特許 7579366 姿勢調整構造、搬送装置及び放射線結像システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-10-29

(45)【発行日】2024-11-07

(54)【発明の名称】姿勢調整構造、搬送装置及び放射線結像システム

(51)【国際特許分類】

   G01N 23/18 20180101AFI20241030BHJP

   G01N 23/046 20180101ALI20241030BHJP

【ＦＩ】

G01N23/18

G01N23/046

【請求項の数】 17

(21)【出願番号】P 2022580906

(86)(22)【出願日】2022-10-08

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2023-11-22

(86)【国際出願番号】 CN2022123830

(87)【国際公開番号】W WO2023056939

(87)【国際公開日】2023-04-13

【審査請求日】2022-12-27

(31)【優先権主張番号】202111173756.2

(32)【優先日】2021-10-08

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(31)【優先権主張番号】202111670901.8

(32)【優先日】2021-12-31

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(73)【特許権者】

【識別番号】503414751

【氏名又は名称】同方威視技術股▲分▼有限公司

(74)【代理人】

【識別番号】110001195

【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】黄 清 萍

(72)【発明者】

【氏名】洪 明 志

(72)【発明者】

【氏名】張 麗

(72)【発明者】

【氏名】陳 志 強

(72)【発明者】

【氏名】李 元 景

(72)【発明者】

【氏名】李 桂 培

(72)【発明者】

【氏名】楊 建 学

(72)【発明者】

【氏名】張 立 国

【審査官】井上 徹

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１６－５３３４８１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００５－１２１６３３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－０７０９０９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１３－２２４８４６（ＪＰ，Ａ）

【文献】韓国公開特許第１０－２０２０－００８８２２２（ＫＲ，Ａ）

【文献】実開平５－０９２６９３（ＪＰ，Ｕ）

【文献】特開２０１９－０９０８０２（ＪＰ，Ａ）

【文献】中国特許出願公開第１０７５１５２２９（ＣＮ，Ａ）

【文献】中国実用新案第２０９４００４４７（ＣＮ，Ｕ）

【文献】米国特許出願公開第２００８／０３０９２７６（ＵＳ，Ａ１）

【文献】米国特許出願公開第２００３／００３９３３２（ＵＳ，Ａ１）

【文献】米国特許出願公開第２００９／００６７９７６（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開２００８－２９８４８０（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２００９／０７８４１５（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０１Ｎ ２３／００－２３／２２７６

Ｇ０１Ｎ ２１／８４－２１／９５８

Ｇ０１Ｂ １１／００－１１／３０

Ａ６１Ｂ ６／００－ ６／５８

Ｂ６５Ｇ ４７／００－４７／９６

Ｇ０５Ｄ ３／００－ ３／２０

ＪＳＴＰｌｕｓ／ＪＭＥＤＰｌｕｓ／ＪＳＴ７５８０（ＪＤｒｅａｍＩＩＩ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

放射線結像システムに応用される姿勢調整構造であって、
Ｘ方向に沿って延びて配置される基体であって、被測定物を置く載置面を有する基体と、
前記基体に設置され、前記載置面でＹ方向の回りに回動するように前記被測定物を駆動し、かつ、前記Ｘ方向に沿って移動するように前記被測定物を駆動する第１の調整アセンブリと、
前記基体に設置され、Ｚ方向の回りに回動するように前記被測定物を駆動する少なくとも１つの第２の調整アセンブリと、
を含んでおり、
前記第１の調整アセンブリ及び前記第２の調整アセンブリは、前記被測定物に対するずれ調整により、前記放射線結像システムにおいて光学機器が光ビームを生成する主ビーム面と前記被測定物の被測定層面とが平行を保持させるように配置されており、
前記Ｚ方向は、前記主ビーム面に平行な方向であり、
前記Ｘ方向は、前記被測定物の進行方向に平行な方向であり、かつ、前記Ｚ方向に垂直であり、
前記Ｙ方向は、前記Ｘ方向およびＺ方向の双方に垂直である、
ことを特徴とする姿勢調整構造。

【請求項2】

前記第１の調整アセンブリは、
前記基体に対して前記Ｘ方向にスライド可能なフレームと、
Ｙ軸を回動軸線として、前記フレームに回動可能に設置される回動部材であって、外力の駆動により、前記載置面でＹ方向の回りに回動するように前記被測定物を駆動し、かつ、前記フレームに連れられて、前記Ｘ方向に沿って移動するように前記被測定物を駆動可能な回動部材と、
を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の姿勢調整構造。

【請求項3】

前記回動部材は、
Ｙ軸を回動軸線として、前記フレームに回動可能に設置されるシフトレバーと、
前記シフトレバーに設置され、かつ、前記シフトレバーの駆動により、前記被測定物に当接可能なシフトヘッドと、
を含む、
ことを特徴とする請求項２に記載の姿勢調整構造。

【請求項4】

Ｙ方向において、前記フレームに回動軸が突設され、
前記第１の調整アセンブリは、
前記回動軸に回動可能に設置され、前記シフトレバーが固定されるアダプタブロックをさらに含む、
ことを特徴とする請求項３に記載の姿勢調整構造。

【請求項5】

前記第１の調整アセンブリは、
前記フレームに設置される第１の駆動手段であって、前記アダプタブロックに対して向けるまたは離れるように移動可能なプッシュロッドを有する少なくとも１つの第１の駆動手段をさらに含み、
前記プッシュロッドは、前記アダプタブロックの前記回動軸から離れた一方端に可動に接続される、
ことを特徴とする請求項４に記載の姿勢調整構造。

【請求項6】

前記第１の駆動手段は、
前記フレームに設置される第１のモータであって、モータ軸に前記プッシュロッドの一方端が接続される第１のモータをさらに含み、
前記プッシュロッドの前記アダプタブロックに近接する一方端には、ねじ部が設置されており、前記アダプタブロックには、前記ねじ部に嵌合するねじスリーブが設置されている、
ことを特徴とする請求項５に記載の姿勢調整構造。

