前記美容器１００が肌と接触しているか否かを検出して、前記検出信号を出力することができる。前記検出信号に含まれる輝度値が前記所定輝度値より大きいこと、前記検出信号に含まれる圧力値が前記所定圧力値より小さいこと、前記検出信号に含まれる距離値が前記所定距離値より大きいこと、前記検出信号に含まれる静電容量値が第２所定静電容量値範囲内にあること、前記検出信号に含まれる抵抗値が第２所定抵抗値範囲内にあること、前記検出信号に含まれる音波エネルギー値が前記所定音波エネルギー値以上であることといった条件のうちの少なくとも一項を前記検出信号が満たした時に、前記美容器１００が肌と接触していないと決定する。前記第２所定静電容量値範囲及び前記第２所定抵抗値範囲は、実際の需要に応じて設定することができる。

【0039】

ここで、電圧出力を停止させるように前記少なくとも二つの電極２１を制御することによって、前記イオン浸透促進アセンブリ２０にエネルギー出力を停止させることができる。

【0040】

いくつかの実施例では、決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を調節するように制御する前記ステップは、所定の吐出関連パラメータと出力強度との所定の対応関係により、決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータに対応する出力強度を目標出力強度とするステップと、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を前記目標出力強度に調節するように制御するステップとを含む。

【0041】

ここで、前記吐出関連パラメータと出力強度との所定の対応関係を予め設定することによって、当該所定の対応関係により前記目標出力強度を速やかに決定することができ、このようにして、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータが変わった時に、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を適時に調整し、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータに対応付けることができ、これにより、イオン浸透促進作用を向上させ、イオン浸透促進効率を高め、更に肌の損傷を回避することができる。

【0042】

ここで、前記吐出関連パラメータと出力強度との所定の対応関係は複数の吐出関連パラメータと複数の出力強度との対応関係を定義しており、各吐出関連パラメータがそれぞれ一つの出力強度に対応する。前記吐出関連パラメータと出力強度との所定の対応関係は予め前記美容器１００のメモリに記憶することができる。

【0043】

ここで、前記吐出関連パラメータと出力強度との所定の対応関係は前記吐出関連パラメータと前記出力強度とが正の相関であることを定義している。即ち、検出した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータが大きくなった時に、前記イオン浸透促進アセンブリの出力強度を大きくするように制御し、検出した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータが小さくなった時に、前記イオン浸透促進アセンブリの出力強度を小さくするように制御する。

【0044】

ここで、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータが大きくなった時に、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を大きくすることによって、前記浸透促進待ち物質の浸透を促進することができ、更に前記浸透促進待ち物質の肌での堆積を有効に回避することができ、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータが小さくなった時に、肌表面に吐出する浸透促進待ち物質の量が小さくなり、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を小さくすることによって、イオン浸透促進アセンブリ２０の大き過ぎるエネルギーによる肌損傷を防止することができる。

【0045】

例として、前記吐出関連パラメータと出力強度との所定の対応関係は、流量０．５ｍＬ／ｓが出力強度Ｐ１に対応し、流量１．０ｍＬ／ｓが出力強度Ｐ２に対応し、Ｐ１＜Ｐ２であることを定義している。

【0046】

いくつかの実施例では、前記検出信号により前記美容器１００が肌と接触していると決定した時に、肌に前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置１０を制御する前記ステップは、前記検出信号により前記美容器１００が肌と接触していると決定した時に、所定流速及び／又は所定流量を含む所定液体吐出パラメータで前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置１０を制御するステップを含む。上述したように前記検出信号により前記美容器１００が肌と接触していると決定した時に、前記方法は、所定の出力強度で出力するように前記イオン浸透促進アセンブリ２０を制御するステップを更に含む。

【0047】

即ち、前記検出信号により前記美容器１００が肌と接触していると決定した時に、前記所定液体吐出パラメータで前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置１０を制御し、前記所定出力強度で出力するように前記イオン浸透促進アセンブリ２０を制御する。即ち、前記美容器１００が肌と接触していることを検出した時に、吐出と出力を行うように前記液体吐出装置１０と前記イオン浸透促進アセンブリ２０を同時に制御し、また、それぞれ前記所定液体吐出パラメータと前記所定出力強度で吐出と出力を行う。

【0048】

ここで、前記所定液体吐出パラメータと前記所定出力強度は、実際の需要に応じて設定することができ、また、前記所定液体吐出パラメータと前記所定出力強度を対応付けることは、前記イオン浸透促進アセンブリ２０のイオン浸透促進作用の向上、及び前記浸透促進待ち物質の浸透率の向上に有利である。

【0049】

いくつかの実施例では、前記浸透促進制御方法は、前記液体吐出装置１０が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に、前記美容器１００と肌との間の距離値を検出するステップと、検出した前記美容器１００と肌との間の距離値により、流速及び／又は流量を含む、前記液体吐出装置１０の液体吐出パラメータを調節するように制御するステップとを更に含む。

