特許 7580859 イオン導入装置及びイオン導入方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-01

(45)【発行日】2024-11-12

(54)【発明の名称】イオン導入装置及びイオン導入方法

(51)【国際特許分類】

   A61N 1/30 20060101AFI20241105BHJP

【ＦＩ】

A61N1/30

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2024070625

(22)【出願日】2024-04-24

【審査請求日】2024-05-20

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】390018913

【氏名又は名称】株式会社ホーマーイオン研究所

(74)【代理人】

【識別番号】100087398

【弁理士】

【氏名又は名称】水野 勝文

(74)【代理人】

【識別番号】100128783

【弁理士】

【氏名又は名称】井出 真

(74)【代理人】

【識別番号】100128473

【弁理士】

【氏名又は名称】須澤 洋

(74)【代理人】

【識別番号】100160886

【弁理士】

【氏名又は名称】久松 洋輔

(72)【発明者】

【氏名】細木 力

(72)【発明者】

【氏名】野池 潤一

(72)【発明者】

【氏名】秋本 龍二

【審査官】段 吉享

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１９－０７２１６５（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２００６／０１４２６８８（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ａ６１Ｎ １／３０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

電極を介した電気刺激により生体にイオンを導入するイオン導入装置であって、
コントローラと、
ピーク電圧を調整するための電圧信号生成部と、
ローパスフィルタを少なくとも含む出力合成部と、
前記出力合成部で合成されたパルス信号を前記電極に出力する出力部と、
前記出力部から出力される電流値を検出して、前記コントローラに送信する出力検出部と、
を有し、
前記ローパスフィルタのカットオフ周波数を段階的に引き上げるモードを第１モード、前記ローパスフィルタのカットオフ周波数を段階的に引き下げるモードを第２モードと定義したとき、
前記コントローラは、
電流値が増大から減少に転じるまで前記第１モードを実施する第１ステップと、
前記第１ステップにおいて電流値が増大から減少に転じたときに、前記第１モードを前記第２モードに切り替えるとともに、前記第２モードを電流値が増大から減少に転じるまで実施する第２ステップと、
前記第２ステップにおいて、電流値が増大から減少に転じたときに、前記第２モードを前記第１モードに切り替える第３ステップと、
を含む電流制御を実施することを特徴とするイオン導入装置。

【請求項2】

前記コントローラは、生体に微弱電流を流すための準備処理である第１プレステップを実施した後、前記電極と生体との接触状態の有無を判別し、接触と判別した場合に前記微弱電流よりも電流値が高いベース電流を生体に流す第２プレステップを実施し、前記第２プレステップの後に、前記電流制御を開始し、
前記コントローラは、前記第１モード及び前記第２モードにおいてカットオフ周波数を変更するたびに、前記電極と生体との接触状態の有無を判別し、非接触と判別した場合には、前記第１モード又は前記第２モードから前記第１プレステップに切り替える、
ことを特徴とする請求項１に記載のイオン導入装置。

【請求項3】

前記コントローラは、前記第２プレステップにおいて、デューティー比又はピーク電圧を段階的に上げる処理を行う、
ことを特徴とする請求項２に記載のイオン導入装置。

【請求項4】

前記コントローラは、前記第１モード及び前記第２モードの実施中に、ピーク電圧を一定に維持することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか一つに記載のイオン導入装置。

【請求項5】

前記第１モード及び前記第２モードは、前記電極の極性が交互に代わる極性反転方式により実施されることを特徴とする請求項１又は２に記載のイオン導入装置。

【請求項6】

イオン導入装置の電極を介した電気刺激により生体にイオンを導入するイオン導入方法
（ただし、医療行為を除く）であって、
前記イオン導入装置は、
コントローラと、
ピーク電圧を調整するための電圧信号生成部と、
ローパスフィルタを少なくとも含む出力合成部と、
前記出力合成部で合成されたパルス信号を前記電極に出力する出力部と、
前記出力部から出力される電流値を検出して、前記コントローラに送信する出力検出部
と、
を有し、
前記ローパスフィルタのカットオフ周波数を段階的に引き上げるモードを第１モード、
前記ローパスフィルタのカットオフ周波数を段階的に引き下げるモードを第２モードと定
義したとき、
前記コントローラに対して、
電流値が増大から減少に転じるまで前記第１モードを実施する第１ステップと、
前記第１ステップにおいて電流値が増大から減少に転じたときに、前記第１モードを前
記第２モードに切り替えるとともに、前記第２モードを電流値が増大から減少に転じるま
で実施する第２ステップと、
前記第２ステップにおいて、電流値が増大から減少に転じたときに、前記第２モードを
前記第１モードに切り替える第３ステップと、
を含む電流制御を実施させることを特徴とするイオン導入方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、生体にイオン導入を行うイオン導入装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

