特許 7577559 弾性波デバイス、ウエハ、フィルタおよびマルチプレクサ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-10-25

(45)【発行日】2024-11-05

(54)【発明の名称】弾性波デバイス、ウエハ、フィルタおよびマルチプレクサ

(51)【国際特許分類】

   H03H 9/25 20060101AFI20241028BHJP

   H03H 9/64 20060101ALI20241028BHJP

   H03H 9/72 20060101ALI20241028BHJP

【ＦＩ】

H03H9/25 C

H03H9/64 Z

H03H9/72

【請求項の数】 11

(21)【出願番号】P 2021022002

(22)【出願日】2021-02-15

(65)【公開番号】P2022124310

(43)【公開日】2022-08-25

【審査請求日】2024-01-16

(73)【特許権者】

【識別番号】000204284

【氏名又は名称】太陽誘電株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110004370

【氏名又は名称】弁理士法人片山特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】山本 慎二

【審査官】福田 正悟

(56)【参考文献】

【文献】国際公開第２０１９／１１１８９３（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２００１－１７０４８７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０２０－１３６７８３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－１９５９３６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０２０－２０５６２１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０３－０４９３１２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００９－５５６２５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００８－５４２７７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００８－５４２７６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０３Ｈ ９／２５

Ｈ０３Ｈ ９／６４

Ｈ０３Ｈ ９／７２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

支持基板と、
前記支持基板上に設けられた圧電層と、
前記圧電層上に設けられ、弾性波を励振する複数の電極指を備える少なくとも一対の櫛型電極と、
前記支持基板と前記圧電層との間に設けられ、酸化シリコンを主成分とする第２の中間層と、
前記支持基板と前記第２の中間層との間に設けられ、前記圧電層より厚く、バルク波の音速が前記第２の中間層におけるバルク波の音速より速い、多孔質である中間層と、
を備え、
前記中間層の空隙率は０．１％以上かつ２０％以下である弾性波デバイス。

【請求項2】

前記第２の中間層は前記中間層より空隙率が低い請求項１に記載の弾性波デバイス。

【請求項3】

前記中間層は柱状構造を有し、多孔質の細孔は結晶粒の粒界に設けられている請求項１または２に記載の弾性波デバイス。

【請求項4】

支持基板と、
前記支持基板上に設けられた圧電層と、
前記圧電層上に設けられ、弾性波を励振する複数の電極指を備える少なくとも一対の櫛型電極と、
前記支持基板と前記圧電層との間に設けられ、前記圧電層より厚い中間層と、
前記中間層と前記圧電層との間に設けられ、前記中間層と同じく酸化シリコンを主成分に有し、バルク波の音速が前記中間層におけるバルク波の音速より遅く、前記中間層の密度より大きい密度を有する第２の中間層と、
を備え、
前記中間層の空隙率は０．１％以上かつ２０％以下である弾性波デバイス。

【請求項5】

前記支持基板は、サファイア基板、スピネル基板、石英基板、水晶基板、又はアルミナ基板である請求項１から４のいずれか一項に記載の弾性波デバイス。

【請求項6】

前記中間層は前記第２の中間層より厚い請求項１から５のいずれか一項に記載の弾性波デバイス。

【請求項7】

前記圧電層の厚さは、前記一対の櫛型電極の一方の櫛型電極が有する電極指の平均のピッチより小さい請求項１から６のいずれか一項に記載の弾性波デバイス。

【請求項8】

前記第２の中間層の前記支持基板側の面と前記圧電層の前記一対の櫛型電極側の面との間の距離は、前記複数の電極指の平均ピッチの４倍以下である請求項１から７のいずれか一項に記載の弾性波デバイス。

【請求項9】

支持基板と、
前記支持基板上に設けられた圧電層と、
前記支持基板と前記圧電層との間に設けられ、酸化シリコンを主成分とする第２の中間層と、
前記支持基板と前記第２の中間層との間に設けられ、酸化アルミニウム膜、シリコン膜、窒化アルミニウム膜、窒化シリコン膜、または炭化シリコン膜であり、前記圧電層より厚く、多孔質である中間層と、
を備え、
前記中間層の空隙率は０．１％以上かつ２０％以下であるウエハ。

【請求項10】

請求項１から８のいずれか一項に記載の弾性波デバイスを備えるフィルタ。

【請求項11】

請求項１０に記載のフィルタを備えるマルチプレクサ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、弾性波デバイス、ウエハ、フィルタおよびマルチプレクサに関し、例えば基板と圧電層との間に中間層を有する弾性波デバイス、ウエハ、フィルタおよびマルチプレクサに関する。

【背景技術】

【0002】

スマートフォン等の通信機器に用いられる弾性波共振器として、弾性表面波共振器が知られている。圧電層の厚さを弾性表面波の波長以下とすることが知られている（例えば特許文献１）。圧電層と支持基板との間に温度補償膜や低音速膜等の中間層を設けることが知られている（例えば特許文献２～４）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２０１７－０３４３６３号公報

