特許 7580736 光学フィルム、及び光学フィルムの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-01

(45)【発行日】2024-11-12

(54)【発明の名称】光学フィルム、及び光学フィルムの製造方法

(51)【国際特許分類】

   B32B 15/08 20060101AFI20241105BHJP

   B32B 3/30 20060101ALI20241105BHJP

   C23C 14/20 20060101ALI20241105BHJP

   C23C 14/34 20060101ALI20241105BHJP

【ＦＩ】

B32B15/08 M

B32B3/30

C23C14/20 A

C23C14/34 T

【請求項の数】 5

(21)【出願番号】P 2020015014

(22)【出願日】2020-01-31

(65)【公開番号】P2021121490

(43)【公開日】2021-08-26

【審査請求日】2023-01-27

(73)【特許権者】

【識別番号】000242231

【氏名又は名称】北川工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001036

【氏名又は名称】弁理士法人暁合同特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】古田 健

(72)【発明者】

【氏名】塩野 涼介

【審査官】市村 脩平

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１９－１８８８０９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－１８８７９７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００８－０２０２６４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ３２Ｂ１／００－４３／００

Ｃ２３Ｃ１４／００－１４／５８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

樹脂フィルムと、
前記樹脂フィルムの一方の面側に直接、形成され、金属又は合金を含むスパッタ膜とを備える光学フィルムであって、
前記スパッタ膜は、島状構造であり、
前記スパッタ膜の最大高さ粗さ（Ｒｚ）が、８．５ｎｍ以上であり、
前記スパッタ膜の厚みが、１０ｎｍ以上であり、
前記島状構造における島の平均径が、２０ｎｍ以下であり、
前記金属又は合金は、銀又は銀合金であり、
前記スパッタ膜の表面抵抗率が、１．０×１０ ^９ Ω／□以上である光学フィルム。

【請求項2】

前記スパッタ膜の厚みが、２０ｎｍ以下であり、前記スパッタ膜の可視光線反射率が、４０％以上である請求項１に記載の光学フィルム。

【請求項3】

樹脂フィルム上に、スパッタ法によりスパッタ膜を形成する光学フィルムの製造方法であって、
前記樹脂フィルムと、金属又は合金を含むターゲットとの間であり、かつ前記樹脂フィルムと、所定の間隔を保ちつつ対向するように、複数の開口部を含むハニカム状のフィルタを配設し、前記開口部を通過するスパッタ粒子を、前記樹脂フィルム上に堆積させることで、島状構造であり、最大高さ粗さ（Ｒｚ）が、８．５ｎｍ以上であり、前記島状構造における島の平均径が、２０ｎｍ以下である前記スパッタ膜を形成し、
前記フィルタは、前記開口部の孔の貫通方向が、前記ターゲットと前記樹脂フィルムとが並ぶ方向と一致するように、配設される光学フィルムの製造方法。

【請求項4】

前記金属又は合金は、銀又は銀合金である請求項３に記載の光学フィルムの製造方法。

【請求項5】

前記スパッタ膜の厚みが、１０ｎｍ以上である請求項３又は４に記載の光学フィルムの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光学フィルム、及び光学フィルムの製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

二輪、自動車等の輸送機器の安全性の向上のために、ミリ波等の電磁波を利用した自動車レーダーの搭載が進んでいる。自動車レーダーは、車体の前方、後方又は左右方向（横方向）に取り付けられ、適正な車間距離や、暗闇の中での障害物（例えば、人、物）を認知することができる。

【0003】

この自動車レーダーの取り付け箇所は、低すぎると道路が妨害し、高すぎると目標点を外れてしまうため、精度の向上等の理由で車体の中央に設定されている。そのため、自動車レーダーを車体の前方に取り付ける場合、自動車レーダーは、車体の前方に設けられているエンブレムの背面かその付近に設置される。

【0004】

しかしながら、エンブレムやその付近のグリル（フロントグリル）には、通常、金属光沢を有する装飾用の金属めっき（特に、クロムめっき）が施されており、そのような金属めっきが電磁波を透過させずに遮蔽してしまうため、自動車レーダーによる電磁波の送受信に問題が発生することがあった。