電極を介した電気刺激により、生体にイオン導入を行うイオン導入装置が知られている（例えば、特許文献１及び２参照）。皮膚の状態、使用する環境、機器の使用方法（肌に接触する面積）によって、生体インピーダンスは変動するため、狙ったパルス波形に基づく電気刺激をリアルタイムで行うことが長年の課題とされている。

【0003】

特許文献１には、イオン性薬物を皮膚から導入させるイオン性薬物導入装置であって、前記イオン性薬物が塗布され、皮膚表面に付着される電極と、前記電極を通じて流れる電流値を検出する電流検出手段と、前記検出された電流値に基づき皮膚の複素誘電率の測定し、当該測定した複素誘電率に対応する最適周波数を決定する最適周波数決定手段と、前記決定された最適周波数で、且つ所定のデューティー比のパルス電圧を生成し、当該パルス電圧を前記電極に印加するパルス電圧印加手段と、を備えることを特徴とするイオン性薬物導入装置が開示されている。

【0004】

特許文献２には、美容効果を高めるためのイオン性液剤を人体の皮膚組織に浸透させるための美容用の液剤浸透装置であって、前記液剤が塗布され、皮膚表面に付着される電極と、１００ｋＨｚから１０００ｋＨｚの間の何れかの周波数で、且つ３０～５０％の間の何れかのデューティー比であるパルス電圧を生成し、当該パルス電圧を前記電極に印加するパルス電圧印加手段と、を備えることを特徴とする美容用の液剤浸透装置が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【文献】特開２００９－１１５８９号公報

【文献】特開２００７－３１９４７４号公報

【文献】特開２００３－１０２８５１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

本発明は、電流値を監視しながら、肌に流せる電流の最大値を指向したイオン導入を実現することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題を解決するために、本発明のイオン導入装置は、（１）電極を介した電気刺激により生体にイオンを導入するイオン導入装置であって、コントローラと、ピーク電圧を調整するための電圧信号生成部と、ローパスフィルタを少なくとも含む出力合成部と、前記出力合成部で合成されたパルス信号を出力する出力部と、前記出力部から出力される電流値を検出して、前記コントローラに送信する出力検出部と、を有し、前記ローパスフィルタのカットオフ周波数を段階的に引き上げるモードを第１モード、前記ローパスフィルタのカットオフ周波数を段階的に引き下げるモードを第２モードと定義したとき、前記コントローラは、電流値が増大から減少に転じるまで前記第１モードを実施する第１ステップと、前記第１ステップにおいて電流値が増大から減少に転じたときに、前記第１モードを前記第２モードに切り替えるとともに、前記第２モードを電流値が増大から減少に転じるまで実施する第２ステップと、前記第２ステップにおいて、電流値が増大から減少に転じたときに、前記第２モードを前記第１モードに切り替える第３ステップと、を含む電流制御を実施することを特徴とするイオン導入装置。

【0008】

（２）前記コントローラは、生体に微弱電流を流すための準備処理である第１プレステップを実施した後、前記電極と生体との接触状態の有無を判別し、接触と判別した場合に前記微弱電流よりも電流値が高いベース電流を生体に流す第２プレスステップを実施し、前記第２プレスステップの後に、前記電流制御を開始し、前記コントローラは、前記第１モード及び前記第２モードにおいてカットオフ周波数を変更するたびに、前記電極と生体との接触状態の有無を判別し、非接触と判別した場合には、前記第１モード又は前記第２モードから前記第１プレステップに切り替える、ことを特徴とする上記（１）に記載のイオン導入装置。

【0009】

（３）前記コントローラは、前記第２プレステップにおいて、デューティー比又はピーク電圧を段階的に上げる処理を行う、ことを特徴とする上記（２）に記載のイオン導入装置。

【0010】

（４）前記コントローラは、前記第１モード及び前記第２モードの実施中に、ピーク電圧を一定に維持することを特徴とする上記（１）乃至（３）のうちいずれか一つに記載のイオン導入装置。

【0011】

（５）前記第１モード及び前記第２モードは、前記電極の極性が交互に代わる極性反転方式により実施されることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載のイオン導入装置。