【文献】特開２０１５－１１５８７０号公報

【文献】米国特許第１００２０７９６号明細書

【文献】国際公開第２０１７／０４３４２７号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

中間層を設けることで、弾性波デバイスの特性が向上する。しかしながら、中間層が圧電層より厚くなると、中間層の内部応力により支持基板等のウエハが反る。これにより、弾性波デバイスを製造するプロセスにおいて、様々な問題が生じる。

【0005】

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、支持基板の反りを抑制することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明は、支持基板と、前記支持基板上に設けられた圧電層と、前記圧電層上に設けられ、弾性波を励振する複数の電極指を備える少なくとも一対の櫛型電極と、前記支持基板と前記圧電層との間に設けられ、酸化シリコンを主成分とする第２の中間層と、前記支持基板と前記第２の中間層との間に設けられ、前記圧電層より厚く、バルク波の音速が前記第２の中間層におけるバルク波の音速より速い、多孔質である中間層と、を備え、前記中間層の空隙率は０．１％以上かつ２０％以下である弾性波デバイスである。。

【0007】

上記構成において、前記第２の中間層は前記中間層より空隙率が低い構成とすることができる。

【0009】

上記構成において、前記中間層は柱状構造を有し、多孔質の細孔は結晶粒の粒界に設けられている構成とすることができる。

【0010】

本発明は、支持基板と、前記支持基板上に設けられた圧電層と、前記圧電層上に設けられ、弾性波を励振する複数の電極指を備える少なくとも一対の櫛型電極と、前記支持基板と前記圧電層との間に設けられ、前記圧電層より厚い中間層と、前記中間層と前記圧電層との間に設けられ、前記中間層と同じく酸化シリコンを主成分に有し、バルク波の音速が前記中間層におけるバルク波の音速より遅く、前記中間層の密度より大きい密度を有する第２の中間層と、を備え、前記中間層の空隙率は０．１％以上かつ２０％以下である弾性波デバイスである。

【0011】

上記構成において、前記支持基板は、サファイア基板、スピネル基板、石英基板、水晶基板、又はアルミナ基板である構成とすることができる。上記構成において、前記中間層は前記第２の中間層より厚い構成とすることができる。

【0012】

上記構成において、前記圧電層の厚さは、前記一対の櫛型電極の一方の櫛型電極が有する電極指の平均のピッチより小さい構成とすることができる。上記構成において、前記第２の中間層の前記支持基板側の面と前記圧電層の前記一対の櫛型電極側の面との間の距離は、前記複数の電極指の平均ピッチの４倍以下である構成とすることができる。

【0013】

本発明は、支持基板と、前記支持基板上に設けられた圧電層と、前記支持基板と前記圧電層との間に設けられ、酸化シリコンを主成分とする第２の中間層と、前記支持基板と前記第２の中間層との間に設けられ、酸化アルミニウム膜、シリコン膜、窒化アルミニウム膜、窒化シリコン膜、または炭化シリコン膜であり、前記圧電層より厚く、多孔質である中間層と、を備え、前記中間層の空隙率は０．１％以上かつ２０％以下であるウエハである。

【0015】

本発明は、上記弾性波デバイスを備えるフィルタである。

【0016】

本発明は、上記フィルタを備えるマルチプレクサである。

【発明の効果】

【0017】

本発明によれば、支持基板の反りを抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】図１（ａ）および図１（ｂ）は、実施例１における弾性波共振器の平面図および断面図である。

【図2】図２（ａ）から図２（ｃ）は、比較例および実施例における中間層の断面模式図である。

【図3】図３（ａ）から図３（ｃ）は、比較例および実施例における中間層の断面模式図である。

【図4】図４（ａ）から図４（ｄ）は、実施例１における弾性波共振器の製造方法を示す断面図である。

【図5】図５は、実験における各サンプルの接合前後におけるウエハ反り量（ＢＯＷ）を示す図である。

【図6】図６（ａ）および図６（ｂ）は、それぞれ実施例１の変形例１および２における弾性波共振器の断面図である。

【図7】図7（ａ）および図７（ｂ）は、それぞれ実施例１の変形例３および４における弾性波共振器の断面図である。

【図8】図８（ａ）は、実施例２に係るフィルタの回路図、図８（ｂ）は、実施例２の変形例１に係るデュプレクサの回路図である。

【発明を実施するための形態】

【0019】

以下、図面を参照し本発明の実施例について説明する。

【実施例1】

【0020】

実施例１では弾性波デバイスが弾性波共振器を有する例を説明する。図１（ａ）および図１（ｂ）は、実施例１における弾性波共振器の平面図および断面図である。電極指の配列方向をＸ方向、電極指の延伸方向をＹ方向、支持基板および圧電層の積層方向をＺ方向とする。Ｘ方向、Ｙ方向およびＺ方向は、圧電層の結晶方位のＸ軸方向およびＹ軸方向とは必ずしも対応しない。圧電層が回転ＹカットＸ伝搬基板の場合、Ｘ方向は結晶方位のＸ軸方向となる。