【0005】

そこで、自動車レーダーをエンブレムの後方に配置できるように、樹脂フィルム上にインジウムを蒸着させ、そのフィルムをインサートモールド法によって、エンブレム表層に取り付けて、装飾的な金属光沢を備えつつ、インジウムの島状構造によって電磁波周波数帯で吸収域を持たないエンブレム等の外装部品を製造することが提案されている（特許文献１参照）。エンブレム等に使用される通常の金属被膜（例えば、アルミニウム、錫、クロム等）の場合、樹脂フィルムに対する濡れ性（親和性）が高すぎて、樹脂フィルム上において島状構造から直ちに連続被膜に変化してしまうため、電磁波が通れる隙間が形成されない。これに対して、インジウムの場合、樹脂フィルムに対する濡れ性が低いため、真空蒸着で微細なインジウムの島状構造を樹脂フィルム上に作り易く、しかも外観が通常の金属めっきと同様、均一な金属光沢を備えている。

【0006】

またこの他に、透明なプラスチックフィルム上に、ポリテトラフルオロエチレン（以下、ＰＴＦＥ）等の表面エネルギーが４０ｄｙｎ／ｃｍ以下である層を介して、島状の不連続な金属層が形成された電波透過型の透明積層体が知られている（特許文献２参照）。表面エネルギーが４０ｄｙｎ／ｃｍ以下である層を設けると、スパッタリング法等によって金属層を形成する際に、金属の凝集力が大きくなり、その結果、金属層が島状に形成され易くなる。金属層が不連続であると、表面抵抗が大きくなり、電波透過性が良くなる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【文献】特開２００２－１３５０３０号公報

【文献】特許第５５２７４８０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

特許文献１のようにインジウムの島状構造を有する被膜を形成した場合、インジウムは融点が１５６℃と低いため、容易に島状構造が壊れてしまう場合があった。例えば、被膜を保護するための保護層を射出成形（インサートモールド成型）によって形成する場合、前記被膜を有する樹脂フィルムをインサートした成形型内に、２００℃以上の粘性のある溶融樹脂が流し込まれることになる。そのため、インジウムの島状構造は溶融樹脂と接触して容易に壊れてしまう。そのため、このようなインジウムの被膜を備えた樹脂フィルムを用いて、インサートモールド成型を行う場合、その前処理として、インジウムの島状構造を低温硬化樹脂で固めて保護する処理を行う必要があり、製造工程が複雑化するという問題があった。

【0009】

また、特許文献２の場合、表面エネルギーが４０ｄｙｎ／ｃｍ以下である層と、金属層との密着性が低く、実用上、耐久性が不十分であった。

【0010】

本発明の目的は、電波透過性、可視光線反射性等に優れる光学フィルム、及びその製造方法を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0011】

前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。即ち、
＜１＞ 樹脂フィルムと、前記樹脂フィルムの一方の面側に形成され、金属又は合金を含むスパッタ膜とを備える光学フィルムであって、前記スパッタ膜は、島状構造であり、前記スパッタ膜の最大高さ粗さ（Ｒｚ）が、８．５ｎｍ以上であり、前記島状構造における島の平均径が、２０ｎｍ以下である光学フィルム。

【0012】

＜２＞ 前記スパッタ膜の厚みが、１０ｎｍ以上である前記＜１＞に記載の光学フィルム。

【0013】

＜３＞ 前記スパッタ膜の表面抵抗率が、２５０Ω／□以上であり、前記スパッタ膜の可視光線反射率が、４０％以上である前記＜１＞又は＜２＞に記載の光学フィルム。

【0014】

＜４＞ 前記金属又は合金は、銀又は銀合金である前記＜１＞～＜３＞の何れか１つに記載の光学フィルム。

【0015】

＜５＞ 樹脂フィルム上に、スパッタ法によりスパッタ膜を形成する光学フィルムの製造方法であって、前記樹脂フィルムと、金属又は合金を含むターゲットとの間に、複数の開口部を含むハニカム状のフィルタを配設し、前記開口部を通過するスパッタ粒子を、前記樹脂フィルム上に堆積させることで、島状構造であり、最大高さ粗さ（Ｒｚ）が、８．５ｎｍ以上であり、前記島状構造における島の平均径が、２０ｎｍ以下である前記スパッタ膜を形成する光学フィルムの製造方法。

【発明の効果】

【0016】

本願発明によれば、電波透過性、可視光線反射性等に優れる光学フィルム、及びその製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】一実施形態に係る光学フィルム１の構成を模式的に表した断面図