【0050】

ここで、前記美容器１００と肌との間の距離値を検出する前記ステップは、前記接触面５１と肌との間の距離値を検出するステップを含んでもよい。

【0051】

ここで、前記美容器１００と肌との間の距離値を検出し、当該距離値により前記液体吐出装置１０の液体吐出パラメータを調整することによって、前記液体吐出装置１０の出力強度と美容器１００と肌の距離とを対応付けることができる。

【0052】

いくつかの実施例では、検出した前記美容器１００と肌との間の距離値により、前記液体吐出装置１０の液体吐出パラメータを調節するように制御する前記ステップは、検出した前記距離値が小さくなった時に、前記液体吐出装置１０の液体吐出パラメータを小さくするように制御するステップと、検出した前記距離値が大きくなった時に、前記液体吐出装置１０の液体吐出パラメータを大きくするように制御するステップと、検出した距離値が所定の距離閾値より大きい時に、出力を停止させるように前記液体吐出装置１０を制御するステップとを含む。

【0053】

ここで、前記美容器１００と肌との間の距離が小さくなった時に、液体吐出装置１０の液体吐出パラメータを小さくすることによって、前記液体吐出装置１０から吐出される浸透促進待ち物質が多過ぎて液体吐出口を塞いだり、肌に堆積する浸透促進待ち物質が多過ぎたりするのを回避することができる。

【0054】

ここで、前記美容器１００と肌との間の距離が大きくなった時に、液体吐出装置１０の液体吐出パラメータを大きくすることによって、十分な浸透促進待ち物質を吐出して肌を覆うことができる。

【0055】

ここで、前記距離値が前記所定距離閾値より大きい時に、前記美容器１００が肌から離れ、肌と接触しなくなったと理解することができ、出力を停止させるように前記液体吐出装置１０を制御することによって、浸透促進待ち物質の浪費を回避することができ、美容コストを低下させることができる。

【0056】

ここで、前記所定距離閾値は、実際の需要に応じて設定することができ、ここで限定されない。

【0057】

ここで、距離センサーによって、前記美容器１００と肌との間の距離値を検出し、当該距離値を前記制御モジュール３０に送信することができ、前記制御モジュール３０は当該距離値を受信すると、当該距離値により前記液体吐出装置１０の出力を制御する。

【0058】

いくつかの実施例では、前記検出信号により前記美容器１００が肌と接触していると決定した時に、肌に前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置１０を制御する前記ステップは、前記検出信号により前記美容器１００が肌と接触していると決定した時に、所定流速及び／又は所定流量を含む所定液体吐出パラメータで前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置１０を制御するステップを含む。前記液体吐出装置１０が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定する上記のステップは、前記液体吐出装置１０が前記所定液体吐出パラメータで前記浸透促進待ち物質を吐出する時に、肌に吐出する前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定するステップを含む。

【0059】

即ち、前記美容器１００が肌と接触していると決定した時に、前記所定液体吐出パラメータで浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置１０を制御し、前記液体吐出装置１０が前記所定液体吐出パラメータで浸透促進待ち物質を吐出する時に、肌に吐出する浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定し、決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を調節するように制御する。

【0060】

ここで、前記美容器１００が肌と接触していると決定した時に、まず、前記所定液体吐出パラメータで前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置１０を制御し、前記液体吐出装置１０が前記浸透促進待ち物質を吐出した後、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定し、決定した前記吐出関連パラメータにより前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を制御することによって、前記浸透促進待ち物質の吐出状況に応じて、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を制御し、イオン浸透促進アセンブリ２０のイオン浸透促進効果を向上させることができる。

【0061】

いくつかの実施例では、決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を調節するように制御する前記ステップは、第１所定時間長内に決定した流速及び／又は流量が小さくなり且つ減少量が第１所定液体吐出変化量以上である時に、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を小さくするように制御するステップと、第１所定時間長内に決定した流速及び／又は流量が大きくなり且つ増大量が第２所定液体吐出変化量以上である時に、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を大きくするように制御するステップとを含む。前記第１所定時間長は、実際の需要に応じて設定することができる。前記第１所定液体吐出変化量及び前記第２所定液体吐出変化量は、実際の需要に応じて設定することができる。前記第１所定液体吐出変化量と前記第２所定液体吐出変化量は同じであっても、異なってもよい。

【0062】

いくつかの実施例では、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を前記目標出力強度に調節するように制御する上記のステップは、前記減少量又は増大量を含む変化量により前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を調節して、前記目標出力強度に調節するステップを含む。

【0063】

ここで、前記変化量により前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を調節するステップは、前記変化量が所在する目標変化量区間を決定するステップと、所定の変化量区間と調節ポリシーとの所定の対応関係により、前記目標変化量区間に対応する調節ポリシーを目標調節ポリシーとして決定するステップと、前記目標調節ポリシーを用いて前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を調節するステップとを含んでもよい。