【0021】

図１（ａ）および図１（ｂ）に示すように、支持基板１０上に圧電層１４が設けられている。支持基板１０と圧電層１４との間に中間層１２が設けられている。中間層１２と支持基板１０との間に中間層１１が設けられている。中間層１２と圧電層１４との間に接合層１３が設けられている。中間層１１、１２および接合層１３は、積層膜１５を形成する。積層膜１５の下面および上面はそれぞれ支持基板１０および圧電層１４に接する。中間層１１、１２、接合層１３、圧電層１４および積層膜１５の厚さはそれぞれＴ１、Ｔ２、Ｔ３、Ｔ４およびＴ５である。

【0022】

圧電層１４上に弾性波共振器２６が設けられている。弾性波共振器２６はＩＤＴ２２および反射器２４を有する。反射器２４はＩＤＴ２２のＸ方向の両側に設けられている。ＩＤＴ２２および反射器２４は、圧電層１４上の金属膜１６により形成される。

【0023】

ＩＤＴ２２は、対向する一対の櫛型電極２０を備える。櫛型電極２０は、複数の電極指１８と、複数の電極指１８が接続されたバスバー１９と、を備える。一対の櫛型電極２０の電極指１８が交差する領域が交差領域２５である。交差領域２５のＹ方向の長さが開口長である。一対の櫛型電極２０は、交差領域２５の少なくとも一部において電極指１８がほぼ互い違いとなるように、対向して設けられている。交差領域２５において複数の電極指１８が励振する弾性波は、主にＸ方向に伝搬する。一対の櫛型電極２０のうち一方の櫛型電極２０の電極指１８のピッチがほぼ弾性波の波長λとなる。複数の電極指１８のピッチ（電極指１８の中心間のピッチ）をＤとすると、一方の櫛型電極２０の電極指１８のピッチは電極指１８の２本分のピッチＤとなる。反射器２４は、ＩＤＴ２２の電極指１８が励振した弾性波（弾性表面波）を反射する。これにより弾性波はＩＤＴ２２の交差領域２５内に閉じ込められる。

【0024】

圧電層１４は、例えば単結晶タンタル酸リチウム（ＬｉＴａＯ_３）層または単結晶ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ_３）層であり、例えば回転ＹカットＸ伝搬タンタル酸リチウム層または回転ＹカットＸ伝搬ニオブ酸リチウム層である。

【0025】

支持基板１０は、例えばサファイア基板、シリコン基板、スピネル基板、石英基板、水晶基板、アルミナ基板または炭化シリコン基板である。サファイア基板は単結晶Ａｌ_２Ｏ_３基板であり、シリコン基板は単結晶または多結晶のシリコン基板であり、スピネル基板は多結晶ＭｇＡｌ_２Ｏ_４基板であり、石英基板はアモルファスＳｉＯ_２基板であり、水晶基板は単結晶ＳｉＯ_２基板であり、炭化シリコン基板は多結晶または単結晶のＳｉＣ基板である。支持基板１０のＸ方向の線膨張係数は圧電層１４のＸ方向の線膨張係数より小さい。これにより、弾性波共振器の周波数温度依存性を小さくできる。

【0026】

中間層１２は、例えば温度補償膜であり、圧電層１４の弾性定数の温度係数の符号と反対の符号の弾性定数の温度係数を有する。例えば圧電層１４の弾性定数の温度係数は負であり、中間層１２の弾性定数の温度係数は正である。中間層１２は、例えば無添加または弗素等の添加元素を含む酸化シリコン（ＳｉＯ_２）膜等の絶縁層であり、例えばアモルファス層である。これにより、弾性波共振器の周波数温度係数を小さくできる。中間層１２が酸化シリコン膜の場合、中間層１２を伝搬するバルク波の音速は圧電層１４を伝搬するバルク波の音速より遅くなる。

【0027】

中間層１１は境界層または高音速層であり、中間層１１を伝搬するバルク波の音速は、中間層１２を伝搬するバルク波の音速より速い。これにより、圧電層１４および中間層１２内に弾性波が閉じ込められる。さらに、中間層１１を伝搬するバルク波の音速は、支持基板１０を伝搬するバルク波の音速より遅い。中間層１１は、例えば多結晶または非晶質であり、例えば、酸化アルミニウム膜、シリコン膜、窒化アルミニウム膜、窒化シリコン膜または炭化シリコン膜等の絶縁層である。中間層１１として材料の異なる複数の層が設けられていてもよい。

