特許 7581298 判定方法、判定装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-11-01

(45)【発行日】2024-11-12

(54)【発明の名称】判定方法、判定装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/677 20060101AFI20241105BHJP

   H01L 21/68 20060101ALI20241105BHJP

   G03F 7/20 20060101ALI20241105BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 A

H01L21/68 F

G03F7/20 501

【請求項の数】 16

(21)【出願番号】P 2022161856

(22)【出願日】2022-10-06

(65)【公開番号】P2024055156

(43)【公開日】2024-04-18

【審査請求日】2023-10-10

(73)【特許権者】

【識別番号】000001007

【氏名又は名称】キヤノン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100126240

【弁理士】

【氏名又は名称】阿部 琢磨

(74)【代理人】

【識別番号】100223941

【弁理士】

【氏名又は名称】高橋 佳子

(74)【代理人】

【識別番号】100159695

【弁理士】

【氏名又は名称】中辻 七朗

(74)【代理人】

【識別番号】100172476

【弁理士】

【氏名又は名称】冨田 一史

(74)【代理人】

【識別番号】100126974

【弁理士】

【氏名又は名称】大朋 靖尚

(72)【発明者】

【氏名】佐藤 秀司

(72)【発明者】

【氏名】杉浦 聡

【審査官】杢 哲次

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１７－２０８４５０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０２１－１０９２５２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００９－１７０７３３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１１－１４５０４８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００２－３４７６１８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１７－４４６０８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００４－３４３０７７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００９－７６５８７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－３０６９７２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１－１４５３１７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－２３５０７０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／６７７

Ｈ０１Ｌ ２１／６８

Ｇ０３Ｆ ７／２０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

搬送ユニットが複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第１相対位置を計測する第１計測工程と、
前記第１計測工程の後に、前記搬送ユニットが前記複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する前記部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第２相対位置を計測する第２計測工程と、
前記第１計測工程と前記第２計測工程との計測結果に基づいて、前記搬送ユニットの異常の発生の有無と前記複数の計測位置のうちのいずれかの位置における床面の異常の発生の有無とを判定する判定工程と、
を有することを特徴とする判定方法。

【請求項2】

前記第１計測工程と前記第２計測工程において、前記搬送ユニットが前記複数の計測位置のうちの第１計測位置に移動したときの、前記第１計測位置に対応する第１部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である前記第１相対位置と前記第２相対位置との変化の傾向を示す第１傾向と、
前記第１計測工程と前記第２計測工程において、前記搬送ユニットが前記複数の計測位置のうちの前記第１計測位置とは異なる第２計測位置に移動したときの、前記第２計測位置に対応する第２部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である前記第１相対位置と前記第２相対位置との変化の傾向を示す第２傾向と、
に基づいて前記判定工程における判定を行うことを特徴とする請求項１に記載の判定方法。

【請求項3】

前記判定工程において、前記第１計測位置が前記搬送ユニットと同じ床面にあり、前記第２計測位置が前記搬送ユニットと異なる床面にある場合に、
前記第１相対位置と前記第２相対位置とのうち少なくとも一方が第１範囲外である場合に異常ありと判定し、
前記異常ありと判定されていて、前記第１傾向と前記第２傾向との違いが第１閾値未満の場合は前記床面の沈みの異常は発生しておらず前記搬送ユニットの異常が発生していると判定し、
前記異常ありと判定されていて、前記第１傾向と前記第２傾向との違いが前記第１閾値より大きい場合で、前記第１相対位置と前記第２相対位置との両方が第２範囲内である場合は前記床面の沈みの異常が発生していると判定し、
前記異常ありと判定されていて、前記第１傾向と前記第２傾向との違いが前記第１閾値より大きい場合で、前記第１相対位置と前記第２相対位置とのうち少なくとも一方が第２範囲外である場合は前記床面の沈みの異常と前記搬送ユニットの異常が併発していると判定する、
ことを特徴とする請求項２に記載の判定方法。

【請求項4】

前記判定工程において、前記第１計測位置と前記第２計測位置とが同じ床面にある場合に、
前記第１相対位置と前記第２相対位置とのうち少なくとも一方が第１範囲外である場合に異常ありと判定し、
前記異常ありと判定されていて、前記第１傾向と前記第２傾向との違いが第１閾値未満の場合は前記床面の傾きの異常は発生しておらず前記搬送ユニットの異常が発生していると判定し、
前記異常ありと判定されていて、前記第１傾向と前記第２傾向との違いが前記第１閾値より大きい場合で、前記第１相対位置と前記第２相対位置との両方が第２範囲内である場合は前記床面の傾きの異常が発生していると判定し、
前記異常ありと判定されていて、前記第１傾向と前記第２傾向との違いが前記第１閾値より大きい場合で、前記第１相対位置と前記第２相対位置とのうち少なくとも一方が第２範囲外である場合は前記床面の傾きの異常と前記搬送ユニットの異常が併発していると判定する、
ことを特徴とする請求項２に記載の判定方法。

【請求項5】

前記判定工程の判定結果に応じて、前記複数の計測位置のうちの１又は複数又は全ての計測位置における前記搬送ユニットの少なくとも一部を挿入する位置である基準位置を調整することを特徴とする請求項１に記載の判定方法。

【請求項6】

前記判定工程の判定結果に応じて、前記複数の計測位置に含まれていない位置においても前記基準位置を調整することを特徴とする請求項５に記載の判定方法。

【請求項7】

前記複数の計測位置それぞれに対応する部材は、基板であることを特徴とする請求項１に記載の判定方法。

【請求項8】

前記複数の計測位置は、基板を載置する基板ステージと、前記基板の温度を調整する温度調整部と、前記基板の位置合わせをするアライメント部とのうち少なくとも１つの位置を含むことを特徴とする請求項１に記載の判定方法。

【請求項9】

前記第１計測工程と前記第２計測工程における計測は、前記搬送ユニットの位置を検出するセンサを用いることを特徴とする請求項１に記載の判定方法。

【請求項10】

前記第１計測工程と前記第２計測工程における計測は、前記搬送ユニットと前記複数の計測位置それぞれに対応する部材との少なくとも一方を前記搬送ユニットと前記部材とが近づく方向に移動させたときの、前記搬送ユニットが前記部材を取得するまでの前記搬送ユニットと前記部材との相対的な移動量に基づいて前記相対的な位置を求めることを特徴とする請求項１に記載の判定方法。

【請求項11】

前記搬送ユニットが前記部材を取得したか否かの判定を、前記搬送ユニットと前記部材との間の圧力を計測する圧力センサの計測値に基づいて行うことを特徴とする請求項１０に記載の判定方法。

【請求項12】

前記部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置の計測は、前記搬送ユニットが前記複数
の計測位置それぞれに移動する毎に行われることを特徴とする請求項１に記載の判定方法。

【請求項13】

複数の計測位置それぞれに対応する部材と搬送ユニットとの相対的な位置に基づいて異常を判定する判定部を有し、
前記判定部は、
前記搬送ユニットが前記複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する前記部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第１相対位置を計測し、
前記第１相対位置を計測した後に、前記搬送ユニットが前記複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する前記部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第２相対位置を計測し、
前記第１相対位置と前記第２相対位置とに基づいて、前記搬送ユニットの異常の発生の有無と前記複数の計測位置のうちのいずれかの位置における床面の異常の発生の有無とを判定する、
ことを特徴とする判定装置。

【請求項14】

基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記リソグラフィ装置の内部において、搬送ユニットの異常の発生の有無と複数の計測位置のうちのいずれかの位置における床面の異常の発生の有無とを判定する請求項１３に記載の判定装置と、
前記基板に前記パターンを形成するパターン形成部と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。

【請求項15】

搬送ユニットが複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第１相対位置の計測結果と、前記第１相対位置を計測した後に、前記搬送ユニットが前記複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する前記部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第２相対位置の計測結果と、を取得する取得工程と、
前記取得工程で取得した前記第１相対位置の計測結果と前記第２相対位置の計測結果とに基づいて、前記搬送ユニットの異常の発生の有無と前記複数の計測位置のうちのいずれかの位置における床面の異常の発生の有無とを判定する判定工程と、
を有することを特徴とする情報処理方法。

【請求項16】

搬送ユニットによって搬送された基板にパターンを形成する形成工程と、
前記形成工程で前記パターンが形成された前記基板から物品を製造する製造工程と、
を有する物品の製造方法であって、
前記搬送ユニットが複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第１相対位置を計測する第１計測工程と、
前記第１計測工程の後に、前記搬送ユニットが前記複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する前記部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第２相対位置を計測する第２計測工程と、
前記第１計測工程と前記第２計測工程との計測結果に基づいて、前記搬送ユニットの異常の発生の有無と前記複数の計測位置のうちのいずれかの位置における床面の異常の発生の有無とを判定する判定工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、判定方法、判定装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイスや液晶表示デバイスなどの製造工程において、基板を搬送する搬送ユニットを有する基板処理装置が用いられる。ここで、搬送ユニットと基板等の部材との相対的な位置に異常が発生している場合、搬送ユニットと基板等の部材が干渉することがある。

【0003】

特許文献１には搬送ユニットの特定位置における座標を取得し基準座標と比較することで搬送ユニットの位置の異常の発生を検出する方法が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２００８－１４１０９８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかし、搬送ユニットと基板等の部材との相対的な位置の異常は、搬送ユニットのみに起因せずほかの原因に起因して発生することがある。例えば、搬送ユニットとは異なるほかのユニットの自重による床面の沈み等にも起因することがある。よって、搬送ユニットと基板等の部材との相対的な位置の異常を適切に修正するためには、搬送ユニットと基板等の部材との相対的な位置の異常の原因箇所を特定する必要がある。