【請求項7】

少なくとも１つの前記シフトヘッドは、前記シフトレバーに回動可能に設置され、かつ偏心構造として構成され、
前記シフトヘッドは、偏心力の駆動により前記載置面から突出する第１の位置と、外力の作用により前記載置面の下方に反転する第２の位置とを有し、
前記フレームが前記Ｘ方向に沿って移動する場合、前記シフトヘッドが第１の位置にある時に、前記Ｘ方向に沿って移動するように前記被測定物を押さえる、
ことを特徴とする請求項３に記載の姿勢調整構造。

【請求項8】

前記シフトヘッドは、
前記被測定物に当接する押さえ面と、
前記押さえ面と角度をなして設置され、外力を受けるガイド面と、
前記シフトヘッドが前記第１の位置に移動した時にその回動を制限する位置制限構造と、
を有し、
前記フレームが前記Ｘ方向の負方向に沿って移動する場合、前記ガイド面が前記被測定物に衝突することにより、前記第２の位置に移動するように前記シフトヘッドを駆動する、
ことを特徴とする請求項７に記載の姿勢調整構造。

【請求項9】

前記シフトヘッドに設置され、前記第１の位置において前記押さえ面がＹＺ平面と平行になるように、前記シフトヘッドの偏心距離を調整するウェイトブロックをさらに含む、
ことを特徴とする請求項８に記載の姿勢調整構造。

【請求項10】

前記Ｘ方向において、複数の前記シフトヘッドは、前記フレームに回動可能に設置され、かつ、複数の前記シフトヘッドは、前記基体上の被測定物を押さえて検出領域に向かって移動させるように、間隔をあけて設置される、
ことを特徴とする請求項７に記載の姿勢調整構造。

【請求項11】

前記フレームと前記基体との間には、スライドレールスライダ構造が設置されている、
ことを特徴とする請求項２に記載の姿勢調整構造。

【請求項12】

前記被測定物は、前記第１の調整アセンブリの駆動により前記第２の調整アセンブリに搬送され、
前記第２の調整アセンブリは、
Ｚ軸を回動軸線として、前記基体に回動可能に設置され、前記被測定物を受ける支持板を含む、
ことを特徴とする請求項１～１１のいずれか一項に記載の姿勢調整構造。

【請求項13】

前記支持板の前記第１の調整アセンブリに近接する一方端は、前記基体にヒンジ接続され、
前記第２の調整アセンブリは、
前記基体に設置され、かつ、前記支持板の回動を駆動するように前記支持板のヒンジ接続端から離れた下方に配置される第２の駆動手段をさらに含む、
ことを特徴とする請求項１２に記載の姿勢調整構造。

【請求項14】

前記第２の駆動手段は、
前記基体に設置される第２のモータと、
前記第２のモータのモータ軸に設置され、一方端が前記支持板に接続される昇降ロッドと、
を含む、
ことを特徴とする請求項１３に記載の姿勢調整構造。

【請求項15】

２つの前記第２の調整アセンブリは、前記Ｘ方向に沿って間隔をあけて設置されることにより、被測定物を検出する放射線を前記間隔の中間から通過させる、
ことを特徴とする請求項１２に記載の姿勢調整構造。

【請求項16】

搬送装置であって、
請求項１～１１のいずれか一項に記載の姿勢調整構造を含む、
ことを特徴とする搬送装置。

【請求項17】

放射線結像システムであって、
請求項１６に記載の搬送装置と、
第２の調整アセンブリの両側に設置され、前記第２の調整アセンブリに置かれた被測定物を走査する走査装置と、
を含む、
ことを特徴とする放射線結像システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、検出設備の技術分野に関し、より具体的に、姿勢調整構造、搬送装置及び放射線結像システムに関する。

【背景技術】

【0002】

放射線結像は、放射線を利用して物体内部を観察する技術である。このような技術は、物体を破壊することなく物体内部の構造および密度などの情報を取得することができ、現在、病院の胸部レントゲンおよび駅、空港の安全検査などの場面に広く応用される。しかし、被測定物が薄膜または接着層などである場合、検出の正確性を保証するために、放射線結像システムにおいて光学機器が光ビームを生成する主ビーム面と被測定物の被測定層面とが平行を保持する必要がある。

【発明の概要】

【課題を解決するための手段】

【0003】

これに鑑みて、本開示は、姿勢調整構造、搬送装置及び放射線結像システムを提供している。

【0004】

本開示の１つの局面は、Ｘ方向に沿って延びて配置され基体であって、被測定物を置く載置面を有する基体と、前記基体に設置され、前記載置面でＹ方向の回りにずれるように前記被測定物を駆動し、かつ、前記Ｘ方向に沿って移動するように前記被測定物を駆動する第１の調整アセンブリと、前記基体に設置され、Ｚ方向の回りに回動するように前記被測定物を駆動する少なくとも１つの第２の調整アセンブリとを含む姿勢調整構造を提供している。

【0005】

本開示の実施例によれば、前記第１の調整アセンブリは、前記基体に対して前記Ｘ方向にスライド可能なフレームと、Ｙ軸を回動軸線として、前記フレームに回動可能に設置される回動部材であって、外力の駆動により、前記載置面でＹ方向の回りにずれるように前記被測定物を駆動し、かつ、前記フレームに連れられて、前記Ｘ方向に沿って移動するように前記被測定物を駆動可能な回動部材とを含む。

【0006】

本開示の実施例によれば、前記回動部材は、Ｙ軸を回動軸線として、前記フレームに回動可能に設置されるシフトレバーと、前記シフトレバーに設置され、かつ、前記シフトレバーの駆動により、前記被測定物に当接可能なシフトヘッドとを含む。