【0028】

接合層１３を伝搬するバルク波の音速は、中間層１２を伝搬するバルク波の音速より速い。接合層１３は、例えば多結晶または非晶質であり、例えば、酸化アルミニウム膜、シリコン膜、窒化アルミニウム膜、窒化シリコン膜または炭化シリコン膜である。

【0029】

金属膜１６は、例えばＡｌ（アルミニウム）、Ｃｕ（銅）またはモリブデン（Ｍｏ）を主成分とする膜である。電極指１８と圧電層１４との間にＴｉ（チタン）膜またはＣｒ（クロム）膜等の密着膜が設けられていてもよい。密着膜は電極指１８より薄い。電極指１８を覆うように酸化シリコン膜または窒化シリコン膜等の絶縁膜が設けられていてもよい。絶縁膜は保護膜または温度補償膜として機能する。

【0030】

弾性波の波長λは例えば１μｍから６μｍである。２本の電極指１８を１対としたときの対数は例えば２０対から３００対である。ＩＤＴ２２のデュティ比は、電極指１８の太さ／電極指１８のピッチであり、例えば３０％から７０％である。ＩＤＴ２２の開口長は例えば１０λから５０λである。

【0031】

ＩＤＴ２２は圧電層１４内に主モードである弾性表面波を励振する。このとき、ＩＤＴ２２はバルク波等の不要波も励振する。弾性表面波のエネルギーが存在する範囲は圧電層１４の上面から２λ（λは弾性波の波長）程度の深さまであり、特に圧電層１４の上面からλまでの範囲に存在する。一方、バルク波等の不要波は圧電層１４の上面から１０λ以上まで存在する。不要波が下方に伝搬してゆくと、弾性波のエネルギーが漏洩し、損失が大きくなる。一方、支持基板１０までの界面でバルク波が反射しＩＤＴ２２に戻るとスプリアスの原因となる。

【0032】

図２（ａ）から図３（ｃ）は、比較例および実施例における中間層１１の断面模式図である。図２（ａ）および図３（ａ）は比較例に相当し、図２（ｂ）、図２（ｃ）、図３（ｂ）および図３（ｃ）は実施例に相当する。図２（ａ）に示すように、比較例における中間層１１ａは非多孔質あり、中間層１１ａには細孔はほとんど形成されていない。図２（ｂ）に示すように、中間層１１ｂは多孔質であり、中間層１１ｂには細孔３０が設けられている。図２（ｃ）に示すように、中間層１１ｃは多孔質であり、中間層１１ｃには中間層１１ｂより多く細孔３０が設けられている。すなわち、中間層１１ｃは１１ｂより空隙率が大きい。なお、空隙率は、ポロシティ（porosity）であり、中間層１１ｂおよび１１ｃの全体の体積に対する細孔３０の合計の体積の比である。

【0033】

図３（ａ）に示すように、中間層１１ｄは柱状の結晶粒３２を有する柱状構造である。結晶粒３２の間は粒界３４である。結晶粒３２はＺ方向に延伸する。すなわち結晶粒３２のＺ方向の幅はＸ方向の幅より大きい。結晶粒３２の少なくとも１つは中間層１１ｄの下面から上面まで設けられている。柱状構造は、スパッタリング法を用いることにより形成できる。図３（ｂ）に示すように、中間層１１ｅには、粒界３４に細孔３０が形成されている。細孔３０は粒界３４に沿って延伸する。このため、細孔３０のＺ方向の幅はＸ方向の幅より大きい。図３（ｃ）に示すように、中間層１１ｆには、中間層１１ｅより大きな細孔３０が形成されている。中間層１１ｆは１１ｅより空隙率が大きい。Ｔｈｏｒｎｔｏｎ Ｚｏｎｅ Ｍｏｄｅｌによれば、中間層１１をスパッタリング法により成膜する場合、基板温度を低くし、かつガス圧を高くすると中間層１１は中間層１１ｅおよび１１ｆのような多孔質の柱状構造となる。ガス圧が低い条件においてスパッタリング法により非多孔質である中間層１１ｄを成膜することができる。ガス圧を高くすることで多孔質である中間層１１ｅを成膜することができ、ガス圧をより高くすることで空隙率の大きい多孔質である中間層１１ｆを成膜することができる。

【0034】

図４（ａ）から図４（ｄ）は、実施例１における弾性波共振器の製造方法を示す断面図である。図４（ａ）に示すように、支持基板１０上に中間層１１を形成する。スパッタリング法を用い中間層１１を形成するときに、希ガス（例えばアルゴン）のガス圧を高くすると、図３（ｂ）および図３（ｃ）のように、中間層１１内に細孔３０が形成される。中間層１１の形成には真空蒸着法またはＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法を用いてもよい。図４（ｂ）に示すように、中間層１１上に中間層１２を、中間層１２上に接合層１３を形成する。中間層１２および接合層１３の形成には、例えばスパッタリング法、真空蒸着法またはＣＶＤ法を用いる。中間層１１、１２および接合層１３により積層膜１５が形成される。