【0006】

そこで、本発明は、搬送ユニットと基板等の部材との相対的な位置の変化の原因の特定に有利な判定方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての判定方法は、搬送ユニットが複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第１相対位置を計測する第１計測工程と、前記第１計測工程の後に、前記搬送ユニットが前記複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する前記部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第２相対位置を計測する第２計測工程と、前記第１計測工程と前記第２計測工程との計測結果に基づいて、前記搬送ユニットの異常の発生の有無と前記複数の計測位置のうちのいずれかの位置における床面の異常の発生の有無とを判定する判定工程と、を有することを特徴とする。

【0008】

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。

【発明の効果】

【0009】

本発明によれば、搬送ユニットと基板等の部材との相対的な位置の変化の原因の特定に有利な判定方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】第１実施形態における基板処理装置の構成を示す概略図である。

【図2】第１実施形態における露光部の構成を示す図である。

【図3】第１実施形態における搬送ユニットの構成を示す図である。

【図4】第１実施形態における搬送ユニットが支持部材から基板を取得する例を示す図である。

【図5】第１実施形態における基板処理装置内の各ユニットが配置されている床面を示している図である。

【図6】基板ステージに載置された基板を搬送ユニットが取得するときの模式図である。

【図7】基板ステージに載置された第１基板と、温度調整部に載置された第２基板とを搬送ユニットが取得するときの模式図である。

【図8】第１実施形態における、床面が同じユニット間の第１タイミング又は第２タイミングにおける間隔を示す図である。

【図9】第１実施形態における床面の異常が発生していない場合の間隔の計測結果を示している。

【図10】第１実施形態における床面の異常が発生している場合の間隔の計測結果を示している。

【図11】第１実施形態における搬送ユニットと所定の部材との相対的な位置の変化に基づいて異常個所を判定するフローチャートの一例である。

【図12】第１実施形態における搬送ユニットと所定の部材との相対的な位置の変化に基づいて異常個所を判定するフローチャートの一例である。

【図13】第１実施形態における搬送ユニットと所定の部材との相対的な位置の変化に基づいて異常個所を判定するフローチャートの一例である。

【図14】第２実施形態における搬送ユニットの構成を示す図である。

【図15】第３実施形態における搬送ユニットの構成を示す図である。

【図16】第４実施形態における物品の製造方法のフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下に、本発明の実施形態を添付の図面に基づいて説明する。尚、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

【0012】

また、本明細書および添付図面では、基本的に、鉛直方向をＺ軸とし、鉛直方向に対し垂直な水平面をＸＹ平面とし、各軸が相互に直交するＸＹＺ座標系によって方向が示されている。ただし、各図面に記載されたＸＹＺ座標系がある場合はその座標系を優先する。

【0013】

以下、各実施形態において、具体的な構成を説明する。

【0014】

＜第１実施形態＞
図１は、本実施形態における基板処理装置１の構成を示す概略図である。基板処理装置１は、本実施形態では、ステップ・アンド・リピート方式又はステップ・アンド・スキャン方式により原版（マスク、レチクル）のパターンを、投影光学系を介して基板に露光する投影露光装置である。但し、基板処理装置１は、投影露光装置に限定されるものではない。例えば、基板処理装置１は、電子線やイオンビームなどによって基板に描画を行い、パターンを基板に形成する描画装置であってもよい。また、基板処理装置１は、他のリソグラフィ装置、例えば、基板の上のインプリント材を型により成形してパターンを基板上に形成するインプリント装置であってもよい。あるいは、基板処理装置１は、イオン打ち込み装置、現像装置、エッチング装置、成膜装置、アニール装置、スパッタリング装置、蒸着装置など、半導体ウエハやガラスプレートなどの基板を処理する他の装置であってもよい。また、基板処理装置１は、平坦な板を用いて基板上の組成物を平坦化する平坦化装置であってもよい。

【0015】

基板処理装置１は、装置全体を覆うチャンバー２と、露光処理を行う露光部２０と、温度調整部３と、プリアライメント部４と、基板を所定位置に搬送する搬送ユニット６と、載置台７と、判定部（判定装置）８と、を有する。温度調整部３は載置された基板の温度を調整可能な構成である。プリアライメント部４においては露光部２０による露光処理前に予め基板の位置合わせを実施する。搬送ユニット６は、例えば、ハンドを有する水平多関節型のロボット（スカラーロボット）である。載置台７は上面に基板を支えるための支持部材７１を有し基板を一時的に載置可能な構成である。判定部８は、基板処理装置１内の異常個所を判定する。なお、判定部８の具体的な判定方法については後述する。また、判定部８は基板処理装置１内の異常個所を判定するだけでなく、基板処理装置１の制御を行う制御部としての役割を併せて行ってもよい。さらに、判定部８は判定した情報を送信する送信部８１を有する。ここで、本実施形態における温度調整部３は第１センサ５０を、プリアライメント部４は第２センサ５１を、露光部２０は第３センサ５２を有している。第１センサ５０、第２センサ５１、第３センサ５２は、それぞれ配置された位置において搬送ユニット６とそれぞれの位置における所定の部材との相対的な位置を検出する。これらのセンサは、例えば、カメラにより位置を検出するカメラセンサ、レーザにより位置を検出するレーザセンサである。例えば、第１センサ５０は温度調整部３における搬送ユニット６と所定の部材との相対的な位置を検出する。なお、所定の部材とは、例えば基板である。

【0016】

次に基板の搬送順序について説明する。まず、基板処理装置１内に搬入された基板は、載置台７の上面から突出している支持部材７１の上に載置される。その後、基板は搬送ユニット６により載置台７から温度調整部３に搬送され、温度調整部３により温度調整される。そして、温度調整部３により温度調整された基板は搬送ユニット６によりプリアライメント部４へ搬送され、露光処理前に事前に位置合わせをされる。ここで、プリアライメント部４による位置合わせは、例えば、基板のＸＹ平面内における位置及び基板の回転角度について調整する。位置合わせが完了すると、基板は搬送ユニット６により露光部２０へ搬送され、露光部２０内において露光処理をされる。なお、本実施形態における搬送ユニット６が基板を搬送する順序を説明したが、搬送先や搬送順序は上記の例に限らず、基板を搬送する所定位置及び搬送順序をユーザーが自由に設定することができる。

【0017】

図２は、本実施形態における露光部２０の構成を示す図である。露光部２０は光を照射する照明光学系２３と、投影光学系２５と、レチクル２１を保持するレチクルステージ２４と、基板２２を保持する基板ステージ５と、を有する。ここで、基板ステージ５はＸＹ方向に移動可能な構成であり、露光部２０に搬送された基板２２は基板ステージ５上に載置される。レチクル２１は、例えば石英ガラスの表面に転写されるべきパターン（例えば回路パターン）がクロムで形成されている原版である。また、基板２２は、例えば単結晶シリコンであり、基板処理装置１が露光装置である場合において基板処理装置１に搬送される基板２２は、表面上に感光材料（レジスト）が塗布されている。ここで、照明光学系２３は基板２２にパターンを形成するパターン形成部である。なお、本実施形態では光を用いてパターンを形成するリソグラフィ装置の例を示し、パターン形成部は照明光学系２３であるが、熱硬化性材料を熱により硬化させるリソグラフィ装置であってもよい。その場合のパターン形成部は、例えば、熱硬化性材料を加熱する加熱部である。

【0018】

基板処理装置１において、光源（不図示）からの露光光は、照明光学系２３を介して、レチクルステージ２４に保持されたレチクル２１を照明する。レチクル２１を透過した光は、投影光学系２５を介して、基板２２に照射される。この時、レチクル２１に形成されたパターンが基板２２表面に結像される。基板処理装置１はこのように基板２２上のショット領域を露光し、複数のショット領域のそれぞれについて同様に露光を行う。

【0019】

図３に本実施形態における搬送ユニット６の構成を示す。図３（ａ）は搬送ユニット６を＋Ｚ方向側から見た場合の図である。搬送ユニット６はハンド６５を備えており、基板２２をハンド６５で保持し搬送する。ハンド６５の形状は、基板２２を取得できる形状であれば図３（ａ）に示す形状でなくともよく、特に限定しない。

【0020】

搬送ユニット６は、ハンド６５を４軸方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、θＺ）に位置決めするために、水平方向の駆動を行う駆動機構６１、鉛直方向の駆動を行う駆動機構６２、回転方向の駆動を行う駆動機構６３と駆動機構６４を有している。鉛直方向の駆動を行う駆動機構６２と回転方向の駆動を行う駆動機構６３と駆動機構６４とハンド６５とはそれぞれ駆動軸６６によって連結されている。ただし、駆動機構の組み合わせは前記例に限られず、構成、種類、個数を限定しない。

【0021】

図３（ｂ）は、載置台７に載置されている基板２２を取得する搬送ユニット６を、図３（ａ）に示すα方向から見た場合の図である。基板２２は、載置台７の上面から突出している支持部材７１の上に載置されており、ハンド６５が基板２２の下に挿入された状態で、ハンド６５は駆動機構６２により基板２２に近づく方向に移動する。この移動によりハンド６５は基板２２を載置台７から取得する。