【0012】

（６）イオン導入装置の電極を介した電気刺激により生体にイオンを導入するイオン導入方法（ただし、医療行為を除く）であって、前記イオン導入装置は、コントローラと、ピーク電圧を調整するための電圧信号生成部と、ローパスフィルタを少なくとも含む出力合成部と、前記出力合成部で合成されたパルス信号を出力する出力部と、前記出力部から出力される電流値を検出して、前記コントローラに送信する出力検出部と、を有し、前記ローパスフィルタのカットオフ周波数を段階的に引き上げるモードを第１モード、前記ローパスフィルタのカットオフ周波数を段階的に引き下げるモードを第２モードと定義したとき、前記コントローラに対して、電流値が増大から減少に転じるまで前記第１モードを実施する第１ステップと、前記第１ステップにおいて電流値が増大から減少に転じたときに、前記第１モードを前記第２モードに切り替えるとともに、前記第２モードを電流値が増大から減少に転じるまで実施する第２ステップと、前記第２ステップにおいて、電流値が増大から減少に転じたときに、前記第２モードを前記第１モードに切り替える第３ステップと、を含む電流制御を実施させることを特徴とする。

【発明の効果】

【0013】

本願発明によれば、電流値の増減を監視しながら、カットオフ周波数を制御することにより、肌に流せる電流の最大値を指向したイオン導入を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】美顔器の斜視図である。

【図2】美顔器の機能ブロック図である。

【図3】イオン導入方法全体のフローチャートである。

【図4】図３のフローチャートのサブルーチンである（電流制御モード）。

【図5】微弱電流の波形を模式的に示した模式図である。

【図6】微弱電流の別の波形を模式的に示した模式図である。

【図7】ベース電流の波形を模式的に示した模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0015】

図１は、イオン導入装置の一例である美顔器の外観斜視図である。美顔器１は、筺体部２と、導入電極３と、対極電極４と、電源オンスイッチ５と、電源オフスイッチ６と、電池収容部７とを含む。筺体部２は合成樹脂等の絶縁材であってもよい。ただし、本発明は、美顔器に限るものではなく、生体のいずれかの部位にイオンを導入できる装置であればよい。

【0016】

導入電極３は、後述する図２のＯＵＴ１に対応しており、生体に対してパルス信号を出力する。対極電極４は、図２のＯＵＴ２に対応している。美顔器１は、電源オンスイッチ５が操作されると作動し、電源オフスイッチ６が操作されると停止する。

【0017】

美顔器１では、導入電極３とイオン導入部位である顔部との間に、イオン化化粧液を含浸させた吸湿部材（不図示）を介在させ、かつ、対極電極４を覆うように筐体部２を手掌した状態で、電源オンスイッチ５を操作することでイオン導入が開始される。動作開始後は、導入電極３に対して、パルス信号が出力されることによって、吸湿部材中のイオン化化粧液を生体に導入することができる。

【0018】

図２は、美顔器１の機能ブロック図である。美顔器１は、コントローラ１０、電圧信号生成部２０、出力合成部３０、出力部４０及び出力検出部５０を含む。コントローラ１０は、美顔器１全体の制御を司り、マイコンなどを用いることができる。マイコンには、I/O（Input/Output）、CPU（Central Processing Unit）、ROM（Read Only Memory）、RAM（Random Access Memory）などが含まれていてもよい。

【0019】

コントローラ１０は、電圧信号生成部２０を制御することによって、ピーク電圧を調整する。ピーク電圧とは、１周期内の最高電圧を意味する。電圧信号生成部２０で生成された出力パルス用の電圧信号は、出力合成部３０に送信される。
出力合成部３０は、パルス生成部３１、フィルタ制御部３２及び増幅部３３を含む。コントローラ１０は、パルス生成部３１を制御することによって、パルス信号の周波数及びデューティー比を制御する。コントローラ１０は、フィルタ制御部３２に含まれるローパスフィルタのカットオフ周波数を制御する。カットオフ周波数を制御することにより、パルス信号の立ち上がり時間が調整される。

【0020】

コントローラ１０は、パルス信号の周波数、デューティー比及びカットオフ周波数を調整した後、増幅部３３でピーク電圧を調整して、出力パルスを生成する。生成された出力パルスは、出力部４０を介して、出力される。出力検出部５０は、出力部４０から出力される電流を常時検出しており、その検出結果をコントローラ１０に出力する。