【0007】

本開示の実施例によれば、Ｙ方向において、前記フレームに回動軸が突設され、前記第１の調整アセンブリは、前記回動軸に回動可能に設置され、前記シフトレバーが固定されるアダプタブロックをさらに含む。

【0008】

本開示の実施例によれば、前記第１の調整アセンブリは、前記フレームに設置される第１の駆動手段であって、前記アダプタブロックに対して向けるまたは離れるように移動可能なプッシュロッドを有する少なくとも１つの第１の駆動手段をさらに含み、前記プッシュロッドは、前記アダプタブロックの前記回動軸から離れた一方端に可動に接続される。

【0009】

本開示の実施例によれば、前記第１の駆動手段は、前記フレームに設置される第１のモータであって、モータ軸に前記プッシュロッドの一方端が接続される第１のモータをさらに含み、前記プッシュロッドの前記アダプタブロックに近接する一方端には、ねじ部が設置されており、前記アダプタブロックには、前記ねじ部に嵌合するねじスリーブが設置されている。

【0010】

本開示の実施例によれば、少なくとも１つの前記シフトヘッドは、前記シフトレバーに回動可能に設置され、かつ偏心構造として構成され、前記シフトヘッドは、偏心力の駆動により前記載置面から突出する第１の位置と、外力の作用により前記載置面の下方に反転する第２の位置とを有し、前記フレームが前記Ｘ方向に沿って移動する場合、前記シフトヘッドが第１の位置にある時に、前記Ｘ方向に沿って移動するように前記被測定物を押さえる。

【0011】

本開示の実施例によれば、前記シフトヘッドは、前記被測定物に当接する押さえ面と、前記押さえ面と角度をなして設置され、外力を受けるガイド面と、前記シフトヘッドが前記第１の位置に移動した時にその回動を制限する位置制限構造とを有し、前記フレームが前記Ｘ軸の負方向に沿って移動する場合、前記ガイド面が前記被測定物に衝突することにより、前記第２の位置に移動するように前記シフトヘッドを駆動する。

【0012】

本開示の実施例によれば、前記シフトヘッドに設置され、前記第１の位置において前記押さえ面がＹＺ平面と平行になるように、前記シフトヘッドの偏心距離を調整するウェイトブロックをさらに含む。

【0013】

本開示の実施例によれば、前記Ｘ方向において、複数の前記シフトヘッドは、前記フレームに回動可能に設置され、かつ、複数の前記シフトヘッドは、前記基体上の被測定物を押さえて検出領域に向かって移動させるように、間隔をあけて設置される。

【0014】

本開示の実施例によれば、前記フレームと前記基体との間には、スライドレールスライダ構造が設置されている。

【0015】

本開示の実施例によれば、前記被測定物は、前記第１の調整アセンブリの駆動により前記第２の調整アセンブリに搬送され、前記第２の調整アセンブリは、Ｚ軸を回動軸線として、前記基体に回動可能に設置され、前記被測定物を受ける支持板を含む。

【0016】

本開示の実施例によれば、前記支持板の前記第１の調整アセンブリに近接する一方端は、前記基体にヒンジ接続され、前記第２の調整アセンブリは、前記基体に設置され、かつ、前記支持板の回動を駆動するように前記支持板のヒンジ接続端から離れた下方に配置される第２の駆動手段をさらに含む。

【0017】

本開示の実施例によれば、前記第２の駆動手段は、前記基体に設置される第２のモータと、前記第２のモータのモータ軸に設置され、一方端が前記支持板に接続される昇降ロッドとを含む。

【0018】

本開示の実施例によれば、２つの前記第２の調整アセンブリは、前記Ｘ方向に沿って間隔をあけて設置されることにより、被測定物を検出する放射線を前記間隔の中間から通過させる。

【0019】

本開示の別の局面は、上記のいずれか一項に記載の姿勢調整構造を含む搬送装置を提供している。

【0020】

本開示の別の局面は、上記に記載の搬送装置と、第２の調整アセンブリの両側に設置され、前記第２の調整アセンブリに置かれた被測定物を走査する走査装置とを含む放射線結像システムを提供している。

【0021】

本開示における姿勢調整構造は、Ｘ方向に沿って延びて配置される基体であって、被測定物を置く載置面を有する基体と、前記基体に設置され、前記載置面でＹ方向の回りにずれるように前記被測定物を駆動し、かつ、前記Ｘ方向に沿って移動するように前記被測定物を駆動する第１の調整アセンブリと、前記基体に設置され、Ｚ方向の回りに回動するように前記被測定物を駆動する少なくとも１つの第２の調整アセンブリとを含む。本開示における第１の調整アセンブリは、Ｙ方向に被測定物に対するずれ調整を実現し、かつＸ方向に移動するように被測定物を押さえることができ、第２の調整アセンブリは、Ｚ方向に被測定物に対するずれ調整を実現し、第１の調整アセンブリおよび第２の調整アセンブリの作用により、被測定物を検出に適する状態に調整することができる。本開示における姿勢調整構造は、たとえば背景技術に紹介された薄膜または接着層検出の放射線結像システムに使用される場合、被測定物に対するずれ調整により、光学機器が光ビームを生成する主ビーム面と被測定物の被測定層面とが平行を保持することを保証し、検出の正確性を保証することができる。