【0022】

ここで、搬送ユニット６は、基板処理装置１が稼働する間において連続で搬送を行う。そのため搬送ユニット６の一部である駆動軸６６は搬送ユニット６の搬送時間及び搬送回数に伴って経時的に摩耗する。この経時的な摩耗（経年劣化）により、駆動軸６６の傾きは経時的に変化する。駆動軸６６が摩耗し傾くことで、駆動軸６６によって連結されているそれぞれの部材の位置が変わり、その影響を受け基板２２と接触するハンド６５の位置も変わる。具体的には、駆動軸６６の経時的な傾きの変化によりハンド６５の駆動軸６６と離れている側が－Ｚ方向に下がり、ハンド６５が垂れている状態となる。これにより、ハンド６５と所定の部材（例えば、基板）との相対的な位置が変化する。

【0023】

また、ハンド６５の位置変化の原因は経時的な変化によるものだけではない。例えば、駆動軸６６の初期取り付け位置の異常が原因でハンド６５の位置変化が発生することもあり得る。駆動軸６６の初期取り付け位置の異常の場合、ハンド６５は垂れる方向（－Ｚ方向）へ傾く位置の異常だけではなく、ハンド６５が反りあがる方向（＋Ｚ方向）へ傾く位置の異常が発生することもあり得る。

【0024】

図４は本実施形態における搬送ユニット６が支持部材７１から基板２２を取得する例を示している。図４（ａ）は駆動軸６６が傾いていない場合を示しており、ハンド６５は基板２２に対して平行な状態で接触することができる。

【0025】

図４（ｂ）は駆動軸６６が傾いている場合を示しており、駆動軸６６がハンド６５と基板２２が平行ではない、異常な状態で接触する。このように異常な状態（異常な傾き）でハンド６５と基板２２とが接触すると、ハンド６５及び基板２２にダメージを与えうる。

【0026】

図４（ａ）と図４（ｂ）に記載した間隔（ギャップ）ｇは、搬送ユニット６の一部であるハンド６５の基板保持面と、支持部材７１に載置された基板２２の下面との距離である。搬送ユニット６への移動指示が同じであっても、駆動軸６６が傾いている場合と傾いていない場合とでは間隔ｇは異なる。例えば、図４（ｂ）の間隔ｇは図４（ａ）の間隔ｇよりも小さい。つまり、この間隔ｇを計測することで、ハンド６５の位置状態（傾き状態）の変化を捉えることができる。第１センサ５０、第２センサ５１、第３センサ５２は所定位置における所定の部材（本実施形態では基板２２）と搬送ユニット６（ハンド６５）との間隔ｇを計測する。なお、この間隔ｇは所定の部材と搬送ユニット６との相対的な位置を示している。

【0027】

図５は本実施形態における基板処理装置１内の各ユニットが配置されている床面を示している図である。ここで、各ユニットとは前述した基板処理装置１を構成する露光部２０、温度調整部３、プリアライメント部４、判定部８、搬送ユニット６、載置台７を示す。各ユニットは２つのモジュールのいずれかに配置されており、２つのモジュールは第１床面１００、第２床面２００のうちいずれかを有している。なお、本実施形態における第１床面１００と第２床面２００は、例えば、それぞれ１つの部材（板材）である。

【0028】

第１床面１００を有するモジュールには、第１床面１００上に搬送ユニット６と、載置台７と、温度調整部３とが配置されている。第２床面２００を有するモジュールには、第２床面２００上にプリアライメント部４と、露光部２０と、判定部８とが配置されている。なお、本実施形態では基板処理装置１内の各ユニットが２つのモジュールに分けられ、プリアライメント部４と露光部２０とが同一モジュール、温度調整部３と搬送ユニット６とが同一モジュールである例を示した。しかし、モジュールの個数、モジュール内の構成は本実施形態で示した例に限られず、特に限定しない。

【0029】

このように基板処理装置１内（チャンバー２内）をモジュールに分け構成した場合に、チャンバー２内のモジュールのうちの、重量が大きいユニットを含むモジュールの床面が沈み、床面の高さがほかのモジュールの床面の高さより低くなることがある。図６は、基板ステージ５に載置された基板２２を搬送ユニット６が取得するときの模式図であり、図５に示すβ方向から見た場合を示している。なお、基板２２は基板ステージ５に配置されたＺ軸方向に移動可能な支持部材２６により支持されている。

【0030】

図６（ａ）は、第１床面１００と第２床面２００とが同じ高さである場合を示している。図６（ｂ）は、露光部２０の重量が大きく露光部２０の基板ステージ５が配置されている第２床面２００が沈み、第２床面２００の高さが第１床面１００の高さよりも低い場合を示している。ハンド６５と基板２２との相対的な位置を示す間隔ｇを第３センサ５２で計測すると、図６（ｂ）の間隔ｇのほうが図６（ａ）の間隔ｇよりも小さくなる。このように、搬送ユニット６と所定の部材（本実施形態では基板２２）との相対的な位置は、駆動軸６６の摩耗等の影響による経時的な変化のみに起因せず、床面の沈みにも起因する。

【0031】

図７は、基板ステージ５（第２計測位置）に載置された第１基板２８（第２部材）と、温度調整部３（第１計測位置）に載置された第２基板２９（第１部材）とを搬送ユニット６が取得するときの模式図であり、図５に示すβ方向から見た場合を示している。なお、第２基板２９は温度調整部３に配置されたＺ軸方向に移動可能な支持部材３６により支持されている。温度調整部３に載置された第２基板２９を取得するときの搬送ユニット６は点線で示している。

【0032】

図７（ａ）は、第１タイミングにおいて、第１床面１００と第２床面２００とが同じ高さである場合を示している。図７（ｂ）は、第１タイミングから時間が経過した第２タイミングにおいて、第１床面１００と第２床面２００とが同じ高さである場合を示している。図７（ｃ）は、第１タイミングから時間が経過した第２タイミングにおいて、露光部２０の重量が大きく露光部２０の基板ステージ５が配置されている第２床面２００が沈み、第２床面２００の高さが第１床面１００の高さよりも低い場合を示している。

【0033】

なお、本実施形態では予めユーザーにより設定された複数の計測位置にある所定の部材と搬送ユニット６との相対的な位置を計測するタイミングは、搬送ユニット６が複数の計測位置それぞれに移動したときのタイミングを想定する。具体的には、所定の部材が基板であれば、複数の計測位置（例えば、温度調整部３、プリアライメント部４、基板ステージ５）に載置された基板を取得する毎に相対的な位置の計測を行う。また、本実施形態の第１タイミングと第２タイミングとは、経時的な変化を説明するため、第１タイミングから時間が経過したタイミングを第２タイミングとしている。また、本実施形態では第１タイミングにおける相対的な位置の計測を第１計測工程、第２タイミングにおける相対的な位置の計測を第２計測工程とする。

【0034】

基板ステージ５において、ハンド６５と第１基板２８との相対的な位置を示す間隔ｇを第３センサ５２で計測した場合の計測結果を第１間隔（ｇ１、ｇ３、ｇ５）とする。そして、温度調整部３において、ハンド６５と第２基板２９との相対的な位置を示す間隔ｇを第１センサ５０で計測した場合の計測結果を第２間隔（ｇ２、ｇ４、ｇ６）とする。

【0035】

図７（ａ）のように第１タイミングにおいて床面の沈みが発生していないとき、ハンド６５の基板との基準位置（基準となる相対的な位置）が温度調整部３と基板ステージ５とで同じである場合に第１間隔ｇ１と第２間隔ｇ２とは同じになる。ここで、基準位置はハンド６５が基板の取得を開始するため基板の下側へ入り込んだ位置でもよいし、基板の下側へ入り込んだ後に所定高さ又は所定時間だけ移動した位置でもよい。なお、第１間隔ｇ１と第２間隔ｇ２とは第１相対位置である。

【0036】

図７（ｂ）のように第１タイミングから時間が経過した第２タイミングにおいて、床面の沈みが発生していない場合、ハンド６５と基板との相対的な位置の変化は、駆動軸６６の摩耗等の影響による経時的な変化（ハンド６５の経時的な傾きの変化）に起因する。図７（ｂ）の第２タイミングで計測した基板ステージ５における第１基板２８と搬送ユニット６との相対的な位置を示す間隔は第１間隔ｇ３である。また、第２タイミングで計測した温度調整部３における第２基板２９と搬送ユニット６との相対的な位置を示す間隔は第２間隔ｇ４である。なお、第１間隔ｇ３と第２間隔ｇ４とは第２相対位置である。

【0037】

基板ステージ５の第１タイミングから第２タイミングの間における第１間隔の変化（第２傾向）は、第１間隔ｇ３と第１間隔ｇ１との差Ｇ３（ｇ３－ｇ１）により示される。また、温度調整部３の第１タイミングから第２タイミングの間における第２間隔（第１傾向）の変化は、第２間隔ｇ４と第２間隔ｇ２との差Ｇ４（ｇ４－ｇ２）により示される。ここで、図７（ｂ）において床面の沈みは発生しておらず、間隔の変化はハンド６５の経時的な傾きの変化に起因する。つまり、差Ｇ３と差Ｇ４は同様の傾向を示し、具体的には差Ｇ３と差Ｇ４は同じ値又は近い値となる。