【0021】

次に、図３及び図４のフローチャートを参照しながら、美顔器１を用いたイオン導入方法について詳細に説明する。図３がイオン導入全体のフローチャートであり、図４が図３の電源制御モード（ステップＳ１０４）に対応するサブルーチンである。
なお、本発明のイオン導入方法には、医療行為は含まれない。

【0022】

図３を参照して、電源オンスイッチ５がオンされると、コントローラ１０は、出力部４０から微弱電流に対応したパルス信号を出力するための「準備処理」を行う（ステップＳ１０１）。ステップＳ１０１が「第１プレステップ」に相当する。後述するように、デューティー比又はピーク電圧を低い値に設定することが、「準備処理」に相当する。
コントローラ１０は、出力検出部５０の検出結果に基づき、微弱電流が流れたかどうかを判別する（ステップＳ１０２）。微弱電流が検出された場合には導入電極３が肌に接触したものと見做し（ステップＳ１０２ Ｙｅｓ）、処理はステップＳ１０３に進む。微弱電流が検出されなかった場合（つまり、検出した電流が０の場合）には、ステップＳ１０１を継続する。ステップＳ１０３に進む際に、コントローラ１０は、「１回目の肌接触」であることを示すフラグ（以下、肌接触フラグともいう）を立ち上げる。
微弱電流は、電流が流れたことを使用者に感じさせない低電流値に設定されており、予め被験者を通じた実験により求めることができる。

【0023】

ここで、コントローラ１０は、パルス生成部３１を制御して、デューティー比を下げることにより、微弱電流を生成してもよい。例えば、デューティー比の基準値が５０％の場合、デューティー比をそれよりも低い値に設定することにより、微弱電流を生成することができる。図５は、デューティー比を下げたパルス信号の波形を模式的に示したものであり、縦軸及び横軸はそれぞれ電圧レベル及び時間である。

【0024】

同図では、出力がマイナスであるが、本発明はこれに限るものではなく、プラスであってもよいし、マイナスとプラスが交互に切り替わる方式（極性反転方式）であってもよい（後述する第２プレステップ、第１モード及び第２モードも同様である）。出力がプラスの場合には、イオン化化粧液のプラスイオン成分を皮膚に浸透させやすくなり、出力がマイナスの場合には、イオン化化粧液のマイナスイオン成分を皮膚に浸透させやすくなる。なお、極性反転方式は、例えば、特許文献３などに開示されている。

【0025】

また、コントローラ１０は、増幅部３３を制御して、ピーク電圧を下げることにより、微弱電流を生成してもよい。この場合、コントローラ１０は、デューティー比を基準値に維持する。図６は、ピーク電圧を下げたパルス信号の波形を模式的に示したものであり、縦軸及び横軸はそれぞれ電圧レベル及び時間である。

【0026】

ステップＳ１０３において、出力部４０から出力されるパルス信号を微弱電流に対応するパルス信号からベース電流に対応するパルス信号に変更する処理を行う。ベース電流は、微弱電流よりも電流値が高い。コントローラ１０は、デューティー比又はピーク電圧を上げることにより、微弱電流からベース電流への移行を行うことができる。ベース電流は、イオン導入が可能な適宜の電流値に設定することができ、予め被験者を通じた実験により求めることができる。

【0027】

ここで、デューティー比又はピーク電圧を徐々に（言い換えると、段階的に）上げることにより、上述の移行処理を行うことが望ましい。
かかる移行処理を段階的に行うことにより、痛みの少ない電気刺激を実現することができる。すなわち、肌に接触後、直ちにベース電流が流れると、痛みを伴う電気刺激となるため、微弱電流からベース電流に向かって段階的に変化させることが望ましい。

【0028】

ベース電流に達した後、ステップＳ１０４の電流制御モードに移行する。上述の通り、肌に流せる電流は、肌の状態（つまり、生体インピーダンス）、使用環境、使用方法などにより変動する。電流制御モードでは、「肌に流せる電流の最大値を指向した電流制御」が実施され、かかる電流制御により、効率的なイオン導入が実現される。「肌に流せる電流の最大値」は、肌に過度な刺激感を及ぼさない観点から、複数の被験者に実際にイオン導入を行うことにより、実験的に求めることができる。また、「最大値を指向」は「最大値を目指す」の意であり、必ずしも最大値に達することを意味するものではない。

【0029】

本実施形態では、カットオフ周波数を変更することを電流制御の中核としている。一般的に、カットオフ周波数を上げると、波形が矩形波に近づき、流れる電流が増大する。一方、カットオフ周波数を下げると、波形がより丸みを帯びた形状に変化し、流れる電流が減少する。