【0064】

ここで、前記変化量区間と調節ポリシーとの所定の対応関係は複数の変化量区間と多種のポリシー方式との対応関係を定義しており、各変化量区間はそれぞれ一種の調節ポリシーに対応する。前記複数の変化量区間は変化量の値の次第増大順序で予め並べられ、隣接する二つの変化量区間のうち、後に並べられた変化量区間の下限値が前に並べられた変化量区間の上限値より大きい。前記複数の変化量区間は順に並べられた複数の第１変化量区間及び複数の第２変化量区間を含み、前記複数の第２変化量区間の下限値が前記複数の第１変化量区間の上限値より大きく、前記調節ポリシーは調節方式及び調整幅を含み、前記複数の第１変化量区間は調節方式が同じで、調整幅が異なり、前記複数の第２変化量区間は調節方式が同じで、調整幅が異なる。

【0065】

ここで、前記複数の第１変化量区間は全て第１調節方式に対応し、前記複数の第１変化量区間に対応する調整幅は複数の第１変化量区間の並び順に応じて次第に増大し、即ち、前記変化量が前記第１変化区間内にある時に、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度の調整幅は前記複数の第１変化量区間の並び順に応じて次第に増大する。前記第１調節方式は二方向ステッピング調整であり、即ち第１方向と第２方向に沿って切り替えてステッピング調整を行い、前記第１方向が次第に前記目標出力強度に接近する方向であり、前記第２方向が第１方向とは反対であり、つまり、前記変化量が前記第１変化量区間内にある時に、前記出力強度の調節過程で、前記出力強度の増大、減少を切り替えて行い、ここで、増大時の調整幅が減少時の調整幅より大きく、このように出力強度が全体的に向上する。

【0066】

前記複数の第２変化量区間は全て第２調節方式に対応し、前記複数の第２変化量区間に対応する調整幅は複数の第２変化量区間の並び順に応じて次第に増大し、即ち、前記変化量が前記第２変化量区間内にある時に、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度の調整幅は前記複数の第２変化量区間の並び順に応じて次第に増大する。前記第２調節方式は一方向ステッピング調整であり、即ち第１方向に沿ってステッピング調整を行い、つまり、前記変化量が前記第２変化量区間内にある時に、前記出力強度の調節過程で、前記出力強度が常に増大する。

【0067】

例として、前記複数の第１変化量区間は第１変化量区間［０．１ｍＬ／ｓ，０．１２ｍＬ／ｓ）、第１変化量区間［０．１２ｍＬ／ｓ，０．１４ｍＬ／ｓ）、第１変化量区間［０．１４ｍＬ／ｓ，０．１６ｍＬ／ｓ）及び第１変化量区間［０．１６ｍＬ／ｓ，０．１８ｍＬ／ｓ］を含み、第１変化量区間［０．１ｍＬ／ｓ，０．１２ｍＬ／ｓ）が第１調節方式に対応し、対応する調整幅がＰ１であり、第１変化量区間［０．１２ｍＬ／ｓ，０．１４ｍＬ／ｓ）が第１調節方式に対応し、対応する調整幅がＰ２であり、Ｐ１＜Ｐ２であり、第１変化量区間［０．１４ｍＬ／ｓ，０．１６ｍＬ／ｓ］が第２調節方式に対応し、対応する調整幅がＰ３であり、第１変化量区間［０．１６ｍＬ／ｓ，０．１８ｍＬ／ｓ］が第２調節方式に対応し、対応する調整幅がＰ４であり、Ｐ３＜Ｐ４である。

【0068】

前記減少量が０．１２ｍＬ／ｓである時に、前記第１調節方式を用いてＰ２を調整幅として調節し、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を前記目標出力強度まで減少させ、前記増大量が０．１７ｍＬ／ｓである時に、前記第２調節方式を用いてＰ３を調整幅として調節し、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を前記目標出力強度まで増大させる。

【0069】

ここで、前記変化量が前記第２変化量区間内にある時に、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の現在出力強度と前記目標出力強度との差が大きく、上述した一方向ステッピング調整方式で前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を調節することで、前記イオン浸透促進アセンブリ２０が前記目標出力強度まで速やかに減少したり、増大したりすることができ、また、第２変化量区間の値の増大に伴い、調整幅が大きくなり、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度の前記目標出力強度への変化を更に加速することができる。

【0070】

ここで、前記変化量が前記第１変化量区間内にある時に、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の現在出力強度と前記目標出力強度との差が小さく、上述した二方向ステッピング調整方式で前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を調節することで、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度の変化が大き過ぎることを回避することができ、更に、前記変化量が減少量である時に、出力強度の向上が多過ぎて前記目標出力強度を超えることを回避することができ、前記変化量が増大量である時に、出力強度の低下が多過ぎて前記目標出力強度より低くなることを回避することができ、これによって、前記出力強度の調節をより精確にすることができ、また、第１変化量区間の値の増大に伴って、調整幅が大きくなり、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度の前記目標出力強度への変化を加速することができる。