【0038】

図７（ｃ）は第１タイミングから時間が経過した第２タイミングにおいて、露光部２０の重量が大きく露光部２０の基板ステージ５が配置されている第２床面２００が沈み、第２床面２００の高さが第１床面１００の高さよりも低い場合を示している。このように床面の沈みが発生している場合、ハンド６５と基板との相対的な位置の変化は、複数の原因に起因する。具体的には、床面が沈んだことにより沈んだユニットの位置の変化及び駆動軸６６の摩耗等の影響による経時的な変化（ハンド６５の経時的な傾きの変化）に起因する。図７（ｃ）の第２タイミングで計測した基板ステージ５における第１基板２８と搬送ユニット６との相対的な位置を示す間隔は第１間隔ｇ５である。また、第２タイミングで計測した温度調整部３における第２基板２９と搬送ユニット６との相対的な位置を示す間隔は第２間隔ｇ６である。なお、第１間隔ｇ５と第２間隔ｇ６とは第２相対位置である。

【0039】

基板ステージ５の第１タイミングから第２タイミングの間における第１間隔の変化（第２傾向）は、第１間隔ｇ５と第１間隔ｇ１との差Ｇ５（ｇ５－ｇ１）により示される。また、温度調整部３の第１タイミングから第２タイミングの間における第２間隔の変化（第１傾向）は、第２間隔ｇ６と第２間隔ｇ２との差Ｇ６（ｇ６－ｇ２）により示される。ここで、図７（ｃ）において床面の沈みが発生しているため、間隔の変化はハンド６５の経時的な傾きの変化と床面の沈みによる沈み込んだユニットの位置の変化とに起因する。つまり、差Ｇ５と差Ｇ６は異なる傾向を示し、具体的には差Ｇ５は差Ｇ６より絶対値表記において大きくなり、差Ｇ５と差Ｇ６は床面の沈みに起因する影響の分だけ値が異なる。

【0040】

次に、床面の沈みにより床面が傾き、同じ床面に設置されているユニットどうしであっても搬送ユニット６と所定の部材（基板）との相対的な位置（間隔ｇ）が異なる場合を説明する。このような床面の傾きは、ユニットの重量及びユニットの配置箇所に依存する。

【0041】

図８は本実施形態における、床面が同じユニット間の第１タイミング又は第２タイミングにおける間隔ｇを示す図である。第２床面２００に配置された基板ステージ５（第２計測位置）に載置された第１基板２８（第２部材）と第２床面２００に配置されたプリアライメント部４（第１計測位置）に載置された第３基板３０（第１部材）とを搬送ユニット６が取得するときの模式図である。なお、図８は、図５に示すβ方向から見た場合を示している。第３基板３０はプリアライメント部４に配置されたＺ軸方向に移動可能な支持部材４６により支持されている。基板ステージ５に載置された第１基板２８を取得するときの搬送ユニット６（ハンド６５）は点線で示している。

【0042】

基板ステージ５において、ハンド６５と第１基板２８との相対的な位置を示す間隔ｇを第３センサ５２で計測した場合の計測結果を第３間隔（ｇ７、ｇ９、ｇ１１）とする。そして、プリアライメント部４において、ハンド６５と第３基板３０との相対的な位置を示す間隔ｇを第２センサ５１で計測した場合の計測結果を第４間隔（ｇ８、ｇ１０、ｇ１２）とする。

【0043】

図８（ａ）のように第１タイミングにおいて床面の沈みが発生していないとき、ハンド６５の基板との基準位置（基準となる相対的な位置）がプリアライメント部４と基板ステージ５とで同じである場合に第３間隔ｇ７と第４間隔ｇ８とは同じになる。ここで、基準位置はハンド６５が基板の取得を開始するため基板の下側へ入り込んだ位置でもよいし、基板の下側へ入り込んだ後に所定高さ又は所定時間だけ移動した位置でもよい。なお、第３間隔ｇ７と第４間隔ｇ８とは第１相対位置である。

【0044】

図８（ｂ）は第２床面２００が第１床面１００と平行な状態で沈み込んだ場合を示している。図８（ｂ）の場合、ハンド６５の基板との基準位置（基準となる相対的な位置）がプリアライメント部４と基板ステージ５とで同じである場合に第３間隔ｇ９と第４間隔ｇ１０とは同じになる。

【0045】

図８（ｂ）において基板ステージ５の第１タイミングから第２タイミングの間における間隔の変化（第２傾向）は、第３間隔ｇ７と第３間隔ｇ９との差Ｇ９（ｇ９－ｇ７）により示される。また、プリアライメント部４の第１タイミングから第２タイミングの間における間隔の変化（第１傾向）は、第４間隔ｇ８と第４間隔ｇ１０との差Ｇ１０（ｇ１０－ｇ８）により示される。ここで、図８（ｂ）において第２床面２００が第１床面１００と平行な状態で沈み込んでいるため、差Ｇ９と差Ｇ１０は同様の傾向を示し、具体的には差Ｇ９と差Ｇ１０は同じ値又は近い値となる。なお、第３間隔ｇ９と第４間隔ｇ１０とは第２相対位置である。

【0046】

図８（ｃ）は第２床面２００が第１床面１００に対して傾いた状態で沈み込んだ場合を示している。図８（ｃ）の場合、ハンド６５の基板との基準位置（基準となる相対的な位置）がプリアライメント部４と基板ステージ５とで同じである場合に、重量が大きい基板ステージ５側が沈み、第３間隔ｇ１１は第４間隔ｇ１２より小さくなる。

【0047】

図８（ｃ）において基板ステージ５の第１タイミングから第２タイミングの間における間隔の変化（第２傾向）は、第３間隔ｇ７と第３間隔ｇ１１との差Ｇ１１（ｇ１１－ｇ７）により示される。また、プリアライメント部４の第１タイミングから第２タイミングの間における間隔の変化（第１傾向）は、第４間隔ｇ８と第４間隔ｇ１２との差Ｇ１２（ｇ１２－ｇ８）により示される。ここで、図８（ｃ）において第２床面２００が第１床面１００に対して傾いた状態で沈み込んでいるため、差Ｇ１１と差Ｇ１２は異なる傾向を示す。具体的には差Ｇ１１は差Ｇ１２より絶対値表記において大きくなり、差Ｇ１１と差Ｇ１２は床面の傾きに起因する高さ変動の分だけ値が異なる。なお、第３間隔ｇ１１と第４間隔ｇ１２とは第２相対位置である。

【0048】

以上説明したように、搬送ユニット６と異なる位置に配置された各ユニットの所定の部材との相対的な位置は時間経過とともに搬送ユニット６の経時変化と床面の位置及び角度の経時変化とに影響され変化する。そして搬送ユニット６の経時変化と床面の位置及び角度の経時変化とは、各ユニットにおける相対的な位置の変化の傾向が異なる。つまり、第１タイミングから第２タイミングに変化したときの、搬送ユニット６と２以上のユニットにおける所定の部材のそれぞれとの相対的な位置の変化の傾向から、搬送ユニット６の異常の発生の有無と床面の異常の発生の有無とを判定することができる。このように相対的な位置の変化の原因（異常個所）を判定することで、ユーザーは異常個所に対して適切に対処することができる。例えば、搬送ユニット６の駆動軸６６の傾き等の影響による経時変化により搬送ユニット６と所定の部材との相対的な位置が変化している場合、搬送ユニット６の駆動軸６６の傾きを修正すればよい。或いは、全てのユニットにおけるハンド６５を挿入する基準位置を修正すればよい。一方、床面の変化により搬送ユニット６と所定の部材との相対的な位置が変化している場合、床面の高さを修正すればよい。或いは、床面の位置及び角度の変化に影響された相対的な位置の変化に基づいて各ユニットのそれぞれにおけるハンド６５を挿入する基準位置を修正すればよい。

【0049】

図９は本実施形態における床面の異常が発生していない場合の間隔ｇの計測結果を示している。図９の例はユニットＡ（温度調整部３）、ユニットＢ（プリアライメント部）、ユニットＣ（基板ステージ）においてそれぞれ５回（５タイミング）で搬送ユニット６と所定の部材との間隔ｇを計測した例である。図９（ａ）は計測結果を表で示し、図９（ｂ）は計測結果をグラフで示している。判定部８は間隔ｇの計測結果から、各ユニットに対応した各所定の部材における計測回ごとの前回の計測結果からの差δを求める。この差δは所定の部材と搬送ユニットとの相対的な位置の変化の傾向を示している。つまり、前述の例であれば第１傾向及び第２傾向を示している。例えば、３回目の計測におけるユニットＡの差δＡは３回目の間隔ｇの計測結果である１．１（ｍｍ）と２回目の間隔ｇの計測結果である１．０（ｍｍ）との差である０．１（ｍｍ）となる。

【0050】

また、判定部８は各ユニットに対応する各所定の部材間の差δについての差Δを求める。この差Δは所定の部材と搬送ユニットとの相対的な位置の変化の傾向の違いを示し、換言すれば第１傾向と第２傾向との違いを示す。例えば、３回目のユニットＡとユニットＢ間の差である差ΔＡＢは、３回目のユニットＡの差δＡが０．１（ｍｍ）であり、３回目のユニットＢの差δＢが０．２（ｍｍ）であるため、０．１（ｍｍ）となる。ここで、差Δは絶対値である。そして、判定部８は求めた各ユニット間の差Δ（差ΔＡＢ、差ΔＢＣ）の平均値Ｐを求める。差ΔＡＢの平均値は平均値Ｐ（ＡＢ）、差ΔＢＣの平均値は平均値Ｐ（ＢＣ）とする。図９（ａ）、図９（ｂ）に示されるようにユニットＡ、ユニットＢ、ユニットＣの経時的な変化の傾向は同様である。ここで、差Δは第１傾向と第２傾向との違いを示しており、平均値Ｐは差Δの平均の値であるため、平均値Ｐも第１傾向と第２傾向との違いを示している。