【0030】

したがって、効率的なイオン導入を実現するためには、カットオフ周波数を段階的に引き上げることが電流制御の基本思想となる。ただし、イオン導入が進むと、カットオフ周波数を引き上げても、電流値が上がらなくなる（つまり、電流値が増大から減少に転じる）。イオン導入が進むにしたがって生体に蓄積される電荷が増大するからである。この場合、カットオフ周波数を段階的に下げるモードに切り替える。カットオフ周波数を下げることにより、生体から放電される電荷が、生体に印加される電荷よりも多くなり電流が入りやすくなるため、カットオフ周波数を下げているにも関わらず電流値が増大する。生体からの放電が進むと、あるタイミングで電流値が低下するため、カットオフ周波数を再び上げることにより、イオン導入を継続する。このように電流値の増減を監視しながら、カットオフ周波数を制御することにより、肌に流せる電流の最大値を指向したイオン導入が実現される。本発明の電流制御モードは、以上の知見を基礎とするものである。

【0031】

以下、図４のサブルーチンを参照しながら、電流制御モードの内容について詳細に説明する。コントローラ１０は、上述した肌接触フラグに基づき、導入電極３の肌接触が１回目であるか否かを判別する（ステップＳ２０１）。

【0032】

１回目の肌接触である場合（ステップＳ２０１ Ｙｅｓ）には、処理はステップＳ２０２に進む。ステップＳ２０２において、コントローラ１０は、フィルタ制御部３２を制御して、ベース電流に対してカットオフ周波数を１段階引き上げたイオン導入を開始し、処理はステップＳ２０３に進む。カットオフ周波数を上げることにより、高周波帯域が通りやすくなる。

【0033】

ステップＳ２０３において、コントローラ１０は、第１モードを状態監視フラグとして立ち上げ、処理はステップＳ１０５に進む。なお、コントローラ１０は、ステップＳ２０３で第１モードをセットする際に、肌接触フラグを更新して、「２回目の肌接触」に変更する。

【0034】

ステップＳ１０５において、コントローラ１０は、導入電極３の肌接触が継続しているかを判別する。判別方法は、ステップＳ１０２と同じであるから、説明を繰り返さない。肌接触が継続している場合には（ステップＳ１０５ Ｙｅｓ）、処理はステップＳ１０６に進む。肌接触が絶たれた場合には、処理はステップＳ１０１に戻る。ステップＳ１０１に戻る際に、コントローラ１０は、状態監視フラグ及び肌接触フラグを下げる。

【0035】

ステップＳ１０６において、コントローラ１０は、所定のイオン導入時間が経過したか否かを判別する。ここで、イオン導入時間は、電流制御モードによる所望のイオン導入を実現する適宜の時間に設定することができる。したがって、ステップＳ２０３からステップＳ１０５を経由して、ステップＳ１０６に進んだ場合には、イオン導入時間は経過していないから、処理はステップＳ２０１に戻る。

【0036】

肌接触フラグが「２回目の肌接触」に更新されているため、ステップＳ２０１に戻ると、処理はステップＳ２０４に進む。ステップＳ２０４において、コントローラ１０は、ステップＳ２０２でカットオフ周波数を上げた時から（言い換えると、波形を整形してから）、所定時間経過したかどうかを判別する。所定時間は、好ましくはパルス周波数の１周期以上の時間である。

【0037】

波形を整形してから所定時間が経過している場合には（ステップＳ２０４ Ｙｅｓ）、処理はステップＳ２０５に進む。波形を整形してから所定時間が経過していない場合には（ステップＳ２０４ Ｎｏ）、処理はステップＳ１０５に進む。ステップＳ１０５に進んだ後は、所定時間が経過するまで、ステップＳ１０５、ステップ１０６、ステップＳ２０１及びステップＳ２０４の処理を繰り返す。

【0038】

ステップＳ２０５において、コントローラ１０は、状態監視フラグが第１モードであるか否かを判別する。上述の通り、ステップＳ２０３において第１モードが立ち上げられているから、処理はステップＳ２０６に進む（ステップＳ２０５ Ｙｅｓ）。ステップＳ２０６において、コントローラ１０は、出力検出部５０の検出結果に基づき、電流値が増大したか否かを判別する。電流値が増大した場合には、処理はステップＳ２１０に進む。電流値が増大していない場合には、処理はステップＳ２０８に進む。電流値が最大電流に到達した場合も、処理はステップＳ２０８に進む。ここで、１回目のステップＳ２０５は、電流制御モードに移行した直後であって、生体に蓄積された電荷が小さいから、通常、電流値は増大したと判別される。