【0071】

いくつかの実施例では、前記方法は、前記減少量が所定の減少量閾値より大きい及び／又は増大量が所定の増大量閾値より大きい場合に、液体吐出異常を通知する通知情報を送信するように前記美容器１００を制御するステップ、及び／又は、所定の出力電力で出力するように前記イオン浸透促進アセンブリ２０を制御するステップ、及び／又は、浸透促進待ち物質の吐出を停止させるように前記液体吐出装置１０を制御するステップを更に含む。これによってユーザは適時に液体吐出異常の原因を調べることができ、肌でのやけど発生及びエネルギー浪費を回避する。

【0072】

ここで、前記美容器１００のディスプレイ、通信モジュール、音声アセンブリ、振動アセンブリ等によって前記液体吐出異常の通知情報を送信することができる。

【0073】

ここで、前記所定の減少量閾値及び所定の増大量閾値は、実際の需要に応じて設定することができる。前記所定の出力電力が０以上であり、いくつかの実施例では、前記所定の出力電力は小さくしてもよい。

【0074】

本願の更に別の実施例で提供される浸透促進制御方法のフローチャートである図４を参照されたい。いくつかの実施例では、図４に示すように、前記浸透促進制御方法は、下記のステップＳ５０及びステップＳ６０を更に含む。
Ｓ５０：液体吐出調節操作に応答して、調節されて到達すべき目標液体吐出パラメータを含む液体吐出調節情報を含む液体吐出調節トリガ信号を生成する。
Ｓ６０：前記液体吐出調節トリガ信号を受信し、流速及び／又は流量を含む、前記液体吐出装置１０の液体吐出パラメータを前記目標液体吐出パラメータに調節するように制御する。

【0075】

前記液体吐出装置１０が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定する上記のステップは、前記液体吐出装置１０が前記目標液体吐出パラメータで前記浸透促進待ち物質を吐出する時に、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定するステップを含む。

【0076】

即ち、前記液体吐出調節操作に応答して前記液体吐出装置１０の液体吐出パラメータを前記目標液体吐出パラメータに調節するように制御し、前記液体吐出装置１０が前記目標液体吐出パラメータで吐出する時に、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定し、決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を調節するように制御する。

【0077】

これによって、ユーザが液体吐出調節操作を行った時に、当該液体吐出調節操作に応答して、前記液体吐出装置１０の液体吐出パラメータを調節するように制御することができ、また、前記液体吐出装置１０の液体吐出パラメータが変わった時に、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を適時に調整し、これにより前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度が前記液体吐出装置１０の液体吐出パラメータの変化に伴って変化し、更に前記イオン浸透促進アセンブリ２０のイオン浸透促進作用を向上させることができる。

【0078】

いくつかの実施例では、前記美容器１００には少なくとも二つの液体吐出レベルが設けられており、各液体吐出レベルがそれぞれ液体吐出装置１０の一つの液体吐出パラメータに対応し、異なる液体吐出レベルに対応する液体吐出パラメータが異なる。上述した液体吐出調節情報は調節されて到達すべき目標液体吐出レベル及び前記目標液体吐出レベルに対応する液体吐出パラメータ、即ち調節されて到達すべき目標液体吐出パラメータを含む。

【0079】

ここで、図２に示す美容器１００の別の角度の構造模式図である図５に示すように、前記美容器１００は、ユーザが液体吐出調節操作を行って前記液体吐出調節トリガ信号を生成するための少なくとも二つの液体吐出レベルボタン６０を含んでもよく、生成する液体吐出調節トリガ信号はユーザが選択した目標液体吐出レベル及び前記目標液体吐出レベルに対応する液体吐出パラメータを含む。

【0080】

いくつかの実施例では、図５に示すように、前記美容器１００はディスプレイ４０を含んでもよい。いくつかの実施例では、前記ディスプレイ４０にはユーザが液体吐出調節操作を行って前記液体吐出調節トリガ信号を生成するための液体吐出パラメータ入力インタフェースが設けられている。ここで、ユーザは前記液体吐出パラメータ入力インタフェースで前記調節されて到達すべき目標液体吐出パラメータを入力することができ、生成する前記液調節トリガ信号は前記目標液体吐出パラメータを含む。

【0081】

いくつかの実施例では、前記液体吐出装置１０が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定する前記ステップは、前の時刻及び現在時刻の前記液体吐出装置１０内の浸透促進待ち物質の残量を検出するステップと、現在時刻と前の時刻との間隔時間長を吐出時間長とするステップと、検出した前の時刻と現在時刻の前記浸透促進待ち物質の残量及び前記吐出時間長により、前記浸透促進待ち物質の現在時刻の吐出関連パラメータを決定するステップとを含む。

【0082】

ここで、前記浸透促進待ち物質の残量及び前記液体吐出装置１０が前記浸透促進待ち物質を吐出する吐出時間長により、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定することによって、浸透促進待ち物質を吐出する時にリアルタイム且つ正確な浸透促進待ち物質の流速及び／又は流量を得ることができ、更にリアルタイムで得られた流速及び／又は流量により出力強度を調整することができ、これにより前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力調整がより精確になる。