【0051】

なお、本実施形態ではユニット間の経時的な変化の傾向の差を示す値として平均値を用いているが、平均値ではなく各計測回の計測結果の差を用いて個々に判定してもよいし、関数フィッティングを行うことで算出した係数を用いてもよい。また、相関や回帰分析など、ほかの統計的手法等を用いてもよく、特に限定しない。

【0052】

図１０は本実施形態における床面の異常が発生している場合の間隔ｇの計測結果を示している。図１０（ａ）、図１０（ｂ）に示されるようにユニットＡと、ユニットＢ及びユニットＣの相対的な位置の変化の傾向は異なっている。また、ユニットＢ及びＣは経時的な変化の傾向が同様である。この傾向から、ユニットＢとユニットＣが配置されている床面の沈みの異常が発生していることがわかる。また、この異常は平均値Ｐにより示され、図１０（ａ）におけるユニットＡとユニットＢについての平均値Ｐ（ＡＢ）は０．１５（ｍｍ）であり、異常がない場合の図９（ａ）における平均値Ｐ（ＡＢ）の０．０５（ｍｍ）より大きい。つまり、この平均値Ｐについて判定することにより、異常個所を判定することができる。

【0053】

本実施形態の判定部８は平均値Ｐを判定することにより、異常の発生の有無と異常が発生している箇所を判定することができる。具体的には、異常なし、搬送ユニット異常、床面異常（床面の沈み）、床面異常（床面の沈み）と搬送ユニット異常の併発、床面異常（床面の沈み及び傾き）、床面異常（床面の沈み及び傾き）と搬送ユニット異常の併発の６種類に判別できる。

【0054】

図１１は、本実施形態における搬送ユニット６と所定の部材との相対的な位置の変化に基づいて異常個所を判定するフローチャートの一例である。まず、各ユニットにおける所定の部材と搬送ユニット６との間隔ｇを計測する（Ｓ１０）。そして、判定部８はステップＳ１０における計測回数が所定計測回数に達したか否か、を判定する（Ｓ２０）。ここで、所定計測回数はユーザーが自由に設定してよく、所定計測回数が多いほど長い期間の経時的な変化により異常個所を判定する。また、本実施形態では所定の部材と搬送ユニット６との相対的な位置の計測は、搬送ユニット６が所定の部材がある複数の計測位置それぞれに移動する毎に行われることを想定している。しかし、搬送ユニット６が複数の計測位置それぞれに移動する毎に所定の部材と搬送ユニット６との相対的な位置の計測を行わなくともよく、相対的な位置の計測を行うタイミングを時間により管理してもよい。例えば、ユーザーが予め１か月毎にステップＳ１０を行うよう設定し、所定計測回数が５回である場合に、現在のステップＳ１０の計測回数が４回であれば次のタイミング（１か月後）までステップＳ１０は行われない、という設定にしてもよい。ステップＳ２０にて計測回数が所定計測回数に達していなければステップＳ１０に戻る。ステップＳ２０にて計測回数が所定計測回数に達していれば、判定部８は各ユニットにおける間隔を計測した計測回ごとの前回の計測結果からの差δを求める（Ｓ３０）。そして、判定部８は各ユニット間の差δの差Δを求め、差Δの平均値Ｐを求める（Ｓ４０）。

【0055】

次に、判定部８は各ユニットにおいて計測した間隔ｇ（第１相対位置と第２相対位置）は範囲Ｖ（第１範囲）の範囲内か否かを判定する（Ｓ５０）。ステップＳ５０の判定は、異常の発生の有無についての判定である。なお、ステップＳ５０において、本実施形態では第１相対位置と第２相対位置に対し判定しているが最後に計測した間隔ｇについて判定してもよい。ここで、範囲Ｖはユニット毎に設けられ、搬送ユニット６の異常及び床面の異常が発生していない場合の搬送ユニット６と所定の部材との間隔ｇに基づいてユーザーが設定する。ステップＳ５０にて第１範囲内であれば、搬送ユニット６及び床面において異常なし、と判定し（Ｓ６０）、終了する。

【0056】

ステップＳ５０にていずれかのユニットの間隔（第１相対位置と第２相対位置のうちの少なくとも一方）が第１範囲外であると判定された場合は、ステップＳ７０に進む。判定部８は搬送ユニット６と同じ床面に配置されたユニットＡと、異なる床面に配置されたユニットＢについての第１傾向と第２傾向との傾向の違いを示す平均値Ｐ（ＡＢ）は閾値Ｗ（第１閾値）未満か否かを判定する（Ｓ７０）。ステップＳ７０は床面の沈みの異常の発生の有無を判定するためのステップであり、異なる床面に配置されたユニットＡ、ユニットＢの平均値Ｐ（ＡＢ）について判定することによりユニットＡ及びＢの経時的な変化の傾向から異常個所を判定する。なお、閾値Ｗは床面の沈みの異常が発生しておらず搬送ユニット６の異常のみ発生している場合の搬送ユニット６と所定の部材との間隔ｇの経時的な変化に基づいてユーザーが設定する。平均値Ｐ（ＡＢ）が閾値Ｗ以上であれば少なくとも床面の沈みの異常が発生していると判定され、閾値Ｗ未満であれば床面の沈みの異常は発生していないと判定される。例えば、図９及び図１０の例において、閾値Ｗを０．１（ｍｍ）と設定していると、図９の場合は床面の沈みの異常が発生しておらず、図１０の場合は床面の沈みの異常が発生している、となる。

【0057】

ステップＳ７０において平均値Ｐ（ＡＢ）が閾値未満である場合は、異なる床面に配置されたユニットで経時的な変化の傾向が同様であるということを示し、前述のように床面の沈みの異常は発生していないと判定される。ここで、判定部８はステップＳ５０において、異常ありと判定しており、ステップＳ７０にて異常の原因が床面の沈みの異常の発生によるものでないと判定された場合は、搬送ユニット６の異常が発生していると判定される（Ｓ８０）。

【0058】

次に、判定部８は搬送ユニット６と異なる床面に配置されたユニットＢ及びユニットＣについての第１傾向と第２傾向との傾向の違いを示す平均値Ｐ（ＢＣ）は閾値Ｘ（第２閾値）未満か否か、を判定する（Ｓ９０）。ステップＳ９０は床面が傾いているか否かを判定するためのステップであり、同じ床面に配置されたユニットＢ、ユニットＣの平均値Ｐ（ＢＣ）について判定することにより床面の傾きの異常の発生の有無について判定する。なお、閾値Ｘは床面の傾きの異常が発生していない場合の搬送ユニット６と所定の部材との間隔ｇの経時的な変化に基づいてユーザーが設定する。平均値Ｐ（ＢＣ）が閾値Ｘ以上であれば床面の傾きの異常が発生していると判定され、閾値Ｘ未満であれば床面の傾きの異常は発生していないと判定される。

【0059】

なお、床面の傾きの異常が発生しているということは、床面の沈みの異常が発生していることでもある。また、本実施形態では床面の沈みの異常の発生についての判定の後に床面の傾きの異常の発生について判定する例を示したが、床面の傾きの異常の発生についての判定の後に床面の沈みの異常の発生について判定を行ってもよく、特に判定順序は限定しない。

【0060】

ステップＳ９０において平均値Ｐ（ＢＣ）が閾値未満である場合は、同じ床面に配置されたユニットで経時的な変化の傾向が同様であるということを示し、前述のように床面の傾きの異常は発生していないと判定される。ここで、判定部８はステップＳ７０において、床面の異常が発生していると判定しており、ステップＳ９０にて床面の傾きの異常が発生していないと判定された場合は、床面の沈みの異常が発生していると判定される。

【0061】

そして、判定部８は計測したユニットＡにおける間隔ｇ（第１相対位置と第２相対位置）は範囲Ｙ（第２範囲）の範囲内か否かを判定する（Ｓ１００）。ステップＳ１００は床面の沈みの異常に加え、搬送ユニット６の異常が併発しているか否かを判定するステップである。なお、ステップＳ１００において、本実施形態では第１相対位置と第２相対位置に対し判定しているが最後に計測した間隔ｇについて判定してもよい。ここで、範囲ＹはユニットＡにおいて、搬送ユニット６の異常が発生していない場合の、搬送ユニット６と所定の部材との間隔ｇに基づいてユーザーが設定する。ステップＳ１００にて第１相対位置と第２相対位置との両方が第２範囲内であれば、床面の沈みの異常が発生していると判定する（Ｓ１１０）。ステップＳ１００にて第１相対位置と第２相対位置とのうち少なくとも一方が第２範囲外であれば搬送ユニット６の異常と床面の沈みの異常の併発と判定する（Ｓ１２０）。