【図2】バッチ式のマグネトロンスパッタリング装置を利用して、樹脂フィルム上に、スパッタ膜を形成する方法を模式的に表した説明図

【図3】実施例３のスパッタ膜表面のＡＦＭ画像

【図4】比較例７のスパッタ膜表面のＡＦＭ画像

【図5】スパッタ膜の膜厚と表面抵抗率との関係を示すグラフ

【図6】スパッタ膜の膜厚と可視光線反射率との関係を示すグラフ

【図7】スパッタ膜の膜厚と最大高さ粗さ（Ｒｚ）との関係を示すグラフ

【発明を実施するための形態】

【0018】

〔光学フィルム〕
本発明の一実施形態に係る光学フィルムについて、図面を参照しつつ説明する。図１は、一実施形態に係る光学フィルム１の構成を模式的に表した断面図である。光学フィルム１は、図１に示されるように、樹脂フィルム２と、スパッタ膜３とを備えている。

【0019】

（樹脂フィルム）
樹脂フィルム２は、可視光等に対する光透過性を有し、スパッタ膜３を支持するフィルム状の部材である。樹脂フィルム２は、適度な可撓性を備えることが好ましい。樹脂フィルム２は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のアクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィン樹脂（ＣＯＰ）等の樹脂からなるフィルムが利用される。これらのうち、樹脂フィルム２を構成する樹脂としては、ポリエステル樹脂が好ましく、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。

【0020】

なお、樹脂フィルム２は、本発明の目的を損なわない限り、単層構造であってもよいし、多層構造（積層構造）であってもよい。例えば、上述したような樹脂からなる芯層と、この芯層の片面又は両面に積層されるハードコート層（例えば、紫外線硬化型アクリル樹脂等）とを含む積層物を、樹脂フィルム２としてもよい。

【0021】

樹脂フィルム２の厚みは、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はないが、例えば、２μｍ～１８８μｍである。

【0022】

なお、樹脂フィルム２には、本発明の目的を損なわない限り、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、オゾン処理等の表面処理が施されてもよい。

【0023】

（スパッタ膜）
スパッタ膜３は、後述するハニカム状のフィルタを使用したスパッタリングによって、樹脂フィルム２の一方の面側に形成された金属又は合金を含む不連続な膜からなる。また、スパッタ膜３は、島状構造を備えている。本明細書において、「島状構造」とは、金属又は合金の粒子からなる複数の凝集物（島に相当）が、互いに独立しつつ面状に集合配置した構造である。島状構造のスパッタ膜３は、上述したように不連続な膜であり、連続した膜と比べて、表面抵抗値が低くなる。スパッタ膜３は、金属又は合金を主成分として含有する。スパッタ膜３は、金属又は合金を、９０原子％以上、好ましくは９５原子％以上、より好ましくは９９原子％以上含有する。スパッタ膜３に含まれる金属又は合金としては、例えば、銀（Ａｇ）、パラジウム（Ｐｄ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、これらの合金等が挙げられる。これらの金属又は合金としては、銀又は銀合金が好ましい。なお、本実施形態において、スパッタ膜３は、樹脂フィルム２に対して直接、形成されているが、他の実施形態においては、本発明の目的を損なわない限り、他の層を介して樹脂フィルム２上に形成されてもよい。

【0024】

スパッタ膜３の厚みは、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はないが、例えば、スパッタ膜３の厚みの下限値は、１０ｎｍ以上が好ましく、１１ｎｍ以上がより好ましい。また、スパッタ膜３の厚みの上限値は、２０ｎｍ以下が好ましい。スパッタ膜３の厚みがこのような範囲であると、スパッタ膜３の最大高さ粗さ（Ｒｚ）を所定の値に調整し易く、不連続な島状構造のスパッタ膜３を得やすい。なお、スパッタ膜３の厚みは、後述するように、蛍光Ｘ線分析装置を利用して測定することができる。

【0025】

スパッタ膜３の厚みは、例えば、スパッタリングによる成膜時のチャンバー内の圧力、放電電流、放電時間等を、適宜、設定することで調整可能である。

【0026】

スパッタ膜３は、金属又は合金を含む不連続な膜であり、かつ島状構造を備えている。スパッタ膜３は、島状構造を備えているため、表面抵抗率が大きく、電波透過性に優れている。