【0035】

図４（ｃ）に示すように、接合層１３上に圧電層１４を接合する。圧電層１４の接合には、例えば表面活性化法を用いる。図４（ｄ）に示すように、圧電層１４の上面を研磨または研削することにより圧電層１４を薄膜化する。圧電層１４の薄膜化には例えばＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）法を用いる。これにより、ウエハが完成する。その後、圧電層１４上に金属膜１６を真空蒸着法およびリフトオフ法を用い形成する。これにより、圧電層１４上に弾性波共振器２６が形成される。金属膜１６はスパッタリング法およびエッチング法を用い形成してもよい。

【0036】

［実験］
中間層１１の成膜条件を変え、ウエハの反り量を測定した。ウエハの作製条件は以下である。
支持基板１０：厚さが５００μｍのサファイア基板
中間層１１：厚さＴ１が７．２λの酸化アルミニウム層
中間層１２：厚さＴ２が０．２λの酸化シリコン層
圧電層１４：厚さＴ４が０．３λの４２°回転ＹカットＸ伝搬タンタル酸リチウム層
弾性波の波長λ：１．５μｍ
ウエハサイズ：４インチ
なお、接合層１３の厚さＴ３は１０ｎｍ程度のため接合層１３が起因の応力はほぼ無視できる。

【0037】

成膜条件の異なる中間層１１を用いたサンプルＡ～Ｃを作製した。中間層１１を成膜はアルゴンガスを用いたスパッタリング法を用い、アルゴンガスのガス圧はＡ＜Ｂ＜Ｃである。サンプルＡ～Ｃと同じ条件で成膜した中間層１１の密度を測定した。各サンプルの中間層１１の密度は以下である。
サンプルＡ：３．１７ｇ／ｃｍ^３
サンプルＢ：３．１５ｇ／ｃｍ^３
サンプルＣ：３．０８ｇ／ｃｍ^３
以上のように、中間層１１の成膜時におけるガス圧を高くすると中間層１１の密度が低くなる。サンプルＡの中間層１１は、図３（ａ）の中間層１１ｄのように柱状構造を有し細孔がほとんど存在しない非多孔質と考えられる。サンプルＢの中間層１１は、図３（ｂ）の中間層１１ｅのように、柱状構造を有し多孔質と考えられる。サンプルＣの中間層１１は、図３（ｃ）の中間層１１ｆのように、柱状構造を有しサンプルＢの中間層１１より空隙率が高い多孔質と考えられる。サンプルＡの中間層１１が非多孔質であり、サンプルＡ～Ｃの密度の差が空隙率のみによって決まっていると仮定すると、サンプルＡ、ＢおよびＣの空隙率は、それぞれ０％、約１％および約３％である。

【0038】

圧電層１４を接合前（図４（ｂ）において接合層１３を形成する前）と、圧電層１４を接合し、薄膜化した後（図４（ｄ））におけるウエハの反り量を測定した。ウエハの反り量はＢＯＷとした。ＢＯＷはウエハの中心の基準面からの距離に対応する。ＢＯＷが正のときウエハは凸に反り積層膜１５の応力は圧縮応力である。ＢＯＷが負のときウエハは凹に反り積層膜１５の応力は引張応力である。

【0039】

図５は、実験における各サンプルの接合前後におけるウエハ反り量（ＢＯＷ）を示す図である。接合後のサンプルＡではウエハの反りが大きすぎたため、圧電層１４を接合することができなかった。図５に示すように、接合前では、サンプルＢのＢＯＷはサンプルＡのＢＯＷの約６０％である。サンプルＣのＢＯＷはサンプルＡのＢＯＷの５０％以下である。接合後では、サンプルＣのＢＯＷはサンプルＢのＢＯＷの約７５％である。このように、中間層１１を多孔質とすることにより、中間層１１に起因する内部応力が緩和されウエハの反りが小さくなると考えられる。

【0040】

実施例１によれば、中間層１１（第１中間層）は、支持基板１０と圧電層１４との間に設けられ、圧電層１４より厚い。中間層１１が厚い場合、中間層１１の内部応力により、ウエハが反る。そこで、中間層１１を多孔質とする。これにより、中間層１１の内部応力が小さくなり、ウエハの反りを抑制できる。中間層１１の厚さＴ１が圧電層１４の厚さＴ４の１．５倍以上、２倍以上または３倍以上のとき、中間層１１の内部応力によりウエハが反りやすくなる。よって、中間層１１を多孔質とすることが好ましい。中間層１１の内部応力を低減する観点から、中間層１１の空隙率は０．１％以上が好ましく、０．５％以上がより好ましく、１．０%以上がさらに好ましい。中間層１１の空隙率が大きすぎると中間層１１としての機能（例えば高音速膜としての機能）が低下する。よって、中間層１１の空隙率は２０％以下が好ましく、１０％以下がより好ましく、５％以下がさらに好ましい。