【0062】

ステップＳ９０にて平均値Ｐ（ＢＣ）が閾値Ｘ以上と判定された場合は、同じ床面に配置されたユニットＢ、ユニットＣにおいて間隔ｇの経時的な変化の傾向が異なるということであり、ユニットＢ、ユニットＣが配置された床面が傾いていることを示す。判定部８は計測したユニットＡにおける間隔ｇ（第１相対位置と第２相対位置）は範囲Ｙ（第２範囲）の範囲内か否かを判定する（Ｓ１３０）。ステップＳ１３０は床面の沈みの異常及び床面の傾きの異常に加え、搬送ユニット６の異常が併発しているか否かを判定するステップである。なお、ステップＳ１３０において、本実施形態では第１相対位置と第２相対位置に対し判定しているが最後に計測した間隔ｇについて判定してもよい。ステップＳ１３０にて第１相対位置と第２相対位置の両方が第２範囲内であれば、床面の沈みの異常及び床面の傾きの異常が発生していると判定する（Ｓ１４０）。ステップＳ１３０にて第１相対位置と第２相対位置とのうち少なくとも一方が第２範囲外であれば搬送ユニット６の異常と床面の沈みの異常及び床面の傾きの異常との併発と判定する（Ｓ１５０）。なお、ステップＳ５０～ステップＳ１５０の工程は判定工程である。

【0063】

ステップＳ８０、Ｓ１１０、Ｓ１２０、Ｓ１４０、Ｓ１５０にて判定されたのちに、判定部８は異常の結果を通知し（Ｓ１６０）、終了する。この異常の通知は、判定部８が送信部８１に対し、表示制御部（不図示）へ異常に関連する情報を送信するよう制御し、表示制御部が表示部（不図示）へ異常に関連する情報を表示することでユーザーに異常を通知してもよい。或いは、判定部８は警告音を鳴らすよう制御し、音によりユーザーに異常を通知してもよい。また、異常が発生した場合には異常を通知するとともに、搬送ユニット６による搬送を停止する構成としてもよい。異常時に搬送ユニット６の搬送を停止することにより搬送ユニット６と基板等の部材の干渉を抑制することができる。

【0064】

図１２は、本実施形態における搬送ユニット６と所定の部材との相対的な位置の変化に基づいて異常個所を判定するフローチャートの図１１とは異なる例である。なお、図１２は搬送ユニット６と同じ床面に配置されたユニットＡと、異なる床面に配置されたユニットＢとの２つの計測位置において計測を行い、異常を判定する例である。

【0065】

まず、各ユニットにおける所定の部材と搬送ユニット６との間隔ｇを計測する（Ｓ２１０）。そして、判定部８はステップＳ２１０における計測回数が所定計測回数に達したか否か、を判定する（Ｓ２２０）。ステップＳ２２０にて計測回数が所定計測回数に達していなければステップＳ２１０に戻る。ステップＳ２２０にて計測回数が所定計測回数に達していれば、判定部８は各ユニットにおける間隔を計測した計測回ごとの前回の計測結果からの差δを求める（Ｓ２３０）。そして、判定部８は各ユニット間の差δの差Δを求め、差Δの平均値Ｐを求める（Ｓ２４０）。

【0066】

次に、判定部８は各ユニットにおいて計測した間隔ｇ（第１相対位置と第２相対位置）は範囲Ｖ（第１範囲）の範囲内か否かを判定する（Ｓ２５０）。ステップＳ２５０の判定は、異常の発生の有無についての判定である。なお、ステップＳ２５０において、本実施形態では第１相対位置と第２相対位置に対し判定しているが最後に計測した間隔ｇについて判定してもよい。ここで、範囲Ｖはユニット毎に設けられ、搬送ユニット６の異常及び床面の異常が発生していない場合の搬送ユニット６と所定の部材との間隔ｇに基づいてユーザーが設定する。ステップＳ２５０にて第１範囲内であれば、搬送ユニット６及び床面において異常なし、と判定し（Ｓ２６０）、終了する。

【0067】

ステップＳ２５０にていずれかのユニットの間隔（第１相対位置と第２相対位置のうちの少なくとも一方）が第１範囲外であると判定された場合は、ステップＳ２７０に進む。判定部８は搬送ユニット６と同じ床面に配置されたユニットＡと、異なる床面に配置されたユニットＢについての第１傾向と第２傾向との傾向の違いを示す平均値Ｐ（ＡＢ）は閾値Ｗ（第１閾値）未満か否かを判定する（Ｓ２７０）。ステップＳ２７０は床面の沈みの異常の発生の有無を判定するためのステップであり、異なる床面に配置されたユニットＡ、ユニットＢの平均値Ｐ（ＡＢ）について判定することによりユニットＡ及びＢの経時的な変化の傾向から異常個所を判定する。なお、閾値Ｗは床面の沈みの異常が発生しておらず搬送ユニット６の異常のみ発生している場合の搬送ユニット６と所定の部材との間隔ｇの経時的な変化に基づいてユーザーが設定する。平均値Ｐ（ＡＢ）が閾値Ｗ以上であれば少なくとも床面の沈みの異常が発生していると判定され、閾値Ｗ未満であれば床面の沈みの異常は発生していないと判定される。

【0068】

ステップＳ２７０において平均値Ｐ（ＡＢ）が閾値未満である場合は、異なる床面に配置されたユニットで経時的な変化の傾向が同様であるということを示し、前述のように床面の沈みの異常は発生していないと判定される。ここで、判定部８はステップＳ２５０において、異常ありと判定しており、ステップＳ２７０にて異常の原因が床面の沈みの異常の発生によるものでないと判定された場合は、搬送ユニット６の異常が発生していると判定される（Ｓ２８０）。

【0069】

そして、判定部８は計測したユニットＡにおける間隔ｇ（第１相対位置と第２相対位置）は範囲Ｙ（第２範囲）の範囲内か否かを判定する（Ｓ２９０）。ステップＳ２９０は床面の沈みの異常に加え、搬送ユニット６の異常が併発しているか否かを判定するステップである。なお、ステップＳ２９０において、本実施形態では第１相対位置と第２相対位置に対し判定しているが最後に計測した間隔ｇについて判定してもよい。ステップＳ２９０にて第１相対位置と第２相対位置の両方が第２範囲内であれば、床面の沈みの異常が発生していると判定する（Ｓ３００）。ステップＳ２９０にて第１相対位置と第２相対位置とのうち少なくとも一方が第２範囲外であれば搬送ユニット６の異常と床面の沈みの異常の併発と判定する（Ｓ３１０）。なお、ステップＳ２５０～ステップＳ３１０の工程は判定工程である。

【0070】

ステップＳ２８０、Ｓ３００、Ｓ３１０にて判定されたのちに、判定部８は異常の結果を通知し（Ｓ３２０）、終了する。

【0071】

図１３は、本実施形態における搬送ユニット６と所定の部材との相対的な位置の変化に基づいて異常個所を判定するフローチャートの図１１と図１２とは異なる例である。なお、図１３は搬送ユニット６と異なる床面に配置されたユニットＢとユニットＣとの２つの計測位置において計測を行い、異常を判定する例である。なお、ユニットＢとユニットＣは同じ床面に配置されているとする。

【0072】

まず、各ユニットにおける所定の部材と搬送ユニット６との間隔ｇを計測する（Ｓ４１０）。そして、判定部８はステップＳ４１０における計測回数が所定計測回数に達したか否か、を判定する（Ｓ４２０）。ステップＳ４２０にて計測回数が所定計測回数に達していなければステップＳ４１０に戻る。ステップＳ４２０にて計測回数が所定計測回数に達していれば、判定部８は各ユニットにおける間隔を計測した計測回ごとの前回の計測結果からの差δを求める（Ｓ４３０）。そして、判定部８は各ユニット間の差δの差Δを求め、差Δの平均値Ｐを求める（Ｓ４４０）。

【0073】

次に、判定部８は各ユニットにおいて計測した間隔ｇ（第１相対位置と第２相対位置）は範囲Ｖ（第１範囲）の範囲内か否かを判定する（Ｓ４５０）。ステップＳ４５０の判定は、異常の発生の有無についての判定である。なお、ステップＳ４５０において、本実施形態では第１相対位置と第２相対位置に対し判定しているが最後に計測した間隔ｇについて判定してもよい。ここで、範囲Ｖはユニット毎に設けられ、搬送ユニット６の異常及び床面の異常が発生していない場合の搬送ユニット６と所定の部材との間隔ｇに基づいてユーザーが設定する。ステップＳ４５０にて第１範囲内であれば、搬送ユニット６及び床面において異常なし、と判定し（Ｓ４６０）、終了する。

【0074】

ステップＳ４５０にていずれかのユニットの間隔（第１相対位置と第２相対位置のうちの少なくとも一方）が第１範囲外であると判定された場合は、ステップＳ４７０に進む。次に、判定部８は搬送ユニット６と異なる床面に配置されたユニットＢ及びユニットＣについての第１傾向と第２傾向との傾向の違いを示す平均値Ｐ（ＢＣ）は閾値Ｘ（第２閾値）未満か否か、を判定する（Ｓ４７０）。ステップＳ４７０は床面が傾いているか否かを判定するためのステップであり、同じ床面に配置されたユニットＢ、ユニットＣの平均値Ｐ（ＢＣ）について判定することにより床面の傾きの異常の発生の有無について判定する。なお、閾値Ｘは床面の傾きの異常が発生しておらず搬送ユニット６の異常のみ発生している場合の搬送ユニット６と所定の部材との間隔ｇの経時的な変化に基づいてユーザーが設定する。平均値Ｐ（ＢＣ）が閾値Ｘ以上であれば床面の傾きの異常が発生していると判定され、閾値Ｘ未満であれば床面の傾きの異常は発生していないと判定される。なお、床面の傾きの異常が発生しているということは、床面の沈みの異常が発生していることでもある。