【0083】

ここで、検出した現在時刻の浸透促進待ち物質の残量と検出した前の時刻の浸透促進待ち物質の残量との差を前記出力時間長で割ると、前記浸透促進待ち物質の現在時刻の流量を得ることができ、更に前記浸透促進待ち物質の現在時刻の流速を得ることができる。

【0084】

ここで、前記の前の時刻と前記現在時刻との間隔時間長は予め設定することができる。予め設定された所定の間隔時間長により前記液体吐出装置１０内の浸透促進待ち物質の残量を検出することができる。いくつかの実施例では、前記の前の時刻と前記現在時刻との間の所定の間隔時間長は非常に短くしてもよく、これにより得られた現在時刻の吐出関連パラメータはリアルタイムな吐出関連パラメータである。

【0085】

ここで、前記美容器１００が浸透促進待ち物質の吐出を開始する最初時刻にある時に、前記浸透促進待ち物質の流速及び流量が０となり、最初時刻の前記液体吐出装置１０内の浸透促進待ち物質の残量を検出し記録する。前記美容器１００が前記所定間隔時間長吐出した後の現在時刻に、前記液体吐出装置１０内の浸透促進待ち物質の残量を再度検出し、検出した前記最初時刻の残量と前記現在時刻の残量及び前記所定間隔時間長により、現在時刻の前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを算出することができる。

【0086】

ここで、隣接する二つの時刻間の所定間隔時間長は同じであっても、異なってもよく、例えば、前記美容器１００はそれぞれＴ１時刻、Ｔ２時刻及びＴ３時刻に前記浸透促進待ち物質の残量を検出し、隣接するＴ１時刻とＴ２時刻の間隔時間長及び隣接するＴ２時刻とＴ３時刻の間隔時間長は同じであっても、異なってもよい。

【0087】

いくつかの実施例では、前記美容器１００は液体吐出検出モジュールを含んでもよく、前記液体吐出検出モジュールは、光学式液位センサー、フロート式液位センサー、抵抗式液位センサー、非接触型静電容量式液位センサー、非接触型超音波液位センサー等を含んでもよく、前記液体吐出装置１０内の浸透促進待ち物質の残量を検出して前記制御モジュール３０に送信するために用いられ、前記制御モジュール３０は受信した残量及び吐出時間長により前記吐出関連パラメータを算出する。

【0088】

ここで、前記液体吐出検出モジュールによって前記液体吐出装置１０内の浸透促進待ち物質の体積を検出することができ、更に、検出した体積及び吐出時間長により前記浸透促進待ち物質の流量を算出することができ、更に、算出した流量と前記液体吐出装置１０の液体貯蔵室の横断面積により前記浸透促進待ち物質の流速を算出することができ、ここで、前記液体吐出装置１０は前記浸透促進待ち物質を貯蔵している液体貯蔵室を含む。

【0089】

更に、前記液体吐出検出モジュールによって前記液体吐出装置１０内の浸透促進待ち物質の高さを検出することができ、更に、検出した高さ及び吐出時間長により前記美浸透促進待ち物質の流速を算出することができ、更に、算出した流速と前記液体吐出装置１０の液体貯蔵室の横断面積により前記浸透促進待ち物質の流量を算出することができる。

【0090】

例として、前の時刻に検出した前記浸透促進待ち物質の残量が１０ｍＬであり、現在時刻に検出した浸透促進待ち物質の残量が９．５ｍＬであり、前の時刻と現在時刻との間隔時間長が１ｓであり、即ち前記吐出時間長が１ｓであると、現在時刻の前記浸透促進待ち物質の流量が（１０ｍＬ－９．５ｍＬ）／１ｓ、即ち０．５ｍＬ／ｓである。

【0091】

いくつかの実施例では、前記液体吐出検出モジュールは流量計を含んでもよく、前記流量計によって、前記液体吐出装置１０が前記浸透促進待ち物質を吐出する時に前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを検出することができる。

【0092】

いくつかの実施例では、前記浸透促進制御方法は、ユーザが液体吐出調節操作を行うか否かを決定するように、決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータの情報を送信するように前記美容器１００を制御するステップを更に含む。

【0093】

ユーザは前記美容器１００から送信された前記浸透促進待ち物質の現在時刻の吐出関連パラメータの情報を取得した時に、現時点の浸透促進待ち物質の吐出状況及び自分の体感に合わせて液体吐出調節操作を行うことができ、例えば、肌が乾燥していると感じると、浸透促進待ち物質がより多く吐出されるように、前記液体吐出装置１０の液体吐出パラメータを大きくするように調節することができる。

【0094】

ここで、いくつかの実施例では、決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータをリアルタイムで表示するように前記美容器１００のディスプレイ４０を制御することができる。別の実施例では、前記美容器１００はブルートゥース等の通信モジュールによって前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータの情報をユーザの端末機器に送信することができ、これによりユーザは前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータの情報を取得することができる。