【0027】

スパッタ膜３の最大高さ粗さ（Ｒｚ）の下限値は、８．５ｎｍ以上であり、好ましくは９．０ｎｍ以上である。なお、最大高さ粗さ（Ｒｚ）の上限値は、本発明の目的を損なわない限り、特に制限されないが、例えば、４０ｎｍ以下が好ましく、３５ｎｍ以下がより好ましい。スパッタ膜３の最大高さ粗さ（Ｒｚ）がこのような範囲であると、不連続な島状構造が確保され易い。

【0028】

スパッタ膜３の最大高さ粗さ（Ｒｚ）は、スパッタ膜３の形成時に使用されるハニカム状のフィルタの開口部の大きさ等を、適宜、設定することで調整することができる。また、スパッタ膜３の最大高さ粗さ（Ｒｚ）は、上述したスパッタ膜３の厚みと同様、スパッタリングによる成膜時のチャンバー内の圧力、放電電流、放電時間等を、適宜、設定することでも調整可能である。なお、スパッタ膜３の最大高さ粗さ（Ｒｚ）の測定方法は、後述する。

【0029】

スパッタ膜３の表面抵抗率は、２５０Ω／□以上であり、好ましくは１．０×１０^９Ω／□以上である。スパッタ膜３の表面抵抗率の測定方法は、後述する。

【0030】

スパッタ膜３の可視光線反射率（下限値）は、４０％以上である。スパッタ膜３の可視光線反射率の上限値は、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はないが、例えば、光学フィルム１をハーフミラーとして使用する場合、可視光線反射率は、６０％以下が好ましく、５５％以下がより好ましく、５０％以下が更に好ましい。

【0031】

スパッタ膜３の島状構造における島の平均径（上限値）は、２０ｎｍ以下であり、好ましくは１７ｎｍ以下である。また、島の平均径（下限値）は、７ｎｍ以上が好ましく、８ｎｍ以上がより好ましい。島の平均径がこのような範囲であると、表面抵抗率が大きく、電波透過性に優れる。島の平均径の測定方法は、後述する。

【0032】

ここで、図２を参照しつつ、スパッタ膜３の形成方法について説明する。図２は、バッチ式のマグネトロンスパッタリング装置（以下、「スパッタリング装置」と称する）１０を利用して、樹脂フィルム２上に、スパッタ膜３を形成する方法を模式的に表した説明図である。なお、スパッタ膜３を形成する前に、予め、樹脂フィルム２をスパッタリング装置１０のチャンバー１１内に設置し、加熱処理（例えば、７５℃で８時間加熱）することで、樹脂フィルム２中に含まれるガス成分の除去を行ってもよい。

【0033】

図２に示されるように、チャンバー１１内において、樹脂フィルム２がステージ１２上に設置される。そして、ターゲット材１３は、ステージ１２上の樹脂フィルム２と、所定の間隔ＴＳを保ちつつ対向するように配置されている。間隔ＴＳは、ターゲット材１３と樹脂フィルム２との間の距離である。ターゲット材１３の背面側には、マグネトロン１４が設置されている。

【0034】

また、図２に示されるように、ターゲット材１３と樹脂フィルム２との間には、フィルタ１５が配設されている。フィルタ１５は、複数の開口部１５ａを含むハニカム状をなしており、例えば、アルミニウム等の金属材料、プラスチック材料等から構成される。本実施形態の開口部１５ａは、平面視した際に、正六角形であり、内側にフィルタ１５の厚み方向に貫通する孔を備えている。本明細書において、開口部１５ａの長さは、フィルタ１５の厚みＤと等しい。フィルタ１５は、同じ大きさの開口径ｄ、及び同じ大きさの長さを備えた複数の開口部１５ａが集合したものからなる。なお、他の実施形態においては、開口部が、平面視で四角形、三角形等であってもよい。

【0035】

フィルタ１５は、ステージ１２上の樹脂フィルム２と、所定の間隔ＦＳを保ちつつ対向するように配置されている。間隔ＦＳは、フィルタ１５と樹脂フィルム２との間の距離である。なお、フィルタ１５は、開口部１５ａの孔の貫通方向が、ターゲット材１３と樹脂フィルム２とが並ぶ方向（図２の上下方向）と一致するように、配設されている。