【0075】

ステップＳ４７０において平均値Ｐ（ＢＣ）が閾値未満である場合は、同じ床面に配置されたユニットで経時的な変化の傾向が同様であるということを示し、前述のように床面の傾きの異常は発生していないと判定される。ここで、判定部８はステップＳ４５０において、異常が発生していると判定しており、ステップＳ４７０にて床面の傾きの異常が発生していないと判定された場合は、搬送ユニット６の異常が発生していると判定する（Ｓ４８０）。

【0076】

ステップＳ４７０にて平均値Ｐ（ＢＣ）が閾値Ｘ以上と判定された場合は、同じ床面に配置されたユニットＢ、ユニットＣにおいて間隔ｇの経時的な変化の傾向が異なるということであり、ユニットＢ、ユニットＣが配置された床面が傾いていることを示す。判定部８は計測した各ユニットにおける間隔ｇ（第１相対位置と第２相対位置）は範囲Ｙ（第２範囲）の範囲内か否かを判定する（Ｓ４９０）。ステップＳ４９０は床面の傾きの異常に加え、搬送ユニット６の異常が併発しているか否かを判定するステップである。なお、ステップＳ４９０において、本実施形態では第１相対位置と第２相対位置に対し判定しているが最後に計測した間隔ｇについて判定してもよい。ステップＳ４９０にて第１相対位置と第２相対位置の両方が第２範囲内であれば、床面の傾きの異常が発生していると判定する（Ｓ５００）。ステップＳ４９０にて第１相対位置と第２相対位置とのうち少なくとも一方が第２範囲外であれば搬送ユニット６の異常と床面の傾きの異常との併発と判定する（Ｓ５１０）。なお、ステップＳ４５０～ステップＳ５１０の工程は判定工程である。

【0077】

ステップＳ４８０、Ｓ５００、Ｓ５１０にて判定されたのちに、判定部８は異常の結果を通知し（Ｓ５２０）、終了する。

【0078】

なお、本実施形態では判定部８が基板処理装置１内に配置された例を示したが、判定部８は基板処理装置１の外部に配置され、基板処理装置１と情報の通信を行う形態としてもよい。この場合、判定部８は基板処理装置１内で計測された間隔ｇの情報をもとに異常個所を判定し、判定結果を基板処理装置１に通知する。このような形態にすることにより、判定の処理にかかる負荷を基板処理装置１の外部で処理することができる。

【0079】

本実施形態によれば、搬送ユニット６と、複数の計測位置（異なる位置）に配置されたユニットの所定の部材（例えば基板）との間の間隔ｇから搬送ユニット６と所定の部材との相対的な位置を求めることができ、異常が発生している箇所を特定することができる。具体的には、第１計測工程と第２計測工程との計測結果に基づいて、搬送ユニット６の異常の発生の有無と複数の計測位置のうちのいずれかの位置における床面の異常の発生の有無を判定できる。つまり、基板処理装置１がリソグラフィ装置である場合は、リソグラフィ装置の内部に異常が発生した場合に異常が発生している箇所を特定することができる。

【0080】

＜第２実施形態＞
本実施形態における判定部８は、第１実施形態の特徴に加えて搬送ユニット６のハンド６５の基準位置を調整する制御（判定）を行うことを特徴とする。図１４は本実施形態における搬送ユニット６０の構成を示す図である。搬送ユニット６０はＺ軸方向に上下移動可能な駆動機構６７を有しており、駆動機構６７に駆動機構６３が取り付けられている。これにより、駆動機構６７が上下移動することで駆動機構６３、駆動機構６４、ハンド６５も上下移動を行う。

【0081】

本実施形態における判定部８は異常個所と各ユニットにおける間隔ｇに基づいて各ユニットにハンド６５を挿入するときの基準位置を調整するよう制御する。例えば、図６（ｂ）のように床面の沈みの異常が発生している場合は、ハンド６５と基板２２との間の間隔ｇが狭いため基板ステージ５におけるハンド６５を挿入する基準位置を－Ｚ方向に調整する。このような調整により、ハンド６５を基板ステージ５の基板２２下へ挿入した際に、ハンド６５が基板等の部材と干渉する可能性を低減する。具体的には、床面の沈みにより間隔ｇが０．２（ｍｍ）小さくなったとすると、沈み込んだ床面に配置されたユニットに対して、搬送ユニット６（ハンド６５）の基準位置を－０．２（ｍｍ）分調整する。

【0082】

また、例えば、図７（ｂ）のようにハンド６５の垂れによる搬送ユニット６の異常が発生している場合は、ハンド６５と基板２２との間の間隔ｇが全てのユニットに対して所望の位置より小さくなる。この場合に、判定部８は全てのユニットにおけるハンド６５を挿入する基準位置を－Ｚ方向に調整するよう制御する。なお、この－Ｚ方向への基準位置の調整量は、搬送ユニット６と所定の部材との間隔ｇ（相対的な位置）により決定される。

【0083】

なお、基準位置の調整はユーザーが任意に行ってよく、例えば、異常が発生していると判定されていない箇所であってもそのほかの条件等を考慮し、ユーザーが基準位置の変更を行ってもよい。例えば、間隔ｇの測定では読み取れないわずかな高さ変動の発生を考慮し、所定ユニットに対してのみ基準位置を変更することも可能である。

【0084】

ここで、搬送ユニット６の基準位置の調整は、必ずしも計測を行ったユニットに対してのみ行わなくともよい。例えば、温度調整部３、プリアライメント部４、基板ステージ５に対し搬送ユニット６と所定の部材との間隔ｇを計測し、第２床面２００において床面の異常が発生していると判定したとする。この場合に、第２床面２００に計測を行っていないユニットがあるとすると、判定部８はこのユニットに対しても床面の異常の影響を考慮した搬送ユニット６の位置調整を行ってもよい。このような基準位置の調整は異常の種類を問わず行ってもよく、例えば、搬送ユニット６の異常が発生している場合に、計測していないユニットに対して基準位置の調整を行ってもよい。或いは、床面の異常については対象の床面に配置されたユニットについて基準位置の調整を行い、さらにその基準位置の調整に加えて計測したユニットについては計測した位置ずれ分だけ基準位置の調整を行ってもよい。

【0085】

このように、本実施形態の判定部８は異常個所と各ユニットにおける間隔ｇに基づいてハンド６５の位置を調整する。この位置の調整は、異常個所に応じて一部のユニット又は全てのユニットに対して行われる。

【0086】

本実施形態によれば、異常個所に応じて搬送ユニット６の基準位置を調整することができ、搬送ユニット６と基板等の所定の部材との干渉の可能性を低減できる。また、基準位置の調整を計測していないユニットに対しても適用することで、装置全体として搬送ユニット６と基板等の所定の部材との干渉の可能性を低減できる。

【0087】

＜第３実施形態＞
本実施形態の判定部８は、第１実施形態と間隔ｇの判定方法について異なる。図１５は本実施形態における搬送ユニット８０の構成を示す図である。搬送ユニット８０はハンド８５を備えており、基板２２をハンド８５で保持し搬送する。ハンド８５の上面には基板２２を吸着保持するための吸引口８６が備えられており、吸引口８６は周囲の気体を排気する真空ポンプなどの排気部８８と繋がっている。なお、吸引口８６の配置は、基板２２を吸着できれば図１５に示す配置でなくともよく、例えばハンド８５の全面に吸引口を配置してもよく、また吸引口を複数配置してもよく、特に限定しない。そして、排気部８８と吸引口８６を接続する排気流路には圧力を計測するセンサ（圧力センサ）８９が備えられている。排気部８８と吸引口８６を接続する排気流路は、基板２２とハンド８５の間の空間に接続されているため、この排気流路の圧力を計測することは基板２２とハンド８５の間の空間の圧力を計測することと実質的に同じである。また、センサ８９は基板２２とハンド８５の間の空間の圧力を計測できればよく、排気部８８と吸引口８６を接続する排気流路には配置せず、基板２２とハンド８５の間の空間の圧力を直接計測できる位置に配置してもよい。

【0088】

図１５（ｂ）は、載置台７に載置されている基板２２を取得する搬送ユニット８０を、図１５（ａ）に示すγ方向から見た場合の図である。基板２２は、載置台７の上面から突出している支持部材７１の上に載置されており、ハンド８５は基板２２の下に挿入された状態から基板２２に近づく方向に移動する。排気部８８が排気を行いつつ、ハンド８５が上昇移動し、ハンド８５に基板２２が吸着されることによりハンド８５は基板２２を保持し、載置台７から搬送ユニット８０へ基板２２の受け渡しを行う。ハンド８５に基板２２が吸着されることにより、搬送中の基板２２の位置ずれを防ぎながら搬送することができる。また、基板２２がハンド８５に吸着されることで、基板２２によって吸引口８６が塞がれ排気流路中の圧力は大気圧より負圧側に変化する。センサ８９により排気流路中の圧力の変化を検出することで、判定部８は基板２２がハンド８５に吸着されたことを検知する。つまり、センサ８９の計測値から基板２２がハンド８５に吸着されたことがわかる。