【0095】

いくつかの実施例では、図２に示すように、前記液体吐出装置１０は、前記浸透促進待ち物質を貯蔵している液体貯蔵アセンブリ１１と、前記液体貯蔵アセンブリ１１に貯蔵されている前記浸透促進待ち物質を肌に吐出するための駆動機構１２を含む。

【0096】

ここで、前記駆動機構１２は、液体吐出ポンプ１２１と、前記制御モジュール３０に電気的に接続されるモータ１２２とを含み、前記制御モジュール３０は前記モータ１２２及び前記液体吐出ポンプ１２１によって、前記液体貯蔵アセンブリ１１内の浸透促進待ち物質を肌表面に吐出するように制御することができる。

【0097】

前記液体吐出装置１０の液体吐出パラメータを前記目標液体吐出パラメータに調節する上記のステップは、所定の液体吐出パラメータと出力電力との所定の対応関係により、前記液体吐出装置１０の目標液体吐出パラメータに対応する目標出力電力を決定するステップと、前記目標出力電力で出力するように前記駆動機構１２を制御することで、前記液体吐出装置１０に前記目標液体吐出パラメータで前記浸透促進待ち物質を吐出させるステップとを含む。

【0098】

ここで、前記液体吐出パラメータと出力電力との所定の対応関係は少なくとも二つの液体吐出パラメータと少なくとも二つの出力電力との対応関係を定義しており、各液体吐出パラメータが一つの出力電力に対応する。前記液体吐出パラメータと出力電力との所定の対応関係は予め前記メモリに記憶することができる。

【0099】

ここで、前記駆動機構１２の出力電力と前記液体吐出装置１０の液体吐出パラメータは正の相関である。

【0100】

前記液体貯蔵アセンブリ１１内の浸透促進待ち物質の吐出を駆動するように前記駆動機構１２を制御することによって、前記浸透促進待ち物質の流速又は流量の調節をより精確にすることができる。

【0101】

いくつかの実施例では、図２に示す美容器１００の部分構造模式図である図６を参照されたい。いくつかの実施例では、図６に示すように、前記接触端部５０は、前記接触面５１に設けられ、前記液体吐出装置１０に連通されており、前記液体吐出装置１０内の浸透促進待ち物質の肌表面への吐出に用いられる液体吐出口５２を更に含む。

【0102】

図６に示すように、前記接触端部５０は、連結通路５３と、それぞれ前記液体吐出口５２及び前記連結通路５３に連通されている液体吐出通路５４とを更に備える。

【0103】

図６に示すように、前記液体貯蔵アセンブリ１１は、液体吐出端１１１と、前記液体吐出端１１１に連通されている液体貯蔵室１１２とを含み、前記液体貯蔵室１１２には前記浸透促進待ち物質が貯蔵されており、前記液体吐出端１１１は前記液体貯蔵室１１２内の浸透促進待ち物質を外へ吐出するためのものであり、前記液体吐出ポンプ１２１は抽気口１２１１を含む。前記液体吐出装置１０は更に第１連結管と第２連結管（図示せず）を含み、前記第１連結管の相対的両端はそれぞれ前記液体吐出端１１１及び前記液体吐出通路５４に連通され、前記第２連結管の相対的両端はそれぞれ前記抽気口１２１１及び前記連結通路５３に連通されている。前記液体吐出ポンプ１２１は抽気して液体吐出通路５４と前記液体貯蔵アセンブリ１１の内部に圧力差を発生させることに用いられ、それにより前記液体貯蔵室１１２内の浸透促進待ち物質は前記液体吐出端１１１から吐出され、前記第１連結管を経由して前記液体吐出通路５４に入り、次に前記液体吐出口５２に吐出され、即ち、前記浸透促進待ち物質は前記液体貯蔵アセンブリ１１内から前記接触端部５０の外面に吐出される。

【0104】

上述した流量計は前記液体吐出端１１１に設けることができる。

【0105】

ここで、前記少なくとも二つの電極２１は前記液体吐出口５２のまわりに設けることができ、これによって、前記少なくとも二つの電極２１から出力されるエネルギーが前記浸透促進待ち物質によって被覆されている肌領域に作用し、このように前記液体吐出口５２から吐出される前記浸透促進待ち物質に対してイオン浸透促進作用をより精確に施す。

【0106】

いくつかの実施例では、前記接触面５１には、少なくとも一つの第１液体吐出口及び少なくとも一つの第２液体吐出口を含む少なくとも二つの液体吐出口５２が設けられていてもよく、前記液体吐出装置１０はそれぞれ前記少なくとも一つの第１液体吐出口及び少なくとも一つの第２液体吐出口に連通することができ、前記液体吐出装置１０内の浸透促進待ち物質は前記少なくとも一つの第１液体吐出口及び少なくとも一つの第２液体吐出口から肌表面に吐出することができる。前記少なくとも二つの電極２１は少なくとも二つの第１電極及び少なくとも二つの第２電極を含む。前記少なくとも二つの第１電極は前記第１液体吐出口のまわりに設けることができ、前記少なくとも二つの第２電極は前記第２液体吐出口のまわりに設けることができる。

