特許7584258IP Force 特許公報全文掲載

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環状ビーム形状を有する光ビームを生成する光ファイバデバイス、及び、環状ビーム形状を有する回転光ビームを光ファイバ内に直接的に（すなわち、自由空間光学系を用いることなく）生成する光ファイバデバイス

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 Ａ及びＢは、本願で説明される回転光ビームを生成する例示的なローテータファイバに係る概略図である。
【図2】 回転光ビームを生成するローテータファイバが実施可能な例示的環境の図である。
【図3】 カットオフ未満の放物状屈折率分布型ファイバの様々な低次導波モードＬＰｌｍの例示的な近接場強度パターンを表す図である。
【図4】 Ａ及びＢは、回転光ビームを生成する例示的なローテータファイバの断面図である。
【図5】 本願で説明される例示的な先細ローテータファイバを表す図である。
【図6】 本願で説明されるローテータファイバを製造するスピンファイバ法の例示的なプロセスのフローチャートである。
【図7】 本願で説明されるローテータファイバを製造するねじれファイバ法の例示的なプロセスのフローチャートである。
【図8】 Ａ～Ｃは、本願で説明されるローテータファイバの様々な先細長を利用した例示的なシミュレーションに係る図である。
【図9】 Ａ及びＢは、回転光ビームを生成するさらなる例示的ローテータファイバの図である。
【図10】 本願で説明されているオフセットされた一体化コアによってローテータファイバを製造する例示的なプロセスのフローチャートである。
【図11】 本願で説明されているオフセットされた一体化コアによってローテータファイバを製造する例示的なプロセスのフローチャートである。
【図12】 例示的な光ファイバの例示的な断面図である。ここに、２つのロッド形状の第２部分は、クラッド部によって取り囲まれる第１部分内にオフセンタ位置で挿入される。
【図13】 Ａ～Ｄは、図１２に示された光ファイバデバイスによって生成される回転ビームを示す例示的な計算結果に係る図である。
【図14】 本願で説明されている挿入部を備えるローテータファイバを製造する例示的なプロセスのフローチャートである。

代表図 図1本件の代表的な図

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