【0041】

中間層１２は設けられていなくてもよいが、圧電層１４の近くに中間層１１が設けられていると、弾性波が細孔３０により散乱され、損失が大きくなる。そこで、中間層１２（第２の中間層）を中間層１１と圧電層１４との間に設け、中間層１２の空隙率を中間層１１の空隙率より低くする。これにより、弾性波が細孔３０により散乱されにくくなり、損失を抑制できる。なお、中間層１２が非多孔質のとき空隙率は０％である。損失の抑制の観点から、中間層１２の空隙率は０．５％以下が好ましく、０．１％以下がより好ましく、中間層１１の空隙率の１／２以下が好ましく、１／１０以下がより好ましい。中間層１２が薄すぎると、中間層１２を設けても損失が低下してしまう。この観点から中間層１２の厚さＴ２は圧電層１４の厚さＴ４の１／１０以上が好ましく、１／５以上がより好ましく、１／２以上がさらに好ましい。

【0042】

ウエハの反りを抑制する観点から、中間層１１は厚いことが好ましい。この観点から、中間層１１は中間層１２より厚いことが好ましく、中間層１１の厚さＴ１は中間層１２の厚さＴ２の２倍以上がより好ましく、５倍以上がさらに好ましい。また、中間層１１の厚さＴ１は積層膜１５の厚さＴ５の１／４以上が好ましく、１／２以上がより好ましく、３／４以上がさらに好ましい。

【0043】

図３（ｂ）および図３（ｃ）のように、中間層１１は柱状構造を有し、多孔質の細孔３０は結晶粒３２の粒界３４に設けられている。これにより、多孔質の中間層１１をスパッタリング法を用い形成できる。

【0044】

中間層１２は、圧電層１４の弾性定数の温度係数の符号と反対の弾性定数の温度係数の符号を有する。これにより、弾性波デバイスの周波数温度係数を小さくできる。このような材料として、中間層１２は酸化シリコンを主成分とする。例えば、中間層１２内のＯ濃度とＳｉ濃度の合計が５０原子％以上または８０原子％以上である。Ｏ濃度およびＳｉ濃度は例えば各々１０原子％以上または２０原子％以上である。中間層１１におけるバルク波の音速は中間層１２におけるバルク波の音速より速い。これにより、圧電層１４および中間層１２内に弾性波が閉じ込められる。中間層１１を伝搬するバルク波の音速は、中間層１２を伝搬するバルク波の音速の１．１倍以上が好ましく、１．２倍以上がより好ましい。また、中間層１１を伝搬するバルク波の音速は中間層１２を伝搬するバルク波の音速の２．０倍以下が好ましく、１．５倍以下がより好ましい。

【0045】

中間層１２を伝搬するバルク波の音速は圧電層１４を伝搬するバルク波の音速より速くてもよいが、中間層１２を伝搬するバルク波の音速は圧電層１４を伝搬するバルク波の音速より遅いことが好ましい。中間層１２を伝搬するバルク波の音速は圧電層１４を伝搬するバルク波の音速の０．９９倍以下が好ましい。中間層１２を伝搬するバルク波の音速が遅すぎると、圧電層１４内に弾性波が存在しにくくなる。よって、中間層１２を伝搬するバルク波の音速は圧電層１４を伝搬するバルク波の音速の０．９倍以上が好ましい。

【0046】

弾性表面波のエネルギーが圧電層１４の表面から２λまでの範囲にほとんど存在する場合には、主モードの弾性波のエネルギーを圧電層１４および中間層１２内に閉じ込め、かつスプリアス応答を抑制する観点から、中間層１２の支持基板１０側の面と圧電層１４の櫛型電極２０側の面との距離（Ｔ２＋Ｔ３＋Ｔ４）は複数の電極指１８の平均ピッチＤの４倍（２λ）以下が好ましく、３倍（１．５λ）以下がより好ましい。複数の電極指１８の平均ピッチＤは、ＩＤＴ２２のＸ方向の幅を電極指１８の本数で除することで算出できる。

【0047】

中間層１２に弾性波のエネルギーを存在させるため、圧電層１４の厚さＴ４は、電極指１８の平均ピッチＤの２倍（λ）以下が好ましく、１．２倍（０．６λ）以下がより好ましい。圧電層１４が薄すぎると、弾性波が励振されない。よって、圧電層１４の厚さＴ４は、電極指１８の平均ピッチＤの０．２倍（０．１λ）以上が好ましい。