【0107】

前記美容器１００は、目元液体吐出モード、頬液体吐出モード及び顔全体液体吐出モードのうちの少なくとも二種の液体吐出モードが設定されており、前記美容器１００が前記目元液体吐出モードである時に、前記制御モジュール３０によって、前記液体吐出装置１０内の浸透促進待ち物質が前記第１液体吐出口のみから肌表面に吐出されるように制御することができ、前記美容器１００が前記頬液体吐出モードである時に、前記制御モジュール３０によって、前記液体吐出装置１０内の浸透促進待ち物質が前記第２液体吐出口のみから肌表面に吐出されるように制御することができ、前記美容器１００が前記顔全体液体吐出モードである時に、前記制御モジュール３０によって、前記液体吐出装置１０内の浸透促進待ち物質が前記第１液体吐出口と前記第２液体吐出口から肌表面に吐出されるように制御することができる。

【0108】

前記美容器１００が前記目元液体吐出モードである時に、前記制御モジュール３０によって、前記少なくとも二つの第１電極がそれぞれ極性の反対な電圧を出力し、且つ前記少なくとも二つの第２電極が出力を停止するように制御することができる。前記美容器１００が前記頬液体吐出モードである時に、前記制御モジュール３０によって、前記少なくとも二つの第２電極がそれぞれ極性の反対な電圧を出力し、且つ前記少なくとも二つの第１電極が出力を停止するように制御することができる。前記美容器１００が前記顔全体液体吐出モードである時に、前記制御モジュール３０によって、前記少なくとも二つの第１電極及び前記少なくとも二つの第２電極がそれぞれ極性の反対な電圧を出力するように制御することができる。これによって、イオン浸透促進作用と前記浸透促進待ち物質が吐出される肌領域とが対応付けられ、このように、目元液体吐出モード及び頬液体吐出モードでエネルギーの浪費の回避及び顔全体モードでの顔全体浸透促進効率の向上を図ることができる。

【0109】

いくつかの実施例では、前記方法は、液体吐出モード選択操作に応答して、目標液体吐出モードを決定するステップを更に含む。前記検出信号により前記美容器１００が肌と接触していると決定した時に、肌に前記浸透促進待ち物質を吐出するように前記液体吐出装置１０を制御する前記ステップは、前記検出信号により前記美容器１００が肌と接触していると決定した時に、前記目標液体吐出モードにより、前記液体吐出装置１０内の浸透促進待ち物質を前記第１液体吐出口及び／又は前記第２液体吐出口から肌表面に吐出するように制御するステップを含む。

【0110】

いくつかの実施例では、前記液体吐出装置１０が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定する上記のステップは、前記第１液体吐出口から吐出される浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータ及び／又は前記第２液体吐出口から吐出される浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定するステップを含む。決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を調節するように制御する上記のステップは、決定した前記第１液体吐出口から吐出される浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記少なくとも二つの第１電極の出力強度を調節するように制御し、及び／又は、決定した前記第２液体吐出口から吐出される浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記少なくとも二つの第２電極の出力強度を調節するように制御するステップを含む。これによって、異なる液体吐出モードで、異なる液体吐出口５２から吐出される浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、対応する電極２１の出力強度を調整することができ、このようにして前記イオン浸透促進アセンブリ２０のイオン浸透促進作用の調節はより指向性がある。

【0111】

ここで、前記制御モジュール３０によって、前記液体吐出装置１０が浸透促進待ち物質を前記第１液体吐出口に吐出する液体吐出パラメータが、前記液体吐出装置１０が浸透促進待ち物質を前記第２液体吐出口に吐出する液体吐出パラメータ以下であるように制御することができ、目元領域は頬領域に比べて面積が小さいので、小さい液体吐出パラメータで浸透促進待ち物質を吐出することで、目元領域美容を満たした上で浸透促進待ち物質の浪費を回避することができる。

【0112】

ここで、前記制御モジュール３０によって、前記少なくとも二つの第１電極の出力強度が前記少なくとも二つの第２電極の出力強度以下であるように制御することができ、目元領域の肌が頬領域の肌に比べて薄くて弱いので、小さい出力強度で出力することで、目元領域美容を満たした上で目元の肌でのやけど発生を回避することができる。