【0022】

以下、添付図面を参照しながら本開示の実施例を説明することにより、本開示の上記及び他の目的、特徴、メリットがより明確になる。各図は以下の通りである。

【図面の簡単な説明】

【0023】

【図1】図１は本開示の実施例に係る放射線結像の原理概略図を模式的に示している。

【図2】図２は本開示の実施例に係る第２の調整アセンブリの調整方式概略図を模式的に示している。

【図3】図３は本開示の実施例に係る第１の調整アセンブリの調整方式概略図を模式的に示している。

【図4】図４は本開示の実施例に係る第１の調整アセンブリの正面図を模式的に示している。

【図5】図５は本開示の実施例に係る第１の調整アセンブリの平面図を模式的に示している。

【図6】図６は図５におけるＡ-Ａ箇所での断面図を模式的に示している。

【図7】図７は図５におけるＢ-Ｂ箇所での断面図を模式的に示している。

【図8】図８は本開示の実施例に係るシフトヘッドの構造概略図を模式的に示している。

【図9】図９は図５におけるＣ-Ｃ箇所での断面図を模式的に示している。

【図10】図１０は本開示の実施例に係る第１の調整アセンブリの側面図を模式的に示している。

【図11】図１１は本開示の実施例に係る第２の調整アセンブリの平面図を模式的に示している。

【図12】図１２は本開示の実施例に係る第２の調整アセンブリの正面図を模式的に示している。

【図13】図１３は図１２におけるＤ-Ｄ箇所での断面図を模式的に示している。

【図14】図１４は本開示の実施例に係る第２の調整アセンブリの別の実施形態の平面図を模式的に示している。

【図15】図１５は本開示の実施例に係る姿勢調整構造の正面図を模式的に示している。

【図16】図１６は本開示の実施例に係る姿勢調整構造の平面図を模式的に示している。

【発明を実施するための形態】

【0024】

以下、添付図面を参照しながら本開示の実施例を説明する。しかし、理解すべきことは、これらの説明は例示的なものに過ぎず、本開示の範囲を限定するものではない。以下の詳細な説明において、解釈の便宜上、多くの具体的な詳細を説明して本開示の実施例に対する全面的な理解を提供する。しかし、明らかに、１つまたは複数の実施例はこれらの具体的な詳細がない場合にも実施される。また、以下の説明において、公知の構造および技術に対する説明を省略していることで、本開示の概念を不必要に混同することを回避する。

【0025】

ここで使用される用語は具体的な実施例を説明するためのものに過ぎず、本開示を限定するものではない。ここで使用される「含む」、「含有」などの用語は前記特徴、ステップ、操作および／または部品の存在を表しているが、１つまたは複数の他の特徴、ステップ、操作または部品の存在または追加を排除するものではない。

【0026】

「Ａ、ＢまたはＣなどのうちの少なくとも１つ」のような表現を使用する場合、一般的に当業者の該表現に対する通常理解の意味に応じて解釈すべきである（例えば、「Ａ、ＢまたはＣのうちの少なくとも１つを有するシステム」はＡを単独で有し、Ｂを単独で有し、Ｃを単独で有し、ＡおよびＢを有し、ＡおよびＣを有し、ＢおよびＣを有し、および／または、Ａ、Ｂ、Ｃを有するシステムなどを含むが、これらに限定されない）。「第１の」、「第２の」という用語は単に目的を説明するために用いられ、相対的な重要性を指示するかまたは暗示するか、または指示された技術特徴の数量を暗黙的に表すと理解されるべきではない。これにより、「第１の」、「第２の」が限定された特徴は１つまたは複数の前記特徴を明示的または暗黙的に含むことができる。

【0027】

詳細な背景技術は、独立請求項が解決しようとする技術課題以外の他の技術課題を含むことができる。

【0028】

本開示の実施例において、Ｘ方向に沿って延びて配置される基体であって、被測定物を置く載置面を有する基体と、基体の下方に設置される第１の調整アセンブリとを含んでおり、第１の調整アセンブリは、基体に対してＸ方向にスライド可能なフレームと、Ｙ軸を回動軸線としてフレームに回動可能に設置されるシフトレバーと、シフトレバーに設置され、かつ、シフトレバーの駆動により、被測定物を載置面でＹ方向の回りにずらせるように、および／または、被測定物を載置面でＸ方向に沿って移動させるように、被測定物に当接可能なシフトヘッドとを含む姿勢調整構造を提供している。

【0029】

本開示の姿勢調整構造は、生産ラインにおける物体搬送の移動姿勢の調整に用いることができ、さらに放射検出の分野において、被測定物を予め設定された検出位置に調整するのに用いることができる。放射検出の分野に応用される場合、少なくとも以下の場面が本開示における姿勢調整構造を使用する必要があり、場面の説明は以下の通りである。

【0030】

理解できるように、放射検出の分野において、放射線結像技術は、検出者の判断のために、物体内部の損傷状況を結像することができる。検出対象のうち、検出対象領域の検出サイズが小さいものがあり、例えば、リチウム電池に対する検出工程において、リチウム電池の薄膜または接着層を検出する必要があるが、リチウム電池の薄膜または接着層の厚さが小さく、図１に示すように、図における符号４１に代表される黒色領域が上記の薄膜または接着層であり、主ビーム面６１に平行な軸をＺ軸と定義し、被測定物４の進行方向に平行な軸をＸ軸と定義する。Ｙ軸は、Ｘ軸およびＺ軸の双方に垂直であると定義する。ここで、光学機器６から発射された放射線で構成された結像領域６２は略テーパー形である。実際に検出する時に、発明者は、薄膜または接着層の被測定層（主ビーム面に平行な検出面）がＺ方向またはＹ方向にずれた時に、結像領域の形状の影響で、被測定層には結像領域からずれる状況が存在し、被測定層が結像領域からずれた時に、一部の被測定層が検出されなくなり、さらに検出失当の問題が存在することを発見した。

【0031】

上記問題に基づいて、図２～図１３、および図１５、図１６に示すように、本開示の実施例における姿勢調整構造の具体的な実施形態を示している。

【0032】

図３に示すように、本開示の実施例における姿勢調整構造は、基体１、第１の調整アセンブリ２および第２の調整アセンブリ３を含む。ここで、基体１に被測定物４が置かれ、第１の調整アセンブリ２は、被測定物４が基体１にＹ方向の回りにずれる、すなわち図３における双方向矢印で示された方向に沿ってずれるように調整する。