【0036】

このようにチャンバー１１内に配置された樹脂フィルム２に、スパッタ膜３を形成するために、ステージ１２とターゲット材１４との間に電圧が印加される。電圧は、ステージ１２（樹脂フィルム２）側が陽極となり、かつターゲット材１３側が陰極となるように印加される。

【0037】

図２には、ターゲット材１３から発生したスパッタ粒子１６が模式的に示されている。ターゲット材１３から発生したスパッタ粒子１６のうち、フィルタ１５の開口部１５ａを通過した比較的、高エネルギーのスパッタ粒子１６が、樹脂フィルム２上に堆積される。そして、所定時間の間、樹脂フィルム２上に、スパッタ粒子１６を厚み方向に島状に堆積させることで、不連続な島状構造のスパッタ膜３が形成される。なお、比較的、低エネルギーのスパッタ粒子１６は、フィルタ１５によって遮られる。

【0038】

フィルタ１５の開口部１５ａの大きさ（開口径ｄ、長さＤ）、間隔ＦＳ、成膜温度等を適宜、設定することにより、スパッタ膜３の島状構造が調整される。なお、フィルタ１５の開口部１５ａの長さＤが長すぎると、成膜速度が遅くなり好ましくない。また、フィルタ１５の開口部１５ａの長さＤが短すぎると、比較的、低エネルギーのスパッタ粒子１６が開口部１５ａを通過してしまうため好ましくない。

【0039】

なお、スパッタ膜３の形成時におけるチャンバー１１内の温度は、室温（２３℃）程度（例えば、－２０℃～１２０℃）で行われることが好ましい。チャンバー１１内の温度がこのような範囲であると、樹脂フィルム２上において、金属又は合金の粒子が、樹脂フィルム２の表面方向において互いに集まり過ぎず、適度に不連続な島状構造が形成され易いと共に、樹脂フィルム２が変形することなくスパッタ膜３を形成することができる。

【0040】

以上のような方法により、樹脂フィルム２上に、所望のスパッタ膜３を形成することができる。このように樹脂フィルム２上にスパッタ膜３を形成したものが、光学フィルム１として利用される。

【0041】

なお、光学フィルム１には、本発明の目的を損なわない限り、樹脂フィルム２上に、スパッタ膜３以外の他の層が形成されてもよい。例えば、スパッタ膜３の表面に保護膜が形成されてもよいし、樹脂フィルム２とスパッタ膜３との接着性を向上等させるために、ＳｉＯ_２膜等が形成されてもよいし、光学フィルム１の光学特性（例えば、屈折率）を調整するために、ＩＴＯ膜等の光学膜が形成されてもよい。また、必要に応じて、樹脂フィルム２の両面に、スパッタ膜３が形成されてもよい。

【0042】

（用途）
光学フィルム１は、例えば、自動車のガラス（フロントガラス等）や建築物の窓ガラス等に使用される電波透過型のハーフミラー等として利用することができる。

【実施例】

【0043】

以下、実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。なお、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。

【0044】

なお、以下に示される実施例、及び比較例におけるスパッタリングによる成膜では、バッチ方式のマグネトロンスパッタリング装置を用いた。また、スパッタリング装置の各チャンバー内に供給されるガスの流量は、所定のマスフローコントローラを用いて、適宜、調節した。

【0045】

〔実施例１〕
樹脂フィルムとして、ＰＥＴからなる芯層（厚み：１２５μｍ）の両面にハードコート層（紫外線硬化型アクリル樹脂、厚み：５μｍ）が両面に形成されているＨＣ付きＰＥＴ（総厚み：１３５μｍ）を用意した。また、フィルタ１として、複数の開口部（正六角形の開口径（最大径）：３．２ｍｍ、厚み：１３ｍｍ）を含むアルミニウム製のハニカム状フィルタを用意した。樹脂フィルムとターゲットとの間に、フィルタ１を配置した状態で、以下に示される成膜条件で、樹脂フィルムの片面上に、スパッタリングによりスパッタ膜（銀合金層）を形成して、実施例１の光学フィルムを得た。

【0046】

＜成膜条件：スパッタ膜＞
ターゲット：パラジウムを１原子％含有する銀、成膜圧力：０．４Ｐａ、ＤＣパワー：０．２５Ｗ／ｃｍ^２、ターゲット－樹脂フィルム間距離：１００ｍｍ、フィルタ－樹脂フィルム間距離：５０ｍｍ、成膜温度：室温（２３℃）、基板搬送速度：０．０８ｍ／ｍｉｎ