【0113】

再度図２を参照すると、本願の実施例は美容器１００を更に提供し、図２に示すように、以上で説明したように、前記美容器１００は、液体吐出装置１０、イオン浸透促進アセンブリ２０及び制御モジュール３０を含む。前記液体吐出装置１０は、内部に浸透促進待ち物質を貯蔵しており、肌に前記浸透促進待ち物質を吐出するために用いられる。前記イオン浸透促進アセンブリ２０は、間隔を置いて設けられている、それぞれ極性が反対な電圧を出力する時に前記液体吐出装置１０が肌に吐出した浸透促進待ち物質の肌への染み込みを駆動するために用いられる少なくとも二つの電極２１を含む。前記制御モジュール３０は、前記液体吐出装置１０及びイオン浸透促進アセンブリ２０に接続されており、前記液体吐出装置１０が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に、流速及び／又は流量を含む、前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを検出し、決定した前記浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を調節するように制御するために用いられる。

【0114】

本願の実施例で提供される前記美容器１００は、前記液体吐出装置１０が肌表面に吐出する浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定し、前記吐出関連パラメータにより前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度を調節するように制御することによって、前記イオン浸透促進アセンブリ２０の出力強度と肌表面に吐出する浸透促進待ち物質の吐出状況とを対応付けることができ、更に前記イオン浸透促進アセンブリ２０のイオン浸透促進作用を最適状態にすることができ、浸透促進待ち物質の浪費を回避することもできる。

【0115】

いくつかの実施例では、前記制御モジュール３０はＣＰＵ（中央処理装置）、ＤＳＰ（デジタル信号プロセッサ）、ワンチップマイコン等のプロセッシングチップを含んでもよい。

【0116】

いくつかの実施例では、図２及び図５に示すように、前記美容器１００は、前記液体吐出装置１０、イオン浸透促進アセンブリ２０、液体吐出検出モジュール、制御モジュール３０、ディスプレイ４０及び接触端部５０を収容する収容空間を有するケーシング７０を更に含む。

【0117】

ここで、前記美容器１００は上述した浸透促進制御方法に対応するものであり、より詳細な説明については上述した浸透促進制御方法の各実施例の内容を参照でき、前記美容器１００と上述した浸透促進制御方法の内容は相互に参照してもよい。

【0118】

本願の実施例は、プロセッサにより呼び出されてから実行されて、上述したいずれか一つの実施例で提供された浸透促進制御方法を実現するコンピュータプログラムを記憶しているコンピュータ可読記憶媒体を更に提供する。

【0119】

当業者に理解されるように、上記実施例の各方法中の全て又は一部のステップは、プログラムが関連するハードウェアに命令することで完成でき、このプログラムはコンピュータ可読メモリに記憶することができ、メモリはフラッシュドライブ、読み出し専用メモリ、ランダムアクセスメモリ、磁気ディスク又は光ディスク等を含んでもよい。

【0120】

説明必要なことは、上述した各方法の実施例については、簡単に説明するために、シリーズ的な動作組み合わせとして説明したが、当業者であれば、本願によれば一部のステップを他の順序で実行してもよく、又は同時に実行してもよいので、本願が記述された動作順序に限定されないことを知るべきである点である。そして、当業者であれば、明細書に記述された実施例が全て好ましい実施例であり、関連する動作やモジュールが必ず本願に不可欠なものであるというわけでないことも知るべきである。

【0121】

上記実施例では、各実施例についての説明は重点が異なり、ある実施例において詳細に説明されない部分は、他の実施例の関連説明を参照してもよい。

【0122】

以上は本願の実施例の実施形態であり、指摘すべきことは、当業者であれば、本願の実施例の原理から逸脱しない限り、更に若干の改良や修飾を行うことができ、これらの改良や修飾も本願の保護範囲と見なされる点である。

【符号の説明】

【0123】

１０ 液体吐出装置
１１ 液体貯蔵アセンブリ
１２ 駆動機構
２０ イオン浸透促進アセンブリ
２１ 電極
３０ 制御モジュール
４０ ディスプレイ
５０ 接触端部
５１ 接触面
５２ 液体吐出口
５３ 連結通路
５４ 液体吐出通路
６０ 液体吐出レベルボタン
７０ ケーシング
１００ 美容器
１１１ 液体吐出端
１１２ 液体貯蔵室
１２１ 液体吐出ポンプ
１２２ モータ
１２１１ 抽気口

【要約】      （修正有）

【課題】浸透促進制御方法、美容器及び記憶媒体を提供する。
【解決手段】美容器は、貯蔵された浸透促進待ち物質と吐出するために用いられる液体吐出装置と、浸透促進待ち物質の肌への染み込みを駆動するために用いられる少なくとも二つの電極を含むイオン浸透促進アセンブリとを含む。浸透促進制御方法は、液体吐出装置が肌に浸透促進待ち物質を吐出する時に、流速及び／又は流量を含む、浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータを決定するステップと、決定した浸透促進待ち物質の吐出関連パラメータにより、イオン浸透促進アセンブリの出力強度を調節するように制御するステップとを含む。浸透促進吐出制御方法によると、イオン浸透促進アセンブリの出力強度と液体吐出装置から吐出される浸透促進待ち物質とが対応付けられ、更にイオン浸透促進作用を最適状態にすることができる。
【選択図】図１

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】