【0033】

図４に示すように、本開示の実施例における基体１は、Ｘ方向に沿って延びて配置される。複数の被測定物４は、基体１上に間隔をあけて配置されてもよい。基体１は、一般的な生産搬送ラインであってもよく、例えば、生産作業台や物置生産ラインなどである。

【0034】

図１０に示すように、基体１は、生産ライン式の支持枠として設計され、対向して設置された２つの枠体１２を含み、第１の調整アセンブリ２が２つの枠体１２の間に設置される。２つの枠体１２は、断面形状がＬ型であるため、１つの水平支持アームおよび１つの垂直支持アームを含み、水平支持アームに支持レール１３が取り付けられ、支持レール１３の上面が前記載置面１１として構成され、被測定物４が２本の支持レール１３に跨って、支持レール１３の載置面１１によって支持されて、被測定物４を置く作用が実現される。

【0035】

本開示の実施例における被測定物４がリチウム電池であってもよく、リチウム電池が載置面１１に配置される場合、その接着層または薄膜層の厚さの位置する平面が結像システムの光学機器に向けて設置されることを基本的に保証する必要がある。

【0036】

図４～図１０は、第１の調整アセンブリ２の具体的な構造を示している。
図１０に示すように、第１の調整アセンブリ２はフレーム２１を含み、フレーム２１が基体１に可動に設置され、基体１に対してスライド可能である。図１０に示すように、フレーム２１は角形の枠体構造であり、その対向して設置された２つの枠辺にそれぞれスライダ５１が取り付けられ、基体１の枠体１２の垂直壁の内側面にスライドレール５２が取り付けられ、スライダ５１はスライドレール５２にスライド可能に設置され、外力の駆動により、フレーム２１が基体１に対してＸ方向での移動を実現する。

【0037】

理解できるように、いくつかの実施形態において、スライダ５２がフレーム２１に取り付けられ、スライドレール５１が基体１に取り付けられてもよい。

【0038】

理解できるように、外力の駆動は、人力駆動であってもよく、電気駆動、油圧駆動、空気圧駆動などの方式であってもよい。

【0039】

本開示の実施例において、第１の調整アセンブリ２は、さらに回動部材を含む。回動部材は、Ｙ軸を回動軸線として、フレーム２１に回動可能に設置されるものであって、外力の駆動により、載置面でＹ方向の回りにずれるように被測定物を駆動し、かつ、フレーム２１に連れられて、前記Ｘ方向に沿って移動するように被測定物を駆動する可能である。

【0040】

理解できるように、回動部材の構造形態は複数種存在することができ、本開示の実施例における回動部材はシフトレバーとシフトヘッドを結合する形態を採用し、具体的な構造は以下の通りである。

【0041】

図５に示すように、フレーム２１にシフトレバー２２が取り付けられ、シフトレバー２２はＹ軸を回動軸線としてフレーム２１に回動可能に設置される。図９に示すように、フレーム２１にＹ方向に沿って回動軸２１１が設置され、回動軸２１１がフレーム２１に固定される。さらに、フレーム２１は枠体１２の間に横置かれた縁枠を有し、回動軸２１１が上記縁枠の上端面の中心に設置され、中心での設置は回動軸２１１に設置されたシフトレバー２２の回動アームの長さが一致することを保証することができ、後続のずれ角度の調整を容易にする。

【0042】

理解できるように、シフトレバー２２を回動軸２１１に回動可能に取り付けさせるために、本開示の実施例において、シフトレバー２２をアダプタブロック２５に設置し、２つのシフトレバー２２はそれぞれ前記アダプタブロック２５に対向して設置される。アダプタブロック２５の中間位置に取付孔が加工され、取付孔内に軸受および軸受が取付孔から脱出することを制限する止め輪２７が嵌着される。回動軸２１１は軸受内に嵌合して取り付けられ、さらにアダプタブロック２５が回動軸２１１の回りに回動することにより、シフトレバー２２をＹ方向の回りに回動させることを実現する。

【0043】

図４に示すように、本開示の実施例における第１の調整アセンブリ２はさらにシフトヘッド２３を含み、シフトヘッド２３はシフトレバー２２に設置され、シフトレバー２２の駆動により、シフトヘッド２３は、被測定物４を載置面１１でＹ方向の回りにずらせるように、かつ、被測定物を載置面でＸ方向に沿って移動させるように、被測定物４に当接可能である。

【0044】

本開示の実施例において、２つのシフトレバー２２の端部にそれぞれシフトヘッド２３が取り付けられ、シフトヘッド２３は支持面１１から突出し、フレーム２１が移動する時に被測定物４の移動方向に反対する端面に当接する可能であり、かつ被測定物４に対する偏向を実現するために、シフトヘッド２３の当接位置は前記端面の中心位置からずれる。

【0045】

理解できるように、シフトヘッド２３が被測定物４を載置面１１でＹ方向の回りにずらせる過程は以下の通りである。フレーム２１が外力の駆動により被測定物４に移動した時に、被測定物がＹ方向にずれたことを検出すると、アダプタブロック２５が回動し、これによってシフトレバー２２を回転させ、シフトレバー２２上のシフトヘッド２３を被測定物４に作用させ、シフトヘッド２３は回転させるように被測定物４を押さえ、被測定物４のずれに対する補正を実現する。ここで、被測定物４がＹ方向にずれたか否かの検出方式としては、位置センサにより現在の被測定物４の空間位置座標を検出してそれがずれたか否かを判断することができる。さらに前の被測定物４の検出結果により判断することができ、前の被測定物４の検出結果がずれたことであれば、現在の被測定物４に対してずれ調整を行う必要がある。

【0046】

理解できるように、被測定物４に対するずれ補正が完了した後、フレーム２１がＸ方向に沿って移動し続ける場合、シフトヘッド２３はＸ方向に沿って移動させるように被測定物４を押さえて、次の検出ステップに進むことができる。