【0048】

中間層１１の厚さＴ１が薄いと、スプリアスが大きくなる。この観点から、中間層１１の厚さＴ１は電極指１８の平均ピッチＤの０．６倍（０．３λ）以上が好ましく、１．４倍（０．７λ）以上がより好ましく、２倍（λ）以上がさらに好ましく、４倍（２λ）以上がさらに好ましい。

【0049】

接合層１３の厚さＴ３は、圧電層１４および中間層１２の機能を損なわない観点から、２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。接合層１３としての機能を損なわない観点から、厚さＴ３は、１ｎｍ以上が好ましく、２ｎｍ以上がより好ましい。接合層１３は設けなくてもよい。

【0050】

圧電層１４は、タンタル酸リチウムまたはニオブ酸リチウムを主成分とする単結晶であり、中間層１２は酸化シリコンを主成分とする多結晶または非晶質であり、中間層１１および接合層１３は酸化アルミニウムを主成分とする多結晶または非晶質であり、支持基板１０はサファイア基板または炭化シリコン基板である。なお、ある膜または層がある材料を主成分とするとは、ある膜または層が意図的または意図せず不純物を含むことを許容し、例えばある材料を５０原子％以上含むことであり、８０原子％以上含むことである。

【0051】

一対の櫛型電極２０が励振する弾性波が主にＳＨ（Shear Horizontal）波であるとき、不要波としてバルク波が励振しやすい。圧電層１４が３６°以上かつ４８°以下回転Ｙカットタンタル酸リチウム層のとき、ＳＨ波が励振される。一対の櫛型電極２０が主に励振する弾性波は、ＳＨ波に限らず例えばＬａｍｂ波であってもよい。

【0052】

［実施例１の変形例１］
図６（ａ）は、実施例１の変形例１における弾性波共振器の断面図である。図６（ａ）に示すように、実施例１の変形例１では、接合層１３が設けられていない。中間層１１は、中間層１２より厚く、かつ圧電層１４より厚い。中間層１１は多孔質であり、中間層１２は非多孔質である。一例として、中間層１１は酸化アルミニウムを主成分とし中間層１２は酸化シリコンを主成分とする。このように、中間層１１と１２の主成分は異なっていてもよい。他の一例として、中間層１１および１２は酸化シリコンを主成分としてもよい。このように、中間層１１と１２の主成分は同じでもよい。その他の構成は実施例１の図１（ａ）および図１（ｂ）と同じであり説明を省略する。

【0053】

中間層１２の主成分が中間層１１の主成分と同じ場合、例えば、中間層１１および１２がいずれも酸化シリコンまたは酸化アルミニウムを主成分とする場合、中間層１２の密度は中間層１１の密度より大きい。これにより、中間層１１の内部応力によりウエハが反ることを抑制できる。中間層１１および１２の密度をそれぞれρ１２およびρ１１としたとき、（ρ１２－ρ１１）／ρ１１×１００［％］は０．１％以上が好ましく、０．５％以上が好ましく１．０％以上がさらに好ましい。中間層１１の密度が小さすぎると中間層１１としての機能（例えば高音速膜としての機能）が低下する。よって、（ρ１２－ρ１１）／ρ１１×１００［％］は２０％以下が好ましく、１０％以下がより好ましく、５％以下がさらに好ましい。

【0054】

［実施例１の変形例２］
図６（ｂ）は、実施例１の変形例２における弾性波共振器の断面図である。図６（ｂ）に示すように、実施例１の変形例２では、中間層１１は、中間層１２より薄く、かつ圧電層１４より厚い。中間層１１は多孔質であり、中間層１２は非多孔質である。その他の構成は実施例１の変形例１と同じであり説明を省略する。

【0055】

［実施例１の変形例３］
図７（ａ）は、実施例１の変形例３における弾性波共振器の断面図である。図７（ａ）に示すように、実施例１の変形例３では、中間層１１と１２との間に中間層１７が設けられている。中間層１２は非多孔質である。中間層１７は、多孔質でもよく、非多孔質でもよい。中間層１７が多孔質の場合、中間層１１は多孔質でもよく、非多孔質でもよい。中間層１１および１７が多孔質の場合、中間層１７の空隙率は、中間層１１の空隙率と同じでもよいし、異なっていてもよい。例えば中間層１７の空隙率は中間層１１の空隙率より小さい。中間層１７の主成分は、中間層１１の主成分と同じでもよく、中間層１２の主成分と同じでもよく、中間層１１および１２のいずれの主成分と異なっていてもよい。中間層１７は中間層１１より薄くてもよく厚くてもよい。