【0047】

〔実施例２〕
基板搬送速度を０．０６ｍ／ｍｉｎに変更したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２の光学フィルムを作製した。

【0048】

〔実施例３〕
基板搬送速度を０．１５ｍ／ｍｉｎに変更し、ターゲット－樹脂フィルム間距離を７５ｍｍ、フィルタ－樹脂フィルム間距離を２５ｍｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例３の光学フィルムを作製した。

【0049】

〔比較例１～３〕
基板搬送速度を、それぞれ０．３９ｍ／ｍｉｎ、０．０４４ｍ／ｍｉｎ、０．０３４ｍ／ｍｉｎに変更したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１～３の光学フィルムを作製した。

【0050】

〔比較例４～７〕
樹脂フィルムとターゲットとの間にフィルタを配置せず、かつ基板搬送速度を、それぞれ９．１６ｍ／ｍｉｎ、５．５０ｍ／ｍｉｎ、３．０５ｍ／ｍｉｎ、１．８３ｍ／ｍｉｎに変更したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例４～７の光学フィルムを作製した。

【0051】

〔比較例８〕
フィルタ１に代えて、フィルタ２を使用し、かつ基板搬送速度を、０．３９ｍ／ｍｉｎに変更したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例８の光学フィルムを作製した。なお、フィルタ２は、複数の開口部（正六角形の開口径（最大径）：９．５ｍｍ、厚み：１５ｍｍ）を含むアルミニウム製のハニカム状フィルタである。

【0052】

〔評価〕
（スパッタ膜の膜厚）
蛍光Ｘ線分析装置（製品名「ＺＳＸ－１００ｅ」、株式会社リガク製）を用いて、実施例１等のスパッタ膜の膜厚（直径３０ｍｍの平均値）を測定した。結果は、表１に示した。

【0053】

（最大高さ粗さＲｚ）
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（製品名「ＦＴＭ－９６００」、株式会社島津製作所製）を用いて、実施例１等のスパッタ膜の表面画像（ＡＦＭ画像）を取得し、そのＡＦＭ画像から、最大高さ粗さＲｚ（ｎｍ）を求めた。ここで、図３を参照しつつ、実施例２のスパッタ膜の最大高さ粗さＲｚの測定方法を具体的に説明する。図３は、実施例２のスパッタ膜表面のＡＦＭ画像である。ＡＦＭ画像の表示サイズ（観察視野）は、２．００μｍ×２．００μｍである。そのようなＡＦＭ画像中に示される一方向に延びた線分Ａ－Ｂ（図）に沿った最大高さ粗さＲｚ（ｎｍ）を求めた。次いで、同じ図３の画像中に示される線分Ｃ－Ｄ（線分Ａ－Ｂに垂直な線分）に沿った最大高さ粗さＲｚ（ｎｍ）を求めた。各線分Ａ－Ｂ及びＣ－Ｄは、同じ長さであり、０．５μｍである。そして、それら２つの最大高さ粗さＲｚ（ｎｍ）の平均値を、実施例２のスパッタ膜表面の最大高さ粗さＲｚ（ｎｍ）とした。表１に示した。

【0054】

図４は、比較例７のスパッタ膜表面のＡＦＭ画像である。比較例７の場合も同様に、画像中に示される、互いに垂直な関係の２つの線分Ａ－Ｂ及び線分Ｃ－Ｄから、比較例７のスパッタ膜表面の最大高さ粗さＲｚ（ｎｍ）を求めた。

【0055】

（島状構造の平均径）
実施例１等の銀合金層について、島状構造における島の平均径を、以下に示される方法で測定した。実施例１等の光学フィルムから１ｃｍ角に切り出したサンプルを、原子間力顕微鏡で観察して、ＡＦＭ画像を取得し、そのＡＦＭ画像から、スパッタ膜の島状構造における島を、ランダムに１０個選定し、各島の長径と短径を測定し、その平均径を算出した。長径とは、島の外接円の直径であり、短径は島の内接円の直径である。結果は、表１に示した。