【0047】

理解できるように、いくつかの実施形態において、シフトレバー２２の駆動により、シフトヘッド２３は被測定物４を載置面１１でＹ方向の回りにずらせるように被測定物４に当接するのみにしてもよい。被測定物４のＸ方向での移動は他の構造で駆動してもよい。

【0048】

理解できるように、いくつかの実施形態において、回動部材はさらに回動ディスクと昇降構造との組み合わせであってもよい。具体的には、回動ディスクは昇降構造に設置され、昇降構造に連れられて、回動ディスク２１はＹ方向に昇降運動を行うことができ、回動ディスク２１が上昇する時に、基体１上の被測定物４を受けることができる。回動ディスクは同時に昇降構造に回動可能に設置され、外力の駆動により、回動ディスクは被測定物４を受けてＹ方向の回りに回動することができる。さらに、昇降構造はフレーム１に固定され、フレーム１に連れられて、回動ディスクはさらにＸ方向に沿って移動することができ、被測定物のＹ方向でのずれ調整をさらに実現する。

【0049】

本開示の実施例において、第１の調整アセンブリ２はさらに第１の駆動手段２６を含み、第１の駆動手段２６は前記アダプタブロック２５が回動するように押さえる。具体的には、第１の駆動手段２６はアダプタブロック２５に対して向けるまたは離れるように移動可能なプッシュロッド２６１、および第１のモータ２６２を有する。プッシュロッド２６１の一方端はアダプタブロック２５に可動に接続され、一方端は第１のモータ２６２に接続される。ここで、プッシュロッド２６１によりアダプタブロック２５が回動軸２１１の回りに回動するように押さえることを保証するために、プッシュロッド２６１はアダプタブロック２５の回動軸２１１から離れた一方端に接続されて、押さえる時に回転モーメントを形成する必要がある。

【0050】

図６に示すように、第１のモータ２６２はフレーム２１に設置され、第１のモータ２６２が回転することによりプッシュロッド２６１を回動させる。アダプタブロック２５１のプッシュロッド２６１に向かう端面にねじスリーブ２５１が取り付けられ、プッシュロッド２６１にねじスリーブ２５１と嵌合するねじ部が設置され、プッシュロッド２６１が回動する時に、ねじ部がねじスリーブ２５１内で回転することにより、アダプタブロック２５１を回動させる。

【0051】

理解できるように、本開示の実施例における第１の駆動手段２６は２セットであり、回動軸２１１に対して対称的に配置され、２セットの第１の駆動手段２６はシフトレバー２２の回動を駆動する時に、１つの第１の駆動手段２６のプッシュロッド２６１はシフトレバー２６に向くように移動し、もう１つの第１の駆動手段２６のプッシュロッド２６１はシフトレバー２６から離れるように移動する。

【0052】

理解できるように、他のいくつかの実施形態において、第１の駆動手段２６の数は１セットであってもよく、第１の駆動手段２６が１セットである場合、プッシュロッド２６１とアダプタブロック２５との間は自由ジョイントと伸縮ロッドとの組み合わせの調整方式により、シフトレバー２２のＹ方向の回りの往復揺動を実現することができる。

【0053】

理解できるように、いくつかの実施形態において、シフトレバー２２に取り付けられたシフトヘッド２３の数は複数であってもよく、それによりシフトの位置を調整する。

【0054】

上記のように、本開示の実施例において、フレーム２１が移動する時に、シフトヘッド２３により、Ｘ方向に沿って移動するように被測定物４を押さえる機能を有し、被測定物４は間隔置きのように基体１に置かれる。フレーム２１が前の被測定物４をＸ方向に沿って次の工程に移動するように駆動した場合、フレーム２１が後退するように駆動するとともに、シフトヘッド２３を被測定物４の移動方向に反対する端面に再び当接させることにより、Ｘ方向に沿って移動するように被測定物４を押さえることができ、第１の調整アセンブリ２が基体１上の被測定物４を連続的に搬送することを実現するために、本開示の実施例において、シフトヘッド２３がシフトレバー２２に回動可能に設置され、シフトレバー２２の軸線方向の回りに回動できる必要がある。そして、偏心構造として構成され、ここで、シフトヘッド２３は、偏心力の駆動により前記載置面１１から突出する第１の位置と、外力の作用により載置面の下方に反転する第２の位置とを有しており、フレーム２１は前記Ｘ方向に沿って移動する場合、シフトヘッド２３が第１の位置にある時に、前記Ｘ方向に沿って移動するように前記被測定物を押さえる。

【0055】

図７および図８に示すように、シフトヘッド２３は、被測定物に当接する押さえ面２３２と、押さえ面２３２と角度をなして設置され、外力を受けるガイド面２３３とを含む。本実施例におけるシフトヘッド２３は直角三角形状をなし、上記の押さえ面２３２は直角辺が位置する平面に相当し、ガイド面２３３は斜角辺が位置する平面に相当する。位置制限構造２３４は、シフトヘッド２３が第１の位置に移動した時にその回動を制限るものであって、フレーム２１がＸ軸の負方向に沿って移動する場合、ガイド面２３３が被測定物に衝突することにより、第２の位置に移動するようにシフトヘッド２３を駆動する。図７に示すように、位置制限構造２３４は、ガイド面２３３に設置されかつガイド面２３３から突出して設置された位置制限ブロックである。図４におけるシフトヘッド２３の取付形態では、偏心力の作用により、シフトヘッド２３をシフトレバー２２で反時計回りに回転させ、所定の位置に回転した時、位置制限構造２３４がフレーム２１上の位置制限部に止められて、回動し続けることができず、ここでの位置が第１の位置であり、第１の位置でシフトヘッドが反時計回りに回動することができない。フレーム２１がＸ方向に沿って前進する時に、押さえ面２３２は被測定物４に当接し、被測定物４が印加した逆方向作用力は反時計回りに沿って回動するようにシフトヘッド２３を駆動することなく、さらに、シフトヘッド２３は、Ｘ方向に沿って移動するように被測定物４を押さえることができる。フレーム２１がＸ軸の負方向に沿って移動し、即ち後退する時に、ガイド面２３３は後方の被測定物４に優先的に衝突し、衝突力の作用により、シフトヘッド２３は時計回りに回転し、移動過程において、シフトヘッド２３は被測定物４によって徐々に載置面１１の下方に下押さえ、ここでの位置が第２の位置であり、シフトヘッド２３は被測定物４をスライドした後まで、偏心力の作用により、再び第１の位置に復帰し、かつ押さえ面２３２は再び被測定物４の移動方向に反対する端面に位置し、この時にＸ方向に沿って前向きに移動するようにフレーム２１を駆動し、シフトヘッド２３は、Ｘ方向に沿って移動するように被測定物４を押さえ続け、次の工程に進む。上記ステップを繰り返して、被測定物４に対する搬送を実現する。