【0056】

一例として、中間層１１および１７は酸化アルミニウムを主成分とし中間層１２は酸化シリコンを主成分とする。中間層１１および１７は多孔質であり、中間層１２は非多孔質であり、中間層１７の空隙率は中間層１１の空隙率より小さい。他の一例として、中間層１１は酸化アルミニウムを主成分とし中間層１７および１２は酸化シリコンを主成分とする。中間層１１は非多孔質または多孔質であり、中間層１７は多孔質であり、中間層１２は非多孔質である。その他の構成は実施例１の変形例１と同じであり説明を省略する。

【0057】

［実施例１の変形例４］
図７（ｂ）は、実施例１の変形例４における弾性波共振器の断面図である。図７（ｂ）に示すように、実施例１の変形例４では、中間層１１と１２との間に中間層１７ａおよび１７ｂが設けられている。中間層１２は非多孔質である。中間層１７ａおよび１７ｂは、多孔質でもよく、非多孔質でもよい。中間層１７ａまたは１７ｂが多孔質の場合、中間層１１は多孔質でもよく、非多孔質でもよい。中間層１１、１７ａおよび１７ｂの少なくとも２層が多孔質の場合、少なくとも２層の多孔質の層の空隙率は、互いに同じでもよいし、異なっていてもよい。中間層１７ａおよび１７ｂの主成分は中間層１１の主成分と同じでもよく、中間層１２の主成分と同じでもよく、中間層１１および１２のいずれの主成分と異なっていてもよい。中間層１７ａおよび１７ｂは中間層１１より薄くてもよく厚くてもよい。

【0058】

一例として、中間層１１、１７ａおよび１７ｂは酸化アルミニウムを主成分とし中間層１２は酸化シリコンを主成分とする。中間層１１および１７ａは多孔質であり、中間層１７ｂおよび１２は非多孔質であり、中間層１７ａの空隙率は中間層１１の空隙率より小さい。他の一例として、中間層１１および１７ａは酸化アルミニウムを主成分とし中間層１７ｂおよび１２は酸化シリコンを主成分とする。中間層１１、１７ａおよび１７ｂは多孔質であり、中間層１７ａの空隙率は中間層１１の空隙率より小さい。中間層１２は非多孔質である。その他の構成は実施例１の変形例１と同じであり説明を省略する。

【0059】

圧電層１４に近い中間層の空隙率が大きいと弾性波が細孔により散乱され、損失が大きくなる。そこで、実施例１の変形例３および４のように、中間層が３層以上の場合、圧電層１４に近い中間層の空隙率を小さくすることが好ましい。例えば実施例１の変形例４の図７（ｂ）において、中間層１１の空隙率＞中間層１７ａの空隙率＞中間層１７ｂの空隙率＞中間層１２の空隙率である。

【実施例2】

【0060】

図８（ａ）は、実施例２に係るフィルタの回路図である。図８（ａ）に示すように、入力端子Ｔｉｎと出力端子Ｔｏｕｔとの間に、１または複数の直列共振器Ｓ１からＳ３が直列に接続されている。入力端子Ｔｉｎと出力端子Ｔｏｕｔとの間に、１または複数の並列共振器Ｐ１およびＰ２が並列に接続されている。１または複数の直列共振器Ｓ１からＳ３および１または複数の並列共振器Ｐ１およびＰ２の少なくとも１つに実施例１およびその変形例の弾性波共振器を用いることができる。ラダー型フィルタの共振器の個数等は適宜設定できる。フィルタは、一対の櫛型電極を２対以上有する多重モード型フィルタでもよい。

【0061】

［実施例２の変形例１］
図８（ｂ）は、実施例２の変形例１に係るデュプレクサの回路図である。図８（ｂ）に示すように、共通端子Ａｎｔと送信端子Ｔｘとの間に送信フィルタ４０が接続されている。共通端子Ａｎｔと受信端子Ｒｘとの間に受信フィルタ４２が接続されている。送信フィルタ４０は、送信端子Ｔｘから入力された高周波信号のうち送信帯域の信号を送信信号として共通端子Ａｎｔに通過させ、他の周波数の信号を抑圧する。受信フィルタ４２は、共通端子Ａｎｔから入力された高周波信号のうち受信帯域の信号を受信信号として受信端子Ｒｘに通過させ、他の周波数の信号を抑圧する。送信フィルタ４０および受信フィルタ４２の少なくとも一方を実施例２のフィルタとすることができる。

【0062】

マルチプレクサとしてデュプレクサを例に説明したがトリプレクサまたはクワッドプレクサでもよい。

【0063】

以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明はかかる特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。

【符号の説明】

【0064】

１０ 支持基板
１１、１２、１７、１７ａ、１７ｂ 中間層
１３ 接合層
１５ 積層膜
１６ 金属膜
１８ 電極指
２０ 櫛型電極
２２ ＩＤＴ
２６ 弾性波共振器
４０ 送信フィルタ
４２ 受信フィルタ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】