【0056】

（表面抵抗率）
実施例１等の光学フィルムからサンプル（サイズ：５ｃｍ角）を切り出し、そのサンプルを用いて、ＪＩＳ Ｋ ６９１１に準拠しつつ表面抵抗値（Ω／□）を測定した。測定装置としては、Ｈｉｒｅｓｔａ－ＵＰ ＭＣＰ－ＨＴ４５０（三菱化学株式会社製）を用いた。測定装置のプローブ（電極）を、サンプルのスパッタ膜の表面に押し当て、その表面を流れる電流値（温度条件：２０℃）を測定し、その電流値から表面抵抗値（Ω／□）を求めた。結果は、表１に示した。

【0057】

（可視光線反射率）
実施例１等の光学フィルムからサンプル（サイズ：５ｃｍ角）を切り出し、そのサンプルを用いてスパッタ膜の可視光線反射率（％）を測定した。可視光線反射率は、ＪＩＳ Ｒ ３１０６に準拠して評価した。評価設備として分光光度計（Ｕ４１００、日立ハイテク社製））を利用した。結果は、表１に示した。

【0058】

【表1】

【0059】

実施例１～３の光学フィルムは、銀合金膜からなるスパッタ膜が不連続な島状構造となっている（例えば、図３参照）。これらの光学フィルムは、表１に示されるように、表面抵抗率が大きく、電波透過性に優れることが確かめられた。また、実施例１～３の光学フィルムは、可視光線反射率が高く、鏡のような外観を備えていることが確かめられた。このように実施例１～３の光学フィルムでは、電波透過性（高い表面抵抗率）と、高い可視光線反射率とが両立されている。

【0060】

なお、実施例１～３において、島状構造の島の平均径が２０ｎｍ以下であり、何れも小さい島が得られていた。これは、ハニカム状のフィルタを用いることで低エネルギーのスパッタ粒子が除去されると共に、高エネルギーで方向性の揃ったスパッタ粒子のみが樹脂フィルム（基材フィルム）に到達し、その到達した高エネルギーのスパッタ粒子が樹脂フィルム表面上で極僅かな一定の距離を移動することができるため、樹脂フィルム表面上にスパッタ粒子が小さく凝集した島状構造が形成されると推測される。

【0061】

比較例１は、スパッタ膜の膜厚が薄すぎる場合であり、可視光線反射率が低い値となった。なお、比較例１の表面抵抗率は、高い値となったものの、これはスパッタ膜ではなく、樹脂フィルム（絶縁性）に起因した結果である。

【0062】

比較例２，３は、実施例１等と同様、フィルタ１を使用してスパッタ膜を形成した場合であるものの、それらのスパッタ膜は、島状構造ではなく、最大高さ粗さ（Ｒｚ）が小さい。また、比較例２，３のスパッタ膜の膜厚は厚すぎる。このような比較例２，３は、表面抵抗率が低く（つまり、導電性が高く）、電波を透過させ難いことが確かめられた。

【0063】

比較例４～７は、フィルタ１を使用せずに、スパッタ膜を形成した場合であり、何れもスパッタ膜は、島状構造ではなく、表面抵抗率が低すぎるため、電波を透過させ難いことが確かめられた。

【0064】

比較例８は、開口部の大きなフィルタ２を用いて、スパッタ膜を形成した場合である。このような比較例８では、島状構造ではない連続的なスパッタ膜が形成され、電波透過性が得られなかった。

【0065】

なお、実施例１～３及び比較例１～７の結果を、図５～図７の各グラフに、フィルタ１の有無の違いでまとめた。図５は、スパッタ膜の膜厚と表面抵抗率との関係を示すグラフであり、図６は、スパッタ膜の膜厚と可視光線反射率との関係を示すグラフであり、図７は、スパッタ膜の膜厚と最大高さ粗さ（Ｒｚ）との関係を示すグラフである。図５～図７の各グラフの横軸は、スパッタ膜の膜厚（ｎｍ）を表す。図５のグラフの縦軸は、スパッタ膜の表面抵抗率（Ω／□）を表し、図６のグラフの縦軸は、スパッタ膜の可視光線反射率（％）を表し、図７のグラフの縦軸は、スパッタ膜の最大高さ粗さＲｚ（ｎｍ）を表す。また、各図のグラフにおいて、実施例１～３を、「実１～３」で示し、比較例１～７を「比１～７」と示した。

【符号の説明】

【0066】

１…光学フィルム、２…樹脂フィルム、３…スパッタ膜、１０…スパッタリング装置、１１…チャンバー、１２…ステージ、１３…ターゲット材、１４…マグネトロン、１５…フィルタ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】