【0056】

図８に示すように、シフトヘッド２３の中心と回動中心とが重ならないことを保証するために、シフトヘッド２３の偏心距離を調整するウェイトブロックがシフトヘッド２３に設置され、これにより、第１の位置において押さえ面２３２がＹＺ平面と平行になることを実現するものであって、押さえ面２３２がＹＺ平面と平行に設置されることは、押さえ面２３２が被測定物４を押さえる時に、押さえ面２３２が被測定物４に貼り合わせることを保証することができ、さらに被測定物４が載置面１１での安定した移動を保証することができる。

【0057】

本開示の実施例において、被測定物４の供給方式は、一定の時間ごとに基体１の供給点で１つの被測定物を搬送することである。しかし、被測定物４の供給点と結像領域との間の間隔が大きいため、フレーム２１が供給点と結像領域との間に前進するかまたは後退するストロークが大きく、被測定物４に対する搬送時間が増加したことになる。上記問題を解決するために、本開示の実施例において、前記フレーム２１の前記第１の調整アセンブリ２から離れた一方端には前記シフトヘッド２３が回動可能に設置され、シフトヘッド２３はＸ方向において第１のアセンブリ２内のシフトヘッドと間隔をあけて設置され、上記間隔の距離は供給点から結像領域までの距離の半分であってよく、フレーム２１が１つの間隔距離を後退する時に、再び前進すると、１回で２つの被測定物４を前方に移動させることができ、被測定物４に対する搬送効率を向上させている。

【0058】

理解できるように、被測定物が１回で複数供給される場合、Ｘ方向に複数のシフトヘッド２３を適応的に設置することにより、被測定物４に対する搬送効率を向上させることができる。

【0059】

前述のように、薄膜または接着層の被測定層（主ビーム面に平行な検出面）がＺ方向にずれる時に、結像領域の形状の影響で、被測定層が同様に結像領域からずれる状況が存在し、これに基づいて、本開示の実施例において、さらに第２の調整アセンブリ３を含む。被測定物４は、第１の調整アセンブリ２でそのＹ方向でのずれ補正が完了した後、シフトヘッド２３の押さえにより第２の調整アセンブリ３に入る。図２は、第２の調整アセンブリ３がＺ方向に被測定物４のずれを調整する過程を示しており、図２における双方向矢印で示された調整方向とおりである。

【0060】

図１１～図１３は第２の調整アセンブリ３の具体的な構造を示している。
第２の調整アセンブリ３は基体１に設置され、第２の調整アセンブリ３は、Ｚ軸を回動軸線として、基体１に回動可能に設置され、被測定物を受ける支持板３１を含み、本開示の実施例における支持板３１は支持梁構造であり、被測定物４に対する安定的な支持を実現するために、支持板３１の数が２つであり、それぞれヒンジ接続の形態で基体１に設置され、ここで、基体１の２つの枠体１２の水平支持アームには、それぞれヒンジ接続ベース３３が対応して設置され、それにより支持板３１との接続を実現する。

【0061】

図１５および図１６に示すように、支持板３１の第１の調整アセンブリ２に近接する一方端は、基体１にヒンジ接続される。そして、被測定物４が第１の調整アセンブリ２から第２の調整アセンブリ３までに安定して移動することを保証するために、Ｙ方向において載置面１１の高さが支持板３１の上面よりも高いように制御することができる。

【0062】

図１２に示すように、支持板３１の回動を駆動するために、第２の調整アセンブリ３は、基体１に設置され、かつ支持板３１の回動を駆動するように支持板３１のヒンジ接続端から離れた下方に配置される第２の駆動手段３２をさらに含む。

【0063】

図１３に示すように、第２の駆動手段３２は、基体１に設置される第２のモータ３２１と、第２のモータ３２１のモータ軸に設置され、一方端が支持板３１に接続される昇降ロッド３２２とを含み、第２のモータ３２１は軸継手により昇降ロッド３２２を回動させ、昇降ロッド３２２の一方端は支持板３１の下端面に設置された継手３４に接続され、昇降ロッド３２２は継手３４に螺着されてもよく、第２のモータ３２１の正逆回動に伴い、昇降ロッドの正逆回動を実現することができ、さらに支持板３２２をヒンジ接続軸を中心として時計回りまたは反時計回りに回動させることができる。

【0064】

理解できるように、第２の駆動手段３２の駆動形態は複数種であってもよく、いくつかの実施形態において、一般的なプッシュロッドモータ駆動やシリンダ伸縮駆動などを採用する。

【0065】

図１５および図１６に示すように、被測定物４の本開示における姿勢調整構造での移動過程を示している。載置面１１に置かれた被測定物４は、第１の調整アセンブリ２のシフトレバー２２の作用により、シフトヘッド２３に連れられてＹ方向でのずれ調整を完了した後で、フレーム２１に連れられてシフトヘッド２３の押さえによりＸ方向での移動を完了して、第２の調整アセンブリ３に入る。第２の調整アセンブリ３における支持板３１の駆動により、Ｚ方向でのずれ調整を完了し、さらに被測定物４の姿勢調整を完了して、次のステップの放射線結像工程に進む。