【0039】

ステップＳ２１０において、コントローラ１０は、カットオフ周波数をさらに１段階上げて、処理はステップＳ１０５に進む。カットオフ周波数を上げることにより、電流値が増大するため、イオン導入が促進される。ここで、上げる前のカットオフ周波数の値を１００％としたとき、その１５～２５％程度を１段階における上げ幅とするのが望ましい。なお、カットオフ周波数を段階的に引き下げるときの下げ幅についても、同様である。

【0040】

ここで、しばらくの間、ステップＳ１０５→ステップＳ１０６→ステップＳ２０１→ステップＳ２０４→ステップＳ２０５→ステップＳ２０６→ステップＳ２１０の処理が繰り返される（第１ステップに相当する）。これにより、電流値を高めながら、イオン導入を積極的に行うことができる。

【0041】

時間が経過して生体に蓄積された電荷が大きくなると、出力検出部５０で検出された電流値が増大から減少に転じるため、処理はステップＳ２０６からステップＳ２０８に移行する（ステップＳ２０６ Ｎｏ）。ステップＳ２０８において、コントローラ１０は、第２モードを状態監視フラグとして立ち上げる。つまり、状態監視フラグを第１モードから第２モードに更新して、処理はステップＳ２１１に進む。

【0042】

ステップＳ２１１において、コントローラ１０は、カットオフ周波数を１段階下げて、処理はステップＳ１０５に進む。カットオフ周波数を下げることにより、放電される電荷が、生体に印加される電荷よりも多くなるため、イオン導入を継続しながら、生体に蓄積される電荷を徐々に減らすことができる。上述の通り、カットオフ周波数を下げると、設計上は、電流値が減少するが、生体に蓄積された電荷が低下するため、電流が入りやすくなり、電流値が増大する。

【0043】

すなわち、ステップＳ１０５に進んだ後、ステップＳ２０７において電流値が減少したと判別されるまで、ステップＳ１０６→ステップＳ２０１→ステップＳ２０４→ステップＳ２０５→ステップＳ２０７→ステップＳ２０８→ステップＳ２１１の処理を繰り返される（第２ステップに相当する）。生体に蓄積された電荷が十分に低下すると、電流値が上昇から減少に転じて（ステップＳ２０７ Ｎｏ）、処理はステップＳ２０９に進む。

【0044】

ステップＳ２０９において、コントローラ１０は、第１モードを状態監視フラグとして立ち上げる。つまり、状態監視フラグを第２モードから第１モードに更新して、処理はステップＳ２１０に進む（第３ステップに相当する）。ここで、ステップＳ２０９からステップＳ２１０に移行する場合、生体に蓄積された電荷は十分に低下しているから、カットオフ周波数を上げることにより、電流値を上げることができる。これにより、イオン導入が促進することができる。ここで、第１モード及び第２モードにおいて、コントローラ１０は、ピーク電圧を一定に維持する。つまり、第１モード及び第２モードでは、ピーク電圧を一定に維持しながらカットオフ周波数を変えることにより、電流制御を実施しているため、生体への悪影響を避けることができる。

【符号の説明】

【0045】

１ 美顔器
２ 筺体部
３ 導入電極
４ 対極電極
５ 電源オンスイッチ
６ 電源オフスイッチ
７ 電池収容部
１０ コントローラ
２０ 電圧信号生成部
３０ 出力合成部
３１ パルス生成部
３２ フィルタ制御部
３３ 増幅部
４０ 出力部
５０ 出力検出部

【要約】

【課題】肌に流せる電流の最大値を指向したイオン導入を実現する。
【解決手段】電極を介した電気刺激により生体にイオンを導入するイオン導入装置であって、ローパスフィルタのカットオフ周波数を段階的に引き上げるモードを第１モード、ローパスフィルタのカットオフ周波数を段階的に引き下げるモードを第２モードと定義したとき、電流値が増大から減少に転じるまで第１モードを実施する第１ステップと、第１ステップにおいて電流値が増大から減少に転じたときに、第１モードを第２モードに切り替えるとともに、第２モードを電流値が増大から減少に転じるまで実施する第２ステップと、第２ステップにおいて、電流値が増大から減少に転じたときに、第２モードを第１モードに切り替える第３ステップと、を含む電流制御を実施することを特徴とするイオン導入装置。
【選択図】図４

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】