【0089】

本実施形態の判定部８は、ハンド８５が基板２２を取得する際の、基板２２を吸着するまでのハンド８５と基板２２との相対的な移動量を間隔ｇとする。つまり、図１５（ｂ）の例であればセンサ８９が基板２２を吸着したことを示す所定値となるまで、ハンド８５が基板２２を取得するために＋Ｚ方向に移動したときの移動量を間隔ｇとする。このように間隔ｇを求めることで間隔ｇを測定するためのセンサをユニット毎に設ける必要がなくなり装置を単純化することができる。

【0090】

＜第４実施形態＞
本実施形態は、第１～３実施形態に記載の判定方法を用いて物品を製造することを特徴とする。

【0091】

図１６は本実施形態における物品の製造方法のフローチャートである。まず、搬送ユニットが複数の計測位置それぞれに移動したときの、複数の計測位置それぞれに対応する部材と搬送ユニットとの相対的な位置である第１相対位置を計測する第１計測工程（Ｓ６００）を行う。そして、第１計測工程の後に、搬送ユニットが複数の計測位置それぞれに移動したときの、複数の計測位置それぞれに対応する部材と搬送ユニットとの相対的な位置である第２相対位置を計測する第２計測工程（Ｓ６１０）を行う。次に、第１計測工程と第２計測工程との計測結果に基づいて、搬送ユニットの異常の発生の有無と前記複数の計測位置のうちのいずれかの位置における床面の異常の発生の有無とを判定する判定工程（Ｓ６２０）を行う。次に、搬送ユニットによって搬送された基板にパターンを形成する形成工程（Ｓ６３０）を行う。そして、形成工程でパターンが形成された基板から物品を製造する製造工程（Ｓ６４０）を行う。

【0092】

この製造方法で製造する物品は、例えば、半導体ＩＣ素子、液晶表示素子、カラーフィルタ、ＭＥＭＳ等である。

【0093】

形成工程は、例えば、パターン材料上に感光材料が塗布された基板（シリコンウエハ、ガラスプレート等）を露光装置（リソグラフィ装置）により露光することで、基板にパターンを形成する。

【0094】

製造工程は、例えば、パターンが形成された基板（感光材料）の現像、現像された基板に対するエッチング及びレジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングの実施が含まれる。本製造方法によれば、従来よりも装置内の異常個所を迅速に特定し、異常個所に対し適切に対処を行うことができる。

【0095】

本明細書の開示は、以下の判定方法、判定装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法を含む。

【0096】

［項目１］
搬送ユニットが複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第１相対位置を計測する第１計測工程と、
前記第１計測工程の後に、前記搬送ユニットが前記複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する前記部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第２相対位置を計測する第２計測工程と、
前記第１計測工程と前記第２計測工程との計測結果に基づいて、前記搬送ユニットの異常の発生の有無と前記複数の計測位置のうちのいずれかの位置における床面の異常の発生の有無とを判定する判定工程と、
を有することを特徴とする判定方法。

【0097】

［項目２］
前記第１計測工程と前記第２計測工程において、前記搬送ユニットが前記複数の計測位置のうちの第１計測位置に移動したときの、前記第１計測位置に対応する第１部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である前記第１相対位置と前記第２相対位置との変化の傾向を示す第１傾向と、
前記第１計測工程と前記第２計測工程において、前記搬送ユニットが前記複数の計測位置のうちの前記第１計測位置とは異なる第２計測位置に移動したときの、前記第２計測位置に対応する第２部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である前記第１相対位置と前記第２相対位置との変化の傾向を示す第２傾向と、
に基づいて前記判定工程における判定を行うことを特徴とする項目１に記載の判定方法。

【0098】

［項目３］
前記判定工程において、前記第１計測位置が前記搬送ユニットと同じ床面にあり、前記第２計測位置が前記搬送ユニットと異なる床面にある場合に、
前記第１相対位置と前記第２相対位置とのうち少なくとも一方が第１範囲外である場合に異常ありと判定し、
前記異常ありと判定されていて、前記第１傾向と前記第２傾向との違いが第１閾値未満の場合は前記床面の沈みの異常は発生しておらず前記搬送ユニットの異常が発生していると判定し、
前記異常ありと判定されていて、前記第１傾向と前記第２傾向との違いが前記第１閾値より大きい場合で、前記第１相対位置と前記第２相対位置との両方が第２範囲内である場合は前記床面の沈みの異常が発生していると判定し、
前記異常ありと判定されていて、前記第１傾向と前記第２傾向との違いが前記第１閾値より大きい場合で、前記第１相対位置と前記第２相対位置とのうち少なくとも一方が第２範囲外である場合は前記床面の沈みの異常と前記搬送ユニットの異常が併発していると判定する、
ことを特徴とする項目２に記載の判定方法。

【0099】

［項目４］
前記判定工程において、前記第１計測位置と前記第２計測位置とが同じ床面にある場合に、
前記第１相対位置と前記第２相対位置とのうち少なくとも一方が第１範囲外である場合に異常ありと判定し、
前記異常ありと判定されていて、前記第１傾向と前記第２傾向との違いが第１閾値未満の場合は前記床面の傾きの異常は発生しておらず前記搬送ユニットの異常が発生していると判定し、
前記異常ありと判定されていて、前記第１傾向と前記第２傾向との違いが前記第１閾値より大きい場合で、前記第１相対位置と前記第２相対位置との両方が第２範囲内である場合は前記床面の傾きの異常が発生していると判定し、
前記異常ありと判定されていて、前記第１傾向と前記第２傾向との違いが前記第１閾値より大きい場合で、前記第１相対位置と前記第２相対位置とのうち少なくとも一方が第２範囲外である場合は前記床面の傾きの異常と前記搬送ユニットの異常が併発していると判定する、
ことを特徴とする項目２に記載の判定方法。

【0100】

［項目５］
前記判定工程の判定結果に応じて、前記複数の計測位置のうちの１又は複数又は全ての計測位置における前記搬送ユニットの少なくとも一部を挿入する位置である基準位置を調整することを特徴とする項目１～４のうちいずれか１項に記載の判定方法。

【0101】

［項目６］
前記判定工程の判定結果に応じて、前記複数の計測位置に含まれていない位置においても前記基準位置を調整することを特徴とする項目１～５のうちいずれか１項に記載の判定方法。

【0102】

［項目７］
前記複数の計測位置それぞれに対応する部材は、基板であることを特徴とする項目１～６のうちいずれか１項に記載の判定方法。

【0103】

［項目８］
前記複数の計測位置は、基板を載置する基板ステージと、前記基板の温度を調整する温度調整部と、前記基板の位置合わせをするアライメント部とのうち少なくとも１つの位置を含むことを特徴とする項目１～７のうちいずれか１項に記載の判定方法。

【0104】

［項目９］
前記第１計測工程と前記第２計測工程における計測は、前記搬送ユニットの位置を検出するセンサを用いることを特徴とする項目１～８のうちいずれか１項に記載の判定方法。

【0105】

［項目１０］
前記第１計測工程と前記第２計測工程における計測は、前記搬送ユニットと前記複数の計測位置それぞれに対応する部材との少なくとも一方を前記搬送ユニットと前記部材とが近づく方向に移動させたときの、前記搬送ユニットが前記部材を取得するまでの前記搬送ユニットと前記部材との相対的な移動量に基づいて前記相対的な位置を求めることを特徴とする項目１～９のうちいずれか１項に記載の判定方法。

【0106】

［項目１１］
前記搬送ユニットが前記部材を取得したか否かの判定を、前記搬送ユニットと前記部材との間の圧力を計測する圧力センサの計測値に基づいて行うことを特徴とする項目１０に記載の判定方法。

【0107】

［項目１２］
前記部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置の計測は、前記搬送ユニットが前記複数の計測位置それぞれに移動する毎に行われることを特徴とする項目１～１１のうちいずれか１項に記載の判定方法。

【0108】

［項目１３］
複数の計測位置それぞれに対応する部材と搬送ユニットとの相対的な位置に基づいて異常を判定する判定部を有し、
前記判定部は、
前記搬送ユニットが前記複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する前記部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第１相対位置を計測し、
前記第１相対位置を計測した後に、前記搬送ユニットが前記複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する前記部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第２相対位置を計測し、
前記第１相対位置と前記第２相対位置とに基づいて、前記搬送ユニットの異常の発生の有無と前記複数の計測位置のうちのいずれかの位置における床面の異常の発生の有無とを判定する、
ことを特徴とする判定装置。

【0109】

［項目１４］
基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記リソグラフィ装置の内部において、搬送ユニットの異常の発生の有無と複数の計測位置のうちのいずれかの位置における床面の異常の発生の有無とを判定する項目１３に記載の判定装置と、
前記基板に前記パターンを形成するパターン形成部と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。

【0110】

［項目１５］
搬送ユニットによって搬送された基板にパターンを形成する形成工程と、
前記形成工程で前記パターンが形成された前記基板から物品を製造する製造工程と、
を有する物品の製造方法であって、
前記搬送ユニットが複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第１相対位置を計測する第１計測工程と、
前記第１計測工程の後に、前記搬送ユニットが前記複数の計測位置それぞれに移動したときの、前記複数の計測位置それぞれに対応する前記部材と前記搬送ユニットとの相対的な位置である第２相対位置を計測する第２計測工程と、
前記第１計測工程と前記第２計測工程との計測結果に基づいて、前記搬送ユニットの異常の発生の有無と前記複数の計測位置のうちのいずれかの位置における床面の異常の発生の有無とを判定する判定工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。

【0111】

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】