【0066】

ここで説明すべきことは、放射線結像における放射線が金属物体を通過する時に減衰が発生しやすいため、本実施例における第２の調整アセンブリ３における支持板３１などの構造は、炭素繊維材料を採用することが好ましい。

【0067】

説明すべきことは、発明者は、実際の生産において、炭素繊維で製造された支持板３１の剛性が一般的であり、複数回使用した後に、支持板３１が曲げ変形しやすく、異なるタイプの被測定物が支持板３１に置かれる場合、被測定物４の重量変化の影響で、支持板３１の曲げ変形程度が異なり、毎回に支持板３１の回動角度を調整する必要があり、操作工程が増加したことを発見した。これに基づいて、本開示において、別の第２の調整アセンブリ３の実施形態を提供している。

【0068】

図１４に示すように、本形態において、２セットの図１１～図１３に示す第２の調整アセンブリ３を採用した。Ｘ方向において、２セットの第２の調整アセンブリ３は、間隔をあけて設置され、放射線結像を行う場合、放射線結像の結像領域は、ちょうど間隔をあけて設置された間隔領域内に位置し、このような設置により、支持板３１は剛性がより高い金属を使用する場合、放射線を減衰させないことを保証した。

【0069】

本開示の実施例において、さらに搬送装置を提供し、上記実施例における姿勢調整構造を含み、Ｘ方向において、搬送装置は、少なくとも姿勢調整構造の前後両端に設置された第１の段および第２の段を含むことができ、第１の段の搬送装置は、検出すべき被測定物４を基体１の載置面１１へ搬送することを担当し、第２の段の搬送装置は、第２の調整アセンブリ３上の被測定物４を放射線結像工程が完了した後に後続のプロセスステップへ搬送することを担当する。第１の段の搬送装置および第２の段の搬送装置は、ベルト式やローラ式などの搬送機器を採用することができる。

【0070】

本開示の実施例において、さらに放射線結像システムを提供し、具体的にはＣＴ結像システムであってよく、当然ながらＤＲ結像システムにおいて本装置は同様に適用される。それは、上記の搬送装置、および走査装置を含み、走査装置は、第２の調整アセンブリ３の両側に設置され、被測定物４が姿勢調整構造により予め設定された検出位置に調整された後、走査装置における光学機器が被測定物４に向けてＸ線を発射し、Ｘ線が被測定物４を通過して被測定物４の他方端に位置する検出器によって受信され、走査結像が完了し、走査されたデータを処理することにより画像再構成を完了し、再構成された画像を検出者に表示して被測定物４の検出結果を判断する。

【0071】

図面におけるフローチャートおよびブロック図は、本開示の様々な実施例に係るシステム、方法およびコンピュータプログラム製品の実現可能なシステムアーキテクチャ、機能および操作を示している。この点で、フローチャートまたはブロック図における各ブロックは、１つのモジュール、プログラムセグメント、またはコードの一部を表すことができ、上記モジュール、プログラムセグメント、またはコードの一部は、１つまたは複数の所定の論理機能を実現するための実行可能なコマンドを含む。注意すべきことは、いくつかの代替としての実現において、ブロックにマークされた機能は図面にマークされた順序と異なる順序で発生してもよいことである。例えば、２つの連続的に表示されたブロックは実際に基本的に並行して実行されてもよく、それらは逆の順序で実行されることもあり、これは関連する機能に依存する。また注意すべきこととして、ブロック図またはフローチャートにおける各ブロック、およびブロック図またはフローチャートにおけるブロックの組み合わせは、所定の機能または操作を実行する専用のハードウェアベースのシステムで実現されてもよく、または専用のハードウェアとコンピュータコマンドとの組み合わせで実現されてもよい。

【0072】

当業者であれば理解できるように、本開示の各実施例および／または請求項に記載の特徴は様々な組み合わせおよび／または結合を行うことができ、このような組み合わせまたは結合は本開示に明確に記載されていなくてもよい。特に、本開示の精神および教示から逸脱することなく、本開示の各実施例および／または請求項に記載の特徴は様々な組み合わせおよび／または結合を行うことができる。これらの組み合わせおよび／または結合の全ては本開示の範囲に含まれる。

【0073】

以上、本開示の実施例について説明した。しかし、これらの実施例は説明の目的だけであり、本開示の範囲を限定するものではない。以上に各実施例をそれぞれ説明したが、これは各実施例における措置を有利に組み合わせて使用できないことを意味するものではない。本開示の範囲は、添付の特許請求の範囲およびその均等物によって限定される。本開示の範囲から逸脱することなく、当業者は様々な代替および修正を行うことができ、これらの代替および修正はいずれも本開示の範囲内にあるべきである。

【符号の説明】

【0074】

１：基体；１１－載置面；１２－枠体；１３－支持レール；
２：第１の調整アセンブリ；２１－フレーム；２２－シフトレバー；２３－シフトヘッド；２４－軸受；２５－アダプタブロック；２６－第１の駆動手段；２７－止め輪；２３１－ウェイトブロック；２３２－押さえ面；２３３－ガイド面；２３４－位置制限構造；２１１－回動軸；２５１－ねじスリーブ；２６１－プッシュロッド；２６２－第１のモータ；
３：第２の調整アセンブリ；３１－支持板；３２－第２の駆動手段；３２１－第２のモータ；３２２－昇降ロッド；３３－ヒンジ接続ベース；３４－継手；
４：被測定物；４１－被測定層；
５：スライドレールスライダ構造；５１－スライダ；５２－スライドレール；
６：光学機器；６１－主ビーム面；６２－走査領域；
７：走査装置。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】